CN1838355B - 触摸板 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种触摸板，包括：第一透明衬底，在其一个表面上设置了透明导电膜；第二透明衬底，在其一个表面上设置了透明导电膜，所述第一衬底和所述第二衬底被互相平行地固定，以便所述透明导电膜互相相对；以及支撑部件，所述支撑部件插入在所述第一透明衬底与所述第二透明衬底之间，以便以预定距离相互分离；其中，在第一和第二透明衬底的至少一个的表面和相应透明导电膜之间形成四层的第一透明介质膜，在与其上形成了透明导电膜的表面相对的表面上形成了四层的第二透明介质膜。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于各种电子设备的输入设备的触摸板。
背景技术
通过使具有透明导电膜的衬底互相相对，并且衬底作为电开关的触点，当由于用笔或手指局部挤压使衬底之一弯曲时，通过使透明导电膜互相接触，来设置所谓触摸板。
图5示出了传统触摸板10的结构的示意剖面图。透明导电膜142被设置在透明衬底120的表面上。第二透明衬底122被固定，以便与第一透明衬底120平行。绝缘隔离器150在第一和第二透明衬底120、122之间插入，以在预定距离上互相分离。在与朝向第一衬底120的第二透明衬底122的表面上形成第二透明导电膜144。当钠钙玻璃(soda limeglass)被用于透明衬底时，典型地执行将SiO2膜等插入透明衬底和透明导电膜之间，以便避免碱离子的分解(未用图示出)。
当用手指或笔挤压第二透明衬底122的表面上的预定位置时，具有较小厚度的第二透明衬底122被弯曲，并且获得透明导电膜142和144之间的电接触。此时，通过在透明导电膜142上设置点隔离器170，仅在第二透明衬底142被挤压的预定位置处获得接触。另一方面，在隔离器150上形成电路图案，以便与透明导电膜142或透明导电膜144接触，并且其与柔性电路板160相连。透明导电膜142、144之间的接触或非接触状态作为信号拾取，所述信号通过柔性电路板160上的布线输出到外部电路。
在这样的触摸板中，通过透明导电膜可视地观察设置在透明衬底的外部的字母或数字的显示，并且通过挤压所需的位置来输入信号。因此，对于用于触摸板的透明导电膜，需要高的透射率 (transmittance)，以便获得高水平的可见性。
为了获得高透射率，一种选择是减少透明导电膜的厚度。然而，如果使厚度为10nm或更小，劣化了膜阻抗的稳定性和均匀性。因此，通过减少膜厚度来获得高透射率受到限制。为了解决该问题，例如，JP H07-242442A公开了通过在衬底上形成透明介质材料的高折射率层和低折射率层并且在这些层上形成透明导电膜来提高透射率。然而，依次在衬底上形成介质材料的高折射率层和低折射率层和透明导电膜的方法中，在透射率曲线中的可见范围内形成较大的峰值。因此，存在的问题是，当触摸板被用作彩色显示器时，改变了色调，因为通过触摸板中膜的层的光是有颜色的。
发明内容
做出本发明以解决上述问题。本发明的目的是提供一种触摸板，其中，获得高透射率并且通过触摸板的光的颜色是非彩色(achromatic)的，更具体地，提供一种具有高可见性的彩色显示器触摸板。
为了解决上述问题本发明提供下面的结构。本发明的触摸板设置了下面的基本结构。在其一个表面上设有透明导电膜的第一透明衬底和在其一个表面上设有透明导电膜的第二透明衬底被互相平行地固定，以便透明导电膜互相相对。当由于用笔或手指在与设置了透明导电膜的表面相对的表面上局部挤压使第一透明衬底弯曲时，第一和第二透明衬底的透明导电膜互相电接触。在预定位置处设置支撑部件，其插入在第一透明衬底与第二透明衬底之间以便以预定距离相互分离，以实现上述操作。
在这种触摸板中，在所述第一和第二透明衬底的至少一个衬底中，四层的第一透明介质膜形成在其侧面上设置了透明导电膜的衬底表面和透明导电膜之间，在与透明导电膜形成在此透明衬底中的表面相对的表面上形成四层的第二透明介质膜。
因此，在至少一个透明衬底中，通过在该透明衬底的相对表面上形成四层透明介质膜，可以提供触摸板，其中获得极高透射率以及通过触摸板的光颜色是非彩色的。具体地，可以设置具有高可见性的彩色显示器触摸板。
此外，在上述基本结构中，该透明衬底的折射率处于1.45-1.70范围内，从所述透明衬底一侧计算的第一和第二透明介质膜中第一层和第三层的折射率在1.6-2.5范围内，第二层和第四层的折射率在1.35-1.5范围内，并且所述透明导电膜的折射率在1.7-2.2范围内。第一和第二透明介质膜中的第一层和第三层的折射率被选择为高于透明衬底、第二层和第四层的折射率，以及透明导电膜的折射率被选择为高于透明介质膜中所述第四层的折射率。此外，第一和第二透明介质膜中第一层的膜厚度在7-45nm范围内，第二层的膜厚度在10-63nm范围内，第三层的膜厚度在9-125nm范围内，第四层的膜厚度在20-130nm范围内，以及透明导电膜的膜厚度在10-30nm的范围内。
更具体地，优选地对于第二透明介质膜中层的厚度，第一层的厚度在7-18nm范围内，第二层的厚度在37-63nm范围内，第三层的厚度在9-23nm范围内，以及第四层的厚度在81-130nm范围内。
此外，对于与第二透明介质膜结合的第一透明介质膜中层的厚度，优选地第一层的厚度在10-18nm范围内，第二层的厚度在21-35nm范围内，第三层的厚度在96-119nm范围内，以及第四层的厚度在33-51nm范围内。
此外，优选地对于第一透明介质膜中层的厚度，第一层的厚度在10-18nm范围内，第二层的厚度在37-56nm范围内，第三层的厚度在14-25nm范围内，以及第四层的厚度在56-85nm范围内。
换句话说，通过在衬底的一个表面上依次形成高折射率层、低折射率层、高折射率层、低折射率层和透明导电膜，以及通过在衬底的相对表面上依次形成高折射率层、低折射率层、高折射率层、低折射率层，可以设置触摸板，其中获得了高透射率并且通过触摸板的光颜色是非彩色的。
在具有前述层压膜的触摸板中，优选地根据日本工业标准(JIS A8729)所设置的L*a*b*的颜色表示系统，根据主体颜色的指示方法，针对具有2度视角、透过在相对表面上层压了所述透明介质膜的所述透明衬底的光C所推导出的色彩指数(color index)a*值和b*值处于-1至+1的范围内。
通过将色彩指数设置在上述范围内，通过触摸板的光颜色可以是非彩色的。
此外，优选地对于具有400-650nm波长范围的光，透过具有上述层压膜的透明衬底的平均透射率不低于95％。
按照上述结构，可以设置触摸板，其中，通过触摸板的光颜色是非彩色的，并且对于可视范围的光具有高平均透射率。
根据本发明，通过在衬底的相对侧上形成介质材料的层压膜，触摸板可以用具有透明导电膜的衬底构造，在所述衬底中，获得高透射率并且通过衬底的光颜色是非彩色的。因此，可以提供具有高可见性并且适用于彩色显示器的触摸板。
附图说明
图1示出了根据本发明的触摸板的示意剖面图。
图2示出了根据本发明的介质膜(dielectric film)的结构。
图3示出了根据本发明的示例具有透明导电膜的衬底的透射特性。
图4示出了根据本发明比较示例的具有透明导电膜的衬底的透射特性。
图5示出了传统触摸板的示意剖面图。
具体实施方式
此后，将详细说明本发明。
图1示出了根据本发明的触摸板10的实施例的示意剖面图。由第一四层透明介质膜和第一透明导电膜(ITO膜)组成的层压膜30被设置在由钠钙玻璃构成的第一透明衬底20的一个表面上。由四层透明介质膜组成的另外的层压膜31被设置在与衬底20的该表面相对的表面上。
同样由钠钙玻璃构成的第二透明衬底22也与衬底20平行地粘附。绝缘隔离器50被插入在第一和第二透明衬底20、22之间，以便以预定距离互相分离。透明导电膜35被设置在朝向第一透明衬底20的第二透明衬底22的表面上。换句话说，透明导电膜互相相对，因此当用 手指或笔挤压第二透明衬底22的表面上的预定位置处而透明衬底22弯曲时，可以获得透明导电膜之间的电连接。
用作支撑部件以确定或调整透露衬底20、22之间距离的隔离器50被安置在一个位置处，以便当由局部压力使衬底之一弯曲时透明衬底20、22互相接触。
同时，通过在第一透明导电膜上设置绝缘点隔离器70，可以仅在预定位置处获得透明衬底之间的接触，并且避免其他位置处的接触。
布线图案被设置在隔离器50上，以与各个透明导电膜相连，并且布线图案与柔性电路板60相连。
图2示出了根据本发明的层压膜30、31的结构的示意剖面图。
依次在透明衬底20的一个表面上层压作为第一层的高折射率透明介质膜32、作为第二层的低折射率透明介质膜34、作为第三层的高折射率透明介质膜36、作为第四层的低折射率透明介质膜38。然后，层压作为第五层的透明导电膜40。换句话说，通过交替地在透明衬底上形成高折射率透明介质膜和低折射率透明介质膜的每一个两层并且还在其上形成透明导电膜，配置了层压膜。
此外，依次在透明衬底20的相对表面上层压作为第一层的高折射率透明介质膜42、作为第二层的低折射率透明介质膜44、作为第三层的高折射率透明介质膜46、作为第四层的低折射率透明介质膜42。换句话说，通过交替地在透明衬底上形成高折射率透明介质膜和低折射率透明介质膜的每一个两层并且还在其上形成透明导电膜，配置了层压膜。
透明衬底20可以由钠钙玻璃(折射率：1.52)、折射率在1.45-1.70范围内的其他玻璃或者透明树脂材料组成。作为树脂材料，可以列出聚碳酸酯(折射率：1.59)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PolyethyleneTerephthalate；折射率：1.66)等。
作为高折射率透明介质膜，可以使用比透明衬底具有更高折射率的氧化物介质材料，例如Al2O3、TiO2、Nb2O5、TaO5等，或者包括上述物质作为主要成分的组合氧化物材料。然而，对于高折射率透明介质膜的材料不局限于上述物质。作为低折射率透明介质膜，可以使用折射率在1.35-1.50范围内的SiO2、MgF2等。然而，对于低折射率透明 介质膜的材料不局限于上述物质。作为透明导电膜，最好使用折射率在1.7-2.2范围内的材料，例如氧化铟锡(ITO)。然而，对于透明导电膜的材料不局限于上述物质。
为了形成具有不同折射率的膜，可以使用通常公知的形成方法，例如溅射、电子束蒸发(electronic beam evaporation)。此后，详细说明层压膜的特定示例。
[示例1]
在该示例中，说明通过溅射方法形成透明介质膜和透明导电膜。
首先，将三种靶Si、Ti和ITO安放在直进式溅射(inlinespattering)设备中。作为透明衬底的钠钙玻璃被安放在该设备中。然后抽空该设备。之后，混合了30％Ar气体的O2气体被引入该设备，并且在设备的内部压力为0.3Pa的条件下通过将DC电源提供给Ti靶，来执行放电。此外，放电功率被设置为2kW。
传送厚度为1.1mm的钠钙玻璃衬底，以通过靶的前面，从而形成厚度为13.1nm的TiO2膜(折射率：2.50)。
接下来，在混合了30％Ar气体的O2气体的氛围中将DC电源提供给Si靶。执行放电。放电功率是2kW。传送其上形成了TiO2膜的钠钙玻璃衬底，以通过Si靶的前面，从而形成厚度为46.3nm的SiO2膜(折射率：1.46)。
此外，传送钠钙玻璃衬底，以通过Ti靶的前面，从而形成厚度为17.8nm的TiO2膜(折射率：2.50)。
接下来，在混合了30％Ar气体的O2气体的氛围中将DC电源提供给Si靶。执行放电。放电功率是2kW。传送其上形成了TiO2膜的钠钙玻璃衬底，以通过Si靶的前面，从而形成厚度为106.0nm的SiO2膜(折射率：1.46)。
其后，翻转衬底，按照上述方式在衬底的相对表面上形成厚度为12.4nm的TiO2膜、接着厚度为28.9nm的SiO2膜、厚度为106.8nm TiO2的膜以及厚度为42.3nm的SiO2膜。
此外，在抽空设备中气体之后，将混合了2％O2气体的Ar气体引入设备中，并且将设备的内部压力调节为0.3Pa。然后，将直流电源 提供给ITO靶，以执行放电。将放电功率调节为2kW。传送形成了TiO2膜和SiO2膜的每一个两层的钠钙玻璃，以通过ITO靶的前面，从而形成厚度为20nm的ITO层(折射率：1.93)。
通过上述处理，在钠钙玻璃衬底的相对侧上形成了具有表1所示厚度的配置为TiO2/SiO2/TiO2/SiO2/ITO和TiO2/SiO2/TiO2/SiO2的层压膜。
此外，尽管在上述膜形成过程中在透明衬底的一个表面上形成了第一层压膜并随后通过翻转衬底在透明衬底的相对表面上形成了第二层压膜，本发明的膜形成过程不局限于上述过程。通过使用靶被安放在衬底两侧上的设备，可以同时在透明衬底的相对侧上形成层压膜。
针对获得的具有层压膜的衬底，测量光透射率。测量结果如图3所示。结果示出了在500-600nm波长范围内衬底具有大约97％的高透射率。此外，在450-600nm的可见光波长范围上衬底具有96.5％(参见表2)的高平均透射率。
此外，根据日本工业标准(JIS Z 8279，彩色显示方法-L*a*b*颜色表示系统和L*u*v*颜色表示系统)所提供的L*a*b*颜色表示系统，基于主体颜色的指示方法，推导出色彩指数(chromatic index)。从板的一侧照射标准光C，并且在板的另一侧上利用2度视角测量透过板的所述光。推导出的色彩指数a*值和b*值如表2所示。透射光谱示出了在可见波长范围内较小的变化和高的透射率。此外，因为a*值和b* 值较小，可以理解，该示例的层压膜具有高透射率并且通过层压膜的光颜色是非彩色的。
[示例2]
说明通过使用真空蒸发方法来形成介质多层膜的方法。
通过真空蒸发方法，在厚度为1.1nm的钠钙玻璃衬底上形成TiO2膜(膜厚度：11.4nm)，并随后形成MgF2膜(膜厚度：50.8nm，折射率：1.38)。同样地，形成TiO2膜(膜厚度：14.0nm)和MgF2膜(膜厚度：118.0nm)。
其后，翻转衬底，形成TiO2膜(膜厚度：13.7nm)，并随后形成MgF2膜(膜厚度：26.7nm，折射率：1.38)。同样地，形成TiO2膜(膜 厚度：20.0nm)以获得具有如表1所述结构的层压膜。图3示出了层压膜的透射率的测量结果，并且表2示出了平均透射率以及a*值和b* 值。可见波长范围内的平均透射率高至97.4％并且通过膜的光颜色是非彩色的。
[示例3]
通过使用如示例1中所述的溅射方法，依次在厚度为1.1mm的钠钙玻璃衬底上形成TiO2膜(膜厚度：11.6nm)、SiO2膜(膜厚度：51.2nm)、TiO2膜(膜厚度：16.2nm)以及SiO2膜(膜厚度：108.4nm)。然后，翻转衬底，依次形成TiO2膜(膜厚度：13.6nm)、SiO2膜(膜厚度：47.1nm)、TiO2膜(膜厚度：13.6nm)、SiO2膜(膜厚度：47.1nm)、TiO2膜(膜厚度：20.8nm)、SiO2膜(膜厚度：70.5nm)以及ITO膜(膜厚度：15.0nm)，以获得如表1所述的层压膜。
图3示出了层压膜的透射率测量结果，并且表2示出了平均透射率以及a*值和b*值。可见波长范围内的平均透射率高至96.3％并且通过膜的光颜色是非彩色的。
[示例4]
通过使用如示例2中所述的真空蒸发方法，依次在厚度为1.1mm的钠钙玻璃衬底上形成TiO2膜(膜厚度：10.5nm)、MgF2膜(膜厚度：52.8nm)、TiO2膜(膜厚度：13.5nm)和MgF2膜(膜厚度：118.5nm)。随后，翻转衬底，形成TiO2膜(膜厚度：13.8nm)和MgF2膜(膜厚度：46.7nm)，并且同样地，形成TiO2膜(膜厚度：19.5nm)以及MgF2膜(膜厚度：46.7nm)，以及TiO2膜(膜厚度：19.5nm)和MgF2膜(膜厚度：72.8nm)。其后形成ITO膜(膜厚度：15.0nm)，以获得如表1所述的层压膜。
图3示出了层压膜的透射率测量结果，并且表2示出了平均透射率以及a*值和b*值。可见波长范围内的平均透射率高至97.5％并且通过膜的光颜色是非彩色的。
[比较示例1]
为了与本发明的示例相比较，通过使用如示例1中所述的溅射方法，在SiO2膜上形成膜厚度为30.0nm的SiO2膜的单层和膜厚度为20.0nm的ITO膜，以获得如表1所示的层压膜。该比较示例是具有通常用于触摸板的透明导电膜的衬底的膜结构之一。
测量结果示出，与上述本发明示例相比，该比较示例的透射率较小，如图4所示。表2示出了该比较示例的平均透射率以及a*值和b* 值。平均透射率低至87.1％以及值b*较大并且通过膜的光颜色是黄色。
[比较示例2]
通过使用如示例1中所述的溅射方法，在厚度为1.1mm的钠钙玻璃衬底上形成膜厚度为100.0nm的TiO2膜和膜厚度为30.0nm的SiO2膜，并且在SiO2膜上形成膜厚度为23.0nm的ITO膜，以获得如表1所示的层压膜。通过依次形成折射率层、低折射率层和透明导电膜，如上述JP H07-242442A中所述，该示例比所述比较示例1提高了透射率。图4示出了层压膜的透射率的测量结果，并且表2示出了平均透射率以及a*值和b*值。尽管比所述比较示例1提高了透射率，通过膜的光颜色是淡黄色。
[比较示例3]
通过使用如示例1中所述的溅射方法，在厚度为1.1mm的钠钙玻璃衬底上依次形成TiO2膜(膜厚度：13.1nm)、SiO2膜(膜厚度：46.3nm)、TiO2膜(膜厚度：17.8nm)和SiO2膜(膜厚度：106.0nm)。然后，翻转衬底，依次形成TiO2膜(膜厚度：12.4nm)、SiO2膜(膜厚度：28.9nm)、TiO2膜(膜厚度：140.0nm)和SiO2膜(膜厚度：42.3nm)，和ITO膜(膜厚度：20.0nm)，以获得如表1所示的层压膜。该比较示例与本发明示例结构相似之处在于在衬底的相对侧上形成了四层介质膜。然而，与示例1相比，透明导电膜一侧上的第三层(TiO2膜)的膜厚度更厚。
图4示出了层压膜的透射率的测量结果，并且表2示出了平均透射率以及a*值和b*值。该比较示例的透射率在可见波长范围内较高。然而，透射率变化较大，示出了明显的峰值。此外，a*值的绝对值较 高，并且b*值显示为负值，因此通过膜的光颜色是淡绿色。
[所需结构的概述]
根据上述实施例，在本发明的触摸板中，在具有1.45-1.70折射率的透明衬底的相对表面上，优选地从衬底表面开始数，依次形成作为第一层的具有1.6-2.5折射率、厚度在7-45nm范围内的高折射率介质膜、作为第二层的具有1.35-1.50折射率、厚度在10-63nm范围内的低折射率介质膜、作为第三层的具有1.6-2.5折射率、厚度在9-125nm范围内的高折射率介质膜以及作为第四层的具有1.35-1.50折射率、厚度在20-130nm范围内的低折射率介质膜。
此外，在衬底的一个表面上，优选地作为第五层形成折射率在1.7-2.2范围内、膜厚度在10-30nm范围内的透明导电膜。然而，必须选择使透明衬底的折射率高于第一和第三层的折射率，并且透明导电膜的折射率高于第二和第四层的折射率。
更具体地，对于设置在没有设置透明导电膜的触摸板外侧上的透明介质膜，优选地第一层的膜厚度在7-18nm范围内，第二层的膜厚度在37-63nm范围内，第三层的膜厚度在9-23nm范围内，第四层的膜厚度在81-130nm的范围内。
此外，对于在透明导电膜侧上的透明介质膜，与示例1和2相对应，优选地第一层的膜厚度在10-18nm范围内，第二层的膜厚度在21-35nm范围内，第三层的膜厚度在96-119nm范围内，第四层的膜厚度在33-51nm的范围内，并且与示例3和4相对应，还优选地第一层的膜厚度在10-18nm范围内，第二层的膜厚度在37-56nm范围内，第三层的膜厚度在14-25nm范围内，第四层的膜厚度在56-85nm的范围内。
在本发明中，通过在衬底的相对表面上形成介质膜，通过适当地设计每一个膜的膜结构，可以校正通过衬底的光颜色。因此，可以实现通过衬底的非彩色的光颜色同时保持高透射率。
如果值落在上述范围之外，即使使用四层介质膜结构，在透射光谱中会出现峰值，并且a*值和b*值变得很高，从而可能发生膜的着色。
如果a*值和b*值在-1至+1范围内，膜结构是优选的，因为在示例 中几乎不能观察到膜的着色。
优选地对于可见光波长范围(400nm-650nm)衬底的透射率平均不低于95％。如果膜结构落在上述范围之外，不能够获得这种高透射率。
通常，在第二透明衬底22的表面和透明导电膜35之间设置一层SiO2膜。然而，可以在第二衬底22的相对表面上形成四层透明介质膜。按照这种结构，与仅在第一透明衬底侧上的表面上形成四层介质膜的情况相比，可以进一步提高透射率，并且可以进一步抑制着色。
表2
Claims (7)
1.一种触摸板，包括：
第一透明衬底，在所述第一透明衬底的一个表面上设有透明导电膜；
第二透明衬底，在所述第二透明衬底的一个表面上设有透明导电膜，所述第一衬底和所述第二衬底被互相平行地固定，以便所述透明导电膜彼此相对；以及
支撑部件，所述支撑部件插入在所述第一透明衬底与所述第二透明衬底之间，以便以预定距离相互分离；
其中，当通过将所述第一透明衬底局部地挤压在与所述第一衬底的设置所述透明导电膜的表面相对的表面上弯曲所述第一透明衬底时，使所述第一和第二透明衬底的所述透明导电膜互相接触，从而电连接；以及
其中，在所述第一和第二透明衬底的至少一个衬底中，在透明导电膜所设置的一侧的相应透明衬底的表面和所述透明导电膜之间形成四层的第一透明介质膜，在与所述相应透明衬底上形成了透明导电膜的表面相对的表面上形成四层的第二透明介质膜；以及
其中，在从所述相应透明衬底的表面数的所述第一和第二透明介质膜中的第一层和第三层的折射率被选择为高于所述透明衬底、第二层和第四层的折射率，以及所述透明导电膜的折射率被选择为高于所述第一和第二透明介质膜中第四层的折射率。
2.根据权利要求1所述的触摸板，其中，所述相应透明衬底的折射率处于1.45-1.70范围内，第一层和第三层的折射率在1.6-2.5范围内，第二层和第四层的折射率在1.35-1.5范围内，并且所述透明导电膜的折射率在1.7-2.2范围内；以及
所述第一和第二透明介质膜中所述第一层的膜厚度在7-45nm范围内，所述第二层的膜厚度在10-63nm范围内，所述第三层的膜厚度在9-125nm的范围内，所述第四层的膜厚度在20-130nm范围内，以及所述透明导电膜的膜厚度在10-30nm的范围内。
3.根据权利要求2所述触摸板，其中，在所述第二透明介质膜中，所述第一层的膜厚度在7-18nm范围内，所述第二层的膜厚度在37-63nm范围内，所述第三层的膜厚度在9-23nm的范围内，所述第四层的膜厚度在81-130nm范围内。
4.根据权利要求2所述触摸板，其中，在所述第一透明介质膜中，所述第一层的膜厚度在10-18nm范围内，所述第二层的膜厚度在21-35nm范围内，所述第三层的膜厚度在96-119nm范围内，所述第四层的膜厚度在31-51nm范围内。
5.根据权利要求2所述触摸板，其中，在所述第一透明介质膜中，所述第一层的膜厚度在10-18nm范围内，所述第二层的膜厚度在37-56nm范围内，所述第三层的膜厚度在14-25nm范围内，所述第四层的膜厚度在56-85nm范围内。
6.根据权利要求1所述触摸板，其中，根据日本工业标准JIS Z 8729所提供的L*a*b*的颜色表示系统，基于主体颜色的指示方法，针对具有2度视角、透过在其相对表面上层压了所述透明介质膜的所述透明衬底的标准光C所推导出的色彩指数a*值和b*值处于-1至+1的范围内。
7.根据权利要求6所述触摸板，其中，对于具有400-650nm波长范围的光至其相对表面上层压了所述透明介质膜的所述透明衬底的平均透射率不低于95％。
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