CN1574164A - 等离子显示板的滤光器及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种等离子显示板(PDP)滤光器及其制造方法。该PDP滤光器包括具有通过沿预定方向切割网状薄膜形成的偏角的电磁波屏蔽层。

Description

等离子显示板的滤光器及其制造方法
技术领域
本发明涉及PDP(等离子显示板)，更具体地，涉及等离子显示板的滤光器及其制造方法。
背景技术
近来，PDP、TFT-LCD(薄膜电晶体管-液晶显示器)、有机EL(电致发光)、FED(场致发射显示器)等已作为下一代数字多媒体显示设备进行开发。其中，PDP与其它显示设备相比具有优势，因而在市场上受到更多的关注。
PDP是一种利用氖+氙、氦+氙气体放电产生的147nm紫外线激发由阻隔壁构成的放电单元中的R、G、B荧光材料时的放射现象的显示设备。由于其具有结构简单易于制造、高亮度、高效率、记忆功能、高非线性和大于160°宽视角的优点，PDP是尺寸大于40英寸的大屏幕的最理想的显示设备。
下面描述具有这些特性的三电极AC表面放电型PDP的放电单元。
图1所示为普通的三电极AC表面放电型PDP的放电单元的透视图。
如图1所示，PDP的放电单元通过联结前板10和背板20以及在其间注入放电气体而形成。
前板10包括：上面的玻璃衬底11；在上面玻璃衬底11上形成的透明电极12和总线电极13；在包括透明电极12和总线电极13的上面玻璃衬底11的整个表面形成的上部绝缘层14；以及在上部绝缘层14整个表面上形成的保护层15，以保护上部绝缘层14不受等离子体放电的影响。
背板20包括：下面的玻璃衬底25；在下面的玻璃衬底25上形成的编址电极24；在包括编址电极24的下面玻璃衬底25的整个表面形成的下部绝缘层23；在下部绝缘层23上形成的阻隔壁22以形成放电单元。在阻隔壁22和下部绝缘层23的整个表面形成的荧光体21。
滤光器安装在如此构造的PDP整个表面以防止外部光的反射、屏蔽近红外线、屏蔽电磁波并提高色纯度。
现参照附图2对根据传统技术的构成PDP的滤光器的用于屏蔽PDP发射的电磁波的电磁波屏蔽层的制造方法进行描述。
图2为制造根据传统技术的PDP滤光器的电磁波屏蔽层的方法的流程图。
如图2所示，制造PDP滤光器的电磁波屏蔽层的传统方法包括：形成基膜并将其缠绕在转动辊上(步骤S31)；将缠绕的基膜切割成预定尺寸(步骤S32)；在切割的基膜上覆盖网金属(步骤S33)；使覆盖的网金属形成图案以形成网状薄膜(步骤S34)。
下面将详细描述制造PDP滤光器的电磁波屏蔽层的传统方法。
首先，形成基膜之后将其缠绕在转动辊上(步骤S31)。金属薄层碾压在聚乙烯对苯二酸酯上而形成的基膜。缠绕在转动辊上的底膜层被切割成预定的尺寸(步骤S32)。
其后，网金属沉积在被切割成预定尺寸的基膜上(步骤S33)，再通过包括采用光掩膜的曝光和显影过程和蚀刻处理的光刻法处理形成图案(步骤S34)。至于光掩膜，按照各种不同的分辨率，光掩膜的透射部分和遮光部分在排列方式上不同，因此偏角(θ)根据光掩膜的类型进行控制。
由于具有导体网的网状薄膜通过制作图案的处理在基膜上形成，根据传统技术采用电磁波屏蔽层300的PDP滤光器被制成。
如上所述，制造电磁波屏蔽层的传统方法有以下问题。
这就是，为了根据PDP不同的分辨率控制预定的偏角，在网金属被覆盖在基膜上并形成图案的时候，需要采用与PDP的不同分辨率相应的光掩膜。
发明内容
有鉴于此，本发明的目的是提供一种PDP滤光器及其制造方法，其能够通过根据PDP的分辨率控制具有导体网的网状薄膜的切割方向，采用相同的光掩膜形成具有根据PDP的不同分辨率的预定偏角的电磁波屏蔽层。
为了获得这些和其它优点，并与本发明的目的一致，在此予以具体而广泛地描述，这里提供的一种PDP滤光器包括具有通过沿预定方向切割网状薄膜形成的偏角的电磁波屏蔽层。
为了实现上述目的，还提供了一种制造PDP滤光器的方法，包括：形成具有通过沿预定方向切割网状薄膜形成的偏角的电磁波屏蔽层。
结合附图，通过下面对于本发明的详细描述，本发明前述的和其它的目的、特性、状态和优点将更加明显。
附图说明
附图用来提供对本发明的进一步理解，其被结合在本说明书中并构成说明书的一部分，其示出了本发明的实施例并与说明书一起用来解释本发明的原理。附图中：
图1所示为按照现有技术的三电极AC表面放电型PDP的放电单元结构的透视图；
图2为根据传统的技术的构成PDP滤光器的电磁波屏蔽层的制造方法的流程图；
图3为采用根据本发明的第一实施例的电磁波屏蔽层的PDP滤光器的结构截面图；
图4为采用根据本发明的第一实施例的电磁波屏蔽层的PDP滤光器的制造方法的流程图；
图5所示为根据本发明的第一实施例的电磁波滤波层的结构；
图6为根据本发明的第一实施例的电磁波屏蔽层的制造方法的流程图；
图7为采用根据本发明的第二实施例的电磁波屏蔽层的PDP滤光器结构的截面图；以及
图8所示为根据本发明的第二实施例的电磁波滤波层的结构。
具体实施方式
现在，将详细说明本发明的优选实施例，其实例显示在附图中。
现参照附图，描述根据本发明的优选实施例的PDP滤光器及其制造方法，其能够通过根据PDP的分辨率控制具有导体网的网状薄膜的切割方向，采用相同的光掩膜形成具有根据PDP的不同分辨率的预定偏角的电磁波屏蔽层。
图3为采用根据本发明的第一实施例的电磁波屏蔽层的PDP滤光器结构的截面图。
如图3所示，根据本发明的第一实施例的PDP滤光器包括：玻璃衬底200；附着在玻璃衬底200的上表面的第一防反射层100以防止外部光的反射；附着在玻璃衬底200下表面的电磁波屏蔽层300以屏蔽电磁波辐射；附着在电磁波屏蔽层300下表面的近红外线屏蔽层400以屏蔽近红外线的发射；附着在近红外线屏蔽层400下表面的色彩补偿层500以控制色纯度；以及附着在色彩补偿层500下表面的第二防反射层600以防止外部光的反射。
现参照图4描述采用根据本发明的第一实施例的电磁波屏蔽层的PDP滤光器的制造方法。
图4为采用根据本发明的第一实施例的电磁波屏蔽层的PDP滤光器的制造方法的流程图。
如图4所示，采用根据本发明的第一实施例的电磁波屏蔽层的PDP滤光器的制造方法，包括：形成玻璃衬底200(步骤S51)；在玻璃衬底200的上表面附着第一防反射层100以防止外部光的反射(步骤S52)；在玻璃衬底200下表面附着电磁波屏蔽层300以屏蔽电磁波辐射(步骤S53)；在电磁波屏蔽层300下表面附着近红外线屏蔽层400以屏蔽近红外线发射(步骤S54)；在近红外线屏蔽层400下表面附着色彩补偿层500以控制色纯度(步骤S55)；以及在色彩补偿层500下表面附着第二防反射层600以防止外部光的反射(步骤S56)。
现详细描述采用根据本发明的第一实施例的电磁波屏蔽层的PDP滤光器的制造方法。
首先，采用钢化玻璃制成玻璃衬底200以支撑滤光器并保护滤光器和PDP免受外部冲击而损坏(步骤S51)。
在玻璃衬底200的上表面附着第一防反射层100以防止外部入射光的反射，从而改善PDP的对比度(步骤S52)。
在玻璃衬底200下表面附着电磁波屏蔽层300以吸收PDP产生的电磁波以防止释放到外部(步骤S53)。
下面将参照图5和图6对具有这些特性的电磁波屏蔽层300进行描述。
图5所示为根据本发明的第一实施例的电磁波滤波层的结构。
如图5所示，根据本发明的第一实施例的电磁波屏蔽层300包括：具有网状结构的导体网的网状部件320；围绕在网状部件320外缘形成的金属框架310。
现参照图6描述根据本发明的第一实施例的电磁波屏蔽层的制造方法。
图6为根据本发明的第一实施例的电磁波屏蔽层的制造方法的流程图。
如图6所示，根据本发明的电磁波屏蔽层的制造方法包括：形成基膜并将其缠绕在第一转动辊上(步骤S531)；在通过转动第一转动辊变平的基膜上覆盖网金属并将覆盖的网金属制成图案以形成网状薄膜(步骤S532)；在第二转动辊上缠绕网状薄膜(步骤S533)；并沿预定的方向切割缠绕在第二转动辊上的基膜(步骤S534)。
现详细描述根据本发明的第一实施例的电磁波屏蔽层的制造方法。
首先，在形成基膜之后，将其缠绕在第一转动辊上(步骤S531)；基膜具有包括PET(聚乙烯对苯二甲酸酯)和通过层压处理在PET上表面形成的金属薄层的双层结构。
在通过转动第一转动辊变平的基膜上覆盖网金属。更适宜地，该网金属具有较好的导电性如银(Ag)或铜(Cu)。通过采用光掩膜进行曝光和显影处理将覆盖在基膜上的网金属形成图案，形成网状薄膜(步骤S532)。
其后，在第二转动辊缠绕网状薄膜(步骤S533)并切割成预定的尺寸(步骤S534)。此时，由于偏角是随着根据PDP分辨率调节网状薄膜的切割方向而控制的，因此对应于不同的PDP分辨率的网状部件可不用改变光掩膜而形成。
因此，随着围绕在网状部件外缘的金属框架形成，电磁波屏蔽层被制成。由于形成的网状部件接地，它吸收PDP辐射的电磁波并将其释放，从而屏蔽电磁波的辐射。
其次，近红外线屏蔽层400附着在电磁波屏蔽层300的下表面，近红外线屏蔽层400通过吸收PDP产生的波长在800-1000nm的近红外线屏蔽近红外线发射。因而，遥控器等产生的控制红外线(约947nm)可正常输入到设置在PDP装置中的红外接收单元而不受红外线干扰(步骤S54)。
由于色彩是通过在近红外线屏蔽层400下表面的色彩染料控制的，以提高PDP的色纯度的色彩补偿层500被附着(步骤S55)。
在色彩补偿层500下表面附着第二防反射层600，以防止外部入射光的反射(步骤S56)。
第一防反射层100、电磁波屏蔽层300、近红外线屏蔽层400、色彩补偿层500和第二防反射层600采用压敏粘胶或粘合剂顺序附着在玻璃衬底的上表面或下表面。
这样形成的滤光器安装在PDP的整个表面并执行屏蔽电磁波、防止外部光的反射、屏蔽近红外线和补偿色彩的功能。
现参照图7描述采用根据本发明的第二实施例的电磁波屏蔽层的PDP滤光器。
与根据本发明的第一实施例的采用玻璃衬底构成的PDP滤光器相比，根据本发明的第二实施例的滤光器可通过在PDP的整个表面直接附着网状部件相对地减小PDP装置的厚度和重量。
图7为采用根据本发明的第二实施例的电磁波屏蔽层的PDP滤光器结构的截面图。
如图7所示，采用根据本发明的第二实施例的电磁波屏蔽层的PDP滤光器包括：在PDP上顺序形成的色彩补偿层500、近红外线屏蔽层400、电磁波屏蔽层300和防反射层100。
除电磁波屏蔽层300外，色彩补偿层500、近红外线屏蔽层400和防反射层100的结构和工作方式与本发明的第一实施例相同，因此在此不再描述。
现参照图8描述根据本发明的第二实施例的电磁波屏蔽层300。
图8所示为根据本发明的第二实施例的电磁波滤波层结构。
如图8所示，根据本发明的第二实施例的电磁波屏蔽层300包括：具有网状结构的导体网的网状部件320。
采用根据本发明的第二实施例的电磁波屏蔽层的PDP滤光器包括：直接附着在PDP上表面的网状部件320而没有如第一实施例中的金属框架310，并且不采用如第一实施例中的玻璃衬底200。因而，与采用如本发明的第一实施例中的滤光器的PDP相比，根据本发明的第二实施例的PDP的厚度和重量可以减小。
如上所述，根据本发明的PDP滤光器及其制造方法具有如下优点：
这就是，例如，通过按照PDP的分辨率控制构成导体网的网状薄膜的切割方向，具有根据PDP的不同分辨率的预定偏角的电磁波屏蔽层可采用相同的光掩膜制成。
因为本发明可以在不脱离其精神或基本特征的情况下以几种方式实施，可以理解，除非特别指明，上述实施例不受前述的任何细节的限制，而是应在所述权利要求确定的本质和范围内广义地解释，因此，落入所述权利要求的界限和范围内，或其等同界限和范围内的变化和修改将包含在所述权利要求中。

Claims (18)

1、一种PDP滤光器包括：
具有通过沿预定方向切割网状薄膜形成的偏角的电磁波屏蔽层。
2、如权利要求1所述的滤光器，其中预定的方向因PDP分辨率不同而不同。
3、如权利要求1所述的滤光器，其中电磁波屏蔽层包括：
具有网状结构的导体网的网状部件；
围绕在网状部件外缘的金属框架。
4、如权利要求1所述的滤光器，还包括：
附着在电磁波屏蔽层上表面的玻璃衬底；
附着在玻璃衬底的上表面的第一防反射层，以防止外部光的反射；
附着在电磁波屏蔽层下表面的近红外线屏蔽层，以屏蔽近红外线的发射；
附着在近红外线屏蔽层下表面的色彩补偿层，以控制色纯度；以及
附着在色彩补偿层下表面的第二防反射层，以防止外部光的反射。
5、如权利要求4所述的滤光器，其中玻璃衬底、第一防反射层、电磁波屏蔽层、近红外线屏蔽层、色彩补偿层和第二防反射层采用压敏粘胶或粘合剂粘附。
6、如权利要求1所述的滤光器，还包括：
附着在电磁波屏蔽层上表面的防反射层，以防止外部光的反射；
附着在电磁波屏蔽层下表面的近红外线屏蔽层，以屏蔽近红外线的发射；以及
附着在近红外线屏蔽层下表面的色彩补偿层，以控制色纯度。
7、如权利要求6所述的滤光器，其中防反射层、电磁波屏蔽层、近红外线屏蔽层和色彩补偿层采用压敏粘胶或粘合剂粘附。
8、一种制造PDP滤光器的方法，包括：
形成具有通过沿预定方向切割网状薄膜形成的预定的偏角的电磁波屏蔽层。
9、如权利要求8所述的方法，其中形成电磁波屏蔽层的步骤包括：
在第一转动辊上缠绕基膜；
在通过转动第一转动辊变平的基膜上覆盖网金属并将所覆盖的网金属形成图案以形成网状薄膜；
在第二转动辊上缠绕网状薄膜；并
沿预定的方向切割缠绕在第二转动辊上的基膜。
10、如权利要求9所述的方法，其中基膜包括PET(聚乙烯对苯二甲酸酯)和在PET上形成的金属箔。
11、如权利要求9所述的方法，其中网金属由银或铜制成。
12、如权利要求9所述的方法，其中，在形成网状薄膜的步骤中，覆盖在基膜上的网金属通过光刻法处理形成图案。
13、如权利要求9所述的方法，其中预定的方向因PDP分辨率不同而不同。
14、如权利要求9所述的方法，其中偏角根据该预定的方向确定。
15、如权利要求9所述的方法，还包括：
在电磁波屏蔽层上表面形成玻璃衬底；
在玻璃衬底的上表面附着第一防反射层以防止外部光的反射；
在电磁波屏蔽层下表面附着近红外线屏蔽层以屏蔽近红外线的发射；
在近红外线屏蔽层下表面附着色彩补偿层以控制色纯度；以及
在色彩补偿层下表面附着第二防反射层以防止外部光的反射。
16、如权利要求15所述的方法，其中玻璃衬底、第一防反射层、近红外线屏蔽层、色彩补偿层和第二防反射层采用压敏粘胶或粘合剂粘附。
17、如权利要求9所述的方法，还包括：
在玻璃衬底的上表面附着防反射层以防止外部光的反射；
在电磁波屏蔽层下表面附着近红外线屏蔽层以屏蔽近红外线的发射；以及
在近红外线屏蔽层下表面附着色彩补偿层以控制色纯度。
18、如权利要求17所述的方法，其中防扫射层、近红外线屏蔽层和色彩补偿层采用压敏粘胶或粘合剂粘附。
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