TWI395980B - 具有多層薄膜之電漿顯示面板濾色片及其製造方法 - Google Patents
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Description
本申請案主張於2006年5月30日在韓國智慧產權局申請之韓國專利申請案第10-2006-0048495號之權利，該門專利申請案之揭示內容以引用的方式併入本文中。
本發明有關於電漿顯示面板(PDP)濾色片及其製造方法，更特定言之，有關於具有多層薄膜之電漿顯示面板濾色片，其具有高折射率及光透射率，且可提高生產設備之生產力。
一般而言，在一電漿顯示面板(PDP)裝置中，氖氣+氬氣(Ne+Ar)、氖氣+氙氣(Ne+Xe)及類似氣體被包含於一空間中，該空間由一前玻璃板、一後玻璃板以及一分隔玻璃板遮蓋。在此實例中，向一陽極及一陰極施加一電壓，則發出用作背光之螢光。
通常由一具有規則電壓之連續脈衝操作該電漿顯示面板裝置。此外，由於氣體放電需要較高電壓，例如數百伏，所以藉由放大一影像訊號操作該電漿顯示面板裝置。有助於實現大尺寸顯示裝置的氣體放電特性可適用於電漿顯示面板裝置之操作方法。相應地，電漿顯示面板裝置適用於大尺寸顯示裝置。在電漿顯示面板裝置中，由於施加於該等電極之直流(DC)或交流(AC)電壓而產生氣體放電。在此實例中，發出紫外(UV)光線，從而激
發磷光體發出可見光。但是，在電漿顯示面板裝置作業時，會發出大量磷光體閃爍、電磁波及近紅外光線。此外，還會產生由氦氣(He)和氙氣(Xe)發出之橙色光。相應地，電漿顯示面板裝置之色純度(color purity)次於陰極射線管(CRT)之色純度。
因此，為了克服上述缺點，在電漿顯示面板裝置中使用一種電漿顯示面板濾色片，其能夠遮蔽電磁波與近紅外光線、防止閃爍及/或改良色純度。此外，由於該電漿顯示面板濾色片安裝在一面板組合件之前部，所以該電漿顯示面板濾波片還需要具有令人滿意之透明度。產生電磁波之主要原因是驅動電路與交流電極之間流動的電流，以及電極之間用於電漿放電之高電壓。由此等原因產生之電磁波主要處於30-200百萬赫之頻帶內。通常，在可見光譜內保持高光透射率及低折射率之透明導電薄膜或導電網被用作一電磁遮蔽層，用於遮蔽所產生之電磁波。
圖1是說明根據先前技術之電漿顯示面板濾色片之截面視圖。
參考圖1，根據先前技術之電漿顯示面板濾色片包含兩個低反射率薄膜110、一透明基板120和一塗敷層130。通常，低反射率薄膜110之一側由一低反射率塗層處理，低反射率薄膜110之另一側添加一黏著材料，以易於將低反射率薄膜110與透明基板120黏結在一起。相應地，在圖1中，分別地，低反射率薄膜110之外側由一低反射率塗層處理，而低反射率薄膜110之面對透明基板120之內側被添加黏著材料。此外，必要時向低反射率薄膜110
之一側添加一色素(pigment)，用於色彩校正。透明基板120是一種光透射率大於一預定值之基板，且通常由透明玻璃組成。此外，塗敷層130形成於透明基板120之一側，即面向一電漿顯示面板模組之前部的一側，如圖1所示。塗敷層130具有一多層薄膜結構，其使電漿顯示面板濾色片能夠遮蔽電磁波，且具有令人滿意之光透射率。相應地，可根據該多層薄膜之結構及組件決定該電漿顯示面板濾色片之特性。
通常，電漿顯示面板濾色片可被劃分為兩個產品類別，其中一產品類別要求薄膜電阻低於大約1.5歐姆/平方，而另一產品類別要求薄膜電阻低於大約2.5歐姆/平方。根據所有國家目前要求之安全標準，A類對應於薄膜電阻小於大約2.5歐姆/平方之產品範圍，B類對應於薄膜電阻小於大約1.5歐姆/平方之產品類別。另外，該多層薄膜中所包含的組件及層數可根據每一產品類別而變化。與薄膜電阻小於大約2.5歐姆/平方之產品類別A相比，薄膜電阻小於大約1.5歐姆/平方之產品類別B的光透射率較低、光反射率較高。與此相關，在目前廣泛應用之電漿顯示面板濾色片中，當電漿顯示面板濾色片之薄膜電阻低於大約1.5歐姆/平方時，該電漿顯示面板濾色片具有插入了四個銀層之4-Ag結構。當電漿顯示面板濾色片之薄膜電阻低於大約2.5歐姆/平方時，該電漿顯示面板濾色片具有插入了三個銀層之3-Ag結構。
圖2說明根據先前技術之具有4-Ag結構之多層薄膜。參考圖
2，一第一氧化物薄膜220、一第二氧化物薄膜230及銀(Ag)240被堆疊在一透明基板210上。此外，為防止銀240被第一氧化物薄膜220氧化，另一第二氧化物薄膜250被堆疊在銀240上。此結構被堆疊四次，從而形成一具有4-Ag結構之多層薄膜。
在上述多層薄膜中，需要堆疊複數層第二氧化物薄膜250。相應地，增加了所需塗敷設備、生產成本及生產時間，進而降低了生產力。
此外，當使用一反應沈積方法在Ag 240上塗敷另一第一氧化物薄膜260(其可能為一高折射率層)時，Ag 240之電導率及光透射率可能被降低。相應地，為防止此種轉換，在Ag 240上有選擇性地塗敷其他第二氧化物薄膜250或其他第一氧化物薄膜260。在此實例中，其他第一氧化物薄膜260不需要一反應塗敷。此外，第一氧化物薄膜260之折射率在光學上較低，其可能會影響一電漿顯示面板濾色片之整體物理特性。
此外，氧化銦錫(ITO)之原材料-銦的單位成本很高。氧化銦錫被廣泛用作其他第二氧化薄膜250。
本發明提供一種導電薄膜濾色片，其位於一銀(Ag)薄膜之上，並且不會使電導率下降，本發明還提供一種電漿顯示面板濾色片之導電材料，其不需要一附加氧化物保護層。
本發明還提供一種具有多層薄膜之電漿顯示面板濾色片及其
製造方法，其可以降低沈積一傳統第二氧化物薄膜之靶材成本，而不會降低電導率，且延緩該傳統第二氧化物薄膜之退化過程。
本發明還提供一種具有簡單結構之多層薄膜的電漿顯示面板濾色片，該薄膜可以改良該電漿顯示面板濾色片之折射率及光透射率。
本發明還提供一種不需要添加大量氧氣之塗敷方法，其可以提高一塗敷設備之生產力。
本發明還提供一種具有多層薄膜之電漿顯示面板濾色片，其不需要額外形成一第二氧化物薄膜層。
根據本發明之一態樣，提供一種具有一多層薄膜之電漿顯示面板濾色片，該電漿顯示面板濾色片包括：一透明基板；至少一重複單元層，其包括一高折射率透明薄膜層、一金屬氧化物薄膜層及一金屬薄膜層，位於該透明基板上，且堆疊每一重複單元層；且該高折射率透明薄膜層形成於該至少一重複單元層之上部。
根據本發明之另一態樣，提供一種製造電漿顯示面板濾色片之方法，該方法包括：在一透明基板上堆疊至少一重複單元層，其包括一高折射率透明薄膜層、一金屬氧化物薄膜層及一金屬薄膜層；且將該高折射率透光薄膜層堆疊於該至少一重複單元層之上部。
現在詳盡參考本發明之具體實施例，其實例說明於隨附圖式
中，其中相同參考數字始終代表相同元件。下文參考該等圖式對該等具體實施例進行說明，以解釋本發明。
圖3說明根據本發明之一具體實施例之電漿顯示面板濾色片之多層薄膜結構。如圖3所示，一第一Nb2O5層310-1、一第一摻鋁氧化鋅(AZO)層320-1、一第一銀層330-1及一第二Nb2O5層310-2依次堆疊在一透明基板210上。
採用一銀(AG)靶材，且採用氬作為第一銀層330-1之濺射氣體。在此實例中，所使用之氬量大約為160~200 sccm。此外，在形成Nb2O5層310-1及310-2時，採用氬作為濺射氣體，採用氧作為反應氣體。在此實例中，所使用之氬量大約為140~210 sccm，氧量大約為所用氬量的4~12%，較佳地為其8~12%。此外，在形成AZO層320-1時，採用氬作為濺射氣體，採用氧作為反應氣體。在此實例中，所使用之氬量大約為160~200 sccm，氧量大約為所用氬量的8~12%。對於銀層330-1、AZO層320-1和Nb2O5層310-1及310-2，可使用直流(DC)濺射或中頻(MF)濺射。
在根據本發明之多層薄膜中，一金屬薄膜層由銀或包含銀之合金形成。可以有效地使用銀，因為在多層堆疊時，銀具有優異之電導率、紅外線反射性及光透射率。但是，銀之化學及物理穩定性較弱，會因為諸如污染物、水蒸氣、熱及光等環境因素而退化。相應地，可有利地採用銀與以下金屬中至少一種之合金：金、鉑、鈀、銦及錫，此等金屬皆為穩定的。在此實例中，該合金中
之銀含量可對應於一小於大約50-100wt%之值，儘管該合金中之銀含量不受特別限制。通常，在向銀添加另一金屬時，銀之優異電導率及光學特性可能會被削弱。相應地，要求複數個金屬薄膜層中之至少一金屬薄膜層不包含銀與另一金屬之合金。當一整體金屬薄膜層由並非合金之銀製成時，一多層薄膜可具有優異之電導率及光學特性。但是，其對環境之適應力可能很弱。
參考圖3，第一Nb2O5層310-1及第一AZO層320-1依次堆疊在透明基板210上。在此實例中，透明基板210可以是一透明玻璃。另外，第一Nb2O5層310-1之厚度可以為大約25~33奈米，較佳地為大約27~33奈米，第一AZO層320-1之厚度可以為大約3~7奈米。
在此實例中，透明基板210通常採用厚度大約為2.0~3.5毫米之淬火玻璃或半淬火玻璃製成，或者採用諸如丙烯酸等透明塑膠材料製成。透明基板210較佳地具有高透明性和熱阻。此外，一高聚合物複合物及該高聚合物複合物之一堆疊主體可被用作透明基板210。透明基板210可較佳地具有至少80%之透光率及至少大約60℃之玻璃移轉溫度。該高聚合物複合物在可見波長光譜內可以為透明的。此外，聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碸(PS)、聚醚碸(PES)、聚苯乙烯、聚對萘二甲酸乙二酯、多芳基化合物(pOlyarylate)、聚醚醚酮(PEEK)、聚碳酸酯(PC)、聚丙烯(PP)、聚酰亞胺、三醋酸纖維素(TAC)與聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)可被
包含於該高聚合物複合物中。但是，上述高聚合物複合物不限於上述給出名稱之複合物。PET在價格、熱阻及透明度等方面均具有優勢。
在圖3中，第一銀層330-1被塗敷在第一AZO層320-1上，從而形成一第一金屬薄膜層。在此實例中，該第一銀層330-1之厚度對應於大約10~12奈米。在先前技術中，採用一氧化銦錫(ITO)層，而非一AZO層。該ITO在一可見光譜之550奈米波長中具有大約90%之高光透射率、大約2X10-4 Ω cm之低電阻率以及一高功函數。相應地，ITO被廣泛用作一液晶顯示器(LCD)、一電漿顯示面板及一有機發光二極體(OLED)之透明電極。但是，儘管具有此等光學及電學特性，ITO層之原材料-銦(In)的生產成本非常高。相反，氧化鋅(ZnO)在紅外及可見光譜中具有高透光率，在電導率及電漿方面具有高持久性。相應地，ZnO適於製造暴露於輻射之中的透明基板。
透過上述操作形成之第一Nb2O5層310-1、第一AZO層320-1和第一銀層330-1形成一重複單元層。在形成該重複單元層之後，可藉由在第一銀層330-1之頂部堆疊一第二高折射率透明薄膜層而製造具有多層薄膜之電漿顯示面板濾色片。根據先前技術，在形成該第二高折射率透明薄膜層之前，應用一第二氧化物層250，即一第二ITO層，如圖2所示。在此實例中，第二氧化物層250用作一障壁，以防止在應用另一第一Nb2O5層260時，由於一氧
氣電漿而使銀240之電導率退化。但是，根據本發明之塗敷方法引入一靶材，其形成令人滿意之電導率。在此實例中，根據本發明之塗敷方法保持一氧化條件。此外，該塗敷方法用於沈積一高折射率透明薄膜層，而不需要添加大量氧氣。具體而言，在一Nb2O5塗敷薄膜中，在利用一靶材Nb2Ox塗敷該Nb2O5塗敷薄膜時(其中x表示一介於4.5至4.99之間的值)，可保持一能夠電氣構成陰極之電導率。相應地，可藉由添加少量氧氣來形成該Nb2O5塗敷薄膜。在此實例中，一靶材Nb2Ox(其中x表示一介於4.8至4.99之間的值)為較佳的。可以在沒有額外形成根據該先前技術之第二氧化物層的情況下，使用此靶材Nb2Ox製造一電漿顯示面板濾色片。
根據本發明之一具體實施例，可堆疊至少兩上述重複單元層。圖4說明作為一實例之三重複單元層結構，圖5說明作為一實例之四重複單元層結構。
在包括至少三個重複單元層時，最接近該透明基板210之重複單元層之高折射率透明薄膜層與最遠離該透明基板210之重複單元層之高折射率透明薄膜層具有相同厚度。位於該等至少三重複單元層中間的重複單元層的高折射率透明薄膜之厚度不同於該等具有相同厚度之高折射率透明薄膜之厚度。根據該重複單元層之數目，該電漿顯示面板濾色片之物理特性可以改變，在下文將對其進行詳盡說明。
圖4說明根據本發明一具體實施例之具有3-Ag結構之電漿顯示面板濾色片之多層薄膜結構。如圖4所示，一第一Nb2O5層310-1、一第一AZO層320-1、一第一銀層330-1、一第二Nb2O5層310-2、一第二AZO層320-2、一第二銀層330-2、一第三Nb2O5層310-3、一第三AZO層320-3、一第三銀層330-3及一第四Nb2O5層310-4被依次堆疊在一透明基板210上。
一第二重複單元層被依次堆疊在參考圖3所描述之第一銀層330-1之上。具體而言，第二Nb2O5層310-2與第二AZO層320-2被依次形成。在此實例中，第二Nb2O5層310-2之厚度可以為大約24~33奈米，較佳地為大約25~33奈米，第二AZO層320-2之厚度可以為大約3~7奈米。此外，第二銀層330-2之厚度可以為大約11~14奈米。
一第三重複單元層被依次堆疊在該第二重複單元層上。在此實例中，第三Nb2O5層310-3之厚度可以為大約25~33奈米，較佳地為大約27~33奈米，第三AZO層320-3之厚度可以為大約3~7奈米。此外，第三銀層330-3之厚度可以為大約10~12奈米。該第三重複單元層之Nb2O5層及AZO層之各自厚度分別與該第一重複單元層之相應Nb2O5層及AZO層之厚度相同。
可以藉由在該第三重複單元層之頂部堆疊一第四Nb2O5層310-4製造一電漿顯示面板濾色片，其具有包含三個重複單元層之多層薄膜。在此實例中，該第四Nb2O5層310-4之厚度可以為25~
33奈米。
根據本發明之一具體實施例，在應用一Nb2O5層時，在一氬環境中利用一Nb2O5靶材即一陶瓷靶材施加該Nb2O5層，而不是使用一鈮(Nb)靶材及一反應濺射方法。在使用反應濺射時，所注入之氧氣及氬氣(Ar)量大約為200 sccm。在使用該陶瓷靶材時，所注入之氬氣量大約為140~210 sccm。此外，所注入之氧氣量大約為氬氣量之4~12%，較佳地為大約8~12%。相應地，在塗敷該銀層之後，甚至在向該銀層施加該Nb2O5層之後，該銀層之電導率亦未被退化。因此，即使在省略該阻障層之後，該重複單元層之特性亦未發生變化。具體而言，根據先前技術，應用一諸如ITO層或一AZO層之阻障層，以防止在應用該Nb2O5層時由於氧氣電漿而使銀層之電導率被退化。但是，在本發明中，可省略該阻障層。具體而言，如圖2所示之4-Ag結構之四個第二氧化物薄膜層不是必需的。
根據本發明之多層薄膜之高折射率透明薄膜層之平均折射率大於根據先前技術之高折射率透明薄膜層之平均折射率。在此實例中，根據先前技術之高折射率透明薄膜層具有阻障層。相應地，根據本發明之高折射率透明薄膜層之光透射率及透光頻寬被改良。
包含如圖4所示之三重複單元層之電漿顯示面板濾色片的薄膜電阻大約為0.9~2.5歐姆/平方，較佳地為大約0.9~1.1歐姆/
平方，光透射率為75±4%。
圖5說明根據本發明另一具體實施例之具有4-Ag結構之電漿顯示面板濾色片之多層薄膜結構。
與圖4中多層薄膜之描述類似，複數個重複單元層被依次堆疊。在此實例中，該重複單元層包括一高折射率透明薄膜層、一金屬氧化物薄膜層及一金屬薄膜層。用於形成如圖5所示之多層薄膜之製程條件與上文在圖3及圖4中所述之製造條件相同。另外，如圖5所示，最接近透明基板210之第一重複單元層與最遠離透明基板210之第四重複單元層具有相同厚度。一第二重複單元層與一第三重複單元層具有相同厚度，將在下文對此進行詳盡描述。
包含於該第一重複單元層中之第一Nb2O5層410-1之厚度可以為大約25~33奈米，較佳地為大約27~33奈米，一第一AZO層420-1之厚度可以為大約3~7奈米。此外，第一銀層430-1之厚度可以為大約10~12奈米。
一第二Nb2O5層410-2、一第二AZO層420-2及一第二銀層430-2被依次堆疊。在此實例中，包含在一第二重複單元層中之第二Nb2O5層410-2之厚度可以為大約25~33奈米，較佳地為大約27~33奈米，第二AZO層420-2之厚度可以為大約3~7奈米。此外，第二銀層430-2之厚度可以為大約11~14奈米。
包含於一第三重複單元層中之第三Nb2O5層410-3之厚度可
以為大約25~33奈米，較佳地為大約27~33奈米，一第三AZO層420-3之厚度可以為大約3~7奈米。此外，一第三銀層430-3之厚度可以為大約11~14奈米。具體而言，該第三重複單元層之每一層之厚度與該第二重複單元層之各自層之厚度相同。
一第四Nb2O5層410-4之厚度可以為大約25~33奈米，較佳地為大約27~33奈米，一第四AZO層420-4之厚度可以為大約3~7奈米。此外，一第四銀層430-4之厚度可以為大約10~12奈米。具體而言，該第四重複單元層之每一層之厚度與該第一重複單元層之各自層之厚度相同。
可以藉由在該第四重複單元層之頂部堆疊一第五Nb2O5層410-5完成一電漿顯示面板濾色片，其具有包含該等重複單元層之多層薄膜。在此實例中，該第五Nb2O5層410-5之厚度可以為25~33奈米。
包含如圖5所示之重複單元層之電漿顯示面板濾色片的薄膜電阻大約為.6~1.2歐姆/平方，較佳地為大約0.7~1.1歐姆/平方，光透射率為67±5%。
在本發明中，重複單元層之較佳數目為3至6個重複單元層。儘管上文已經在圖3及圖4中描述了包括三或四個重複單元層之多層薄膜，但本發明並不受此限制。最接近透明基板210之重複單元層之組件層與最遠離透明層210之重複單元層之組件層具有相同厚度。此外，位於該等重複單元層之中間的所有重複單元層
之各自組件層具有相同厚度。根據重複單元層之數目，該電漿顯示面板濾色片之物理特性可以變化。
在本發明中，為了改良該多層薄膜之機械強度或對環境之適應性，可以在一表面上形成一硬塗敷層，該表面不包括其中堆疊該透明基板之多層薄膜之表面。此外，可以在一導電表面上形成一未降低電導率及光學特性之預定保護層。在此實例中，該導電表面是指在該透明基板上形成該重複單元層之表面。
此外，為了改良該金屬薄膜對環境之適應性以及該金屬薄膜與該高折射率透明薄膜之黏著性，可以在該金屬薄膜與該高折射率透明薄膜之間包含一不損壞電導率及光學特性之預定無機材料。該無機材料可包括銅、鎳、鉻、金、鉑、鋅、鋯、鈦、鎢、錫、鈀或至少兩種上述無機材料之合金。該無機材料之較佳厚度為0.02~2奈米。當該厚度不足時，其黏著性可能不會被改良。此外，可藉由在該多層薄膜頂部形成一由單層或多層組成之防反射層來獲得光透射率得以改進之多層薄膜。
根據本發明，提供一種導電薄膜濾色片，其位於一銀(Ag)薄膜之上，並且不會使電導率下降，還提供一種電漿顯示面板濾色片之導電材料，其不需要一附加氧化物保護層。
根據本發明，可以降低沈積一傳統第二氧化物薄膜之靶材成本，而不會降低其電導率，且延緩該傳統第二氧化物薄膜之退化過程。
根據本發明，提供一種具有簡單結構之多層薄膜的電漿顯示面板濾色片，從而可以改良該電漿顯示面板濾色片之折射率及光透射率。
根據本發明，提供一種不需要添加大量氧氣之塗敷方法，從而可以提供一塗敷設備之生產力。
根據本發明，提供一種具有多層薄膜之電漿顯示面板濾色片，其不需要根據先前技術額外形成一第二氧化物薄膜層。
儘管已經展示及說明了本發明之一些具體實施例，但本發明並不限於所述具體實施例。相反，熟習此項技術者應瞭解，可以修改此等具體實施例，而不背離本發明之原理與精神，本發明之範圍由申請專利範圍及其等價內容限定。
110‧‧‧低反射率薄膜
120‧‧‧透明基板
130‧‧‧塗敷層
210‧‧‧透明基板
220‧‧‧第一氧化物薄膜
230‧‧‧第二氧化物薄膜
240‧‧‧銀(Ag)
250‧‧‧第二氧化物薄膜
260‧‧‧第一氧化物薄膜
310-1‧‧‧第一Nb2O5層
310-2‧‧‧第二Nb2O5層
310-3‧‧‧第三Nb2O5層
310-4‧‧‧第四Nb2O5層
320-1‧‧‧第一AZO層
320-2‧‧‧第二AZO層
320-3‧‧‧第三AZO層
330-1‧‧‧第一銀層
330-2‧‧‧第二銀層
330-3‧‧‧第三銀層
410-1‧‧‧第一Nb2O5層
410-2‧‧‧第二Nb2O5層
410-3‧‧‧第三Nb2O5層
410-4‧‧‧第四Nb2O5層
410-5‧‧‧第五Nb2O5層
420-1‧‧‧第一AZO層
420-2‧‧‧第二AZO層
420-3‧‧‧第三AZO層
420-4‧‧‧第四AZO層
430-1‧‧‧第一銀層
430-2‧‧‧第二銀層
430-3‧‧‧第三銀層
430-4‧‧‧第四銀層
結合隨附圖式，由以上詳盡說明中可以明瞭及更易於理解本發明之上述及其他態樣與優點。
圖1是說明根據先前技術之電漿顯示面板濾色片之截面視圖。
圖2說明根據先前技術之具有4-Ag結構之多層薄膜。
圖3說明根據本發明之一具體實施例之電漿顯示面板濾色片之多層薄膜結構。
圖4說明根據本發明一具體實施例之具有3-Ag結構之電漿顯示面板濾色片之多層薄膜結構。
圖5說明根據本發明另一具體實施例之具有4-Ag結構之電漿
顯示面板濾色片之多層薄膜結構。
Ag‧‧‧銀
210‧‧‧透明基板
Repeating unit layer‧‧‧重複單元層
Claims (15)
- 一種具有一多層薄膜之電漿顯示面板濾色片，該電漿顯示面板濾色片包括：一透明基板；至少一重複單元層，位於該透明基板上，該至少一重複單元層包括一高折射率透明薄膜層、一金屬氧化物薄膜層及一金屬薄膜層，且堆疊每一重複單元層；以及形成於該至少一重複單元層之一上部之高折射率透明薄膜層，其中該高折射率透明薄膜層包含五氧化二鈮(Nb2O5)，且在一氧氣環境中使用一靶材Nb2Ox形成該Nb2O5，其中x表示一介於4.5至4.99範圍內之值。
- 如申請專利範圍第1項所述之電漿顯示面板濾色片，其中在一氧氣環境中使用一靶材Nb2Ox塗敷該Nb2O5，其中x表示一介於4.8至4.99範圍內之值。
- 如申請專利範圍第1項所述之電漿顯示面板濾色片，其中該金屬薄膜層由銀及由銀所組成的一合金之任意一種所組成。
- 如申請專利範圍第1項所述之電漿顯示面板濾色片，其中該金屬氧化物薄膜層由摻鋁氧化鋅(AZO)所組成。
- 如申請專利範圍第1項所述之電漿顯示面板濾色片，其中該高折射率透明薄膜層之一厚度介於25奈米至33奈米之間。
- 如申請專利範圍第5項所述之電漿顯示面板濾色片，其中 該高折射率透明薄膜層之一厚度介於27奈米至33奈米之間。
- 如申請專利範圍第1項所述之電漿顯示面板濾色片，其中該金屬氧化物薄膜層之一厚度介於10奈米至12奈米之間。
- 如申請專利範圍第1項所述之電漿顯示面板濾色片，其中：提供至少兩個重複單元層；來自該重複單元層之最接近該透明基板之該金屬薄膜層及最遠離該透明基板之該金屬薄膜層的一厚度介於10奈米至12奈米之間；以及包含在該重複單元層中之一金屬薄膜層的一厚度介於11奈米至14奈米之間，其中該重複單元層排除含有最接近及最遠離該透明基板的該金屬薄膜層的該重複單元層。
- 如申請專利範圍第1項所述之電漿顯示面板濾色片，其中提供三個重複單元層，且該多層薄膜之一薄膜電阻介於0.9歐姆/平方至2.5歐姆/平方之間，且一光透射率介於71%至79%之間。
- 如申請專利範圍第9項所述之電漿顯示面板濾色片，其中該多層薄膜之一薄膜電阻介於0.9歐姆/平方至1.1歐姆/平方之間。
- 如申請專利範圍第1項所述之電漿顯示面板濾色片，其中提供四個重複單元層，且該多層薄膜之一薄膜電阻介於0.6歐姆/平方至1.2歐姆/平方之間，且一光透射率介於62%至72%之間。
- 如申請專利範圍第11項所述之電漿顯示面板濾色片，其中該多層薄膜之一薄膜電阻介於0.7歐姆/平方至1.1歐姆/平方之 間，且一光透射率介於63%與71%之間。
- 一種製造一電漿顯示面板濾色片之方法，該方法包括：在一透明基板上堆疊至少一重複單元層，該至少一重複單元層包括一高折射率透明薄膜層、一金屬氧化物薄膜層及一金屬薄膜層；以及在該至少一重複單元層之一上部堆疊該高折射率透明薄膜層，其中該高折射率透明薄膜層包含五氧化二鈮(Nb2O5)，且在一氧氣環境中使用一靶材Nb2Ox形成該Nb2O5，其中x表示一介於4.5至4.99範圍內之值。
- 如申請專利範圍第13項所述之方法，其中該金屬薄膜層由銀及由銀所組成的一合金之任意一種所組成。
- 如申請專利範圍第13項所述之方法，其中該金屬氧化物薄膜層由AZO所組成。
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