JP2005321805A - プラズマ表示装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】ブラックフレーム形成工程及び電磁波遮蔽のための接地工程の容易か及びこれによる生産収率を高めることができるプラズマ表示装置及び製造方法。
【解決手段】複数の機能性フィルム層が積層されて成り立ったフィルムフィルターが含まれたプラズマ表示装置において、フィルムフィルターの中で電磁波遮蔽フィルム層は導電性物質で酸化膜処理になって、電磁波遮蔽機能性フィルム層と接地手段が接地されることを特徴にする。また、本発明は複数の機能性フィルム層が積層されて成り立ったフィルムフィルターが含まれたプラズマ表示装置製造方法において、前記フィルムフィルター製造工程は(ａ)電磁波遮蔽のためのフィルム層表面全体を導電性物質に鍍金して黒化させる段階、(ｂ)前記電磁波遮蔽フィルム層にカラーダイフィルム層を積層してブラックフレームを形成する段階、及び(ｃ)前記カラーダイフィルム層に反射防止フィルム層を積層する段階を含む。
【選択図】図４
Description
本発明は、プラズマ表示装置及びその製造方法に関し、より詳しくは、前面パネルに形成されたフィルムフィルターを含むプラズマ表示装置及びその製造方法に関する。
一般的にプラズマ表示装置は、ソーダライム(Ｓｏｄａ−ｌｉｍｅ)ガラスより成る前面パネルと後面パネルとの間に形成された隔壁が一つの単位セルを成して、各セル内にはヘリウム−キセノン(Ｈｅ−Ｘｅ)、ヘリウム−ネオン(Ｈｅ−Ｎｅ)などのような不活性ガスが存在する。このような不活性ガスが高周波電圧によって放電する時、真空紫外線(ＶａｃＣｕｍ Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ ｒａｙｓ)が発生されて、隔壁の間に形成された蛍光体を発光させて画像を具現する装置である。
図１は、従来プラズマ表示装置の構造を概略的に示す構造である。
図示したのように、プラズマ表示装置は外形を決めるフロントキャビネット１１１及びバックカバー(Ｂａｃｋ ｃｏｖｅｒ)１１２を含んだケース１１０と、前記ケース１１０内部に配置され、気体放電による真空紫外線で蛍光体を励起させて画像を具現するプラズマディスプレイパネル(Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ：以下、 ＰＤＰとする)１２０と、前記ＰＤＰを駆動、制御するためにＰＣＢを含んだ駆動回路基板１３０と、前記駆動回路基板１３０と繋がれてプラズマ表示装置駆動の時発生される熱を放熱するための放熱版１４０と、前記ＰＤＰ１２０の前面で所定の間隔を持って透明性ガラス基板(未図示)にフィルムが附着して形成されたフィルター(Ｆｉｌｔｅｒ)１５０と、前記フィルター１５０を支持すると同時に金属バックカバー１１２と電気的に連結させるフィンガースプリングがスケット(Ｆｉｎｇｅｒ Ｓｐｒｉｎｇ Ｇａｓｋｅｔ)１６０と、フィルター支持台(Ｆｉｌｔｅｒ Ｓｕｐｐｏｒｔｅｒ)１７０と、前記駆動回路基板１３０を含んだＰＤＰを支持するモジュールサポーター(Ｍｏｄｕｌｅ Ｓｕｐｐｏｒｔｅｒ)と、で構成される。
このような構造を持つプラズマ表示装置は、プラズマ放電のための高電圧及び高周波を印加して画像を具現するので、パネルガラス前面で電磁波がカラー陰極線管(ＣＲＴ)や液晶ディスプレイパネル(ＬＣＤ)よりさらに多く放出する問題点がある。また、プラズマ表示装置は、Ｎｅ、 Ｘｅのような不活性ガスから誘導される近赤外線(ＮＩＲ)を放出するようになるが、このような近赤外線は、家電製品のリモートコントローラーの波長と非常に近接しており誤作動を起こす問題点がある。
また、プラズマディスプレイ装置は、ＣＲＴやＬＣＤのように外部光による使用者の眩しさに問題があって、その他ディスプレイ装置の画質特性であるコントラスト低下などのような諸般的な問題点も持っている。
したがって、通常のプラズマ表示装置は、図２で見るように所定の機能を持つフィルターがＰＤＰ前面に形成される。
図２は、従来プラズマ表示装置のフィルター構造を示す。図示されたのように、ＰＤＰ１２０から所定の間隔を持って形成された透明カラス基板１５１上に、第１機能性フィルム、すなわち、反射防止フィルム層(ＡＲ Ｆｉｌｍ)１５２を形成して、前記透明カラス基板１５１と接して近赤外線(ＮＩＲ)遮蔽及び色を調節する第２機能性フィルム、すなわち、カラーダイフィルム層(Ｃolor−dye)１５３、第３機能性フィルム、すなわち、電磁波遮蔽フィルム層(ＥＭＩ Ｆｉｌｍ)１５４が順に形成されて、フィルター１５０を成す。特に、前記透明カラス基板１５１は、フィルター１５０全体を形成する基地（基板）の役目をする同時に、外部の衝撃からＰＤＰを保護する役目をするようになる。このように、プラズマ表示装置のフィルター１５０に透明カラス基板１５１が含まれたフィルターを‘ガラスフィルター(Ｇｌａｓｓ Ｆｉｌｔｅｒ)’とする。
前記ガラスフィルター１５０内には、視聴者が画面を眺める時、視感效果を高めるために透明カラス基板１５１に有效画面以外の部分をブラックで処理して、枠を形成する。このようにブラック処理された枠をブラックフレーム１５１ａとする。
一方、前記のように外部からの衝撃を保護するガラスフィルターは、ＰＤＰ前面パネルのサイズより大きく製作されて有效画面を定義するためのブラックフレーム形成及び電磁波遮蔽のための接地工程などにおいて大きい問題点はない。
しかし、複数の機能性フィルム層が積層されて形成されたフィルムフィルターは、図３のようなブラックフレーム形成と電磁波遮蔽のための接地工程が幾分複雑な問題点がある。
図３は、従来のフィルムフィルターが形成されたプラズマ表示装置の概略的な構造を示す図である。図示されたのように、従来のフィルムフィルターを含むプラズマ表示装置は、ＰＤＰ前面パネル１２１に複数の機能性フィルム層が積層されて形成されたフィルムフィルター１５０がラミネイティング法などで直接附着される。前記フィルムフィルター１５０は、従来のガラスフィルターと同じく電磁波遮蔽フィルム層１５４、カラーダイフィルム層１５３、反射防止フィルム層１５２を含む。
このような構造を持つプラズマ表示装置のブラックフレーム及び電磁波遮蔽のための接地工程をよく見れば次のようである。
先ず、前記電磁波遮蔽フィルム層１５４は、ブラックフレーム１５１ａに仕分けされる有效画面部位が所定の露光工程を経て、銅メッシュタイプ(Ｃｕ−Ｍｅｓｈ Ｔｙｐｅ)で成り立つ。この後、前記有效画面部位の電磁波遮蔽フィルム層が非導電性物質１５４ａに鍍金されて黒化処理される。
一方、有效画面を定義するためのブラックフレーム１５５は、前記黒化処理された電磁波遮蔽フィルム層１５４上部にフィルムタイプで附着して、この後、前記カラーダイフィルム層１５３と反射防止層１５２とが順に積層されてフィルムフィルター１５０を形成する。
このように形成された前記フィルムフィルターは、ラミネイティング法などで前面パネルに附着して、この後、電磁波遮蔽のための接地工程では、前記電磁波遮蔽フィルム層が黒化されていない部位に、フィルター支持台１７０を利用して接地を実施してプラズマ表示装置駆動の時、発生される電磁波を遮蔽するようになる。
しかし、前記のようなブラックフレーム形成工程及び接地工程を経って製作するプラズマ表示装置は、前記前面パネルの大きさとフィルムフィルターが同じ大きさに製作されるため電磁波遮蔽のための接地面積を確保する工程が難しくて、これに従って生産収率を落とす問題点を惹起させる。
また、有效画面を決めるためのフィルムタイプのブラックフレームは、高価であり、製造原価を上昇させる問題点がある。
したがって本発明は、前記のような問題点を解決するためのことで、その目的は、プラズマ表示装置の前面パネルに形成されたフィルムフィルターの製作工程を異にして有效画面決定のためのブラックフレーム形成工程及び電磁波遮蔽のための接地工程の容易化及びこれによる生産収率を高めることができるプラズマ表示装置及びその製造方法を提供するのである。
前記のような技術的課題を解決するための本発明は複数の機能性フィルム層が積層されてからなるフィルムフィルターが含まれたプラズマ表示装置において、前記フィルムフィルターの中で電磁波遮蔽フィルム層は導電性物質で酸化膜処理になって、電磁波遮蔽機能性フィルム層と接地手段が接地される。
ここで、電磁波遮蔽フィルム層の中で有效画面部位は銅メッシュタイプで成り立つ。
前記電磁波遮蔽フィルム層上部に透過率が４０％以上５５％以下であるカラーダイフィルム層が積層される。
前記カラーダイフィルム層は前記電磁波遮蔽フィルム層の広さよりさらに小さく形成される。
前記導電性物質は酸化銅(ＣｕＯ)とニッケル(Ｎｉ)、二酸化銅(ＣｕＯ２)とニッケル(Ｎｉ)中少なくとも何れ一つを含む。それとほかの適切な伝導物質とはＣｕＯグラブ、ＮｉＯグラブ、ＣｒＯグラブ、ＦｅＯグラブ及びＣｅＯグラブを含む。
また、本発明は複数の機能性フィルム層が積層されて成り立ったフィルムフィルターが形成されたプラズマ表示装置において、前記フィルムフィルター製造工程は(ａ)電磁波遮蔽のためのフィルム層表面全体を導電性物質に鍍金して黒化させる段階、(ｂ)前記電磁波遮蔽フィルム層にカラーダイフィルム層を積層してブラックフレームを形成する段階、及び(ｃ)前記カラーダイフィルム層に反射防止フィルム層を積層する段階を含む。
前記フィルムフィルターの中で導電性物質に鍍金された電磁波遮蔽フィルム層上面に接地手段に接地される。
前記導電性物質はニッケルを含む。
上述したのように、本発明はフィルムフィルター形成過程を異にしてプラズマ表示装置の製造工程及び作業時間を減らすことができ、これに従って材料費節減及び生産収率を高めることができる效果がある。
以下では、本発明による具体的な実施例を添付された図面に基づいて説明する。
〔構造〕
図４は、本発明によるプラズマ表示装置の構造を概略的に示す図である。
図４は、本発明によるプラズマ表示装置の構造を概略的に示す図である。
図４をよく見れば、本発明のプラズマ表示装置は外形を決めるフロントキャビネット２１１及びバックカバー(Ｂａｃｋ ｃｏｖｅｒ)２１２を含んだケース２１０と、前記ケース２１０内部に前面パネル２１２と後面パネル２２２とが結合されて気体放電による真空紫外線で蛍光体を励起させて画像が具現されるプラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｐａｎｅｌ以下、 ＰＤＰだとする)２２０と、前記ＰＤＰ２２０を駆動、制御するためにＰＣＢを含んだ駆動回路基板２３０と、前記駆動回路基板２３０と繋がれてプラズマ表示装置駆動時発生される熱を放熱するための放熱板２４０と、前記ＰＤＰ２２０の前面パネル２２１に所定の機能を持つ機能性フィルム層が積層されて形成されたフィルムフィルター(Ｆｉｌｔｅｒ)２５０と前記フィルムフィルター２５０を支持すると同時に、金属バックカバー２１２と電気的に連結させるフィルター支持部(Ｆｉｌｔｅｒ Ｓｕｐｐｏｒｔｅｒ)２７０と、前記駆動回路基板２３０を含んだＰＤＰ２２０を支持するモジュール支持部(Ｍｏｄｕｌｅ Ｓｕｐｐｏｒｔｅｒ)２８０で構成される。
前記フィルムフィルター２５０は、電磁波遮蔽フィルム層２５４、カラーダイフィルム層２５３、放射防止フィルム層２５２を含む
前記フィルムフィルター２５０を構成するフィルム層の中で、電磁波遮蔽フィルム層２５４は、銅(Ｃｕ)材質で成り、位置によって有效画面と非有效画面に仕分けされられる。すなわち、前記有效画面は、所定の透過率を持つように前記銅がメッシュタイプからなり、非有效面は前記有效画面の透過率よりさらに低いように銅粒子が無作為に分布されて形成される。このような電磁波遮蔽フィルム層は、全体がグレー系統の導電性物質２５４ａで酸化膜処理される。例えば、前述したグレー系統の導電性物質２５４ａが鍍金されて黒化処理される。この時、使われる導電性物質２５４ａは、酸化銅(ＣｕＯ)とニッケル(Ｎｉ)、及び、二酸化銅(ＣｕＯ２)とニッケル(Ｎｉ)中の少なくとも何れか一つを含む。
前記グレー系統の導電性物質は、後述するＰＤＰの有效画面を定義するためのブラックフレームの製作工程を簡易にできるようにする。すなわち、前記電磁波遮蔽フィルム層２５４上面に所定の透過率を持つカラーダイフィルム層２５３が積層されれば、ブラックフレーム２５１ａが形成される。ブラックフレームが形成される過程はこの後、プラズマ表示装置製造方法において説明する。
一方、前記カラーダイフィルム層２５３は、反射防止フィルム層２５２と等しい広さを成して、電磁波遮蔽のための接地面積を確保するために前記電磁波遮蔽フィルム層２５４の広さより小さく形成する。これにより、電磁遮蔽フィルム層２５４は、反射防止フィルム２５２側の面において、反射防止フィルム２５２に覆われずに露出する領域を有する。
〔製造方法〕
このような構造を持つ本発明のプラズマ表示装置製造方法は、次のようである。
先ず、ソーダライム(Ｓｏｄａ−ｌｉｍｅ)ガラス材質を持つ前面パネル２２１と後面パネル２２２とを準備する。
このような構造を持つ本発明のプラズマ表示装置製造方法は、次のようである。
先ず、ソーダライム(Ｓｏｄａ−ｌｉｍｅ)ガラス材質を持つ前面パネル２２１と後面パネル２２２とを準備する。
これとは別にＰＤＰ前面パネル２２１に附着する所定の機能を持つ複数の機能性フィルム層を積層してフィルムフィルター２５０を形成する。前記フィルムフィルター製造過程は次のようである。
先ず、電磁波遮蔽フィルム層２５４は、基地（下地）フィルム(ＰＥＴ)に銅(Ｃｕ)物質を電子ビーム蒸着法、スパッタリング法、湿式コーティング法などでフィルム形成する。。この時、有效画面部位は、透過率を高めるように所定の露光工程を経ってメッシュタイプに形成する。この後、前記電磁波遮蔽フィルム層全体をグレー(ｇｒａｙ)系統の導電性物質に鍍金して黒化処理する。この時使われる導電性物質は、ニッケル(Ｎｉ)を含む酸化銅(ＣｕＯ)、または、ニッケル(Ｎｉ)を含む二酸化銅(ＣｕＯ２)中何れ一つを含むのが望ましい。
この後、前記電磁波遮蔽フィルム層にカラーダイフィルム層と反射防止フィルム層を順に積層してフィルムフィルターを形成する。この時、前記電磁波遮蔽フィルム層は、前面パネルの大きさと等しい大きさで附着して、残り機能性フィルム層、すなわち、カラーダイフィルム層や反射防止フィルム層は、前記電磁波遮蔽フィルム層より小さな大きさで附着する。これは電磁波遮蔽のための接地工程の時、前記機能性フィルム層が等しい大きさを持つようになれば接地工程が実質的に難しくなるからである。
一方、有效画面を決めるブラックフレームは、前記カラーダイフィルム層によって形成される。すなわち、透過率が４０％以上５５％以下であるカラーダイフィルム層を積層すれば、黒化処理された電磁波遮蔽フィルム層と前記カラーダイフィルム層によって透過率が非常に低いブラックフレーム面２５１ａを形成するようになる。ただし、電磁波遮蔽フィルム層の有效画面は、メッシュタイプで成り透過率が高いため、ブラックフレーム面とは成らない。結果的に、有效画面を決めるブラックフレームがプラズマ表示装置のケース端部に枠形状で形成される。
このように形成されたフィルムフィルターを、前記ＰＤＰ前面パネルにラミネイティング方法などを利用して付着させる。
この後、前記フィルムフィルターが形成された前面パネルと後面パネルとを定位置で合着させてシーリングする。この後、電磁波遮蔽のためにフィルター支持台２７０のような接地手段を利用して接地工程を行い、残りの前記ＰＤＰを駆動するための駆動回路基板及び放熱板の設置は従来と同様に行う。
このように本発明の工程を通じて形成されたプラズマ表示装置は、従来非伝導性物質を塗布して黒化処理することで惹起される接地面確保の難しい点を容易に解決することができ、製造工程による作業時間を縮めて、これに従って生産収率を進めることができるようになる。
また、前記本発明のフィルムフィルターを利用することで、ブラックフレーム形成のための追加工程なしに、製造費用を節減することができるようになる。
このように、本発明が属する技術分野の当業者は、本発明がその技術的思想や必須的特徴を変更しなくても、他の具体的な形態で実施することができるということを理解することができるはずである。
以上で記述した実施例は、すべての面で例示的なことで限定的なのではないこととして理解されなければならない。本発明の範囲は、前記詳細な説明よりは、後述する特許請求範囲によって表されて、特許請求範囲の意味及び範囲、そしてその等価概念から導出されるすべての変更または変形された形態が本発明の範囲に含まれることに解釈されなければならない。
１１０、２１０：ケース
１２０、２２０： PDP
１３０、２３０：駆動回路基板
１４０、２４０：放熱版
１５０、２５０：前面フィルター
１６０：フィンガースプリングがスケッ
１７０、２７０：フィルター支持台
１８０、２８０：モジュールサポーター
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Claims (32)
- プラズマディスプレイ装置用フィルムフィルターにおいて、
電磁気干渉遮断膜を具備して、
前記遮断膜は第１導電層と、
前記第１導電層の全体表面上に位置した第２導電層を含んでからなることを特徴とするプラズマディスプレイ装置のフィルムフィルター。 - 前記第２導電層は、酸化物層であることを特徴とする、請求項１記載の フィルムフィルター。
- 前記第２導電層は、コーティング層であることを特徴とする、請求項１記載のフィルムフィルター。
- 前記第２導電層は、黒化層であることを特徴とする、請求項１記載のフィルムフィルター。
- 前記電磁気干渉遮断層は、有效遮蔽領域と無效遮蔽領域とを含んでからなることを特徴とする、請求項１記載のフィルムフィルター。
- 前記有效遮蔽領域は、網紗構造であることを特徴とする、請求項５記載のフィルムフィルター。
- 前記網紗構造は、銅網紗構造であることを特徴とする、請求項６記載のフィルムフィルター。
- 前記無效遮蔽領域の透過率は、前記有效遮蔽領域より小さなことを特徴とする、請求項５記載のフィルムフィルター。
- 前記電磁気干渉遮断膜上に積層され、透過率が４０％乃至５５％の染色膜をさらに含むことを特徴とする、請求項１記載のフィルムフィルター。
- 前記染色膜の幅は、前記電磁気干渉遮断膜より小さなことを特徴とする、請求項９記載のフィルムフィルター。
- 前記第２導電層は、ニッケル(Ｎｉ)を含んだ酸化銅(ＣｕＯ)と、ニッケル(Ｎｉ)を含んだ二酸化銅(ＣｕＯ２)からなるグループから選択された少なくとも一つの物質を含んで構成されたことを特徴とする、請求項１記載のフィルムフィルター。
- プラズマディスプレイ装置において、
電磁気干渉遮断膜を具備して、
前記遮断膜は第１導電層と、
前記第１導電層の全体表面上に位置した第２導電層を含んでからなることを特徴とするプラズマディスプレイ装置。 - 全面前面ガラス基板をさらに包含し、
前記電磁気干渉遮断膜が前記前面ガラス基板の上部に形成されることを特徴とする、請求項１２記載のプラズマディスプレイ装置。 - 前記第２導電層は、酸化物層であることを特徴とする、請求項１２記載のプラズマディスプレイ装置。
- 前記第２導電層はコーティング層であるであることを特徴とする、請求項１２記載のプラズマディスプレイ装置。
- 前記第２導電層は、黒化層であるあることを特徴とする、請求項１２記載のプラズマディスプレイ装置。
- 前記電磁気干渉遮断層は、有效遮蔽領域と無效遮蔽領域を含んでからなることを特徴とする、請求項１２記載のプラズマディスプレイ装置。
- 前記有效遮蔽領域は、網紗構造であることを 特徴とする、請求項１７記載のプラズマディスプレイ装置。
- 前記網紗構造は、銅網紗構造であることを特徴とする、請求項１８記載のプラズマディスプレイ装置。
- 前記無效遮蔽領域の透過率は、前記有效遮蔽領域より小さなことを特徴とする、請求項１７記載のプラズマディスプレイ装置。
- 前記無效領域と接触する接地部材をさらに含んでからなることを特徴とする、請求項２０記載のプラズマディスプレイ装置。
- 前記第２導電物質と接触する接地部材をさらに含んでからなることを特徴とする、請求項１２記載のプラズマディスプレイ装置。
- 前記電磁気干渉遮断膜上に積層され、透過率が４０％乃至５５％の染色膜をさらに含んでからなることを特徴とする、請求項１２記載のプラズマディスプレイ装置。
- 前記染色膜の幅は前記電磁気干渉遮断膜より小さなつことを特徴とする、請求項２３記載のプラズマディスプレイ装置。
- 前記第２導電層は、ニッケル(Ｎｉ)を含んだ酸化銅(ＣｕＯ)と、ニッケル(Ｎｉ)を含んだ二酸化銅(ＣｕＯ２)とからなるグループから選択された少なくとも一つの物質を含んで構成されたことを特徴とする、請求項１２記載のプラズマディスプレイ装置。
- プラズマディスプレイ装置用フィルムフィルターの製造方法において、
第１導電物質の電磁気干渉遮断膜を提供する段階と、
前記電磁気干渉遮断膜の全体表面上に第２導電物質を提供するために前記電磁気干渉遮断膜を処理する段階と、
を含むことを特徴とする製造方法。 - 前記処理段階は、前記第２導電物質にコーティングすることで前記電磁気干渉遮断膜の全体表面を黒化する段階を含むことを特徴とする、請求項２６記載の製造方法。
- 前記処理段階は、前記第２導電物質を生成するために前記第２導電物質を酸化することで前記電磁気干渉遮断膜の前面を黒化する段階を含むことを特徴とする、請求項２６記載の製造方法。
- 前記電磁気干渉遮断膜上に染色膜を積層することでブラックフレームを形成する段階をさらに含むことを特徴とする、請求項２６記載の製造方法。
- 前記染色膜上に反射防止膜を積層する段階をさらに含むむことを特徴とする、請求項２９記載の製造方法。
- 前記第２導電物質はニッケルを含んだむことを特徴とする、請求項２９記載の製造方法。
- プラズマディスプレイ装置の前面基板を提供する段階と、
前記電磁気干渉遮断膜を前記プラズマディスプレイ装置の前記前面パネルに附着する段階をさらに含むことを特徴とする、請求項３０記載の製造方法。
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