CN1694210A - 等离子显示设备及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种等离子显示设备及其制造方法。在具有通过层压多个功能膜形成的膜过滤器的等离子显示设备中，以导电材料氧化膜过滤器的电磁干扰屏蔽膜，并且电磁干扰屏蔽膜和接地装置接地。根据本发明的制造具有通过层压多个功能膜形成的膜过滤器的等离子显示设备的方法包括步骤：(a)通过涂覆导电材料使电磁干扰屏蔽膜的整个表面变黑；(b)通过在电磁干扰屏蔽膜上层压彩色染色膜形成黑框；和(c)在彩色染色膜上层压防反射膜。
Description
这个非临时申请要求于2004年5月6日在韩国提交的专利申请No.10-2004-0031605在35 U.S.C§119(a)下的优先权，将其整个内容包括在此并引入作为参考。
技术领域
本发明涉及等离子显示设备及其制造方法，并且更为具体的说，涉及具有在前面板上形成的膜过滤器的等离子显示设备及其制造方法。
背景技术
总的来说，等离子显示设备是这样一种设备，其中在前和后面板之间形成的由碱石灰玻璃制成的隔断壁形成每个单元小区，且每个小区当比如氦-氙(He-Xe)，氦-氖(He-Ne)等的惰性气体由高频电压放电时产生真空紫外光，并且使得在隔断壁之间形成的荧光材料发光，由此实现图像的设备。
图1是示意性示出了现有技术的等离子显示设备的结构的视图。如这里所示，等离子显示设备包括：具有用于定义其型面的前箱体111和后盖112的外壳110；设置在外壳中并且用于通过由来自气体放电的真空紫外线激发荧光材料实现图像的等离子显示面板(在下文称为PDP)120；具有用于驱动和控制PDP的PCB的驱动电路基片130；连接到驱动电路基片并且用于辐射在驱动等离子显示设备情况下产生的热量的热沉140；通过在玻璃基片上粘附膜(没有示出)而和PDP的前表面以确定间隔形成的过滤器150；用于支撑过滤器150并电连接过滤器150和金属后盖的指环垫圈160和过滤器支架170；以及用于支撑包括驱动电路基片的PDP的模块支撑器180。
这种结构的等离子显示设备通过应用用于等离子放电的高压和高频来实现图像，其带来的问题在于这个等离子显示设备相比彩色阴极射线管(CRT)或液晶显示面板(LCD)将更多电子波发射到面板玻璃的前表面上。此外，等离子显示设备发射由比如Ne和Xe的惰性气体引起的近红外线(NIR)，并且因此，存在这些近红外线引起故障的问题，这是因为它们非常靠近家用电子设备的遥控器的波长。另外，存在由外部光线引起的眩光的问题，例如，在CRT或LCD上，并且存在其它多种问题，比如对比度(其是显示设备的画面质量特性之一)的降低。
因此，在一般等离子显示设备中，在PDP的前表面上形成具有预定功能的过滤器，如图2所示。
图2是示出了现有技术的等离子显示设备的过滤器结构的视图。如这里所示，第一功能膜，也就是，防反射膜(AR膜)152形成在以和PDP120的预定间隔形成的透明玻璃基片151上。用于屏蔽近红外线(NIR)和调整颜色的第二功能膜，也就是，彩色染色膜153和第三功能膜，也就是，电磁干扰屏蔽膜(EMI膜)154，上述三个功能膜顺序地相邻于透明玻璃基片形成，因此形成过滤器150。具体的说，透明玻璃基片151用作保护PDP免受外部振荡以及用作形成过滤器的基底。这种包括透明玻璃基片151的等离子显示设备的过滤器被称为“玻璃过滤器”。
通过使得除了有效屏幕以外的部分变黑来在透明玻璃板151上形成线框，以便当观看者观看屏幕时增加视觉效果。因此变黑的线框被称为黑框151a。
同时，将防止外部振荡的玻璃过滤器制造得在尺寸上大于PDP的前面板，所以在形成用于确定有效屏幕的黑框和用于电磁干扰屏蔽的接地处理等上不会有大问题。
但是，由将多个功能膜分层形成的膜过滤器的问题在于，如图3所示，黑框的形成和用于电磁干扰屏蔽的接地处理相对复杂。
图3是示出了具有膜过滤器的现有技术的等离子显示设备的示意性结构。如这里所示，在完全包括膜过滤器的现有技术的等离子显示设备中，通过将多个功能膜分层形成的膜过滤器150通过分层等直接粘附到PDP前面板121。膜过滤器150包括电磁干扰屏蔽膜154、彩色染色膜153和防反射膜152。
这种结构的等离子显示设备的黑框形成及其电磁干扰屏蔽的接地处理将在下面描述。
首先，从黑框区分的有效屏幕经给定曝光处理由铜网类型来制成。之后，通过涂覆非导电材料154a使得有效屏幕的电磁干扰屏蔽膜154变黑。
另一方面，将用于定义有效屏幕的黑框粘附到变黑的电磁干扰屏蔽膜154的顶部。之后，在其上顺序层压彩色染色膜153和防反射膜152以形成膜过滤器150。
将这样形成的膜过滤器通过层压等粘附到前面板。然后，在用于电磁干扰屏蔽的接地处理中，使用滤波器支架170将电磁干扰屏蔽膜的未变黑区域接地，因此屏蔽在驱动等离子显示设备的情况下产生的电子波。
但是，在通过黑框形成处理和接地处理制造的等离子显示设备中，前面板和膜过滤器的尺寸是相同的，使得难以获得用于电磁干扰屏蔽的接地接触区域，由此带来了产量下降的问题。
另外，用于确定有效屏幕的膜类型的黑框增加了制造成本。
发明内容
为了解决现有技术的前述问题，本发明的目的是提供一种等离子显示设备及其制造方法，其通过区分在等离子显示设备的前面板上形成的膜过滤器的制造过程，使得形成用于有效屏幕确定的黑框的过程和用于电磁干扰屏蔽的接地过程更容易，并且因此改进了产量及其制造方法。
为实现上述目的，提供了一种具有根据本发明的通过层压多个功能膜形成的膜过滤器的等离子显示设备，其中以导电材料氧化膜过滤器的电磁干扰屏蔽膜，并且将电磁干扰屏蔽膜和接地装置接地。
附图说明
在附图中：
图1是示意性示出了现有技术的等离子显示设备的结构的视图；
图2是示出了现有技术的等离子显示设备的过滤器结构的视图；
图3是示出了具有膜过滤器的现有技术的等离子显示设备的示意性结构的视图；
图4是示意性示出了根据本发明的等离子显示设备的结构的视图。
具体实施方式
下面将参考附图更加详细地描述本发明的优选实施例。
本发明通过区分在等离子显示设备的前表面上形成的膜过滤器的制造过程，而使得形成用于有效屏幕确定的黑框的过程和用于电磁干扰屏蔽的接地过程更加容易，并且因此提高产量。
提供一种具有根据本发明通过层压多个功能膜形成的膜过滤器的等离子显示设备，其中以导电材料氧化膜过滤器的电磁干扰屏蔽膜，并且电磁干扰屏蔽膜通过接地装置接地。
这里，电磁干扰屏蔽膜的有效屏幕由网类型的铜制成。
在电磁干扰屏蔽膜的顶部部分层压具有40％到55％的透射率的彩色染色膜。
该彩色染色膜在宽度上小于电磁干扰屏蔽膜。
该导电材料包括由具有镍(Ni)的氧化铜(CuO)和具有镍(Ni)的二氧化铜组成的组的至少一个。
另外，根据本发明提供了一种通过层压多个功能膜来制造具有膜过滤器的等离子显示设备的方法，其包括步骤：(a)通过涂覆导电材料使得电磁干扰屏蔽膜的整个表面变黑；(b)通过在电磁干扰屏蔽膜上层压彩色染色膜形成黑框；以及(c)在彩色染色膜上层压防反射膜。
对于膜过滤器，涂覆有导电材料的电磁干扰屏蔽膜的上表面通过接地装置接地。
导电材料包括镍。
图4是示意性示出了根据本发明的等离子显示设备的结构的视图。
如在这里所示，本发明的等离子显示设备包括：具有用于确定其型面的前箱体211和后盖212的外壳210；设置在外壳中并且用于当前面板和后面板耦合时，通过由来自气体放电的真空紫外线激发荧光材料实现图像的等离子显示面板(在下文中称为PDP)220；具有用于驱动和控制PDP的PCB的驱动电路基片230；连接到驱动电路基片并且用于辐射在驱动等离子显示设备情况下产生的热量的热沉240；通过在PDP的前面板上层压具有预定功能的功能膜形成的过滤器250；用于支撑过滤器250并电连接过滤器250和金属后盖的过滤器支架270；以及用于支撑包括驱动电路基片的PDP的模块支撑器280。
膜过滤器250包括电磁干扰屏蔽膜254，彩色染色膜253和防反射膜252。
对于构成膜过滤器的膜，电磁干扰屏蔽膜254由铜(Cu)制成并且根据位置将其划分为有效屏幕和非有效屏幕。就是说，有效屏幕由网类型的铜制成从而具有预定透射率，而非有效屏幕由随机分散的铜颗粒形成从而具有相比有效画面区域低的透射率。以灰度族的导电材料254a氧化这种电磁干扰屏蔽膜的整个部分。例如，通过涂覆上述灰度族的导电材料254a使得电磁干扰屏蔽膜变黑。使用的导电材料254a包括由具有镍(Ni)的氧化铜(CuO)和具有镍(Ni)的二氧化铜组成的组中的的至少一个。其它合适的导电材料包括CuO组、NiO组、CrO组、FeO组和CoO组。
灰度族的导电材料使得易于制造用于限定PDP的有效屏幕的黑框(将在下面描述)。即，当在电磁干扰屏蔽膜254的上表面层压具有预定透射率的彩色染色膜253时，形成黑框251a。将在下面制造等离子显示设备的方法中解释形成黑框的过程。
同时，彩色染色膜153的宽度和防反射膜152相同，但是小于电磁干扰屏蔽膜254的宽度，以获得用于电磁干扰屏蔽的接地接触区域。
具有上述结构的等离子显示设备的制造方法如下。
首先，制备由碱石灰制成的前面板221和后面板222。
通过层压具有预定功能的多个功能膜粘附到PDP前面板221来形成膜过滤器250。制造膜过滤器的过程如下。
首先，通过经电子束沉积、溅射、湿涂覆等以膜的形状将铜(Cu)加到基带薄膜(PET)来形成电磁干扰屏蔽膜254。在这时，通过给定的曝光处理以网状类型形成有效屏幕以增加透射率。之后，通过涂覆灰度族的导电材料使得电磁干扰屏蔽膜的整个部分变黑。使用的导电材料优选的包括由具有镍(Ni)的氧化铜(CuO)和具有镍(Ni)的二氧化铜组成的组中的至少一个。
然后，在电磁干扰屏蔽膜上顺序层压彩色染色膜和防反射膜以形成膜过滤器。在这时，电磁干扰屏蔽膜和前面板大小相同，同时其它功能膜，也就是，彩色染色膜和防反射膜小于电磁干扰屏蔽膜。这是因为如果功能膜在用于电磁干扰屏蔽的接地处理中大小相同，实际上很难进行接地处理。
另一方面，由彩色染色膜形成确定有效屏幕的黑框。就是说，当层压具有40％到55％的透射率的彩色染色膜时，变黑的电磁干扰屏蔽膜和彩色染色膜形成具有非常低的透射率的黑框表面251a。除了电磁干扰屏蔽膜的有效屏幕不由黑表面形成，因为其由网类型形成并具有高的透射率。结果，用于确定有效屏幕的黑框在等离子显示设备的外壳周围以轮廓形状形成。
使用层压方法等将这样形成的膜过滤器粘附到PDP的前表面。
然后，将具有膜过滤器的前面板和后面板局部定位和密封。
然后，通过使用诸如过滤器支架的接地装置执行电磁干扰屏蔽的接地处理，并且和以现有技术相同的方式执行驱动PDP的驱动电路基片和热沉的安装。
如上所述，通过本发明的处理形成的等离子显示设备能够容易地解决获得接地接触表面的困难，这是由通过涂覆非导电材料来变黑引起的，由此本发明减少了制造过程的工作时间并且因此提高了产量。另外，通过使用本发明的膜过滤器，因为没有用于形成黑框的附加处理，可以减少制造成本。
从前述看，本领域普通技术人员应该理解可以在本发明的技术思想和基本特性范围中做出多种修改和变更。应该理解这些修改和变更在本发明的技术范围之内。
因此上述实例在所有方面都被认为是示例性而非限定或限制，本发明的范围由所述权利要求而非前述说明所指示。在权利要求及其等效物含义和范围中的所有修改和变更意在包括在其中。
如上所述，本发明通过区分膜过滤器形成过程能够减少等离子显示设备的制造成本和工作时间，并且因此减少了材料成本和提高了产量。
Claims (32)
1.一种用于等离子显示设备的膜过滤器，其包括：
电磁干扰屏蔽膜，其包括：
第一导电层；以及
第二导电层，其位于所述第一导电层的整个表面上。
2.如权利要求1所述的膜过滤器，其中，所述第二导电层是氧化层。
3.如权利要求1所述的膜过滤器，其中，所述第二导电层是涂覆层。
4.如权利要求1所述的膜过滤器，其中，所述第二导电层是变黑层。
5.如权利要求1所述的膜过滤器，其中，所述电磁干扰屏蔽膜包括有效屏幕区域和非有效屏幕区域。
6.如权利要求5所述的膜过滤器，其中，所述有效屏幕区域是网。
7.如权利要求6所述的膜过滤器，其中，所述网是铜网。
8.如权利要求5所述的膜过滤器，其中，所述非有效区域具有比所述有效屏幕区域低的透射率。
9.如权利要求1所述的膜过滤器，进一步包括具有40％-55％透射率、层压在所述电磁干扰屏蔽膜上的彩色染色膜。
10.如权利要求9所述的膜过滤器，其中，所述彩色染色膜在宽度上小于所述电磁干扰屏蔽膜。
11.如权利要求1所述的膜过滤器，其中，所述第二导电层包括从由具有镍(Ni)的氧化铜(CuO)和具有镍(Ni)的二氧化铜(CuO2)的组中选出的至少一个材料。
12.一种等离子显示设备，其包括：
电磁干扰屏蔽膜，其包括：
第一导电层；以及
第二导电层，其位于所述第一导电层的整个表面上。
13.如权利要求12所述的等离子显示设备，进一步包括：
前玻璃，所述电磁干扰屏蔽膜形成在所述前玻璃上。
14.如权利要求12所述的等离子显示设备，其中，所述第二导电层是氧化层。
15.如权利要求12所述的等离子显示设备，其中，所述第二导电层是涂覆层。
16.如权利要求12所述的等离子显示设备，其中，所述第二导电层是变黑层。
17.如权利要求12所述的等离子显示设备，其中，所述电磁干扰屏蔽膜包括有效屏幕区域和非有效屏幕区域。
18.如权利要求17所述的等离子显示设备，其中，所述有效屏幕区域是网。
19.如权利要求18所述的等离子显示设备，其中，所述网是铜网。
20.如权利要求17所述的等离子显示设备，其中，所述非有效屏幕区域具有比所述有效屏幕区域低的透射率。
21.如权利要求20所述的等离子显示设备，进一步包括接触所述非有效区域的接地部件。
22.如权利要求12所述的等离子显示设备，进一步包括接触所述第二导电材料的接地部件。
23.如权利要求12所述的等离子显示设备，进一步包括具有40％-55％的透射率、层压在所述电磁干扰屏蔽膜上的彩色染色膜。
24.如权利要求23所述的等离子显示设备，其中，所述彩色染色膜在宽度上小于所述电磁干扰屏蔽膜。
25.如权利要求12所述的等离子显示设备，其中，所述第二导电层包括从由具有镍(Ni)的氧化铜(CuO)和具有镍(Ni)的二氧化铜(CuO2)的组中选出的至少一个材料。
26.一种用于制造等离子显示设备的膜过滤器的方法，其包括步骤：
提供第一导电材料的电磁干扰屏蔽膜；以及
处理所述电磁干扰屏蔽膜以在所述电磁干扰屏蔽膜的整个表面上提供第二导电材料。
27.如权利要求26所述的方法，其中，所述处理步骤包括通过涂覆所述第二导电材料使得所述电磁干扰屏蔽膜的所述整个表面变黑。
28.如权利要求26所述的方法，其中，所述处理步骤包括通过氧化所述第一导电材料以产生所述第二导电材料来使得所述电磁干扰屏蔽膜的所述整个表面变黑。
29.如权利要求26所述的方法，进一步包括通过在所述电磁干扰屏蔽膜上层压彩色染色膜来形成黑框。
30.如权利要求29所述的方法，进一步包括在所述彩色染色膜上层压防反射膜。
31.如权利要求26所述的方法，其中所述第二导电材料包括镍。
32.如权利要求30所述的方法，进一步包括提供等离子显示设备的面板，以及将所述电磁干扰屏蔽膜粘附到所述等离子显示设备的所述前面板。
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