CN1980962A - 酸感应性共聚物及其用途 - Google Patents

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牧野繁男
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Mitsui Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

本发明提供一种正型光致抗蚀剂组合物，其具有高灵敏度，并且能使用便宜的光酸发生剂，可以近紫外曝光及弱碱显像，具有高分辨率，也能应用于含通孔的基板。该正型光致抗蚀剂组合物由酸感应性共聚物构成，所述酸感应性共聚物包括第1构成单元、第2单元和第3单元，所述第1单元衍生自4－(1－甲基乙烯基)苯酚和/或4－乙烯基苯酚，所述第2单元衍生自(甲基)丙烯酸酯类、所述第3单元衍生自(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯类。

Description

酸感应性共聚物及其用途
技术领域
本发明涉及酸感应性共聚物，由其构成的可形成微细电路的便宜的正型光致抗蚀剂组合物，使用其的电子部件及其制造方法。
背景技术
目前印刷电路配线板等通过在基板上涂布光致抗蚀剂安装掩膜，照射近紫外光之后进行蚀刻，在基板上描画电路而制造。
作为用于印刷电路板等制造中的光致抗蚀剂材料，现在主要使用负型的光致抗蚀剂材料，一般为聚羧酸树脂与乙烯性不饱和化合物以及光聚合引发剂所构成的组合物。印刷电路板是在基板上涂布该组合物，安装掩膜照射近紫外线(以下称为曝光)，硬化树脂后，浸渍于1％碳酸钠水溶液等的显像液中，除去未曝光的部分，由残留的曝光部分的光致抗蚀剂材料形成图案。进而除去掩膜，蚀刻形成的图案从而制造印刷电路板。
然而在具有贯通基板的通孔或穿孔等的孔的基板的情形下，孔内的抗蚀剂材料由于膜厚所以即使曝光也残留未硬化的部分，所以在显像处理时由孔流出，因而有难以使用负型光致抗蚀剂组合物的情形。作为解决的方法，提出了预先采用埋孔用的油墨等保护孔后形成图案的方法，但是孔埋用油墨必须用热干燥，有生产性变差的情形。另外，负型因为曝光部分的树脂硬化，所以具有难以形成50μm或其以下的微细图案的情形。
另一方面，可适用于具有通孔等的基板、且可微细地加工的使用正型光致抗蚀剂材料的图案形成方法广泛地用于半导体领域。然而，使用于半导体领域的萘醌二叠氮基系的感光性材料，在用于印刷电路板用途的情形下在形成微细的图案时分辨率不足。再者，萘醌二叠氮基系的化合物昂贵，用于印刷电路板用途存在成本方面的问题。
作为不同苯醌二叠氮基系的正型光致抗蚀剂材料，提出了相对于通过光产生酸的化合物和通过酸产生水解等的碱水其溶解度变化的化合物或树脂所构成的抗蚀剂材料。然而，这类抗蚀剂材料无论未曝光部分与曝光部分的溶解度差均小分辨率低。而且显像时若使用四烷基铵氢化物等的有机碱剂则不会显像、或多必须使用像鎓盐这样的昂贵的光酸发生剂，对于印刷电路配线板的图案形成无法达到实用上的供给。因此，近年来，期望开发的是，特别是在高性能印刷电路配线板的制造上使用便宜、高性能的正型光致抗蚀剂材料。
另外，关于印刷电路板等的制造，在使用负型光致抗蚀剂材料的图案形成方法中，使用近紫外光(300～450nm)，以该波长在具有通孔等的基板上能进行微细的加工是重要的。而且，需要可以进行配线宽度、配线间隔为10μm或其以下的图案形成的感光材料。再者，作为显像液，能使用现在使用的1％碳酸钠水溶液为代表的弱碱性显像液也是重要的。此外，在印刷电路板用途上便宜亦为重要。即，能以近紫外线曝光、能以弱碱性显像液进行显像、且高分辨率、便宜的正型光致抗蚀剂材料是所企望的。
正型光致抗蚀剂材料的基础聚合物，在特开平8-101507号公报中公开了对异丙烯基苯酚与2-四氢吡喃基丙烯酸酯的共聚物以及含有感放射性酸发生剂的感放射性树脂组合物。再者，在特开平12-029215号公报中，公开了一种感放射性树脂组合物，其含有在聚合物骨架上作为侧链具有酚单元与光活性化时可反应的醛缩醇酯或酮缩醇酯单元的聚合物。
然而，这类树脂组合物作为目的用于半导体等的超微细加工时中，可使用2.38％四甲基铵水溶液等的碱性显像液显像，但是在印刷电路板的制造中用作显像液则有难以溶解于1％碳酸钠水溶液等的情形，因此作为印刷电路板的抗蚀剂材料使用有进一步改良的必要。
鉴于上述状况，本发明的目的是提供一种可形成微细图案、且便宜的正型光致抗蚀剂材料以及使用其的酸感光性共聚物。更具体的说，提供的正型光致抗蚀剂材料，即使对于具有通孔的基板也能适用，可用近紫外光曝光，即使以1％碳酸钠水溶液等的弱碱显像液也可显像，可形成微细的图案且高分辨率。
发明内容
本发明人为了实现上述目的进行锐意研究的结果，发现具有特定的结构的酸感应性聚合物具有高灵敏度，并且通过使用一分子中至少具有1个4，6-双(三氯甲基)均三嗪基的化合物作为光酸发生剂，发现得到便宜且高灵敏度的正型光致抗蚀剂材料，从而完成了本发明。
即，本发明
第一，提供一种酸感应性共聚物，其特征是包括下述通式(1)所表示的第1构成单元，
(式(1)中，X表示氢原子或甲基)
下述通式(2)所表示的第2构成单元，
(式(2)中，R1表示氢原子或甲基，R2表示碳原子数1～6的直链或支链的无取代烷基、羟基取代的碳原子数1～6的直链或支链的烷基、卤素原子取代的碳原子数1～6的直链或支链的烷基、氰基取代的碳原子数1～6的直链或支链的烷基，或者二烷基胺基取代的碳原子数1～6的直链或支链的烷基。)和
下述通式(3)所表示的第3构成单元
Figure A20048000641200073
(式(3)中，R3表示氢原子或甲基；R4系表示氢原子、卤素原子或碳原子数1～6的直链或支链的无取代烷基；Y表示氢原子、碳原子数1～6的直链或支链的无取代烷基或碳原子数1～6的直链或支链的取代烷基；Z表示碳原子数1～6的直链或支链的无取代烷基或碳原子数1～6的直链或支链的取代烷基；Y和Z可结合形成环状结构)
(但是，a，b，c表示组成比，a为0.05～0.3、b为0.1～0.7、c为0.2～0.8的有理数，a，b，c的总和为1)。
第二，提供一种正型光致抗蚀剂组合物，其特征是具有酸发生剂和上述的酸感应性共聚物。
酸发生剂为一分子中至少具有1个4，6-双(三氯甲基)均三嗪基的化合物的情形，有更高灵敏度且便宜，因而优选。更优选，酸发生剂为如下述通式(4)所表示的化合物。
Figure A20048000641200081
(式(4)中、R5表示选自三氯甲基、碳原子数1～12的直链或支链的烷基、碳原子数1～12的直链或支链的烷氧基、卤素原子、氰基、羟基、苯基、羟苯基、硝基苯基、烷基苯基、烷氧基苯基、烷二醇单烷基醚基取代的苯基、胡椒基、苯乙烯基、碳原子数1～3的直链或支链的烷氧基取代的苯乙烯基、萘基、碳原子数1～3的直链或支链的烷氧基取代的萘基的取代基)
第三，提供一种正型光致抗蚀剂组合物，其特征是相对于上述的酸感应性共聚物100质量份，含有上述酸发生剂0.05～20质量份。
第四，提供一种印刷电路配线板的制造方法，其特征是具有下述工序：将至少一个表面为金属层的层压板浸渍在液比重为0.800～0.990的上述抗蚀剂组合物中、经过干燥，在得到的层压板的表面上均匀地涂布感光性树脂的工序，通过光掩膜曝光的工序，曝光部显像的工序，和蚀刻金属层的工序。
第五，提供一种通过上述制造方法制造的电子部件。
具体实施方式
本发明的酸感应性共聚物是含有通式(1)、通式(2)和通式(3)表示的构成单元的共聚物。
Figure A20048000641200091
(式(1)中，X表示氢原子或甲基)
(式(2)中，R1表示氢原子或甲基，R2表示碳原子数1～6的直链或支链的无取代烷基、羟基取代的碳原子数1～6的直链或支链的烷基、卤素原子取代的碳原子数1～6的直链或支链的烷基、氰基取代的碳原子数1～6的直链或支链的烷基，或者二烷基胺基取代的碳原子数1～6的直链或支链的烷基)
Figure A20048000641200093
(式(3)中，R3表示氢原子或甲基；R4表示氢原子、卤素原子或碳原子数1～6的直链或支链的无取代烷基；Y表示氢原子、碳原子数1～6的直链或支链的无取代烷基或碳原子数1～6的直链或支链的取代烷基；Z表示碳原子数1～6的直链或支链的无取代烷基或碳原子数1～6的直链或支链的取代烷基；Y和Z可结合形成环状结构)
通式(1)中，X表示氢原子或甲基。甲基显像性良好而更优选。
通式(2)中的R1为氢原子或甲基。另外，通式(2)中的R2为碳原子数1～6的直链或支链的无取代、羟基取代、卤素取代、氰基取代或二烷基胺基取代的烷基，具体而言可举例如：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、环己基或环戊基等的无取代烷基，羟基甲基、1-羟基乙基、2-羟基乙基、1-羟基正丙基、2-羟基正丙基、3-羟基正丙基、1-羟基异丙基、2，3-二羟基正丙基、1-羟基正丁基、2-羟基正丁基、3-羟基正丁基或4-羟基正丁基等的羟基取代烷基，三氟甲基、2，2，2-三氟乙基、2，2，2，2’，2’，2’-六氟异丙基、2，2，3，4，4，4-六氟丁基、2-氯乙基、三氯乙基、3-溴乙基或七氟异丙基等的卤素取代烷基，2-氰基乙基等的氰基取代烷基，或者2-(二甲基胺基)乙基、3-(二甲基胺基)丙基或3-二甲基胺基新戊基等的二烷基胺基取代烷基。
优选的是，可举出碳原子数1～4的直链或支链的无取代、羟基取代、卤素取代、氰基取代或二烷基胺基取代的烷基，具体而言可举出：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、2-羟基乙基、三氟甲基或2，2，2-三氟乙基等。
更优选的是，可举出碳原子数1～3的直链或支链的无取代、羟基取代、卤素取代、氰基取代或二烷基胺基取代的烷基，具体而言可举出：甲基、乙基、正丙基、异丙基、三氟甲基、2-羟基乙基、三氟甲基或2，2，2-三氟乙基等。
在通式(3)中的R3为氢原子或甲基。另外，在通式(3)中的R4表示氢原子，卤素原子或碳原子数1～6的直链或支链的无取代烷基，Z表示氢原子或碳原子数1～6的直链或支链的无取代或取代烷基，以及Y表示氢原子、碳原子数1～6的直链或支链的无取代或取代烷基，或Y与Z可结合成环状结构。
具体而言，R4为氢原子，氟原子，或甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基或叔丁基等的直链或支链的无取代烷基；Y为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基或叔丁基等的直链或支链的无取代、羟基取代、卤素取代、氰基取代或二烷基胺基取代烷基等；Z为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基或叔丁基等的直链或支链的无取代、羟基取代、卤素取代、氰基取代或二烷基胺基取代烷基等。
更具体而言，通式(3)的烷氧基烷基酯基部分的R4、C、O、Y及Z合在一起整体表示的是，1-甲氧基乙基、1-乙氧基乙基、1-正丙氧基乙基、1-异丙氧基乙基、1-正丁氧基乙基、1-异丁氧基乙基、1-仲丁氧基乙基、2-乙氧基乙基、2-正丙氧基乙基、2-异丙氧基乙基、2-正丁氧基乙基、2-异丁氧基乙基、2-仲丁氧基乙基、1-甲氧基丙基、1-乙氧基丙基、1-正丙氧基丙基、1-异丙氧基丙基、1-正丁氧基丙基、1-异丁氧基丙基、1-仲丁氧基丙基、1-叔丁氧基丙基、2-甲氧基丙基、2-乙氧基丙基、2-正丙氧基丙基、2-异丙氧基丙基、2-正丁氧基丙基、2-异丁氧基丙基、2-仲丁氧基丙基、2-叔丁氧基丙基、3-甲氧基丙基、3-乙氧基丙基、3-正丙氧基丙基、3-异丙氧基丙基、3-正丁氧基丙基、3-异丁氧基丙基、3-仲丁氧基丙基、3-叔丁氧基丙基等的无取代烷基；1-(1-羟基)甲氧基乙基等的羟基取代烷氧基烷基；1-甲氧基-2，2，2-三氟乙基、1-三氟甲氧基-2，2，2-三氟乙基等的卤素取代烷氧基烷基；1-(1-氰基)甲氧基乙基等的氰基取代烷氧基烷基；1，1-二甲基胺基甲氧基乙基等的二烷基胺基取代烷氧基烷基；四氢呋喃-2-基氧基(tetrahydrofuran-2-yloxy group)、四氢吡喃-2-基氧基等的无取代环状醚；2-甲基四氢呋喃-2-基氧基、2-甲基四氢吡喃-2-基氧基等的烷基取代环状醚；或2-氟四氢呋喃-2-基氧基、2-氟四氢吡喃-2-基氧基等的卤素取代环状醚。
而且，通式(1)、(2)或(3)不仅具有1种构成单元，也可以具有2种或其以上的构成单元。换言之，本发明的共聚物中也包括如下的具有4种或其以上的构成单元的共聚物：具有2种通式(1)、2种或其以上的通式(2)以及2种或其以上的通式(3)所示的构成单元的共聚物。
另外，本发明的共聚物中，通式(1)、通式(2)及通式(3)所示的构成单元的组成比极为重要，3个构成单元的总和为1时，通式(1)的组成比为0.05或其以上、0.15或其以上为更优选，0.3或其以下、0.25或其以下为更优选。另外，通式(2)的组成比为0.1或其以上、0.15或其以上为更优选，0.7或其以下、低于0.5为更优选。通式(3)的组成比为0.2或其以上、0.4或其以上为更优选，0.8或其以下、0.7或其以下为更优选。另外，使用2种或其以上通式(2)或通式(3)所示的构成单元的情形下，组成比为各个构成单元的组成比的合计。另外，3个构成单元的组成比可通过例如1H-NMR及13C-NMR等进行实测。
本发明中所使用的酸感应性共聚物、通式(1)、通式(2)及通式(3)所示的构成单元可以无规共聚，也可以3个构成单元交联共聚，另外，也可以嵌段共聚。
本发明中所使用的酸感应性共聚物的重均分子量(Mw)，根据该共聚物的使用目的不同而不一样，以3,000或其以上为优选，4,000或其以上为更优选，80,000或其以下为优选、60,000或其以下为更优选。再者，分子量分散度(Mw/Mn，但是，Mn为数均分子量)以1.0或其以上、5.0或其以下为优选，4.0或其以下为更优选、3.0或其以下为最优选。另外，重均分子量及分子量分散度可使用例如凝胶渗透色谱法(GPC)等通过聚苯乙烯换算进行实测。
本发明中所使用的共聚物是通过将含有4-(1-甲基乙烯基)苯酚和/或4-乙烯基苯酚、通式(5)所示的(甲基)丙烯酸酯类和通式(6)所示的(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯类的单体混合物，自由基聚合引发剂以及溶剂进行混合，混合时使单体混合物中单体的摩尔比为规定值，并进行加热而得到的。
Figure A20048000641200121
Figure A20048000641200122
作为本发明中所使用的酸感应性共聚物的原料单体的通式(5)中的R6表示氢原子或甲基；R7表示碳原子数1～6的直链或支链的无取代烷基、羟基取代烷基、卤素取代烷基、氰基取代烷基或二烷基胺基取代烷基。具体而言，可举出例如：丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸异丁酯、丙烯酸仲丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸环己酯或丙烯酸环戊酯等的丙烯酸无取代烷基酯，丙烯酸羟基甲酯、丙烯酸1-羟基乙酯、丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸1-羟基正丙酯、丙烯酸2-羟基正丙酯、丙烯酸3-羟基正丙酯、丙烯酸1-羟基异丙酯、丙烯酸2，3-二羟基丙酯、丙烯酸1-羟基正丁酯、丙烯酸2-羟基正丁酯、丙烯酸3-羟基正丁酯或丙烯酸4-羟基正丁酯等的丙烯酸羟基取代烷基酯，丙烯酸三氟甲酯、丙烯酸2，2，2-三氟乙酯、丙烯酸六氟异丙酯、丙烯酸2，2，3，4，4，4-六氟丁酯、丙烯酸2-氯乙酯、丙烯酸三氯乙酯、丙烯酸3-溴乙酯或丙烯酸七氟代-2-丙酯等的丙烯酸卤素取代烷基酯，丙烯酸2-氰基乙酯等的丙烯酸氰基取代烷基酯，丙烯酸2-(二甲基胺基)乙酯、丙烯酸3-(二甲基胺基)丙酯或丙烯酸3-二甲基胺基新戊酯等的丙烯酸二烷基胺基取代烷基酯，甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸环己酯或甲基丙烯酸环戊酯等的甲基丙烯酸无取代烷基酯，甲基丙烯酸羟基甲酯、甲基丙烯酸1-羟基乙酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯、甲基丙烯酸1-羟基正丙酯、甲基丙烯酸2-羟基正丙酯、甲基丙烯酸3-羟基正丙酯、甲基丙烯酸1-羟基异丙酯、甲基丙烯酸2，3-二羟基丙酯、甲基丙烯酸1-羟基正丁酯、甲基丙烯酸2-羟基正丁酯、甲基丙烯酸3-羟基正丁酯或甲基丙烯酸4-羟基正丁酯等的甲基丙烯酸羟基取代烷基酯，甲基丙烯酸三氟甲酯、甲基丙烯酸2，2，2-三氟乙酯、甲基丙烯酸六氟异丙酯、甲基丙烯酸2，2，3，4，4，4-六氟丁酯、甲基丙烯酸2-氯乙酯、甲基丙烯酸三氯乙酯、甲基丙烯酸3-溴乙酯或甲基丙烯酸七氟代-2-丙酯等的甲基丙烯酸卤素取代烷基酯，甲基丙烯酸2-氰基乙酯等的甲基丙烯酸氰基取代烷基酯，甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙酯、甲基丙烯酸3-(二甲基胺基)丙酯或甲基丙烯酸3-二甲基胺基新戊酯等的甲基丙烯酸二烷基胺基取代烷基酯等。
优选的是，通式(5)中R7为碳原子数1～4的直链或支链的无取代烷基、羟基取代烷基、卤素取代烷基、氰基取代烷基或二烷基胺基取代烷基。优选的(甲基)丙烯酸酯类的具体例子可举出：丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸异丁酯、丙烯酸仲丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸环戊酯、丙烯酸羟基甲酯、丙烯酸1-羟基乙酯、丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸三氟甲酯、丙烯酸2，2，2-三氟乙酯、丙烯酸六氟异丙酯、丙烯酸2，2，3，4，4，4-六氟丁酯、丙烯酸2-氰基乙酯、丙烯酸2-(二甲基胺基)乙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸环己酯、甲基丙烯酸环戊酯、甲基丙烯酸羟基甲酯、甲基丙烯酸1-羟基乙酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯、甲基丙烯酸三氟甲酯、甲基丙烯酸2，2，2-三氟乙酯、甲基丙烯酸六氟异丙酯、甲基丙烯酸2，2，3，4，4，4-六氟丁酯、甲基丙烯酸2-氰基乙酯或甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙酯。
更优选的是，通式(5)中R7为碳原子数1～3的直链或支链的无取代烷基、羟基取代烷基、卤素取代烷基、氰基取代烷基或二烷基胺基取代烷基。更优选的(甲基)丙烯酸酯类的具体例子可举出：丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸异丙酯、丙烯酸羟基甲酯、丙烯酸1-羟基乙酯、丙烯酸2-羟基乙酯、丙烯酸1-羟基-正丙酯、丙烯酸1-羟基异丙酯、丙烯酸2，3-二羟基丙酯、丙烯酸三氟甲酯、丙烯酸2，2，2-三氟乙酯、丙烯酸六氟异丙酯、丙烯酸2-氯乙酯、丙烯酸三氯乙酯、丙烯酸3-溴乙酯、丙烯酸七氟代-2-丙酯、丙烯酸2-氰基乙酯、丙烯酸2-(二甲基胺基)乙酯、丙烯酸3-(二甲基胺基)丙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸羟基甲酯、甲基丙烯酸1-羟基乙酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯、甲基丙烯酸1-羟基正丙酯、甲基丙烯酸2-羟基正丙酯、甲基丙烯酸3-羟基正丙酯、甲基丙烯酸1-羟基异丙酯、甲基丙烯酸2，3-二羟基丙酯、甲基丙烯酸三氟甲酯、甲基丙烯酸2，2，2-三氟乙酯、甲基丙烯酸六氟异丙酯、甲基丙烯酸2-氯乙酯、甲基丙烯酸三氯乙酯、甲基丙烯酸3-溴乙酯、甲基丙烯酸七氟代异丙酯、甲基丙烯酸2-氰基乙酯或甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙酯。
而且，以上的(甲基)丙烯酸酯类可以1种或2种或其以上同时或混合使用，在这种情形下可得到2种或其以上的通式(2)所表示的构成单元无规共聚结构的共聚物。此时的通式(2)的组成比为2种或其以上的通式(2)所示的构成单元的组成比的合计。
作为本发明所使用的酸感应性共聚物的另一个原料，通式(6)所示的(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯类，式中R8表示氢原子或甲基，R9表示氢原子、卤素原子或碳原子数1～6的直链或支链的无取代烷基，Z为碳原子数1～6的直链或支链的无取代或取代烷基，Y系表示氢原子、碳原子数1～6的直链或支链的无取代或取代烷基，Y与Z也可结合形成环状结构。
(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯类的具体例子可举出：丙烯酸1-甲氧基乙酯、丙烯酸1-乙氧基乙酯、丙烯酸1-正丙氧基乙酯、丙烯酸1-异丙氧基乙酯、丙烯酸1-正丁氧基乙酯、丙烯酸1-异丁氧基乙酯、丙烯酸1-仲丁氧基乙酯、丙烯酸2-乙氧基乙酯、丙烯酸2-正丙氧基乙酯、丙烯酸2-异丙氧基乙酯、丙烯酸2-正丁氧基乙酯、丙烯酸2-异丁氧基乙酯、丙烯酸2-仲丁氧基乙酯、丙烯酸1-甲氧基丙酯、丙烯酸1-乙氧基丙酯、丙烯酸1-正丙氧基丙酯、丙烯酸1-异丙氧基丙酯、丙烯酸1-正丁氧基丙酯、丙烯酸1-异丁氧基丙酯、丙烯酸1-仲丁氧基丙酯、丙烯酸1-叔丁氧基丙酯、丙烯酸2-甲氧基丙酯、丙烯酸2-乙氧基丙酯、丙烯酸2-正丙氧基丙酯、丙烯酸2-异丙氧基丙酯、丙烯酸2-正丁氧基丙酯、丙烯酸2-异丁氧基丙酯、丙烯酸2-仲丁氧基丙酯、丙烯酸2-叔丁氧基丙酯、丙烯酸3-甲氧基丙酯、丙烯酸3-乙氧基丙酯、丙烯酸3-正丙氧基丙酯、丙烯酸3-异丙氧基丙酯、丙烯酸3-正丁氧基丙酯、丙烯酸3-异丁氧基丙酯、丙烯酸3-仲丁氧基丙酯或丙烯酸3-叔丁氧基丙酯等的丙烯酸无取代烷氧基烷基酯，丙烯酸1-(1-羟基)甲氧基乙酯等的丙烯酸羟基取代烷氧基烷基酯，丙烯酸1-甲氧基-2，2，2-三氟乙酯或丙烯酸1-三氟甲氧基-2，2，2-三氟乙酯等的丙烯酸卤素取代烷氧基烷基酯，丙烯酸1-(1-氰基)甲氧基乙酯等的丙烯酸氰基取代烷氧基烷基酯，丙烯酸1，1-二甲基胺基甲氧基乙酯等的丙烯酸二烷基胺基取代烷氧酯，丙烯酸四氢呋喃-2-基氧基酯或丙烯酸四氢吡喃-2-基氧基酯等的丙烯酸无取代环状草酸酯或丙烯酸2-甲基四氢呋喃-2-基氧基酯或丙烯酸2-甲基四氢吡喃-2-基氧基酯等的丙烯酸烷基取代环状草酸酯，丙烯酸2-氟代四氢呋喃-2-基氧基酯等的丙烯酸卤素取代环状草酸酯，甲基丙烯酸1-甲氧基乙酯、甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯、甲基丙烯酸1-正丙氧基乙酯、甲基丙烯酸1-异丙氧基乙酯、甲基丙烯酸1-正丁氧基乙酯、甲基丙烯酸1-异丁氧基乙酯、甲基丙烯酸1-仲丁氧基乙酯、甲基丙烯酸2-乙氧基乙酯、甲基丙烯酸2-正丙氧基乙酯、甲基丙烯酸2-异丙氧基乙酯、甲基丙烯酸2-正丁氧基乙酯、甲基丙烯酸2-异丁氧基乙酯、甲基丙烯酸2-仲丁氧基乙酯、甲基丙烯酸1-甲氧基丙酯、甲基丙烯酸1-乙氧基丙酯、甲基丙烯酸1-正丙氧基丙酯、甲基丙烯酸1-异丙氧基丙酯、甲基丙烯酸1-正丁氧基丙酯、甲基丙烯酸1-异丁氧基丙酯、甲基丙烯酸1-仲丁氧基丙酯、甲基丙烯酸1-叔丁氧基丙酯、甲基丙烯酸2-甲氧基丙酯、甲基丙烯酸2-乙氧基丙酯、甲基丙烯酸2-正丙氧基丙酯、甲基丙烯酸2-异丙氧基丙酯、甲基丙烯酸2-正丁氧基丙酯、甲基丙烯酸2-异丁氧基丙酯、甲基丙烯酸2-仲丁氧基丙酯、甲基丙烯酸2-叔丁氧基丙酯、甲基丙烯酸3-甲氧基丙酯、甲基丙烯酸3-乙氧基丙酯、甲基丙烯酸3-正丙氧基丙酯、甲基丙烯酸3-异丙氧基丙酯、甲基丙烯酸3-正丁氧基丙酯、甲基丙烯酸3-异丁氧基丙酯、甲基丙烯酸3-仲丁氧基丙酯或甲基丙烯酸3-叔丁氧基丙酯等的甲基丙烯酸无取代烷氧基烷基酯，甲基丙烯酸1-(1-羟基)甲氧基乙酯等的甲基丙烯酸羟基取代烷氧基烷基酯，甲基丙烯酸1-甲氧基-2，2，2-三氟乙酯或甲基丙烯酸1-三氟甲氧基-2，2，2-三氟乙酯等的甲基丙烯酸卤素取代烷氧基烷基酯，甲基丙烯酸1-(1-氰基)甲氧基乙酯等的甲基丙烯酸氰基取代烷氧基烷基酯，甲基丙烯酸1，1-二甲基胺基甲氧基乙酯等的甲基丙烯酸二烷基胺基取代烷氧基烷基酯，甲基丙烯酸四氢呋喃-2-基氧基酯或甲基丙烯酸四氢吡喃-2-基氧基酯等的甲基丙烯酸无取代环状草酸酯，甲基丙烯酸2-甲基四氢呋喃-2-基氧基酯或甲基丙烯酸2-甲基四氢吡喃-2-基氧基酯等的甲基丙烯酸烷基取代环状草酸酯，或甲基丙烯酸2-氟代四氢呋喃-2-基氧基酯等的甲基丙烯酸氟取代环状草酸酯等。
而且，以上的(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯类可1种或2种或其以上同时或混合使用，此等情形下可得到2种或其以上的通式(3)所示的构成单元无规共聚合的结构的共聚物。此时的组成比为2种或其以上的通式(3)所示的构成单元的组成比的合计。
另外，4-乙烯基苯酚类、(甲基)丙烯酸酯类及(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯类中，存在含有作为稳定剂的氢氧化钾等的碱性化合物或阻聚剂等的情形，此时将其进行重结晶或蒸馏等的一般的精制操作除去稳定剂后而使用是优选的，特别是对未进行精制操作的市售品也可直接使用。
这些4-乙烯基苯酚类、(甲基)丙烯酸酯类及(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯类的使用量与所期望的共聚物的组成比一致为优选，相对于这些单体总量1摩尔份，4-乙烯基苯酚类的使用量0.05摩尔份或其以上为优选，0.15摩尔份或其以上为更优选，0.3摩尔份或其以下为优选，0.25摩尔份或其以下为更优选。另外，(甲基)丙烯酸酯类的使用量0.1摩尔份或其以上为优选，0.15摩尔份或其以上为更优选，0.7摩尔份或其以下为优选，低于0.5摩尔份为更优选。另外，(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯类的使用量0.2摩尔份或其以上为优选，0.4摩尔份或其以上为更优选，0.8摩尔份或其以下为优选，0.7摩尔份或其以下为更优选。
而且，4-乙烯基苯酚类为2种的情形下，其合计摩尔数在上述的范围内为优选，(甲基)丙烯酸酯类为2种或其以上的情形下、其合计摩尔数在上述的范围内为优选，(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯类为2种或其以上的情形下，其合计摩尔数在上述的范围内为优选。
关于本发明的方法中的自由基聚合引发剂可举例如：偶氮二异丁腈、偶氮二(2，4-二甲基戊腈)、偶氮二环己腈、偶氮二(2-脒基丙烷盐酸盐)、偶氮二异丁酸二甲酯、偶氮二异丁基脒盐酸盐或4，4’-偶氮二(4-氰基戊酸)等的偶氮系引发剂，过氧化苯甲酰、2，4-二氯过氧化苯甲酰、过氧化二叔丁基、过氧化月桂酰、过氧化乙酰、过氧化二异丙基二碳酸酯、氢过氧化异丙苯、叔丁基氢过氧化物、二枯基过氧化物、对孟烷氢过氧化物、蒎烷氢过氧化物、甲基乙基甲酮过氧化物、环己酮过氧化物、二异丙基过氧二碳酸酯、叔丁基过氧月桂酸酯、二叔丁基过氧邻苯二甲酸酯、二苄氧化物或2，5-二甲基己烷-2，5-二氢过氧化物等的过氧化物系引发剂，或过氧化苯甲酰-N，N-二甲基苯胺或过氧二硫酸-亚硫酸氢钠等的氧化还原系引发剂等。
这些引发剂中，偶氮系引发剂或过氧化物系引发剂为优选，更优选偶氮二异丁腈、偶氮二(-2，4-二甲基戊腈)、偶氮基二环己烷腈、偶氮二异丁酸二甲酯、过氧化苯甲酰、2，4-二氯过氧化苯甲酰、过氧化二(叔丁基)、过氧化月桂酰、过氧化二异丙基二碳酸酯或过氧化乙酰。
以上的自由基聚合引发剂可单独使用或可2种或其以上同时或顺次使用。这些引发剂的使用量在共聚物原料加热开始时，相对于4-乙烯基苯酚类、通式(5)所示的(甲基)丙烯酸酯类及通式(6)所示的(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯类的合计使用量，以0.0001摩尔倍或其以上为优选、0.001摩尔倍或其以上为更优选、0.005摩尔倍或其以上为更进一步优选，另一方面，以0.1摩尔倍或其以下为优选、0.05摩尔倍或其以下为更优选。自由基聚合引发剂的合计使用量若为上述量的话，则可以在加热开始时装入全量，也可以在加热开始后追加使用全量或一部分量。
在本发明的方法中的溶剂只要不妨碍反应即任意溶剂均可使用，具体而言可举例如：丙酮、甲基乙基甲酮、甲基异丁基甲酮、环己酮、环戊酮或γ-丁内酯等的酮类，正丙醇、异丙醇、正丁醇、叔丁醇、正辛醇、2-乙基己醇或正月桂醇等的醇类，乙二醇、丙二醇或二乙二醇等的二醇类，乙二醇二甲基醚、乙二醇二乙基醚、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇二乙基醚、二乙二醇甲基乙基醚、四氢呋喃或二恶烷等的醚类，乙二醇单甲基醚、乙二醇单乙基醚、丙二醇单甲基醚、丙二醇单乙基醚或二乙二醇单甲基醚等的醇醚类，甲酸正丙酯、甲酸异丙酯、甲酸正丁酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丙酯、乙酸异丙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、乙酸正戊酯、乙酸正己酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯或丁酸甲酯等的酯类，2-氧基丙酸甲酯、2-氧基丙酸乙酯、2-氧基丙酸正丙酯、2-氧基丙酸异丙酯、2-氧基-2-甲基丙酸乙酯或2-氧基-3-甲基丁酸甲酯等的单氧基羧酸酯类，甲氧基乙酸乙酯、乙氧基乙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯或3-乙氧基丙酸甲酯等的烷氧基羧酸酯类，溶纤剂乙酸酯、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯或丁基溶纤剂乙酸酯等的溶纤剂酯类，苯、甲苯或二甲苯等的芳香族烃类，三氯乙烯、氯苯或二氯苯等的卤素化烃类或二甲基乙酰胺、二甲基甲酰胺、N-甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮或N，N’-二甲基咪唑啉酮等的酰胺类等。
优选为甲基乙基甲酮、甲基异丁基甲酮、环己酮、异丙醇、正丁醇、乙二醇二甲基醚、二乙二醇二甲基醚、四氢呋喃、二恶烷、乙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚、乙酸乙酯、丙二醇单甲基醚单乙酸酯、溶纤剂乙酸酯、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、丁基溶纤剂乙酸酯或甲苯。
这些溶剂可单独或可2种或其以上混合使用。另外，因这些溶剂的使用，反应液为均匀相为优选，即使为为不均匀的多相也可以。溶剂的使用量根据所使用的原料或自由基聚合引发剂的种类或量，以及所期望的共聚物的分子量等而有所变化，有所不同，相对于单体混合物的总量100质量份，以5质量份或其以上为优选、20质量份或其以上为更优选、50质量份或其以上为更进一步优选，另一方面，以10,000质量份或其以下为优选、5,000质量份或其以下为更优选、1,000质量份或其以下为更进一步优选。
而且，最优选的是，聚合反应后生成的共聚物的浓度，即使不作任何浓度调整也能达到25～75质量％，即相对于单体混合物100质量份，共聚物浓度在33～400质量份范围内。
本发明所使用的酸感应性共聚物的聚合方法并没有特别地限制，只要聚合方法能使4-乙烯基苯酚类、通式(5)所示的(甲基)丙烯酸酯类、通式(6)所示的(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯类、自由基聚合引发剂和溶剂等有有效地混合、接触，无论何种方法均可。无论是间歇式、半间歇式还是连续流动式都可以。例如，通常采用将这些化合物一起加入反应容器内开始加热的方法，或将单体、自由基聚合引发剂以及溶剂连续地或间歇性地加入至少一部溶剂已加入的反应器中的方法等。
这些方法中，优选本发明的方法是从加热开始时直至结束时，一边调整存在于反应体系中的4-乙烯基苯酚类、(甲基)丙烯酸酯类及(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯类的合计浓度为20质量％或其以下，一边进行反应。
具体而言，该方法是按照聚合反应中4-乙烯基苯酚类、(甲基)丙烯酸酯类和(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯类所消耗的量，与消耗量一致地将新单体、聚合引发剂、溶剂等连续地或间歇地装入反应体系中的方法。
更具体而言，可举例如：在反应器中仅装入溶剂后，将这些单体与自由基聚合引发剂连续地或间歇地装入反应体系中的方法，在反应器中装入溶剂及自由基聚合引发剂后，将单体系连续地或间歇地装入反应体系中的方法，在反应器中装入一部分溶剂及自由基聚合引发剂后，将单体及剩余的溶剂和自由基聚合引发剂连续地或间歇地装入反应体系中的方法，或者在或反应器中装入一部分单体、自由基聚合引发剂及溶剂后，将剩余的单体、自由基聚合引发剂及溶剂连续地或间歇地装入反应体系中的方法等。
本发明中所使用的酸感应性共聚物的制造方法借助加热而进行聚合反应。加热温度只要是聚合反应进行的温度，无论什么温度都可以。根据所期望的聚合物的聚合度、组成和摩尔比，以及所使用的自由基聚合引发剂以及溶剂的种类或量不同而不一样，以40℃或其以上为优选、45℃或其以上为更优选、50℃或其以上为更进一步优选、60℃或其以上为最优选，另一方面，以250℃或其以下为优选、180℃或其以下为更优选、160℃或其以下为更进一步优选、150℃或其以下为最优选。
聚合反应时间也根据所期望的聚合物的聚合度、组成和摩尔比，以及所使用的自由基聚合引发剂以及溶剂的种类或量不同而不一样。但是，以0.01小时或其以上为优选，另一方面，以40小时或其以下为优选、20小时或其以下为更优选。
而且，视需要，反应可以在回流下、减压、常压或加压的任意情况下进行。特别是由于在回流下进行时反应热的除热能更有效进行因而优选。另外，在氮气或氩气等的惰性气体气氛下进行为优选，并且即使在空气等的分子氧的存在下也可进行。
再者，本发明所使用的酸感应性共聚物的制造方法，根据提高共聚物的收率的目的、或改变共聚物的构成单元的排列的目的等，也可使用酚化合物等的添加剂。
作为含有如上的共聚物的溶液(抗蚀剂原料)，从抗蚀剂材料的溶液涂布特性、涂布膜控制性等观点出发，优选的是，加热含有总摩尔数为1摩尔份的下述单体的共聚物原料：0.05～0.3摩尔份的4-乙烯基苯酚类、0.1～0.7摩尔份的(甲基)丙烯酸酯类、和0.2～0.8摩尔份的(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯类，并且，在加热后根据需要浓缩或稀释上述共聚物原料，使得未反应的4-乙烯基苯酚类相对于抗蚀剂原料的浓度为50质量ppb～0.5质量％，未反应的(甲基)丙烯酸酯类相对于抗蚀剂原料的浓度为5质量ppm～5质量％，未反应的(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯类相对于抗蚀剂原料的浓度为200质量ppb～2质量％，而且，使得这些未反应的单体类和生成的酸感应性共聚物相对于光致抗蚀剂原料的合计浓度为25～75质量％。
聚合反应结束后，采用溶剂萃取法、分别沉淀法或薄膜蒸发法等的常规方法，可以由反应混合液单独分离出生成的共聚物。另外，视需要，也可以不单独分离目的物共聚物，而使用含有生成的共聚物的溶液作为抗蚀剂原料。
另外，使用本发明的正型光致抗蚀剂时，共聚物的溶解速度曝光前为1.5μm/分或其以下、优选为1.2μm/分或其以下、曝光后为2.5μm/分或其以上、优选为3μm/分或其以上时因有大的变化而优选。
此处，溶解速度的测定是将该共聚物30重量％与萘二甲酰亚氨基三氟磺酸盐(naphthalimidyl trifluorosulfonate)等的光酸发生剂1重量％的混合溶液，在铜膜层压板等的基板上以旋转涂布机或棒涂布机等涂布成加热除去溶剂时的膜厚为5μm的涂膜来加以测定。测定基板上的涂膜完全溶解于显像液1％碳酸钠水溶液中的时间从而决定曝光前的溶解速度。曝光后的溶解速度是，同样地在基板上形成涂膜后，以200mJ/cm2照射365nm波长的光，测定该曝光的涂膜完全溶解于显像液1％碳酸钠水溶液的时间来决定。
本发明的正型光致抗蚀剂组合物，其包括上述的酸感应性共聚物和酸发生剂以及溶剂。
作为酸发生剂，在一分子中至少具有1个4，6-双(三氯甲基)均三嗪基的化合物高灵敏度且便宜，因而优选。本发明的正型光致抗蚀剂组合物可以近紫外光曝光并且弱碱显像、有高分辨率。另外，也能适用于有通孔的基板。特别是作为酸发生剂，使用在一分子中至少具有1个4，6-双(三氯甲基)均三嗪基的化合物时，曝光量可降低至10mJ/cm2，可以进行线宽度为10μm、线间隔为10μm的微细图案的形成。
一分子中至少具有1个4，6-双(三氯甲基)均三嗪基的光酸发生剂，可例示出如下述通式(4)所表示的化合物。
(式(4)中、R5表示选自于三氯甲基、碳原子数1～12的直链或支链的无取代烷基、碳原子数1～12的直链或支链的烷氧基、卤素原子、氰基、羟基、羟基取代的苯基、卤素原子取代的苯基、硝基取代的苯基、碳原子数1～6的直链或支链的无取代烷基取代的苯基、碳原子数1～6的直链或支链的烷氧基取代的苯基、碳原子数1～3的直链或支链的烷二醇单烷基醚基取代的苯基、胡椒基、苯乙烯基、碳原子数1～3的直链或支链的烷氧基取代的苯乙烯基、萘基、碳原子数1～3的直链或支链的烷氧基取代的萘基的取代基)
通式(4)所表示的光酸发生剂，具体而言可举例如：2，4，6-三(三氯甲基)均三嗪、2-甲基-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-乙基-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-丙基-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-异丙基-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-丁基-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-甲氧基-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-乙氧基-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-丙氧基-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-异丙氧基-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-丁氧基-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-氯-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-溴-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-氰基-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-羟基-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-甲氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-乙氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基均三嗪、2-(4-丙氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-异丙氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-丁氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(3-甲氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(3-氯-4-甲氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(3-溴-4-甲氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(3-甲氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(3，4-二甲氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(3，5-二甲氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-羟基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-硝基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-乙二醇单甲基醚苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-乙二醇单乙基醚苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-丙二醇单甲基醚苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-丙二醇单乙基醚苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(3，4-甲二氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(2，3-甲二氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(2-甲氧基苯乙烯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(3-甲氧基苯乙烯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-甲氧基苯乙烯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-2-(4-甲氧基-α-萘基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-4，6-双(三氯甲基)三基、2-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(α-萘基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(β-萘基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-甲氧基-α-萘基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(3-甲氧基-α-萘基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-乙氧基-α-萘基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-丙氧基-α-萘基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-异丙氧基-α-萘基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-丁氧基-α-萘基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪等。这些其可单独使用或并用。
这些光酸发生剂中，吸光峰值λmax为300～450nm的范围内的光酸发生剂，特别是在使用印刷电路配线板的电路曝光中所用的紫外线曝光机的情形下优选。在i线峰值365nm附近时具有吸光峰值λmax的下述光酸发生剂特别优选：2-(4-甲氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-甲氧基-α-萘基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(3，4-甲二氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(3-溴-4-甲氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(2-甲氧基苯基乙烯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(3-甲氧基苯基乙烯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-甲氧基苯基乙烯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-羟基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-乙二醇单乙基醚苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪。
光酸发生剂的配合量，相对于酸感应性共聚物的总量100质量份，为了使图案形成良好地进行，以0.05质量份或其以上为优选、0.2质量份或其以上为更优选，20质量份或其以下为优选、10质量份或其以下为更优选。比0.05质量份少时，由光照射所生成的酸少，图案形成会有难以进行的倾向。另一方面，比20质量份多时，由光照射所发生的酸过多，扩散至未曝光部，有使分辨率降低的情形。
再者，为灵敏度提高的目的，视需要也可配合二苯甲酮系、蒽醌系、噻吨酮系的光增感剂，或香豆满酮系、份菁系、芘系、苝系等的增感色素等。
而且，加热的后的共聚物的浓度未满25质量％时加以浓缩、或超过75质量％时加以稀释以调整浓度。关于抗蚀剂原料中共聚物的浓度，例如将抗蚀剂原料装入镀锡盘精秤，将镀锡盘放入热风干燥器，加热除去溶剂的盘再精秤，可加以实测。
本发明的正型光致抗蚀剂组合物，从确认曝光后的图案，确认图案位置与通孔位置的整合性等的理由出发，进而，借助由曝光产生的酸引起的涂膜色调的改变，也可以在其中添加酸性领域变色的pH指示剂，例如、甲基橙、甲基红、甲基蓝紫、二硝基苯酚、百里香酚蓝、溴酚蓝等。
再者，本发明的正型光致抗蚀剂组合物中，从涂膜性改良等的理由出发，也可进一步添加溶剂。
像这样的溶剂，具体而言，可举例如：丙酮、甲基乙基甲酮、环己酮、甲基异丁基甲酮、甲基异戊基甲酮、2-庚酮或甲基-2-正戊基甲酮等的酮类，乙醇、正丙醇、异丙醇、1-丁醇、2-丁醇、3-甲氧基丁醇、3-甲基-3-甲氧基丁醇、1-甲氧基-2-丙醇或1-乙氧基-2-丙醇等的醇类，乙二醇、丙二醇或二丙二醇等的多元醇类，乙二醇乙烯、丙二醇、二醇单乙酸酯、二乙二醇单乙酸酯、丙二醇单乙酸酯或二丙二醇单乙酸酯的单甲基醚、单乙基醚、单丙基醚、单丁基醚、单苯基醚、二甲基醚或二乙基醚等的多元醇衍生物，四氢呋喃或二恶烷等的环状醚类，乳酸甲酯、乳酸乙酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、乙酸叔丁酯或丙酸叔丁酯等的酯类等，苯、甲苯或二甲苯等的芳香族烃类，或氯苯或邻二氯苯等卤素化芳香族烃类等。
这些溶剂中优选为酮类、醇类、多元醇类、多元醇类的衍生物、环醚类、酯类或芳香族烃类，更优选为丙酮、甲基乙基甲酮、甲基异丁基甲酮、环己酮、乙醇、异丙醇、乙二醇二甲基醚、二乙二醇单甲基醚、丙二醇单甲基醚单乙酸酯、乙酸乙酯、乳酸乙酯或甲苯。这些溶剂可单独使用也可或2种或其以上混合使用。
另外，本发明的正型光致抗蚀剂组合物中，根据需要，可以为了改善显像性、保存稳定性、耐热性等，添加例如：苯乙烯与丙烯酸、甲基丙烯酸或马来酸酐的共聚物，链烯与马来酸酐的共聚物、乙烯醇共聚物、乙烯基吡咯烷酮聚合物等。这些任意成分的添加量，相对于酸感应性共聚物100质量份，一般为30质量份或其以下、优选为15质量份或其以下。
另外，根据需要，可以配合着色颜料、着色染料、热聚合抑制剂、增粘剂、触变剂、流平剂、消泡剂、偶合剂等。
将以上所得的正型光致抗蚀剂材料作为印刷电路配线板的电路图案形成用的蚀刻光致抗蚀剂使用时，首先视需要调整成适合涂布方法的粘度后，然后在主印刷电路板或封装基板、挠性印刷电路基板用的铜膜层压基板、或形成有通孔的铜膜层压基板上通过丝网印刷法、帘涂法、辊涂法、喷涂法、浸涂法等的方法涂布，特别是可对极薄基板(基板厚度0.1mm或以下)涂布，又不影响表面形状，可涂布至端面，而且可实际涂布至通孔的内面，而且，可一次同时处理数十片基板，处理效率极为优良，由于每片的操作时间(タクト時間，tact time)能大幅缩短，因此采用浸涂法的涂布方法是优选的。
此时，本发明的正型光致抗蚀剂组合物的液比重，为了使干燥速度提高而使用比重小的溶剂，因残留溶剂使基板彼此间没有粘结(残留粘性)的情况下，其比重以0.990或其以下为优选、0.950或其以下为更优选。下限为0.800或其以上为优选，0.850或其以上为更优选。
接着，涂布后在50～120℃下经5～30分钟加热干燥而挥发组合物中含有的溶剂，从而可以接触曝光，以形成没有粘性的正型感光性涂膜层。然后，在该涂膜上附着具有规定图案的掩膜，通过该掩膜以近紫外光(300-450nm)曝光后，采用1％碳酸钠水溶液等的碱性显像液显像，可在印刷电路板上形成期望的图案。以往，使用光酸发生剂的正型光致抗蚀剂组合物，曝光后，为了使酸的催化剂作用活性化，大部分都是进行加热处理，但是，本申请的正型光致抗蚀剂组合物，特别是不需要曝光后的加热处理，即使省略了加热处理也可充分显像，因而可省略加热处理工序。另外，即使进行加热处理也可以。
另一方面，可以采用碱水溶液显像仅溶解除去曝光部分的正型光致抗蚀剂，可以使未照射光的如通孔内的部分残留蚀刻抗蚀剂。
在铜表面形成规定的抗蚀剂图案的铜膜层压基板，接着，用酸性蚀刻液蚀刻铜表面，用氢氧化钠或氢氧化钾等的强碱水溶液除去抗蚀剂图案，从而形成所规定的电路图案。
本发明的正型光致抗蚀剂组合物，可适当地使用于印刷电路配线板、无连接导通(ランドレス，landless)印刷电路配线板、挠性印刷电路配线板、封装用印刷电路配线板等的电子部件的制造。
使用本发明的正型光致抗蚀剂材料，在具有通孔的基板上形成微细的图案时，可进行无连接导通(landless)。在负型的情形下，为了不使通孔内部硬化，在蚀刻液浸渍时使通孔内部浸透蚀刻液，而腐蚀内部的镀层，发生断线。而且，烘干薄膜方式中，通孔周边没有密合性时，同样地使内部浸透蚀刻液，而腐蚀镀层发生断线。因此，本材料是唯一可实现无连接导通(landless)的材料。
(实施例)
以下，通：)过实施例更详细说明本发明，但是本发明并不受这些实施例所限制。另外，没有特别禁止限制，试剂等使用市售的高纯度品。
首先说明本发明所使用的酸感应性共聚物的实施例。
(实施例1)
安装搅拌机、温度计、冷却管及内容积为500毫升的滴液漏斗，在内容积为1,000毫升的四口烧瓶中装入四氢呋喃200毫升，边搅拌边通过水浴槽升高外温到80℃回流。另外，在1,000毫升的三角烧瓶中，装入由2-乙基己醇溶液结晶精制的4-(1-甲基乙烯基)苯酚(以下略称为PIPE)100克(0.75摩尔)，蒸馏精制的丙烯酸甲酯129克(1.50摩尔)以及丙烯酸1-乙氧基乙酯216克(1.50摩尔)，作为自由基聚合引发剂的偶氮二异丁腈16.4克(0.10摩尔)以及作为溶剂的四氢呋喃200毫升。
该溶液搅拌溶解后，全量分2次移加至滴液漏斗，在上述四口烧瓶中以能持续回流状态的速度滴加。反应初期的内温为72℃，但是在聚合途中内温升高，在8小时后为80℃。边继续搅拌边移去水浴槽，用2小时冷却至室温(25℃)后，将聚合反应液用2升正己烷装入5公升烧杯中，沉淀生成的聚合物。使沉淀的聚合物过滤·分离后，再次溶解于400毫升四氢呋喃中，装入2升正己烷中，萃取出固体。再重复该过滤·分离·析出操作2次。在最后的过滤·分离后，以100mmHg、在100℃下减压干燥2小时、得到356克的白色聚合物。
所得的白色聚合物由1H-NMR分析、13C-NMR分析以及元素分析的结果，目的共聚物其原料进料比与摩尔比基本相同。另外，以聚苯乙烯作为标准的GPC分析结果，重均分子量(Mw)为15,000，因而分子量分散度(Mw/Mn)为1.85。
所得的共聚物溶解于甲基乙基甲酮、环己酮各溶剂时，该共聚物在任一溶剂中溶解了50重量％或其以上。
所得的共聚物在甲基乙基甲酮中溶解后，使用棒涂机在铜膜层压基板上进行干燥膜厚为5μm的涂布，在80℃下加热10分钟形成涂膜。将其浸渍于1.0重量％碳酸钠水溶液(碱显像液)中时，3分钟或其以内没有发生铜膜层压基板上的涂膜溶解。即，所得共聚物的溶解速度为1.5μm/分或其以下。
另外，所得共聚物在甲基乙基酮中溶解，将在其中添加1重量％萘二甲酰亚氨基三氟磺酸盐(绿化学NAI-105)而成的溶液，以棒涂机在铜膜层压基板上，进行干燥后5μm的涂布，在80℃下加热10分钟以形成涂膜。利用一般的印刷电路板制造所用的曝光装置，对该涂膜以近紫外光(300～450nm)以200mJ/cm2照射后，浸渍在1.0重量％碳酸钠水溶液中后，2分钟或其以内涂膜完全溶解。即，所得的共聚物的溶解速度为2.5μm/分或其以上。
所得的共聚物在甲基乙基甲酮中溶解后，使用旋涂机在石英板上进行干燥膜厚为1μm的涂布，在100℃下加热10分钟形成涂膜。采用紫外可见分光光度计测定该涂膜在365nm透过率时，透过率为98％或其以上。
(实施例2～10)
实施例1中所使用的丙烯酸甲酯改变成表1所示，或丙烯酸1-乙氧基乙酯改变成表1所示，其它条件完全与实施例1同样地进行反应及后处理。与实施例1同样地测定所得的共聚物的重均分子量(Mw)及分子量分散度(Mw/Mn)。另外，与实施例1同样地评价溶剂溶解性，对于碱显像液的溶解速度。这些分析结果及评价结果与实施例1的结果均如表1所示。
(比较例1)
实施例1中所使用的PIPE的进料量改成251.9克(1.88摩尔)、丙烯酸甲酯的进料量改成161.8克(1.88摩尔)、不使用丙烯酸1-乙氧基乙酯，除此以外，完全与实施例1同样地进行反应、后处理、分析及评价。进料摩尔比以及所得的共聚物的分析结果及评价结果与实施例1～10的结果均如表1所示。
(比较例2)
实施例1中所使用的PIPE的进料量改成456克(3.40摩尔)、丙烯酸1-乙氧基乙酯的进料量改成55克(0.38摩尔)、不使用丙烯酸甲酯，除此以外，完全与实施例1同样地进行反应、后处理、分析及评价。进料摩尔比以及所得的共聚物的分析结果及评价结果与实施例1～10及比较例1的结果均如表1所示。
(比较例3)
实施例1中所使用的丙烯酸甲酯的进料量改成26克(0.3摩尔)、丙烯酸1-乙氧基乙酯的进料量改成400克(2.8摩尔)、不使用PIPE的进料量，除此以外，完全与实施例1同样地进行反应、后处理、分析及评价。进料摩尔比以及所得的共聚物的分析结果及评价结果与实施例1～10的结果均如表1所示。
(比较例4)
实施例1中所使用的PIPE的进料量改成61克(0.46摩尔)、丙烯酸甲酯的进料量改成315克(3.66摩尔)、丙烯酸1-乙氧基乙酯的进料量改成66克(0.46摩尔)，与实施例1同样地进行反应、后处理、分析及评价。进料摩尔比以及所得的共聚物的分析结果及评价结果与实施例1～10的结果均如表1所示。
【表1】
实施例     聚合反应(组成摩尔比)     聚合结果
PIPEa (甲基)丙烯酸甲酯种类 b (甲基)丙烯酸烷氧基烷酯种类 c Mw Mw/Mn 溶剂溶解性(重量％) 酸作用前碱显像液溶解速度(μm/分) 酸作用后碱显像液溶解速度(μm/分)
1 0.20 丙烯酸甲酯 0.40 丙烯酸1-乙氧基乙酯 0.40 15,000 1.85 ＞50 ＜1.5 ＞2.5
2 0.20 丙烯酸甲酯 0.20 丙烯酸1-乙氧基乙酯 0.60 18,500 1.87 ＞50 ＜1.5 ＞2.5
3 0.20 丙烯酸乙酯 0.40 丙烯酸1-乙氧基乙酯 0.40 20,800 1.97 ＞50 ＜1.5 ＞2.5
4 0.20 丙烯酸正丁酯 0.40 丙烯酸1-乙氧基乙酯 0.40 25,900 1.94 ＞50 ＜1.5 ＞2.5
5 0.20 丙烯酸甲酯 0.40 丙烯酸1-甲氧基乙酯 0.40 15,600 1.83 ＞50 ＜1.5 ＞2.5
6 0.20 丙烯酸甲酯 0.40 丙烯酸1-正丁氧基乙酯 0.40 19,300 1.92 ＞50 ＜1.5 ＞2.5
7 0.25 丙烯酸甲酯 0.25 丙烯酸1-异丙氧基乙酯 0.50 20,100 1.86 ＞50 ＜1.5 ＞2.5
8 0.20 甲基丙烯酸甲酯 0.30 丙烯酸1-异丙氧基乙酯 0.50 25,300 1.82 ＞50 ＜1.5 ＞2.5
9 0.15 甲基丙烯酸乙酯 0.25 甲基丙烯酸1-异丙氧基乙酯 0.60 21,400 2.13 ＞50 ＜1.5 ＞2.5
10 0.25 甲基丙烯酸叔丁酯 0.15 甲基丙烯酸1-异丙氧基乙酯 0.60 18,500 2.19 ＞50 ＜1.5 ＞2.5
比较例1 0.50 丙烯酸甲酯 0.50 丙烯酸1-乙氧基乙酯 - 10,800 1.89 ＞50 ≤0.5 ≤0.5
比较例2 0.90 丙烯酸甲酯 - 丙烯酸1-乙氧基乙酯 0.10 13,900 1.85 ＞50 ≤0.5 ≤0.5
比较例3 - 丙烯酸甲酯 0.1 丙烯酸1-乙氧基乙酯 0.9 78,900 3.4 ＞50 ＞2.5 ＞2.5
比较例4 0.10 丙烯酸甲酯 0.8 丙烯酸1-乙氧基乙酯 0.10 38,300 2.2 ＞50 ＜1.5 ≤0.5
(实施例11)
将由实施例1所得的酸感应性共聚物(称为A)以30重量％的浓度溶解于甲基乙基甲酮中后，相对于酸感应性共聚物100重量份，添加作为光酸发生剂的2-(4-甲氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪(称为A-1)3重量份、着色染料UV-BluE236(三井化学社制)0.5重量份，溶解，制作成可浸渍涂布的正型光致抗蚀剂组合物。该正型光致抗蚀剂组合物的比重为0.913。
另一方法，在铜箔厚度为9μm的0.5mm厚度的FR-4两面铜膜层压基板上，以NC钻头(drill)开成0.2mmφ的孔，用公知的方法实施9μm的铜电镀。在含该通孔的基板的两面上使用所得的正型光致抗蚀剂组合物，以浸涂机进行干燥后4μm膜厚的涂布，在80℃下用干燥机经10分钟干燥至无粘性。0.2mmφ的通孔的内面以抗蚀剂材料被覆。然后，使具有线/空间＝20/20μm的模型图案与0.35mmφ的陆地的形成图案膜粘着至涂布面、用3kw的超高压水银灯以50mJ/cm2照射后，不进行加热处理、立即将1.0重量％碳酸钠水溶液以温度调节至30℃的显像液方式喷雾，然后，水洗、进行光致抗蚀剂涂膜显像性的试验。
接着，用氯化铜系公知的铜蚀刻液进行蚀刻处理，以3.0重量％苛性钠水溶液喷雾剥离抗蚀剂材料，水洗处理、干燥后，观察有连接(ランド，land)的电路形成状态及通孔内的铜镀层的状态。正型光致抗蚀剂涂膜的特性评价采用下述的特性评价方法进行，结果如表2所示。
(特性评价方法)
比重：以浮标法测定
膜厚：使用涡电流式简易膜厚计(依索司扣普MP30(イソスコ一プMP30)；福思恰依斯哆如梅朵社制(フイツシヤ一インツストルメンツ社制))测定。
显像性：30℃、使用1.0重量％的碳酸钠水溶液、用0.18Pa的压力进行60秒间喷雾显像、就曝光部分的组合物残渣继续接着进行判定。
○没有残渣的情形    ×有残渣的情形
分辨率：使用具有线宽20μm、间隔20μm图案的光掩膜进行规定的曝光、进行显像后，将形成的图案用200倍的显微镜确认，接着进行判定。
○再现线幅、间隔均为20μm的情形
△形成了图案，但不能再现线幅、间隔均为20μm的情形
×不能形成完整的图案，也没有完全显像图案的情形
耐蚀刻性：对显像结束的基板，用50℃的氯化铜蚀刻液以0.2Pa的压力进行喷雾，蚀刻结束后，用3.0重量％苛性钠水溶液喷雾剥离抗蚀剂材料，水洗处理、干燥后，确认无连接(landless)的电路形成状态及通孔内的铜电镀的状态，接着进行判定。
○图案及通孔内的铜表面完全没有侵蚀的情形
△图案及通孔内的铜表面有一部分侵蚀的情形
×图案及通孔内的铜表面被侵蚀，有铜缺少部分的情形
(实施例12～14)
实施例11中用作光酸发生剂的2-(4-甲氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪(A-1)改成2-(3，4-甲二氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪(A-2)、或2-(4-甲氧基苯基乙烯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪(A-3)、或2-(4-甲氧基-α-萘基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪(A-4)，除此以外，其它条件完全与实施例11同样地进行处理，进行正型光致抗蚀剂涂膜的特性评价。这些评价结果与实施例11的结果均如表2所示。
(实施例15)
使实施例8所得的酸感应性共聚物(称为B)以30重量％的浓度溶解于甲基乙基甲酮之后，相对于酸感应性共聚物100重量份，添加作为光酸发生剂的2-(4-甲氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪(称为A-1)3重量份、着色染料UV-BluE236(三井化学社制)0.5重量份，溶解，制作可浸渍涂布的正型光致抗蚀剂组成物。该正型光致抗蚀剂组合物的比重为0.936。对该正型光致抗蚀剂组合物与实施例11同样地进行处理，进行正型光致抗蚀剂涂膜的特性评价。这些评价结果与实施例11的结果均如表2所示。
(实施例16)
将实施例15中作为光酸发生剂使用的2-(4-甲氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪(A-1)改成2-(3，4-甲二氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪(A-2)，除此以外，其它的条件完全与实施例15同样地进行处理，进行正型光致抗蚀剂涂膜的特性评价。这些评价结果与实施例11的结果均如表2所示。
(比较例5)
使用比较例1所得的酸感应性共聚物(称为R)，除此以外，其它与实施例11同样地制作正型光致抗蚀剂组合物。该正型光致抗蚀剂组合物的比重为0.910。对该正型光致抗蚀剂组合物与实施例11同样地进行处理，进行正型光致抗蚀剂涂膜的特性评价。这些评价结果与实施例11的结果均如表2所示。
(比较例6)
使用比较例2所得的酸感应性共聚物(称为S)，除此以外，其它与实施例11同样地制作正型光致抗蚀剂组合物。该正型光致抗蚀剂组合物的比重为0.924。对该正型光致抗蚀剂组合物与实施例11同样地进行处理，进行正型感旋光性光致抗蚀剂涂膜的特性评价。这些评价结果与实施例11的结果均如表2所示。
(比较例7)
将实施例11中作为光酸发生剂的2-(4-甲氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)均三嗪改成α，α-二氯-4-苯氧基苯乙酮(称为A-5)，除此以外，其它条件与完全实施例11同样地进行处理，进行正型光致抗蚀剂涂膜的特性评价。这些评价结果与实施例11的结果均如表2所示。
并且，以下表示正型光致抗蚀剂组合物的涂膜特性评价方法，实施例以及比较例的特性评价结果如表2所示。
(比较例8)
使用比较例3所得的酸感应性共聚物(称为T)，除此以外，其它与实施例11同样地制作正型光致抗蚀剂组合物。该正型光致抗蚀剂组合物的比重为0.920。对该正型光致抗蚀剂组合物与实施例11同样地进行处理，进行正型光致抗蚀剂涂膜的特性评价。这些评价结果与实施例11的结果均如表2所示。
(比较例9)
使用比较例4所得的酸感应性共聚物(称为U)，除此以外，其它与实施例11同样地制作正型光致抗蚀剂组合物。该正型光致抗蚀剂组合物的比重为0.924。对该正型光致抗蚀剂组合物与实施例11同样地进行处理，进行正型光致抗蚀剂涂膜的特性评价。这些评价结果与实施例11的结果均如表2所示。
【表2】
  实施例   酸感应性共聚物   酸发生剂种类   酸发生剂配合重量份  比重   膜厚(μm)   显像性   分辨率   耐蚀刻性
  11     A     A-1     3.0  0.913   4.1   ○   ○   ○
  12     A     A-2     3.0  0.914   4.3   ○   ○   ○
  13     A     A-3     3.0  0.913   4.4   ○   ○   ○
  14     A     A-4     3.0  0.910   4.1   ○   ○   ○
  15     B     A-1     3.0  0.936   3.8   ○   ○   ○
  16     B     A-2     3.0  0.934   4.2   ○   ○   ○
  比较例5     R     A-1     3.0  0.910   4.0   ×   ×   -
  比较例6     S     A-1     3.0  0.924   4.1   ×   ×   -
  比较例7     A     A-5     3.0  0.903   3.9   ×   ×   -
  比较例8     T     A-1     3.0  0.920   4.1   ×(未曝光部分也溶解)   ×   -
  比较例9     U     A-1     3.0  0.924   4.2   ×   ×   -
产业上的可利用性
根据本发明，可形成对近紫外光有高灵敏度且高分辨率的优异的抗蚀剂图案。作为正型蚀刻抗蚀剂，可使用于印刷电路配线板的微细电路加工领域。而且，由于抗蚀剂为正型，因而通孔内不需要曝光，即使有通孔的基板也可应用，而且，因为可由最一般的碳酸钠显像，因而不对以往的印刷电路板加工设备进行任何改变就能加以使用。
另外，本发明的酸感应性共聚物的原料，可以由工业上供给，通过组合便宜的光酸发生剂可以提供比较便宜的正型光致抗蚀剂材料。

Claims (7)

1.一种酸感应性共聚物，其特征是含有下述通式(1)所示的第1构成单元、下述通式(2)所示的第2构成单元和下述通式(3)所示的第3构成单元，其中，通式(1)所示的第1构成单元为：
Figure A2004800064120002C1
式(1)中，X表示氢原子或甲基；
通式(2)所示的第2构成单元为：
式(2)中，R1表示氢原子或甲基，R2表示碳原子数1～6的直链或支链的无取代烷基、羟基取代的碳原子数1～6的直链或支链的烷基、卤素原子取代的碳原子数1～6的直链或支链的烷基、氰基取代的碳原子数1～6的直链或支链的烷基或二烷基胺基取代的碳原子数1～6的直链或支链的烷基；
通式(3)所示的第3构成单元为：
式(3)中、R3表示氢原子或甲基，R4表示氢原子、卤素原子或碳原子数1～6的直链或支链的无取代烷基，Y表示氢原子、碳原子数1～6的直链或支链的无取代烷基或碳原子数1～6的直链或支链的取代烷基，Z表示碳原子数1～6的直链或支链的无取代烷基或碳原子数1～6的直链或支链的取代烷基，Y和Z也可结合形成环结构；
另外，a，b，c表示组成比，a为0.05～0.3、b为0.1～0.7、c为0.2～0.8的有理数，a，b，c的总和为1。
2.一种正型光致抗蚀剂组合物，其特征是含有酸发生剂和权利要求1所述的酸感应性共聚物。
3.如权利要求2所述的正型光致抗蚀剂组合物，其特征是酸发生剂为一分子中至少具有1个4，6-双(三氯甲基)均三嗪基的化合物。
4.如权利要求2所述的正型光致抗蚀剂组合物，其特征是酸发生剂为下述通式(4)所示的化合物，
Figure A2004800064120003C1
式(4)中、R5表示选自下述基团的取代基：三氯甲基、碳原子数1～12的直链或支链的烷基、碳原子数1～12的直链或支链的烷氧基、卤素原子、氰基、羟基、苯基、羟苯基、硝基苯基、烷基苯基、烷氧基苯基、烷二醇单烷基醚基取代的苯基、胡椒基、苯乙烯基、碳原子数1～3的直链或支链的烷氧基取代的苯乙烯基、萘基、碳原子数1～3的直链或支链的烷氧基取代的萘基。
5.如权利要求2～4中任一项所述的正型光致抗蚀剂组合物，其特征是相对于100质量份酸感应性共聚物，酸发生剂含量为0.05～20质量份。
6.一种印刷电路配线板的制造方法，其特征是具备下述工序：通过将至少一个表面为金属层的层压板浸渍在液比重调整为0.800～0.990的权利要求2～5中任一项所述的正型光致抗蚀剂组合物中，然后进行干燥从而在层压板的表面均匀涂布感光性树脂的工序，通过光掩膜进行曝光的工序，显像的工序和蚀刻金属层的工序。
7.由权利要求6所述的制造方法制造的电子部件。
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