JP2009055012A - ディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材 - Google Patents

Abstract

【課題】透明な基材、電極層、および透明導電膜層を含むディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材を提供する。
【解決手段】電極層は、ｉ）基材の少なくとも一枠領域に対応して形成された接地電極と、ｉｉ）接地電極と連結するように基材上に形成され、メッシュまたはストライプパターンを有する補助電極とを含む。透明導電膜層は、電極層上にまたは基材と電極層との間に形成され、金属薄膜と金属酸化物薄膜が複数回積層されて形成される。本発明に係るディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材は、電磁波遮蔽効率が優れている。
【選択図】図１

Description

本発明は、ディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材に関し、より詳細には、製造工程が簡単であり、電磁波遮蔽能力を向上させることができるディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材に関する。

現代社会の高度情報化に伴い、イメージディスプレイ（ｉｍａｇｅ ｄｉｓｐｌａｙ）の関連部品および機器が著しく進歩して普及している。その中でも、画像を表示するディスプレイ装置は、テレビ装置やパソコンのモニタ装置などの用途で著しく普及しており、このようなディスプレイは、大型化と同時に薄型化も進められている。

一般的に、プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ、以下「ＰＤＰ」と称する）装置は、既存のディスプレイ装置を代表する陰極線管（ｃａｔｈｏｄｅ ｒａｙ ｔｕｂｅ、以下「ＣＲＴ」と称する）に比べて、大型化および薄型化を同時に満たすことができ、次世代のディスプレイ装置として脚光を浴びている。このようなＰＤＰ装置は、ガス放電現象を用いて画像を表示するものであって、表示容量、輝度、コントラスト比、残像、視野角などの各種表示能力が優れている。さらに、ＰＤＰ装置は、他の表示装置よりも大型化が容易であり、薄型の発光型表示装置として、今後の高品質デジタルテレビに最適な特性を備えていると評価されており、ＣＲＴを代替することができるディスプレイ装置として注目されている。

ＰＤＰ装置は、電極に印加される直流または交流電圧によって電極間のガスから放電が発生し、これに伴う紫外線の放射によって蛍光体を励起させて発光するようになる。

しかしながら、ＰＤＰ装置は、その駆動の特性上、電磁波および近赤外線の放出量が多く、蛍光体の表面反射が高いだけでなく、封入ガスであるネオン（Ｎｅ）やキセノン（Ｘｅ）から放出されるオレンジ光によって、色純度がＣＲＴに及ばないという短所がある。

したがって、ＰＤＰ装置から発生する電磁波および近赤外線によって人体に有害な影響を及ぼし、無線電話機やリモコンなどの精密機器の誤動作を誘発する恐れもある。このようなＰＤＰ装置を用いるためには、ＰＤＰ装置から放出する電磁波と近赤外線の放出を所定の値以下に抑制することが求められている。このために、電磁波遮蔽板をディスプレイの表示部の前面に装着する方法があるが、前面板として用いられる電磁波遮蔽板は、電磁波を遮蔽する機能の他にも、ディスプレイ表示画面の透視性を低下させないものが求められる。

しかしながら、ＰＤＰ装置では、電磁波遮蔽だけでなく、近赤外線遮蔽、反射光減少、色純度向上、コントラスト比向上などの多様な機能が求められており、これを同時に満たすためにＰＤＰフィルタを採用している。ＰＤＰフィルタは、電磁波遮蔽層、近赤外線遮蔽層、色補正層、外光遮蔽層などの機能層、またはこのような機能のうちの２種以上の機能を同時に実行する複合層が積層された構造であり、現在、このような機能を向上させるとともに、製造工程の簡素化および経済化のために多くの努力が成されている。

既存に商業化されている電磁波遮蔽層は、金属メッシュ（ｍｅｓｈ）を用いる方法と、透明な電気伝導性薄膜をコーティングする方法とが用いられている。このうち、金属メッシュを用いる方法は、金属をコーティングした繊維を製織して用いる方法と、薄い銅ホイル（ｆｏｉｌ）をエッチングする方法との２種類の方に大別されるが、エッチング方法によるエッチングメッシュフィルムが最も一般的に用いられれている方法である。

銅ホイルをエッチングする方法は、次のような工程で進められる。まず、銅フィルムをメッキ法で形成した後に、画質向上のための黒化処理、接着力向上のための表面凹凸処理、および酸化防止処理などの表面処理を実施する。次に、この銅ホイルを、接着剤を用いてポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムと接着する。接着されたフィルムをリソグラフィ（ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）方法を用いてパターンを形成し、部分的にエッチングしてメッシュを形成する。

エッチングメッシュの最大の問題点は、エッチング工法自体の工程費用が高いという点と、銅の９０％以上をエッチングによって無くさなければならないため、材料費が高いという点がある。銅の消耗を減らすために、エッチング方法の代わりにリソグラフィ方法を用いて無電解メッキのためのシード（ｓｅｅｄ）層を形成し、ここに銅をメッキ方法で形成する方法もあるが、リソグラフィによる工程の複雑性は依然として問題点として残っている。

さらに、透明な電気伝導性薄膜をコーティングして電磁波遮蔽層を形成する方法は、金属メッシュを用いる方法に比べ、現在までは電磁波遮蔽の性能が低下するという問題点を抱えている。

本発明は、前記の問題点を解決するために案出されたものであって、導電膜タイプの電磁波遮蔽層を用いても、電磁波遮蔽効率が高いディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材を提供することを目的とする。

本発明が解決しようとする課題は、上述した技術的課題に制限されるものではなく、言及されていないさらに他の技術的課題は、下記の記載から当業者によって明確に理解されるであろう。

本発明の一実施形態に関わるディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材は、透明な基材と、電極層および前記電極層上にまたは前記基材と前記電極層との間に形成され、金属薄膜と金属酸化物薄膜が複数回積層された透明導電膜層とを含む。前記電極層は、ｉ）前記基材の少なくとも一枠領域に対応して形成された接地電極と、ｉｉ）前記接地電極と連結するように前記基材上に形成され、メッシュまたはストライプパターンを有する補助電極とを含む。

本発明の他の一側面に係るディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材は、前記基材がガラス基板または透明高分子樹脂である。前記透明高分子樹脂としては、高透明性、耐熱性などを有するアクリルやポリカーボネート（ＰＣ）、またはポリエチレンテレフタレートなどを用いることができる。前記基材は、ディスプレイ装置用フィルタの支持体の役割を行うことができる。

本発明のさらに他の一側面に係るディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材は、前記基材の一面に複数の楔形溝が形成され、前記楔形溝の内部は導電性物質で充填されている。

本発明のさらに他の一側面に係るディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材は、前記補助電極の線幅が１０〜１００μｍであり、ピッチが２〜１００ｍｍである。

本発明のさらに他の一側面に係るディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材は、前記補助電極がカーボン、コバルト、および銅から成る群から選択された少なくとも１つの物質が含まれ、黒化処理されたシルバーペーストで形成される。

本発明に係るディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材は、透明導電膜層の電磁波遮蔽性能を補うために、接地電極の印刷時に、ディスプレイ画面の可視領域にも目に見えない薄い線を導電性物質で印刷して補助電極を形成することで、より高い電磁波遮蔽性能を達成することができる。また、補助電極と接地電極をともに基材上に印刷することで、追加工程なく単一工程で効率的に電極層を形成することができる。

本発明に係るディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材は、導電膜タイプの電磁波遮蔽層の遮蔽性能を高めることで、ディスプレイ装置用フィルタの製造費用を低下させることができ、製造工程が簡単で効率的にディスプレイ装置用フィルタを製造することができる。

本発明に係るディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材は、ディスプレイ装置用フィルタの一部として用いられるようになる。ディスプレイ装置としては、格子パターンの画素（ｐｉｘｅｌ）を有してＲＧＢを実現するＰＤＰ装置、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）装置、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）装置、または電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）装置などの大型ディスプレイ装置と、携帯情報端末（ＰＤＡ）、小型ゲーム機表示窓、携帯電話表示窓などの小型モバイル（ｍｏｂｉｌｅ）ディスプレイ装置と、フレキシブルディスプレイ装置などがある。このなかでも、特に、電磁波遮蔽が重要なＰＤＰ装置およびＰＤＰフィルタについて説明する。

図示してはいないが、ＰＤＰ装置は、ケースと、ケースの上部を覆うカバーと、ケース内に収容される駆動回路基板と、ガス放電現象が起きる発光セルと発光体層を含むパネルアセンブリと、ＰＤＰフィルタとで構成される。発光セルには放電ガスが封入されている。放電ガスとしては、例えば、Ｎｅ−Ｘｅ系ガス、Ｈｅ−Ｘｅ系ガスなどを用いることができる。パネルアセンブリは、基本的に、蛍光灯のような発光原理を有しており、発光セルの内部における放電によって放電ガスから放出された紫外線がパネルアセンブリ内の蛍光体層を励起発光させて可視光に変換する。

ＰＤＰフィルタは、パネルアセンブリの前面基板上部に配置される。ＰＤＰフィルタは、パネルアセンブリの前面基板と離隔して配置されることもできるし、接触して配置されることもできる。また、パネルアセンブリとＰＤＰフィルタとの間に異物が流入するなどのような副作用を防いだり、ＰＤＰフィルタ自体の強度を補強するために、前面基板と接着剤または粘着剤で結合することもできる。

ＰＤＰフィルタは、透明基板上に導電性が優れた材料で形成された電磁波遮蔽部材が具備されており、電磁波遮蔽部材は、カバーを介してケースに接地する。すなわち、パネルアセンブリから発生した電磁波が視聴者に到達する前に、これをＰＤＰフィルタの電磁波遮蔽部材を介してカバーとケースに接地させるのである。

ＰＤＰフィルタは、電磁波遮蔽部材の他にも、多様な遮蔽機能を有する機能性層として、反射防止フィルム、色補正フィルム、および近赤外線遮蔽フィルムなどを含む。ただし、本発明はこれに限定されるものでなく、前記した機能性層は１つの層で複合的な機能を実行することもできるし、前記した機能性層の他にも、保護フィルムや外光遮蔽フィルムなどのような他の機能層を含むこともできる。

反射防止フィルムは、視聴者側から入射する外光が再び外部に反射することを防ぎ、ディスプレイのコントラスト比を向上させる。反射防止フィルムは、フィルタにおいて、ＰＤＰフィルタがＰＤＰ装置に装着されたときに視聴者側になる面、すなわち、パネルアセンブリ側とは反対側になる面に形成されることが効率的であるが、このような積層順に限定されることはない。

反射防止フィルムとして、具体的には、可視領域において屈折率が１．５以下、好ましくは１．４以下であり、低いフッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウム、シリコン系樹脂や酸化ケイ素薄膜などを用いることができる。

ＰＤＰフィルタは、特定の波長帯の光を選択的に吸収する色補正フィルムを含む。色補正フィルムは、赤色Ｒ、緑色Ｇ、青色Ｂの量を減少させたり調節して、色均衡を変化させたり校正してディスプレイの色再現範囲を増加させ、鮮明度を向上させる。色補正フィルムは多様な色素を含んでいるが、このような色素としては、染料あるいは顔料を用いることができる。色素の種類は、アントラキノン系、シアニン系、アゾ系、ストリル系、フタロシアニン系、メチン系などのネオン光遮蔽機能を有する有機色素があるが、本発明はこれに限定されるものではない。色素の種類と濃度は、色素の吸収波長、吸収係数、ディスプレイで要求される透過特性によって決定されるものであるため、特定の数値に限定されて用いられることはない。

また、ＰＤＰフィルタは、近赤外線遮蔽フィルムを含む。近赤外線遮蔽フィルムは、パネルアセンブリから発生して無線電話機やリモコンなどの電子機器の誤動作を引き起こす強力な近赤外線を遮蔽する役割を行う。近赤外線を遮蔽するために、近赤外線領域の波長を吸収する近赤外線吸収色素を含有した高分子樹脂を用いることができる。例えば、近赤外線吸収色素として、シアニン系、アントラキノン系、ナフトキノン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ジイモニウム系、ニッケルジチオール系などの多様な成分の有機染料を用いることができる。ＰＤＰ装置は、広い波長領域に渡って強力な近赤外線を発するため、広い波長領域に渡って近赤外線を吸収することができる近赤外線遮蔽フィルムを用いる必要がある。

近赤外線遮蔽フィルム、色補正フィルム、および反射防止フィルムは、それぞれのフィルムとして構成することもできるが、これとは異なり、１つのフィルムが複数の機能を実行するようにもできる。例えば、反射防止−色補正機能を実行する単一フィルム、反射防止−色補正−近赤外線遮蔽機能を実行する単一フィルムなどを挙げることができる。この場合に、フィルムが配置される位置は、フィルムの構成によって適切に選択されるようになる。

また、ＰＤＰフィルタは、外光遮蔽フィルムを含むことができる。外光遮蔽フィルムは、外光を吸収してパネルアセンブリに外光が流入すること防ぎ、パネルアセンブリから放出される入射光を視聴者側に全反射する役割を行う。したがって、可視光線に対する高い透過率と高いコントラスト比を得ることができる。

本発明の各層またはフィルムを付着するときには、透明な粘着剤または接着剤を用いることができる。具体的な材料としては、アクリル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接着剤（ＰＭＢ）、エチレン−アセト酸ビニル系接着剤（ＥＶＡ）、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂などを挙げることができる。

以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態に係るディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材について詳細に説明する。

図１は、本発明の一実施形態に係るディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材を示した断面図である。

図１を参照すれば、ディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材１００は、透明な基材と、接地電極１４０および所定のパターンを有する補助電極１６０で成された電極層と、透明導電膜層１８０とを含む。本実施形態において、基材としては、ガラス基板１２０を用いる。

ガラス基板１２０の一面に電極層が形成され、この電極層上に透明導電膜層１８０が形成される。電極層は、ガラス基板１２０の少なくとも一枠領域に対応して形成された接地電極１４０と、接地電極１４０と連結するようにガラス基板１２０上に形成され、メッシュまたはストライプパターンを有する補助電極１６０とを含む。

電極層は、ガラス基板１２０上に導電性物質が印刷されて形成される。ガラス基板１２０には、通常、デコレーション目的として枠領域にブラックセラミック部分（図示せず）が印刷された後に、ケースとの電気的接触のためにガラス基板１２０のエッジ領域に接地電極１４０が印刷される。接地電極１４０が形成される領域は非可視領域Ａであって、ディスプレイ画面のエッジ領域に位置し、パネルから出る映像が映る可視領域Ｂと区分される。非可視領域Ａは、ガラス基板１２０の枠領域であり、ＰＤＰ装置の角部分であって、通常、ブラックセラミックスなどで処理されている領域である。

導電性物質としてはシルバーペーストを用い、より優れた電気伝導性および印刷特性を得るためには、銀ナノ粒子粉末を用いたペーストが好ましい。印刷後の色相は、画質特性を向上させるために、銀色よりは黒色に近い色相を得ることが有利である。このために、銀ナノペーストにカーボン、コバルト、銅などのブラック物質を微量添加して黒化処理されたシルバーペーストを用いる。黒化処理を行わない場合には、伝導性金属粒子として用いた銀や銅などの色相がそのまま表れるようになるため、ブラック物質を微量添加することによって色相が補正され、画面の反射率を減少して視認性を良くする。

接地電極１４０は、一般的に、スクリーン印刷方法を用いて幅１２ｍｍ内外で形成され、ガラス基板１２０の非可視領域Ａである枠領域のうちの少なくとも一領域に沿って形成される。好ましくは、ガラス基板１２０の枠領域のうちの互いに対向する２つの領域に沿って平行に形成されたり、全枠領域に渡って形成されたりする。

補助電極１６０は、メッシュまたはストライプパターンを有するが、本発明はこれに限定されるものではなく、補助電極１６０は、他の幾何学的パターンを有することもできる。補助電極１６０のメッシュの形態は、通常的なメッシュタイプの電磁波遮蔽層におけるエッチングメッシュと目的が異なるため、デザインも異なるようになる。ただし、可視領域Ｂに形成されるために、ディスプレイ映像に影響を与えない程度で形成されなければならない。

パネルアセンブリからの入射光を外部に放出するときに、ディスプレイの鮮明な画質のためには、可視領域Ｂの開口率を向上させ、モアレ現象を抑制しなければならない。このために、補助電極の線幅Ｈ₁を制限する必要がある。線幅Ｈ₁が広すぎれば、可視領域Ｂの開口率が小くなり、パネルアセンブリからの入射光が画面に放出する量が少なくなるため、透視性が低下するようになる。また、線幅Ｈ₁が狭すぎれば、均一な線幅を有する補助電極を製作することが容易ではない。したがって、本発明において、ガラス基板１２０上に形成された補助電極１６０の線幅Ｈ₁は１０〜１００μｍであり、好ましくは２０〜３０μｍである。

また、互いに隣接した補助電極１６０間のピッチＨ₂は、２〜１００ｍｍである。既存のメッシュタイプの電磁波遮蔽層において、エッチングメッシュの場合には線幅が１２μｍ内外であり、メッシュ線間の間隔、すなわち、ピッチ（ｐｉｔｃｈ）は２５０〜３００μｍが一般的である。しかしながら、本発明では、透明導電膜層の補助電極として用いられるため、数ｍｍ〜数十ｍｍ程度の間隔を有する。このように、補助電極１６０のピッチＨ₂が広いため、線幅Ｈ₁が相対的に広くても視聴者の目には見えないようになる。

ディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材１００の製造方法は、ガラス基板１２０の一面に導電性物質を印刷して電極層を形成するステップと、ガラス基板１２０を乾燥および硬化するステップと、金属薄膜と金属酸化物薄膜が複数回積層された透明導電膜層１８０を形成するステップとを含む。

印刷の方法は、一般的に公知の方法であるスクリーン印刷法や他の方法を用いることができ、特定の方法に限定されることはない。

乾燥は１８０〜２５０℃の温度下で成され、硬化は６００〜７００℃の温度下でガラス基板１２０を熱処理して成される。乾燥ステップでは、シルバーペーストの溶媒を揮発させるようになり、硬化ステップでは、ガラスとシルバーペースト内の金属粒子の融着が成される。乾燥および硬化ステップにおいて、熱処理温度は、前記したような範囲内で一定の値で一定の時間だけ維持することもできるし、温度を複数のステップに分けて加熱処理することもできる。

導電性物質としては、カーボン、銅、コバルト、またはこれらの混合物質などがブラック物質に添加されて黒化処理されたシルバーペーストを用いる。シルバーペーストは、低温用と高温用の２つのタイプに大別することができる。基材として、ガラス基板ではなくＰＥＴフィルムを用いてシルバーペーストで電極層を形成させる場合には、低温用シルバーペーストを用いなければならないが、これは熱によって基材が変形する恐れがあるためである。しかし、低温用シルバーペーストは、高温用シルバーペーストに比べて電磁波遮蔽性能が低く、低温で乾燥して製造した電磁波遮蔽部材の面抵抗特性は、高温で乾燥して製造された電磁波遮蔽部材に比べて優れていない。

図２は、本発明の他の一実施形態に係るディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材を示した断面図である。

図２を参照すれば、ディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材２００は、透明な基材と、接地電極２４０および所定のパターンを有する補助電極２６０で成された電極層と、透明導電膜層２８０とを含む。本実施形態では、基材として、透明高分子樹脂材質の基材２２０を用いる。基材２２０の一面に透明導電膜２８０が形成され、透明導電膜層２８０上に電極層が形成される。電極層は、基材２２０の少なくとも一枠領域に対応する透明導電膜層２８０のエッジ領域に形成された接地電極２４０と、接地電極２４０と連結するように透明導電膜層２８０上に形成され、メッシュまたはストライプパターンを有する補助電極２６０とを含む。

ディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材２００の製造方法は、基材２２０の一面に金属薄膜と金属酸化物薄膜が複数回積層された透明導電膜層２８０を形成した後に、透明導電膜層２８０上に導電性物質を印刷して電極層を形成するステップと、電極層を乾燥するステップとを含む。基材２２０、接地電極２４０、補助電極２６０、透明導電膜層２８０などに関して上述と重複する説明については省略する。

図示してはいないが、本発明のさらに他の一実施形態に係るディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材は、透明な基材の一面に複数の楔形溝が形成され、楔形溝の内部は、導電性物質およびカーボンブラックなどの光吸収物質で充填されることで製造されるようになる。この場合には、電磁波遮蔽効率をさらに高めることができ、ディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材は、外光遮蔽の役割まで複合的に実行することができる。

以下、実施例を用いて、発明に係る電磁波遮蔽部材についてより詳細に説明するが、下記の実施例は本発明をより具体的に説明するための例示的なものに過ぎず、本発明の内容が下記の実施例に限定されることはない。
（実施例１）

ガラス基板上に接地電極を印刷すると同時に、可視領域内に線幅４０μｍ、ピッチ１０ｍｍで補助電極を印刷した後に、乾燥および硬化工程を経て電磁波遮蔽部材用ガラス基板を準備した。

このガラス基板上に、酸化ニオブ（Ｎｂ₂Ｏ₅）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、銀（Ａｇ）、酸化亜鉛、酸化ニオブ層を４回連続でコーティングし、計２０層の薄膜をコーティングすることで透明導電膜層を形成し、ディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材を製造した。

電磁波遮蔽部材のガラス基板の他面に、日本油脂社の７７０２ＵＶＳ反射防止フィルムと、日本化薬社で製造した１６ＨＧ色補正フィルムとを接合してＰＤＰ用フィルタを製作した。

次に、サムスン電子で販売する４２インチのＰＤＰテレビ（Ｃ７モデル）に装着されている既存のフィルタを脱着させた後に、前記したＰＤＰ用フィルタを装着してテレビセットを組み立てた。次に、京畿道中小企業総合支援センターの電磁波実験室で前記したテレビセットの電磁波放射率を測定し、測定結果を図３のグラフで表した。また、ＰＤＰフィルタを切断して透過率、面抵抗、反射率、Ｈａｚｅなどの光学特性を追加で測定した。透過率はラムダ９５０分光光度計（Ｌａｍｂｄａ９５０ ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）で測定し、面抵抗は非接触式の面抵抗測定器を用いて測定した。また、反射率はミノルタＣＭ−２６００ｄで測定し、ヘイズはＨａｚｅ Ｇｕａｒｄを用いて測定した。測定結果は下記の表１に整理した。
（比較例１）

ガラス基板上に接地電極のみを印刷した後に、実施例１と同様の方法で透明導電膜層を形成してディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材を製造した。

次に、実施例１と同様の方法で電磁波放射率を測定し、その結果を図４のグラフで表した。また、透過率、面抵抗、反射率、Ｈａｚｅなどの光学特性を測定した結果は、下記の表１に整理した。

電磁波放射量マージンは３０〜２１０ＭＨｚ基準であり、高いほど電磁波遮蔽性能が優れていることを知ることができる。したがって、本発明に係るディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材は、透過率、反射率、ヘイズのような光学特性は既存の電磁波遮蔽部材と同等ないし類似した性能を維持しているが、面抵抗は減少しており、電磁波放射量マージンが増加することによって電磁波遮蔽性能が向上したことを知ることができる。

上述したように、本発明の好ましい実施形態を参照して説明したが、該当の技術分野において熟練した当業者にとっては、特許請求の範囲に記載された本発明の思想および領域から逸脱しない範囲内で、本発明を多様に修正および変更させることができることを理解することができるであろう。すなわち、本発明の技術的範囲は、特許請求の範囲に基づいて定められ、発明を実施するための最良の形態により制限されるものではない。

本発明の一実施形態に係るディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材の断面図である。 本発明の他の一実施形態に係るディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材の断面図である。 実施例１によって製造されたディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材の電磁波放射率を測定した結果を表したグラフであり、（ａ）はアンテナ垂直方向に対する測定結果を、（ｂ）はアンテナ水平方向に対する測定結果を表したものである。 比較例１によって製造されたディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材の電磁波放射率を測定した結果を表したグラフであり、（ａ）はアンテナ垂直方向に対する測定結果を、（ｂ）はアンテナ水平方向に対する測定結果を表したものである。

符号の説明

１００、２００：ディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材
１２０：ガラス基板
２２０：透明高分子樹脂材質の基材
１４０、２４０：接地電極
１６０、２６０：補助電極
１８０、２８０：透明導電膜層
Ａ：非可視領域
Ｂ：可視領域

Claims (5)

1. 透明な基材と、
   ｉ）前記基材の少なくとも一枠領域に対応して形成された接地電極と、
   ｉｉ）前記接地電極と連結するように前記基材上に形成され、メッシュまたはストライプパターンを有する補助電極とを含む電極層と、
   前記電極層上にまたは前記基材と前記電極層との間に形成され、金属薄膜と金属酸化物薄膜が複数回積層された透明導電膜層と、
   を含むことを特徴とするディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材。
2. 前記基材は、ガラス基板または透明高分子樹脂であることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材。
3. 前記基材の一面には複数の楔形溝が形成され、前記楔形溝の内部は、導電性物質で充填されていることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材。
4. 前記補助電極は、線幅が１０〜１００μｍであり、ピッチが２〜１００ｍｍであることを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材。
5. 前記補助電極は、カーボン、コバルト、および銅から成る群から選択された少なくとも１つの物質が含まれて黒化処理されたシルバーペーストで形成されたことを特徴とする請求項１に記載のディスプレイ装置用電磁波遮蔽部材。

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