CN1949441A - Pdp滤光器及其制造方法 - Google Patents
Pdp滤光器及其制造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN1949441A CN1949441A CNA2006101496372A CN200610149637A CN1949441A CN 1949441 A CN1949441 A CN 1949441A CN A2006101496372 A CNA2006101496372 A CN A2006101496372A CN 200610149637 A CN200610149637 A CN 200610149637A CN 1949441 A CN1949441 A CN 1949441A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- layer
- transparent substrates
- electroless coating
- color correction
- electromagnetic shielding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 44
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 80
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 127
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 31
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 29
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 27
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 22
- 210000000633 nuclear envelope Anatomy 0.000 claims description 18
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 claims description 14
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims description 14
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 claims description 10
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- -1 anthraquinonyl Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 4
- 125000000751 azo group Chemical group [*]N=N[*] 0.000 claims description 3
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 claims description 3
- VRLIPUYDFBXWCH-UHFFFAOYSA-N hydridocarbon(.) Chemical compound [CH] VRLIPUYDFBXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 27
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 20
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 20
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 12
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 11
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 5
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 5
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 2
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- LCJHLOJKAAQLQW-UHFFFAOYSA-N acetic acid;ethane Chemical compound CC.CC(O)=O LCJHLOJKAAQLQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 235000010985 glycerol esters of wood rosin Nutrition 0.000 description 2
- 210000004276 hyalin Anatomy 0.000 description 2
- MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N indium;tin;hydrate Chemical compound O.[In].[Sn] MRNHPUHPBOKKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 2
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical group [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920012266 Poly(ether sulfone) PES Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000013528 metallic particle Substances 0.000 description 1
- XZWYZXLIPXDOLR-UHFFFAOYSA-N metformin Chemical compound CN(C)C(=N)NC(N)=N XZWYZXLIPXDOLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920001289 polyvinyl ether Polymers 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010944 silver (metal) Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 230000000638 stimulation Effects 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/20—Constructional details
- H01J11/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J11/44—Optical arrangements or shielding arrangements, e.g. filters, black matrices, light reflecting means or electromagnetic shielding means
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/205—Applying optical coatings or shielding coatings to the vessel of flat panel displays, e.g. applying filter layers, electromagnetic interference shielding layers, anti-reflection coatings or anti-glare coatings
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K9/00—Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields
- H05K9/0073—Shielding materials
- H05K9/0094—Shielding materials being light-transmitting, e.g. transparent, translucent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2211/00—Plasma display panels with alternate current induction of the discharge, e.g. AC-PDPs
- H01J2211/20—Constructional details
- H01J2211/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J2211/44—Optical arrangements or shielding arrangements, e.g. filters or lenses
- H01J2211/446—Electromagnetic shielding means; Antistatic means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2211/00—Plasma display panels with alternate current induction of the discharge, e.g. AC-PDPs
- H01J2211/20—Constructional details
- H01J2211/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J2211/44—Optical arrangements or shielding arrangements, e.g. filters or lenses
- H01J2211/448—Near infrared shielding means
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
Abstract
一种PDP滤光器及其制造方法。该PDP滤光器包含电磁屏蔽层，其包括具有透明基底和形成在所述透明基底表面上的非电镀层图案的电磁屏蔽图案、形成在电磁屏蔽图案上的颜色校正层和形成的所述透明基底另一表面上的滤光器基片。
Description
相关申请的交叉引用
本申请要求2005年10月14日递交韩国知识产权局的韩国专利申请No.10-2005-0097145的优先权，其公开内容通过引用并入本文。
技术领域
本发明涉及PDP滤光器及其制造方法，具体涉及具有改善的雾度值的PDP滤光器及其制造方法。
背景技术
随着现代社会越来越信息化，用于光电器件和设备的技术得到发展，并且这些器件被广泛应用。具体而言，在诸如TV屏幕和PC监视器的器件中广泛使用图像显示器。纤薄构造的宽屏已经成为主流显示器。
通常，等离子体显示面板(PDP)成为通用的下一代显示器，以替代阴极射线管(CRT)，这是因为PDP薄且具有大屏幕。PDP器件基于气体放电现象来显示图像，并表现出优异的显示性能，例如高显示容量、高亮度和对比度、无图像残留和宽视角。而且，PDP器件有利于显示器的相对大尺寸，并且被认为是具有最适合高清显示数字电视的优点的薄型发光显示器，这使得PDP器件被广泛用作CRT的替代品。
在PDP器件中，当将直流电(DC)和交流电(AC)施加至电极时，发生气体放电，从而产生紫外(UV)线。UV发射激发相邻磷光体发射可见光。尽管具有以上优点，但是PDP存在与驱动特性相关的几个问题，包括电磁(EM)辐射的增加。PDP产生的EM辐射对人体有不利的影响，并引起电子器件如无线电话和遥控器故障。因而，为了使用这种PDP，需要例如通过屏蔽将由PDP发射的EM辐射减少至一定程度或更低。例如，可以将具有EM屏蔽功能的各种PDP滤光器用于PDP。
PDP器件包括具有发生气体放电的放电单元的面板组件和屏蔽电磁波和近红外线的PDP滤光器。安装在面板组件整个表面上的PDP滤光器应该具有令人满意的透明度。
在PDP器件中，在驱动电路和交流(AC)电极之间流动的电流和在用于等离子体放电的电极之间的高压是产生电磁波的主要原因。由这种原因产生的电磁波主要位于30-200MHz的频带。通常，将在可见光区保持高透光率和低反射指数的导电膜或导电网用作屏蔽所产生的电磁波的电磁屏蔽层。
由于透明导电膜例如氧化铟锡(ITO)膜制成的电磁屏蔽层具有低电导率，导致其电磁屏蔽能力下降。相反，由导电网制成的电磁屏蔽层表现出优异的电磁屏蔽性能。因此，主要使用由导电网制成的电磁屏蔽层。
下文中，将参考图1A-1E描述制造包括导电网的PDP滤光器的现有方法。图1A-1E是图示用于说明制造PDP滤光器的现有方法的顺序加工步骤的截面图。
如图1A所示，利用具有合适的粘合强度的胶粘剂20，将金属薄膜30通过层合附着到透明基底10上。透明基底10通常是对苯二甲酸乙二酯(PET)膜。
如图1B所示，通过在金属薄膜30上涂布光刻胶和利用光刻法(曝光过程和显影过程)使光刻胶图案化而形成光刻胶图案40。
如图1C所示，通过利用光刻胶图案40作为蚀刻掩模蚀刻金属薄膜30而形成电磁屏蔽图案32。
如图1D所示，制备一侧涂覆有胶粘剂55的滤光器基片75，滤光器基片75包括用于保持滤光器基片75的结构的透明基底50、涂布在透明基底50一个表面上的胶粘剂55、形成在透明基底50另一表面上的颜色校正膜60、近红外屏蔽膜65和抗反射膜70。
如图1E所示，PDP滤光器80通过将滤光器基片75的胶粘剂55附着至具有电磁屏蔽图案32的透明基底10而完成。
然而，通过前述现有方法制造的PDP滤光器在改善雾度特性方面存在限制。具体而言，当形成电磁屏蔽膜时，通过形成具有粗糙表面的金属薄膜的粘合表面来提高电磁屏蔽膜与透明基底之间的粘合强度的尝试由于使反射光漫射而导致PDP滤光器的雾度值增加。
发明内容
为了解决上述和/或其它问题，本发明提供具有改善的雾度值的PDP滤光器。
本发明还提供一种PDP滤光器的制造方法。
本发明的其它方面和/或优点将在以下说明中部分提出，并且部分将由于说明而变得显而易见，或者可以从本发明的实施中获知。
根据本发明的一个方面，提供一种PDP滤光器，所述PDP滤光器包括电磁屏蔽层，该电磁屏蔽层包括具有透明基底和形成在透明基底表面上的非电镀膜图案的电磁屏蔽图案、形成在电磁屏蔽图案上的颜色校正层和形成在透明基底另一表面上的滤光器基片。
根据本发明的另一方面，提供一种制造PDP滤光器的方法，该方法包括在透明基底的一个表面上形成非电镀层、通过使所述非电镀层图案化而形成电磁屏蔽图案、将滤光器基片附着至透明基底的另一表面上、将颜色校正层暂时附着在电磁屏蔽图案上和通过实施热压过程将颜色校正层固定在电磁屏蔽图案上。
附图说明
本发明的这些和/或其它方面和优点将通过结合附图对以下实施例的说明而变得清楚和易于理解。
图1A-1E是图示用于说明制造PDP滤光器的现有方法的顺序加工步骤的截面图；
图2是图示根据本发明示例性实施方案的PDP滤光器的截面图；和
图3-图9是图示用于说明根据本发明示例性实施方案的PDP滤光器的制造方法的顺序加工步骤的截面图。
具体实施方式
以下将具体参考本发明的示例性实施方案-附图所示的实施例，其中相同的附图标记始终代表相同元件。参考附图描述示例性实施方案以说明本发明。
下文中，将参考附图2说明本发明的示例性实施方案。
图2是图示根据本发明示例性实施方案的PDP滤光器的截面图。参考图2，根据本发明示例性实施方案的PDP滤光器包括电磁屏蔽层100、滤光器基片200和颜色校正层300。
电磁屏蔽层100包括提供在透明基底110一个表面上的电磁屏蔽层图案130。电磁屏蔽层图案130包括非电镀层图案135。在此，电磁屏蔽层图案130还可包括位于非电镀层图案135一侧的黑层图案131，例如在与透明基底110相邻的非电镀层图案135的下方。黑层图案131可通过在非电镀层图案135侧壁对齐而形成。
非电镀层图案135是由非电镀方法形成的金属层，可将屏蔽电磁波的导电材料用作非电镀层图案135。例如，具有优异的导电性和可加工性的各种金属例如铜(Cu)、铬(Cr)、镍(Ni)、银(Ag)、钼(Mo)、钨(W)和铝(Al)均可用作非电镀层图案135。这些金属中，考虑成本、导电性和可加工性，优选Cu和Ni。更优选的是，Cu可用作非电镀层图案135。非电镀层可不使用胶粘剂而形成在透明基底上。因此，由于在该金属薄膜的一个表面上无需粗糙表面，这与通常需要粗糙部分以提高金属薄膜与透明基底之间的粘合强度的现有PDP滤光器不同，因而可以改善雾值特性。
优选电磁屏蔽层图案130具有0.5μm-40μm的厚度。更优选电磁屏蔽层图案130具有3μm-10μm的厚度。当电磁屏蔽层图案130的厚度低于约0.5μm时，会降低电磁屏蔽能力，当电磁屏蔽层图案130具有大于约40μm的厚度时，会增加制造时间。为了吸收所有由面板组件产生的电磁波，导电电磁屏蔽层图案需要大于一预定值的厚度。然而，由于可见光透过率随着导电薄膜厚度增加而下降，因此优选考虑可见光透过率来形成合适厚度的电磁屏蔽层图案。
透明材料可用作提供在电磁屏蔽层100中的透明基底110，而没有具体限制。例如，无机化合物成型材料如玻璃和石英以及透明有机高聚物成型材料可以用作透明基底110。更优选的是，由于有机高聚物的重量轻和刚性特性而可使用有机高聚物。透明基底110可具有80μm-200μm的厚度。
虽然通常将丙烯酸树脂或聚碳酸酯用作有机高聚物成型材料，但是本发明不限于此类材料。优选透明基底110具有高透明度和耐热特性。具有分层层压体的高聚物成型材料可被用作透明基底110。优选透明基底110在透明度方面具有80％或更高的可见光透过率，在耐热性方面具有约60℃的玻璃化转变温度。高聚物成型材料在可见波长区域是应该透明的就足够了。所述高聚物成型材料的实例包括PET、聚砜(PS)、聚醚砜(PES)、聚苯乙烯、聚乙烯、聚萘二酸酯、聚芳酯、聚醚醚酮(PEEK)、聚碳酸酯(PC)、聚丙烯(PP)、聚酰亚胺、三乙酰纤维素(TAC)和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。然而，高聚物成型材料不限于此。其中，考虑成本、耐热性和透明度，优选PET。
而且，滤光器基片200形成在电磁屏蔽层100的表面上，具体形成在透明基底110的另一表面上。滤光器基片200可进一步包括具有光学功能的层，例如抗反射层220，其形成在透明基底210上。胶粘剂层A1可插入在电磁屏蔽层100和滤光器基片200之间。
可利用增强或半增强玻璃或透明塑料材料如丙烯酸树脂形成厚度为2.0mm-3.5mm的透明基底210。由于该玻璃具有约2.6的比重，因此难以制造轻量化的滤光器。而且，因为玻璃相对较重，因而当将玻璃安装在等离子体显示面板上时，面板的整体重量增加。然而，在防止面板破裂方面，玻璃是优异的。
在可见光区的反射指数小于1.5、优选小于1.4的薄膜例如氟基透明高聚物树脂、MgF、硅基树脂或SiO2可被用作抗反射层220。在此，抗反射层可形成1/4波长光学厚度的单层。作为替代方案，抗反射层可形成为具有不同反射指数的两层或更多层，可以是无机化合物例如金属氧化物、氟化物、硅化物、硼化物、碳化物、氮化物和硫化物，或者是有机化合物例如硅基树脂、丙烯酸树脂和氟基树脂。
在透明基底210的一个表面附着至电磁屏蔽层100之后，抗反射层220可形成在透明基底210的另一表面上。
例如，在本发明的示例性实施方案中，抗反射层220可具有通过交替层叠低反射指数的氧化物膜例如SiO2和高反射指数的氧化物膜例如TiO2或Nb2O5所得到的结构。这些氧化物膜可通过溅射或湿涂布而形成。抗反射层220具有20nm-300nm的厚度。
而且，颜色校正层300提供在电磁屏蔽层100的另一表面上，具体是在电磁屏蔽层图案130上。颜色校正层300可利用胶粘剂层A2附着至电磁屏蔽层100。如图9所示，可形成胶粘剂层A2以填充电磁屏蔽层图案130的空隙。虽然颜色校正层130可以是具有氖光屏蔽功能和近红外屏蔽功能的杂化膜，但是可以单独形成氖光屏蔽层和近红外屏蔽层。颜色校正层300具有5μm-150μm的厚度。
当单独提供氖光屏蔽层和近红外屏蔽层以构成颜色校正层300时，因为氖光屏蔽层用来将橙色校正为红色，因此更优选使面板组件内产生的可见光先通过氖光屏蔽层进行颜色校正，再通过近红外屏蔽层进行颜色校正。
颜色校正层300增加显示的颜色再现范围，可将具有选择性吸收的颜料用于颜色校正层，以吸收不必要发射的580nm-600nm的橙色光，由此改善屏幕的清晰度(difinition)。
而且，为了屏蔽由面板组件所产生并且引起电子设备例如无线电话或遥控器故障的近红外光，可将含有吸收近红外区波长的近红外光吸收颜料的高聚物树脂用于颜色校正层300。因为PDP器件发射宽波长区域的强近红外光，因此必须使用可吸收宽波长区域近红外光的近红外吸收颜料。
例如，在本发明的示例性实施方案中，可将至少一种颜料例如蒽醌基颜料、铵基颜料、聚碳炔基颜料、偶氮基颜料和有机颜料用于颜色校正层300。用于颜色校正层300的颜料不限于上述颜料。不将颜料限制在具体值是因为颜料的浓度和类型取决于显示所需的吸收波长、吸收效率和透光特性。当使用有机颜料时，在改善PDP滤光器的雾值特性方面比无机颜料更为有利。
而且，虽然没有示出，但是根据本发明的另一示例性实施方案，可进一步提供透明层以填充电磁屏蔽层图案130的空白部分。在此，可在形成在透明层上的胶粘剂层上形成颜色校正层。
可将透明胶粘剂用作插入在各层或各膜之间的胶粘剂。胶粘剂的例子包括丙烯酸胶粘剂、硅胶粘剂、氨酯胶粘剂、PMB胶粘剂、乙烯-乙酸乙烯酯基胶粘剂(EVA)、聚乙烯基醚、饱和无定形聚酯和蜜胺树脂。
以下，并未描述的用于“非电镀核膜”125是指非电镀核膜并且是非黑部分。
在根据本发明示例性实施方案的PDP滤光器中，因为使用包括非电镀层图案和包括有机颜料的颜色校正层的电磁屏蔽层，因此可以得到低于2.2％的雾度值，因而可以改善雾度特性。
下文中，将参考图3-9来描述制造图2所示的PDP滤光器的方法。本发明中本领域技术人员公知的方法步骤将简要说明，以避免对本发明的模糊误解。而且，包括在制造PDP滤光器的方法中的PDP滤光器的各元件将基本与上述元件相同，并使用相同的附图标记指示相同元件。因此，将省略或简要描述重复的说明。
如图3所示，在透明基底110上形成多孔高聚物膜120。
透明亲水材料被用作多孔高聚物膜120，其中透明亲水材料的例子包括乙烯醇基树脂、丙烯酸基树脂和纤维素基树脂。多孔高聚物膜120的材料不限于上述例子。多孔高聚物膜120可通过旋涂、辊涂、浸渍和棒涂而形成在透明基底110的一个表面上。多孔高聚物膜120具有0.2μm-2μm的厚度。
接着，如图4所示，形成非电镀核膜125。多孔高聚物膜可以是非电镀核膜125，以使非电镀核膜125形成在多孔高聚物膜120中，如图3所示。非电镀核膜125不限于多孔高聚物膜。例如，虽然没有示出，但是非电镀核膜可以层叠在多孔高聚物膜的表面上。在此，非电镀核可以是化学镀催化剂，例如Pd或Ag。
此时，化学镀催化剂用作在镀覆过程中刺激金属结晶生长的催化剂。当镀Cu、Ni或Au时，优选通过金属基过程制备非电镀核。而且，Ag基溶液、Pd基溶液或这两者溶液的混合物可用作金属基溶液。因为由金属颗粒例如Pd或Ag形成的非电镀核膜125具有在非电镀过程中作为催化剂的足够活性，从而通过镀覆刺激金属结晶生长。因而可以得到具有更紧密结晶的金属图案。
形成这种非电镀核膜125的方法的实例包括在化学镀催化剂溶液中浸渍多孔高聚物膜，以使化学镀催化剂可渗入多孔高聚物膜或吸附进多孔高聚物膜表面中。
接着，如图5所示，在非电镀核膜25上形成非电镀层135a。此时，非电镀核膜125可由于金属组分而变黑，以形成黑层131a。因此，在本发明示例性实施方案中，形成黑层无需任何单独步骤。显然，如有必要，黑层可通过单独步骤形成。
非电镀层135a是由非电镀方法形成的金属层，并且可将能够屏蔽电磁波的导电金属用作非电镀层135a。例如，具有优异导电性和可加工性的各种金属例如Cu、Cr、Ni、Ag、Mo、W和Al均可用作非电镀层135a。上述金属中，考虑成本、导电性和可加工性，优选Cu和Ni。更优选的是，可将Cu用作非电镀层135a。
接着，如图6所示，在非电镀层135a上形成掩模图案140，随后图案化以形成如图7所示的电磁屏蔽图案130，其中电磁屏蔽图案130包括提供在黑层图案131上的非电镀图案135。此时，可利用硝酸和FeCl3使掩模图案40图案化。将由于掩模图案140的图案化过程而通过掩模图案140曝光的非电镀层沿着形成在曝光的非电镀层下方的黑层的变黑组分而移除，使得非电镀核膜125可部分恢复。因此，可以形成黑层，从而仅保留在非电镀层135的下方区域中。
随后，如图8所示，将滤光器基片200附着至电磁屏蔽层100的一个表面上。具体而言，滤光器基片200可被附着至电磁屏蔽层100的透明基底110的表面上，也就是未形成电磁屏蔽层130时的透明基底110的表面。
电磁屏蔽层100和滤光器基片200可通过胶粘剂相互附着。胶粘剂层A1可形成在滤光器基片200或电磁屏蔽层100的一个表面上。
此时，可形成具有光学功能的滤光器基片200。例如，可在透明基底210上额外形成具有光学功能的层如抗反射层220。而且，虽然没有示出，但是滤光器基片200可具有抗反射功能以外的其它光学功能。
在此，可很容易地制造单层的抗反射层220，但是其抗反射功能低于多层的。多层抗反射层具有覆盖宽波长区域的抗反射功能。当抗反射层220由无机化合物薄膜形成时，抗反射层可通过现有已知方法例如溅射、离子镀、离子束辅助、真空沉积和湿涂布来形成。当抗反射层220由有机化合物薄膜形成时，抗反射层220可通过现有已知方法如湿涂布来形成。滤光器基片200可附着至电磁屏蔽层100，此时抗反射层220附着至透明基底210。作为替代方案，在电磁屏蔽层100可附着至用于滤光器基片的透明基底210的表面之后，抗辐射层220可形成在用于滤光器基片的透明基底210的另一表面上。
根据本发明示例性实施方案的抗反射层220可形成为交替堆叠的低反射指数氧化物膜例如SiO2和高反射指数氧化物例如TiO2和Nb2O5。氧化物膜可通过溅射或湿涂布而形成。抗反射层220具有20nm-300nm的厚度。
接着，如图9所示，将颜色校正层300暂时附着在电磁屏蔽层100上。具体而言，可利用胶粘剂层A2将颜色校正层300暂时附着在电磁屏蔽层100上。此时，颜色校正层300可以是具有氖光屏蔽功能和近红外屏蔽功能的杂化膜，但是氖光屏蔽层和近红外屏蔽层可单独形成。而且，胶粘剂层A2可形成在电磁屏蔽层100或颜色校正层300的一个表面上。
颜色校正层300可通过湿涂布氖光屏蔽颜料和/或近红外屏蔽颜料而在PET基底上制造。
随后，进行热压过程。尽管没有示出，但是暂时附着在电磁屏蔽层100上的颜色校正层300可通过热压过程而完全附着至电磁屏蔽层100，由此电磁屏蔽层和颜色校正层可相互固定。在本发明的示例性实施方案中，因为电磁屏蔽层和颜色校正层以诸如暂时附着过程和热压过程的两步骤相互附着，因此可以改善雾度特性。
具体而言，在本发明示例性实施方案中，热压过程可在30℃以上的温度和4Torr以上的压力下进行，从而优化雾度值。当温度低于30℃时，产率下降。当压力低于4Torr时，胶粘剂没有完全填充在非电镀层图案之间，这导致产生微小气泡，由此可降低雾度值。此外，当考虑经济效率时，热压过程可在30℃-60℃的温度和4Torr-7Torr的压力下进行。此时，热压过程可进行30分钟或更长时间。
在本发明中，当各层或各膜相互附着时，可以使用透明胶粘剂。所述胶粘剂的例子包括丙烯酸胶粘剂、硅胶粘剂、氨酯胶粘剂、PMB胶粘剂、乙烯-乙酸乙烯酯基胶粘剂(EVA)、聚乙烯醚、饱和无定形聚酯和蜜胺树脂。
因为通过根据本发明示例性实施方案的方法制造的PDP滤光器具有改善的雾度特性，因此可以得到低于2.2％的雾度值。
如上所述，在制造根据本发明示例性实施方案的PDP滤光器的方法中，滤光器基片200附着至电磁屏蔽层100并随后将颜色校正层300附着于其上。然而，所述方法不限于此种操作。换言之，根据本发明的另一示例性实施方案，在电磁屏蔽层100和颜色校正层300相互附着之后，可将滤光器基片200附着至电磁屏蔽层100。
下文中，将说明根据本发明示例性实施方案制造的PDP滤光器样品的物理性能。
实验实施例
在PET基底的一个表面上形成0.5μm厚的多孔高聚物膜，随后在Pd胶体溶液中浸渍以形成非电镀核膜。接着，通过非电镀方法在非电镀核膜上形成3μm厚的CU层并随后图案化。接下来，将未形成非电镀层的PET基底表面附着至形成增强玻璃黑色陶瓷的一个表面上。将胶粘剂涂布在电磁屏蔽层上，并将包括铵基有机染料的杂化膜通过粘合机暂时附着至电磁屏蔽层上。随后，将抗反射层附着至增强玻璃的另一表面上。在50℃温度和6.2Torr压力下进行热压过程30分钟，从而完成PDP滤光器。利用雾值计(制造商：GARDNER，型号：Haze-gard plus)测量PDP滤光器，结果得到1.8％的雾度值。
可比较的实验实施例1
按照与前述实验样品相同的方法制造PDP滤光器。不过，热压过程在50℃温度和3.0Torr压力下进行30分钟，由此得到20％的雾度值。
可比较的实验实施例2
按照与前述实验样品相同的方法制造PDP滤光器，只是使用钴基染料。热压过程在50℃温度和6.2Torr压力下进行30分钟，由此得到3.1％的雾度值。
在前述实验实施例中得到的PDP滤光器中，测量到1.8％的雾度特性。在可比较的实验实施例1的情况下，热压过程在低于实验实施例的压力下进行，由此雾度特性显著劣化。而在可比较的实验实施例2的情况下，将对应于无机染料的钴基染料用作颜色校正层，可以发现与使用有机染料的实验实施例比较其雾度特性劣化。
如上所述，根据本发明，可以改善PDP滤光器的雾度特性。
虽然已经示出和描述了本发明的几个示例性实施方案，但是本发明不限于所述的示例性实施方案。相反，本领域技术人员应该理解可对这些示例性实施方案进行变化而不偏离本发明的原理和实质，也就是由权利要求及其等价物所限定的范围。
Claims (17)
1.一种PDP滤光器，包含：
电磁屏蔽层，其包括具有透明基底和形成在所述透明基底表面上的非电镀层图案的电磁屏蔽图案；
形成在电磁屏蔽图案上的颜色校正层；和
形成的所述透明基底另一表面上的滤光器基片。
2.权利要求1的PDP滤光器，其中雾度值低于2.2％。
3.权利要求1的PDP滤光器，其中所述颜色校正层是屏蔽氖光和近红外光的杂化膜。
4.权利要求1的PDP滤光器，其中所述颜色校正层是选自蒽醌基颜料、铵基颜料、聚碳炔基颜料和偶氮基颜料的至少一种。
5.权利要求1的PDP滤光器，其中所述滤光器基片包括透明基底和形成在透明基底一个表面上的抗反射层。
6.权利要求1的PDP滤光器，还包含形成在与透明基底相邻的电磁屏蔽图案的一个表面上的黑层图案。
7.一种用于制造PDP滤光器的方法，该方法包括：
在透明基底的一个表面上形成非电镀层；
通过使非电镀层图案化来形成电磁屏蔽图案；
将滤光器基片附着在透明基底的另一表面上；
将颜色校正层暂时附着在电磁屏蔽图案上；和
通过实施热压过程，使颜色校正层固定在电磁屏蔽图案上。
8.权利要求7的方法，其中形成非电镀层包括：
在透明基底上形成非电镀核膜；和
在非电镀核膜上形成非电镀层。
9.权利要求8的方法，其中形成非电镀核膜包括：
在透明基底上形成多孔高聚物膜；和
在用于化学镀的胶体溶液中浸渍所述多孔共聚物膜。
10.权利要求9的方法，其中所述用于化学镀的胶体溶液是钯(Pd)或银(Ag)胶体溶液。
11.权利要求8的方法，其中所述非电镀核膜在形成非电镀层时变黑。
12.权利要求7的方法，其中所述热压过程在30℃以上温度和4Torr以上压力下进行。
13.权利要求12的方法，其中所述热压过程在30℃-60℃的温度和4Torr-7Torr的压力下进行。
14.权利要求7的方法，其中PDP滤光器的雾度值低于2.2％。
15.权利要求7的方法，其中所述颜色校正层是屏蔽氖光和近红外光的杂化膜。
16.权利要求7的方法，其中所述颜色校正层是选自蒽醌基颜料、铵基颜料、聚碳炔基颜料和偶氮基颜料的至少一种。
17.权利要求7的方法，其中所述滤光器基片包括透明基底和形成在透明基底一个表面上的抗反射层。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020050097145A KR101073570B1 (ko) | 2005-10-14 | 2005-10-14 | Ｐｄｐ 필터 및 그 제조 방법 |
| KR1020050097145 | 2005-10-14 | ||
| KR10-2005-0097145 | 2005-10-14 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN1949441A true CN1949441A (zh) | 2007-04-18 |
| CN1949441B CN1949441B (zh) | 2010-11-17 |
Family
ID=37947537
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2006101496372A Expired - Fee Related CN1949441B (zh) | 2005-10-14 | 2006-10-13 | Pdp滤光器及其制造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20070085458A1 (zh) |
| KR (1) | KR101073570B1 (zh) |
| CN (1) | CN1949441B (zh) |
| DE (1) | DE102006046087A1 (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101996528A (zh) * | 2009-08-04 | 2011-03-30 | 三星电子株式会社 | 防止电磁干扰的显示装置 |
| CN101752164B (zh) * | 2008-12-01 | 2012-08-08 | 三星Sdi株式会社 | 显示设备和光学滤波器 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101030859B1 (ko) * | 2008-12-09 | 2011-04-22 | 삼성에스디아이 주식회사 | 디스플레이 필터 및 그 제조 방법 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4244789A (en) * | 1979-01-24 | 1981-01-13 | Stauffer Chemical Company | Method of metallizing materials |
| US6030708A (en) * | 1996-10-28 | 2000-02-29 | Nissha Printing Co., Ltd. | Transparent shielding material for electromagnetic interference |
| US6665120B2 (en) * | 1998-09-16 | 2003-12-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Reflective optical element |
| JP4668438B2 (ja) * | 2001-03-08 | 2011-04-13 | 住友ゴム工業株式会社 | 電磁波シールド板及びその製造方法 |
| JP2003168887A (ja) * | 2001-11-30 | 2003-06-13 | Asahi Glass Co Ltd | 電磁波遮蔽用フィルタの製造方法 |
| KR100513642B1 (ko) * | 2002-02-05 | 2005-09-07 | 에스케이씨 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널용 광학필터 및 그 제조방법 |
| US20060257760A1 (en) * | 2003-08-11 | 2006-11-16 | Kenichi Mori | Near-infrared absorbing film, and process for production the same, near-infrared absorbing film roll, process for producing the same and near-infrared absorbing filter |
| CN2731470Y (zh) * | 2004-06-28 | 2005-10-05 | 伸昌电机股份有限公司 | 用于显示器的滤光装置 |
-
2005
- 2005-10-14 KR KR1020050097145A patent/KR101073570B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2006
- 2006-09-29 DE DE102006046087A patent/DE102006046087A1/de not_active Withdrawn
- 2006-10-13 US US11/580,972 patent/US20070085458A1/en not_active Abandoned
- 2006-10-13 CN CN2006101496372A patent/CN1949441B/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101752164B (zh) * | 2008-12-01 | 2012-08-08 | 三星Sdi株式会社 | 显示设备和光学滤波器 |
| CN101996528A (zh) * | 2009-08-04 | 2011-03-30 | 三星电子株式会社 | 防止电磁干扰的显示装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20070041229A (ko) | 2007-04-18 |
| US20070085458A1 (en) | 2007-04-19 |
| CN1949441B (zh) | 2010-11-17 |
| KR101073570B1 (ko) | 2011-10-14 |
| DE102006046087A1 (de) | 2007-05-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7655873B2 (en) | Electromagnetic shielding film, plasma display panel filter using the electromagnetic shielding film, plasma display panel device including the electromagnetic shielding film, and method of manufacturing the electromagnetic shielding film | |
| US7612489B2 (en) | Display filter, display device including the display filter, and method of manufacturing the display filter | |
| US8269404B2 (en) | External light blocking film for display device and filter having the same | |
| US20070127129A1 (en) | Optically transparent electromagnetic interference (EMI) shields for direct-view displays | |
| CN1870881A (zh) | 电磁波屏蔽薄膜及其制造方法 | |
| JP2004326108A (ja) | プラズマディスプレイパネル用電磁波遮蔽フィルタと、その製造方法 | |
| JP2009055012A (ja) | ディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材 | |
| US20090126986A1 (en) | Electromagnetic Shielding Film For Display Device, Filter Having The Same, And Method Of Fabricating The Same | |
| CN1949438A (zh) | 显示滤光器和等离子显示装置 | |
| CN1949441B (zh) | Pdp滤光器及其制造方法 | |
| JP2001053488A (ja) | 電磁波シールド材料並びにこの材料を用いた電磁波遮蔽構成体及びディスプレイ | |
| JP5195146B2 (ja) | ディスプレイ用光学フィルター及びその製造方法 | |
| CN1694210A (zh) | 等离子显示设备及其制造方法 | |
| JP4685270B2 (ja) | シールド材の製造方法及びシールド材 | |
| JP2006179683A (ja) | Ｐｄｐフィルタ | |
| KR20080022938A (ko) | 메쉬 필름의 제조방법 및 이에 의해 제조된 메쉬 필름 | |
| JP4381870B2 (ja) | シールド材及びその製造方法 | |
| CN101071709A (zh) | 用于显示设备的滤光器及其制造方法和等离子体显示设备 | |
| KR20070028144A (ko) | Ｐｄｐ 필터 및 그의 제조방법 | |
| KR20090019580A (ko) | 디스플레이 장치용 전자파 차폐 부재 | |
| JP2005277438A (ja) | ディスプレイ用フィルタの製造方法 | |
| JP2011095773A (ja) | シールド材 | |
| CN1713326A (zh) | 气体放电板及其制造方法 | |
| KR20080083507A (ko) | 전자파 차폐 부재, 이를 포함한 디스플레이 장치용 필터,이를 포함한 디스플레이 장치 및 이의 제조 방법 | |
| KR101052738B1 (ko) | 디스플레이 장치용 광학 부재, 이를 제조하는 방법과 이를포함하는 디스플레이 장치용 필터 및 디스플레이 장치 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C41 | Transfer of patent application or patent right or utility model | ||
| TA01 | Transfer of patent application right |
Effective date of registration: 20080620 Address after: South Korea Gyeongbuk Gumi Applicant after: Samsung Corning Precision Glass Address before: Gyeonggi Do Korea Suwon Applicant before: Samsung Corning Co., Ltd. |
|
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| C56 | Change in the name or address of the patentee |
Owner name: SAMSUNG CORNING PRECISION MATERIALS CO., LTD. Free format text: FORMER NAME: SAMSUNG CORNING PRECISION GLASS |
|
| CP01 | Change in the name or title of a patent holder |
Address after: South Korea Gyeongbuk Gumi Patentee after: Samsung Corning Precision Materials Co., Ltd. Address before: South Korea Gyeongbuk Gumi Patentee before: Samsung Corning Precision Glass |
|
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20101117 Termination date: 20151013 |
|
| EXPY | Termination of patent right or utility model |