JPH08151235A - 透明導電膜付きガラス板及び透明タッチパネル - Google Patents
透明導電膜付きガラス板及び透明タッチパネルInfo
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- JPH08151235A JPH08151235A JP8042495A JP8042495A JPH08151235A JP H08151235 A JPH08151235 A JP H08151235A JP 8042495 A JP8042495 A JP 8042495A JP 8042495 A JP8042495 A JP 8042495A JP H08151235 A JPH08151235 A JP H08151235A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 視認性に優れた透明導電膜付きガラス板及び
透明タッチパネルを提供する。 【構成】 透明導電膜付きガラス板１は、ガラス板２上
にＳiＯ2を主成分とする薄膜からなるアンダーコート層
としての第１層３を成膜し、この第１層３上に厚みを２
０〜１４０ｎｍとしたＳnＯ2を主成分とする薄膜からな
る第２層４を、この第２層４上に厚みを２０〜９０ｎｍ
としたＳiＯ2を主成分とする薄膜からなる第３層５を、
この第３層５上に厚みを２０〜３０ｎｍとしたＳnＯ2を
主成分とする第４層６を、順次積層形成した。
透明タッチパネルを提供する。 【構成】 透明導電膜付きガラス板１は、ガラス板２上
にＳiＯ2を主成分とする薄膜からなるアンダーコート層
としての第１層３を成膜し、この第１層３上に厚みを２
０〜１４０ｎｍとしたＳnＯ2を主成分とする薄膜からな
る第２層４を、この第２層４上に厚みを２０〜９０ｎｍ
としたＳiＯ2を主成分とする薄膜からなる第３層５を、
この第３層５上に厚みを２０〜３０ｎｍとしたＳnＯ2を
主成分とする第４層６を、順次積層形成した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はディスプレイ、太陽電池
等で用いられる透明導電膜付きガラス板及び透明タッチ
パネルに関する。
等で用いられる透明導電膜付きガラス板及び透明タッチ
パネルに関する。
【０００２】
【従来の技術】透明タッチパネルは、電卓、リモコン、
電話機、コピー機、電子手帳、制御機器、携帯端末器、
ゲーム機器、教育機器等の各種機器の入力手段として用
いられる。従来、このような用途に用いられる透明導電
膜付きガラス板及び透明タッチパネルとしては、ガラス
板上に、ＳiＯ2を主成分とする薄膜からなる第１層、Ｓ
nＯ2を主成分とする透明導電膜からなる第２層を順次積
層形成した透明導電膜付きガラス板、及びこの透明導電
膜付きガラス板を第１電極板とし、透明導電性膜が設け
られた可撓性を有する透明板を第２電極板として、第１
電極板と第２電極板とを所定の空隙を設けて対向配置し
てなる透明タッチパネルが知られている。
電話機、コピー機、電子手帳、制御機器、携帯端末器、
ゲーム機器、教育機器等の各種機器の入力手段として用
いられる。従来、このような用途に用いられる透明導電
膜付きガラス板及び透明タッチパネルとしては、ガラス
板上に、ＳiＯ2を主成分とする薄膜からなる第１層、Ｓ
nＯ2を主成分とする透明導電膜からなる第２層を順次積
層形成した透明導電膜付きガラス板、及びこの透明導電
膜付きガラス板を第１電極板とし、透明導電性膜が設け
られた可撓性を有する透明板を第２電極板として、第１
電極板と第２電極板とを所定の空隙を設けて対向配置し
てなる透明タッチパネルが知られている。
【０００３】ところで、透明導電膜には、可視光透過率
が高いことと、抵抗値のリニアリティが要求される。こ
こで、抵抗値のリニアリティとは、ある起点に対して任
意の点を選択したときの二点間の抵抗値と距離の比例関
係の度合いを示すもので、通常、直線に沿って被膜のシ
ート抵抗を測定し、標準偏差を平均値で除した百分率で
評価されるものである。
が高いことと、抵抗値のリニアリティが要求される。こ
こで、抵抗値のリニアリティとは、ある起点に対して任
意の点を選択したときの二点間の抵抗値と距離の比例関
係の度合いを示すもので、通常、直線に沿って被膜のシ
ート抵抗を測定し、標準偏差を平均値で除した百分率で
評価されるものである。
【０００４】そして、透明導電膜付きガラス板やこれを
用いた透明タッチパネルには、使用される携帯端末器等
の性能向上に伴って、より高い可視光透過率、抵抗値の
リニアリティが要求されるようになっており、例えば、
可視光透過率については、波長５５０ｎｍでの透過率９
３％以上、抵抗値のリニアリティについては基板サイズ
３００×３５０で５％以内というような性能が要求され
ている。
用いた透明タッチパネルには、使用される携帯端末器等
の性能向上に伴って、より高い可視光透過率、抵抗値の
リニアリティが要求されるようになっており、例えば、
可視光透過率については、波長５５０ｎｍでの透過率９
３％以上、抵抗値のリニアリティについては基板サイズ
３００×３５０で５％以内というような性能が要求され
ている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来のガラス板上に、ＳiＯ2を主成分とする薄膜から
なる第１層、ＳnＯ2を主成分とする透明導電膜からなる
第２層を順次積層形成した透明導電膜付きガラス板にあ
っては、酸化スズ（ＳnＯ2）の光学定数によって透過率
が決まり、膜厚を選定しても、波長５５０ｎｍの透過率
Ｔ550nm として８９〜９０％が限界であって、高透過率
Ｔ550nm ＝９３％以上を得ることはできない。
た従来のガラス板上に、ＳiＯ2を主成分とする薄膜から
なる第１層、ＳnＯ2を主成分とする透明導電膜からなる
第２層を順次積層形成した透明導電膜付きガラス板にあ
っては、酸化スズ（ＳnＯ2）の光学定数によって透過率
が決まり、膜厚を選定しても、波長５５０ｎｍの透過率
Ｔ550nm として８９〜９０％が限界であって、高透過率
Ｔ550nm ＝９３％以上を得ることはできない。
【０００６】そこで、本出願人は、先に特願平６−１１
８２７７号の明細書においてガラス板上に、ＳiＯ2を主
成分とする薄膜からなる第１層、ＴiＯ2を主成分とする
第２層、ＳnＯ2を主成分とする透明導電膜からなる第３
層を順次積層形成した透明導電膜付きガラス板を提案し
ている。これによれば、波長５５０ｎｍの透過率Ｔ55
0nm ＝９２％が得られるものの、分光透過曲線に山谷が
生じるため、可視光領域でフラットな透過率Ｔを得ると
いう点では不十分である。
８２７７号の明細書においてガラス板上に、ＳiＯ2を主
成分とする薄膜からなる第１層、ＴiＯ2を主成分とする
第２層、ＳnＯ2を主成分とする透明導電膜からなる第３
層を順次積層形成した透明導電膜付きガラス板を提案し
ている。これによれば、波長５５０ｎｍの透過率Ｔ55
0nm ＝９２％が得られるものの、分光透過曲線に山谷が
生じるため、可視光領域でフラットな透過率Ｔを得ると
いう点では不十分である。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
請求項１の透明導電膜付きガラス板は、ガラス板上に、
ＳiＯ2を主成分とする薄膜からなる第１層、ＳnＯ2を主
成分とする薄膜からなる第２層、ＳiＯ2を主成分とする
薄膜からなる第３層、ＳnＯ2を主成分とする第４層を順
次積層形成し、前記第２層の厚みを２０〜１４０ｎｍ、
第３層の厚みを２０〜９０ｎｍ、第４層の厚みを２０〜
３０ｎｍとした。
請求項１の透明導電膜付きガラス板は、ガラス板上に、
ＳiＯ2を主成分とする薄膜からなる第１層、ＳnＯ2を主
成分とする薄膜からなる第２層、ＳiＯ2を主成分とする
薄膜からなる第３層、ＳnＯ2を主成分とする第４層を順
次積層形成し、前記第２層の厚みを２０〜１４０ｎｍ、
第３層の厚みを２０〜９０ｎｍ、第４層の厚みを２０〜
３０ｎｍとした。
【０００８】請求項２の透明導電膜付きガラス板は、前
記透明導電膜が形成された面と反対のガラス面に反射防
止被膜を形成し、ＪＩＳで規定されたＬ*ａ*ｂ* 表色系
による物体色の表示方法に従って２゜の視野で標準の光
Ｃにて求めたクロマティクネス指数ｂ* を−３〜＋１の
範囲とした。
記透明導電膜が形成された面と反対のガラス面に反射防
止被膜を形成し、ＪＩＳで規定されたＬ*ａ*ｂ* 表色系
による物体色の表示方法に従って２゜の視野で標準の光
Ｃにて求めたクロマティクネス指数ｂ* を−３〜＋１の
範囲とした。
【０００９】請求項３の透明タッチパネルは、請求項１
又は請求項２の透明導電膜付きガラス板を第１電極板と
し、透明導電性膜が設けられた可撓性を有する透明板を
第２電極板として、前記第１電極板と第２電極板とを所
定の空隙を設けて対向配置した。
又は請求項２の透明導電膜付きガラス板を第１電極板と
し、透明導電性膜が設けられた可撓性を有する透明板を
第２電極板として、前記第１電極板と第２電極板とを所
定の空隙を設けて対向配置した。
【００１０】
【作用】本発明の透明導電膜付きガラス板によれば、ガ
ラス板上にＳiＯ2を主成分とする薄膜からなるアンダー
コート層としての第１層を成膜し、この第１層上に厚み
を２０〜１４０ｎｍとしたＳnＯ2を主成分とする薄膜か
らなる第２層を、この第２層上に厚みを２０〜９０ｎｍ
としたＳiＯ2を主成分とする薄膜からなる第３層を、こ
の第３層上に厚みを２０〜３０ｎｍとしたＳnＯ2を主成
分とする第４層を、順次積層形成してなるので、波長５
５０ｎｍの透過率Ｔ550nm ＝９３％以上が得られ、かつ
可視光領域の透過率Ｔ＝８５％以上が得られて山谷の差
が少なくなる。
ラス板上にＳiＯ2を主成分とする薄膜からなるアンダー
コート層としての第１層を成膜し、この第１層上に厚み
を２０〜１４０ｎｍとしたＳnＯ2を主成分とする薄膜か
らなる第２層を、この第２層上に厚みを２０〜９０ｎｍ
としたＳiＯ2を主成分とする薄膜からなる第３層を、こ
の第３層上に厚みを２０〜３０ｎｍとしたＳnＯ2を主成
分とする第４層を、順次積層形成してなるので、波長５
５０ｎｍの透過率Ｔ550nm ＝９３％以上が得られ、かつ
可視光領域の透過率Ｔ＝８５％以上が得られて山谷の差
が少なくなる。
【００１１】また、透明導電膜が形成されている面と反
対のガラス面に反射防止被膜を形成し、２゜の視野で標
準の光ＣにおけるＬ*ａ*ｂ* 表色系のクロマティクネス
指数ｂ* を−３〜＋１とすることにより視認性が向上す
る。
対のガラス面に反射防止被膜を形成し、２゜の視野で標
準の光ＣにおけるＬ*ａ*ｂ* 表色系のクロマティクネス
指数ｂ* を−３〜＋１とすることにより視認性が向上す
る。
【００１２】そして、この透明導電膜付きガラス板を用
いた本発明の透明タッチパネルによれば、視認性が向上
し、カラー化にも対応することが可能になる。
いた本発明の透明タッチパネルによれば、視認性が向上
し、カラー化にも対応することが可能になる。
【００１３】
【実施例】以下に本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。図１は本発明に係る透明導電膜付きガラス板
の模式的構成図である。
説明する。図１は本発明に係る透明導電膜付きガラス板
の模式的構成図である。
【００１４】この透明導電膜付きガラス板１は、ガラス
板２上に、ＳiＯ2を主成分とする薄膜からなるアンダー
コート層としての第１層３を、この第１層３上にＳnＯ2
を主成分とする薄膜からなる第２層４を、この第２層４
上にＳiＯ2を主成分とする薄膜からなる第３層５を、こ
の第３層５上にＳnＯ2を主成分とする第４層６を順次積
層形成してなる。
板２上に、ＳiＯ2を主成分とする薄膜からなるアンダー
コート層としての第１層３を、この第１層３上にＳnＯ2
を主成分とする薄膜からなる第２層４を、この第２層４
上にＳiＯ2を主成分とする薄膜からなる第３層５を、こ
の第３層５上にＳnＯ2を主成分とする第４層６を順次積
層形成してなる。
【００１５】ここで、ガラス板２としては、フロートガ
ラスなど、従来より透明導電膜付きガラス板に用いられ
ているものであれば良く、また透明ガラスに限定される
ものではない。
ラスなど、従来より透明導電膜付きガラス板に用いられ
ているものであれば良く、また透明ガラスに限定される
ものではない。
【００１６】また、透明導電膜が形成される面と反対の
ガラス面に反射防止被膜を形成してもよい。
ガラス面に反射防止被膜を形成してもよい。
【００１７】ＳiＯ2を主成分とする薄膜からなる第１層
３は、基体に含まれるナトリウム等がＳnＯ2を主成分と
する第２層４及び第４層６内に拡散してその電気特性に
影響を及ぼすことを防止するためのものである。この第
１層３は、光学特性には影響を及ぼさないので、アンダ
ーコート層として機能するに充分な厚みであればよく、
１０〜５０ｎｍの厚みとするのが好ましく、より好まし
くは、２０〜３０ｎｍである。ＳiＯ2を主成分とする薄
膜を形成する方法としては、生産性の点からＳiＨ4（モ
ノシラン）とＯ2 （酸素）を４００〜６００℃で反応さ
せる常圧ＣＶＤ法を適用することが好ましい。また、原
料中にＰ（リン）やＢ（ホウ素）の化合物を混合し、こ
れらの元素を含むＳiＯ2を主成分とする薄膜を用いるこ
ともできる。
３は、基体に含まれるナトリウム等がＳnＯ2を主成分と
する第２層４及び第４層６内に拡散してその電気特性に
影響を及ぼすことを防止するためのものである。この第
１層３は、光学特性には影響を及ぼさないので、アンダ
ーコート層として機能するに充分な厚みであればよく、
１０〜５０ｎｍの厚みとするのが好ましく、より好まし
くは、２０〜３０ｎｍである。ＳiＯ2を主成分とする薄
膜を形成する方法としては、生産性の点からＳiＨ4（モ
ノシラン）とＯ2 （酸素）を４００〜６００℃で反応さ
せる常圧ＣＶＤ法を適用することが好ましい。また、原
料中にＰ（リン）やＢ（ホウ素）の化合物を混合し、こ
れらの元素を含むＳiＯ2を主成分とする薄膜を用いるこ
ともできる。
【００１８】ＳnＯ2を主成分とする薄膜からなる第２層
４は、透明導電膜付きガラス板の透過率を大きくするた
めに設けられるものである。ＳnＯ2を主成分とする薄膜
を形成する方法としては、生産性の点から塩素を含むス
ズ化合物と酸素を４００〜６００℃で反応させる常圧Ｃ
ＶＤ法が好適である。塩素を含むスズ化合物としては、
モノブチルスズトリクロライド（Ｃ4Ｈ9ＳnＣl3 ）や四
塩化スズ（ＳnＣl4 ）などが使用される。
４は、透明導電膜付きガラス板の透過率を大きくするた
めに設けられるものである。ＳnＯ2を主成分とする薄膜
を形成する方法としては、生産性の点から塩素を含むス
ズ化合物と酸素を４００〜６００℃で反応させる常圧Ｃ
ＶＤ法が好適である。塩素を含むスズ化合物としては、
モノブチルスズトリクロライド（Ｃ4Ｈ9ＳnＣl3 ）や四
塩化スズ（ＳnＣl4 ）などが使用される。
【００１９】このＳnＯ2を主成分とする薄膜からなる第
２層４の厚みは、２０〜１４０ｎｍとするのが好まし
く、より好ましくは３０〜１１０ｎｍである。膜厚が２
０ｎｍより薄い場合には長波長域の透過率が低下し、１
４０ｎｍより厚い場合には短波長域の透過率が低下す
る。また、この第２層４のシート抵抗値はピンホール等
の影響があり、リークしたときのことを考慮すると、高
抵抗が望ましく、例えば１０ｋΩ／□以上が好ましい。
高抵抗化は、アルミニウム（Ａl ）やインジウム（Ｉn
）などの３価の金属元素をドープすることによって行
うことができる。
２層４の厚みは、２０〜１４０ｎｍとするのが好まし
く、より好ましくは３０〜１１０ｎｍである。膜厚が２
０ｎｍより薄い場合には長波長域の透過率が低下し、１
４０ｎｍより厚い場合には短波長域の透過率が低下す
る。また、この第２層４のシート抵抗値はピンホール等
の影響があり、リークしたときのことを考慮すると、高
抵抗が望ましく、例えば１０ｋΩ／□以上が好ましい。
高抵抗化は、アルミニウム（Ａl ）やインジウム（Ｉn
）などの３価の金属元素をドープすることによって行
うことができる。
【００２０】ＳiＯ2を主成分とする薄膜からなる第３層
５は、透明導電膜付きガラス板の透過率を大きくするた
めに設けられるものであり、第１層３と同様にして形成
される。この第３層５の厚みは、２０〜９０ｎｍとする
のが好ましく、より好ましくは３０〜８０ｎｍである。
膜厚が３０ｎｍより薄い場合には長波長域の透過率が低
下し、８０ｎｍより厚い場合には短波長域の透過率が低
下する。
５は、透明導電膜付きガラス板の透過率を大きくするた
めに設けられるものであり、第１層３と同様にして形成
される。この第３層５の厚みは、２０〜９０ｎｍとする
のが好ましく、より好ましくは３０〜８０ｎｍである。
膜厚が３０ｎｍより薄い場合には長波長域の透過率が低
下し、８０ｎｍより厚い場合には短波長域の透過率が低
下する。
【００２１】ＳnＯ2を主成分とする薄膜からなる第４層
６は、本発明による透明導電膜付きガラスに導電性を付
与するために設けられるものである。第４層６は第２層
４と同様にして形成されるが、導電性を調整するために
原料ガス中にＨＦやＣＦ3Ｂｒなどのフッ素を含む化合
物、あるいは五塩化アンチモンなどのアンチモンを含む
化合物を混合し、被膜中にフッ素やアンチモンを添加し
てもよい。この第４層６の厚みは、２０〜３０ｎｍとす
るのが好ましく、より好ましくは２０〜２５ｎｍであ
る。膜厚が２０ｎｍより薄い場合には抵抗値のリニアリ
ティが５％を越えてしまい、２５ｎｍより厚い場合には
透過率が低下する。
６は、本発明による透明導電膜付きガラスに導電性を付
与するために設けられるものである。第４層６は第２層
４と同様にして形成されるが、導電性を調整するために
原料ガス中にＨＦやＣＦ3Ｂｒなどのフッ素を含む化合
物、あるいは五塩化アンチモンなどのアンチモンを含む
化合物を混合し、被膜中にフッ素やアンチモンを添加し
てもよい。この第４層６の厚みは、２０〜３０ｎｍとす
るのが好ましく、より好ましくは２０〜２５ｎｍであ
る。膜厚が２０ｎｍより薄い場合には抵抗値のリニアリ
ティが５％を越えてしまい、２５ｎｍより厚い場合には
透過率が低下する。
【００２２】このように、透明導電膜付きガラス板１
は、ガラス板２上にＳｉＯ2を主成分とする薄膜からな
るアンダーコート層としての第１層３を成膜し、この第
１層３上に厚みを２０〜１４０ｎｍとしたＳnＯ2を主成
分とする薄膜からなる第２層４を、この第２層４上に厚
みを２０〜９０ｎｍとしたＳiＯ2を主成分とする薄膜か
らなる第３層５を、この第３層５上に厚みを２０〜３０
ｎｍとしたＳnＯ2を主成分とする第４層６を、順次積層
形成してなるので、可視光領域で高透過率が得られる。
は、ガラス板２上にＳｉＯ2を主成分とする薄膜からな
るアンダーコート層としての第１層３を成膜し、この第
１層３上に厚みを２０〜１４０ｎｍとしたＳnＯ2を主成
分とする薄膜からなる第２層４を、この第２層４上に厚
みを２０〜９０ｎｍとしたＳiＯ2を主成分とする薄膜か
らなる第３層５を、この第３層５上に厚みを２０〜３０
ｎｍとしたＳnＯ2を主成分とする第４層６を、順次積層
形成してなるので、可視光領域で高透過率が得られる。
【００２３】透明導電膜が形成される面と反対のガラス
面に反射防止被膜を形成した場合、可視光領域での透過
率が向上する。しかし、文字が印刷された白紙上に透明
導電膜付きガラスを置き、ガラスを通して文字を観察す
ると透過の色合いによって品位が異なる。透過の色合い
を表現する手段としては『Ｌ*ａ*ｂ* 表色系及びＬ*ｕ*
ｖ*表色系による物体色の表示方法ＪＩＳ Ｚ ８７２
９』が適している。特に、２゜の視野で標準の光Ｃにお
けるクロマティクネス指数ｂ* と視認性の間には強い相
関が認められ、クロマティクネス指数ｂ* が＋１を越え
ると透過色が強い黄色味を帯びて視認性が低下し、−３
未満では青黒味を帯びて視認性が低下する。
面に反射防止被膜を形成した場合、可視光領域での透過
率が向上する。しかし、文字が印刷された白紙上に透明
導電膜付きガラスを置き、ガラスを通して文字を観察す
ると透過の色合いによって品位が異なる。透過の色合い
を表現する手段としては『Ｌ*ａ*ｂ* 表色系及びＬ*ｕ*
ｖ*表色系による物体色の表示方法ＪＩＳ Ｚ ８７２
９』が適している。特に、２゜の視野で標準の光Ｃにお
けるクロマティクネス指数ｂ* と視認性の間には強い相
関が認められ、クロマティクネス指数ｂ* が＋１を越え
ると透過色が強い黄色味を帯びて視認性が低下し、−３
未満では青黒味を帯びて視認性が低下する。
【００２４】次に、本発明の透明導電膜付きガラス板１
の具体的実施例について説明する。 実施例１ 大きさが３００ｍｍ×３２０ｍｍ、厚みが１．１ｍｍの
波長５５０ｎｍにおける透過率が９２％のフロートガラ
スを洗浄、乾燥してガラス板（基板）とした。この基板
を４５０℃に加熱し、基板表面にＳiＨ4（モノシラ
ン）、Ｎ2 （窒素），Ｏ2 （酸素）の調整されたガスを
供給して、厚みが３０ｎｍのＳiＯ2を主成分とする第１
層を成膜した。その後、基板を５００℃に加熱し、Ｃ4
Ｈ9ＳnＣl3 の蒸気、Ｎ2 、Ｏ2 及び水蒸気の調整され
たガスを供給して、第１層の膜表面に厚みが１２０ｎｍ
のＳnＯ2を主成分とする第２層を成膜した。そして、第
２層上に、上記と同様にして、厚みが３０ｎｍのＳiＯ2
を主成分とする第３層を成膜し、次いで厚みが３０ｎｍ
のＳnＯ2を主成分とする第４層を成膜した。
の具体的実施例について説明する。 実施例１ 大きさが３００ｍｍ×３２０ｍｍ、厚みが１．１ｍｍの
波長５５０ｎｍにおける透過率が９２％のフロートガラ
スを洗浄、乾燥してガラス板（基板）とした。この基板
を４５０℃に加熱し、基板表面にＳiＨ4（モノシラ
ン）、Ｎ2 （窒素），Ｏ2 （酸素）の調整されたガスを
供給して、厚みが３０ｎｍのＳiＯ2を主成分とする第１
層を成膜した。その後、基板を５００℃に加熱し、Ｃ4
Ｈ9ＳnＣl3 の蒸気、Ｎ2 、Ｏ2 及び水蒸気の調整され
たガスを供給して、第１層の膜表面に厚みが１２０ｎｍ
のＳnＯ2を主成分とする第２層を成膜した。そして、第
２層上に、上記と同様にして、厚みが３０ｎｍのＳiＯ2
を主成分とする第３層を成膜し、次いで厚みが３０ｎｍ
のＳnＯ2を主成分とする第４層を成膜した。
【００２５】このようにして得られた積層構造の透明導
電膜付きガラス板を徐冷し、試料とし、この試料の可視
光透過率を分光光度計により測定した。この測定結果を
図２に実線で示している。同図から分るように、波長５
５０ｎｍでの透過率Ｔ550nmが９４％で、可視光領域で
の最小透過率Ｔmin ＝８５％が得られた。また、試料の
中央を通り長辺に平行な直線を１１等分した１０点での
シート抵抗を測定してリニアリティを評価したところ、
抵抗値のリニアリティは２％であった。
電膜付きガラス板を徐冷し、試料とし、この試料の可視
光透過率を分光光度計により測定した。この測定結果を
図２に実線で示している。同図から分るように、波長５
５０ｎｍでの透過率Ｔ550nmが９４％で、可視光領域で
の最小透過率Ｔmin ＝８５％が得られた。また、試料の
中央を通り長辺に平行な直線を１１等分した１０点での
シート抵抗を測定してリニアリティを評価したところ、
抵抗値のリニアリティは２％であった。
【００２６】実施例２ 実施例１の第２層４のＳnＯ2薄膜の厚みを１３０ｎｍに
した以外は、第１実施例と同様である。この試料につい
ては、波長５５０ｎｍでの透過率Ｔ550nm が９３％で、
可視光領域での最小透過率Ｔmin ＝８５％が得られ、抵
抗値のリニアリティは２％であった。
した以外は、第１実施例と同様である。この試料につい
ては、波長５５０ｎｍでの透過率Ｔ550nm が９３％で、
可視光領域での最小透過率Ｔmin ＝８５％が得られ、抵
抗値のリニアリティは２％であった。
【００２７】実施例３ 実施例１の第２層４のＳnＯ2薄膜の厚みを１４０ｎｍに
した以外は、第１実施例と同様である。この試料につい
ては、波長５５０ｎｍでの透過率Ｔ550nm が９３％で、
可視光領域での最小透過率Ｔmin ＝８６％が得られ、抵
抗値のリニアリティは３％であった。
した以外は、第１実施例と同様である。この試料につい
ては、波長５５０ｎｍでの透過率Ｔ550nm が９３％で、
可視光領域での最小透過率Ｔmin ＝８６％が得られ、抵
抗値のリニアリティは３％であった。
【００２８】実施例４ 大きさが３００ｍｍ×３２０ｍｍ、厚みが１．１ｍｍの
波長５５０ｎｍにおける透過率が９２％のフロートガラ
スを洗浄、乾燥してガラス板（基板）とした。この基板
の一方の表面をマスクした後、０．０５ｍｏｌのホウ酸
および０．００８ｍｏｌのフッ化カリウムを添加した濃
度１．２５ｍｏｌ／ｌのケイフッ化水素酸のシリカ飽和
水溶液（５リットル）に２時間浸漬し、取り出してマス
クを除去し、洗浄、乾燥することにより、基板の他方の
表面に反射防止被膜を形成した。ついでこの基板を４５
０℃に加熱し、基板の一方の表面にＳiＨ4（モノシラ
ン）、Ｎ2 （窒素）、Ｏ2 （酸素）の調整されたガスを
供給して、厚みが３０ｎｍのＳiＯ2 を主成分とする第
１層を成膜した。その後、基板を５００℃に加熱し、Ｃ
4Ｈ9ＳnＣl3の蒸気、Ｎ2 、Ｏ2 及び水蒸気の調整され
たガスを供給して、第１層の膜表面に厚みが９２ｎｍの
ＳnＯ2を主成分とする第２層を成膜した。そして、第２
層上に、上記と同様にして、厚みが２５ｎｍのＳiＯ2を
主成分とする第３層を成膜し、次いで厚みが２５ｎｍの
ＳnＯ2を主成分とする第４層を成膜した。この試料につ
いては、波長５５０ｎｍでの透過率Ｔ550nm が９３％
で、可視光領域での最小透過率Ｔmin ＝８５％が得ら
れ、抵抗値のリニアリティは３％であった。また、この
試料の分光透過率特性から、ＪＩＳ Ｚ ８７２９に従
い、２゜の視野で標準の光ＣにおけるＬ*ａ*ｂ* 表色系
のクロマティクネス指数ｂ* を算出したところ、ｂ* は
−１であった。
波長５５０ｎｍにおける透過率が９２％のフロートガラ
スを洗浄、乾燥してガラス板（基板）とした。この基板
の一方の表面をマスクした後、０．０５ｍｏｌのホウ酸
および０．００８ｍｏｌのフッ化カリウムを添加した濃
度１．２５ｍｏｌ／ｌのケイフッ化水素酸のシリカ飽和
水溶液（５リットル）に２時間浸漬し、取り出してマス
クを除去し、洗浄、乾燥することにより、基板の他方の
表面に反射防止被膜を形成した。ついでこの基板を４５
０℃に加熱し、基板の一方の表面にＳiＨ4（モノシラ
ン）、Ｎ2 （窒素）、Ｏ2 （酸素）の調整されたガスを
供給して、厚みが３０ｎｍのＳiＯ2 を主成分とする第
１層を成膜した。その後、基板を５００℃に加熱し、Ｃ
4Ｈ9ＳnＣl3の蒸気、Ｎ2 、Ｏ2 及び水蒸気の調整され
たガスを供給して、第１層の膜表面に厚みが９２ｎｍの
ＳnＯ2を主成分とする第２層を成膜した。そして、第２
層上に、上記と同様にして、厚みが２５ｎｍのＳiＯ2を
主成分とする第３層を成膜し、次いで厚みが２５ｎｍの
ＳnＯ2を主成分とする第４層を成膜した。この試料につ
いては、波長５５０ｎｍでの透過率Ｔ550nm が９３％
で、可視光領域での最小透過率Ｔmin ＝８５％が得ら
れ、抵抗値のリニアリティは３％であった。また、この
試料の分光透過率特性から、ＪＩＳ Ｚ ８７２９に従
い、２゜の視野で標準の光ＣにおけるＬ*ａ*ｂ* 表色系
のクロマティクネス指数ｂ* を算出したところ、ｂ* は
−１であった。
【００２９】実施例５ 実施例４の第２層４のＳnＯ2薄膜の厚みを８５ｎｍにし
た以外は、第４実施例と同様である。この試料について
は、波長５５０ｎｍでの透過率Ｔ550nm が９３％で、可
視光領域での最小透過率Ｔmin ＝８５％が得られ、抵抗
値のリニアリティは３％であった。また、ｂ* は−３で
あった。
た以外は、第４実施例と同様である。この試料について
は、波長５５０ｎｍでの透過率Ｔ550nm が９３％で、可
視光領域での最小透過率Ｔmin ＝８５％が得られ、抵抗
値のリニアリティは３％であった。また、ｂ* は−３で
あった。
【００３０】実施例６ 実施例４の第２層４のＳnＯ2薄膜の厚みを１００ｎｍに
した以外は、第４実施例と同様である。この試料につい
ては、波長５５０ｎｍでの透過率Ｔ550nm が９７％で、
可視光領域での最小透過率Ｔmin ＝８６％が得られ、抵
抗値のリニアリティは３％であった。また、ｂ* は＋１
であった。
した以外は、第４実施例と同様である。この試料につい
ては、波長５５０ｎｍでの透過率Ｔ550nm が９７％で、
可視光領域での最小透過率Ｔmin ＝８６％が得られ、抵
抗値のリニアリティは３％であった。また、ｂ* は＋１
であった。
【００３１】比較例１ 大きさが３００ｍｍ×３２０ｍｍ、厚みが１．１ｍｍの
波長５５０ｎｍにおける透過率が９２％のフロートガラ
スを洗浄、乾燥してガラス板（基板）とした。この基板
を４５０℃に加熱し、基板表面にＳiＨ4（モノシラ
ン）、Ｎ2 （窒素），Ｏ2 （酸素）の調整されたガスを
供給して、厚みが２５ｎｍのＳiＯ2を主成分とする第１
層を成膜した。その後、基板を５００℃に加熱し、Ｃ4
Ｈ9ＳnＣl3 の蒸気、Ｎ2 、Ｏ2 及びＨＦの蒸気及び水
蒸気の調整されたガスを供給して、第１層の膜表面に厚
みが２５ｎｍのフッ素を含むＳnＯ2を主成分とする第２
層を成膜した。
波長５５０ｎｍにおける透過率が９２％のフロートガラ
スを洗浄、乾燥してガラス板（基板）とした。この基板
を４５０℃に加熱し、基板表面にＳiＨ4（モノシラ
ン）、Ｎ2 （窒素），Ｏ2 （酸素）の調整されたガスを
供給して、厚みが２５ｎｍのＳiＯ2を主成分とする第１
層を成膜した。その後、基板を５００℃に加熱し、Ｃ4
Ｈ9ＳnＣl3 の蒸気、Ｎ2 、Ｏ2 及びＨＦの蒸気及び水
蒸気の調整されたガスを供給して、第１層の膜表面に厚
みが２５ｎｍのフッ素を含むＳnＯ2を主成分とする第２
層を成膜した。
【００３２】このようにして得られた積層構造の透明導
電膜付きガラス板を徐冷し、試料とし、この試料の可視
光透過率を分光光度計により測定した。この測定結果を
図２に破線で示している。同図から分るように、波長５
５０ｎｍでの透過率Ｔ550nmは９０％で、また抵抗値の
リニアリティは４％であった。
電膜付きガラス板を徐冷し、試料とし、この試料の可視
光透過率を分光光度計により測定した。この測定結果を
図２に破線で示している。同図から分るように、波長５
５０ｎｍでの透過率Ｔ550nmは９０％で、また抵抗値の
リニアリティは４％であった。
【００３３】比較例２ 大きさが３００ｍｍ×３２０ｍｍ、厚みが１．１ｍｍの
波長５５０ｎｍにおける透過率が９２％のフロートガラ
スを洗浄、乾燥してガラス板（基板）とした。この基板
を４５０℃に加熱し、基板表面にＳiＨ4（モノシラ
ン）、Ｎ2 （窒素）、Ｏ2 （酸素）の調整されたガスを
供給して、厚みが３０ｎｍのＳiＯ2を主成分とする第１
層を成膜した。その後、基板を５００℃に加熱し、Ｔi
［ＯＣＨ（ＣＨ3）2］4 の蒸気、Ｎ2 、Ｏ2 の調整され
たガスを供給して、第１層の膜表面に厚みが１１０ｎｍ
のＴiＯ2を主成分とする第２層を成膜した。次に、基板
を５００℃に保ったまま、Ｃ4Ｈ9ＳnＣl3 の蒸気、Ｎ
2 、Ｏ2 及び水蒸気の調整されたガスを供給して、第２
層の膜表面に厚みが６０ｎｍのＳnＯ2を主成分とする第
３層を成膜した。
波長５５０ｎｍにおける透過率が９２％のフロートガラ
スを洗浄、乾燥してガラス板（基板）とした。この基板
を４５０℃に加熱し、基板表面にＳiＨ4（モノシラ
ン）、Ｎ2 （窒素）、Ｏ2 （酸素）の調整されたガスを
供給して、厚みが３０ｎｍのＳiＯ2を主成分とする第１
層を成膜した。その後、基板を５００℃に加熱し、Ｔi
［ＯＣＨ（ＣＨ3）2］4 の蒸気、Ｎ2 、Ｏ2 の調整され
たガスを供給して、第１層の膜表面に厚みが１１０ｎｍ
のＴiＯ2を主成分とする第２層を成膜した。次に、基板
を５００℃に保ったまま、Ｃ4Ｈ9ＳnＣl3 の蒸気、Ｎ
2 、Ｏ2 及び水蒸気の調整されたガスを供給して、第２
層の膜表面に厚みが６０ｎｍのＳnＯ2を主成分とする第
３層を成膜した。
【００３４】このようにして得られた積層構造の透明導
電膜付きガラス板を徐冷し、試料とし、この試料の可視
光透過率を分光光度計により測定した。この測定結果を
図２に仮想線で示している。同図から分るように、波長
５５０ｎｍでの透過率Ｔ550n m は９１％で、また抵抗値
のリニアリティは３％であったが、可視光領域での最小
透過率Ｔmin ＝７０％であった。
電膜付きガラス板を徐冷し、試料とし、この試料の可視
光透過率を分光光度計により測定した。この測定結果を
図２に仮想線で示している。同図から分るように、波長
５５０ｎｍでの透過率Ｔ550n m は９１％で、また抵抗値
のリニアリティは３％であったが、可視光領域での最小
透過率Ｔmin ＝７０％であった。
【００３５】比較例３ 実施例１の第２層のＳnＯ2薄膜の厚みを１１０ｎｍと
し、第４層の厚みを５０ｎｍにした以外は、第１実施例
と同様である。この試料については、波長５５０ｎｍで
の透過率Ｔ550nm が９３％で、抵抗値のリニアリティは
１％であったが、可視光領域での最小透過率Ｔmin ＝７
４％であった。
し、第４層の厚みを５０ｎｍにした以外は、第１実施例
と同様である。この試料については、波長５５０ｎｍで
の透過率Ｔ550nm が９３％で、抵抗値のリニアリティは
１％であったが、可視光領域での最小透過率Ｔmin ＝７
４％であった。
【００３６】比較例４ 実施例１の第２層のＳnＯ2薄膜の厚みを１００ｎｍと
し、第４層の厚みを５０ｎｍにした以外は、第１実施例
と同様である。この試料については、波長５５０ｎｍで
の透過率Ｔ550nm が９２％で、抵抗値のリニアリティは
２％であったが、可視光領域での最小透過率Ｔmin ＝７
５％であった。
し、第４層の厚みを５０ｎｍにした以外は、第１実施例
と同様である。この試料については、波長５５０ｎｍで
の透過率Ｔ550nm が９２％で、抵抗値のリニアリティは
２％であったが、可視光領域での最小透過率Ｔmin ＝７
５％であった。
【００３７】比較例５ 実施例１の第２層のＳnＯ2薄膜の厚みを１２０ｎｍと
し、第４層の厚みを５０ｎｍにした以外は、第１実施例
と同様である。この試料については、波長５５０ｎｍで
の透過率Ｔ550nm が９１％で、抵抗値のリニアリティは
１％であったが、可視光領域での最小透過率Ｔmin ＝７
７％であった。
し、第４層の厚みを５０ｎｍにした以外は、第１実施例
と同様である。この試料については、波長５５０ｎｍで
の透過率Ｔ550nm が９１％で、抵抗値のリニアリティは
１％であったが、可視光領域での最小透過率Ｔmin ＝７
７％であった。
【００３８】比較例６ 実施例４の第４層６のＳnＯ2薄膜の厚みを８０ｎｍにし
た以外は、第４実施例と同様である。この試料について
は、波長５５０ｎｍでの透過率Ｔ550nm が９２％で、可
視光領域での最小透過率Ｔmin ＝８３％が得られ、抵抗
値のリニアリティは３％であった。また、ｂ* は−４で
あった。
た以外は、第４実施例と同様である。この試料について
は、波長５５０ｎｍでの透過率Ｔ550nm が９２％で、可
視光領域での最小透過率Ｔmin ＝８３％が得られ、抵抗
値のリニアリティは３％であった。また、ｂ* は−４で
あった。
【００３９】比較例７ 実施例４の第４層６のＳnＯ2薄膜の厚みを１１０ｎｍに
した以外は、第４実施例と同様である。この試料につい
ては、波長５５０ｎｍでの透過率Ｔ550nm が９８％で、
可視光領域での最小透過率Ｔmin ＝８６％が得られ、抵
抗値のリニアリティは３％であったが、ｂ* は＋２であ
った。
した以外は、第４実施例と同様である。この試料につい
ては、波長５５０ｎｍでの透過率Ｔ550nm が９８％で、
可視光領域での最小透過率Ｔmin ＝８６％が得られ、抵
抗値のリニアリティは３％であったが、ｂ* は＋２であ
った。
【００４０】このように、実施例１〜３においては、波
長５５０ｎｍでの透過率Ｔ550nm が９３％以上で、かつ
可視光領域での透過率Ｔ＝８５％以上が得られ、抵抗値
のリニアリティも５％以下が得られるが、比較例１〜５
においては、波長５５０ｎｍでの透過率Ｔ550nm が９３
％以上が得られない（比較例１，２，４，５）、あるい
は可視光領域での透過率Ｔ＝８５％以上が得られない
（比較例２，３〜５）。
長５５０ｎｍでの透過率Ｔ550nm が９３％以上で、かつ
可視光領域での透過率Ｔ＝８５％以上が得られ、抵抗値
のリニアリティも５％以下が得られるが、比較例１〜５
においては、波長５５０ｎｍでの透過率Ｔ550nm が９３
％以上が得られない（比較例１，２，４，５）、あるい
は可視光領域での透過率Ｔ＝８５％以上が得られない
（比較例２，３〜５）。
【００４１】実施例４〜６においては、波長５５０ｎｍ
での透過率Ｔ550nm が９３％以上で、かつ可視光領域で
の透過率Ｔ＝８５％以上が得られ、抵抗値のリニアリテ
ィも５％以下で、かつｂ* が−３〜＋１となし得るが、
比較例６においては、波長５５０ｎｍでの透過率Ｔ
550nm が９３％以上が得られず、可視光領域での透過率
Ｔ＝８５％以上も得られない。また比較例７においては
波長５５０ｎｍでの透過率Ｔ550nm が９３％以上が得ら
れ、可視光領域での透過率Ｔ＝８５％以上も得られる
が、透過色の黄色味が強く実施例４よりも視認性で劣っ
た。
での透過率Ｔ550nm が９３％以上で、かつ可視光領域で
の透過率Ｔ＝８５％以上が得られ、抵抗値のリニアリテ
ィも５％以下で、かつｂ* が−３〜＋１となし得るが、
比較例６においては、波長５５０ｎｍでの透過率Ｔ
550nm が９３％以上が得られず、可視光領域での透過率
Ｔ＝８５％以上も得られない。また比較例７においては
波長５５０ｎｍでの透過率Ｔ550nm が９３％以上が得ら
れ、可視光領域での透過率Ｔ＝８５％以上も得られる
が、透過色の黄色味が強く実施例４よりも視認性で劣っ
た。
【００４２】次に、上記の透明導電膜付きガラス板１を
用いた透明タッチパネルについて図３を参照して説明す
る。この透明タッチパネル１１は、同図（ａ）に示すよ
うに、ＬＣＤ１２上に、透明導電膜付きガラス板を第１
電極板１３とし、透明導電性膜が設けられた可撓性を有
する透明板を第２電極板１４として、第１電極板１３と
第２電極板１４とを間隙形成部材であるスペーサ１５を
介して所定の間隙、例えば約１００μｍを置いて対向配
置してなる。
用いた透明タッチパネルについて図３を参照して説明す
る。この透明タッチパネル１１は、同図（ａ）に示すよ
うに、ＬＣＤ１２上に、透明導電膜付きガラス板を第１
電極板１３とし、透明導電性膜が設けられた可撓性を有
する透明板を第２電極板１４として、第１電極板１３と
第２電極板１４とを間隙形成部材であるスペーサ１５を
介して所定の間隙、例えば約１００μｍを置いて対向配
置してなる。
【００４３】ここで、第１電極板１３は上記の透明導電
膜付きガラス板１の透明導電膜１６をストライプ状にパ
ターニングしてなり、透明導電膜１６を第２電極板１４
側に向けて配置している。また、第２電極板１４はＰＥ
Ｔフィルム１７の一方の面にストライプ状にパターニン
グしたＩＴＯ透明導電膜１８を形成し、他方の面にハー
ドコート膜１９を形成してなり、ＩＴＯ透明導電膜１８
を第１電極板１３側に向けて、かつストライプの方向が
透明導電膜１６と直交するように配置している。なお、
透明タッチパネルの構成はこれに限るものではない。
膜付きガラス板１の透明導電膜１６をストライプ状にパ
ターニングしてなり、透明導電膜１６を第２電極板１４
側に向けて配置している。また、第２電極板１４はＰＥ
Ｔフィルム１７の一方の面にストライプ状にパターニン
グしたＩＴＯ透明導電膜１８を形成し、他方の面にハー
ドコート膜１９を形成してなり、ＩＴＯ透明導電膜１８
を第１電極板１３側に向けて、かつストライプの方向が
透明導電膜１６と直交するように配置している。なお、
透明タッチパネルの構成はこれに限るものではない。
【００４４】このタッチパネル１１においては、例えば
第１電極板１３に電圧をかけた状態で、同図（ｂ）に示
すように指で押圧することによって、その位置で第１，
第２電極板１３，１４が短絡されて電圧が変化するので
位置を検出できる。したがって、ＬＣＤ１２の表示セル
と重ね合わせることによって視認性の良い表示素子が得
られる。
第１電極板１３に電圧をかけた状態で、同図（ｂ）に示
すように指で押圧することによって、その位置で第１，
第２電極板１３，１４が短絡されて電圧が変化するので
位置を検出できる。したがって、ＬＣＤ１２の表示セル
と重ね合わせることによって視認性の良い表示素子が得
られる。
【００４５】
【発明の効果】以上に説明したように本発明の透明導電
膜付きガラス板によれば、ガラス板上にＳiＯ2を主成分
とする薄膜からなるアンダーコート層としての第１層を
成膜し、この第１層上に厚みを２０〜１４０ｎｍとした
ＳnＯ2を主成分とする薄膜からなる第２層を、この第２
層上に厚みを２０〜９０ｎｍとしたＳiＯ2を主成分とす
る薄膜からなる第３層を、この第３層上に厚みを２０〜
３０ｎｍとしたＳnＯ2を主成分とする第４層を、順次積
層形成したので、波長５５０ｎｍの透過率Ｔ550n m ＝９
３％以上が得られ、かつ可視光領域の透過率Ｔ＝８５％
以上が得られて山谷の差が少なくなる。
膜付きガラス板によれば、ガラス板上にＳiＯ2を主成分
とする薄膜からなるアンダーコート層としての第１層を
成膜し、この第１層上に厚みを２０〜１４０ｎｍとした
ＳnＯ2を主成分とする薄膜からなる第２層を、この第２
層上に厚みを２０〜９０ｎｍとしたＳiＯ2を主成分とす
る薄膜からなる第３層を、この第３層上に厚みを２０〜
３０ｎｍとしたＳnＯ2を主成分とする第４層を、順次積
層形成したので、波長５５０ｎｍの透過率Ｔ550n m ＝９
３％以上が得られ、かつ可視光領域の透過率Ｔ＝８５％
以上が得られて山谷の差が少なくなる。
【００４６】また、透明導電膜が形成されている面と反
対のガラス面に反射防止被膜を形成し、２゜の視野で標
準の光ＣにおけるＬ*ａ*ｂ* 表色系のクロマティクネス
指数ｂ* を−３〜＋１とすることにより視認性が向上す
る。
対のガラス面に反射防止被膜を形成し、２゜の視野で標
準の光ＣにおけるＬ*ａ*ｂ* 表色系のクロマティクネス
指数ｂ* を−３〜＋１とすることにより視認性が向上す
る。
【００４７】そして、この透明導電膜付きガラス板を用
いた本発明の透明タッチパネルによれば、視認性が向上
し、カラー化にも対応することが可能になる。
いた本発明の透明タッチパネルによれば、視認性が向上
し、カラー化にも対応することが可能になる。
【図１】本発明に係る透明導電膜付きガラス板の模式的
構成図
構成図
【図２】本発明の一実施例及び比較例の可視光透過特性
を示す線図
を示す線図
【図３】本発明に係る透明タッチパネルの模式的構成図
１…透明導電膜付きガラス板、２…ガラス板、３…第１
層、４…第２層、５…第３層、６…第４層、１１…透明
タッチパネル、１２…ＬＣＤ、１３…第１電極板、１４
…第２電極板、１５…スペーサ、１６…透明導電膜、１
７…ＰＥＴフィルム、１８…ＩＴＯ透明導電膜。
層、４…第２層、５…第３層、６…第４層、１１…透明
タッチパネル、１２…ＬＣＤ、１３…第１電極板、１４
…第２電極板、１５…スペーサ、１６…透明導電膜、１
７…ＰＥＴフィルム、１８…ＩＴＯ透明導電膜。
Claims (3)
- 【請求項１】 ガラス板上に、ＳiＯ2を主成分とする薄
膜からなる第１層、ＳnＯ2を主成分とする薄膜からなる
第２層、ＳiＯ2を主成分とする薄膜からなる第３層、Ｓ
nＯ2を主成分とする第４層を順次積層形成し、前記第２
層の厚みを２０〜１４０ｎｍ、第３層の厚みを２０〜９
０ｎｍ、第４層の厚みを２０〜３０ｎｍとしたことを特
徴とする透明導電膜付きガラス板。 - 【請求項２】 前記透明導電膜が形成された面と反対の
ガラス面に反射防止被膜を形成し、ＪＩＳで規定された
Ｌ*ａ*ｂ* 表色系による物体色の表示方法に従って２゜
の視野で標準の光Ｃにて求めたクロマティクネス指数ｂ
* を−３〜＋１の範囲としたことを特徴とする請求項１
記載の透明導電膜付きガラス板。 - 【請求項３】 請求項１又は請求項２記載の透明導電膜
付きガラス板を第１電極板とし、透明導電性膜が設けら
れた可撓性を有する透明板を第２電極板として、前記第
１電極板と第２電極板とを所定の空隙を設けて対向配置
してなることを特徴とする透明タッチパネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8042495A JPH08151235A (ja) | 1994-09-30 | 1995-04-05 | 透明導電膜付きガラス板及び透明タッチパネル |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6-237756 | 1994-09-30 | ||
| JP23775694 | 1994-09-30 | ||
| JP8042495A JPH08151235A (ja) | 1994-09-30 | 1995-04-05 | 透明導電膜付きガラス板及び透明タッチパネル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08151235A true JPH08151235A (ja) | 1996-06-11 |
Family
ID=26421435
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8042495A Pending JPH08151235A (ja) | 1994-09-30 | 1995-04-05 | 透明導電膜付きガラス板及び透明タッチパネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08151235A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001087789A1 (fr) * | 2000-05-16 | 2001-11-22 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Procede destine a conferer des proprietes hydrophiles a un substrat |
| JP2002208324A (ja) * | 2001-01-05 | 2002-07-26 | Honjo Sorex Kk | 微細パターンを有するネサ膜の製造方法 |
| WO2004102677A1 (ja) * | 2003-05-13 | 2004-11-25 | Asahi Glass Company, Limited | 太陽電池用透明導電性基板およびその製造方法 |
| JP2006268085A (ja) * | 2005-03-22 | 2006-10-05 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | タッチパネル |
| JP2009271662A (ja) * | 2008-05-02 | 2009-11-19 | Fujitsu Component Ltd | タッチパネル用基板及びそれを有するタッチパネル |
| JP2015063427A (ja) * | 2013-09-25 | 2015-04-09 | 日本電気硝子株式会社 | ガラスフィルムの表面処理方法、ガラスフィルム積層体、およびガラスフィルム |
-
1995
- 1995-04-05 JP JP8042495A patent/JPH08151235A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001087789A1 (fr) * | 2000-05-16 | 2001-11-22 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Procede destine a conferer des proprietes hydrophiles a un substrat |
| US6667075B2 (en) | 2000-05-16 | 2003-12-23 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Method for imparting hydrophilicity to substrate |
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| WO2004102677A1 (ja) * | 2003-05-13 | 2004-11-25 | Asahi Glass Company, Limited | 太陽電池用透明導電性基板およびその製造方法 |
| JPWO2004102677A1 (ja) * | 2003-05-13 | 2006-07-13 | 旭硝子株式会社 | 太陽電池用透明導電性基板およびその製造方法 |
| JP2011181975A (ja) * | 2003-05-13 | 2011-09-15 | Asahi Glass Co Ltd | 太陽電池用透明導電性基板の製造方法 |
| JP5068946B2 (ja) * | 2003-05-13 | 2012-11-07 | 旭硝子株式会社 | 太陽電池用透明導電性基板およびその製造方法 |
| JP2006268085A (ja) * | 2005-03-22 | 2006-10-05 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | タッチパネル |
| JP4532316B2 (ja) * | 2005-03-22 | 2010-08-25 | 日本板硝子株式会社 | タッチパネル |
| JP2009271662A (ja) * | 2008-05-02 | 2009-11-19 | Fujitsu Component Ltd | タッチパネル用基板及びそれを有するタッチパネル |
| JP2015063427A (ja) * | 2013-09-25 | 2015-04-09 | 日本電気硝子株式会社 | ガラスフィルムの表面処理方法、ガラスフィルム積層体、およびガラスフィルム |
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