CZ352197A3

CZ352197A3 - Způsob elektrostatického potahování a zařízení k jeho provádění

Info

Publication number: CZ352197A3
Application number: CZ973521A
Authority: CZ
Inventors: John E. Hogan; John Nicholas Staniforth; Linda Reeves; Trevor Page
Original assignee: Colorcon Limited
Priority date: 1995-05-09
Filing date: 1996-05-08
Publication date: 1998-04-15
Also published as: MX9708614A; DE69626545T2; MX9708613A; ES2240994T3; KR19990008431A; TR199701323T1; NO975131L; BR9608208A; JPH11505530A; CN1183738A; JP4137998B2; US20020034592A1; WO1996035516A1; ES2194100T3; KR19990008430A; BR9608209A; ATE293440T1; NO975132L; DE69634631D1; CN1183715A

Description

(57) Anotace:

Zařízení pro elektrostatické potahování jader farmaceutických tablet práškovým potahovým materiálem zahrnuje první otočný buben /12/, na kterém je jádro drženo elektricky izolované od jeho okolí, ale na rozdílovém potenciálu vzhledem k zemi prostřednictvím elektrody, která je v kontaktu s jádrem. Jádro je neseno skrz potahovací stanoviště /B/, ve kterém jsou ve žlábku /18/ drženy částice prášku, které mají opačný rozdílový potenciál vzhledem k zemi. Povrch bubnu je udržován na stejném rozdílovém potenciálu vzhledem k zemi jako částice prášku. Prášek je uchycován k jádru, ale ne k bubnu, přičemž potahuje vystavený povrch jádra. Buben nese potažené jádro skrz taviči stanoviště /0/, ve kterém ohřívač taví prášek, aby se vytvořil kontinuální potahový film. Jádro je potom otočeno a převedeno na druhý buben /12 /, kde je stejným způsobem potažen jeho druhý povrch.

poie-kova.M pc zařizehi k jektr pr-waolthA,

Oblast techniky

Předkládaný vynález se týká způsobu a zařízeni pro elektrostatické potahování elektricky slabě vodivých substrátů. Tento vynález najde využití obzvláště při potahování pevných farmaceutických dávkových forem, jako jsou jádra tablet, kapsle, granule a kuličky s částicovými potahovými materiály, včetně prášků a kapek kapaliny.

Dosavadní stav techniky

Použití elektrostatických technik pro potahování elektricky vodivých substrátů, jako jsou kovové předměty, je velmi dobře známé a úspěšné. Potah, jako jsou kapky kapalného nátěru, je elektricky nabit přivedením rozdílového potenciálu na tento potah a je potom uchycen k uzemněnému substrátu.

Běžné elektrostatické potahovací techniky popisované výše doposud nebyly úspěšně využity pro potahování jader farmaceutických tablet nebo jiných slabých elektrických vodičů, obecně takových, které mají měrný elektrický odpor větší než 1O¹⁰ až ΙΟ¹⁵ Ωιη. Byly již učiněny návrhy, ve kterých jsou uzemněna jádra tablet a práškový potahový materiál je veden k nim prostřednictvím trysky, která tomuto prášku dodává elektrický náboj. Práškový potah je potom taven, aby se vytvořil jednotný potah. Tento postup byl shledán nedostatečným, protože nebylo dosaženo odpovídajícího uzemnění jader a náboj na prášku se akumuloval na povrchu jader, přičemž odpuzoval další nabitý prášek. Dokonce i když jsou jádra nesena, například, na uzemněném dopravním pásu, umožňuje slabě vodivá podstata jader, aby se na nich náboj udržel.

• · • ·· • · • · · · · · • · · · • · · · · • · · · ········ · · případě nabíjeni

Navíc velká část prášku (95 % v neukládá se nebo nezůstává na jádrech vracena do procesu nebo zlikvidována, nejednotnost v hmotnosti a tloušťce koronou) je nenabita a a musí být bud’ opětovně Tyto obtíže vedou na potahu naneseného na jádra. To je z farmaceutického hlediska nepřijatelné, zejména když potah na jádrech úlohu při časování uvolňování farmaceutických těla po požiti tablet.

má významnou prostředků do například v

Byla již navrhována různá zlepšení, patentovém spisu WO 92/14451, který navrhuje zvlhčování jader vodou před rozprašováním nabitého prášku, uzemnění povrchů površích po jeho zůstává potahování doba nutná pro účinnou výrobu.

aby se zlepšilo jader a pro podporu setrvání prášku na nanesení. Dokonce s těmito zlepšeními v zásadě neúčinné; zbývá odpadový prášek a dokončení potahování je příliš dlouhá pro

Podstata vynálezu

Podle svého první překonává shora popisované elektrostatického potahování substrátu, který zahrnuje přivedení substrátu do potahovacího stanoviště, aspektu předkládaný problémy navržením elektricky slabě vynález způsobu vodivého výhodně na částicového ve kterém je držen elektricky izolovaný od a rozdílovém potenciálu vzhledem ke zdroji potahového materiálu, který je v jeho blízkosti, přičemž substrát a potahový materiál jsou vzájemně udržovány na rozdílu potenciálu, který je dostatečný pro potažení vystaveného povrchu substrátu částicemi potahového materiálu. Výhodně je substrát držen, na rozdílovém potenciálu vzhledem k zemi.

Je obzvláště výhodné, když je elektrické pole mezi potahovým materiálem a substrátem tvarované. Toto pole může být tvarováno tak, že substrát je v potenciálové jámě. To

znamená, že	substrát je obklopen rozdílovým potenciálem
vzhledem k	zemi, který je odlišný od jeho vlastního

rozdílového potenciálu vzhledem k zemi, přičemž je zde ostrý přechod mezi těmito dvěma rozdílovými potenciály. Takto je v podstatě všechen potahový materiál uchycován k substrátu, čímž se snižuje odpad potahového materiálu a zamezuje se problémům spojeným s padáním potahového materiálu na okolí substrátu.

Tvarování pole se dosahuje prostřednictvím manipulace s rozdílovým potenciálem mezi substrátem, jeho okolím a potahovým materiálem. Například je substrát nesen, ale izolován od povrchu, přičemž tento povrch je držen na stejném rozdílovém potenciálu vzhledem k zemi jako potahový materiál, zatímco substrát je držen na odlišném rozdílovém potenciálu vzhledem k zemi než je potenciál potahového materiálu. Potahový materiál je tudíž zachycován substrátem a ne tímto povrchem.

Výhodně je v podstatě jedinou hybnou silou mezi substrátem a potahovým materiálem elektrostatická sila. Může být žádoucí vytvořit částicový potahový materiál ve formě mraku částic, vytvořeného například prostřednictvím fluidizace vrstvy potahového materiálu. Rovněž výhodně je substrát nesen na elektrodě, zatímco je elektricky izolován od svého okolí.

Při práškovém potahovacím nanášení může být substrát přiveden do předupravovacího stanoviště, ve kterém je vystavený povrch substrátu potažen kapalinou zlepšující • · zachycení. Po potaženi potahovým materiálem může být substrát přiveden do ohřívacího stanoviště, kde je potahový materiál, pokud je práškový, taven, nebo, pokud je kapalný, sušen, aby se účinně vytvořil kontinuální jednotný potah. Zádí povrchy substrátu mohou být potom potaženy stejným způsobem se stejným potahovým materiálem, jako byly potaženy první potahované povrchy, nebo odlišným materiálem. Tímto způsobem mohou být vytvořeny substráty potažená, například, dvoubarevným potahem. Výhodně je způsob podle vynálezu prováděn kontinuálně.

Je výhodné, aby prášky použité ve způsobu podle předkládaného vynálezu měly měrný elektrický odpor větší než 10⁸ Ωιη, výhodně v rozsahu mezi 10⁸ a 10¹⁵ Qm.

Podle druhého aspektu předkládaného vynálezu je navrženo zařízeni pro elektrostatické potahování elektricky slabě vodivého substrátu, které zahrnuje potahovací stanoviště, ve kterém je substrát v podstatě elektricky izolován od a výhodně je na rozdílovém potenciálu vzhledem k blízkým okolním prostředkům pro přivádění částicového potahového materiálu, a prostředky pro drženi substrátu a potahového materiálu vzájemně na rozdílovém potenciálu.

Výhodně je substrát držen na rozdílovém potenciálu vzhledem k zemi.

Výhodně zařízení podle vynálezu dále zahrnuje zařízení pro tvarování elektrického pole, které je umístěno v blízkosti substrátu. Obzvláště výhodně toto zařízení pro tvarováni elektrického pole obklopuje substrát.

Zařízeni podle vynálezu výhodně zahrnuje elektricky vodivý nosný povrch, jako je buben, elektricky izolovaný od • ·

substrátu, který nese substrát alespoň v potahovacim stanovišti. Zařízeni pro tvarováni elektrického pole může být tvořeno prostřednictvím zajištění, že nosný povrch bude držen na rozdílovém potenciálu vzhledem k zemi, který má stejné znaménko jako rozdílový potenciál vzhledem k zemi potahového materiálu.

V případě práškového potahování může zařízení zahrnovat předupravovací stanoviště pro přivádění kapaliny zlepšující uchycení na vystavený povrch substrátu a dopravní prostředek pro dopravování substrátu mezi předupravovacím stanovištěm a potahovacim stanovištěm, přičemž předupravovací stanoviště je před potahovacim stanovištěm. Dopravním prostředkem je výhodně buben. Zařízení podle vynálezu výhodně zahrnuje ohřívací stanoviště za potahovacim stanovištěm pro tavení prášku nebo pro sušení kapalného potahového materiálu na substrátu, aby se vytvořil film.

Ve třetím aspektu navrhuje předkládaný vynález buben pro výhodné zařízení podle předkládaného vynálezu.

Ve čtvrtém aspektu předkládaný vynález navrhuje potažený farmaceutický prostředek, který má jeden potah na jednom čelu a odlišný potah, nebo žádný potah, na druhém čelu. Potahy mohou mít různé barvy nebo mohou být sestaveny z různých polymerů nebo s různými biologicky aktivními materiály.

Zdroj částicového potahového materiálu, ať již prášku nebo kapaliny, může být tvořen vícenásobným zdrojem zahrnujícím několik vedlejších zdrojů. Tyto vedlejší zdroje mohou mít různě zbarvené potahové materiály nebo potahové materiály obsahující odlišné polymery. Tak tedy mohou být

• · · · • ·· · • · · ·· • ·· ·· · · vytvářeny tablety mající více než jednu barvu na jednom povrchu. Čela mohou být dvojbarevná nebo pruhovaná. Podobně může tableta vedle sebe nést dva nebo více různých polymerních potahů.

V pátém aspektu předkládaný vynález navrhuje potažený farmaceutický prostředek, přičemž alespoň jedno čelo jeho povrchu je potaženo dvěma nebo více přiléhajícími různými potahy. Tyto potahy mohou mít různé barvy nebo různé polymerní složení.

Substrát, jako je jádro farmaceutické tablety, může být zcela elektricky izolován od svého okolí, například při volném pádu. Výhodně ale, zatímco probíhá potahování, je substrát v kontaktu s elektrodou, prostřednictvím které je udržován na rozdílovém potenciálu vzhledem k zemi (a v vzhledem k jeho okolí). Pokud je substrát držen na nosném povrchu, jako je povrch bubnu, může sedět v prohlubni v tomto povrchu. Povrch prohlubně může být z vodivého materiálu a může tvořit část elektrody. Nosný povrch může být obklopen soustavou izolujících, vodivých nebo polovodivých oblastí, které působí pro tvarování vzoru elektrického pole. Substrát je tak obklopen potenciálovou jámou pro zajištění, že nabité částice potahového materiálu se k němu budou uchycovat spíše než k jeho okolí včetně nosného povrchu, pokud je nějaký, nesoucího substrát.

Předkládaný vynález bude v následujícím popisu podrobněji popsán prostřednictvím příkladu s odkazy na připojené výkresy.

Přehled obrázků na výkresech

Obr.l schematicky znázorňuje výhodné provedení zařízení podle předkládaného vynálezu;

Obr. 2 schematicky znázorňuje řez bubnem zařízení podle obr. 1; a

Obr. 3 schematicky znázorňuje prostředek pro zajištění kapek kapalného potahového materiálu pro zařízení podle předkládaného vynálezu.

Příklady provedení vynálezu

Zařízení znázorněné schematicky na obr. 1 je určeno pro potahování obou čel jader farmaceutických tablet. Toto zařízení zahrnuje šikmou přívodní násypku 10 jader tablet, vedoucí k prvnímu otočnému bubnu 12. Tento buben 12 je z oceli a má na svém vnějším povrchu kruhové prohlubně 14 (viz obr. 2), z nichž v každé může být prostřednictvím vakua drženo jádro tablety, jak bude vysvětleno později.

Buben 12 je otočný ve směru znázorněném šipkou. V blízkosti obvodu bubnu 12 směrem za přívodní násypkou 10 tablet je předupravovací stanoviště A zahrnující elektrostatickou rozprašovací pistoli 16, která způsobuje, že vystavené povrchy jader budou jsou pokrývány nabitými kapičkami z pistole 16. Za předupravovacím stanovištěm je potahovací stanoviště B zahrnující vibrační práškový žlábek 18 pro držení, fluidizaci a recirkulaci prášku v potahovací zóně B, kterým mají být jádra potahována. Za potahovacím stanovištěm je tavící stanoviště C zahrnující ohřívač 20. Za tavícím stanovištěm C potažená jádra procházejí chladícím stanovištěm, které není znázorněno, kde je studený vzduch veden přes a kolem jader, aby ochlazoval tavený potah.

V blízkosti prvního bubnu 12 je druhý buben 12', přičemž mezi bubny je za tavícím stanovištěm C a ochlazovacím stanovištěm styčná linka. Druhý buben 12' se otáčí v opačném smyslu vzhledem k prvnímu bubnu 12, jak je naznačeno šipkou na obr. 1. Druhý buben 12' je opatřen předupravovacím stanovištěm A' zahrnujícím pistoli 16', potahovacím stanovištěm B' zahrnujícím práškový žlábek 18', tavícím stanovištěm C' zahrnujícím ohřívač 20' a chladícím stanovištěm (není znázorněno).

Sběrná násypka 22 jader je skloněna šikmo směrem dolů od druhého bubnu 12/ za tavícím stanovištěm C' a odebírá potažená jádra pro další zpracování a balení.

První buben 12 bude podrobněji popsán s odkazy na obr. 2. Tento buben zahrnuje otočnou skořepinu 24, jejíž vnější povrch nese prohlubně 14 . Na obr. 2 je znázorněno pouze pět příkladných prohlubní 14; lze snadno nahlédnout, že v praxi bude rovnoměrně rozmístěných v obvodové řadě kolem skořepiny 24 mnohem více těchto prohlubní, a že zde může být několik obvodových řad po šířce bubnu, ať již tvořeném jednou kontinuální skořepinou nebo několika skořepinami vzájemně upevněnými vedle sebe. Prohlubně 14 na bubnech jsou tvarovány a dimenzovány pro zajištění, že celé čelo jádra a polovina hloubky boční stěny jsou vystaveny, zatímco je jádro na bubnu. V případě kruhového jádra tablety je výhodný průměr prohlubně, blížící se průměru jádra. V některých aplikacích by hloubka prohlubně měla být taková, aby umožnila alespoň 50 % z tloušťky jádra vystavení částicím potahového materiálu, takže vystavení prvního čela jádra potom druhého vede na úplné potaženi jádra.

Povrch každé prohlubně povrchů opatřena radiálně je elektricky bubnu a každá prohlubeň je procházej ícím ramenem 2 6 ostatních prohlubní na odpovídajícím sběrným dovnitř směrem ke, ale končícím krátce před středem bubnu. Sběrná ramena 26 jsou uchycena k vnitřnímu povrchu skořepiny 24 a otáčejí se s ní. Každé sdružené sběrné rameno 26 a prohlubeň 14 společně vytvářejí pohybující se elektrodu prohlubeň 14 má silám, jako je její stěnu, který prostředek přitažlivost, může být prochází začátku u pro nabití jádra v prohlubni. Každá pro držení jádra proti například průchod 28 skrz spojen s vakuovým rozdělovacím kolem části obvodu vnitřku bubnu bezprostředně od přívodní násypky 10 jader do blízkosti styčné linky mezi prvním bubnem 12 a druhým bubnem 12'.

potrubím 30, které

Uzemněná první stacionární zakřivená elektroda 32 je umístěna uvnitř předupravovacímu elektroda 34 na umístěna uvnitř bubnu v stanovišti rozdílovém bubnu úhlové poloze odpovídající

A. Druhá stacionární zakřivená potenciálu úhlové vzhledem k zemi je poloze odpovídající potahovacímu stanovišti stacionárních elektrod jsou středu bubnu jako volné se elektrod.

pohybující se elektrody.

Buben

B.

ve konce

Jak se elektrody vzhledem k zemi, potenciál vzhledem zakřivené povrchy

Vněj ší stejné radiální vzdálenosti od sběrných ramen 26 pohybujících skořepina 24 otáčí, dotýkají se postupně první a druhé stacionární je udržován na který má stejné k zemi potahového rozdílovém potenciálu znaménko jako rozdílový prášku.

• 4 ·* ř · ♦ · • · • ♦ · • · ········ ·· · * ··· ♦ ·· • ·· • ·· ····<

·· ·· • · ·· • ··· > ··· ·· • ♦ e ·· ··

Druhý buben 12' je konstruován podobně jako první buben a zahrnuje tedy otočnou skořepinu s prohlubněmi, sběrná ramena a první a druhou stacionární elektrodu a vakuové rozdělovači potrubí. Úhlové polohy první a druhé stacionární elektrody odpovídají druhému předupravovacímu stanovišti A' respektive druhému potahovacímu stanovišti B', a vakuové rozdělovači potrubí prochází bezprostředně od začátku styčné linky mezi dvěma bubny do blízkosti sběrné násypky 22 jader.

Při použití jsou jádra kontinuálně přiváděna k přívodní násypce 10 jader. Jádro prochází dolů skrz přívodní násypku 10 jader do prohlubně 14 v otočné skořepině 24 prvního bubnu 12. V této úhlové poloze prohlubeň leží přes vakuové rozdělovači potrubí 30 a tudíž je jádro drženo v prohlubni vakuem skrz průchod 28 ve skořepině. Skořepina 24 pokračuje v otáčení, přičemž přivádí jádro k předupravovacímu stanovišti A a v tomto bodě se sběrné rameno 26 uchycené k prohlubni 14 dotýká první stacionární elektrody 32 uzemňujíci pohybující se elektrodu a tím také jádro držené v prohlubni. Jak uzemněné jádro tablety míjí elektrostatickou rozprašovací pistolí 16 jsou na její vystavený povrch rozprášeny nabité kapičky kapaliny zlepšující uchycení, jako je například polyetylenglykol.

Skořepina 24 pokračuje v otáčení, přičemž uvolňuje kontakt pohybující se elektrody 26 s první stacionární elektrodou 32 a uvádí ji do kontaktu s druhou stacionární elektrodou 34, jak se tableta dostává k potahovacímu stanovišti B. Vystavený povrch jádra, upravený polyetylenglykolem je nyní na rozdílovém potenciálu vzhledem k zemi a potahový práškový materiál je veden k němu od práškového žlábku 18 prostřednictvím elektrostatických sil.

* ·

Spád potenciálu, vytvářený udržováním povrchu bubnu a také prášku na stejném rozdílovém potenciálu vzhledem k zemi a udržováním jádra na odlišném rozdílovém potenciálu vzhledem k zemi zajišťuje, že prášek je uchycován k jádru, přičemž 5 zároveň povrch bubnu zůstává v podstatě bez prášku.

Skořepina 24 pokračuje v otáčení, přičemž uvolňuje kontakt pohybující se elektrody 2 6 s druhou stacionární elektrodou 34 a přivádí jádro k tavícímu stanovišti C, kde ohřívač 20 taví prášek na potaženém povrchu jádra, aby se θ vytvořil kontinuální film.

Jak skořepina 24 pokračuje v otáčení, opouští jádro taviči stanoviště C, prochází skrz ochlazovací stanoviště (není znázorněno), a prohlubeň nesoucí jádro dále již neleží přes vakuové rozdělovači potrubí 30. Jádro padá z prvního bubnu 12 do prohlubně na vnějším povrchu na druhém bubnu 12^z, přičemž jeho nepotažený povrch směřuje směrem ven na bubnu 12; prohlubeň je spojena s vakuovým rozdělovacím potrubím druhého bubnu. Potažení jádra je dokončeno, jak jádro prochází skrz druhé předupravovací stanoviště A', potahovací stanoviště B', taviči stanoviště C' a ochlazovací stanoviště. Potahový práškový materiál v druhém potahovacím stanovišti může být stejný jako byl materiál v prvním potahovacím stanovišti, nebo může být odlišný. Tak mohu být tedy vyráběny tablety mající odlišně potažené povrchy. Takové nepodobné potahy mohou být použity pro zajištění funkčně modifikovaného chování, jako je změněná difúze nebo rozpouštění, řízené uvolňování léku nebo kosmeticky odlišné potahy, jako jsou ty, které mohou vytvořit dvojbarevnou tabletu. Jak se potažená tableta blíží do blízkosti sběrné násypky 22, prohlubeň nesoucí tuto tablety přestává ležet přes sací rozdělovači

Φ · φ φ ·· « ·· φ φ • ·· · φ ΦΦΦ · · · « * · · · · · φ φ · • « · · ♦ · · ΦΦΦΦ φ

Φ Φ ΦΦΦ Φ Φ *

ΦΦΦΦ ΦΦΦΦ ΦΦ ΦΦΦ ·· Φ· potrubí a potažená tableta padá do násypky a je dále zpracovávána a balena.

Bubny samy o sobě mají průměr výhodně alespoň 60 mm a na šířku mají ne méně než je minimální průměr tablety, přičemž se otáčejí rychlostí alespoň 1/2 otáčky za minutu. Tlak ve vakuových rozdělovačích potrubích je dostatečně nízký pro udržení tablet proti přitažlivosti, a je výhodně mezi 0,2 a 0,6 bar (0,02 a 0,06 MPa) v absolutní hodnotě.

V elektrostatických rozprašovacích pistolích 16, 16 v předupravovacích stanovištích A, A' je polovodivá netěkavá tekutina, jako je polyetylenglykol nebo jeho vodný roztok, přiváděna s rychlostí od 0,1 do 1 ml/min. do ocelové kapiláry o vnitřním průměru 0,05 až 2 mm. Tato kapilára je spojena s proudově omezeným vysokonapěťovým (až 50 kV při 30 až 100 μΑ) rozdílovým potenciálem vzhledem k zemi jak každé jádro na bubnu míjí pistoli a mlha nabitých kapiček je vypouštěna z kapiláry směrem k jádru na bubnu. Protože jádra na bubnu jsou uzemněna v předupravovacích stanovištích, jsou nabité kapičky vedeny elektrickým polem mezi kapilárou a jádrem k vystaveným povrchům jádra, kde jsou zachycovány. Jádra mohou být držena na rozdílovém potenciálu vzhledem k zemi v předupravovacích stanovištích při současném zajištění, že jsou rovněž na rozdílovém potenciálu vzhledem ke kapilárám. V takovém případě je první stacionární zakřivená elektroda 32 na rozdílovém potenciálu vzhledem k zemi. Přívod kapiček od každé kapiláry je řízen vypínáním napětí a uzemňováním kapiláry přes odpor (1 až

ΜΩ), jak každé jádro opouští předupravovací stanoviště;

přičemž tím je zajištěno ostré přerušení proudu kapiček mezi jádry tablet.

Krok předúpravy nemusí být vždy vyžadován.

potahový přivaděčů potahovacích stanovištích B, B' materiál přiváděn prostřednictvím k vibračním žlábkům 18, 18Výška je práškový vibračních prášku v je určována prostřednictvím srovnávacího nože nad každým žlábkem. kontinuálně může žlábcích

Prášek může být vibračně fluidizován a recirkulovat. Žlábky mohou být z plastového má uzemněný kovový pásek pod obloukem, kolem materiálu, který kterého procházejí jádra tablet na odpovídajícím bubnu, nebo mohou být vyrobeny z kovu. Alternativním způsobem pro nabití částic je triboelektrické nabíjeni.

150 mm dlouhé a 3 až

Žlábky jsou výhodně 50 až mra široké.

jednoho žlábku, pro nebo čela nesoucího zajištěni dvou rozměry žlábků vhodně napětím o velikosti -3 na 5 μΑ.

Pokud je použito více než nebo více barevného čela polymerickou směs, budou více než jednu upravené. Jádra tablet jsou nabíjena až -15 kV, které je proudově omezeno

Výhodné složení

46,5

28,0

15, 0

5, 0

5,0

0,5

O. Ό

g. o o, Ό o o

Q. O o_ a hmotnostních hmotnostních práškového potahu je následující:

Eudragitu RS (kopolymer amoniaku a metakrylátu)

Klucelu (hydroxypropylcelulóza) hmotnostních hmotnostních hmotnostních hmotnostních

Další výhodné oxidu titaničitého hliníkového barviva polyetylenglykolu 6000

Aerosilu 200 (koloidní oxid křemičitý) složení práškového potahu je následující:

39,75 % hmotnostních Eudragitu RS (kopolymer amoniaku a metakrylátu)

39,75 % hmotnostních Klucelu (hydroxypropylcelulóza) « ·

15,0 % hmotnostních oxidu titaničitého

5,0 % hmotnostních hliníkového barviva

0,5 % hmotnostních Aerosilu 200 (koloidní oxid křemičitý)

Komponenty jsou předmíchány za vysokého střihu, potom jsou za vlhka granulovány prostřednictvím míchání s vodou (10 až 15 % hmotnostních) za vysokého střihu. Tato granulovaná směs se suší v sušičce s fluidním ložem při teplotě přibližně 45°C po dobu okolo 20 až 30 minut, aby snížil obsah vlhkosti na hodnotu pod 3 % hmotnostními. Sušené granule se melou a potom mikronizují na prášek obsahující částice mající rozdělení velikosti takové, že 50 % objemových z částic má velikost menší než 20 pm, a téměř celých 100 % objemových má velikost menší než 60 pm. Maximum v rozdělení velikosti částic je přibližně na 10 pm.

Pokud jsou částicovým potahovým materiálem kapalné kapičky, má zařízení podobnou konstrukci jako zařízení pro nanášení práškového potahového materiálu na jádra. Vibrační žlábky nesoucí prášek jsou nahrazeny prostředky pro vytváření kapalných kapek s malou hybností, jak je naznačeno na obr. 3. Zařízení může být konstruováno tak, že zdroj práškového potahového materiálu může být snadno nahrazen zdrojem kapek kapalného potahového materiálu.

Kapky jsou vytvářeny prostřednictvím rozprašovací pistole 41 držené na zemním potenciálu a elektricky spojené s bubnem (12). Rozprašovací pistole může být vytvořena z kovových nebo polymerických materiálů. Směr rozprašování směřuje k zarážce 42, po které mohou shlukované částice odcházet dolů do recirkulační nádržky 43. Rozprašovací pistole 41 vytváří postřik s relativně velkou počáteční

hybnosti. Ten dopadá na vnitřní zarážku, která tento postřik rozbíjí na mlhu kapek s malou hybností, hybnost kapek vytvářená rozprašovací pistolí má převážně směr normály vzhledem k substrátu 44. Pokud je substrát nenabitý, nebude 5 se na povrchu tohoto substrátu účinně zachytávat žádná kapka.

Když je k povrchu substrátu přiveden náboj, jsou kapky uchycovány k němu a vytvářejí na něm potah, který je později sušen v sušícím stanovišti, které je podobné tavícímu stanovišti C v zařízení pro nanášení práškového potahového 10 materiálu. V případě kapalného potahového materiálu může být vynechán krok prováděný v předupravovacím stanovišti A.

Výhodné složení kapalného potahu zahrnuje: hydroxypropylmetylcelulózu 70 % glycerol 7 % železitou žluť 23 % ve vodné disperzi.

V tavících stanovištích C, C' je k povrchům jádra přiváděna energie, aby se tavil prášek nebo sušila kapalina a 2Q aby se tak vytvořil jednotný potah na vystaveném povrchu jádra. Energie je vytvářena cíleným ozařováním, výhodně v infračervené oblasti; nároky na energii budou určovány převážně potahovým materiálem. Po tavení nebo sušení je potah vytvrzen ochlazením s použitím vzduchového větráku.

Výhodné potahovací zařízení podle předkládaného vynálezu může potahovat až 300000 jader tablet za každou hodinu.

Claims

PATENTOVÉ N Á R 0 K Y 1. Způsob elektrostatického potahování slabě elektricky vodivého substrátu, vyznačující se tím, že se uvede substrát do potahovacího stanoviště, ve kterém se udržuje v podstatě elektricky izolovaný od jeho okolí v

blízkosti zdroje částicového potahového materiálu, přičemž substrát a potahový materiál jsou vzájemně udržovány na potenciálovém rozdílu dostatečném pro potaženi vystaveného povrchu substrátu částicemi potahového materiálu.
2. Způsob podle nároku 1,vyznačující se tím, že substrát je na rozdílovém potenciálu vzhledem k jeho okolí.
3. Způsob podle nároku 1 nebo 2, vyznačuj ící se t i m , že elektrické pole mezi potahovým materiálem a substrátem se tvaruje tak, že substrát je v potenciálové j ámě.
4. Způsob podle nároku 1, 2 nebo 3, vyznačuj ící se t i m , že v potahovacím stanovišti se subscrát nese prostřednictvím elektricky vodivého povrchu, od kterého je ale elektricky izolován.
5. Způsob podle nároku 4,vyznačující se tím, že rozdílové potenciály vzhledem k zemi povrchu a potahového materiálu mají stejné znaménko.
6. Způsob podle nároku 4 nebo 5, vyznačující se t í m , že povrch je na stejném rozdílovém potenciálu vzhledem k zemi jako potahový materiál.

• ·
7.

Způsob podle kteréhokoliv předcházej icich nároků, vyznačující se tím, že substrát se v potahovacím stanovišti udržuje na rozdílovém potenciálu vzhledem k zemi.
8. Způsob podle kteréhokoliv z předcházejících nároků, vyznačující se tím, že v podstatě jedinou hybnou silou mezi substrátem a potahovým materiálem je elektrostatická síla.
9. Způsob podle kteréhokoliv z předcházejících nároků, vyznačující se tím, že substrát je nesen elektrodou, se kterou je v elektrickém kontaktu, přičemž jinak je elektricky izolován od svého okolí.
10. Způsob podle nároku 9, vyznačující se tím, že je množství substrátů neseno na odpovídajícím množství elektrod vzájemně od sebe izolovaných a tvořících část nosného povrchu.
11. Způsob podle nároku 10,vyznačující se tím, že nosný povrch je kontinuální.
12. Způsob podle kteréhokoliv z předcházejících nároků, vyznačující se tím, že částice potahového materiálu jsou na rozdílovém potenciálu vzhledem k zemi.
13. Způsob podle kteréhokoliv z předcházejících nároků, vyznačující se tím, že se použije práškového potahového materiálu.
14. Způsob podle nároku 13, vyznačující se tím, že dále zahrnuje přivedení substrátu potaženého práškem do tavícího stanoviště, kde se prášek na substrátu taví na jednotný potah.
15. Způsob podle nároku 14,vyznačující se tím, že tavení se provádí ohřevem.
16. Způsob podle nároku 15, vyznačující se tím, že ohřev se provádí infračerveným zářením.
17.

Způsob podle kteréhokoliv z nároků 14,

15 a

16, vyznačuj ící tím, že dále zahrnuje ochlazování taveného potahu na substrátu.
18. Způsob podle kteréhokoliv z nároků 13 až 17,vyznačující se tím, že dále zahrnuje před přivedením substrátu do potahovacího stanoviště přivedení substrátu do předupravovacího stanoviště, ve kterém se vystavený povrch substrátu potahuje kapalinou zlepšující uchycení.
19. Způsob podle nároku 18,vyznačující se tím, že potahování prováděné v předupravovacím stanovišti je elektrostatické potahování.
20. Způsob podle nároku 18 až 19, vyznačuj ící se t í m , že kapalina zlepšující uchycení je částečně vodivá.
21. Způsob podle kteréhokoliv z nároků 1 až

12,vyznačující se tím, že potahovým materiálem je kapalina.
22. Způsob podle kteréhokoliv z předcházejících nároků, vyznačující se tím, že substrát je nesen nosným povrchem, který má množství jednotlivých míst upravených pro přijetí substrátu a držících jej elektricky izolovaný od zbytku povrchu a na předem stanoveném rozdílovém potenciálu vzhledem k zemi.
23. Způsob podle kteréhokoliv z předcházejících nároků, vyznačující se tím, že substrát je držen v kontaktu s elektrodou alespoň tehdy, když je v potahovacím stanovišti.
24. Kontinuální způsob podle kteréhokoliv z předcházej ícíchnároků, vyznačuj í c i se t že substrát je nesen povrchem otočného bubnu.

kteréhokoliv
25. Způsob podle nároků, vyznačuj zahrnuje otočení substrátu, po předcházej ících i m , že dále nanesení potahu na první povrch substrátu, a nanesení potahu na druhý povrch substrátu.
26. Potažený substrát vytvořený způsobem podle kteréhokoliv z nároků 1 až 25.
27.

Zařízení pro elektrostatické potahování elektricky slabě vodivého substrátu, v y z tím , že zahrnuje potahovací stanoviště, ve kterém je substrát v podstatě elektricky izolován od jeho okolí v blízkosti prostředku pro přiváděni částicového potahového materiálu, potahového a prostředky pro držení substrátu a částicového materiálu vzájemně na potenciálovém rozdílu.

• ♦
28. Zařízení podle nároku 27, vyznačující se tím, že zahrnuje prostředek pro držení substrátu na rozdílovém potenciálu vzhledem k jeho okolí v potahovacím stanovišti.
29. Zařízení podle nároku 27 nebo 28, vyznačuj ící se t í m , že dále zahrnuje zařízení pro tvarování elektrického pole v blízkosti substrátu, které tvaruje toto pole tak, že substrát je v potenciálové jámě.
30. Zařízení podle nároku 29, vyznačující se tím, že zařízení pro tvarování elektrického, pole obklopuje substrát.
31. Zařízení podle kteréhokoliv z nároků 27 až 30,vyznačující se tím, že dále zahrnuje elektricky vodivý nosný povrch pro, při použití, nesení substrátu alespoň v potahovacím stanovišti tak, že substrát je elektricky izolován od nosného povrchu.
32. Zařízení podle nároku 31, vyznačující se tím, že nosný povrch má množství jednotlivých míst upravených pro přijetí substrátu a držení jej elektricky izolovaný od zbytku nosného povrchu a na předem stanoveném rozdílovém potenciálu vzhledem k zemi.
33. Zařízení podle nároku 31 nebo 32, vyznačuj ící se t i m , že rozdílové potenciály nosného povrchu vzhledem k zemi a potahového materiálu vzhledem k zemi mají stejné znaménko.

• Λ

34 . Zařízení podle nároku 31, 32 nebo 33, v y z n a č u jící s e tím, že zahrnuj e

prostředek pro drženi nosného povrchu na stejném rozdílovém potenciálu vzhledem k zemi jako je rozdílový potenciál potahového materiálu vzhledem k zemi.
35. Zařízení podle kteréhokoliv z nároků 27 až 34,vyznačující se tím, že zahrnuje prostředek pro držení substrátu v potahovacím stanovišti na rozdílovém potenciálu vzhledem k zemi.
36. Zařízení podle kteréhokoliv z nároků 27 až 34,vyznačující se tím, že dále zahrnuje taviči stanoviště za potahovacím stanovištěm pro tavení práškového potahového materiálu na substrátu na film.
37. Zařízení podle nároku 36, vyznačující se tím, že taviči stanoviště zahrnuje ohřívač.
38. Zařízení podle nároku 37, vyznačující se tím, že ohřívačem je zdroj infračerveného záření.

39. Zařízení podle nároku 34, 37 nebo 38, vyznačuj ící se t í m , že dále zahrnuj e ochlazovací stanoviště za tavícím stanovištěm.
40. Zařízení podle nároku 39, vyznačující se tím, že ochlazovací stanoviště zahrnuje vzduchový větrák.
41. Zařízení podle kteréhokoliv z nároků 27 až 40,vyznačující se tím, že dále zahrnuje předupravovací stanoviště pro přivádění kapaliny zlepšující uchycení k vystavenému povrchu substrátu a dopravní prostředek pro dopravu substrátu mezi předupravovacím stanovištěm a potahovacim stanovištěm, přičemž předupravovaci stanoviště je umístěno před potahovacim stanovištěm.
42. Zařízení podle nároku 41, vyznačující se tím, že předupravovaci stanoviště zahrnuje elektrostatickou rozprašovací pistoli pro přivádění kapaliny zlepšující uchycení.
43. Zařízení podle kteréhokoliv z nároků 27 až

42,vyznačující se tím, že zahrnuje elektrodu přivedenou do kontaktu se substrátem v potahovacim stanovišti.
44. Zařízení podle nároku 43, vyznačující se tím, že elektroda je nosičem pro substrát.
45. Zařízení podle nároku 44,vyznačující se tím, že množství uvedených elektrod tvoří část nosného povrchu pro substráty.
46. Zařízení podle nároku 45,vyznačující se tím, že nosný povrch je kontinuální.
47. Zařízení podle nároku 45 nebo 46, vyznačuj ící se t í m , že nosný povrch je dopravní prostředek umístěný mezi potahovací stanoviště a tavící stanoviště pro posun substrátu od potahovacího stanoviště k tavícímu stanovišti.
48. Zařízení podle nároku 47, vyznačující se tím, že dopravní prostředek je rovněž umístěn mezi tavící stanoviště a ochlazovací stanoviště pro posun substrátu od tavícího stanoviště k ochlazovacímu stanovišti.
49. Zařízeni podle nároku 47 nebo 48, vyznačuj ící se t i m , že dopravní prostředek je rovněž umístěn mezi předupravovacím stanovištěm a potahovacím stanovištěm pro posun substrátu od předupravovacího stanoviště k potahovacímu stanovišti.
50. Zařízení podle kteréhokoliv z nároků 47 až

49,vyznačující se tím, že dopravní prostředek je vnější povrch otočného bubnu, který má diskrétní oblasti elektricky oddělené od povrchu bubnu pro příjem odpovídajících substrátů.
51. Zařízení podle nároku 50, vyznačující se tím, že uvedené oblasti jsou prohlubně v povrchu bubnu.
52. Zařízení podle nároku 50 nebo 51, vyznačuj ící se tím, že uvedené oblasti jsou každá část odpovídající pohybující se elektrody, přičemž každá pohybující se elektroda zasahuje dovnitř bubnu a buben dále zahrnuje první stacionární zakřivenou elektrodu umístěnou uvnitř bubnu tak, že při průchodu jedné z oblastí skrz potahovací stanoviště je přidružená elektroda v elektrickém kontaktu s první stacionární elektrodou.
53. Zařízení podle nároku 52, vyznačující se tím, že při použití je první stacionární elektroda, při použití, na rozdílovém potenciálu vzhledem k zemi.
54. Zařízeni podle nároku 52 nebo 53, vyznačuj ící se tím, že dále zahrnuje druhou stacionární zakřivenou elektrodu umístěnou uvnitř bubnu tak, že při průchodu jedné z uvedených pohybujících se elektrod skrz • · • · předupravovací stanoviště je tato pohybující se elektroda v elektrickém kontaktu s druhou stacionární elektrodou.
55. Zařízení podle nároku 54,vyznačující se tím, že druhá stacionární elektroda je, při použití, uzemněna.
56. Zařízení podle kteréhokoliv z nároků 50 až

55, vyznačující se tím, že zahrnuje vakuové zařízení pro držení substrátů na povrchu bubnu.
57. Zařízení podle kteréhokoliv z nároků 50 až

56, vyznačující se tím, že dále zahrnuje druhý buben a druhé potahovací stanoviště a druhé tavící stanoviště, přičemž tento druhý buben je vzhledem k prvnímu bubnu umístěn tak, že substráty opouštějící první buben s potaženými povrchy jsou převáděny na druhý buben s vystavenými nepotaženými:povrchy.
58. Zařízení podle nároku 57, vyznačující se tím, že dále zahrnuje druhé předupravovací stanoviště v blízkosti druhého bubnu.
59. Buben pro zařízení podle kteréhokoliv z nároků 50 až

58 .

60. Pevná farmaceutická dávková forma, v y z načuj í c i se tím, že má jedno potažené čelo a jedno nepotažené čelo. 61. Potažený farmaceutický prostředek, v y z načuj í c i se tím, že má jeden potah na

jednom čelu a odlišný potah na druhém čelu.

• ·
62. Potažený farmaceutický prostředek, vyznačující se tím, že povrch jeho jednoho čela je potažen dvěma nebo více vzájemně přiléhajícími odlišnými potahy.
63. Potažený farmaceutický

62, vyznačuj ící odlišné barvy.
64. Potažený farmaceutický nebo 63, vyznačujíc obsahují odlišné polymery.