CN1970827A - 一种具有多层类金刚石碳膜的模具的制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种具有多层类金刚石碳膜的模具的制作方法，其制作的多层类金刚石碳膜的模具包括：一基底，该基底上依次形成一粘合层、一强化层、一非晶质含氮类金刚石碳层、一非晶质含氮氢类金刚石碳层、一非晶质含氢类金刚石碳层。该制作方法是采用射频溅镀沉积形成各膜层，各膜层沉积质量高，彼此之间附着力强，所制作的具有多层类金刚石碳膜的模具具有良好的机械性能，高硬度与高耐磨性，良好的抗腐蚀性，低摩擦系数及长使用寿命。

Description

一种具有多层类金刚石碳膜的模具的制作方法
【技术领域】
本发明涉及一种模具的制作方法，特别涉及一种具有多层类金刚石碳膜的模具的制作方法。
【背景技术】
类金刚石碳(Diamond-Like Carbon，DLC)是指一系列主要以sp3键结结合的非晶态碳，根据其氢原子含量可将其分为非晶质含氢类金刚石碳与非晶质类金刚石碳。
由于类金刚石碳膜层具有与钻石薄膜相似的高硬度、高导热性、宽光学透过范围、良好的电学性能、高表面光洁度以及良好的耐磨损性能等优良特性，因此，其应用领域非常广泛，尤其在一些抗磨损场合，如作为机械耐磨零组件、模具、刀具等的保护膜。模造过程中，模具通常需要承受较大的模压力，其保护膜层的镀覆是为了使所制造模具具有足够的硬度及机械强度，以承受模造过程中的冲击力，并且具有较好耐磨性，以利成型产品及避免表面刮伤。
目前应用于模具的类金刚石碳膜层保护层多为单层含氢类金刚石碳膜层，所涉及的方法也多为单层类金刚石碳膜层的制作方法，但是单层含氢类金刚石碳膜层内应力大，膜的机械性能较差，与钢材料基底附着不好等缺陷，会导致膜层迅速被磨损脱落，最终影响模具的使用寿命。
有鉴于此，提供一种具有与基底结合牢固，抗腐蚀性高，摩擦系数低，耐磨性强的多层类金刚石碳膜的模具的制作方法实属必要。
【发明内容】
以下将以实施例说明一种具有与基底结合牢固，抗腐蚀性高，摩擦系数低，耐磨性强的多层类金刚石碳膜的模具的制作方法。
所述利用射频溅镀系统制作多层类金刚石碳膜的模具的方法包括以下步骤：提供一射频溅镀系统，将一基底与一金属靶材分别相对置于射频溅镀系统溅镀腔内；开启射频溅镀系统，在一惰性气体溅镀气氛下，在该基底上溅镀一粘合层；在一惰性气体与氮气混合溅镀气氛下，在该粘合层上溅镀一强化层；以一碳靶材替换该金属靶材，在一惰性气体与氮气混合溅镀气氛下，控制氮气的含量，在强化层上溅镀一非晶质含氮类金刚石碳层；在一氮气、氢气或含氢气体、以及惰性气体构成的混合溅镀气氛下，控制氮气、氢气或含氢气体的含量，在该非晶质含氮类金刚石碳层上形成一非晶质含氮氢类金刚石碳层；在一氢气与惰性气体的混合溅镀气氛下，控制氢气的含量，在该非晶质含氮氢类金刚石碳层上形成一非晶质含氢类金刚石碳层。
上述制作方法，其优点在于：由射频电源轰击惰性气体形成电浆的效率较高，并且减少了电弧的产生，由此而得的多层类金刚石碳膜的模具同时含有三种镀覆质量高的类金刚石碳膜层，其各层之间附着力强，并均具有良好的抗腐蚀性与耐磨性，应用于模具时能提供良好的摩擦学性能，具有高硬度与高耐磨性，能有效延长模具使用寿命。
【附图说明】
图1是本实施例的具有多层类金刚石碳膜的模具结构示意图。
图2是本实施例的射频溅镀装置示意图。
图3是本实施例的具有多层类金刚石碳膜的模具的制作方法示意图。
【具体实施方式】
下面将结合附图及实施例对上述具有多层类金刚石碳膜的模具的制作方法作一步详细说明。
请参阅图1，本实施例所提供的制作具有多层类金刚石碳膜的模具10的方法所制作的具有多层类金刚石碳膜的模具10包括：一基底101以及依次形成于该基底101上的一粘合层102、一强化层103、一非晶质含氮类金刚石碳层104、一非晶质含氮氢类金刚石碳层105、一非晶质含氢类金刚石碳层106。
该基底101的材质可为铁铬碳合金、铁铬钼碳合金、铁铬钒钼碳合金或铁铬钒硅钼碳合金。
该粘合层102的材质可选自铬、钛或钛化铬，其厚度范围为1～20纳米，优选为4～10纳米。
该强化层103是的材质选自氮化铬、氮化钛或氮化钛铬，其厚度范围1～50纳米，优选为4～30纳米。
该非晶质含氮类金刚石碳层104的厚度为1～50纳米，优选10～30纳米。
该非晶质含氮氢类金刚石碳层105的厚度为1～50纳米，优选10～30纳米。
该非晶质含氢类金刚石碳层106的厚度为1～50纳米，优选10～30纳米。
请一并参阅图1、图2与图3，本实施例提供一采用射频溅镀系统制作具有多层类金刚石碳膜的模具10的制作方法，射频溅镀系统可以是非磁控射频溅镀系统或磁控射频溅镀系统，它可以是单溅镀腔射频溅镀系统或多溅镀腔射频溅镀系统，本实施例选用单溅镀腔磁控射频溅镀系统制作具有多层类金刚石碳膜层的模具10。
如图2所示的射频磁控溅镀系统20，其包括：一溅镀腔30、一射频电源32、一第一电极工作台34、一第二电极工作台36，其与第一电极工作台成相对设置，该溅镀腔30的腔体侧壁上设置有一抽气口51、一第一进气口52、及一第二进气口53，并分别通过一抽气控制阀61、一第一进气控制阀62、及一第二进气控制阀63进行气流控制。该第二电极工作台36具有多个磁极38，该射频电源与第一电极工作台34及第二电极工作台36分别相连。
用射频磁控溅镀系统20制作具有多层类金刚石碳膜的模具10包括以下步骤：
第一步，采用射频磁控溅镀系统20在基底101上形成一粘合层102。
首先，将一基底101置于第一电极工作台34上，将一金属靶材40a置于第二电极工作台36上，该金属靶材40a可以是铬、钛或钛化铬，本实施例选用铬。
其次，开启抽气控制阀61通过抽气口51将溅镀腔30内抽为真空状态，开启第一进气控制阀62通过第一进气口52通入一惰性气体，该惰性气体可选用如氩气、氪气、氙气、氡气，本实施例选用氩气。
然后，开启射频电源32，频率采用13.56百万赫兹，在两电极之间发生辉光放电作用，辉光放电作用使溅镀腔30中的氩气发生电离形成电浆，电浆中的氩离子在电场作用下高速轰击金属靶材40a，产生二次电子，并使靶材表面溅射出原子。同时多个磁极38会产生磁力线在金属靶材40a的表面形成一磁场区域，在磁场作用下使更多溅镀原子顺利到达基底101沉积于其上形成粘合层02。控制溅镀时间，使基底101上形成的粘合层厚度为1～20纳米，优选为4～10纳米，本实施例所形成的粘合层为铬层。
第二步，在粘合层102上形成强化层103。原理类似于粘合层102的形成，仍然使用金属靶材40a，不同之处是需要开启第二进气控制阀63通过第二进气口53通入一氮气，形成惰性气体与氮气的混合溅镀气氛。溅镀过程中，由金属靶材40a表面溅射出原子会与氮气发生反应，反应产物最后沉积在粘合层102上。控制溅镀时间，使粘合层102上形成的强化层103厚度为1～50纳米，优选4～30纳米，本实施例所形成的强化层103为氮化铬层。
第三步，在强化层103上形成非晶质含氮类金刚石碳层104。原理类似于粘合层102的形成，更换金属靶材40a为一碳靶材40b，不同之处是仍需要开启第二进气控制阀63通过第二进气口53通入一氮气，形成惰性气体与氮气的混合溅镀气氛，通过调节第一进气控制阀62与第二进气控制阀63，使氮气所占混合气体体积比为2％～40％，优选为5％～20％。如果使用多溅镀腔射频溅镀系统，该金属靶材40a与碳靶材40b将被分别置于两个溅镀腔体中，故可以通过将基底101移动至放置有碳靶材40b的溅镀腔内来实现靶材的更换，再在放置碳靶材40b的溅镀腔内充入所需惰性气体与氮气的混合溅镀气氛，也实现了溅镀气氛的更换。溅镀过程中，由碳靶材40b表面溅射出原子会与氮气发生反应，反应产物最后沉积于强化层103上。控制溅镀时间，使在强化层103上形成的非晶质含氮类金刚石碳层104的厚度为1～50纳米，优选10～30纳米，其氮含量为2％～40％。
第四步，在非晶质含氮类金刚石碳层104上形成非晶质含氮氢类金刚石碳层105，原理类似于粘合层101的形成，使用碳靶材40b，不同之处是需要开启第二进气控制阀63通过第二进气口53通入一氮氢混合气体，形成惰性气体、氮气、氢气或含氢气体构成的混合溅镀气氛，通过调节第一进气控制阀62与第二进气控制阀63，使氮气所占混合气体体积比为2％～10％，氢气所占混合气体体积比为5％～20％。如果使用多溅镀腔射频溅镀系统，氮氢混合气体在惰性气体的混合溅镀气氛可充入到另一个设有碳靶材40b的溅镀腔体内，故可以通过将基底101移动至该溅镀腔内来实现了溅镀气氛的更换。溅镀过程中，由碳靶材40b表面溅射出原子会与氮氢混合气体发生反应，反应产物最后沉积在非晶质含氮类金刚石碳层104上。控制溅镀时间，使在非晶质含氮类金刚石碳层104上形成的非晶质含氮氢类金刚石碳层105厚度为1～50纳米，优选10～30纳米，其氮含量为2％～10％，氢含量为5％～20％。
第五步，在非晶质含氮氢类金刚石碳层105上形成非晶质含氢类金刚石碳层106。原理类似于粘合层101的形成，使用碳靶材40b，不同之处是需要开启第二进气控制阀63通过第二进气口53通入一氢气，形成惰性气体与氢气或含氢气体的混合溅镀气氛，通过调节第一进气控制阀62与第二进气控制阀63，使氢气或含氢气体所占混合气体体积比为5％～20％。如果使用多溅镀腔射频溅镀系统，氢气与惰性气体的混合溅镀气氛可充入到另一个设有碳靶材40b的溅镀腔体内，故可以通过将基底101移动至该溅镀腔内来实现溅镀气氛的更换。溅镀过程中，由碳靶材40b表面溅射出原子会与氢气发生反应，反应产物最后沉积在非晶质含氮氢类金刚石碳层105上。控制溅镀时间，使形成的非晶质含氢类金刚石碳层106厚度为1～50纳米，优选10～30纳米，其氢含量为2％～40％。
上述第四步与第五步中的氢气或含氢气体中，该含氢气体可为甲烷或乙炔等。
上述制作具有多层类金刚石碳膜的模具的方法，其优点在于：使用射频电源轰击惰性气体形成电浆的效率较高，并且减少了电弧的产生，由此溅镀而得的多层类金刚石碳膜的模具同时含有三种镀覆质量高的类金刚石碳膜层，其各层之间附着力强，并均具有良好的抗腐蚀性与耐磨性，应用于模具时能提供良好的摩擦学性能，具有高硬度与高耐磨性，能有效延长模具使用寿命。

Claims (10)

1.一种具有多层类金刚石碳膜的模具的制作方法，其包括以下步骤：
提供一射频溅镀系统，将一基底与一金属靶材分别相对置于射频溅镀系统溅镀腔内；
开启射频溅镀系统，在一惰性气体溅镀气氛下，在该基底上溅镀一粘合层；
在一惰性气体与氮气混合溅镀气氛下，在该粘合层上溅镀一强化层；
以一碳靶材替换该金属靶材，在一惰性气体与氮气混合溅镀气氛下，控制氮气含量，在强化层上溅镀一非晶质含氮类金刚石碳层；
在一氮气、氢气或含氢气体、以及惰性气体的混合溅镀气氛下，控制氮气与氢气或含氢气体在混合气氛中的含量，在非晶质含氮类金刚石碳层上形成一非晶质含氮氢类金刚石碳层；
在一氢气或含氢气体、以及惰性气体的混合溅镀气氛下，控制氢气的含量，
在非晶质含氮氢类金刚石碳层上形成一非晶质含氢类金刚石碳层。
2.如权利要求1所述具有多层类金刚石碳膜的模具的制作方法，其特征在于，
所述射频溅镀系统是一无磁控射频溅镀腔系统或一磁控射频溅镀系统。
3.如权利要求1所述具有多层类金刚石碳膜的模具的制作方法，其特征在于，
所述射频溅镀系统是一单溅镀腔射频系统或一多溅镀腔射频系统。
4.如权利要求1所述具有多层类金刚石碳膜的模具的制作方法，其特征在于，
所述基底的材质为铁铬碳合金、铁铬钼碳合金、铁铬钒钼碳合金或铁铬钒硅钼碳合金。
5.如权利要求1所述具有多层类金刚石碳膜的模具的制作方法，其特征在于，
所述金属靶材材质为铬、钛或钛化铬。
6.如权利要求1所述具有多层类金刚石碳膜的模具的制作方法，其特征在于，
所述粘合层由铬、钛或钛化铬构成。
7.如权利要求1所述具有多层类金刚石碳膜的模具的制作方法，其特征在于，
所述强化层由氮化铬、氮化钛或氮化钛铬构成。
8.如权利要求1所述具有多层类金刚石碳膜的模具的制作方法，其特征在于，
溅镀该非晶质含氮类金刚石碳层时，溅镀腔内氮气所占混合气体体积比为2％～40％。
9.如权利要求1所述具有多层类金刚石碳膜的模具的制作方法，其特征在于，
溅镀该非晶质含氮氢类金刚石碳层时，溅镀腔内氮气所占混合气体体积比为2％～10％，氢气或含氢气体所占混合气体体积比为5％～20％。
10.如权利要求1所述具有多层类金刚石碳膜的模具的制作方法，其特征在于，
溅镀该非晶质含氢类金刚石碳层时，溅镀腔内氢气或含氢气体所占混合气体体积比为5％～20％。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101518935B (zh) * 2008-12-06 2010-12-29 舟山市汉邦机械科技有限公司 Pvd纳米复合陶瓷涂层螺杆及其制造方法
CN102453859A (zh) * 2010-10-29 2012-05-16 中国科学院兰州化学物理研究所 含氢类金刚石碳薄膜材料的制备方法
CN102560413A (zh) * 2010-12-13 2012-07-11 财团法人金属工业研究发展中心 类钻碳膜及其制作方法
CN103317793A (zh) * 2013-06-28 2013-09-25 宜昌后皇真空科技有限公司 一种类金刚石基纳米复合涂层刀具及其制备方法
CN107419228A (zh) * 2017-06-19 2017-12-01 信利光电股份有限公司 一种金属钛掺杂类金刚石薄膜及其制备方法
WO2020155732A1 (zh) * 2019-01-29 2020-08-06 苏州涂冠镀膜科技有限公司 用于注塑模具的防粘附硬质涂层及其制备方法

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI248420B (en) * 2003-04-18 2006-02-01 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Mold and method for molding optical glass products
TW200720461A (en) * 2005-11-25 2007-06-01 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Apparatus and method for manufacturing multilayer coatings on a mold
JP4948295B2 (ja) * 2007-07-06 2012-06-06 愛三工業株式会社 燃料噴射弁
JP4868052B2 (ja) * 2009-10-29 2012-02-01 トヨタ自動車株式会社 金型の表面処理方法
US20140273461A1 (en) * 2013-03-15 2014-09-18 Applied Materials, Inc. Carbon film hardmask stress reduction by hydrogen ion implantation
US10662523B2 (en) 2015-05-27 2020-05-26 John Crane Inc. Extreme durability composite diamond film
US10907264B2 (en) 2015-06-10 2021-02-02 Advanced Diamond Technologies, Inc. Extreme durability composite diamond electrodes
US11835481B2 (en) 2016-06-15 2023-12-05 Eastman Chemical Company Physical vapor deposited biosensor components
US11624723B2 (en) 2016-09-16 2023-04-11 Eastman Chemical Company Biosensor electrodes prepared by physical vapor deposition
KR102547061B1 (ko) 2016-09-16 2023-06-22 이스트만 케미칼 컴파니 물리적 증착에 의해 제조된 바이오센서 전극
US10662550B2 (en) 2016-11-03 2020-05-26 John Crane Inc. Diamond nanostructures with large surface area and method of producing the same
CN110770575A (zh) 2017-06-22 2020-02-07 伊士曼化工公司 用于电化学传感器的物理气相沉积电极
WO2020208774A1 (ja) * 2019-04-11 2020-10-15 シャープ株式会社 発光素子および表示装置
CN111850484B (zh) * 2020-07-24 2022-05-17 太原理工大学 一种制备强韧化非晶碳基多相杂化薄膜的装置及方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03130919A (ja) * 1989-07-07 1991-06-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd 磁気記録媒体
US5232570A (en) * 1991-06-28 1993-08-03 Digital Equipment Corporation Nitrogen-containing materials for wear protection and friction reduction
JPH06145975A (ja) * 1992-03-20 1994-05-27 Komag Inc 炭素フィルムをスパタリングする方法及びその製造物
FR2726579A1 (fr) * 1994-11-07 1996-05-10 Neuville Stephane Procede de depot d'un revetement protecteur de type pseudo carbonne diamant amorphe
JP3058066B2 (ja) * 1995-11-06 2000-07-04 富士電機株式会社 磁気記録媒体及びその製造方法
US6349076B1 (en) * 1998-06-24 2002-02-19 Seagate Technology Llc Magneto-optical recording medium having a protective carbon layer
JP3057077B1 (ja) * 1999-03-08 2000-06-26 シチズン時計株式会社 樹脂成形用金型および樹脂成形用金型への硬質被膜形成方法
US6475573B1 (en) 1999-05-03 2002-11-05 Guardian Industries Corp. Method of depositing DLC inclusive coating on substrate
CN1138020C (zh) * 1999-09-29 2004-02-11 永源科技股份有限公司 阴极电弧蒸镀方式淀积类金刚石碳膜的制备方法
CN1239417C (zh) * 2003-04-28 2006-02-01 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 一种用于制造光学玻璃产品的模具及该模具的制造方法
US7175926B2 (en) * 2004-02-12 2007-02-13 Seagate Technology Llc Dual-layer carbon-based protective overcoats for recording media by filtered cathodic ARC deposition

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101518935B (zh) * 2008-12-06 2010-12-29 舟山市汉邦机械科技有限公司 Pvd纳米复合陶瓷涂层螺杆及其制造方法
CN102453859A (zh) * 2010-10-29 2012-05-16 中国科学院兰州化学物理研究所 含氢类金刚石碳薄膜材料的制备方法
CN102560413A (zh) * 2010-12-13 2012-07-11 财团法人金属工业研究发展中心 类钻碳膜及其制作方法
CN102560413B (zh) * 2010-12-13 2014-06-04 财团法人金属工业研究发展中心 类钻碳膜及其制作方法
CN103317793A (zh) * 2013-06-28 2013-09-25 宜昌后皇真空科技有限公司 一种类金刚石基纳米复合涂层刀具及其制备方法
CN103317793B (zh) * 2013-06-28 2015-09-23 宜昌后皇真空科技有限公司 一种类金刚石基纳米复合涂层刀具及其制备方法
CN107419228A (zh) * 2017-06-19 2017-12-01 信利光电股份有限公司 一种金属钛掺杂类金刚石薄膜及其制备方法
CN107419228B (zh) * 2017-06-19 2019-11-22 信利光电股份有限公司 一种金属钛掺杂类金刚石薄膜及其制备方法
WO2020155732A1 (zh) * 2019-01-29 2020-08-06 苏州涂冠镀膜科技有限公司 用于注塑模具的防粘附硬质涂层及其制备方法

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