JP2004355000A - プラズマディスプレイパネルの光学フィルタ及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ベースフィルムにメッシュ金属を蒸着し、該蒸着されたメッシュ金属をパターニングする度毎に、PDPの多様な解像度に該当するフォトマスクを必要とするという問題点があった。
【解決手段】ガラス基板200の上面に、外部光が反射されることを防止する第１反射防止膜100を付着し、ガラス基板200の下面に電磁波が放出されることを遮蔽する電磁波遮蔽膜300を付着する。電磁波遮蔽膜300の下面に近赤外線が放出されることを遮蔽する近赤外線遮蔽膜400を付着し、近赤外線遮蔽膜400の下面に色純度を調節する色補正膜500を付着する。前記色補正膜５００の下面に外部光が反射されることを防止する第２反射防止膜600が設けられる。これら一体のものが、前面板10と背面板20からなるものに取りつけられる。同一のフォトマスクにより、PDPの多様な解像度によって予め決定されたバイアス角度を有する電磁波遮蔽膜を形成し得る。
【選択図】図１

Description

本発明は、プラズマディスプレイパネル(Plasma Display Panel以下、PDPという)に関するもので、詳しくは、PDPの光学フィルタ及びその製造方法に関するものである。

近来、次世代デジタルマルチメディアディスプレイ装置として、PDP、TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display)、有機EL(Electro Luminescence)及びFED(Field Emission Display)などが開発されているが、特に、前記PDPは、他のディスプレイ装置に比べて格別に優秀な点が多いため、市場の注目を引いている。

また、前記PDPは、隔壁により形成された放電セルの内部でHe+XeまたはNe+Xeガスの放電により発生する１４７nmの紫外線が、R、G、Bの蛍光体を励起するとき発生する発光現象を利用したディスプレイ装置である。簡単な構造であるので製作が容易であり、高輝度、高効率、高メモリ機能、高非線形性及び１６０゜以上の視野角を有するため、４０インチ以上の大型画面のディスプレイ素子として最も期待されるディスプレイ装置である。

このような特性を有する３電極交流面放電型(Three Electrode AC Surface Discharge Type)PDPの放電セルについて、図７に基づいて説明する。
図７は、従来の３電極交流面放電型PDPの放電セルの構造を示した斜視図である。図示のように、従来の３電極交流面放電型PDPの放電セルは、一つの前面板１０と一つの背面板２０とを結合し、その内部に放電ガスを注入することで構成される。
また、前面板１０は、上部ガラス基板１１と、該上部ガラス基板１１の上面に形成された透明電極１２及びバス電極１３と、それら透明電極１２及びバス電極１３を含む上部ガラス基板１１上の全面に形成された上部誘電体層１４と、該上部誘電体層１４の上面に形成されて該上部誘電体層１４をプラズマ放電から保護するための保護膜１５と、から構成される。

また、背面板２０は、下部ガラス基板２５と、該下部ガラス基板２５の上面に形成されたアドレス電極２４と、該アドレス電極２４を含む下部ガラス基板２５上の全面に形成された下部誘電体層２３と、該下部誘電体層２３の上面に形成されて放電セルを形成する隔壁２２と、下部誘電体層２３及び隔壁２２の全面に形成された蛍光体２１と、から構成される。

このように構成されたPDPの前面に、外部光の反射防止、近赤外線の遮蔽、電磁波の遮蔽及び色純度を向上させる光学フィルタを設置して使用しているが、特に、PDPから放出される電磁波を遮蔽し得る従来のPDPの光学フィルタを構成する電磁波遮蔽膜の製造方法を、図８に基づいて説明する。

図８は、従来のPDPの光学フィルタを構成する電磁波遮蔽膜の製造方法を示したフローチャートで、図示されたように、従来のPDPの光学フィルタを構成する電磁波遮蔽膜の製造方法は、ベースフィルムを形成し、該形成されたベースフィルムを回転ロールに巻く段階(ステップS３１)と、前記巻かれたベースフィルムを予め決定されたサイズに切断する段階(ステップS３２)と、前記切断されたベースフィルムの上面にメッシュ金属を蒸着する段階(ステップS３３)と、前記蒸着されたメッシュ金属をパターニングすることにより、メッシュフィルムを形成する段階(ステップS３４)とを行う。

以下、このような従来のPDPの光学フィルタを構成する電磁波遮蔽膜の製造方法をより詳しく説明する。
まず、前記ベースフィルムを形成して、ベースフィルムを前記回転ロールに巻く(ステップS３１)が、前記ベースフィルムは、ポリエチレンテレフタレート(Polyethylene Terephthalate；PET)と、該ポリエチレンテレフタレートの上面にラミネート工程により形成された金属薄膜との２層構造に形成する。次いで、前記回転ロールに巻かれたベースフィルムを予め決定されたサイズに切断する(ステップS３２)。

その後、切断されたベースフィルムにメッシュ金属を蒸着し(ステップS３３)、該蒸着されたメッシュ金属を、フォトマスクを利用した露光及び現像工程を含むフォトリソグラフィ工程及びエッチング工程によりパターニングする(ステップS３４)。このとき、前記フォトマスクは、前記PDPの多様な解像度によって適用されるフォトマスクの透過部分と遮断部分との整列形態が異なるため、フォトマスクの形態によってバイアス角度(Bias Angle；θ)が調節される。

よって、パターニング工程により前記ベースフィルムの上面に導電性メッシュが形成されたメッシュフィルムを形成することで、従来の電磁波遮蔽膜が適用されたPDPの光学フィルタが形成される。

しかしながら、このような従来の電磁波遮蔽膜の製造方法においては、PDPの多様な解像度によって予め決定されたバイアス角度を調節するために、ベースフィルムにメッシュ金属を蒸着し、該蒸着されたメッシュ金属をパターニングする度毎に、PDPの多様な解像度に応じたフォトマスクを必要とするという問題点があった。

本発明は、このような従来の課題に鑑みてなされたもので、PDPの解像度によって導電性メッシュが形成されたメッシュフィルムの切断方向を調節することで、同一のフォトマスクにより、PDPの多様な解像度によって予め決定されたバイアス角度を有する電磁波遮蔽膜を形成し得るPDPの光学フィルタ及びその製造方法を提供することを目的とする。

このような目的を達成するため、本発明に係るPDPの光学フィルタは、メッシュフィルムを予め決定された方向に切断することにより、予め決定されたバイアス角度を有する電磁波遮蔽膜を含む構成とすることを特徴とする。
また、本発明に係るPDPの光学フィルタの製造方法は、メッシュフィルムを予め決定された方向に切断することにより、予め決定されたバイアス角度を有する電磁波遮蔽膜を形成することを特徴とする。

本発明に係る電磁波遮蔽膜が適用されたPDPの光学フィルタ及びその製造方法においては、PDPの解像度によって導電性メッシュを形成するメッシュフィルムの切断方向を調節することで、同一のフォトマスクにより、PDPの多様な解像度によって予め決定されたバイアス角度を有する電磁波遮蔽膜を形成できる。

以下、PDPの解像度によって導電性メッシュが形成されたメッシュフィルムの切断方向を調節することで、同一のフォトマスクにより、PDPの多様な解像度によって予め決定されたバイアス角度を有する電磁波遮蔽膜を形成可能な、本発明に係るPDPの光学フィルタ及びその製造方法の最良の実施形態について、図面に基づいて説明する。

図１は、本発明に係る電磁波遮蔽膜が適用されたPDPの光学フィルタの、第１実施形態の構造を示した断面図である。図示されるように、本発明に係るPDPの光学フィルタの第１実施形態は、ガラス基板２００と、該ガラス基板２００の上面に付着されて外部光の反射を防止する第１反射防止膜１００と、ガラス基板２００の下面に付着されて電磁波の放出を遮蔽する電磁波遮蔽膜３００と、該電磁波遮蔽膜３００の下面に付着されて近赤外線の放出を遮蔽する近赤外線遮蔽膜４００と、該近赤外線遮蔽膜４００の下面に付着されて色純度を調節する色補正膜５００と、該色補正膜５００の下面に付着されて外部光の反射を防止する第２反射防止膜６００と、から構成されている。

このように構成された本発明に係る電磁波遮蔽膜が適用されたPDPの光学フィルタの第１実施形態の製造方法を、図２に基づいて説明する。
図２は、本発明に係る電磁波遮蔽膜が適用されたPDPの光学フィルタの、第１実施形態の製造方法を示したフローチャートである。図示されるように、本発明に係る電磁波遮蔽膜が適用されたPDPの光学フィルタの、第１実施形態の製造方法は、ガラス基板２００を形成する段階(ステップS５１)と、前記形成されたガラス基板２００の上面に外部光が反射されることを防止する第１反射防止膜１００を付着する段階(ステップS５２)と、ガラス基板２００の下面に電磁波が放出されることを遮蔽する電磁波遮蔽膜３００を付着する段階(ステップS５３)と、電磁波遮蔽膜３００の下面に近赤外線が放出されることを遮蔽する近赤外線遮蔽膜４００を付着する段階(ステップS５４)と、近赤外線遮蔽膜４００の下面に色純度を調節する色補正膜５００を付着する段階(ステップS５５)と、色補正膜５００の下面に外部光が反射されることを防止する第２反射防止膜６００を付着する段階(ステップS５６)とを行う。

以下、このような本発明に係る電磁波遮蔽膜が適用されたPDPの光学フィルタの、第１実施形態の製造方法をより詳しく説明する。
まず、ガラス基板２００を強化ガラスにより形成することで、前記光学フィルタを支持し、該光学フィルタ及びPDPが外部の衝撃により破損されないように保護する(ステップS５１)。
次いで、形成されたガラス基板２００の上面に、外部から入射された光が反射されることを防止する第１反射防止膜１００を付着することで、PDPのコントラストを向上させる(ステップS５２)。

次いで、形成されたガラス基板２００の下面に、PDPから発生する電磁波を吸収して該電磁波が外部に放出されることを遮蔽する電磁波遮蔽膜３００を付着する(ステップS５３)。以下、このような特性を有する電磁波遮蔽膜３００について、図３〜図４に基づいて説明する。
図３は、本発明に係るPDPの光学フィルタの、第１実施形態の電磁波遮蔽膜の構造を示したものである。図示されるように、本発明に係るPDPの光学フィルタの、第１実施形態の電磁波遮蔽膜３００は、導電性メッシュ３３０が格子構造に形成されたメッシュ部３２０と、該メッシュ部３２０の外郭領域を包囲するように形成された金属フレーム３１０と、から構成されている。

このように構成された本発明に係るPDPの光学フィルタの、第１実施形態の電磁波遮蔽膜の製造方法を、図４に基づいて説明する。
図４は、本発明に係るPDPの光学フィルタの第１実施形態の電磁波遮蔽膜の製造方法を示したフローチャートである。図示されるように、本発明に係るPDPの光学フィルタの第１実施形態の電磁波遮蔽膜の製造方法は、ベースフィルムを形成し、該形成されたベースフィルムを第１回転ロールに巻く段階(ステップS５３１)と、前記第１回転ロールを回転させることで開かれたベースフィルム上にメッシュ金属を蒸着し、該蒸着されたメッシュ金属をパターニングすることで、メッシュフィルムを形成する段階(ステップS５３２)と、形成されたメッシュフィルムを第２回転ロールに巻く段階(ステップS５３３)と、前記第２回転ロールに巻かれたメッシュフィルムを予め決定された方向に切断する段階(ステップS５３４)とを行う。

以下、このような本発明に係るPDPの光学フィルタの、第１実施形態の電磁波遮蔽膜の製造方法をより詳しく説明する。
まず、ベースフィルムを形成し、形成されたベースフィルムを前記第１回転ロールに巻く(ステップS５３１)。ここで、前記ベースフィルムは、ポリエチレンテレフタレート(PET)と、該ポリエチレンテレフタレートの上面にラミネート工程により形成された金属薄膜との２層構造に形成する。

その後、前記第１回転ロールを回転させることで開かれたベースフィルム上にメッシュ金属を蒸着させるが、このとき、前記メッシュ金属は、銀(Ag)及び銅(Cu)のように導電性が比較的良い金属であることが好ましい。次いで、前記ベースフィルム上に蒸着されたメッシュ金属を、フォトマスクを通して露光、現像及びエッチング工程によりパターニングすることで、メッシュフィルムを形成する(ステップS５３２)。
その後、前記形成されたメッシュフィルムを第２回転ロールに巻いた後(ステップS５３３)、前記メッシュフィルムを予め決定されたサイズに切断する(ステップS５３４)。このとき、PDPの解像度によってメッシュフィルムの切断方向を調節することで、バイアス角度が調節されるため、フォトマスクを変更することなく、多様なPDPの解像度に該当するメッシュ部を形成することができる。

その後、前記形成されたメッシュ部の外側領域を包囲するように金属フレームを形成することで、電磁波遮蔽層が形成される。ここで、形成されたメッシュ部は、グラウンド電源に接地されているため、PDPから放出された電磁波を吸収し、該吸収された電磁波を放電させることで、電磁波が外部に放出されることを遮蔽する。

次いで、電磁波遮蔽膜３００の下面に、PDPから発生する約８００〜１０００nm波長帯域の近赤外線を吸収し、該近赤外線が外部に放出されることを遮蔽する近赤外線遮蔽膜４００を付着することで、リモコンなどから発生する制御用赤外線(約９４７nm程度)が、前記近赤外線の妨害を受けずにPDPセットに設けられた赤外線受信部に正常に入力されるようにする(ステップS５４)。

次いで、近赤外線遮蔽膜４００の下面に、色調節染料により色調を調節することでPDPの色純度を向上させる色補正膜５００を付着する(ステップS５５)。
次いで、色補正膜５００の下面に、外部から入射された光が反射されることを防止する第２反射防止膜６００を付着する(ステップS５６)。
このような第１反射防止膜１００、電磁波遮蔽膜３００、近赤外線遮蔽膜４００、色補正膜５００及び第２反射防止膜６００は、粘着剤(pressure sensitive adhesive)
または接着剤により、ガラス基板２００の上面及び下面に順次付着する。

このように構成された本発明に係る光学フィルタは、PDPの前面に設置されて、該PDPから発生する電磁波の遮蔽、外部光の反射防止、近赤外線の遮蔽及び色補正のような機能を果たす。

以下、本発明に係る電磁波遮蔽膜が適用されたPDPの光学フィルタの第１実施形態を構成するガラス基板を使用せずに、前記PDPの前面板１０上に直接付着することで、比較的、PDPセットの厚さ及び重さを減少し得る本発明に係る電磁波遮蔽膜が適用されたPDPの光フィルタの第２実施形態についで、図５に基づいて説明する。

図５は、本発明に係る電磁波遮蔽膜が適用されたPDPの光学フィルタの第２実施形態の構造を示した断面図である。図示されるように、本発明に係る電磁波遮蔽膜が適用されたPDPの光学フィルタの第２実施形態は、PDP上に順次付着された色補正膜５００、近赤外線遮蔽膜４００、電磁波遮蔽膜３００及び反射防止膜１００から構成されている。

このように構成された本発明に係るPDPの光学フィルタの第２実施形態を構成する色補正膜５００、近赤外線遮蔽膜４００及び反射防止膜１００に関する説明は、前述した電磁波遮蔽膜が適用された光学フィルタの第１実施形態及びその製造方法と同様であるので、詳細な説明は省略し、本発明に係るPDPの光学フィルタの第２実施形態の電磁波遮蔽膜３００について、図６に基づいて説明する。

図６は、本発明に係るPDPの光学フィルタの第２実施形態の電磁波遮蔽膜の構造を示したものである。図示されるように、本発明に係るPDPの光学フィルタの第２実施形態の電磁波遮蔽膜３００は、導電性メッシュ３３０が格子構造に形成されたメッシュ部３２０から構成される。

このように構成された本発明に係る電磁波遮蔽膜が適用されたPDPの光学フィルタの第２実施形態は、金属フレーム３１０を有することなく、前記PDPの上部に直接付着されるメッシュ部３２０のみから構成され、ガラス基板２００を使用しないため、本発明に係る電磁波遮蔽膜が適用されたPDPの光学フィルタの第１実施形態が適用されたPDPに比べて、比較的、PDPの厚さ及び重さを減少させることができる。

本発明に係る電磁波遮蔽膜が適用されたPDPの光学フィルタの、第１実施形態の構造を示した縦断面図である。 本発明に係る電磁波遮蔽膜が適用されたPDPの光学フィルタの、第１実施形態の製造方法を示したフローチャートである。 本発明に係るPDPの光学フィルタの、第１実施形態の電磁波遮蔽膜の構造を示した平面図である。 本発明に係るPDPの光学フィルタの、第１実施形態の電磁波遮蔽膜の製造方法を示したフローチャートである。 本発明に係る電磁波遮蔽膜が適用されたPDPの光学フィルタの、第２実施形態の構造を示した縦断面図である。 本発明に係るPDPの光学フィルタの、第２実施形態の電磁波遮蔽膜の構造を示した平面図である。 従来の３電極交流面放電型PDPの放電セルの構造を示した斜視図である。 従来のPDPの光学フィルタを構成する電磁波遮蔽膜の製造方法を示したフローチャートである。

符号の説明

１１ 上部ガラス基板
２２ 隔壁
２５ 下部ガラス基板
１００ 第１反射防止膜
２００ ガラス基板
３００ 電磁波遮蔽膜
４００ 近赤外線遮蔽膜
５００ 色補正膜
６００ 第２反射防止膜

Claims (18)

1. メッシュフィルムを予め決定された方向に切断することによって、予め決定されたバイアス角度を有する電磁波遮蔽膜を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの光学フィルタ。
2. 前記予め決定された方向は、プラズマディスプレイパネルの解像度によって異なることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの光学フィルタ。
3. 前記電磁波遮蔽膜は、
   導電性メッシュが格子構造に形成されたメッシュ部と、
   前記形成されたメッシュ部の外縁を包囲する金属フレームと、から構成されることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの光学フィルタ。
4. 前記電磁波遮蔽膜の上面に付着されたガラス基板と、
   前記ガラス基板の上面に付着されて外部光の反射を防止する第１反射防止膜と、
   前記電磁波遮蔽膜の下面に付着されて近赤外線の放出を遮蔽する近赤外線遮蔽膜と、
   前記近赤外線遮蔽膜の下面に付着されて色純度を調節する色補正膜と、
   前記色補正膜の下面に付着されて外部光の反射を防止する第２反射防止膜と、を更に含むことを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの光学フィルタ。
5. 前記ガラス基板、第１反射防止膜、電磁波遮蔽膜、近赤外線遮蔽膜、色補正膜及び第２反射防止膜は、粘着剤または接着剤により付着されることを特徴とする請求項４記載のプラズマディスプレイパネルの光学フィルタ。
6. 前記電磁波遮蔽膜の上面に付着されて外部光が反射されることを防止する反射防止膜と、
   前記電磁波遮蔽膜の下面に付着されて近赤外線が放出されることを遮蔽する近赤外線遮蔽膜と、
   前記近赤外線遮蔽膜の下面に付着されて色純度を調節する色補正膜と、を更に含むことを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの光学フィルタ。
7. 前記反射防止膜、電磁波遮蔽膜、近赤外線遮蔽膜及び色補正膜は、粘着剤または接着剤により付着されることを特徴とする請求項６記載のプラズマディスプレイパネルの光学フィルタ。
8. メッシュフィルムを予め決定された方向に切断することにより、予め決定されたバイアス角度を有する電磁波遮蔽膜を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの光学フィルタの製造方法。
9. 前記電磁波遮蔽膜の形成は、
   ベースフィルムを第１回転ロールに巻く段階と、
   前記第１回転ロールを回転させることで開かれたベースフィルムの上面にメッシュ金属を蒸着し、該蒸着されたメッシュ金属をパターニングすることで、メッシュフィルムを形成する段階と、
   前記形成されたメッシュフィルムを第２回転ロールに巻く段階と、
   前記第２回転ロールに巻かれたメッシュフィルムを予め決定された方向に切断する段階と、を含むことを特徴とする請求項８記載のプラズマディスプレイパネルの光学フィルタの製造方法。
10. 前記ベースフィルムは、PETと該PET上に形成された金属薄膜とから構成されることを特徴とする請求項９記載のプラズマディスプレイパネルの光学フィルタの製造方法。
11. 前記メッシュ金属は、銀または銅であることを特徴とする請求項９記載のプラズマディスプレイパネルの光学フィルタの製造方法。
12. 前記メッシュフィルムを形成する段階は、
    前記ベースフィルムの上面に蒸着されたメッシュ金属を、フォトリソグラフィ工程によりパターニングすることを特徴とする請求項９記載のプラズマディスプレイパネルの光学フィルタの製造方法。
13. 前記予め決定された方向は、プラズマディスプレイパネルの解像度によって異なることを特徴とする請求項９記載のプラズマディスプレイパネルの光学フィルタの製造方法。
14. 前記予め決定された方向によって、バイアス角度が調節されることを特徴とする請求項９記載のプラズマディスプレイパネルの光学フィルタの製造方法。
15. 前記電磁波遮蔽膜の上面にガラス基板を形成する段階と、
    前記形成されたガラス基板の上面に外部光が反射されることを防止する第１反射防止膜を付着する段階と、
    前記電磁波遮蔽膜の下面に近赤外線が放出されることを遮蔽する近赤外線遮蔽膜を付着する段階と、
    前記付着された近赤外線遮蔽膜の下面に色純度を調節する色補正膜を付着する段階と、
    前記付着された色補正膜の下面に外部光が反射されることを防止する第２反射防止膜を付着する段階と、を更に行うことを特徴とする請求項９記載のプラズマディスプレイパネルの光学フィルタの製造方法。
16. 前記ガラス基板、第１反射防止膜、近赤外線遮蔽膜、色補正膜及び第２反射防止膜は、粘着剤または接着剤により付着されることを特徴とする請求項１５記載のプラズマディスプレイパネルの光学フィルタの製造方法。
17. 前記電磁波遮蔽膜の上面に外部光が反射されることを防止する反射防止膜を付着する段階と、
    前記電磁波遮蔽膜の下面に近赤外線が放出されることを遮蔽する近赤外線遮蔽膜を付着する段階と、
    前記近赤外線遮蔽膜の下面に付着されて色純度を調節する色補正膜を付着する段階と、を更に行うことを特徴とする請求項９記載のプラズマディスプレイパネルの光学フィルタの製造方法。
18. 前記反射防止膜、近赤外線遮蔽膜及び色補正膜は、粘着剤または接着剤により付着されることを特徴とする請求項１７記載のプラズマディスプレイパネルの光学フィルタの製造方法。
    

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