KR101073570B1 - Ｐｄｐ 필터 및 그 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
PDP 필터 및 그의 제조 방법이 제공된다. 이러한 PDP 필터는 투명 기판 및 투명 기판의 일면 상에 형성되며 무전해 도금층 패턴을 포함하는 전자파 차폐성 패턴을 포함하는 전자파 차폐막, 전자파 차폐성 패턴의 상면에 형성된 색보정막 및 투명 기판의 타면에 형성된 필터베이스를 포함한다.
전자파 차폐막, 무전해 도금층, PDP 필터
Description
도 1a 내지 도 1e는 종래 기술에 의한 PDP 필터의 제조과정을 순차적으로 나타낸 단면도들이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 의한 PDP 필터를 나타낸 단면도이다.
도 3 내지 도 9는 본 발명의 일 실시예에 의한 PDP 필터의 제조과정을 순차적으로 나타낸 단면도들이다.
(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)
100: 전자파 차폐막 110, 210: 투명 기판
120: 다공성 고분자막 125: 무전해 도금핵막
131: 흑화층 패턴 135: 무전해 도금층 패턴
130: 전자파 차폐성 패턴 140: 마스크 패턴
200: 필터베이스 220: 반사방지막
300: 색보정막 A1, A2: 점착제층
본 발명은 PDP 필터 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 헤이즈값이 향상된 PDP 필터 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
현대 사회가 고도로 정보화 되어감에 따라서 광일렉트로닉스 (Photoelectronics) 관련부품 및 기기가 현저하게 진보하고 보급되고 있다. 그 중에서, 화상을 표시하는 디스플레이장치는 텔레비전 장치용, 퍼스널컴퓨터의 모니터장치용 등으로서 현저하게 보급되고 있으며, 또한 이러한 디스플레이의 대형화와 동시에 박형화가 진행되고 있다.
일반적으로 PDP 장치는 기존의 디스플레이장치를 대표하는 CRT에 비해 대형화 및 박형화를 동시에 만족할 수 있어 차세대 디스플레이 장치로서 각광받고 있다. 이러한 PDP 장치는 가스방전현상을 이용하여 화상을 표시하는 것으로서, 표시용량, 휘도, 콘트라스트, 잔상, 시야각 등의 각종 표시능력이 우수하다. 그리고, PDP 장치는 다른 표시장치보다 대형화가 용이하고, 박형의 발광형 표시장치로써 향후 고품질 디지털 텔레비젼으로서 가장 적합한 특성을 갖추고 있는 것으로 평가되고 있어 CRT를 대체할 수 있는 디스플레이 장치로 각광받고 있다.
PDP 장치는 전극에 인가되는 직류 또는 교류 전압에 의하여 전극 사이의 가스에서 방전이 발생하고, 여기에서 수반되는 자외선의 방사에 의하여 형광체를 여기시켜 발광하게 된다. 그러나, PDP 장치는 그 구동 특성상 전자파의 방출량이 많고, 이러한 PDP 장치에서 발생되는 전자파에 의해 인체에 유해한 영향을 미치고 무선 전화기나 리모콘 등의 정밀기기의 오동작을 유발할 수도 있다. 이러한 PDP 장치를 사용하기 위해서는, PDP 장치로부터 방출되는 유해파 중 특히 전자파의 방출을 소정치 이하로 억제하는 전자파 차폐의 기능을 갖는 PDP 필터를 채용하고 있다.
PDP 장치는 가스방전현상이 일어나는 방전셀을 포함하는 패널 어셈블리와, 전자파 및 근적외선을 차폐하는 PDP 필터로 구성되어 있다. 따라서, 이러한 PDP 필터는 패널 어셈블리의 전면부에 장착되기 때문에 투명성도 동시에 만족해야 한다.
한편, PDP 장치에 있어서 구동회로 및 교류 전류 전극에 흐르는 전류와, 플라즈마 방전을 위한 전극 사이게 걸리는 고전압은 전자파 발생의 주원인이 된다. 이때 발생하는 주된 전자파의 주파수 영역은 30 내지 200MHz이며, 이러한 전자파를 차폐하기 위한 전자파 차폐막으로서, 가시광선에 대한 고투과율 및 저반사율 특성을 유지하는 투명 도전막이나 도전성 메쉬가 주로 사용된다.
이중에서 ITO로 대표되는 투명 도전막으로 구성된 전자파 차폐막의 경우, 도전성이 낮기 때문에 전자파 차폐 능력이 떨어지는 단점이 있다. 한편, 도전성 메쉬로 구성된 전자파 차폐막의 경우, 전자파를 차폐하는 데는 뛰어난 특성을 나타내므로, 최근에는 도전성 메쉬로 구성된 전자파 차폐막이 주로 사용되고 있다.
이하, 도 1a 내지 도 1e를 참조하여, 종래 기술에 의한 도전성 메쉬를 포함하는 PDP 필터의 제조 방법을 설명한다. 도 1a 내지 도 1e는 종래 기술에 의한 PDP 필터의 제조 방법을 순차적으로 나타낸 단면도들이다.
우선 도 1a에 도시된 바와 같이, 적절한 점도를 가지는 접착제(20)를 이용하여 금속박막(30)을 라이네이팅(Laminating)법에 의해 투명 기판(10) 상에 접합한다. 여기서, 투명 기판(10)은 일반적으로 PET(PolyEthylene Terephthalate) 필름을 사용한다.
도 1b에 도시된 바와 같이, 금속박막(30) 상에 포토레지스트를 도포한 후, 사진공정(노광 공정 및 현상 공정)을 통하여 포토레지스트를 패터닝(Patterning)하여 포토레지스트 패턴(40)을 형성한다.
도 1c를 참조하면, 포토레지스트 패턴(40)를 식각마스크로 하여 금속박막(30)을 식각하여 전자파 차폐성 패턴(32)을 형성한다.
도 1d에 도시된 바와 같이, 일면에 점착제(55)가 도포된 필터 베이스(75)를 준비한다. 이러한 필터 베이스(75)는 필터 베이스(75)의 구조를 유지하는 투명 기판(50)과, 투명 기판(50)의 일면에 도포된 점착제(55)와, 투명 기판(50)의 타면에 형성된 색보정막(60), 근적외선 차폐막(65) 및 반사방지막(70)으로 구성된다.
도 1e에 도시된 바와 같이, 이러한 필터 베이스(75)의 점착제(55)와 상기 전자파 차폐성 패턴(32)이 형성된 투명 기판(10)을 결합하여 PDP 필터(80)를 완성한다.
그런데, 이러한 종래의 방법에 의해 제조된 PDP 필터는 헤이즈(Haze) 특성을 향상시키는데 한계가 있다. 특히, 전자파 차폐막 형성시 금속박막의 접합면을 요철형태로 만듦으로써 투명 기판과의 접착력을 향상시키고자 하는 시도는 오히려 빛의 난반사로 인하여 PDP 필터의 헤이즈(Haze)값을 상승시키는 요인이 된다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 헤이즈 특성이 향상된 PDP 필터를 제공하고자 하는 것이다.
본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 상기 PDP 필터의 제조 방법을 제공하고자 하는 것이다.
본 발명의 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 PDP 필터는 투명 기판 및 상기 투명 기판의 일면 상에 형성되며 무전해 도금층 패턴을 구비하는 전자파 차폐성 패턴을 포함하는 전자파 차폐막, 상기 전자파 차폐성 패턴의 상면에 형성된 색보정막 및 상기 투명 기판의 타면에 형성된 필터베이스를 포함한다.
또한, 상기 다른 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 PDP 필터의 제조 방법은, 투명 기판의 일면에 무전해 도금층을 형성하는 단계, 상기 무전해 도금층을 패터닝하여 전자파 차폐성 패턴을 형성하는 단계, 상기 투명 기판의 타면에 필터베이스를 부착하는 단계, 상기 전자파 차폐성 패턴의 상부에 색보정막을 가부착하는 단계 및 오토클레이브 공정으로 상기 전자파 차폐막의 상부에 가부착된 색보정막을 고정하는 단계를 포함한다.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태 로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 PDP 필터에 대하여 도 2를 참조하여 설명하기로 한다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 PDP 필터를 나타내는 단면도이다. 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 PDP 필터는 전자파 차폐막(100), 필터 베이스(200) 및 색보정막(300)를 포함한다.
전자파 차폐막(100)은 투명 기판(110)의 일면에 전자파 차폐막 패턴(130)을 구비한다. 여기서 전자파 차폐막 패턴(130)은 무전해 도금층 패턴(135)을 포함한다. 이 때, 무전해 도금층 패턴(135)의 일측, 예를 들면 투명 기판(110)에 인접한 무전해 도금층 패턴(135)의 하면에 흑색층 패턴(131)이 더 구비될 수 있다. 여기서, 흑색층 패턴(131)은 무전해 도금층 패턴(135)의 측벽에 정렬되어 형성될 수 있다.
여기서 무전해 도금층 패턴(135)은 무전해 도금법에 의해 형성된 금속층으로서, 전자파를 차폐할 수 있는 도전성 물질을 사용할 수 있다. 예를 들어, 구리, 크롬, 니켈, 은, 몰리브덴, 텅스텐, 알루미늄 등 전기전도성이 우수하고 가공성이 있는 금속이면 모두 사용 가능하다. 그 중 가격, 전기전도성, 가공성 면에서 구리와 니켈이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 구리를 사용할 수 있다. 이러한 무전해 도 금층은 투명 기판 상에 점착제나 접착제를 사용하지 않고 형성될 수 있다. 따라서, 종래처럼 금속박막과 투명 기판의 점착력을 증대시키기 위하여 금속박막의 일면에 요철을 생성할 필요가 없으므로, 헤이즈 특성이 향상될 수 있다.
이러한 전자파 차폐막 패턴(130)의 두께는 0.5 ~ 40㎛가 바람직하고, 보다 바람직한 것은 3 ~ 10㎛이다. 이보다 얇은 것은 전자파 차폐능력이 떨어질 수 있고 이 보다 두꺼운 경우 제조 시간이 길어질 수 있다. 패널 어셈블리로부터 발생하는 전자파를 전부 흡수하기 위해서는, 도전성 전자파 차폐막 패턴이 소정치 이상의 두께를 필요하지만, 도전성 금속박막의 두께가 두꺼워질수록 가시광선투과율이 낮아지므로 이를 감안하여 적절한 두께로 형성하는 것이 바람직하다.
전자파 차폐막(100)에 구비되는 투명 기판(110)으로서는 투명한 재질이라면 특별한 제한은 없는데, 예를 들면, 유리, 석영 등의 무기화합물성형물과 투명한 유기고분자성형물을 들 수 있으나, 유기고분자성형물은 가볍고 잘 깨지지 않기 때문에 보다 바람직하게 사용할 수 있다. 이러한 투명 기판(110)의 두께는 약 80 내지 200㎛의 두께일 수 있다.
유기 고분자 성형물로서는, 아크릴이나 폴리카보네이트가 일반적으로 사용되지만 본 발명은 이러한 실시예들에 한정되는 것은 아니다. 투명 기판(110)은 고투명성과 내열성을 갖는 것이 바람직하며 고분자성형물 및 고분자성형물의 적층체를 투명 기판(110)으로 사용할 수 있다. 투명 기판(110)의 투명성에 관해서는 가시광선 투과율이 80% 이상인 것이 유리하며, 내열성에 관해서는 유리전이온도가 60℃ 이상인 것이 바람직하다. 고분자성형물은 가시파장영역에 있어서 투명하면 되고, 그 종류를 구체적으로 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리술폰(PS), 폴리에테르술폰(PES), 폴리스티렌, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르에테르케톤(PEEK), 폴리카보네이트(PC), 폴리프로필렌(PP), 폴리이미드, 트리아세틸셀룰로오스(TAC), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 등을 들 수 있으나, 이들에 한정되는 것은 아니다. 그 중 가격, 내열성, 투명성 면에서 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET)가 바람직하다.
한편, 전자파 차폐막(100)의 일면, 구체적으로 투명 기판(110)의 타면에는 필터 베이스(200)가 형성된다. 필터 베이스(200)는 투명 기판(210)에 반사방지막(220) 등 광학적 기능을 갖는 막이 더 형성될 수 있다. 이러한 전자파 차폐막(100)과 필터 베이스(200) 간에는 점착제층(A1)이 개재될 수 있다.
여기서, 투명 기판(210)으로는 일반적으로 두께가 2.0 내지 3.5 mm인 강화 또는 반강화 유리 또는 아크릴 같은 투명 플라스틱 재료를 사용하여 제조할 수 있다. 유리는 비중이 약 2.6으로 필터 제조시 경량화가 어렵고 두께가 두꺼워 플라즈마 디스플레이 패널 세트에 장착시 세트의 전체의 무게가 증가한다는 단점이 있으나 깨짐 방지 향상에 많은 역할을 한다.
반사방지막(220)으로서 예를 들면 가시영역에 있어서 굴절률이 1.5이하, 바람직하게는 1.4이하로 낮은, 불소계투명고분자수지나 불화마그네슘, 실리콘계수지나 산화규소의 박막 등을 예를 들면 1/4파장의 광학막두께에 의해서 단일층 형성한 것을 사용할 수 있다. 그리고, 반사방지막(220)으로서 굴절률이 다른, 금속산화물, 불화물, 규화물, 붕화물, 탄화물, 질화물, 황화물 등의 무기화합물 또는 실리콘계 수지나 아크릴수지, 불소계수지 등의 유기화합물의 박막을 2층 이상 다층적층한 것을 사용할 수 있다.
이러한 반사방지막(220)은 투명 기판(210)의 일면을 먼저 전자파 차폐막(100)과 점착시킨 다음 투명 기판(210)의 타면에 형성될 수도 있다.
예를 들어, 본 발명의 일 실시예에서는 반사방지막(220)은 SiO2와 같은 저굴절률 산화막과 TiO2 또는 Nb2O5와 같은 고굴절률 산화막을 교대로 적층한 구조를 사용할 수도 있다. 이러한 산화막들은 스퍼터링 또는 습식코팅을 이용하여 형성할 수 있다. 이러한 반사방지막(220)은 약 20nm 내지 300nm의 두께로 이루어질 수 있다.
한편, 전자파 차폐막(100)의 타면, 구체적으로는 전자파 차폐막 패턴(130)의 상면에는 색보정막(300)이 구비된다. 이들은 점착제층(A2)을 사용하여 점착될 수 있다. 도면에 도시된 바와 같이, 점착제층(A2)은 전자파 차폐막 패턴(130) 사이의 빈 공간을 채우도록 형성될 수 있다. 이러한 색보정막(300)은 네온광 차폐 기능과 근적외선 차폐 기능을 동시에 갖는 하이브리드 필름일 수 있으나, 본 발명이 네온광 차폐막과 근적외성 차폐막이 각각 적층되는 경우를 배제하는 것은 아니다. 이러한 색보정막(300)은 약 5 내지 150 ㎛의 두께로 이루어질 수 있다.
색보정막(300)으로서 네온광 차폐막과 근적외선 차폐막을 별도로 구비하는 경우, 네온광 차폐막은 이러한 오렌지색을 빨간색으로 색보정하는 역할을 하므로, 패널 어셈블리 내의 플라즈마로부터 발생하는 가시광선에 대해 근적외선 차폐막을 거치고 네온광 차폐막을 거쳐 색보정하는 것보다 네온광 차폐막을 먼저 거치는 것 이 더 유리하다.
이러한 색보정막(300)은 디스플레이의 색재현 범위를 증가시키고, 화면의 선명도를 향상시키기 위해서 불필요하게 방출되는 580~600㎚ 영역의 오렌지광을 흡수하기 위해서 선택 흡수성을 갖는 색소를 사용한다.
또한, 패널 어셈블리로부터 발생하여 무선전화기나 리모콘 등의 전자기기의 오동작을 일으키는 강력한 근적외선을 차폐하는 역할을 하기 위해 근적외선 영역의 파장을 흡수하는 근적외선 차폐성 색소를 함유한 고분자 수지를 사용할 수 있다. PDP 장치는 넓은 파장영역에 걸쳐서 강력한 근적외선을 발하기 때문에, 넓은 파장영역에 걸쳐서 근적외선을 흡수할 수 있는 근적외선 흡수성 색소를 사용할 필요가 있다.
예를 들면, 본 발명의 일 실시예에 있어서 색보정막(300)에 사용할 수 있는 색소로는 안트라퀴논계 색소, 아미늄계 색소, 폴리메틴계 색소, 아조계 색소 등과 유기계 색소를 1종 이상 사용할 수 있는데 이에 한정되지는 않는다. 색소의 종류와 농도는 색소의 흡수파장, 흡수계수, 디스플레이에서 요구되는 투과 특성에 의해서 결정되는 것이므로, 특정 수치로 한정되어 사용되지 않는다. 이러한 유기계 색소를 사용하는 경우, 무기계 색소에 비하여 PDP 필터의 헤이즈 특성을 향상시키는데 보다 유리하다.
한편, 별도의 도면으로 도시하지는 않았으나, 본 발명의 다른 실시예에 의하면 전자파 차폐막 패턴(130) 사이를 채우는 투명층을 더 구비할 수 있다. 이 때 색보정막은 투명층 상에 형성된 점착제층 상에 형성될 수 있다.
본 발명의 각 층 또는 막 사이에 개재되는 점착제 또는 접착제로서는 투명한 점착제 또는 접착제를 사용할 수 있다. 구체적인 재료로서, 아크릴계접착제, 실리콘계접착제, 우레탄계 접착제, 폴리비닐부티랄 접착제(PMB), 에틸렌-아세트산비닐계 접착제(EVA), 폴리비닐에테르, 포화무정형 폴리에스테르, 멜라민수지 등을 들 수 있다.
설명하지 않은 도면부호 125'는 공정상 형성된 무전해 도금핵막을 나타내며, 흑화되지 않은 부분을 의미한다.
이러한 본 발명의 일 실시예에 PDP 필터는 무전해 도금층 패턴을 포함하는 전자파 차폐막을 사용하고, 유기계 색소를 포함하는 색보정막을 사용함으로써 약 2.2% 이하의 헤이즈 값을 나타내는 등 헤이즈 특성이 개선될 수 있다.
이하, 본 발명의 도 2에 도시된 PDP 필터를 제조하는 방법을 도 3 내지 도 9를 참조하여 설명한다. 이하 제조 방법 설명시 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 널리 알려진 공정 단계들에 따라 형성될 수 있는 공정에 대해서는 본 발명이 모호하게 해석되는 것을 피하기 위하여 개략적으로 설명한다. 또한, 제조 방법에 있어서 PDP 필터에 포함된 각 구성요소들은 전술한 바와 실질적으로 동일하며, 동일 참조부호는 동일 부재를 의미하므로, 이하의 설명에서는 중복되는 설명은 생략하거나 간략하게 하기로 한다.
도 3에 도시된 바와 같이, 먼저 투명 기판(110) 상에 다공성 고분자막(120)을 형성한다.
다공성 고분자막(120)은 친수성의 투명한 재질로서, 예를 들면 비닐알코올계 수지, 아크릴계 수지, 셀룰로오스계 수지 등이 사용될 수 있는데 이에 한정되는 것은 아니다. 이러한 다공성 고분자막(120)은 전술한 투명 기판(110)의 일면에 형성될 수 있으며, 스핀코팅, 롤코팅, 딥핑, 바코팅 등에 의할 수 있다. 이러한 다공성 고분자막(120)은 약 0.2 내지 2 ㎛ 정도의 두께로 이루어질 수 있다.
다음으로 도 4에 도시된 바와 같이, 무전해 도금핵막(125)을 형성한다. 도 4에 도시된 무전해 도금핵막(125)은 다공성 고분자막(도 3의 120) 내에 무전해 도금핵이 형성됨으로써 다공성 고분자막 자체가 무전해 도금핵막(125)이 될 수 있는데 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 도면으로 도시하지는 않았지만, 전술한 다공성 고분자막의 표면에 무전해 도금핵막이 적층된 구조일 수도 있다. 여기서, 무전해 도금핵은 예를 들면 팔라듐 또는 은과 같은 화학도금용 촉매일 수 있다.
이 때, 화학도금용 촉매는 후속하는 도금 공정에서 금속 결정 성장을 촉진하는 촉매의 역할을 하게 된다. 구리, 니켈, 또는 금을 도금 처리할 경우, 이러한 금속염 처리를 통한 무전해 도금핵을 만드는 것이 바람직하다. 또한, 은 염용액 또는 팔라듐 염용액 또는 이들의 혼합 용액을 금속염 용액으로 사용할 수 있다. 이러한 팔라듐 또는 은 금속 입자 등으로 형성된 무전해 도금핵막(125)은 후속하는 무전해 도금 공정에서 촉매로서 충분한 활성을 지녀서 도금에 의한 금속 결정 성장을 촉진하므로, 보다 치밀한 조직의 금속 패턴을 얻을 수 있는 유리한 점이 있다.
이러한 무전해 도금핵막(125)을 형성하는 방법의 일 예로서, 앞서 형성된 다공성 고분자막을 화학 도금용 촉매 용액에 침지시킴으로써 화학 도금용 촉매가 다공성 고분자막 내에 함침되거나 다공성 고분자막의 표면에 흡착되도록 할 수 있다.
다음으로, 도 5에 도시된 바와 같이 무전해 도금핵막(도 3의 125) 상에 무전해 도금층(135a)을 형성한다. 이 때, 무전해 도금핵막(도 3의 125)은 무전해 도금층 형성시 금속 성분으로 인해 검은색으로 흑화되어 흑화층(131a)을 형성할 수 있다. 이로써, 본 발명의 일 실시예에 의하면 별도의 공정에 의하지 않고 흑화층을 형성할 수 있다. 물론, 필요한 경우 별도의 공정으로 흑화층을 형성할 수도 있다.
여기서 무전해 도금층(135a)은 무전해 도금법에 의해 형성된 금속층으로서, 전자파를 차폐할 수 있는 도전성 물질을 사용할 수 있다. 예를 들어, 구리, 크롬, 니켈, 은, 몰리브덴, 텅스텐, 알루미늄 등 전기전도성이 우수하고 가공성이 있는 금속이면 모두 사용 가능하다. 그 중 가격, 전기전도성, 가공성 면에서 구리와 니켈이 바람직하다. 더욱 바람직하게는 구리를 사용할 수 있다.
다음으로, 도 6에 도시된 바와 같이, 무전해 도금층(135a)의 상면에 마스크 패턴(140)을 형성한다. 그런 다음 패터닝하여, 도 7에 도시된 바와 같이 일면에 흑화층 패턴(131)이 형성된 무전해 도금층 패턴(135)으로 이루어진 전자파 차폐성 패턴(130)을 형성한다. 이 때 패터닝 공정은 질산, 염화 제2철 등을 사용할 수 있으며, 이러한 패터닝 공정 중 마스크 패턴(도5의 140)에 의해 노출된 부분의 무전해 도금층은 물론, 노출된 무전해 도금층 하부에 형성된 흑화층의 흑화 성분이 제거되어 다시 무전해 도금핵막(125')이 부분적으로 복구될 수 있다. 따라서, 흑화층은 무전해 도금층 패턴(135)의 하부 영역에만 잔류하도록 형성될 수 있다.
이어서, 도 8에 도시된 바와 같이 전자파 차폐막(100)의 일면에 필터 베이스(200)를 점착시킨다. 구체적으로, 필터 베이스(200)는 전자파 차폐막(100)의 투명 기판(110)의 일면, 즉 전자파 차폐성 패턴(130)이 형성되어 있지 않은 투명 기판(110)의 일면에 점착될 수 있다.
이러한 전자파 차폐막(100)과 필터 베이스(200)는 점착제를 이용하여 점착될 수 있는데, 점착제층(A1)은 점착시키고자 하는 필터 베이스(200) 또는 전자파 차폐막(100)의 일면에 형성될 수 있다.
이 때, 필터 베이스(200)는 광학적 기능을 갖도록 형성될 수 있는데, 예를 들면 투명 기판(210)에 반사방지막(220) 등 광학적 기능을 갖는 막이 더 형성될 수 있다. 또한, 도면으로 도시되지는 않았으나 필터 베이스(200)는 반사 방지기능 이외에 다른 광학적 기능을 더 구비하도록 형성할 수 있다.
여기서, 반사방지막(220)을 단일층으로 형성한 것은 제조가 용이하지만, 다층적층에 비해 반사방지능이 낮다. 다층적층한 것은 넓은 파장영역에 걸쳐서 반사방지능을 가진다. 이와 같은 반사방지막(220)으로서 무기화합물 박막을 형성하는 경우에는 스퍼터링, 이온플레이팅, 이온빔어시스트, 진공증착, 습식코팅 등 종래 공지의 방법에 의해 형성할 수 있고, 유기화합물 박막을 형성하는 경우에는 습식코팅 등 종래 공지의 방법에 의해 형성할 수 있다. 이러한 필터베이스(200)는 반사방지막(220)과 투명 기판(210)이 부착된 형태로서 전자파 차폐막(100)과 점착될 수 있는데, 이에 제한되는 것은 아니며, 예를 들어 필터베이스용 투명 기판(210)의 일면을 먼저 전자파 차폐막(100)과 점착시킨 다음 필터베이스용 투명 기판(210)의 타면에 반사방지막(220)을 형성할 수도 있다.
본 발명의 일 실시예에 의한 반사방지막(220)은 예를 들면 SiO2와 같은 저굴절률 산화막과 TiO2 또는 Nb2O5와 같은 고굴절률 산화막을 교대로 적층한 구조를 사용할 수도 있다. 이러한 산화막들은 스퍼터링 또는 습식코팅을 이용하여 형성할 수 있다. 이러한 반사방지막(220)은 약 20nm 내지 300nm의 두께로 이루어질 수 있다.
다음으로, 도 9에 도시된 바와 같이 전자파 차폐막(100) 상에 색보정막(300)을 가부착한다. 구체적으로, 점착제층(A2)을 이용하여 전자파 차폐막(100)상에 색보정막(300)이 가부착될 수 있다. 이 때 색보정막(300)은 네온광 차폐 기능과 근적외선 차폐 기능을 동시에 갖는 하이브리드 필름일 수 있으나, 본 발명이 네온광 차폐막과 근적외성 차폐막이 각각 적층되는 경우를 배제하는 것은 아니다. 또한, 점착제층(A2)은 부착시키고자 하는 전자파 차폐막(100) 또는 색보정막(300)의 일면 중 어느 하나에 형성될 수 있다.
이러한 색보정막(300)은 예를 들면 PET 기판 상에 네온광 차폐성 색소 및/또는 근적외선 차폐성 색소를 습식 코팅함으로써 제조될 수 있다.
이어서 오토클레이브(autoclave) 공정을 수행한다. 별도의 도면으로 도시하지는 않았으나, 오토 클레이브 공정에 의하면, 가부착된 전자파 차폐막과 색보정막이 점착이 완전하게 되어, 전자파 차폐막과 색보정막을 고정시킬 수 있다. 이와 같이, 본 발명의 일 실시예에 의하면, 전자파 차폐막과 색보정막을 가부착 및 오토클레이브 공정의 두 단계로 점착시킴으로써, 보다 헤이즈 특성을 향상시킬 수 있다.
구체적으로, 본 발명의 일 실시예에 있어서 오토클레이브 공정은 헤이즈 값 을 최적화시키고자, 약 30℃ 이상의 온도, 약 4기압 이상의 압력에서 진행할 수 있다. 온도가 30℃ 미만인 경우는 생산성이 저하되며, 압력이 4기압 미만인 경우에는 무전해 도금층 패턴 사이에 점착제가 제대로 메워지지 않아 미세기포가 남게 되어 이로 인해 헤이즈 값이 저하될 우려가 있다. 나아가, 경제성을 고려할 때, 약 30 내지 60℃의 온도, 약 4 내지 7기압의 압력에서 수행할 수 있다. 이 때, 오토클레이브 공정은 약 30분 이상 수행할 수 있다.
본 발명의 각 층 또는 막을 맞붙일 때에는, 투명한 점착제 또는 접착제를 사용할 수 있다. 구체적인 재료로서, 아크릴계접착제, 실리콘계접착제, 우레탄계 접착제, 폴리비닐부티랄 접착제(PMB), 에틸렌-아세트산비닐계 접착제(EVA), 폴리비닐에테르, 포화무정형 폴리에스테르, 멜라민수지 등을 들 수 있다.
이러한 본 발명의 일 실시예에 따른 제조 방법에 따라 제조된 PDP 필터는 헤이즈 특성이 개선됨으로써, 약 2.2% 이하의 헤이즈 값을 나타낼 수 있다.
상기한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 PDP 필터의 제조 방법은 전자파 차폐막(100)에 필터베이스(200)를 부착한 다음 색보정막(300)을 부착하는 순서로 진행한 것으로 설명하였으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 다시 말하면, 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 전자파 차폐막(100)과 색보정막(300)을 먼저 부착한 다음 필터베이스(200)를 부착시킬 수도 있음은 물론이다.
이하에서는 본 발명의 일 실시예에 따라 PDP 필터의 시편을 제조하여 그 물성을 측정하였다.
실험예
PET 기판의 일면에 다공성 고분자막을 0.5um 두께로 형성하고, Pd 콜로이드액에 침지하여 무전해 도금핵막을 형성하였다. 이어서 무전해 도금핵막 상에 Cu 층을 무전해 도금법에 의해 3um 두께로 형성한 다음, 패터닝하였다. 이어서 강화유리의 블랙세라믹이 형성된 일면에 전자파 차폐막의 PET 기판 중 무전해 도금층이 형성되지 않은 면을 접착시켰다. 그런 다음, 전자파 차폐막의 상면에 점착제를 도포하고, 아미늄계 유기 염료를 포함하는 하이브리드 필름을 접합기계로 가접합하였다. 그런 다음, 강화유리의 타면에 반사방지막을 접합하였다. 50℃, 6.2기압에서 30분간 오토클레이브 처리하여 PDP 필터를 완성하였다. Hazemeter(제조사: GARDNER. Model명: Haze-gard plus)에 의해 측정한 결과, 1.8%의 헤이즈값을 얻었다.
비교실험예
1
전술한 실험예와 마찬가지로 제조하되, 50℃, 3.0기압에서 30분간 오토클레이브 처리하여, 20%의 헤이즈값을 얻었다.
비교실험예
2
코발트계 색소를 사용한 것을 제외하고는 전술한 실험예와 마찬가지로 제조하고, 50℃, 6.2기압에서 30분간 오토클레이브 처리하여, 3.1%의 헤이즈값을 얻었다.
실험예에서 얻어진 PDP 필터는 헤이즈 특성이 1.8%로 측정되었다. 반면, 비교실험예 1의 경우 실험예에 비하여 낮은 압력에서 오토클레이브 처리하였는데, 헤이즈 특성이 매우 저하됨을 알 수 있다. 또한, 비교실험예 2는 색보정막에 무기계 색소인 코발트계 색소를 사용함으로써 유기계 색소를 사용한 실험예에 비하여 헤이즈 특성이 저하됨을 알 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따르면 PDP 필터의 헤이즈 특성을 향상시킬 수 있다.
Claims (17)
- 투명 기판, 상기 투명 기판의 상면 상에 형성된 무전해 도금핵막 및 상기 무전해 도금핵막의 상면 상에 형성된 무전해 도금층 패턴을 포함하는 전자파 차폐막;상기 전자파 차폐막의 상면 상에 형성된 색보정막; 및상기 전자파 차폐막의 하면 상에 형성된 필터베이스를 포함하고,상기 무전해 도금층 패턴은 무전해 도금되어 상기 무전해 도금층을 형성함과 아울러 상기 무전해 도금핵막을 흑화시키는 성분을 포함하여, 상기 무전해 도금핵막에 흑화층 패턴이 형성된 PDP 필터.
- 제1항에 있어서,상기 PDP 필터의 헤이즈 값은 2.2% 이하인 PDP 필터.
- 제1항에 있어서,상기 색보정막은 네온광 및 근적외광을 차단하는 하이브리드 필름인 PDP 필터.
- 제1항에 있어서,상기 색보정막은 안트라퀴논계 색소, 아미늄계 색소, 폴리메틴계 색소 및 아조계 색소로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 이상인 PDP 필터.
- 제1항에 있어서,상기 필터베이스는 투명 기판 및 상기 투명 기판의 일면에 형성된 반사방지 막을 포함하는 PDP 필터.
- 삭제
- 투명 기판의 일면에 무전해 도금층을 형성하는 단계;상기 무전해 도금층을 패터닝하여 전자파 차폐성 패턴을 형성하는 단계;상기 투명 기판의 타면에 필터베이스를 부착하는 단계;상기 전자파 차폐성 패턴의 상부에 색보정막을 가부착하는 단계; 및오토클레이브 공정으로 상기 전자파 차폐막의 상부에 가부착된 색보정막을 고정하는 단계를 포함하는 PDP 필터의 제조 방법.
- 제7항에 있어서, 상기 무전해 도금층을 형성하는 단계는상기 투명 기판 상에 무전해 도금핵막을 형성하는 단계; 및상기 무전해 도금핵막 상에 무전해 도금층을 형성하는 단계를 포함하는 PDP 필터의 제조 방법.
- 제8항에 있어서,상기 무전해 도금핵막을 형성하는 단계는상기 투명 기판 상에 다공성 고분자막을 형성하는 단계; 및상기 다공성 고분자막을 화학도금용 콜로이드액에 침지하는 단계를 포함하는 PDP 필터의 제조 방법.
- 제9항에 있어서,상기 화학도금용 콜로이드액은 팔라듐 또는 은 콜로이드액인 PDP 필터의 제조 방법.
- 제8항에 있어서,상기 무전해 도금층은, 무전해 도금되어 상기 무전해 도금층을 형성함과 아울러 상기 무전해 도금핵막을 흑화시키는 성분을 포함하여,상기 무전해 도금층 형성시 상기 무전해 도금핵막이 흑화되는 PDP 필터의 제조 방법.
- 삭제
- 제7항에 있어서,상기 오토클레이브 공정은 30 내지 60℃, 4 내지 7기압 하에서 진행하는 PDP 필터의 제조 방법.
- 제7항에 있어서,상기 PDP 필터의 헤이즈 값이 2.2% 이하인 PDP 필터의 제조 방법.
- 제7항에 있어서,상기 색보정막은 네온광 및 근적외광을 차단하는 하이브리드 필름인 PDP 필터의 제조 방법.
- 제7항에 있어서,상기 색보정막은 안트라퀴논계 색소, 아미늄계 색소, 폴리메틴계 색소 및 아조계 색소로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 이상인 PDP 필터의 제조 방법.
- 제7항에 있어서,상기 필터베이스는 투명 기판 및 상기 투명 기판의 일면에 형성된 반사방지막을 포함하는 PDP 필터의 제조 방법.
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