CZ291335B6

CZ291335B6 - Způsob sušení povrchu substrátu

Info

Publication number: CZ291335B6
Application number: CZ1998517A
Authority: CZ
Inventors: Wilhelm Schellenberger; Dieter Herrmannsdörfer
Original assignee: Ictop Entwicklungs Gmbh
Priority date: 1995-08-23
Filing date: 1996-08-09
Publication date: 2003-02-12
Also published as: DE69624830D1; RU2141700C1; WO1997008742A1; HK1010280A1; JPH11514496A; SK21298A3; DE69624830T2; IL123042A; TW427952B; SI1199740T1; IL123042A0; AU6872096A; EP1199740A3; EP0846334B1; DE69635427D1; AU697397B2; DE19531031A1; CZ51798A3; UA51663C2; MX9801464A

Abstract

Způsob je použitelný pro sušení povrchů substrátu z velkého množství materiálů, jako jsou polovodičové, kovové, plastové a, zejména, křemíkové materiály. Substrát, jako je křemíkový plátek (1), se ponoří do kapalné lázně (2) a poté se tento křemíkový plátek (1) od kapaliny lázně oddělí. Kapalina lázně (2) sestává z vodného roztoku (3) HF s koncentrací mezi 0,001 a 50 %. Přidáváním plynové směsi obsahující O.sub.2.n./O.sub.3.n. bezprostředně po dokončení sušicího procesu se křemíkový povrch hydrofilizuje. Přidáváním plynové směsi obsahující O.sub.2.n./O.sub.3.n. v průběhu sušicího procesu, probíhá čištění, jak ozón vstupuje do roztoku na povrchu kapaliny.ŕ

Description

Oblast techniky

Předkládaný vynález se týká způsobu čistého sušení povrchů substrátů, jako jsou polovodičové, keramické, kovové, skleněné, plastové a, zejména, křemíkové plátky a laserové disky, ve kterém je substrát ponořen do kapalné lázně a jeho povrchy jsou sušeny při oddělování substrátu od kapaliny prostřednictvím vedení plynu přes povrch kapaliny, přičemž tento plyn je rozpustný v kapalině a snižuje povrchové pnutí kapaliny.

Dosavadní stav techniky

Při výrobě mikroelektronických zařízení je křemík, který je obvykle ve formě monokrystalických plátků, silně znečištěn nebo poškozen v důsledku řezání, leštění, lakování nebo podobných postupů. Z tohoto důvodu je křemík obvykle čištěn v mnoha krocích, které se obvykle provádějí v kapalných lázních.

Různé chemické úpravy jsou obvykle výběrově účinné pro různé druhy znečištění (tj. částic, organických povlaků, funkčních organických skupin Si-CR₃ nebo skupin kovů, které vzájemně vykazují podobné chemické chování). Chemické úpravy jsou obvykle oddělovány oplachovacími kroky, aby povrch křemíku byl bez chemických prostředků a aby se zabránilo míchání chemických prostředků. Vynikající čistota vody je důležitá pro minimalizaci rizika opětovného znečištění kovy při pH neutrálním.

Křemík může být opětovně znečištěn nečistotami, jako jsou částice nebo kovy, typu, které byly odstraněny v průběhu předcházející fáze čisticí sekvence v důsledku nečistot přítomných v následných oplachovacích krocích nebo v chemických prostředcích, jako jsou stabilizátory pro H₂O₂, používaných v následných čistících krocích. Celá čistící sekvence je dokončena krokem sušení.

Je známo mnoho různých postupů pro sušení povrchů křemíku. Tyto sušicí postupy zahrnují odstředivé sušení prostřednictvím odstředivých sil a sušení rozpouštědly, jako je trichloretanol nebo metylenchlorid. Navíc ještě existují sušicí techniky využívající horký vzduch, horkou vodu nebo isopropylalkohol. Jednou nevýhodou těchto obecně známých sušicích postupů je to, že na křemíkový plátek je prostřednictvím velkých sil vyvíjeno obrovské napětí. Z toho důvodu je nebezpečí poškození hran velké a navíc je možná tvorba částic způsobená pohyby křemíkových plátků vzhledem k nosiči. V extrémním případě, zejména s tenčími plátky nebo po tepelných úpravách, může toto napětí způsobit rozbití plátku, čímž se zničí zcela sušený předmět a znečistí se okolní plátky částicemi.

Sušicí postupy rovněž vedou na vysoké náklady na zpracování v důsledku použití drahých chemických prostředků, jejichž následná likvidace je nutná. Nakonec je jednou nevýhodou všech postupů uvedených výše nebezpečí opětovného znečištění kovy již vyčištěných povrchů v průběhu sušicího procesu.

Známé procedury pro sušení křemíku jsou popsány v článku „Ultraclean Marangoni Diying inGases and Liquids3“, v publikaci 'Particles in Gases and Liquids3: Detection, Characterization and ControT, vydal K.L.Mittal, Plenům Press, New York, 1993, strany 269 282. Procedura popsaná v tomto článku vyžaduje ponoření křemíkových plátků do vodní lázně a potom vyjmutí křemíkových plátků z vodní lázně za přidávání směsi isopropylalkoholu/dusíku přes povrch lázně. Isopropylalkohol je rozpustný ve vodě a snižuje povrchové pnutí, když je rozpuštěn ve vodě.

-1 CZ 291335 B6

Tato známá sušicí procedura je založena na tak zvaném MARANGONI principu nebo MARANGONI efektu. Tento princip je založen na skutečnosti, že se vytvoří vyšší koncentrace isopropylalkoholu na mírně směrem nahoru zakřivené oblasti mezi povrchem křemíku a povrchem vody, když jsou křemíkové plátky vyjímány z vodní lázně, než na povrchu vody dále od povrchu křemíku. Tato vyšší koncentrace isopropylalkoholu v oblasti mezi povrchem křemíku a povrchem vody způsobí v této oblasti menší povrchové pnutí než je na zbývajícím povrchu vody. Tento spád v povrchovém pnutí způsobí, že voda proudí od povrchu křemíku ke zbývajícímu povrchu vody, což má za následek sušení povrchu křemíku. Nevýhodou této procedury je kovové znečištění vody, které způsobuje také kovové znečištění povrchu křemíku. Navíc se mohou vyskytnout organické zbytky na tomto povrchu, které mohou být způsobeny isopropylalkoholem. Existuje tedy v současnosti potřeba způsobu pro sušení povrchu křemíku bez kovového a/nebo jiného znečištění povrchu křemíku.

EP 0 385 536-A1 popisuje postup pro sušení substrátu s pomocí MARANGONI efektu, ve kterém ale kapalná lázeň sestává z vody a plyn přidávaný přes povrch kapalné lázně je organické rozpouštědlo. Nevýhodou v této známé proceduře je to, že kovové znečištění vody nevyhnutelně vede na kovové znečištění povrchu substrátu. Navíc nemohou být vyloučeny organické zbytky na povrchu substrátu.

WO 95/08406 vůbec nevyužívá MARANGONI efektu, ale týká se čištění a sušení desek ve dvouvrstvé lázni, přičemž spodní vrstva sestává z vodného roztoku a homí vrstva sestává z organického rozpouštědla. Do vodného roztoku je vháněn ozón a deska je vytahována z čistící lázně skrz tyto dvě vrstvy. Po kroku čištění mohou následovat doplňkové kroky oxidace.

Základním cílem předkládaného vynálezu je tedy navrhnout způsob pro sušení povrchů substrátu typu, který je definován v úvodu nároků 1 a 2, který zaručí udržení vysokého stupně čistoty vyčištěných povrchů a účinné sušení substrátu se současným čištěním povrchu nekomplikovaným způsobem.

Uvedeného cíle je dosaženo způsoby sušení povrchů substrátu, které jsou definovány v patentových nárocích 1 a 2.

Výhodná provedení předkládaného vynálezu jsou specifikována v závislých patentových nárocích.

Podstata vynálezu

Předkládaný vynález navrhuje způsoby sušení povrchů substrátu. Způsoby podle předkládaného vynálezu zajišťují čistotu vyčištěných povrchů a účinné sušení povrchu. Předkládaný vynález je použitelný pro povrchy mnoha materiálů, včetně polovodičových, kovových (zejména hliníkových), plastových, skleněných a keramických materiálů. Předkládaný vynález je obzvláště užitečný pro sušení a čištění laserových disků a polovodičových křemíkových plátků. Mělo by být ovšem zcela zřejmé, že předkládaný vynález je využitelný pro sušení substrátů jakékoliv odpovídající fyzické formy, zejména ve formě plátků, desek nebo disků.

V prvním provedení se předkládaný vynález týká způsobu sušení povrchu substrátu, ve kterém se substrát ponoří do kapalné lázně a substrát a kapalina se následně odděluje, zatímco se přes povrch kapaliny vede plyn, přičemž tento plyn je rozpustný v kapalině a snižuje povrchové pnutí kapaliny. Například tak může být sušen polovodičový křemíkový plátek při vyjímání z kapalné lázně, zahrnující vodný roztok UF s koncentrací mezi 0,001 % a 50 %, s plynovou směsí Ο2/Ο3 vedenou přes povrch vodného roztoku HF.

Ve druhém provedení se předkládaný vynález týká způsobu sušení povrchu substrátu, ve kterém se substrát ponoří do kapalné lázně a následně se oddělí od kapalné lázně a směs plynů se vede

-2CZ 291335 B6 přes povrch substrátu po oddělení substrátu od kapalné lázně. Například tak může být polovodičový křemíkový plátek ponořen do vodného roztoku HF s koncentrací mezi 0,001 % a 50 % a směs plynová směs O₂/O₃ se vede přes povrch křemíkového plátku po vyjmutí z vodného roztoku

HF.

Přehled obrázků na výkresech

Předkládaný vynález bude v následujícím popisu podrobněji popsán prostřednictvím příkladných výhodných provedení ve spojení s odkazy na připojené výkresy.

Obr. 1 znázorňuje vyjímání křemíkového plátku z lázně s vodným roztokem HF za přidávání plynové směsi Ο2/Ο3;

Obr. 2 znázorňuje vyjímání křemíkového plátku z lázně s vodným roztokem HF bez přidávání plynové směsi O₂/O₃;

Obr. 3a až obr. 3c znázorňují chemické procesy čištění nebo hydrofílizace křemíkového povrchu s použitím postupů podle předkládaného vynálezu.

Příklady provedení vynálezu

V prvním provedení plynová směs vedená přes povrch roztoku HF obsahuje Ο2/Ο3, přičemž jako nosného plynu může být použito dusíku nebo podobného plynu. Nosný plyn by měl být chemicky netečný se složkou Ο2/Ο3 plynové směsi. Vhodné plyny zahrnují vzduch (N₂, O₂, CO₂), CO₂, He, Ne, Ar, Kr, Xe a Rn. Podíl O₃ v plynové směsi O₂/O₃ je výhodně 1 mg až 0,5 g na litr plynové směsi Ο2/Ο3. Plynová směs může sestávat pouze z O₂/O₃. Pokud je ale použito nosného plynuje podíl plynové směsi O₂/O₃ výhodně větší než 10 %.

Aktivní křemíkové atomy na povrchu jsou změněny na vazby Si-H a Si-F. Výsledný povrchový charakter umožňuje sušení dokonce při velmi nízkých teplotách. Hodnota pH<7 vodného roztoku HF v průběhu sušení zabraňuje opětovnému znečištění kovy. Navíc HF odstraňuje kovové znečištění v kapalné lázni, které existuje v oxidované (= ionizované) formě jako Fe, a udržuje toto znečištění v kapalině ve formě fluoridových komplexů kovu. Pokud je veden ozón přes povrch vodného roztoku HF v souladu s prvním provedením předkládaného vynálezu, rozpouští se částečně ve vodném roztoku HF a převádí kovalentní vazební kombinace Si-Me na iontové kombinace, kde Me označuje kovy.

Navíc při rozpouštění ozónu ve vodném roztoku HF nastává MARANGONI efekt v koncentraci ozónu. Křemíkový povrch odchází hydrofilně z vodného roztoku HF, což znamená, že je smáčivý vodou nebo vodnými roztoky.

S postupem podle druhého provedení předkládaného vynálezu je plynová směs obsahující O₂/O₃vedena přes povrch křemíku pouze po jeho sušení. Tedy vytváření křemíkového povrchu hydrofilním probíhá pouze po sušicím procesu. Výhodou tohoto postupu je velmi rychlé sušení křemíku.

U obou shora popisovaných provedení podle předkládaného vynálezu může být oddělování křemíku od vodného roztoku HF prováděno buď zdviháním křemíku ven z roztoku HF, nebo odtékáním dolů roztoku HF nebo kombinací obou dvou způsobů.

Se způsobem podle prvního provedení předkládaného vynálezu je vzájemná rychlost oddělování, kterou tvoří rychlost vyjímání křemíku z roztoku nebo rychlost odvádění roztoku z lázně, přibližně 1 až přibližně 50 mm/s a výhodně od 3 do 10 mm/s. Taková nízká rychlost je výhodná,

-3CZ 291335 B6 protože MARANGONI efekt je obzvláště účinný při nízkých rychlostech. Se způsobem podle druhého provedení předkládaného vynálezu je vzájemná rychlost oddělování mezi křemíkem a povrchem roztoku přibližně 0,1 do přibližně 20 cm/s a výhodně od 0,5 do přibližně 3,0 cm/s, protože sušení může být prováděno velmi rychle. Navíc, vodný roztok HF může obsahovat 5 příměsi, jako organické sloučeniny (jako je alkohol, isopropylalkohol a EDTA), organické kyseliny (jako je kyselina mravenčí, kyselina octová a kyselina citrónová), kyseliny (jako je HCL, H₃PO₄, H₂SO₄, HCLO, HCLO₂, HCLO₃ a HCLO₄), povrchově aktivní činidla (kationtová nebo aniontová) nebo tuhé příměsi, jako je NH₄F, při zajištění, že nepoškodí účinky vysvětlené výše a účinně vyčistí a vysuší stávající křemík. Kyseliny jsou přidávány v množství od 0 % do 10 přibližně 50 % hmotnostních, organické sloučeniny jsou přidávány v množství od 0 % do přibližně 80 % hmotnostních, povrchově aktivní činidla jsou přidávána v množství od 0 % do přibližně 5 % hmotnostních a tuhé příměsi jsou přidávány v množství od 0 % do přibližně 50 % hmotnostních. Jsou možné specifické aplikace, se kterými může být dosaženo silnějšího než uvedeného účinku nebo lepšího čištění a sušení prostřednictvím přidání jedné nebo více kyselin 15 do vodného roztoku HF. Výhodnými kyselinami jsou HCL, H₂SO₄ a H₃PO₄ nebo jejich směsi.

Ovšem jakákoliv jedna nebo více kyselin popsaných výše může být přidána s použitím rozsahu výše uvedených. Výhodnými směsmi kyselin jsou HF/HCL, HF/HCL/H₂SO₄, HF/H₃PO₄, HFTLPC^/HCL, HF/H₃PO₄/H₂SO₄, HF/H₃PO₄/HCL/H₂SO₄. Jinak může být roztok HF odstředěn na koncentraci c = 0 (čistá voda).

Navíc je výhodné obohacení nebo nasycení vodného roztoku HF ozónem před ponořením křemíku, což má za následek čistší křemíkové povrchy. Více monovrstev křemíku je oxidováno a potom erodováno. Tak je čištění účinné dokonce pro kovy těsně pod povrchem (podpovrchové znečištění).

Koncentrace HF je výhodně mezi 0,01 % a 0,1 %. Rozsah může být 0 % (čistá voda) až 90 % (koncentrovaný HF).

Stabilní obsah ozónu, srovnatelný s nasyceným stavem může být dosažen prostřednictvím 30 kontinuálního napájení nádrže s roztokem HF proudem plynu O₂/O₃ (například „probubláváním“). Další parametry, jako je teplota, koncentrace HF a přidávání příměsí (zejména povrchově aktivních činidel), mají vliv na obsah ozónu a nasycený stav. Úspěšná čisticí a sušicí procedura může být dosažena s kontinuálním proudem plynu O₂/O₃. Ve výhodném provedení má proud plynu rychlost v rozsahu od přibližně 50 do přibližně 300 1/h a vytváření ozónu je v rozsahu od 35 přibližně 10 do přibližně 50 g/h. Odhadnutá hodnota koncentrace ozónu v roztoku HF je v rozsahu od 10 do 80 mg/1.

Další výhodou předkládaného vynálezu je to, že postup může být proveden v teplotním rozsahu mezi 0 a 100 °C, přičemž výhodná teplota je 20 až 50 °C.

Příklad

Obr. 1 znázorňuje substrát, kterým je křemíkový plátek 1, který je pomalu vyjímán z kapalné 45 lázně 2 s kapalinou, která zahrnuje vodný roztok 3 HF, poté, co byl zcela ponořen do této lázně.

Směr vyjímání křemíkového plátku 1 je znázorněn šipkou ukazující vertikálně směrem nahoru, nad křemíkovým plátkem. Rychlost vyjímání je výhodně od okolo 3 do okolo 10 milimetrů za sekundu. Šipka šikmá vzhledem k povrchu křemíkového plátku znázorňuje současné přivádění plynové směsi O₂/O₃ přes vodný roztok v blízkosti povrchu plátku.

Při pomalém vyjímání křemíkového plátku 1 z vodného roztoku 3 HF lne k povrchu křemíku a je ohýbán směrem nahoru. To je znázorněno zakřivením povrchu kapaliny směrem nahoru v oblasti mezi povrchem roztoku a povrchem křemíkového plátku L V bodu A je rozpuštěno více ozónu než na jiných povrchu roztoku, tj. například v místě znázorněném bodem B. Protože v bodu A je 55 větší koncentrace ozónu než v bodu B, je v bodu A menší povrchové pnutí než v bodu B.Tento

-4CZ 291335 B6 spád povrchového pnutí způsobuje, že vodný roztok HF odchází z bodu A do bodu B a suší tak křemíkový povrch.

Obr. 2 znázorňuje substrát, kterým je křemíkový plátek 1, který je pomalu vyjímán z kapalné lázně 2 s kapalinou, která zahrnuje vodný roztok 3 HF, poté, co byl zcela ponořen do této lázně. Směr vyjímání křemíkového plátku 1 je znázorněn šipkou ukazující vertikálně směrem nahoru, nad křemíkovým plátkem. V důsledku nesmáčivosti (hydrofobicitě) křemíkového plátku je povrch kapaliny ohýbán směrem dolů u křemíkového povrchu. Hydrofilizace křemíkového povrchu ozónem probíhá pouze poté, co je již dokončen sušicí proces.

Obr. 3a znázorňuje, že roztok HF ve vodném roztoku zajišťuje erodování vrstev oxidu křemičitého, do kterých mohou být zapuštěny ionty kovů, jako je Fe.

Znečištění kovy, jako je Cu, které jsou přímo vázány k atomu Si, je odstraňováno oxidačně redukčním procesem, jak je znázorněno na obr. 3b.

Obr. 3c znázorňuje jak ozón způsobuje oxidaci křemíkového povrchu.

Křemík tedy opouští sušicí lázeň perfektně čistý, hydrofilní (smáčivý) a suchý.

Další provedení předkládaného vynálezu budou zřejmá osobám s průměrnými zkušenostmi z oboru. Přestože výhodná provedení a příklady popisují sušení křemíkových plátků, je předkládaný vynález použitelný pro substráty z mnoha materiálů vedle křemíku, jako například pro kovové, plastové, skleněné a keramické materiály. Termín „substrát“ není omezen na substráty, které nesou elektrické obvody, ale označuje jakýkoliv objekt nesoucí povrch, tj. mající odpovídající fyzickou formu, jako je například tvar plátků, desek nebo disků. Předkládaný vynález není omezen na specifické příklady a je definován následujícími patentovými nároky.

Claims

PATENTOVÉ NÁROKY

1. Způsob sušení povrchu substrátu, který zahrnuje: ponoření substrátu do kapalné lázně; vedení plynu přes povrch kapalné lázně, přičemž tento plyn je rozpustný v kapalině a snižuje povrchové pnutí kapaliny, když je v ní rozpuštěn; a oddělování substrátu a kapaliny s rychlostí takovou, že rozdíl v povrchovém napětí mezi kapalinou mající první koncentraci rozpuštěného plynu u povrchu substrátu a kapalinou mající nižší koncentraci rozpuštěného plynu dále od povrchu substrátu suší substrát při oddělování, vyznačující se tím, že kapalina kapalné lázně zahrnuje vodný roztok HF a plyn zahrnuje směs O₂/O₃.
2. Způsob sušení povrchu substrátu, který zahrnuje:

ponoření substrátu do kapalné lázně;

oddělení substrátu od kapalné lázně, vyznačující se tím, že kapalina kapalné lázně zahrnuje vodný roztok HF, přičemž povrch substrátu je hydrofilní při oddělování od kapalné lázně, a substrát se odděluje od lázně s rychlostí, která umožňuje kapalině lázně odtékat od hydrofobního povrchu substrátu, aby se vytvářel suchý substrát; a po oddělení substrátu od kapalné lázně se přes povrch substrátu vede plyn který zahrnuje směs O₂/O₃, která tvoří hydrofilní povrch na substrátu.

-5CZ 291335 B6
3. Způsob podle nároku2, vyznačující se tím, že vzájemná rychlost oddělování mezi substrátem a povrchem vodného roztoku HF je mezi 0,1 cm/s a 20 cm/s.
4. Způsob podle nároku3, vyznačující se tím, že vzájemná rychlost oddělování mezi substrátem a povrchem vodného roztoku HF je mezi 0,5 cm/s a 3,0 cm/s.
5. Způsob podle kteréhokoliv z předcházejících nároků, vyznačující se tím, že kapalina kapalné lázně zahrnuje vodný roztok HF s koncentrací mezi 0,001 % a 50 %.
6. Způsob podle nároku 5, vyznačující se tím, že koncentrace HF ve vodném roztoku je mezi 0,01 % a 0,1 %.
7. Způsob podle kteréhokoliv z předcházejících nároků, vyznačující se tím, že substrát zahrnuje křemík.
8. Způsob podle jednoho z nároků 1 až 6, vyznačující keramický materiál nebo skleněný materiál.
9. Způsob podle jednoho z nároků laž 6, vyznačující plastový materiál.
10. Způsob podle jednoho z nároků 1 až 6, vyznačující kovový materiál.
11. Způsob podle jednoho z nároků 1 až 6, vyznačující laserový disk.

tím, že substrát zahrnuje t í m, že substrát zahrnuje t í m, že substrát zahrnuje t í m, že substrát zahrnuje
12. Způsob podle kteréhokoliv z nároků lažll, vyznačující se tím, že substrát a kapalina lázně jsou oddělovány zvedáním substrátu z kapalné lázně.
13. Způsob podle kteréhokoliv z nároků lažll, vyznačující se tím, že substrát a kapalina lázně jsou oddělovány odtékáním kapaliny z lázně.
14. Způsob podle kteréhokoliv z předcházejících nároků, vyznačující se tím, že kapalina lázně obsahuje alespoň jednu příměs vybranou ze skupiny sestávající z kyselin, organických kyselin, povrchově aktivních činidel a tuhých příměsí.
15. Způsob podle nároku 14, vyznačující se tím, že alespoň jednou příměsí je kyselina vybraná ze skupiny sestávající z HCL, H3PO4, H₂SO₄, HCLO, HCLO₂, HCLO3 a HCLO4.
16. Způsob podle nároku 14, vyznačující se tím, že vodný roztok obsahuje směs kyselin, vybranou ze skupiny sestávající z HCL/H₂SO₄, H3PO4/HCL, H3PO4/H₂SC>4, H₃PO4/HCL/H₂SO4.
17. Způsob podle kteréhokoliv z nároků Maž 16, vyznačující se tím, že kyselina se přidá pro vytvoření koncentrace až 50 % hmotnostních.
18. Způsob podle nároku 14, vyznačující se tím, že alespoň jednou příměsí je organická kyselina vybraná ze skupiny sestávající z kyseliny mravenčí, kyseliny octové a kyseliny citrónové.
19. Způsob podle nároku 18, vyznačující se tím, že organická kyselina se přidává pro vytvoření finální koncentrace až 80 % hmotnostních.
20. Způsob podle nároku 14, vyznačující se tím, že povrchově aktivní činidlo se přidává pro vytvoření finální koncentrace až 5 % hmotnostních.
21. Způsob podle nároku 14, vyznačující se tím, že tuhou příměsí je NH4F.
22. Způsob podle nároku 14, vyznačující se tím, že tuhá příměs se přidává pro vytvoření finální koncentrace až 50 % hmotnostních.
23. Způsob podle kteréhokoliv z nároků 1 až 22, v y z n a č u j í c í se t í m , ž e se provádí při teplotě mezi 0 a 100 °C.
24. Způsob podle nároku23, vyznačující se tím, že se provádí při teplotě mezi 20 a 50 °C.
25. Způsob podle kteréhokoliv z předcházejících nároků, vy tl n a č uj í c í se tím, že podíl O₃ v plynové směsi O₂/O₃ je mezi 1 mg a 0,5 g na litr plynové směsi Ο2/Ο3.

výkresy

Fig.2 A

-8CZ 291335 B6

I fig. 3α fig. 3b fig. 3c

Konec dokumentu