CZ286233B6 - Zařízení ke kontrolovanému dávkování NO do dechu pacientů - Google Patents
Zařízení ke kontrolovanému dávkování NO do dechu pacientů Download PDFInfo
- Publication number
- CZ286233B6 CZ286233B6 CZ1994936A CZ93694A CZ286233B6 CZ 286233 B6 CZ286233 B6 CZ 286233B6 CZ 1994936 A CZ1994936 A CZ 1994936A CZ 93694 A CZ93694 A CZ 93694A CZ 286233 B6 CZ286233 B6 CZ 286233B6
- Authority
- CZ
- Czechia
- Prior art keywords
- analyzer
- breath
- patient
- gas
- respirator
- Prior art date
Links
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61M—DEVICES FOR INTRODUCING MEDIA INTO, OR ONTO, THE BODY; DEVICES FOR TRANSDUCING BODY MEDIA OR FOR TAKING MEDIA FROM THE BODY; DEVICES FOR PRODUCING OR ENDING SLEEP OR STUPOR
- A61M16/00—Devices for influencing the respiratory system of patients by gas treatment, e.g. mouth-to-mouth respiration; Tracheal tubes
- A61M16/10—Preparation of respiratory gases or vapours
- A61M16/12—Preparation of respiratory gases or vapours by mixing different gases
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61M—DEVICES FOR INTRODUCING MEDIA INTO, OR ONTO, THE BODY; DEVICES FOR TRANSDUCING BODY MEDIA OR FOR TAKING MEDIA FROM THE BODY; DEVICES FOR PRODUCING OR ENDING SLEEP OR STUPOR
- A61M16/00—Devices for influencing the respiratory system of patients by gas treatment, e.g. mouth-to-mouth respiration; Tracheal tubes
- A61M16/10—Preparation of respiratory gases or vapours
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/0004—Gaseous mixtures, e.g. polluted air
- G01N33/0009—General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment
- G01N33/0027—General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment concerning the detector
- G01N33/0036—Specially adapted to detect a particular component
- G01N33/0037—Specially adapted to detect a particular component for NOx
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/48—Biological material, e.g. blood, urine; Haemocytometers
- G01N33/483—Physical analysis of biological material
- G01N33/497—Physical analysis of biological material of gaseous biological material, e.g. breath
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D11/00—Control of flow ratio
- G05D11/02—Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material
- G05D11/13—Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means
- G05D11/135—Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means by sensing at least one property of the mixture
- G05D11/138—Controlling ratio of two or more flows of fluid or fluent material characterised by the use of electric means by sensing at least one property of the mixture by sensing the concentration of the mixture, e.g. measuring pH value
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61M—DEVICES FOR INTRODUCING MEDIA INTO, OR ONTO, THE BODY; DEVICES FOR TRANSDUCING BODY MEDIA OR FOR TAKING MEDIA FROM THE BODY; DEVICES FOR PRODUCING OR ENDING SLEEP OR STUPOR
- A61M16/00—Devices for influencing the respiratory system of patients by gas treatment, e.g. mouth-to-mouth respiration; Tracheal tubes
- A61M16/10—Preparation of respiratory gases or vapours
- A61M16/1005—Preparation of respiratory gases or vapours with O2 features or with parameter measurement
- A61M2016/102—Measuring a parameter of the content of the delivered gas
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61M—DEVICES FOR INTRODUCING MEDIA INTO, OR ONTO, THE BODY; DEVICES FOR TRANSDUCING BODY MEDIA OR FOR TAKING MEDIA FROM THE BODY; DEVICES FOR PRODUCING OR ENDING SLEEP OR STUPOR
- A61M2202/00—Special media to be introduced, removed or treated
- A61M2202/02—Gases
- A61M2202/0266—Nitrogen (N)
- A61M2202/0275—Nitric oxide [NO]
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61M—DEVICES FOR INTRODUCING MEDIA INTO, OR ONTO, THE BODY; DEVICES FOR TRANSDUCING BODY MEDIA OR FOR TAKING MEDIA FROM THE BODY; DEVICES FOR PRODUCING OR ENDING SLEEP OR STUPOR
- A61M2205/00—General characteristics of the apparatus
- A61M2205/70—General characteristics of the apparatus with testing or calibration facilities
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/20—Air quality improvement or preservation, e.g. vehicle emission control or emission reduction by using catalytic converters
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Hematology (AREA)
- Food Science & Technology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Heart & Thoracic Surgery (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- Immunology (AREA)
- Anesthesiology (AREA)
- Pulmonology (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Emergency Medicine (AREA)
- Biophysics (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Urology & Nephrology (AREA)
- Investigating Or Analysing Biological Materials (AREA)
- Respiratory Apparatuses And Protective Means (AREA)
- Measurement Of The Respiration, Hearing Ability, Form, And Blood Characteristics Of Living Organisms (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By The Use Of Chemical Reactions (AREA)
- Medicinal Preparation (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Infusion, Injection, And Reservoir Apparatuses (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Orthopedics, Nursing, And Contraception (AREA)
- Flow Control (AREA)
- Percussion Or Vibration Massage (AREA)
Abstract
Zařízení ke kontrolovanému dávkování NO do dechu pacientů sestává z respirátoru (1) s připojenou nádrží (3) dávkovaného NO, přičemž mezi respirátorem (1) a nádrží (3) dávkovaného NO je umístěna dávkovací jednotka (4), se kterou je v činném spojení řídicí zařízení (6a), a potřebné objemové proudění NO pro přívod NO je regulováno v závislosti na inspiračním objemovém proudění, a analyzátoru (2) ke stanovení koncentrace NO v dechu pacienta (12), který je spojen prostřednictvím analyzačního odvodu (19) přes v něm umístěný odvlhčovač (23) s tubusem (13), vedoucím k pacientovi (12). Analyzátor pro NO se používá k řízení přívodu množství NO u zařízení ke kontrolovanému dávkování NO do dechu pacientů (12).ŕ
Description
Oblast techniky
Vynález se týká zařízení ke kontrolovanému dávkování NO do dechu a analýze inspiračního a rovněž expiračního dechového vzduchu pacientů s například ARDS-adult respirátory distress syndrome nebo podobnými příznaky nemoci podle předvýznaku nároku 1, a použití analyzátoru.
Dosavadní stav techniky
ARDS je těžkým selháním plic dospělých, při kterém vedle zatajeného těžkého porušení výměny plynů plícemi vzniká vysoký krevní tlak v plicním oběhu. Tento vysoký tlak vede k velkému zatížení srdce vkonsekvenci s těžkou srdeční poruchou. Kromě toho může při ARDS nastat vysoký tlak v plicním oběhu také u dříve narozených dětí u stanovených deformací srdce. Vysoký tlak v plicním oběhu se může snížit podáváním prostředků snižujících krevní tlak. Poněvadž se krevní tlak u pacientů s ARDS zpravidla jíž snižuje, mohou se proto podávat takové prostředky snižující krevní tlak jen s velkým omezením.
Již několik let je známé, že se dávkováním oxidu dusnatého do dechu pacientů může docílit snížení vysokého tlaku v plicním oběhu. NO působí rozšiřování cév a vede zvětšením průřezu cév ke snížení krevního tlaku v plicním oběhu. Použití NO způsobuje těžkosti, pokud se musí zajistit nerušená aplikace NO v období několika týdnů. Další těžkost může vzniknout tím, že se může v plících pacientů tvořit částečně jedovatý oxid dusičitý.
Z WO 90/04425 je známé zařízení na odebírání vzorku plynu a odlučování vody, které sestává z postupně ve vedení plynu umístěných odběrního místa, čerpadla, solenoidu, filtru a snímače. Přitom solenoid je připojen ke kontrolnímu spínači a obvodu kontroly odchylky.
Z WO 92/11051 je známý záchranný systém pro znecitlivění, používající uzavřený obvod s CO2. Tento systém sestává z cirkulačního systému CO2 s absorbérem CO2 a výstupem k pacientovi. Cirkulační systém CO2 je opatřen snímačem parciálního tlaku CO2, který ovládá přes zpětnou vazbu přívod CO2.
Podstata vynálezu
Vynález spočívá ve vytvoření zařízení ke kontrolovanému dávkování oxidu dusnatého do dechu pacientů, které zajišťuje bezpečný dlouhodobý chod a velmi rychle reaguje na nedovolenou změnu koncentrace NO a rovněž NO2 v dechu pacienta. Na základě znalosti shora uvedeného stavu techniky je tento úkol podle vynálezu vyřešen tím, že zařízení sestává z respirátoru s připojenou nádrží dávkovaného NO, přičemž mezi respirátorem a nádrží dávkovaného NO je umístěna dávkovači jednotka, se kterou je v činném spojení řídicí zařízení, a potřebné objemové proudění NO pro přívod NO je regulováno v závislosti na inspiračním objemovém proudění, a analyzátoru ke stanovení koncentrace NO v dechu pacienta, který je spojen prostřednictvím analyzačního odvodu přes v něm umístěný odvlhčovač s tubusem, vedoucím k pacientovi.
Výhodná další vytvoření vynálezu jsou uvedena ve vedlejších nárocích.
Vlastní analyzátory pro zařízení podle vynálezu pracují například podle infračerveného absorpčního měřicího principu, měřicího principu s elektrochemickými senzory nebo na principu chemiluminiscenčního detektoru. Chemiluminiscenční detektor má výhodu, že se s ním může
- 1 CZ 286233 B6 současně stanovit koncentrace NO a NO2. Analyzátor rovněž může být vytvořen ke stanovení koncentrace NO2 ve vdechovaném plynu nebo vydechovaném plynu.
Poněvadž takovéto analyzátory reagují velmi citlivě na vlhkost, což může vést k neočekávaným vedlejším efektům a výpadkům činnosti, je podle vynálezu ve spojovacím vedení měřeného plynu umístěn odvlhčovač, například chladič měřeného plynu, ve kterém se odstraňuje, například kondenzací, vlhkost, nalézající se v dechu. Tím se dosáhne, že zařízení dlouhodobě pracuje bez poruch. Dále je ve spojovacím vedení měřeného plynu, vedoucího k analyzátoru, umístěno čerpadlo měřeného plynu. Toto odtahuje z tubusu, vedoucího z respirátoru k pacientovi, větší množství dechového vzduchu, než analyzátor potřebuje. Nepotřebné množství měřeného plynu se odvede obtokovým vedením do okolí. Tím se docílí, že analyzátor velmi rychle eviduje změnu koncentrace NO a rovněž NO2 a může se rovněž vhodně změnit dávkování NO. K analyzátoru může být také s výhodou připojena jednotka hlídání hraničních hodnot NO, která je v činném spojení s řídicím zařízením. K dávkovači jednotce může rovněž být připojeno zařízení k evidenci inspiračního objemového proudu vdechovaného vzduchu a kyslíku, objemového proudu NO, a rovněž kontrolní a regulační zařízení se vstupem pro objemové proudění měřeného NO a analyzovanou hodnotu jako regulační veličinu pro doregulaci dávkovaného množství NO. K výstupu signálu inspiračního ventilu respirátoru může být přednostně připojen řídicí ventil.
Podle vynálezu se tedy analyzátor pro NO používá k řízení přívodu množství NO u zařízení ke kontrolovanému dávkování NO do dechu pacientů.
Popis obrázků na výkresech
Vynález bude dále blíže objasněn na dvou příkladech provedení pomocí výkresů. Zde znázorňuje:
obr. 1 zařízení, které je vhodné pro libovolné analyzátory ke stanovení NO v dechu pacientů, obr. 2 zařízení s chemiluminiscenčním detektorem jako zařízením, které dovoluje současné stanovení NO a NO2.
Příklady provedení vynálezu
U obou obrázků byly použity pro stejné části zařízení stejné vztahové značky.
Podstatné součásti zařízení, zobrazeného na obr. 1, jsou respirátor 1, analyzátor 2, nádrž 3 dávkovaného NO, dávkovači jednotka 4 s regulačními ventily 14, 15 a řídicí zařízení 6a. Řídicí a regulační vazby jsou zobrazeny na obrázku čárkovaně, řídicí vedení jsou vytažena. Tato spojení nejsou převážně opatřena vztahovými značkami.
Respirátor 1 je vlastním dýchacím zařízením. Sestává z přípojů 7 a 8 pro dechový vzduch a kyslík a rovněž z třetího přípoje 9 k odvedení vydechnutého vzduchu. Vzduch obohacený kyslíkem proudí inspiračním ventilem 10 a navlhčovačem 11. Pacient 12 tím získává přes tubus 13 teplý dechový vzduch, silně nasycený kyslíkem a vlhkostí. Nádrž 3 dávkovaného NO je tlakovou lahví na plyn a obsahuje směs z NO v dusíku při 300 až 3000 vpm. Je připojena k respirátoru 1, přednostně k jeho respiračnímu rameni 16. Analyzátor 2 stanoví koncentraci NO. Řídicí ventily 5 mohou být taktovány se signálem z inspiračního ventilu 10. Tímto nesmí nastat, že regulační ventily 14, 15 regulují na základě objemu inspiračního proudu k nule a zavírají přívod NO. Řídicí ventily 5 však jsou v přívodu NO myšleny jako bezpečnostní ventily. Tím se obsah NO analyzuje jen během inspirační fáze, během respirační fáze se však analyzuje
-2CZ 286233 B6 vydechnutá plynná směs. Toto uspořádání tím umožňuje další interpretaci analyzovaných produktů a zvláště vhodně ukazuje zaznamenaný obsah NO.
Koncentrace NO stanovená analyzátorem 2 se kontinuálně zachycuje registračním zařízením 17. Hodnoty zachycené koncentrace se dále vedou na řídicí zařízení 6a, které reguluje regulačními ventily 14, 15 množství NO, přiváděné přes dávkovači jednotku 4 k pacientovi 12.
Měřením objemu proudu dechového vzduchu a kyslíku, proudících přípoji 7 a 8, a na základě koncentrace, nastavené na kontrolním a regulačním zařízení 6b, vypočítá kontrolní a regulační zařízení potřebný objem proudu dávkovaného NO. Tento se stanoví automatickým nastavením ventilu. Na místo regulačního ventilu se ktomu může také použít více paralelně řazených ventilů. Objemový proud NO, změřený v dávkovacím vedení, se převádí zpět jako regulační veličina. Na základě analyzované hodnoty NO doreguluje kontrolní a regulační zařízení 6b dávkované množství NO.
Tento regulační koncept umožňuje nejen volbu objemově kontrolovaného dýchání, nýbrž také realizaci celkem jiných forem dýchání. Koncentrace NO se přitom udržují vždy konstantní. Je také tedy myslitelná forma spontánního dýchání, takže pacient nemusí dýchat plnou intenzitou.
Doplňkově je mezi analyzátor 2 a třídicí zařízení 6a umístěna jednotka 18 hlídání hraničních hodnot. Tato vypíná přívod NO k pacientovi, když se v tubusu 13 změří v dechovém plynu pro pacienta nebezpečná koncentrace více než maximálních 60 vpm NO. Posunutí hraničních hodnot je však možné tím, že se hraniční hodnoty vytvoří variabilně nastavitelné mezi 0 až 60 vpm. Měřený plyn pro analyzátor 2 se odebírá z tubusu 13 analyzačním odvodem 19. Analyzační odvod 19 musí být co možná blízko pacienta 12.
Podle vynálezu je vytvořeno čerpadlo 20 měřeného plynu, které ve spojení se zařízením 21 kontroly průtoku odvádí z tubusu 13 značně velký proud měřeného plynu, jaký je potřebný pro chod analyzátoru 2. Nadbytečné množství měřeného plynu se odvede obtokovým vedením 22. Těmito opatřeními podle vynálezu se dosáhne, že se velmi rychle analyzátorem 2 stanoví změna koncentrace NO v dýchacím plynu. Vhodně rychle se může pomocí řídicího zařízení 6a a kontrolního a regulačního zařízení 6b doregulovat přívod NO.
Pacienti s ARDS nebo podobným obrazem onemocnění se často musí podrobit působení NO po dobu několika týdnů. Během doby působení musí zařízení pracovat co možná bez poruchy. Aby se toho dosáhlo, je podle dalšího znaku vynálezu umístěn v analyzačním obvodu 19 odvlhčovač 23, přednostně chladič měřených plynů. Odvlhčovačem 23 se z proudu analyzovaného plynu odstraní vlhkost, aniž nastává nějaká reakce NO a případně NO2. Tato vlhkost by mohla v analyzátoru 2 vést k vedlejším efektům, až k vypadnutí chodu. Vlhkost, oddělená v odvlhčovači 23, se vede kondenzačním čerpadlem 24 do kondenzační sběrné láhve 25 a z ní se čas od času oddělí.
U zařízení, zobrazeného na obr. 2, je vytvořen analyzátor jako chemiluminiscenční detektor 26, který umožňuje současně stanovit koncentraci NO a NO2. Nádrž 3 dávkovaného NO je tlakovou láhví a obsahuje 900 vpm NO v N2. V plících pacienta 12 vzniká oxid dusičitý. Během inspirační fáze - nadechnutí se analyzuje dávkovaný oxid dusnatý, případně oxid dusičitý, během respirační fáze - vydechnutí se analyzuje vydechovaná plynná směs. Toto uspořádání tím umožňuje dále interpretovat produkty analýzy a zvláště stanovit přijímaný oxid dusnatý a vznikající oxid dusičitý. Vedle jiných faktorů je pro množství tvořícího se oxidu dusičitého rozhodující množství NO, nasátého z nádrže 3 dávkovaného NO do tubusu 13. V chemiluminizačním detektoru 26 reaguje NO s ozonem, který vyrobí sám chemiluminizační detektor 26. Při této reakci vzniká světlo, jehož intenzita je reprezentativní pro koncentraci NO. Pro chod chemiluminizačního detektoru 26 je potřebný zkušební plyn, který se nalézá v láhvi 27 zkušebního plynu. Zkušební
-3CZ 286233 B6 plyn sestává z 90 vpm NO v dusíku a slouží k přezkoušení, případně kalibraci chemiluminizačního detektoru 26. Kromě toho jsou pro činnost chemiluminizačního detektoru 26 potřebné vakuové čerpadlo 28 a generátor 29 suchého vzduchu. Koncentrace NO a NO2, zjištěné v chemiluminizačním detektoru 26, se kontinuálně zaznamenávají registračním zařízením 17. Zjištěné hodnoty koncentrace se převádí na řídicí zařízení 6a, které znovu reguluje přes dávkovači jednotku 4 a řídicí ventil 5 množství NO, přiváděné k pacientovi 12.
Chemiluminizační detektor 26 pracuje se silným podtlakem, takže bude proudit měřený plyn analyzačním obvodem 19 k analyzátoru 2 samočinně. Čerpadlo 20 měřeného plynu vytahuje ve spojení se zařízením 21 kontroly průtoku z tubusu 13 proud měřeného plynu značně větší, než je potřebné pro chod analyzátoru 2. Uvedenými zařízeními se odvádí 3 1/min měřeného plynu, zatímco chemiluminizační detektor 26 potřebuje jen 0,7 1/min. Přebývající množství měřeného plynu se odvede obtokovým vedením 22. Tímto opatřením podle vynálezu se dosahuje, že se změna koncentrace NO a NO2 v plynu dechu stanoví analyzátorem 2 velmi rychle. Přiměřeně rychle se může pomocí řídicího zařízení 6a a kontrolního a regulačního zařízení doregulovat přívod NO.
Rychlou změnou dávkování NO na základě zjištěné koncentrace NO a NO2 se může výhodně dosáhnout, že se tvoří co možná málo jedovatého NO2.
PATENTOVÉ NÁROKY
Claims (2)
1. Zařízení ke kontrolovanému dávkování NO do dechu pacientů, vyznačující se tím, že sestává z respirátoru (1) s připojenou nádrží (3) dávkovaného NO, přičemž mezi respirátorem (1) a nádrží (3) dávkovaného NO je umístěna dávkovači jednotka (4), se kterou je v činném spojení řídicí zařízení (6a) a potřebné objemové proudění NO pro přívod NO je regulováno v závislosti na inspiračním objemovém proudění, a analyzátoru (2) ke stanovení koncentrace NO vdechu pacienta (12), který je spojen prostřednictvím analyzačního odvodu (19) přes v něm umístěný odvlhčovač (23) s tubusem (13), vedoucím k pacientovi (12).
2. Zařízení podle nároku 1, vyznačující se tím, že mezi respirátorem (1) a analyzátorem (2) je ve spojovacím vedení jako odvlhčovač (23) umístěn chladič měřeného plynu.
3. Zařízení podle nároku 1 nebo 2, vyznačující se tím, že mezi analyzátorem (2) a odvlhčovačem (23) je ve spojovacím vedení umístěno čerpadlo (20) měřeného plynu.
4. Zařízení podle jednoho z nároků laž3, vyznačující se tím, že analyzátor (2) je tvořen zařízením, pracujícím na infračerveném absorpčním měřicím principu, chemiluminizačním detektorem (26), nebo zařízením, které pracuje s elektrochemickým senzorem.
5. Zařízení podle jednoho z nároků laž 4, vyznačující se tím, že analyzátor (2) je vytvořen ke stanovení koncentrace NO2 ve vdechovaném plynu nebo vydechovaném plynu.
6. Zařízení podle jednoho z nároků laž5, vyznačující se tím, žek analyzátoru (2) je připojena jednotka (18) hlídání hraničních hodnot NO, která je v činném spojení s řídicím zařízením (6a).
-4CZ 286233 B6
7. Zařízení podle jednoho z nároků 1 až 6, vyznačující se tím, žek dávkovači jednotce (4) je připojeno zařízení k evidenci inspiračního objemového proudu vdechovaného vzduchu a kyslíku, objemového proudu NO a rovněž kontrolní a regulační zařízení (6b) se vstupem pro objemové proudění měřeného NO a analyzovanou hodnotu jako regulační veličinu
5 pro doregulaci dávkovaného množství NO.
8. Zařízení podle jednoho z nároků laž 7, vyznačující se tím, že k výstupu signálu inspiračního ventilu (10) respirátoru (1) je připojen řídicí ventil (5).
10 9. Použití analyzátoru pro NO k řízení přívodu množství NO u zařízení ke kontrolovanému dávkování NO do dechu pacientů (12).
2 výkresy
-5CZ 286233 B6
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4312431A DE4312431C1 (de) | 1993-04-17 | 1993-04-17 | Gerät zur kontrollierten Zudosierung von NO zur Atemluft von Patienten |
DE4325319A DE4325319C1 (de) | 1993-07-29 | 1993-07-29 | Gerät zur kontrollierten Zudosierung von NO zur Atemluft von Patienten |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CZ93694A3 CZ93694A3 (en) | 1994-11-16 |
CZ286233B6 true CZ286233B6 (cs) | 2000-02-16 |
Family
ID=25924981
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CZ1994936A CZ286233B6 (cs) | 1993-04-17 | 1994-04-18 | Zařízení ke kontrolovanému dávkování NO do dechu pacientů |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5531218A (cs) |
EP (1) | EP0621051B1 (cs) |
AT (1) | ATE204491T1 (cs) |
CA (1) | CA2121384C (cs) |
CZ (1) | CZ286233B6 (cs) |
DE (1) | DE59409834D1 (cs) |
HU (1) | HUT66924A (cs) |
SK (1) | SK282396B6 (cs) |
Families Citing this family (329)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2695831B1 (fr) * | 1992-09-24 | 1994-11-10 | Air Liquide | Installation et procédé de fourniture d'un mélange gazeux aux voies respiratoires d'un utilisateur. |
GB9320978D0 (en) * | 1993-10-12 | 1993-12-01 | Higenbottam Timohy W | Nitric oxide treatment |
US5558083A (en) * | 1993-11-22 | 1996-09-24 | Ohmeda Inc. | Nitric oxide delivery system |
SE9403473L (sv) * | 1994-10-13 | 1995-12-18 | Loflo Ab | Aggregat för tillförsel av en gasblandning i noggrannt reglerade proportioner till andningsvägarna hos patienter |
ES2170186T3 (es) * | 1995-10-13 | 2002-08-01 | Siemens Elema Ab | Tubo traqueal y dispositivo para sistemas de ventilacion. |
SE9600743L (sv) * | 1996-02-26 | 1997-08-27 | Lars Erik Gustafsson | Anordning för att kunna mäta andelen NO-gas i en gasblandning |
EP0886532B1 (en) * | 1996-02-27 | 2002-12-04 | Koster, Henk W. | Ventilatory system with additional gas administrator |
US5699790A (en) * | 1996-03-21 | 1997-12-23 | Ohmeda Inc. | System for predicting NO2 concentrations |
JP2000506601A (ja) * | 1996-04-09 | 2000-05-30 | シーヴァース インストルメンツ,インコーポレーテッド | ヒトの呼気成分の測定のための方法および装置 |
US5795787A (en) * | 1996-04-09 | 1998-08-18 | Silkoff; Philip | Method and apparatus for the measurement of exhaled nitric oxide in humans |
SE9602959L (sv) * | 1996-08-12 | 1998-02-09 | Siemens Elema Ab | Förfarande vid blandning av gaser och en anordning för blandning av gaser |
DE19734279A1 (de) * | 1997-08-07 | 1999-02-11 | Messer Griesheim Gmbh | Wasserstoffhaltiges Medikament |
US5752504A (en) * | 1996-12-13 | 1998-05-19 | Ohmeda Inc. | System for monitoring therapy during calibration |
FR2760758B1 (fr) * | 1997-03-13 | 1999-04-23 | Air Liquide | Installation de surveillance d'un appareil de generation d'atmosphere |
CA2225013C (en) * | 1997-04-04 | 2006-06-06 | Institut Du N.O. Inc. | Injection system for delivery of a gaseous substance |
US5911219A (en) * | 1997-04-18 | 1999-06-15 | Aylsworth; Alonzo C. | Therapeutic gas flow meter and monitor |
US5918596A (en) * | 1997-04-22 | 1999-07-06 | Instrumentarium Corp. | Special gas dose delivery apparatus for respiration equipment |
US6125846A (en) | 1997-05-16 | 2000-10-03 | Datex-Ohmeda, Inc. | Purge system for nitric oxide administration apparatus |
US6164276A (en) * | 1997-05-16 | 2000-12-26 | Datex-Ohmeda, Inc. | Accurate dose nitric oxide pulse delivery device with monitoring and alarms |
US6024087A (en) * | 1997-10-09 | 2000-02-15 | Ohmeda Inc. | Emergency oxygen flowmeter arrangement |
US6032667A (en) | 1997-10-30 | 2000-03-07 | Instrumentarium Corporation | Variable orifice pulse valve |
US6109260A (en) * | 1998-02-18 | 2000-08-29 | Datex-Ohmeda, Inc. | Nitric oxide administration device with timed pulse |
US6196222B1 (en) * | 1998-03-10 | 2001-03-06 | Instrumentarium Corporation | Tracheal gas insufflation delivery system for respiration equipment |
US6142147A (en) * | 1998-03-31 | 2000-11-07 | The General Hospital Corporation | Nasal delivery system for inhaled nitric oxide |
US6269811B1 (en) * | 1998-11-13 | 2001-08-07 | Respironics, Inc. | Pressure support system with a primary and a secondary gas flow and a method of using same |
US20070086954A1 (en) * | 1998-11-23 | 2007-04-19 | Miller Christopher C | Method and apparatus for treatment of respiratory infections by nitric oxide inhalation |
CA2254645A1 (en) * | 1998-11-23 | 2000-05-23 | Pulmonox Medical Corporation | Method and apparatus for treatment of respiratory infections by nitric oxide inhalation |
US6694969B1 (en) * | 1999-09-22 | 2004-02-24 | Instrumentarium Corp. | Method to improve oxygenation in subjects suffering impaired oxygenation |
US6581599B1 (en) * | 1999-11-24 | 2003-06-24 | Sensormedics Corporation | Method and apparatus for delivery of inhaled nitric oxide to spontaneous-breathing and mechanically-ventilated patients |
US7516742B2 (en) * | 1999-11-24 | 2009-04-14 | Cardinal Health 207, Inc. | Method and apparatus for delivery of inhaled nitric oxide to spontaneous-breathing and mechanically-ventilated patients with intermittent dosing |
CA2292128A1 (en) * | 1999-12-08 | 2001-06-08 | Chris C. Miller | Multi-gas delivery system |
US6668828B1 (en) | 2000-10-16 | 2003-12-30 | Pulmonox Technologies Corporations | System and elements for managing therapeutic gas administration to a spontaneously breathing non-ventilated patient |
US7122018B2 (en) * | 2000-12-26 | 2006-10-17 | Sensormedics Corporation | Device and method for treatment of wounds with nitric oxide |
US6432077B1 (en) * | 2000-12-26 | 2002-08-13 | Sensormedics Corporation | Device and method for treatment of surface infections with nitric oxide |
ZA200306564B (en) * | 2001-02-26 | 2004-10-15 | Optinose As | Nasal devices. |
EP1243917A1 (en) * | 2001-03-23 | 2002-09-25 | Instrumentarium Corporation | Nitric oxide analyzer |
EP1243918A3 (en) * | 2001-03-23 | 2004-10-06 | Instrumentarium Corporation | An improved chemiluminescent gas analyzer |
US7531133B2 (en) * | 2002-09-10 | 2009-05-12 | Pulmonox Technologies Corporation | Use of nitric oxide gas in an extracorporeal circuitry to treat blood plasma |
DE10306766A1 (de) * | 2003-02-18 | 2004-08-26 | Ino Therapeutics Gmbh | Dosierte Abgabe eines therapeutischen Gases |
US20050053549A1 (en) * | 2003-09-10 | 2005-03-10 | Aperon Biosystems Corp. | Method for treating airway disorders |
EP1755715A4 (en) | 2004-05-11 | 2010-03-24 | Sensormedics Corp | INTERMITTENT DETERMINATION OF GASEOUS NITRIC OXIDE |
US8518457B2 (en) * | 2004-05-11 | 2013-08-27 | Pulmonox Technologies Corporation | Use of inhaled gaseous nitric oxide as a mucolytic agent or expectorant |
US20070154570A1 (en) * | 2004-09-29 | 2007-07-05 | Miller Christopher C | Use of nitric oxide in the treatment and disinfection of biofilms |
US20070116785A1 (en) * | 2005-11-18 | 2007-05-24 | Miller Christopher C | Nitric oxide as an anti-viral agent, vaccine and vaccine adjuvant |
US20070181126A1 (en) * | 2006-02-08 | 2007-08-09 | Tolmie Craig R | Method and apparatus for ventilating a patient with a breathing gas mixture formed from nitric oxide, air, and oxygen |
US8079998B2 (en) * | 2006-10-20 | 2011-12-20 | Pulmonox Technologies Corporation | Methods and devices for the delivery of therapeutic gases including nitric oxide |
KR101548692B1 (ko) * | 2006-11-07 | 2015-09-01 | 더 제너럴 하스피탈 코포레이션 | 가스 전달 장치 |
US20080193566A1 (en) * | 2007-02-09 | 2008-08-14 | Miller Christopher C | Use of high dose concentrations of gaseous nitric oxide |
US8425428B2 (en) | 2008-03-31 | 2013-04-23 | Covidien Lp | Nitric oxide measurements in patients using flowfeedback |
US8652064B2 (en) * | 2008-09-30 | 2014-02-18 | Covidien Lp | Sampling circuit for measuring analytes |
US9394608B2 (en) | 2009-04-06 | 2016-07-19 | Asm America, Inc. | Semiconductor processing reactor and components thereof |
US8802201B2 (en) * | 2009-08-14 | 2014-08-12 | Asm America, Inc. | Systems and methods for thin-film deposition of metal oxides using excited nitrogen-oxygen species |
ES2873089T3 (es) * | 2010-02-01 | 2021-11-03 | Vero Biotech LLC | Sistema de administración de óxido nítrico |
US9312155B2 (en) | 2011-06-06 | 2016-04-12 | Asm Japan K.K. | High-throughput semiconductor-processing apparatus equipped with multiple dual-chamber modules |
US10854498B2 (en) | 2011-07-15 | 2020-12-01 | Asm Ip Holding B.V. | Wafer-supporting device and method for producing same |
US20130023129A1 (en) | 2011-07-20 | 2013-01-24 | Asm America, Inc. | Pressure transmitter for a semiconductor processing environment |
US9017481B1 (en) | 2011-10-28 | 2015-04-28 | Asm America, Inc. | Process feed management for semiconductor substrate processing |
WO2013070592A1 (en) | 2011-11-07 | 2013-05-16 | The General Hospital Corporation | Treatment of red blood cells |
US10714315B2 (en) | 2012-10-12 | 2020-07-14 | Asm Ip Holdings B.V. | Semiconductor reaction chamber showerhead |
US20140144440A1 (en) * | 2012-11-28 | 2014-05-29 | Air Liquide Santé (International) | Dosimetric therapeutic gas delivery method with feed back control for rapid dosimetry adjustment and optimization |
US20140144441A1 (en) * | 2012-11-28 | 2014-05-29 | L'Air Liquide, Société Anonyme pour I'Etude et I'Exploitation des Procédés Georges Claude | Dosimetric therapeutic gas delivery method for rapid dosimetry adjustment and optimization |
US20140144439A1 (en) * | 2012-11-28 | 2014-05-29 | Air Liquide Santé (International) | Dosimetric therapeutic gas delivery system for rapid dose monitoring and control |
US20160376700A1 (en) | 2013-02-01 | 2016-12-29 | Asm Ip Holding B.V. | System for treatment of deposition reactor |
AU2014227827B2 (en) | 2013-03-15 | 2019-05-16 | The General Hospital Corporation | Inspiratory synthesis of nitric oxide |
BR112015022468B1 (pt) | 2013-03-15 | 2022-11-01 | The General Hospital Corporation | Aparelho e método para síntese do gás óxido nítrico para inalação |
US10683571B2 (en) | 2014-02-25 | 2020-06-16 | Asm Ip Holding B.V. | Gas supply manifold and method of supplying gases to chamber using same |
US10307080B2 (en) | 2014-03-07 | 2019-06-04 | Spirosure, Inc. | Respiratory monitor |
US10188822B2 (en) * | 2014-03-13 | 2019-01-29 | Mallinckrodt Hospital Products IP Limited | Gas delivery device and system for use in magnetic resonance imaging |
US10167557B2 (en) | 2014-03-18 | 2019-01-01 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution system, reactor including the system, and methods of using the same |
US11015245B2 (en) | 2014-03-19 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Gas-phase reactor and system having exhaust plenum and components thereof |
US10071213B2 (en) | 2014-05-02 | 2018-09-11 | Mallinckrodt Hospital Products IP Limited | Systems and method for delivery of therapeutic gas to patients, in need thereof, receiving breathing gas from a ventilator that varies at least pressure and/or flow using enhanced therapeutic gas (NO) flow measurement |
US10858737B2 (en) | 2014-07-28 | 2020-12-08 | Asm Ip Holding B.V. | Showerhead assembly and components thereof |
US9890456B2 (en) | 2014-08-21 | 2018-02-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method and system for in situ formation of gas-phase compounds |
US9657845B2 (en) | 2014-10-07 | 2017-05-23 | Asm Ip Holding B.V. | Variable conductance gas distribution apparatus and method |
US10941490B2 (en) | 2014-10-07 | 2021-03-09 | Asm Ip Holding B.V. | Multiple temperature range susceptor, assembly, reactor and system including the susceptor, and methods of using the same |
RU2730960C2 (ru) | 2014-10-20 | 2020-08-26 | Зе Дженерал Хоспитал Корпорэйшн | Системы и способы синтеза оксида азота |
US10276355B2 (en) | 2015-03-12 | 2019-04-30 | Asm Ip Holding B.V. | Multi-zone reactor, system including the reactor, and method of using the same |
US10458018B2 (en) | 2015-06-26 | 2019-10-29 | Asm Ip Holding B.V. | Structures including metal carbide material, devices including the structures, and methods of forming same |
US10600673B2 (en) | 2015-07-07 | 2020-03-24 | Asm Ip Holding B.V. | Magnetic susceptor to baseplate seal |
US10211308B2 (en) | 2015-10-21 | 2019-02-19 | Asm Ip Holding B.V. | NbMC layers |
US11139308B2 (en) | 2015-12-29 | 2021-10-05 | Asm Ip Holding B.V. | Atomic layer deposition of III-V compounds to form V-NAND devices |
US10529554B2 (en) | 2016-02-19 | 2020-01-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming silicon nitride film selectively on sidewalls or flat surfaces of trenches |
RU2768488C2 (ru) | 2016-03-25 | 2022-03-24 | Дзе Дженерал Хоспитал Корпорейшн | Системы доставки и способы для электрического плазменного синтеза оксида азота |
US10190213B2 (en) | 2016-04-21 | 2019-01-29 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of metal borides |
US10865475B2 (en) | 2016-04-21 | 2020-12-15 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of metal borides and silicides |
US10367080B2 (en) | 2016-05-02 | 2019-07-30 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a germanium oxynitride film |
US10032628B2 (en) | 2016-05-02 | 2018-07-24 | Asm Ip Holding B.V. | Source/drain performance through conformal solid state doping |
US11453943B2 (en) | 2016-05-25 | 2022-09-27 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming carbon-containing silicon/metal oxide or nitride film by ALD using silicon precursor and hydrocarbon precursor |
US10612137B2 (en) | 2016-07-08 | 2020-04-07 | Asm Ip Holdings B.V. | Organic reactants for atomic layer deposition |
US9859151B1 (en) | 2016-07-08 | 2018-01-02 | Asm Ip Holding B.V. | Selective film deposition method to form air gaps |
US10714385B2 (en) | 2016-07-19 | 2020-07-14 | Asm Ip Holding B.V. | Selective deposition of tungsten |
US9812320B1 (en) | 2016-07-28 | 2017-11-07 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
US9887082B1 (en) | 2016-07-28 | 2018-02-06 | Asm Ip Holding B.V. | Method and apparatus for filling a gap |
KR102532607B1 (ko) | 2016-07-28 | 2023-05-15 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 가공 장치 및 그 동작 방법 |
US10643826B2 (en) | 2016-10-26 | 2020-05-05 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for thermally calibrating reaction chambers |
US11532757B2 (en) | 2016-10-27 | 2022-12-20 | Asm Ip Holding B.V. | Deposition of charge trapping layers |
US10229833B2 (en) | 2016-11-01 | 2019-03-12 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures |
US10714350B2 (en) | 2016-11-01 | 2020-07-14 | ASM IP Holdings, B.V. | Methods for forming a transition metal niobium nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related semiconductor device structures |
US10643904B2 (en) | 2016-11-01 | 2020-05-05 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for forming a semiconductor device and related semiconductor device structures |
US10134757B2 (en) | 2016-11-07 | 2018-11-20 | Asm Ip Holding B.V. | Method of processing a substrate and a device manufactured by using the method |
KR102546317B1 (ko) | 2016-11-15 | 2023-06-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기체 공급 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
KR20180068582A (ko) | 2016-12-14 | 2018-06-22 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
US11447861B2 (en) | 2016-12-15 | 2022-09-20 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus and a method of forming a patterned structure |
US11581186B2 (en) | 2016-12-15 | 2023-02-14 | Asm Ip Holding B.V. | Sequential infiltration synthesis apparatus |
KR20180070971A (ko) | 2016-12-19 | 2018-06-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
US10269558B2 (en) | 2016-12-22 | 2019-04-23 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a structure on a substrate |
US10867788B2 (en) | 2016-12-28 | 2020-12-15 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a structure on a substrate |
US11390950B2 (en) | 2017-01-10 | 2022-07-19 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor system and method to reduce residue buildup during a film deposition process |
US10655221B2 (en) | 2017-02-09 | 2020-05-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing oxide film by thermal ALD and PEALD |
US10468261B2 (en) | 2017-02-15 | 2019-11-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metallic film on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures |
WO2018157175A1 (en) | 2017-02-27 | 2018-08-30 | Third Pole, Inc. | Systems and methods for ambulatory generation of nitric oxide |
MX2020010523A (es) | 2017-02-27 | 2021-02-09 | Third Pole Inc | Sistemas y metodos para generar oxido nitrico. |
AU2018223826B2 (en) | 2017-02-27 | 2019-11-07 | Third Pole, Inc. | Systems and methods for generating nitric oxide |
WO2018160733A1 (en) | 2017-03-01 | 2018-09-07 | Spirosure, Inc. | Nitric oxide detection device with reducing gas |
US10529563B2 (en) | 2017-03-29 | 2020-01-07 | Asm Ip Holdings B.V. | Method for forming doped metal oxide films on a substrate by cyclical deposition and related semiconductor device structures |
AU2018243493B2 (en) | 2017-03-31 | 2020-10-15 | The General Hospital Corporation | Systems and methods for a cooled nitric oxide generator |
USD876504S1 (en) | 2017-04-03 | 2020-02-25 | Asm Ip Holding B.V. | Exhaust flow control ring for semiconductor deposition apparatus |
KR102457289B1 (ko) | 2017-04-25 | 2022-10-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 증착 방법 및 반도체 장치의 제조 방법 |
US10892156B2 (en) | 2017-05-08 | 2021-01-12 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures |
US10770286B2 (en) | 2017-05-08 | 2020-09-08 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for selectively forming a silicon nitride film on a substrate and related semiconductor device structures |
US11306395B2 (en) | 2017-06-28 | 2022-04-19 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a transition metal nitride film on a substrate by atomic layer deposition and related deposition apparatus |
US10685834B2 (en) | 2017-07-05 | 2020-06-16 | Asm Ip Holdings B.V. | Methods for forming a silicon germanium tin layer and related semiconductor device structures |
KR20190009245A (ko) | 2017-07-18 | 2019-01-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반도체 소자 구조물 형성 방법 및 관련된 반도체 소자 구조물 |
US11018002B2 (en) | 2017-07-19 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for selectively depositing a Group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
US11374112B2 (en) | 2017-07-19 | 2022-06-28 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
US10541333B2 (en) | 2017-07-19 | 2020-01-21 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a group IV semiconductor and related semiconductor device structures |
US10590535B2 (en) | 2017-07-26 | 2020-03-17 | Asm Ip Holdings B.V. | Chemical treatment, deposition and/or infiltration apparatus and method for using the same |
US10692741B2 (en) | 2017-08-08 | 2020-06-23 | Asm Ip Holdings B.V. | Radiation shield |
US10770336B2 (en) | 2017-08-08 | 2020-09-08 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate lift mechanism and reactor including same |
US11139191B2 (en) | 2017-08-09 | 2021-10-05 | Asm Ip Holding B.V. | Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith |
US11769682B2 (en) | 2017-08-09 | 2023-09-26 | Asm Ip Holding B.V. | Storage apparatus for storing cassettes for substrates and processing apparatus equipped therewith |
US10249524B2 (en) | 2017-08-09 | 2019-04-02 | Asm Ip Holding B.V. | Cassette holder assembly for a substrate cassette and holding member for use in such assembly |
USD900036S1 (en) | 2017-08-24 | 2020-10-27 | Asm Ip Holding B.V. | Heater electrical connector and adapter |
US11830730B2 (en) | 2017-08-29 | 2023-11-28 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method and apparatus |
KR102491945B1 (ko) | 2017-08-30 | 2023-01-26 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
US11056344B2 (en) | 2017-08-30 | 2021-07-06 | Asm Ip Holding B.V. | Layer forming method |
US11295980B2 (en) | 2017-08-30 | 2022-04-05 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a molybdenum metal film over a dielectric surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures |
KR102630301B1 (ko) | 2017-09-21 | 2024-01-29 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 침투성 재료의 순차 침투 합성 방법 처리 및 이를 이용하여 형성된 구조물 및 장치 |
US10844484B2 (en) | 2017-09-22 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods |
US10658205B2 (en) | 2017-09-28 | 2020-05-19 | Asm Ip Holdings B.V. | Chemical dispensing apparatus and methods for dispensing a chemical to a reaction chamber |
US10403504B2 (en) | 2017-10-05 | 2019-09-03 | Asm Ip Holding B.V. | Method for selectively depositing a metallic film on a substrate |
US10319588B2 (en) | 2017-10-10 | 2019-06-11 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a metal chalcogenide on a substrate by cyclical deposition |
US10923344B2 (en) | 2017-10-30 | 2021-02-16 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a semiconductor structure and related semiconductor structures |
US10910262B2 (en) | 2017-11-16 | 2021-02-02 | Asm Ip Holding B.V. | Method of selectively depositing a capping layer structure on a semiconductor device structure |
KR102443047B1 (ko) | 2017-11-16 | 2022-09-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 방법 및 그에 의해 제조된 장치 |
US11022879B2 (en) | 2017-11-24 | 2021-06-01 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming an enhanced unexposed photoresist layer |
CN111344522B (zh) | 2017-11-27 | 2022-04-12 | 阿斯莫Ip控股公司 | 包括洁净迷你环境的装置 |
KR102597978B1 (ko) | 2017-11-27 | 2023-11-06 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 배치 퍼니스와 함께 사용하기 위한 웨이퍼 카세트를 보관하기 위한 보관 장치 |
US10872771B2 (en) | 2018-01-16 | 2020-12-22 | Asm Ip Holding B. V. | Method for depositing a material film on a substrate within a reaction chamber by a cyclical deposition process and related device structures |
TW202325889A (zh) | 2018-01-19 | 2023-07-01 | 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 | 沈積方法 |
CN111630203A (zh) | 2018-01-19 | 2020-09-04 | Asm Ip私人控股有限公司 | 通过等离子体辅助沉积来沉积间隙填充层的方法 |
USD903477S1 (en) | 2018-01-24 | 2020-12-01 | Asm Ip Holdings B.V. | Metal clamp |
US11018047B2 (en) | 2018-01-25 | 2021-05-25 | Asm Ip Holding B.V. | Hybrid lift pin |
USD880437S1 (en) | 2018-02-01 | 2020-04-07 | Asm Ip Holding B.V. | Gas supply plate for semiconductor manufacturing apparatus |
US11081345B2 (en) | 2018-02-06 | 2021-08-03 | Asm Ip Holding B.V. | Method of post-deposition treatment for silicon oxide film |
EP3737779A1 (en) | 2018-02-14 | 2020-11-18 | ASM IP Holding B.V. | A method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process |
US10896820B2 (en) | 2018-02-14 | 2021-01-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a ruthenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process |
US10731249B2 (en) | 2018-02-15 | 2020-08-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming a transition metal containing film on a substrate by a cyclical deposition process, a method for supplying a transition metal halide compound to a reaction chamber, and related vapor deposition apparatus |
KR102636427B1 (ko) | 2018-02-20 | 2024-02-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 및 장치 |
US10658181B2 (en) | 2018-02-20 | 2020-05-19 | Asm Ip Holding B.V. | Method of spacer-defined direct patterning in semiconductor fabrication |
US10975470B2 (en) | 2018-02-23 | 2021-04-13 | Asm Ip Holding B.V. | Apparatus for detecting or monitoring for a chemical precursor in a high temperature environment |
US11473195B2 (en) | 2018-03-01 | 2022-10-18 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus and a method for processing a substrate |
US11629406B2 (en) | 2018-03-09 | 2023-04-18 | Asm Ip Holding B.V. | Semiconductor processing apparatus comprising one or more pyrometers for measuring a temperature of a substrate during transfer of the substrate |
JP2019158758A (ja) * | 2018-03-15 | 2019-09-19 | 日本碍子株式会社 | ガスセンサの応答時間評価装置及び方法 |
US11114283B2 (en) | 2018-03-16 | 2021-09-07 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor, system including the reactor, and methods of manufacturing and using same |
KR102646467B1 (ko) | 2018-03-27 | 2024-03-11 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 상에 전극을 형성하는 방법 및 전극을 포함하는 반도체 소자 구조 |
US11230766B2 (en) | 2018-03-29 | 2022-01-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
US11088002B2 (en) | 2018-03-29 | 2021-08-10 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate rack and a substrate processing system and method |
KR102501472B1 (ko) | 2018-03-30 | 2023-02-20 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 |
TW202344708A (zh) | 2018-05-08 | 2023-11-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 藉由循環沉積製程於基板上沉積氧化物膜之方法及相關裝置結構 |
TWI816783B (zh) | 2018-05-11 | 2023-10-01 | 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 | 用於基板上形成摻雜金屬碳化物薄膜之方法及相關半導體元件結構 |
KR102596988B1 (ko) | 2018-05-28 | 2023-10-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 방법 및 그에 의해 제조된 장치 |
US11718913B2 (en) | 2018-06-04 | 2023-08-08 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution system and reactor system including same |
US11270899B2 (en) | 2018-06-04 | 2022-03-08 | Asm Ip Holding B.V. | Wafer handling chamber with moisture reduction |
US11286562B2 (en) | 2018-06-08 | 2022-03-29 | Asm Ip Holding B.V. | Gas-phase chemical reactor and method of using same |
KR102568797B1 (ko) | 2018-06-21 | 2023-08-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 시스템 |
US10797133B2 (en) | 2018-06-21 | 2020-10-06 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing a phosphorus doped silicon arsenide film and related semiconductor device structures |
US11492703B2 (en) | 2018-06-27 | 2022-11-08 | Asm Ip Holding B.V. | Cyclic deposition methods for forming metal-containing material and films and structures including the metal-containing material |
WO2020003000A1 (en) | 2018-06-27 | 2020-01-02 | Asm Ip Holding B.V. | Cyclic deposition methods for forming metal-containing material and films and structures including the metal-containing material |
KR20200002519A (ko) | 2018-06-29 | 2020-01-08 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 증착 방법 및 반도체 장치의 제조 방법 |
US10612136B2 (en) | 2018-06-29 | 2020-04-07 | ASM IP Holding, B.V. | Temperature-controlled flange and reactor system including same |
US10388513B1 (en) | 2018-07-03 | 2019-08-20 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
US10755922B2 (en) | 2018-07-03 | 2020-08-25 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing silicon-free carbon-containing film as gap-fill layer by pulse plasma-assisted deposition |
US10767789B2 (en) | 2018-07-16 | 2020-09-08 | Asm Ip Holding B.V. | Diaphragm valves, valve components, and methods for forming valve components |
US11053591B2 (en) | 2018-08-06 | 2021-07-06 | Asm Ip Holding B.V. | Multi-port gas injection system and reactor system including same |
US10883175B2 (en) | 2018-08-09 | 2021-01-05 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical furnace for processing substrates and a liner for use therein |
US10829852B2 (en) | 2018-08-16 | 2020-11-10 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distribution device for a wafer processing apparatus |
US11430674B2 (en) | 2018-08-22 | 2022-08-30 | Asm Ip Holding B.V. | Sensor array, apparatus for dispensing a vapor phase reactant to a reaction chamber and related methods |
KR20200030162A (ko) | 2018-09-11 | 2020-03-20 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 증착 방법 |
US11024523B2 (en) | 2018-09-11 | 2021-06-01 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
US11049751B2 (en) | 2018-09-14 | 2021-06-29 | Asm Ip Holding B.V. | Cassette supply system to store and handle cassettes and processing apparatus equipped therewith |
CN110970344A (zh) | 2018-10-01 | 2020-04-07 | Asm Ip控股有限公司 | 衬底保持设备、包含所述设备的系统及其使用方法 |
US11232963B2 (en) | 2018-10-03 | 2022-01-25 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus and method |
KR102592699B1 (ko) | 2018-10-08 | 2023-10-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 박막 증착 장치와 기판 처리 장치 |
US10847365B2 (en) | 2018-10-11 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming conformal silicon carbide film by cyclic CVD |
US10811256B2 (en) | 2018-10-16 | 2020-10-20 | Asm Ip Holding B.V. | Method for etching a carbon-containing feature |
KR102546322B1 (ko) | 2018-10-19 | 2023-06-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
KR102605121B1 (ko) | 2018-10-19 | 2023-11-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
USD948463S1 (en) | 2018-10-24 | 2022-04-12 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor for semiconductor substrate supporting apparatus |
US11087997B2 (en) | 2018-10-31 | 2021-08-10 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing apparatus for processing substrates |
KR20200051105A (ko) | 2018-11-02 | 2020-05-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 지지 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치 |
US11572620B2 (en) | 2018-11-06 | 2023-02-07 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selectively depositing an amorphous silicon film on a substrate |
US11031242B2 (en) | 2018-11-07 | 2021-06-08 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a boron doped silicon germanium film |
US10847366B2 (en) | 2018-11-16 | 2020-11-24 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a transition metal chalcogenide film on a substrate by a cyclical deposition process |
US10818758B2 (en) | 2018-11-16 | 2020-10-27 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a metal silicate film on a substrate in a reaction chamber and related semiconductor device structures |
US10559458B1 (en) | 2018-11-26 | 2020-02-11 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming oxynitride film |
US11217444B2 (en) | 2018-11-30 | 2022-01-04 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming an ultraviolet radiation responsive metal oxide-containing film |
KR102636428B1 (ko) | 2018-12-04 | 2024-02-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치를 세정하는 방법 |
US11158513B2 (en) | 2018-12-13 | 2021-10-26 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for forming a rhenium-containing film on a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures |
JP2020096183A (ja) | 2018-12-14 | 2020-06-18 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | 窒化ガリウムの選択的堆積を用いてデバイス構造体を形成する方法及びそのためのシステム |
TWI819180B (zh) | 2019-01-17 | 2023-10-21 | 荷蘭商Asm 智慧財產控股公司 | 藉由循環沈積製程於基板上形成含過渡金屬膜之方法 |
KR20200091543A (ko) | 2019-01-22 | 2020-07-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
CN111524788B (zh) | 2019-02-01 | 2023-11-24 | Asm Ip私人控股有限公司 | 氧化硅的拓扑选择性膜形成的方法 |
KR20200102357A (ko) | 2019-02-20 | 2020-08-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 3-d nand 응용의 플러그 충진체 증착용 장치 및 방법 |
KR102626263B1 (ko) | 2019-02-20 | 2024-01-16 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 처리 단계를 포함하는 주기적 증착 방법 및 이를 위한 장치 |
TW202044325A (zh) | 2019-02-20 | 2020-12-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 填充一基板之一表面內所形成的一凹槽的方法、根據其所形成之半導體結構、及半導體處理設備 |
TW202104632A (zh) | 2019-02-20 | 2021-02-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用來填充形成於基材表面內之凹部的循環沉積方法及設備 |
TW202100794A (zh) | 2019-02-22 | 2021-01-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基材處理設備及處理基材之方法 |
KR20200108243A (ko) | 2019-03-08 | 2020-09-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | SiOC 층을 포함한 구조체 및 이의 형성 방법 |
KR20200108242A (ko) | 2019-03-08 | 2020-09-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 실리콘 질화물 층을 선택적으로 증착하는 방법, 및 선택적으로 증착된 실리콘 질화물 층을 포함하는 구조체 |
KR20200108248A (ko) | 2019-03-08 | 2020-09-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | SiOCN 층을 포함한 구조체 및 이의 형성 방법 |
GB201903473D0 (en) * | 2019-03-14 | 2019-05-01 | Sumitomo Chemical Co | Interferent and baseline drift correcting gas sensor system |
JP2020167398A (ja) | 2019-03-28 | 2020-10-08 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | ドアオープナーおよびドアオープナーが提供される基材処理装置 |
KR20200116855A (ko) | 2019-04-01 | 2020-10-13 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반도체 소자를 제조하는 방법 |
KR20200123380A (ko) | 2019-04-19 | 2020-10-29 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 층 형성 방법 및 장치 |
KR20200125453A (ko) | 2019-04-24 | 2020-11-04 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기상 반응기 시스템 및 이를 사용하는 방법 |
KR20200130118A (ko) | 2019-05-07 | 2020-11-18 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 비정질 탄소 중합체 막을 개질하는 방법 |
KR20200130121A (ko) | 2019-05-07 | 2020-11-18 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 딥 튜브가 있는 화학물질 공급원 용기 |
KR20200130652A (ko) | 2019-05-10 | 2020-11-19 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 표면 상에 재료를 증착하는 방법 및 본 방법에 따라 형성된 구조 |
EP3969415A4 (en) | 2019-05-15 | 2023-08-16 | Third Pole, Inc. | ELECTRODES FOR NITRIC OXIDE GENERATION |
JP2022532654A (ja) | 2019-05-15 | 2022-07-15 | サード ポール,インコーポレイテッド | 一酸化窒素を生成するシステム及び方法 |
JP2020188255A (ja) | 2019-05-16 | 2020-11-19 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. | ウェハボートハンドリング装置、縦型バッチ炉および方法 |
USD975665S1 (en) | 2019-05-17 | 2023-01-17 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
USD947913S1 (en) | 2019-05-17 | 2022-04-05 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
USD935572S1 (en) | 2019-05-24 | 2021-11-09 | Asm Ip Holding B.V. | Gas channel plate |
USD922229S1 (en) | 2019-06-05 | 2021-06-15 | Asm Ip Holding B.V. | Device for controlling a temperature of a gas supply unit |
KR20200141003A (ko) | 2019-06-06 | 2020-12-17 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 가스 감지기를 포함하는 기상 반응기 시스템 |
KR20200143254A (ko) | 2019-06-11 | 2020-12-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 개질 가스를 사용하여 전자 구조를 형성하는 방법, 상기 방법을 수행하기 위한 시스템, 및 상기 방법을 사용하여 형성되는 구조 |
USD944946S1 (en) | 2019-06-14 | 2022-03-01 | Asm Ip Holding B.V. | Shower plate |
USD931978S1 (en) | 2019-06-27 | 2021-09-28 | Asm Ip Holding B.V. | Showerhead vacuum transport |
KR20210005515A (ko) | 2019-07-03 | 2021-01-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치용 온도 제어 조립체 및 이를 사용하는 방법 |
JP2021015791A (ja) | 2019-07-09 | 2021-02-12 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. | 同軸導波管を用いたプラズマ装置、基板処理方法 |
CN112216646A (zh) | 2019-07-10 | 2021-01-12 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板支撑组件及包括其的基板处理装置 |
KR20210010307A (ko) | 2019-07-16 | 2021-01-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
KR20210010816A (ko) | 2019-07-17 | 2021-01-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 라디칼 보조 점화 플라즈마 시스템 및 방법 |
KR20210010820A (ko) | 2019-07-17 | 2021-01-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 실리콘 게르마늄 구조를 형성하는 방법 |
US11643724B2 (en) | 2019-07-18 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming structures using a neutral beam |
CN112242296A (zh) | 2019-07-19 | 2021-01-19 | Asm Ip私人控股有限公司 | 形成拓扑受控的无定形碳聚合物膜的方法 |
CN112309843A (zh) | 2019-07-29 | 2021-02-02 | Asm Ip私人控股有限公司 | 实现高掺杂剂掺入的选择性沉积方法 |
CN112309900A (zh) | 2019-07-30 | 2021-02-02 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
CN112309899A (zh) | 2019-07-30 | 2021-02-02 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
US11587814B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-02-21 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
US11587815B2 (en) | 2019-07-31 | 2023-02-21 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
US11227782B2 (en) | 2019-07-31 | 2022-01-18 | Asm Ip Holding B.V. | Vertical batch furnace assembly |
KR20210018759A (ko) | 2019-08-05 | 2021-02-18 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 화학물질 공급원 용기를 위한 액체 레벨 센서 |
USD965044S1 (en) | 2019-08-19 | 2022-09-27 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor shaft |
USD965524S1 (en) | 2019-08-19 | 2022-10-04 | Asm Ip Holding B.V. | Susceptor support |
JP2021031769A (ja) | 2019-08-21 | 2021-03-01 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. | 成膜原料混合ガス生成装置及び成膜装置 |
KR20210024423A (ko) | 2019-08-22 | 2021-03-05 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 홀을 구비한 구조체를 형성하기 위한 방법 |
USD930782S1 (en) | 2019-08-22 | 2021-09-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distributor |
USD949319S1 (en) | 2019-08-22 | 2022-04-19 | Asm Ip Holding B.V. | Exhaust duct |
USD940837S1 (en) | 2019-08-22 | 2022-01-11 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode |
USD979506S1 (en) | 2019-08-22 | 2023-02-28 | Asm Ip Holding B.V. | Insulator |
US11286558B2 (en) | 2019-08-23 | 2022-03-29 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing a molybdenum nitride film on a surface of a substrate by a cyclical deposition process and related semiconductor device structures including a molybdenum nitride film |
KR20210024420A (ko) | 2019-08-23 | 2021-03-05 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 비스(디에틸아미노)실란을 사용하여 peald에 의해 개선된 품질을 갖는 실리콘 산화물 막을 증착하기 위한 방법 |
KR20210029090A (ko) | 2019-09-04 | 2021-03-15 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 희생 캡핑 층을 이용한 선택적 증착 방법 |
KR20210029663A (ko) | 2019-09-05 | 2021-03-16 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
US11562901B2 (en) | 2019-09-25 | 2023-01-24 | Asm Ip Holding B.V. | Substrate processing method |
CN112593212B (zh) | 2019-10-02 | 2023-12-22 | Asm Ip私人控股有限公司 | 通过循环等离子体增强沉积工艺形成拓扑选择性氧化硅膜的方法 |
TW202129060A (zh) | 2019-10-08 | 2021-08-01 | 荷蘭商Asm Ip控股公司 | 基板處理裝置、及基板處理方法 |
KR20210043460A (ko) | 2019-10-10 | 2021-04-21 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 포토레지스트 하부층을 형성하기 위한 방법 및 이를 포함한 구조체 |
KR20210045930A (ko) | 2019-10-16 | 2021-04-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 실리콘 산화물의 토폴로지-선택적 막의 형성 방법 |
US11637014B2 (en) | 2019-10-17 | 2023-04-25 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for selective deposition of doped semiconductor material |
KR20210047808A (ko) | 2019-10-21 | 2021-04-30 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 막을 선택적으로 에칭하기 위한 장치 및 방법 |
US11646205B2 (en) | 2019-10-29 | 2023-05-09 | Asm Ip Holding B.V. | Methods of selectively forming n-type doped material on a surface, systems for selectively forming n-type doped material, and structures formed using same |
KR20210054983A (ko) | 2019-11-05 | 2021-05-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 도핑된 반도체 층을 갖는 구조체 및 이를 형성하기 위한 방법 및 시스템 |
US11501968B2 (en) | 2019-11-15 | 2022-11-15 | Asm Ip Holding B.V. | Method for providing a semiconductor device with silicon filled gaps |
KR20210062561A (ko) | 2019-11-20 | 2021-05-31 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판의 표면 상에 탄소 함유 물질을 증착하는 방법, 상기 방법을 사용하여 형성된 구조물, 및 상기 구조물을 형성하기 위한 시스템 |
CN112951697A (zh) | 2019-11-26 | 2021-06-11 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
KR20210065848A (ko) | 2019-11-26 | 2021-06-04 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 제1 유전체 표면과 제2 금속성 표면을 포함한 기판 상에 타겟 막을 선택적으로 형성하기 위한 방법 |
CN112885693A (zh) | 2019-11-29 | 2021-06-01 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
CN112885692A (zh) | 2019-11-29 | 2021-06-01 | Asm Ip私人控股有限公司 | 基板处理设备 |
JP2021090042A (ja) | 2019-12-02 | 2021-06-10 | エーエスエム アイピー ホールディング ビー.ブイ. | 基板処理装置、基板処理方法 |
KR20210070898A (ko) | 2019-12-04 | 2021-06-15 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
TW202125596A (zh) | 2019-12-17 | 2021-07-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成氮化釩層之方法以及包括該氮化釩層之結構 |
KR20210080214A (ko) | 2019-12-19 | 2021-06-30 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 상의 갭 피처를 충진하는 방법 및 이와 관련된 반도체 소자 구조 |
JP2021109175A (ja) | 2020-01-06 | 2021-08-02 | エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー | ガス供給アセンブリ、その構成要素、およびこれを含む反応器システム |
JP2023512444A (ja) | 2020-01-11 | 2023-03-27 | サード ポール,インコーポレイテッド | 湿度制御を用いた酸化窒素生成のためのシステムおよび方法 |
KR20210095050A (ko) | 2020-01-20 | 2021-07-30 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 형성 방법 및 박막 표면 개질 방법 |
TW202130846A (zh) | 2020-02-03 | 2021-08-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成包括釩或銦層的結構之方法 |
TW202146882A (zh) | 2020-02-04 | 2021-12-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 驗證一物品之方法、用於驗證一物品之設備、及用於驗證一反應室之系統 |
US11776846B2 (en) | 2020-02-07 | 2023-10-03 | Asm Ip Holding B.V. | Methods for depositing gap filling fluids and related systems and devices |
US11781243B2 (en) | 2020-02-17 | 2023-10-10 | Asm Ip Holding B.V. | Method for depositing low temperature phosphorous-doped silicon |
KR20210116240A (ko) | 2020-03-11 | 2021-09-27 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 조절성 접합부를 갖는 기판 핸들링 장치 |
US11876356B2 (en) | 2020-03-11 | 2024-01-16 | Asm Ip Holding B.V. | Lockout tagout assembly and system and method of using same |
KR20210117157A (ko) | 2020-03-12 | 2021-09-28 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 타겟 토폴로지 프로파일을 갖는 층 구조를 제조하기 위한 방법 |
KR20210124042A (ko) | 2020-04-02 | 2021-10-14 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 박막 형성 방법 |
TW202146689A (zh) | 2020-04-03 | 2021-12-16 | 荷蘭商Asm Ip控股公司 | 阻障層形成方法及半導體裝置的製造方法 |
TW202145344A (zh) | 2020-04-08 | 2021-12-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於選擇性蝕刻氧化矽膜之設備及方法 |
US11821078B2 (en) | 2020-04-15 | 2023-11-21 | Asm Ip Holding B.V. | Method for forming precoat film and method for forming silicon-containing film |
KR20210132605A (ko) | 2020-04-24 | 2021-11-04 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 냉각 가스 공급부를 포함한 수직형 배치 퍼니스 어셈블리 |
US11898243B2 (en) | 2020-04-24 | 2024-02-13 | Asm Ip Holding B.V. | Method of forming vanadium nitride-containing layer |
KR20210132600A (ko) | 2020-04-24 | 2021-11-04 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 바나듐, 질소 및 추가 원소를 포함한 층을 증착하기 위한 방법 및 시스템 |
KR20210134226A (ko) | 2020-04-29 | 2021-11-09 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 고체 소스 전구체 용기 |
KR20210134869A (ko) | 2020-05-01 | 2021-11-11 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | Foup 핸들러를 이용한 foup의 빠른 교환 |
KR20210141379A (ko) | 2020-05-13 | 2021-11-23 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 반응기 시스템용 레이저 정렬 고정구 |
KR20210143653A (ko) | 2020-05-19 | 2021-11-29 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 기판 처리 장치 |
KR20210145078A (ko) | 2020-05-21 | 2021-12-01 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 다수의 탄소 층을 포함한 구조체 및 이를 형성하고 사용하는 방법 |
TW202201602A (zh) | 2020-05-29 | 2022-01-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基板處理方法 |
WO2021258025A1 (en) | 2020-06-18 | 2021-12-23 | Third Pole, Inc. | Systems and methods for preventing and treating infections with nitric oxide |
TW202218133A (zh) | 2020-06-24 | 2022-05-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 形成含矽層之方法 |
TW202217953A (zh) | 2020-06-30 | 2022-05-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 基板處理方法 |
TW202219628A (zh) | 2020-07-17 | 2022-05-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於光微影之結構與方法 |
TW202204662A (zh) | 2020-07-20 | 2022-02-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於沉積鉬層之方法及系統 |
KR20220027026A (ko) | 2020-08-26 | 2022-03-07 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 금속 실리콘 산화물 및 금속 실리콘 산질화물 층을 형성하기 위한 방법 및 시스템 |
USD990534S1 (en) | 2020-09-11 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Weighted lift pin |
USD1012873S1 (en) | 2020-09-24 | 2024-01-30 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode for semiconductor processing apparatus |
TW202229613A (zh) | 2020-10-14 | 2022-08-01 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 於階梯式結構上沉積材料的方法 |
KR20220053482A (ko) | 2020-10-22 | 2022-04-29 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. | 바나듐 금속을 증착하는 방법, 구조체, 소자 및 증착 어셈블리 |
TW202223136A (zh) | 2020-10-28 | 2022-06-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 用於在基板上形成層之方法、及半導體處理系統 |
TW202235675A (zh) | 2020-11-30 | 2022-09-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 注入器、及基板處理設備 |
US11946137B2 (en) | 2020-12-16 | 2024-04-02 | Asm Ip Holding B.V. | Runout and wobble measurement fixtures |
TW202231903A (zh) | 2020-12-22 | 2022-08-16 | 荷蘭商Asm Ip私人控股有限公司 | 過渡金屬沉積方法、過渡金屬層、用於沉積過渡金屬於基板上的沉積總成 |
USD981973S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-28 | Asm Ip Holding B.V. | Reactor wall for substrate processing apparatus |
USD1023959S1 (en) | 2021-05-11 | 2024-04-23 | Asm Ip Holding B.V. | Electrode for substrate processing apparatus |
USD980813S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas flow control plate for substrate processing apparatus |
USD980814S1 (en) | 2021-05-11 | 2023-03-14 | Asm Ip Holding B.V. | Gas distributor for substrate processing apparatus |
USD990441S1 (en) | 2021-09-07 | 2023-06-27 | Asm Ip Holding B.V. | Gas flow control plate |
US11975139B2 (en) | 2021-09-23 | 2024-05-07 | Third Pole, Inc. | Systems and methods for delivering nitric oxide |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB8824865D0 (en) * | 1988-10-24 | 1988-11-30 | Antec Systems | Gas sampling device & water trap |
WO1991014476A1 (en) * | 1990-03-22 | 1991-10-03 | Methodist Hospital Of Indiana, Inc. | Exhaled gas cooling device |
DE69133575T2 (de) * | 1990-12-05 | 2008-04-17 | The General Hospital Corp., Boston | Verwendung von NO zur Behandlung der persistenten pulmonaren Hypertonie des Neugeborenen |
US5396882A (en) * | 1992-03-11 | 1995-03-14 | The General Hospital Corporation | Generation of nitric oxide from air for medical uses |
US5320093A (en) * | 1990-12-21 | 1994-06-14 | Brigham And Women's Hospital | Rapid anesthesia emergence system using closed-loop PCO2 control |
-
1994
- 1994-04-09 EP EP94105529A patent/EP0621051B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-04-09 DE DE59409834T patent/DE59409834D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-04-09 AT AT94105529T patent/ATE204491T1/de active
- 1994-04-12 US US08/226,550 patent/US5531218A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-04-15 HU HU9401091A patent/HUT66924A/hu unknown
- 1994-04-15 CA CA002121384A patent/CA2121384C/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-04-15 SK SK443-94A patent/SK282396B6/sk not_active IP Right Cessation
- 1994-04-18 CZ CZ1994936A patent/CZ286233B6/cs not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
HU9401091D0 (en) | 1994-07-28 |
ATE204491T1 (de) | 2001-09-15 |
EP0621051B1 (de) | 2001-08-22 |
SK282396B6 (sk) | 2002-01-07 |
CA2121384A1 (en) | 1994-10-18 |
US5531218A (en) | 1996-07-02 |
DE59409834D1 (de) | 2001-09-27 |
EP0621051A3 (de) | 1994-12-28 |
CA2121384C (en) | 2004-01-13 |
HUT66924A (en) | 1995-01-30 |
CZ93694A3 (en) | 1994-11-16 |
SK44394A3 (en) | 1995-06-07 |
EP0621051A2 (de) | 1994-10-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CZ286233B6 (cs) | Zařízení ke kontrolovanému dávkování NO do dechu pacientů | |
US5558083A (en) | Nitric oxide delivery system | |
US5522381A (en) | Device for supplying breathing gas to the lungs of a respiratory subject | |
US8141552B2 (en) | Respiratory anaesthesia apparatus with device for measuring the xenon concentration | |
US8033280B2 (en) | Inhalation anaesthesia delivery system and a method for leak detection in the inhalation anaesthesia delivery system | |
US6158434A (en) | Ventilatory system with additional gas administrator | |
US4572208A (en) | Metabolic gas monitoring apparatus and method | |
US6024087A (en) | Emergency oxygen flowmeter arrangement | |
US20070181126A1 (en) | Method and apparatus for ventilating a patient with a breathing gas mixture formed from nitric oxide, air, and oxygen | |
US7703455B2 (en) | Apparatus and method for supplying respiratory gas to a patient in which respiratory gas components are metered with great accuracy | |
US5720277A (en) | Ventilator/Anaesthetic system with juxtaposed CO2 meter and expired gas flow meter | |
SE465497B (sv) | Anordning foer studium av en persons lungfunktion | |
US20080029091A1 (en) | Method and Device for Administering Xenon to Patients | |
JP2014522973A (ja) | 呼気終末ガス監視装置 | |
JPH0417065B2 (cs) | ||
JPH07155379A (ja) | 肺の機能する残留容量の決定方法および機能する残留容量の決定のための換気用装置 | |
US6422237B1 (en) | Respirator with a breathing circuit | |
EP0728493B1 (en) | Ventilator/anaesthetic system | |
EP0656539A1 (en) | Method in conjunction with the analysis of a gas and a gas analyzer | |
US4535780A (en) | Apparatus for measuring xenon concentration in xenon cerebral blood-flow studies | |
DE4325319C1 (de) | Gerät zur kontrollierten Zudosierung von NO zur Atemluft von Patienten | |
CN116370765A (zh) | 呼吸系统环路增益测量设备 | |
Omura et al. | Inhaled nitric oxide improves survival in the rat model of high-altitude pulmonary edema | |
DE4312431C1 (de) | Gerät zur kontrollierten Zudosierung von NO zur Atemluft von Patienten | |
EP3479862A1 (en) | Method for inhalation effect on the body, and apparatus for implementing same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
IF00 | In force as of 2000-06-30 in czech republic | ||
MK4A | Patent expired |
Effective date: 20140418 |