CN1299077A - 光热敏成像材料 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种光热敏成像材料,其在载体的一侧上包括感光卤化银、非感光的有机酸银盐、用作银离子的还原剂和粘结剂,特征在于其中含有一种或多种用作还原剂的酚化合物和一种或多种满足如下A和B中至少一种要求的化合物:A:氢键形成速率常数Kf为20—4000,B:化学结构如下式(Ⅱ)、(Ⅲ)、(Ⅳ)或(Ⅴ)所示(R²¹和其他基团代表烷基等)或者含有磷酰基。本发明还提供一种光热敏成像材料,其在实际反应温度(具体讲100—140℃)下和实际反应时间(具体讲1—30秒)内能够提供足够的影像密度并能在显影后的黑暗储存过程中充分抑制空白部分着色。

Description

光热敏成像材料

本发明涉及一种光热敏成像材料。具体地讲，涉及一种能够提供足够的影像密度并能在显影后的黑暗储存过程中充分抑制空白部分着色的光热敏成像材料。

近年来，从环境保护和节约空间的角度来看，减少废处理溶液的量是医疗诊断领域和照相技术领域中所迫切希望的。需要有关用于医疗诊断和照相技术方法中光热敏成像材料方面的技术，使得通过激光影像调节器或激光成像器进行充分的曝光并形成具有高分辨率和清晰度的清晰黑色影像。光热敏成像材料能够给使用者提供简单和无污染的热显影操作体系，该体系不再使用溶液型操作的化学品。

在普通成像材料领域中也有同样的需要。然而，用作医疗用途的光影像需要极好清晰度和微粒状态的高影像质量，因为它们需要非常精细的影像。另外，为了容易诊断，优选冷单色影像。目前，使用颜料和染料的多种类型的硬拷贝体系，例如喷墨打印机和电子照相体系作为普通成像体系来说是可行的。但是对于医疗使用，还没有令人满意的成像体系。

同时，采用有机酸银盐用于通过热显影成像的方法在如下文献中有描述，例如美国专利3152904和3457075以及D.Klostervoer，“热处理的银体系”，成像方法和材料，Neblette，第8版，J.Sturge、V.Walworth和A.Shepp编辑，第9章，第279页，(1989)。光热敏成像材料，具体讲包括含有催化活性量光催化剂(例如卤化银)的成像层(感光层)、还原剂、可还原的银盐(例如有机酸银盐)和任选用于控制银的色调的显影剂，其通常分散在粘结剂基体中。影像式曝光后在高温(例如80℃或更高)下加热光热敏成像材料时，在卤化银或可还原的银盐(其充当氧化剂)和还原剂之间通过氧化-还原反应生成单色的黑色银影像。通过曝光产生的卤化银潜影的催化作用加速了氧化-还原反应。因此，单色的银影像是在材料的曝光区域中形成的。该技术在许多文献中公开，包括美国专利2910377和日本专利公开(Kokoku，下文称为JP-B)43-4924，以及作为采用光热敏成像材料用于医疗诊断的成像体系的富士医疗干成像器盐和还原剂以其原来的形式残留在光热敏成像材料上。因此，遇到这样的问题，即在热显影之后如果材料储存很长一段时间，其空白部分将会着色。酚型还原剂(参见，例如欧洲专利公开EP0803764A1、日本专利延迟公开(Kokai，下文称为JP-A)51-51933、JP-A-6-3793等)可有效地用作光热敏成像材料，因为其具有高反应性，通过减少其用量可有效地抑制空白部分的着色。然而，如果减少邻双酚型还原剂的用量，不可能获得足够的影像密度，因此影像可存储性很难与影像密度相容。

因此，本发明的目的在于提供一种光热敏成像材料，其在实际反应温度(具体讲100-140℃)下和实际反应时间(具体讲1-30秒)内能够提供足够的影像密度并能在显影后的黑暗储存过程中充分抑制空白部分着色。

本发明的发明人进行了广泛的研究，实现了上述目的。结果他们发现，如果将用作还原剂的酚化合物和具有特定氢键形成速率常数的化合物在光热敏成像材料中结合使用，能够获得足够的影像密度而且影像的可存储性能够显著地提高，而基本上不会使还原性降级。因此，他门完成了本发明。

也就是说，本发明提供了一种光热敏成像材料，其在载体的一侧上包括感光卤化银、非感光的有机酸银盐、用作银离子的还原剂和粘结剂，其中含有一种或多种用作还原剂的酚化合物和一种或多种满足如下A和B中至少一种要求的化合物：A：氢键形成速率常数Kf为20-4000，B：化学结构如下式(Ⅱ)、(Ⅲ)、(Ⅳ)或(Ⅴ)所示，或者含有磷酰基

在式(Ⅱ)中，R²¹和R²²独立地代表烷基，R²³代表烷基、芳基或杂环基。R²¹、R²²和R²³中的两个或多个可以一起成环。

在式(Ⅲ)中，R³¹和R³²独立地代表烷基、芳基或杂环基。R³¹和R³²可以一起成环。

在式(Ⅳ)中，R⁴¹和R⁴²独立地代表烷基、芳基或杂环基。R⁴³代表烷基、芳基、杂环基或-N(R⁴⁴)(R⁴⁵)。R⁴⁴和R⁴⁵独立地代表烷基、芳基或杂环基。R⁴¹、R⁴²、R⁴³、R⁴⁴和R⁴⁵中的两个或多个可以成环。

在式(Ⅴ)中，R⁵¹、R⁵²、R⁵³、R⁵⁴和R⁵⁵独立地代表氢原子或取代基。R⁵¹、R⁵²、R⁵³、R⁵⁴和R⁵⁵中的两个或多个可以一起成环。

本发明的光热敏成像材料中含有的酚化合物优选为邻多元酚化合物，具体讲由下式(Ⅰ)所代表的化合物。

在该式中，R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷和R⁸独立地代表氢原子或在苯环上能够取代的基团，L代表基团-S-或基团-CHR⁹-，其中R⁹代表氢原子或烷基。

如式(Ⅰ)所代表的化合物，优选的是那些化合物，其中R²、R⁴、R⁵和R⁷是氢原子，R¹和R⁸独立地代表烷基，R³和R⁶独立地代表烷基，L是-CHR⁹-。特别优选的是那些化合物，其中R¹和R⁸独立地代表仲或叔烷基。

本发明的光热敏成像材料中优选含有氢键形成速率常数Kf为70-4000的化合物。

此外，本发明的光热敏成像材料中优选含有邻多元酚化合物和一种或多种含有磷酰基的化合物。含有磷酰基的化合物优选为下式(Ⅵ)所代表的化合物：

在该式中，R⁶¹、R⁶²和R⁶³独立地代表烷基、芳基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、氨基或杂环基。

在该说明书中，“-”表示数值范围，前面和后面分别为最小值和最大值。

通过结合使用酚化合物和氢键形成速率常数Kf为20-4000的化合物或由式(Ⅱ)、(Ⅲ)、(Ⅳ)或(Ⅴ)代表的化合物或含有磷酰基的化合物，能够提供一种光热敏成像材料，其在实际反应温度下和实际反应时间内能够提供足够的影像密度并能在显影和黑暗储存后充分抑制空白部分着色。

附图1是用于实施例中的热显影装置的侧视示意图。该图中，标明了光热敏成像材料10、装入辊对11、取出辊对12、辊13、平表面14、加热器15和导晶粒16。该装置由预加热区A、热显影区B和逐渐冷却区C组成。

附图2显示了含有预定尺寸的堆叠光热敏成像材料基片1的内包装材料2，还可以用外包装材料3包装。

附图3显示了用内包装材料20包装的堆叠光热敏成像材料基片1。

附图4是光热敏成像材料的侧视图，在载体的一侧表面上按次序堆叠载体10、成像层11和表面保护层12，在载体的另一侧上含有背层13。

本发明的光热敏成像材料在载体的一侧上包括感光卤化银、非感光的有机酸银盐、用作银离子的还原剂和粘结剂。其特征在于含有(1)一种或多种用作还原剂的酚化合物和(2)一种或多种满足如下要求A(氢键形成速率常数Kf为20-4000)和要求B(化学结构如上述式(Ⅱ)、(Ⅲ)、(Ⅳ)或(Ⅴ)所示，或者含有磷酰基)中至少一种要求的化合物。

本发明的光热敏成像材料含有一种或多种酚化合物。已知酚化合物可用作还原剂，参见欧洲专利公开EP0803764A1、JP-A-51-51933、JP-A-6-3793等等，这些已知的酚化合物可以用于本发明。

本发明人广泛研究的结果发现，如果组合使用这种已知还原剂和由式(Ⅱ)、(Ⅲ)、(Ⅳ)或(Ⅴ)所示的化合物或者含有磷酰基的化合物，将得到令人惊奇的效果，即影像可储存性能够显著地提高且基本上保持可热显影性。

作为用于本发明的酚化合物，优选使用邻多元酚化合物，因为其具有较高的可热显影性。

该说明书中称为“邻多元酚的化合物”可以是任何化合物，只要其是含有如下结构的还原剂。

在这样的化合物中，优选式(Ⅰ)所示的那些化合物，因为其具有较高的可热显影性。现将详细解释式(Ⅰ)化合物。

在式(Ⅰ)中，R¹-R⁸独立地代表氢原子或在苯环上可以取代的基团。在苯环上可以取代的基团的实例包括卤原子、烷基、芳基、芳烷基、烷氧基、酰氨基、磺酰氨基、酰基、氨基甲酰基、氨磺酰基、烷氧基羰基、磺酰基、烷氧基烷基和酰氨基烷基等。烷基的实例包括甲基、乙基、丙基、丁基、异丙基、叔丁基、叔戊基、环己基、1-甲基环己基等。芳烷基的实例包括苄基等。

优选的是，R¹、R³、R⁶和R⁸独立地代表烷基，更优选为含有1-20个碳原子的伯烷基、含有3-20个碳原子的仲烷基或含有4-20个碳原子的叔烷基。

这些基团还可以含有一个或多个合适的取代基。取代基的实例包括卤原子、芳基、杂环基、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、羟基、酰氧基、氨基、烷氧基羰基、酰基、酰基氨基、氧羰基、氨基甲酰基、磺酰基、氨磺酰基、磺酰氨基、磷酰基和羧基等。

伯烷基的实例包括甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十二烷基、苄基、甲氧基甲基、2-甲氧基乙基、苯乙基和己氧基羰基甲基等。优选的是甲基和乙基。

仲烷基的实例包括异丙基、环己基、环戊基、1-甲氧基甲基-乙基和1-丁氧基乙基-乙基等。优选的是未取代的仲烷基，特别优选的是异丙基和环己基。

叔烷基的实例包括叔丁基、叔戊基、叔辛基、1-甲基环己基、1-甲基环戊基、1-甲基环丙基、1-甲基-1-苯基乙基和1,1-二甲基-4-己氧基羰基丁基等。优选的是未取代的叔烷基，特别优选的是叔丁基和1-甲基环己基，最优选的是叔丁基。

优选的是，R¹和R⁸独立地代表仲烷基或叔烷基。如果选择仲烷基或叔烷基，涂层用量能够显著地降低，因此可以显著地降低光热敏成像材料的生产成本和劳力。此外，如果选择仲烷基或叔烷基，影像的可储存性极大地降低，除非组合使用含有磷酰基的化合物。然而，根据本发明通过将它们组合使用，显著地提高了影像的可储存性。考虑到显影活性，叔烷基优选用作R¹和R⁸。而R¹和R⁸可以相同或不同，优选它们彼此相同。

对于R³和R⁶，优选为未取代的烷基。其具体的实例包括甲基、乙基、丙基、丁基、异丙基、叔丁基、叔戊基、环己基和1-甲基环己基等。更优选的是甲基、乙基、异丙基和叔丁基，最优选的是甲基和乙基。

优选的是，R²、R⁴、R⁵和R⁷独立地代表氢原子、卤原子或烷基，更优选为氢原子。

L代表基团-S-或基团-CHR⁹-，其中R⁹代表氢原子或烷基。烷基优选含有1-20个碳原子，其可以是未取代的或被另一个或其他取代基取代。未取代烷基的实例包括甲基、乙基、丙基、丁基、庚基、十一烷基、异丙基、1-乙基戊基和2，4，4-三甲基戊基等。烷基的取代基的实例类似于R¹、R³、R⁶和R⁸中提及的那些。R⁹更优选为氢原子或含有1-12个碳原子的未取代烷基，还优选为氢原子或含有1-7个碳原子的烷基，特别优选为氢原子、甲基或正丙基。

下面列出了用于本发明的式(Ⅰ)酚化合物的具体实例。然而，可用于本发明的酚化合物并不局限于这些。

除了上述化合物之外，用于本发明的酚化合物的具体实例也可以参见欧洲专0利公开EP0803764A1、JP-A-51-51933和JP-A-6-3793。

酚化合物的加入量优选为0.01-4.0g/m²，更优选为0.1-2.0g/m²。对于具有成像层的表面上一摩尔银，优选用量为2-40摩尔％，更优选为5-30摩尔％。

现在将阐述氢键形成速率常数Kf为20-4000的化合物。

用作氢键形成指数的氢键形成速率常数Kf，是一通过RW.Taft等人在J.Am.Chem.Soc.,91,4794(1969)等中所测定的常数。该常数是p-FC₆H₄OH和化合物之间形成氢键的反应速率常数Kf，该值通过F-NMR或IR或使用热力学技术测定。在上述J.Am.Chem.Soc.,91,4794(1969)中提到了多种化合物的具体氢键形成速率常数。在本发明中，Kf优选为20-4000，更优选为70-4000，再优选为100-4000，特别优选为250-2000。下面列出了氢键形成速率常数Kf为20-4000的化合物的一般实例。

                        Kf六甲基磷酰胺              3600氧化三苯基膦              1456±804-二甲基氨基吡啶          650±90二甲亚砜                  338±72,6-二甲基-γ-吡喃酮      318±18四甲基脲                  261±5磷酸三甲酯                250±8N,N-二甲基乙酰胺          242±6N,N-二甲基苯甲酰胺        167±16苯基甲基亚砜              141±44-甲氧基吡啶              139±24-甲基吡啶                107±2N,N-二甲基环己胺          118±2N,N-二甲基甲酰胺          115±2二苯基亚砜                106±2黄酮                      98±6N,N-二甲基-正丙胺         95±1三甲基胺                  85±22-正丁基吡啶              76±2吡啶                      76±1喹啉                      71±3三正丁基胺                37±3N,N-二甲基苄胺            38±3嘧啶                      22.5±0.5

下文将详细阐述式(Ⅱ)化合物。

在式(Ⅱ)中，R²¹和R²²独立地代表烷基。R²³代表烷基、芳基或杂环基。这些基团可以是未取代的或被一个或多个取代基取代。取代基的实例包括下文R⁵¹中所提及的那些取代基。作为R²¹和R²²的具体实例，可以提及甲基、乙基、丙基、丁基、异丙基、叔丁基、叔戊基、环己基、1-甲基环己基和苄基等作为烷基，苯基、对甲苯基和对甲氧基苯基等作为芳基，2-四氢呋喃基和4-吡啶基等作为杂环基。这些取代基可以是未取代的或被一个或多个其他取代基取代。这里所述的烷基不包括链烯基或炔基。R²¹、R²²和R²³中的两个或多个可以成环。

下文将详细描述式(Ⅲ)化合物。

在式(Ⅲ)中，R³¹和R³²独立地代表烷基、芳基或杂环基。这些基团可以是未取代的或被一个或多个取代基取代。取代基的实例包括下文R⁵¹中所提及的那些取代基。作为R³¹和R³²的具体实例，可以提及甲基、乙基、丙基、丁基、异丙基、叔丁基、叔戊基、环己基、1-甲基环己基和苄基等作为烷基，苯基、对甲苯基和对甲氧基苯基等作为芳基，2-四氢呋喃基和4-吡啶基等作为杂环基。这些取代基可以是未取代的或被一个或多个其他取代基取代。R³¹和R³²可以一起成环。

下文将详细描述式(Ⅳ)化合物。

在式(Ⅳ)中，R⁴¹和R⁴²独立地代表烷基、芳基或杂环基。R⁴³代表烷基、芳基、杂环基或-N(R⁴⁴)(R⁴⁵)。R⁴⁴和R⁴⁵独立地代表烷基、芳基或杂环基。这些基团可以是未取代的或被一个或多个取代基取代。取代基的实例包括下文R⁵¹中所提及的那些取代基。作为R⁴¹、R⁴²和R⁴³的具体实例，可以提及甲基、乙基、丙基、丁基、异丙基、叔丁基、叔戊基、环己基、1-甲基环己基和苄基等作为烷基，苯基、对甲苯基和对甲氧基苯基等作为芳基，2-四氢呋喃基和4-吡啶基等作为杂环基。这些取代基可以是未取代的或被一个或多个其他取代基取代。R⁴¹、R⁴²、R⁴³、R⁴⁴和R⁴⁵中的两个或多个可以成环。

下文将详细描述式(Ⅴ)化合物。

在式(Ⅴ)中，R⁵¹、R⁵²、R⁵³、R⁵⁴和R⁵⁵独立地代表氢原子或取代基。取代基的实例包括直链、支链或环状烷基，直链、支链或环状链烯基，炔基，芳基，酰氧基，烷氧基羰基氧基，芳氧基羰基氧基，氨基甲酰基氧基，碳酰氨基，磺酰氨基，氨基甲酰基，氨磺酰基，烷氧基，芳氧基，芳氧基羰基，烷氧基羰基，N-酰基氨磺酰基，N-氨磺酰基氨基甲酰基，烷基磺酰基，芳基磺酰基，烷氧基羰基氨基，芳氧基羰基氨基，氨基，铵基，氰基，硝基，羧基，羟基，磺基，巯基，烷基亚磺酰基，芳基亚磺酰基，烷硫基，芳硫基，脲基，杂环基(例如，含有至少-个氮原子、氧原子或硫原子等的3-～12-元单环或稠环)，杂环基氧基，杂环基硫基，酰基，氨磺酰氨基，甲硅烷基和卤原子等。

取代基的具体实例包括氢原子，含有1-10个碳原子的直链、支链或环状烷基(例如，三氟甲基、甲基、乙基、丙基、七氟丙基、异丙基、丁基、叔丁基、叔戊基、环戊基、环己基、辛基、2-乙基己基等)，含有2-10个碳原子的直链、支链或环状链烯基(例如乙烯基、1-甲基乙烯基、环己烯-1-基等)，含有2-10个碳原子的炔基(例如乙炔基、1-丙炔基等)，含有6-14个碳原子的芳基(例如苯基、萘基等)，含有1-10个碳原子的酰氧基(例如乙酰氧基、苯甲酰氧基等)，含有2-10个碳原子的烷氧基羰基氧基(例如甲氧基羰基氧基，2-甲氧基乙氧基羰基氧基等)，含有7-14个碳原子的芳氧基羰基氧基(例如苯氧基羰基氧基等)，含有1-12个碳原子的氨基甲酰基氧基(例如N,N-二甲基氨基甲酰基氧基等)，含有1-12个碳原子的碳酰氨基(例如甲酰胺、N-甲基乙酰胺、乙酰胺、N-甲基甲酰胺、苯甲酰胺等)，含有1-10个碳原子的亚磺酰氨基(例如甲亚磺酰氨基、苯亚磺酰氨基、对-甲苯亚磺酰氨基等)，含有1-10个碳原子的氨基甲酰基(例如N-甲基氨基甲酰基、N,N-二乙基氨基甲酰基、N-甲磺酰基氨基甲酰基等)，含有0-10个碳原子的氨磺酰基(例如N-丁基氨磺酰基、N,N-二乙基氨磺酰基、N-甲基-N-(4-甲氧基苯基)氨磺酰基等)，含有1-10个碳原子的烷氧基(例如甲氧基、丙氧基、异丙氧基、辛氧基、叔辛氧基等)，含有6-14个碳原子的芳氧基(例如苯氧基、4-甲氧基苯氧基、萘氧基等)，含有7-14个碳原子的芳氧基羰基(例如苯氧基羰基、萘氧基羰基等)，含有2-10个碳原子的烷氧基羰基(例如甲氧基羰基、叔丁氧基羰基等)，含有1-12个碳原子的N-酰基氨磺酰基(例如N-乙基氨磺酰基、N-苯甲酰基氨磺酰基等)，含有1-12个碳原子的N-氨磺酰基氨基甲酰基(例如N-甲氨磺酰基氨基甲酰基等)，含有1-10个碳原子的烷基磺酰基(例如甲磺酰基、辛磺酰基、2-甲氧基乙基磺酰基等)，含有6-14个碳原子的芳基磺酰基(例如苯磺酰基、对-甲苯磺酰基、4-苯基磺酰基苯基磺酰基等)，含有2-10个碳原子的烷氧基羰基氨基(例如乙氧基羰基氨基等)，含有7-14个碳原子的芳氧基羰基氨基(例如苯氧基羰基氨基、萘氧基羰基氨基等)，含有0-10个碳原子的氨基(例如氨基、甲氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、苯氨基、吗啉基等)，含有3-12个碳原子的铵基(例如三甲基铵基、二甲基苄基铵基等)，氰基，硝基，羧基，羟基，磺基，巯基，含有1-10个碳原子的烷基亚磺酰基(例如甲亚磺酰基、辛亚磺酰基等)，含有6-14个碳原子的芳基亚磺酰基(例如苯亚磺酰基、4-氯苯基亚磺酰基、对-甲苯亚磺酰基等)，含有1-10个碳原子的烷硫基(例如甲硫基、辛硫基、环己基硫基等)，含有6-14个碳原子的芳硫基(例如苯硫基、萘硫基等)，含有1-13个碳原子的脲基(例如3-甲基脲基、3,3-二甲基脲基、1,3-二苯基脲基等)，含有2-15个碳原子的杂环基(含有氮、氧、硫等作为杂原子的3-～12-元单环或稠环，例如2-呋喃基、2-吡喃基、2-吡啶基、2-噻吩基、2-咪唑基、吗啉基、2-喹啉基、2-苯并咪唑基、2-苯并噻唑基、2-苯并噁唑基等)，杂环基氧基(例如吡啶基氧基、吡唑基氧基等)，杂环基硫基(例如四唑基硫基、1,3,4-噻二唑基硫基、1,3,4-氧代二唑基硫基、苯并咪唑基硫基等)，含有1-12个碳原子的酰基(例如乙酰基、苯甲酰基、三氟乙酰基等)，含有0-10个碳原子的氨磺酰氨基(例如，N-丁基氨磺酰基氨基、N-苯基氨磺酰基氨基等)，含有3-12个碳原子的甲硅烷基(例如三甲基甲硅烷基、二甲基-叔丁基甲硅烷基等)，卤原子(例如氟原子、氯原子、溴原子等)等。上述取代基还可以含有一个或多个取代基，这种取代基的实例如上文所提及的那些。选自R⁵¹、R⁵²、R⁵³、R⁵⁴和R⁵⁵中的两个或多个基团可以一起成环。

用于本发明的给电子化合物的具体实例，即式(Ⅱ)、(Ⅲ)、(Ⅳ)和(Ⅴ)化合物，将在下文提及。然而，本发明并不局限于这些。

用于本发明的“含有磷酰基的化合物”(下文中可以称为“磷酰基化合物”)可以是任何化合物，只要该化合物含有一个或多个磷酰基。具体讲，优选上述式(Ⅵ)所代表的化合物。

在式(Ⅳ)中，R⁶¹、R⁶²和R⁶³独立地代表烷基、芳基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、氨基或杂环基。这些基团可以未被取代，或者它们含有一个或多个取代基。

烷基的实例包括甲基、乙基、丁基、辛基、十二烷基、异丙基、叔丁基、叔戊基、叔辛基、环己基和1-甲基环己基等。芳基的实例包括苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基、4-叔丁基苯基、4-叔辛基苯基、4-茴香胺基(anisidyl)和3,5-二氯苯基等。芳烷基的实例包括苄基、苯乙基和2-苯氧基丙基等。烷氧基的实例包括甲氧基、乙氧基、丁氧基、辛氧基、2-乙基己基氧基、3,5,5-三甲基已基氧基、十二烷氧基、环己基氧基、4-甲基环己基氧基和苯甲氧基等。芳氧基的实例包括苯氧基、甲苯氧基、异丙基苯氧基、4-叔丁基苯氧基、萘氧基和联苯基氧基等。氨基的实例包括二甲基氨基、二乙基氨基、二丁基氨基、二辛基氨基、N-甲基-N-己基氨基、二环己基氨基、二苯基氨基和N-甲基-N-苯基氧基等。

R⁶¹、R⁶²和R⁶³优选代表烷基、芳基、烷氧基或芳氧基。更优选的是，R⁶¹、R⁶²和R⁶³中至少一个代表烷基或芳基，还优选的是它们中两个或多个代表烷基或芳基。从以低成本获得这样化合物的角度来看，优选的是R⁶¹、R⁶²和R⁶³相同。当R⁶¹、R⁶²和R⁶³含有取代基时，取代基的实例包括卤原子、烷基、芳基、烷氧基、氨基、酰基、酰基氨基、烷硫基、芳硫基、磺酰氨基、酰氧基、氧羰基、氨基甲酰基、氨磺酰基、磺酰基和磷酰基等。优选的取代基是取代或未取代的烷基、芳基、烷氧基和芳氧基，其实例包括例如甲基、乙基、异丙基、叔丁基、叔辛基、苯基、4-烷氧基苯基、4-酰氧基苯基、甲氧基和苯氧基等。

对于R⁶³，优选苯基，更优选其中一个邻位被取代的苯基。更具体地讲，邻位上取代基的实例包括直链、支链或环状烷基，直链、支链或环状链烯基，炔基，芳基，酰氧基，烷氧基羰基氧基，芳氧基羰基氧基，氨基甲酰基氧基，碳酰氨基，磺酰氨基，氨基甲酰基，氨磺酰基，烷氧基，芳氧基，芳氧基羰基，烷氧基羰基，N-酰基氨磺酰基，N-氨磺酰基氨基甲酰基，烷基磺酰基，芳基磺酰基，烷氧基羰基氨基，芳氧基羰基氨基，氨基，铵基，氰基，硝基，羧基，羟基，磺基，巯基，烷基亚磺酰基，芳基亚磺酰基，烷硫基，芳硫基，脲基，杂环基(例如，含有至少一个氮原子、氧原子或硫原子等的3-～12-元单环或稠环)，杂环基氧基，杂环基硫基，酰基，氨磺酰氨基，甲硅烷基和卤原子等。

取代基的具体实例包括氢原子，含有1-10个碳原子的直链、支链或环状烷基(例如，三氟甲基、甲基、乙基、丙基、七氟丙基、异丙基、丁基、叔丁基、叔戊基、环戊基、环己基、辛基、2-乙基己基等)，含有2-10个碳原子的直链、支链或环状链烯基(例如乙烯基、1-甲基乙烯基、环己烯-1-基等)，含有2-10个碳原子的炔基(例如乙炔基、1-丙炔基等)，含有6-14个碳原子的芳基(例如苯基、萘基等)，含有1-10个碳原子的酰氧基(例如乙酰氧基、苯甲酰氧基等)，含有2-10个碳原子的烷氧基羰基氧基(例如甲氧基羰基氧基，2-甲氧基乙氧基羰基氧基等)，含有7-14个碳原子的芳氧基羰基氧基(例如苯氧基羰基氧基等)，含有1-12个碳原子的氨基甲酰基氧基(例如N,N-甲基氨基甲酰基氧基等)，含有1-12个碳原子的碳酰氨基(例如甲酰胺、N-甲基乙酰胺、乙酰胺、N-甲基甲酰眩、苯甲酰眩等)，含有1-10个碳原子的亚磺酰氨基(例如甲亚磺酰氨基、苯亚磺酰氨基、对-甲苯亚磺酰氨基等)，含有1-10个碳原子的氨基甲酰基(例如N-甲基氨基甲酰基、N,N-乙基氨基甲酰基、N-甲磺酰基氨基甲酰基等)，含有0-10个碳原子的氨磺酰基(例如N-丁基氨磺酚基、N，N-二乙基氨磺酚基、N-甲基-N-(4-甲氧基苯基)氨磺酰基等)，含有1-10个碳原子的烷氧基(例如甲氧基、丙氧基、异丙氧基、辛氧基、叔辛氧基等)，含有6-14个碳原子的芳氧基(例如苯氧基、4-甲氧基苯氧基、萘氧基等)，含有7-14个碳原子的芳氧基羰基(例如苯氧基羰基、萘氧基羰基等)，含有2-10个碳原子的烷氧基羰基(例如甲氧基羰基、叔丁氧基羰基等)，含有1-12个碳原子的N-酰基氨磺酰基(例如N-乙基氨磺酰基、N-苯甲酰基氨磺酰基等)，含有1-12个碳原子的N-氨磺酰基氨基甲酰基(例如N-甲氨磺酰基氨基甲酰基等)，含有1-10个碳原子的烷基磺酰基(例如甲磺酰基、辛磺酰基、2-甲氧基乙基磺酰基等)，含有6-14个碳原子的芳基磺酰基(例如苯磺酰基、对-甲苯磺酰基、4-苯基磺酰基苯基磺酰基等)，含有2-10个碳原子的烷氧基羰基氨基(例如乙氧基羰基氨基等)，含有7-14个碳原子的芳氧基羰基氨基(例如苯氧基羰基氨基、萘氧基羰基氨基等)，含有0-10个碳原子的氨基(例如氨基、甲氨基、二乙基氨基、二异丙基氨基、苯氨基、吗啉基等)，含有3-12个碳原子的铵基(例如三甲基铵基、二甲基苄基铵基等)，氰基，硝基，羧基，羟基，磺基，巯基，含有1-10个碳原子的烷基亚磺酰基(例如甲亚磺酰基、辛亚磺酰基等)，含有6-14个碳原子的芳基亚磺酰基(例如苯亚磺酰基、4-氯苯基亚磺酰基、对-甲苯亚磺酰基等)，含有1-10个碳原子的烷硫基(例如甲硫基、辛硫基、环己基硫基等)，含有6-14个碳原子的芳硫基(例如苯硫基、萘硫基等)，含有1-13个碳原子的脲基(例如3-甲基脲基、3,3-甲基脲基、1,3-二苯基脲基等)，含有2-15个碳原子的杂环基(含有氮、氧、硫等作为杂原子的3-～12-元单环或稠环，例如2-呋喃基、2-吡喃基、2-吡啶基、2-噻吩基、2-咪唑基、吗啉基、2-喹啉基、2-苯并咪唑基、2-苯并噻唑基、2-苯并噁唑基等)，杂环基氧基(例如吡啶基氧基、吡唑基氧基等)杂环基硫基(例如四唑基硫基、1,3,4-噻二唑基硫基、1,3,4-氧代二唑基硫基、苯并咪唑基硫基等)，含有1-12个碳原子的酰基(例如乙酰基、苯甲酰基、三氟乙酰基等)，含有0-10个碳原子的氨磺酰基氨基(例如，N-丁基氨磺酰基氨基、N-苯基氨磺酰基氨基等)，含有3-12个碳原子的甲硅烷基(例如三甲基甲硅烷基、二甲基-叔丁基甲硅烷基等)，卤原子(例如氟原子、氯原子、溴原子等)等。

上述取代基可以不在R⁶³中苯基的邻位。

当R⁶³是在其邻位上具有取代基的苯基时，R⁶¹和R⁶²优选代表烷基或芳基。

下面列出了用于本发明具有磷酰基的化合物的具体实例。然而，本发明不局限于这些。

满足上述要求A和B中至少一个的化合物加入量优选为0.01-4.0g/m²，更优选为0.1-2.0g/m²。对于1摩尔成像层表面上的银，加入量优选为2-40摩尔％，更优选为5-30摩尔％。

酚还原剂(式(Ⅰ)化合物)和满足上述要求A和B中至少一个要求的化合物的加入量之比(摩尔比)优选为0.1-10，更优选为0.1-2.0，再优选为0.5-1.5。

在含有有机酸银盐的成像层中优选包含酚化合物(式(Ⅰ)化合物)和满足上述要求A和B中至少一个要求的化合物。然而，它们中一个化合物可以包含在成像层中，另一个化合物可以包含在与其邻接的非成像层中，或者它们均包含在非成像层中。此外，当成像层由较多层组成时，它们可以包含在不同的层中。

酚化合物(式(Ⅰ)化合物)和满足上述要求A和B中至少一个要求的化合物可以包含在任意状态的涂布溶液中，例如包含在感光材料中的溶液、乳化分散剂或固体微粒状分散剂等。

作为熟知的乳化方法，可以提及一种通过使用油如邻苯二甲酸二丁、磷酸三甲苯酯、三乙酸甘油酯或邻苯二甲酸二乙酯、乙酸乙酯或环己酮作为溶解的辅助溶剂，机械制备乳化分散剂的方法。

作为固体微粒状分散剂的方法，可以提及一种固体分散剂的方法，即在合适的溶剂如水中使用球磨机、胶体磨、振动磨、砂磨机、气流粉碎机或滚压机等或者采用超声波的方法，分散酚化合物(式(Ⅰ)化合物)或满足上述要求A和B中至少一个要求的化合物的粉末。在该操作中，可以使用保护胶体(例如聚乙烯醇)和表面活性剂(例如阴离子表面活性剂如三异丙基萘磺酸钠(含有三个在不同位置上异丙基的混合物))等。含水的分散剂中可以含有防腐剂(例如苯并噻唑啉酮钠盐)。

可用于本发明的有机酸银盐是对光相对稳定的银盐，但当其在暴露的光催化剂(例如感光卤化银的潜影)和热显影剂存在下在80℃或更高的温度下加热时会形成银影像。有机酸的银盐可以是任何含有能够还原银离子源的有机物质。这种非感光的有机酸银盐公开在JP-A-10-62899、0048-0049段，欧洲专利公开EP0803763A1、第18页24行-第19页37行和欧洲专利公开EP0962812A1中。有机酸的银盐，具体讲优选含有10-30、优选15-28个碳原子的长链脂族羧酸银盐。有机酸银盐的优选实例包括二十二烷酸银、二十烷酸银、硬脂酸银、油酸银、月桂酸银、己酸银、十四烷酸银、棕榈酸银和其混合物等。

可用于本发明的有机酸银盐的形式没有特别的限制。优选鳞状的有机酸银盐用于本发明。这里所述的鳞状的有机酸银盐定义如下。在电子显微镜下观察有机酸银盐的样品，观察到的有机酸盐的晶粒的形状接近于成直角的平行六面体。每个成直角的平行六面体的边根据增加的尺寸定义为a、b和c(c和b可以相同)。由较短的边a和b，根据如下等式得到x：

x=b/a

得到约200晶粒的x值，平均值称为x(平均)。满足x(平均)≥1.5要求的样品被定义为鳞状的。鳞状晶粒优选满足30≥x(平均)≥1.5，更优选20≥x(平均)≥2.0。针形晶粒满足1≤x(平均)＜1.5。

在鳞状晶粒中，“a”表达为板状晶粒的厚度，其主平面通过边b和c来限定。“a”的平均值优选为0.01μm-0.23μm，更优选为0.1μm-0.20μm。c/b的平均值优选为1-6，更优选为1.05-4，再优选为1.1-3，最优选为1.1-2。

有机酸银盐的晶粒尺寸分布优选为单分散。用于此处的“单分散”是指由短轴或长轴长度的标准偏差分别除以短轴或长轴的长度所得到的百分值，优选为100％或更低，更优选为80％或更低，再优选为50％或更低。有机酸银盐的形状可以通过有机酸银盐分散的透射式电子显微镜图象来测定。测定单分散的另一种方法包括获得有机酸银盐的容重平均直径的标准偏差的方法。通过标准偏差除以容重平均直径所得到的值的百分数(变异系数)优选为100％或更低，更优选为80％或更低，再优选为50％或更低。例如，该值可以由晶粒尺寸(容重平均直径)获得，该尺寸通过用激光射线照射分散在溶液中的有机酸银盐并测定在及时改变基底上的散射光的自相关函数来测定。

制备和分散用于本发明的有机酸银盐的方法可以是已知的方法。例如，可以参照上文提及的JP-A-10-62899、欧洲专利公开EP0803763A1和EP0962812A1。

在本发明中，感光材料可以通过混合有机酸银盐的含水分散液和感光银盐的含水分散剂来制备。可以根据使用目的来选择有机酸银盐和感光银盐的混合比，感光银盐和有机酸银盐的比例优选为1-30摩尔％，更优选为3-20摩尔％，特别优选为5-15摩尔％。对于它门的混合，为了用于控制照相的特性，优选将两种或多种有机酸银盐的含水分散剂和两种或多种感光银盐的含水分散剂混合。

有机酸银盐可以按照需要量使用，作为银的用量优选为0.1-5g/m²，更优选为1-3g/m²。

可以用于本发明的感光卤化银对于卤素组份没有特别的限制，可以使用氯化银、氯溴化银、溴化银、碘溴化银和氯碘溴化银。晶粒中卤素组份的分布可以是均匀的，或者卤素组份在晶粒中可以间隙或连续改变。优选使用含有核/壳结构的卤化银晶粒。优选两重-五重结构，更优选使用含有两重-四重结构的核/壳晶粒。也可以优选使用用于在氯化银或氯溴化银表面上定位溴化银的技术。

感光卤化银的制备是本领域所熟知的。例如，可以使用Research Disclosure第17029(6月，1978)和美国专利3700458中所述的方法。更具体地讲，可以采用这样的方法，该方法包括通过向明胶或其他聚合物的溶液中加入提供银的化合物和提供卤素的化合物来制备感光卤化银晶粒、然后向得到的晶粒中加入有机酸银盐的步骤。

为了抑制成像后的浑浊，感光卤化银的晶粒尺寸优选制备得较小。具体地讲，晶粒尺寸优选为0.20μm或更低，更优选为0.01-0.15μm，再优选为0.02-0.12μm。这里使用的术语“晶粒尺寸”是指球体的直径，该球体的体积与其中卤化银晶粒是立方体或八面体形式的规则晶体和其中卤化银晶粒是不规则晶体如球状或棒状晶粒的晶粒体积相同。当卤化银晶粒是板状晶粒时，该术语是指具有与板状晶粒主表面的投射面积相同的圆的直径。

卤化银晶粒形式的实例包括立方体形式、八面体形式、板状形式、球体形式、棒状形式和土豆状形式。本发明尤其优选立方体形式。含有圆角的卤化银晶粒在本发明中也是优选使用的。感光卤化银晶粒外表面的表面指数(米勒指数)没有特别的限制。但是，希望[100]面以高比例存在，这样当光谱敏化染料吸附其中时，可以在高光谱敏化效率。[100]面的比例优选不低于50％，更优选至少65％，再更优选至少80％。米勒指数[100]面的比例可以采用T.Tani,J.ImagingSci.,29,165(1985)中所述的方法测定，其中利用[111]表面和[100]表面上增感染料的吸附特性的差异。

本发明的感光卤化银晶粒中优选含有元素周期表中Ⅷ族-Ⅹ族金属或金属配合物(包括Ⅰ族-ⅩⅧ族)。元素表中Ⅷ族-Ⅹ族的金属或金属配合物中中心金属优选为铑、铼、钌、锇或铱。金属配合物可以单独使用，或者也可以组合使用两种或多种相同或不同金属的配合物。金属配合物的含量优选为1×10^-9-1×10^-3摩尔/每摩尔银。这样的金属配合物在JP-A-11-65021第0018-0024段中有描述。

在这些化合物中，用于本发明的卤化银晶粒中优选含有铱化合物。铱化合物的实例包括六氯化铱、六氨合铱、三草酸根铱、六氰基铱和五氯亚硝酰基铱。该铱化合物是在将其溶解于水或合适溶剂中后使用，该方法通常用于稳定铱化合物溶液，更具体地讲可以使用包括加入氢卤化物水溶液(例如盐酸、氢溴酸、氢氟酸)或卤1代碱金属(例如KCl、NaCl、KBr、NaBr)的方法。代替使用水溶的铱，可以在制备卤化银的时候加入和溶解事先用铱掺杂的不同卤化银晶粒。铱化合物的用量优选为每摩尔卤化银使用1×1^-8-1×1^-3摩尔，更优选1×10^-7-5×10^-4摩尔。

此外，可包含在用于本发明的卤化银晶粒中的金属配合物(例如[Fe(CN)₆]^4-)、脱盐方法和化学敏化方法在JP-A-11-84574第0046-0050段和JP-A-11-65021第0025-0031段中有描述。

在本发明的光热敏成像材料中，日本专利公开11-73951中提及的式(A)代表的酚衍生物优选用作显影加速剂。

作为可以用于本发明的增感染料，优选这样的增感染料，即在卤化银晶粒上吸附后能够在需要的波长范围内光谱地敏化晶粒。根据用于曝光的光源的光谱特性，选择具有较好光谱选择性的良好增感染料用于本发明的光热敏成像材料中。对于这里可使用的增感染料和将其加入到本发明光热敏成像材料中方法的详细描述，参见JP-A-11-65021第0103-0109段、JP-A-10-186572中式(Ⅱ)化合物和欧洲专利公开EP0803764A1第19页38行-第20页35行。关于向卤化银乳剂中加入增感染料的时间，希望在脱盐步骤之后但在涂布步骤之前加入增感染料，更优选在脱盐之后但在化学熟成开始之前加入。

增感染料的加入量可以根据特性例如灵敏度和雾来使用所需的量，其用量优选为每1摩尔感光层中卤化银使用10^-6-1摩尔，更优选为10^-4-10^-1摩尔。

在本发明中，为了增加光谱敏化效率，可以使用促增感剂。用于本发明的促增感剂可以是欧洲专利公开587338、美国专利3877943和4873184、JP-A-5-341432、JP-A-11-109547和JP-A-10-111543等中所公开的化合物。

用于本发明的感光卤化银晶粒优选进行通过硫敏化、硒敏化或碲敏化的化学敏化作用。任何已知的化合物优选可用于该硫、硒或碲敏化作用，例如JP-A-7-128768中所述的化合物可用于该目的。在本发明中，特别有利的是碲敏化作用。用于这里的碲增感剂包括，例如二酰基碲化物、双(氧羰基)碲化物、双(氨基甲酰基)碲化物、二酰基二碲化物、双(氧羰基)二碲化物、双(氨基甲酰基)二碲化物、含有P=Te键的化合物、碲羧酸盐、碲磺酸盐、含有P-Te键的化合物和碲羰基化合物等。为此，具体提及的是JP-A-11-65021第0030段中所述的化合物。特别优选的是JP-A-5-313284中给出的式(Ⅱ)、(Ⅲ)和(Ⅳ)化合物。

在本发明中，化学敏化作用可以在任何时间进行，只要其在形成晶粒之后和涂布之前进行即可。其可以在脱盐之后和(1)光谱敏化之前、(2)与光谱敏化同时、(3)光谱敏化之后或(4)在涂布之前立即进行。特别优选的是在光谱敏化之后进行。

用于本发明中硫、硒或碲增感剂的用量根据使用卤化银晶粒的类型和化学熟成的条件等而变化，但是通常为每摩尔卤化银使用10^-8-10^-2摩尔，优选10^-7-10^-3摩尔左右。尽管在本发明中用于化学熟成的条件没有特别的限制，但是pH为5-8，PAg为6-11、优选7-10，温度为40-95℃、优选44-70℃。

在本发明的光热敏成像材料中，可以使用一种或多种感光卤化银乳剂或者可以结合使用两种或多种不同的乳剂(例如含有不同平均晶粒尺寸、不同卤素组成、不同晶体习性或不同化学敏化条件的那些乳剂)。通过使用具有不同灵敏度的复合感光卤化银，可以控制对比度。该领域技术的实例包括在JP-A-57-119341、JP-A-53-106125、JP-A-47-3929、JP-A-48-55730、JP-A-465187、JP-A-50-73627和JP-A-57-150841等中所提及的那些。每种乳剂的灵敏差优选为0.2logE或更高。

感光卤化银的用量优选为0.03-0.6g/m²，更优选0.05-0.4g/m²，最优选0.1-0.4g/m²，作为每1m²感光材料所用涂布银的量。每摩尔有机酸银盐所使用的感光卤化银的用量优选为0.01-0.5摩尔，更优选为0.02-0.3摩尔，再更优选为0.03-0.25摩尔。

用于混合单独制备的感光卤化银和有机酸银盐的方法和条件没有特别的限制，只要能够令人满意地获得本发明的效果。其实例包括，例如在完成各自的制备之后通过使用高速搅拌的机器、球磨机、砂磨机、胶体磨、振动磨机或匀浆器等混合卤化银晶粒和有机酸银盐的方法，或者在制备有机酸银盐的过程中的任可时间下通过混合单独制得的感光卤化银来制备有机酸银盐的方法。

向用于成像层的涂布溶液中加入卤化银的优选时间为涂布前180分钟至刚涂布之前，优选涂布前60分钟至10秒。用于混合的方法和条件没有特别的限制，只要能够令人满意地获得本发明的效果。混合方法的具体实例包括其中在以致于获得所需平均停留时间而设计的槽中进行混合的方法，其中停留时间由向涂料器中的加入流速和进料量来计算，和采用在N.Hamby,M.F.Edwards,A,W.Nienow,“EkitaiKongo Gijutsu(混合液体的技术)”,Koij Takahashi译，第8章，Nikkan KogyoShinbunsha,1989中所描述的静态混合器的方法等。

含有本发明有机酸银盐涂层的粘结剂可以是任何聚合物。优选的粘结剂是透明或半透明的、通常为无色的那些。粘结剂可以由如下物质组成：例如天然存在的树脂、聚合物或共聚物、合成树脂、能够形成薄膜的聚合物或共聚物或其他介质如明胶、橡胶、聚乙烯醇、羟乙基纤维素、醋酸纤维素酯、乙酸丁酸纤维素、聚乙烯吡咯烷酮、酪蛋白、淀粉、聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸甲酯、聚氯乙烯、聚甲基丙烯酸、苯乙烯/马来酸酐共聚物、苯乙烯/丙烯腈共聚物、苯乙烯/丁二烯共聚物、聚乙烯醇缩乙醛(例如聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩丁醛)、聚酯、聚氨酯、酚氧树脂、聚1,1-二氯乙烯、聚环氧化物、聚碳酸酯、聚醋酸乙烯酯、聚烯烃、纤维素酯和聚酰胺。

在本发明中，含有有机酸银盐涂层的粘结剂的玻璃化温度优选为20-80℃(下文也称为“高Tg粘结剂”)，更优选为23-60℃。

在本发明中，Tg是按照如下等式计算的：

1/Tg=∑(Xi/Tgi)

在此情况下，聚合物被认为是由i=1-n即n个共聚的单体组份组成。Xi代表第i个单体的重量比(∑Xi=1)，Tgi为由第i个单体组成的均聚物的玻璃化温度(绝对温度)。∑指i=1-n的总和。作为由每个单体(Tgi)组成的均聚物的玻璃化温度值，使用聚合物手册(第3版))J.Brandrup,E.H.Immergut(Wiley-Interscience,1989))中提及的值。

充当粘结剂的聚合物可以单独使用每一种，或者根据需要组合使用其中两种或多种。此外，可以组合使用玻璃化温度为20℃或更高的聚合物和玻璃化温度低于20℃的聚合物。当使用两种或多种不同玻璃化温度的聚合物的混合物时，优选的是其重均Tg落在上述的范围之内。

在本发明中，如果通过使用含有30重量％或更多水(基于总溶剂而言)的涂布水溶液、尤其是含有在25℃和60％相对湿度下平衡水分含量为2重量％或更低的聚合物胶乳的涂布水溶液形成含有有机酸银盐层时，其性能将提高。在一最优选的实施方式中，制备的聚合物的离子电导率为2.5mS/cm或更低。用于制备这种聚合物胶乳的方法实例包括合成聚合物和然后通过使用用于分离的功能薄膜来纯化聚合物步骤的方法。

其中聚合物粘结剂可溶或可分散的含水溶剂是水或混合70重量％或更低与水混溶有机溶剂的水。与水混溶的有机溶剂的实例包括，例如醇如甲醇、乙醇和丙醇；溶纤剂如甲基纤维素、乙基纤维素和丁基纤维素；乙酸乙酯和二甲基甲酰胺等。

这里使用的术语“含水溶剂”还包括其中聚合物不是热力学溶解而是以所谓分散态的形式存在的体系。

这里使用的定义“在25℃和60％相对湿度下平衡水分含量”可以由如下等式表示，其中W1表示在25℃和60％相对湿度的气氛中、在湿度调级的平衡下聚合物的重量，W0表示在25℃下聚合物的绝对干重。

在25℃和60％相对湿度下平衡水分含量

        =[(W1-W0)/W0]×100(重量％)

对于水分含量的定义和测量方法的细节，例如可以参考Lecture ofPolymerEngineering,14，聚合物材料的测试方法(Plymer Society of Japan,Chijin Shokan)。

在25℃和60％相对湿度下用于本发明的粘结剂聚合物的平衡水分含量优选2重量％或更低，更优选为0.01-1.5重量％，最优选为0.02-1重量％。

在本发明中，特别优选可分散于含水溶剂中的聚合物。

分散态体系的实例包括，例如其中分散聚合物细固体颗粒的聚合物胶乳，和其中以分子状态或微团分散聚合物的体系，两种体系均优选。

在本发明优选的实施方式中，可以优选使用疏水的聚合物如丙烯酸树脂、聚酯树脂、橡胶树脂(例如SBR树脂)、聚氨酯树脂、聚氯乙烯树脂、聚醋酸乙烯酯树脂、聚1,1-二氯乙烯树脂和聚烯烃树脂。聚合物可以是线性、支链或交联。它们可以是所谓的其中单个单体聚合的均聚物，或者其中两个或多个不同种单体聚合的共聚物。共聚物可以是无规共聚物或嵌段共聚物。聚合物的数均分子量可以是5000-1000000，优选10000-200000。具有太小分子量的聚合物不能产生足够的乳剂层的机械强度，以及具有太大分子量的聚合物产生较差的成膜特性，两者均不是优选的。

上述提及的“含水溶剂”是指其中组份包括至少30重量％水的分散介质。至于分散状态，可以使用任何状态的体系，例如乳剂分散剂、胶束分散剂和含有疏水部分聚合物的分子分散剂等。其中特别优选聚合物胶乳。

聚合物胶乳的优选实例如下所示。它们被描述为原料单体。括号中的数值表示重量％，分子量为数均分子量。P-1：-MMA(70)-EA(27)-MAA(3)-胶乳(分子量：37000)P-2：-MMA(70)-2EHA(20)-St(5)-AA(5)-胶乳(分子量：40000)P-3：-St(50)-Bu(47)-MAA(3)-胶乳(分子量：45000)P-4：-St(68)-Bu(29)-AA(3)-胶乳(分子量：60000)P-5：-St(70)-Bu(27)-IA(3)-胶乳(分子量：120000)P-6：-St(75)-Bu(24)-AA(1)-胶乳(分子量：108000)P-7：-St(60)-Bu(35)-DVB(3)-MAA(2)-胶乳(分子量：150000)P-8：-St(70)-Bu(25)-DVB(2)-AA(3)-胶乳(分子量：280000)P-9：-VC(50)-MMA(20)-EA(20)-AN(5)-AA(5)-胶乳(分子量：80000)P-10：-VDC(85)-MMA(5)-EA(5)-MAA(5)-胶乳(分子量：67000)P-11：-Et(90)-MAA(10)-胶乳(分子量：12000)P-12：-St(70)-2EHA(27)-AA(3)-胶乳(分子量：130000)P-13：-MMA(63)-EA(35)-AA(2)-胶乳(分子量：33000)P-14：-St(80)-Bu(20)-胶乳(Tg=39℃，交联)P-15：-St(85)-Bu(15)-胶乳(Tg=52℃，交联)P-16：-St(90)-Bu(7)-AA(3)-胶乳(Tg=76℃，交联)P-17：-St(70)-BMA(30)-胶乳(Tg=63℃，分子量：126000)P-18：-St(65)-BMA(30)-AA(5)-胶乳(Tg=63℃，分子量：102000)P-19：-St(75)-Bu(15)-BMA(10)-胶乳(Tg=37℃，交联)P-20：-St(80)-2EHA(15)-AA(5)-胶乳(Tg=66℃，分子量：98000)P-21：-St(92)-Bu(5)-AA(3)-胶乳(Tg=84℃，交联)P-22：-MMA(76)-2EHA(22)-EGDA(2)-胶乳(Tg=55℃，交联)P-23：-MMA(60)-MA(40)-胶乳(Tg=60℃,253000)P-24：-St(80)-Bu(12)-AA(3)-DVB(5)-胶乳(Tg=80℃，交联)P-25：-t-BA(100)-胶乳(Tg=77℃,169000)P-26：-St(74)-Bu(20)-AA(3)-胶乳(Tg=31℃，交联)P-27：-St(71)-Bu(26)-AA(3)-胶乳(Tg=24℃，交联)P-28：-St(70.5)-Bu(26.5)-AA(3)-胶乳(Tg=23℃，交联)P-29：-St(69.5)-Bu(28.5)-AA(3)-胶乳(Tg=20.5℃，交联)

上述式中的缩写代表如下单体：MMA：甲基丙烯酸甲酯EA：丙烯酸乙酯MAA：甲基丙烯酸2EHA：2-乙基己基丙烯酸酯St：苯乙烯Bu：丁二烯AA：丙烯酸DVB：二乙烯基苯VC：氯乙烯AN：丙烯腈VDC：1,1-二氯乙烯Et：乙烯IA：衣康酸MA：丙烯酸甲酯BMA：甲基丙烯酸丁酯EGDA：乙二醇二丙烯酸酯t-BA：丙烯酸叔丁酯

上面提及的聚合物胶乳也可以购买到，可以使用下面提及的那些。丙烯酸树脂的实例包括CEBIANA-4635、46583、4601(所有均来自Daicel ChemicalIndustries)和NipolLx811、814、821、820、857(所有均来自NipponZeon)等；聚酯树脂的实例包括FINETEXES650、611、675、850(所有均来自Dai-Nippon Inkand Chemicals)和WD-size，WMS(两者来自Eastman Chemical)等；聚氨酯树脂的实例包括HYDRANAP10、20、30、40(所有均来自Dai-Nippon Ink andChemicals)等；橡胶树脂的实例为LACSTAR7310K、3307B、4700H、7132C(所有均来自Dai-Nippon Ink&Chemicals)和NipolLx416、410、438c、2507(所有均来自NipponZeon)等；聚氯乙烯树脂的实例包括G351、G576(所有均来自NipponZeon)等；聚1,1-二氯乙烯树脂的实例为L502、L513(所有均来自Asahi Chemical Industry)等；聚烯烃树脂的实例包括CHEMIPEARL S120、SA100(所有均来自MitsuiPetrochemical)等。

这些聚合物可以单独使用，或者根据需要将其中两种或多种混合使用。

作为用于本发明的聚合物胶乳，特别优选苯乙烯/丁二烯共聚物胶乳，在苯乙烯/丁二烯共聚物中苯乙烯单体单元和丁二烯单体单元的重量比优选为40/60-95/5。共聚物中苯乙烯单体单元和丁二烯单体单元的比优选为60-99重量％。共聚物分子量的优选范围类似于上面所提及的。

优选用于本发明的苯乙烯/丁二烯共聚物胶乳的实例包括上述P-3～P-8、P-14～P-16、P-19、P-21、P-24、P-26～P-29，可购买到的产品，LACSTAR-3307B，7132C和NipolLx416等。

含有本发明光热敏成像材料的有机酸银盐层中可任选加入疏水聚合物如明胶、聚乙烯醇、甲基纤维素和羟丙基纤维素。疏水聚合物的含量优选占整个含有有机酸银盐的层中粘结剂的30重量％或更低，更优选20重量％或更低。

含有有机酸银盐的层(即成像层)优选是通过使用聚合物胶乳所形成的那些。含有有机酸银盐层中粘结剂的含量可以是1/10-10/1，更优选为1/5-4/1，即总粘结剂/有机酸银盐的重量比。

含有有机酸银盐的层通常也充当含有感光卤化银作为感光银盐的感光层(乳剂层)。在此情况下，总粘结剂/卤化银的重量比优选为5-400，更优选为10-200。

本发明光热敏成像材料的成像层中粘结剂的总量优选为0.2-30g/m²，更优选为1-15g/m²。成像层中可任选加入交联剂、表面活性剂以增加涂布溶液的涂布性能等。

用于含有本发明光热敏成像材料的有机酸银盐层的涂层溶液中的溶剂(为简单起见，分散介质以及溶剂在此称为“溶剂”)为含有至少30重量％水的含水溶剂。作为水之外的其他组份，可以使用任何与水混溶的有机溶剂，例如甲醇、乙醇、异丙醇、甲基纤维素、乙基纤维素、二甲基甲酰胺和乙酸乙酯等。用于涂布溶液的溶剂中水的含量优选至少50重量％，更优选至少70重量％。溶剂组合物的优选实例包括水/甲醇=90/10、水/甲醇=70/30、水/甲醇/二甲基甲酰胺=80/15/5、水/甲醇/乙基纤维素=80/10/5、水/甲醇/异丙醇=85/10/5和水等(该值为重量％)。

可用于本发明的防雾剂、稳定剂和稳定剂前体，可以提及的是例如JP-A-10-62899第0070段和欧洲专利公开EP0803764A1第20页第57行-第21页第7行中提及的那些。优选用作本发明的防雾剂是有机卤化物。其实例包括，例如JP-A-11-65021第0111-0112段中所公开的那些。特别优选的是JP-A-10-339934中提及的式(Ⅱ)所示的多卤代化合物(具体实例是三溴甲基萘砜、三溴甲基苯砜、三溴甲基(4-(2,4,6-三甲基磺酰基)苯基)砜等)。

防雾剂可以通过上述如配制热显影剂的方法在光热敏成像材料中配制。多卤代化合物优选以固体微粒状分散剂的形式加入。

其他防雾剂的例子包括JP-A-11-65021第0113段中所述的汞(Ⅱ)盐、同一篇第0114段中所述的苯甲酸、日本专利申请11-87297中提及的式(Z)所表示的水杨酸衍生物和日本专利申请11-23995中提及的式(S)表示的福尔马林净化剂化合物。

本发明的光热敏成像材料可以含有氮鎓盐作为防雾剂。氮鎓盐的实例包括，例如JP-A-59-193447中公开的式(Ⅺ)化合物、JP-B-55-12581中公开的化合物和JP-A-60-153039中公开的式(Ⅱ)化合物。氮鎓盐可以在光热敏成像材料的任何位置加入，优选在成像层一侧的一层或多层中加入，更优选在含有有机酸银盐的层中加入。氮鎓盐可以在制备涂布溶液过程中的任何时候加入。当氮鎓盐加入到含有有机酸银盐层中时，可以在制备有机酸银盐-制备涂布溶液这段期间过程中的任何时候加入氮鎓盐。优选在制备有机酸银盐之后-正好涂布之前这段时间。氮鎓盐可以任何形式如粉末、溶液和微粒状分散剂的形式加入。该盐也可以作为溶液加入，该溶液通过将盐与其他添加剂如增感染料、还原剂和显影剂混合来制备。在本发明中，加入氮鎓盐的量没有特别的限制，用量优选为每摩尔银使用1×10^-6摩尔至2摩尔，更优选为1×10^-3摩尔至0.5摩尔。

本发明的光热敏成像材料中可以任选含有巯基化合物、二硫化合物和硫酮化合物以加速、抑制或控制显影，或者增加光谱敏化效率，或者提高显影之前和之后的可存储性。实例包括，例如JP-A-10-62899第0067-0069段中所述的那些化合物、JP-A-10-186572第0033-0052段中的式(Ⅰ)化合物和具体实施例以及欧洲专利公开EP0803764A1第20页第36-56行中所述的那些化合物。其中，优选巯基取代的杂芳族化合物。

在本发明的光热敏成像材料中，优选加入显影剂。显影剂的实例在JP-A-10-62899第0054-0055段和欧洲专利公开EP0803764A1第21页第23-48行中有描述。优选的实例包括酞嗪酮(phthalazinone)、酞嗪酮衍生物(例如4-(1-萘基)酞嗪酮、6-氯酞嗪酮、5,7-二甲氧基酞嗪酮、2,3-二氢-1,4-酞嗪酮和其他衍生物)及其金属盐；酞嗪酮和邻苯二甲酸或其衍生物的混合物(例如邻苯二甲酸、4-甲基邻苯二甲酸、4-硝基邻苯二甲酸、四氯邻苯二甲酸酐等)；酞嗪包括酞嗪和酞嗪衍生物(例如4-(1-萘基)酞嗪、6-异丙基酞嗪、6-叔丁基酞嗪、6-氯酞嗪、5,7-二甲氧基酞嗪、2,3-二氢酞嗪和其他衍生物)及其金属盐；酞嗪和邻苯二甲酸或其衍生物的混合物(例如邻苯二甲酸，4-甲基邻苯二甲酸、4-硝基邻苯二甲酸和四氯邻苯二甲酸酐等)。特别优选的实例包括酞嗪和邻苯二甲酸或其衍生物的混合物。

可用于感光层的增塑剂和润滑剂在JP-A-11-65021第0117段中有描述。用于形成超高对比影像的超高造影剂在同一篇公开第0118段中有描述以及日本专利申请11-91652中提及的那些化合物作为式(Ⅲ)-(Ⅴ)的化合物(具体化合物：Chem.21-Chem24)；以及硬度增强促进剂在JP-A-11-65021第0102段中有描述。

用于本发明的超高造影剂优选选自取代的链烯烃衍生物、取代的异噁唑衍生物和分别由下式(Ⅶ)、(Ⅷ)和(Ⅸ)表示的乙缩醛化合物。

下面将详细描述式(Ⅶ)所示的化合物。

在式(Ⅶ)中，R⁷¹、R⁷²和R⁷³独立地代表氢原子或取代基。

当R⁷¹、R⁷²或R⁷³代表取代基时，取代基的实例包括卤原子(例如氟、氯、溴、碘)、烷基(包括环烷基和活性次甲基)、芳烷基、链烯基、炔基、芳基、杂环基(包括N-取代的含氮杂环基)、季铵化的含氮杂环基(例如吡啶并基团)、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、羧基或其盐、亚氨基、在N原子上取代的亚氨基、硫代羰基、磺酰基氨基甲酰基、酰基氨基甲酰基、氨磺酰氨基甲酰基、咔唑基、草酰基、氨基草酰基、氰基、硫代氨基甲酰基、羟基或其盐、烷氧基(包括含有乙烯氧基或丙烯氧基重复单元的基团)、芳氧基、杂环氧基、酰氧基、(烷氧基或芳氧基)羰基氧基、氨基甲酰基氧基、磺酰基氧基、氨基、(烷基、芳基或杂环基)氨基、酰氨基、氨磺酰基、脲基、硫脲基、亚氨基、(烷氧基或芳氧基)羰基氨基、氨磺酰氨基、氨基脲、氨基硫脲、肼基、季铵基、草氨酰氨基、(烷基或芳基)磺酰基脲基、酰脲基、酰基氨磺酰氨基、硝基、巯基、(烷基、芳基或杂环基)硫基、酰基硫基、(烷基或芳基)磺酰基、(烷基或芳基)亚磺酰基、磺基或其盐、氨磺酰基、酰基氨磺酰基、磺酰基氨磺酰基或其盐、磷酰基、含有磷酰胺或磷酸酯结构的基团、甲硅烷基和甲锡烷基。这些取代基每个可以再被任意-个或多个上述取代基取代。

由R⁷¹、R⁷²或R⁷³代表的取代基优选是碳原子总数为0-30的基团，基团的具体实例包括与式(Ⅶ)中Z所示的吸电子基团具有同样定义的基团、烷基、羟基或其盐、巯基或其盐、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、烷硫基、芳硫基、杂环硫基、氨基、烷氨基、芳氨基、杂环氨基、脲基、酰氨基、磺酰氨基和取代或未取代的芳基等。

R⁷¹优选为氢原子、吸电子基团、芳基、烷硫基、烷氧基、酰氨基或甲硅烷基。更优选的是吸电子基团或芳基。

当R⁷¹代表吸电子基团时，R⁷¹优选为碳原子总数为0-30的基团如氰基、硝基、酰基、甲酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、硫代羰基、亚氨基、在N原子上取代的亚氨基、烷磺酰基、芳磺酰基、氨基甲酰基、氨磺酰基、三氟甲基、磷酰基、羧基或其盐、饱和或不饱和的杂环基团，更优选氰基、酰基、甲酰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、亚氨基、在N原子上取代的亚氨基、氨磺酰基、羧基或其盐或者饱和或不饱和的杂环基团，特别优选的是氰基、甲酰基、酰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基或饱和或不饱和的杂环基团。

当R⁷¹代表芳基时，R⁷¹优选为碳原子总数为6-30的取代或未取代的苯基。取代基可以是任何取代基，但是优选吸电子取代基。

在式(Ⅶ)时，当R⁷²或R⁷³代表取代基时，R⁷²或R⁷³优选代表与此后提及的式(Ⅶ)中Z所示的吸电子基团具有同样定义的基团、烷基、羟基或其盐、巯基或其盐、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、烷硫基、芳硫基、杂环硫基、氨基、烷氨基、苯氨基、杂环氨基、酰氨基或者取代或未取代的苯基。

更优选的是，R⁷²和R⁷³中之一是氢原子，另一个是取代基。取代基优选为烷基、羟基或其盐、巯基或其盐、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、烷硫基、芳硫基、杂环硫基、氨基、烷氨基、苯氨基、杂环氨基、酰氨基(尤其是全氟烷酰氨基)、磺酰氨基、取代或未取代的苯基或杂环基，更优选的是羟基或其盐、巯基或其盐、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、烷硫基、芳硫基、杂环硫基或杂环基，再更优选的是羟基或其盐、烷氧基或杂环基。

在式(Ⅶ)中，Z代表吸电子基团或甲硅烷基。更优选的是，Z为吸电子基团。

Z所代表的吸电子基团为哈米特取代基常数σp为正值的取代基，其具体实例包括氰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、亚氨基、在N原子上取代的亚氨基、硫代羰基、氨磺酰基、烷磺酰基、芳磺酰基、硝基、卤原子、全氟烷基、全氟烷酰氨基、磺酰氨基、酰基、甲酰基、磷酰基、羧基或其盐、磺基或其盐、杂环基、链烯基、炔基、酰氧基、酰硫基、磺酰基氧基和被上述吸电子基团取代的芳基。杂环基是饱和或不饱和的杂环基，其实例包括吡啶基、喹啉基、喹喔啉基、吡嗪基、苯并三唑基、咪唑基、苯并咪唑基、乙内酰脲-1-基、琥珀酰亚胺基和苯二酰亚氨基等。

Z所代表的吸电子基团还可以含有一个或多个取代基，取代基的实例包括式(Ⅶ)中R⁷¹、R⁷²或R⁷³所代表的那些基团。

当Z代表吸电子基团时，Z优选为碳原子总数为0-30的基团如氰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、硫代羰基、亚氨基、在N原子上取代的亚氨基、氨磺酰基、烷磺酰基、芳磺酰基、硝基、全氟烷基、酰基、甲酰基、磷酰基、酰氧基、酰硫基或被任意的吸电子基团取代的苯基，更优选氰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、亚氨基、氨磺酰基、烷磺酰基、芳磺酰基、酰基、甲酰基、磷酰基、三氟甲基或被任意的吸电子基团取代的苯基，再更优选的是氰基、甲酰基、酰基、烷氧基羰基、亚氨基或氨基甲酰基。

当Z代表甲硅烷基时，优选为三甲基甲硅烷基、叔丁基二甲基甲硅烷基、苯基二甲基甲硅烷基、三乙基甲硅烷基、三异丙基甲硅烷基或三甲基甲硅烷基二甲基甲硅烷基等。

在式(Ⅶ)中，R⁷¹和Z、R⁷²和R⁷³、R⁷¹和R⁷²或者R⁷³和Z可以彼此结合形成环结构。特别优选的是R⁷¹和Z或者R⁷²和R⁷³形成环结构。

所形成的环结构为非芳香碳环或非芳香杂环，优选为包括其取代基的碳原子总数为1-40、更优选3-30的5-、6-或7-元环结构。

式(Ⅶ)所代表的化合物是更优选的化合物，其中Z代表氰基、甲酰基、酰基、烷氧基羰基、亚氨基或氨基甲酰基，R⁷¹代表吸电子基团或芳基，R⁷²和R⁷³中之一代表氢原子，另一个代表羟基或其盐、巯基或其盐、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、烷硫基、芳硫基、杂环硫基或杂环基。

式(Ⅶ)所代表的化合物是特别优选的化合物，其中Z和R⁷¹形成非芳香5-、6-或7-元环结构，R⁷²和R⁷³中之一代表氢原子，另一个代表羟基或其盐、巯基或其盐、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、烷硫基、芳硫基、杂环硫基或杂环基。在这样的化合物中，与R⁷¹一起形成非芳香环结构的Z优选为酰基、氨基甲酰基、氧羰基、硫代羰基或磺酰基等，R⁷¹优选为酰基、氨基甲酰基、氧羰基、硫代羰基、磺酰基、亚氨基、在N原子上取代的亚氨基、酰氨基或羰基硫基。

下面将阐述式(Ⅷ)所代表的化合物。

在式(Ⅷ)中，R⁸¹所代表的取代基的实例包括式(Ⅶ)中R⁷¹、R⁷²或R⁷³所述的那些取代基。R⁸¹优选为吸电子基团。

当R⁸¹代表吸电子基团时，吸电子基团优选为碳原子总数为0-30的基团如氰基、硝基、酰基、甲酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、烷磺酰基、芳磺酰基、氨基甲酰基、氨磺酰基、三氟甲基、磷酰基、亚氨基或者饱和或不饱和的杂环基团，更优选氰基、酰基、甲酰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、氨磺酰基、烷磺酰基、芳磺酰基或杂环基团，特别优选的是氰基、甲酰基、酰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基或杂环基团。

当R⁸¹代表芳基时，R⁸¹优选为碳原子总数为0-30的取代或未取代的苯基。取代基的实例包括式(Ⅶ)中R⁷¹、R⁷²或R⁷³所述的那些取代基。

R⁸¹特别优选为氰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、杂环基团或者取代或未取代的苯基，最优选的是氰基、杂环基团或烷氧基羰基。

下面解释式(Ⅸ)所代表的化合物。

在式(Ⅸ)中，X和Y各自独立地代表氢原子或取代基，或X和Y互相结合形成环结构。

X和Y代表的取代基的例子包括那些在式(Ⅶ)中的R⁷¹、R⁷²或R⁷³代表的取代基。其具体的例子包括烷基(包括全氟烷基、三氯甲基等)、芳基、杂环基、卤原子、氰基、硝基、链烯基、链炔基、酰基、甲酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、亚氨基、在N原子上被取代的亚氨基、氨基甲酰基、硫代羰基、酰氧基、酰硫基、酰氨基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、氨磺酰基、磷酰基、羧基或其盐、磺基或其盐、羟基或其盐、巯基或其盐、烷氧基、芳氧基、杂环氧基、烷基硫基、芳基硫基、杂环硫基、氨基、烷基氨基、苯氨基、杂环氨基、甲硅烷基等。这些基团分别还可具有一个或多个取代基。X和Y也可互相结合形成环结构，且形成的环结构或为非芳族碳环，或为非芳族杂环。

X和Y代表的取代基优选为总碳原子数为1～40，更优选1～30的取代基，如氰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、亚氨基、在N原子上被取代的亚氨基、硫代羰基、氨磺酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、硝基、全氟烷基、酰基、甲酰基、磷酰基、酰氨基、酰氧基、酰硫基、杂环基、烷基硫基、烷氧基或芳基。

X和Y各自更优选代表氰基、硝基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、酰基、甲酰基、酰硫基、酰氨基、硫代羰基、氨磺酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、亚氨基、在N原子被取代的亚氨基、磷酰基、三氟甲基、杂环基、取代的苯基等，特别优选氰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、酰基、酰硫基、酰氨基、硫代羰基、甲酰基、氨基、在N原子上被取代的亚氨基、杂环基、被任意吸电子基团取代的苯基等。

X和Y还优选互相结合形成非芳族碳环或非芳族杂环。形成的环结构优选为包括一个取代基或所有取代基的总碳原子数为1～40，更优选3～30的5-、6-或7-元环。形成环结构的X和Y各自优选代表酰基、氨基甲酰基、氧代羰基、硫代羰基、磺酰基、亚氨基、在N原子被取代的亚氨基、酰氨基、羰基硫基等。

在式(Ⅸ)中，A和B各自独立地代表烷氧基、烷基硫基、烷基氨基、芳氧基、芳硫基、苯氨基、杂环氧基、杂环硫基或杂环氨基。A和B也可互相结合形成环结构。

A和B代表的这些基团优选为总碳原子数为1～40，更优选1～30的基团，且该基团还可具有一个或多个取代基。

A和B更优选互相结合形成环结构。形成的环结构优选为总碳原子数为1～40，更优选3～30的5-、6-或7-元非芳族杂环。A和B形成的连接结构(-A-B-)的例子包括-O-(CH₂)₂-O-、-O-(CH₂)₃-O-、-S-(CH₂)₂-S-、-S-(CH₂)₃-S-、-S-Ph-S-、-N(CH₃)-(CH₂)₂-O-、-N(CH₃)-(CH₂)₂-S-、-O-(CH₂)₂-S-、-O-(CH₂)₃-S-、-N(CH₃)-Ph-O-、-N(CH₃)-Ph-S-、-N(Ph)-(CH₂)₂-S-等，Ph指苯基。

用作本发明超高造影剂的式(Ⅶ)～(Ⅸ)之一代表的化合物可含有能吸收卤化银的吸附基团。吸附基团的例子包括在美国专利4,385,108和4,459,347、JP-A-59-195233、JP-A-59-200231、JP-A-59-201045、JP-A-59-201046、JP-A-59-201047、JP-A-59-201048、JP-A-59-201049、JP-A-61-170733、JP-A-61-270744、JP-A-62-948、JP-A-63-234244、JP-A-63-234245和JP-A-63-234246中所述的基团，如烷基硫基、芳基硫基、硫脲基、硫酰氨基、巯基杂环基和三唑基。卤化银的吸附基团可形成前体。这些前体的例子包括在JP-A-2-285344中所述的基团。

式(Ⅶ)～(Ⅸ)之一代表的化合物可含有固定基或常用于如成色剂的固定照相添加剂的聚合物。特别是，含有固定基的那些化合物组成本发明的优选实施方案。固定基是具有8个或更多碳原子且对于照相性质相对无活性的基团。固定基的例子包括烷基、芳烷基、烷氧基、苯基、烷基苯基、苯氧基、烷基苯氧基等。聚合物的例子包括那些在JP-A-1-100530所述的那些聚合物等。

用于本发明的式(Ⅶ)～(Ⅸ)之一代表的化合物可含有阳离子基团(具体地说，含季铵基团或含季铵化氮原子的含氮杂环基)、含作为重复单元的乙烯氧基或丙烯氧基的基团、(烷基、芳基或杂环基)硫基或能被碱离解的离解基团(如羧基、磺基、酰基氨磺酰基、氨基甲酰基氨磺酰基)。特别是含作为重复单元的乙烯氧基或丙烯氧基的基团或(烷基、芳基或杂环基)硫基是本发明优选的例子。这些基团的具体例子包括在JP-A-7-234471、JP-A-5-333466、JP-A-6-19032、JP-A-6-19031、JP-A-5-45761、美国专利4,994,365和4,998,604、JP-A-3-259240、JP-A-7-5610、JP-A-7-244348和德国专利4,006,032所述的化合物。

在本发明中用作超高造影剂的式(Ⅶ)～(Ⅸ)代表的化合物能按照已知方法容易地合成，且可通过参见例如美国专利5,545,515、5,635,339和5,654,130、国际专利公开WO97/34196或日本专利申请9-354107、9-309813和9-272002合成。

用于本发明的式(Ⅶ)～(Ⅸ)代表的化合物的具体例子如下所示。但是，本发明并不意味着限于下列化合物。

用于本发明的式(Ⅶ)～(Ⅸ)代表的化合物的加入量优选为每摩尔银1×10^-6～1摩尔，更优选1×10^-5～5×10^-1摩尔，最优选2×10^-5～2×10^-1摩尔。

式(Ⅶ)～(Ⅸ)的化合物在其溶解于水或合适的有机溶剂如醇(如甲醇、乙醇、丙醇、氟化醇)、酮(如丙酮、甲乙酮)、二甲基甲酰胺、二甲基亚砜或甲基溶纤剂后使用。它们也可通过已知的乳化分散法用油如邻苯二甲酸二丁酯、磷酸三(邻甲苯酯)、三乙酸甘油酯或邻苯二甲酸二乙酯，或用辅助溶剂如乙酸乙酯或环己酮溶解，并在使用前机械地形成乳化的分散剂。此外，式(Ⅶ)～(Ⅸ)代表的化合物通过已知的固体分散方法，用球磨、胶磨或超声波在合适的溶剂如水中分散化合物的粉末后各自使用。

式(Ⅶ)～(Ⅸ)的化合物各自可加入到载体上成像层侧的层中，即在那侧上的成像层或任何其它层。但是，化合物优选加入到成像层或与其毗邻的层中。

式(Ⅶ)～(Ⅸ)代表的化合物可分别使用或其两种或多种结合使用。除了这些化合物，在美国专利5,545,515、5,635,339和5,654,130、国际专利公开WO/97/34196、美国专利5,686,228、JP-A-11-119372或日本专利申请9-228881、9-273935、9-354107、9-309813、9-296174、9-282564、JP-A-11-95365、JP-A-11-95366和日本专利申请9-332388提及的任何化合物也可组合使用。

此外，在本发明中，在JP-A-10-339932和JP-A-10-161270中公开的肼衍生物也可组合使用。再者，下例肼衍生物还可以以这种组合使用：JP-B-6-77138代表的化合物(化合物1)，特别是在公开文本第3和4页所述的化合物；JP-B-6-93082的式(Ⅰ)代表的化合物，特别是在公开文本第8～18页所述的化合物1～38；JP-A-6-230497的式(4)、(5)和(6)代表的化合物，特别是在公开文本第25和26页所述的化合物4-1～4-10，第28～36页所述的化合物5-1～5-42，第39和40页所述的化合物6-1～6-7；JP-A-6-289520的式(1)和(2)代表的化合物，特别是公开文本第5～7页所述的化合物1-1)～1-17)和2-1)；JP-A-6-313936的(化合物2)和(化合物3)代表的化合物，特别是在公开文本第6～19页所述的化合物；JP-A-6-313951的(化合物1)代表的化合物，特别是在公开文本第3～5页所述的化合物；JP-A-7-5610的式(Ⅰ)代表的化合物，特别是在公开文本第5～10页所述的化合物Ⅰ-1～Ⅰ-38；JP-A-7-77783的式(Ⅱ)代表的化合物，特别是公开文本第10～27页所述的化合物Ⅱ-1～Ⅱ-102；JP-A-7-104426的式(H)和(Ha)代表的化合物，特别是公开文本第8～15页所述的化合物H-1～H-44；欧洲专利EP713131A1中所述的特征在于在肼基的邻位具有能与肼的氢原子形成分子内氢键的阳离子基团或阴离子基团的化合物，特别是式(A)～(F)代表的化合物，特别是，在公开文本中所述的化合物N-1～N-30；欧洲专利公开EP713131A1所述的式(1)代表的化合物，特别是在公开文本中所述的化合物D-1～D-55；在Kochi Gijutsu第25～34页所述的多种肼衍生物(已知技术)，Aztech(1991年3月22日颁布)第1～207页；JP-A-62-86354(第6和7页)所述的化合物D-2和D-39。

这些肼衍生物的加入量优选为每摩尔银1×10^-6～1摩尔，更优选1×10^-5～5×10^-1摩尔，最优选2×10^-5～2×10^-1摩尔。

这些肼衍生物可通过将它们以上述式(Ⅶ)～(Ⅸ)代表的化合物所提及的相同方式分散而使用。

肼衍生物可加入至载体上的成像层侧的任何层中，即在那侧上的成像层或其它层。但是，化合物优选加入到成像层或与其毗邻的层。

此外，在美国专利5,545,515公开的丙烯腈化合物，更具体地说，在其中公开的化合物CN-1～CN-13等也可用作超高造影剂。

在本发明中，造影促进剂可与上述超高造影剂一起使用以形成超高造影图像。其例子包括在美国专利5,545,505中所述的胺化合物，特别是AM-1～AM-5；在美国专利5,545,507中所述的异羟肟酸，特别是HA-1～HA-11；在美国专利5,558,983中所述的肼化合物，特别是CA-1～CA-6；以及在JP-A-9-297368中所述的翁盐，特别是A-1～A-42、B-1～B-27以及C-1～C14。

上述超高造影剂和造影促进剂的合成方法、加入方法、加入量等可按照那些在上面所引用的专利公开文本中所述的方法。

当甲酸或甲酸盐用作强成雾物质时，优选在具有含感光卤化银的成像层的侧面，以每1摩尔银计，5毫摩尔或更低，更优选1毫摩尔或更低的用量使用。

当在本发明中使用成核剂时，五氧化二磷或其盐水合形成的酸优选与成核剂一起使用。通过五氧化二磷或其盐水合形成的酸的例子包括偏磷酸(盐)、焦磷酸(盐)、正磷酸(盐)、三磷酸(盐)、四磷酸(盐)、六偏磷酸(盐)等。特别优选使用的通过五氧化二磷或其盐水合形成的酸是正磷酸(盐)和六偏磷酸(盐)。盐的具体例子是正磷酸钠、二氢正磷酸钠、六偏磷酸钠、六偏磷酸铵等。

通过五氧化二磷或其盐水合形成的酸可以所需量(每1m²感光材料的涂布量)使用，这取决于包括灵敏度和雾所希望的性质。但是，其可以优选0.1～500mg/m²，更优选0.5～100mg/m²的量使用。

本发明的光热敏成像材料可具有表面防护层，例如，以防止成像层的粘附。在例如JP-A-11-65021,0119～0120段中描述的表面防护层。

明胶优选作为表面防护层的粘合剂，还优选使用聚乙烯醇(PVA)。PVA的例子包括例如完全皂化的PVA-105[聚乙烯醇(PVA)含量至少为94.0重量％，皂化程度为98.5+0.5摩尔％，乙酸钠含量为1.5重量％或更低，挥发性物质含量为5.0重量％或更低，粘度(20℃、4重量％)5.6+0.4mPa.s]；部分皂化的PVA-205[PVA含量为94.0重量％，皂化程度为88.0±1.5摩尔％，乙酸钠含量为1.0重量％，挥发性物质含量为5.0重量％，粘度(在20℃4重量％)5.0±0.4mPa.s]；变性聚乙烯醇MP-102、MP-202、MP-203、R-1130、R2105(均来自KrarayCo.,Ltd)等。用作防护层的聚乙烯醇的用量(每m²的载体)优选为0.3～4.0g/m²，更优选0.3～2.0g/m²(每一层)。

当本发明的光热敏成像材料用于印刷用途时，尺寸变化是重要的，聚合物胶乳还特别优选用于防护层或背层(back layer)。在“Gosei Jushi Emulsion(合成树脂乳剂)”，Taira Okuda和Hiroshi Inagaki编缉，Kobunshi Kanko Kai颁布(1978)；“GoseiLatex no Oyo(合成胶乳的应用)”，Takaaki Sugimura,Yasuo Kataoka,SouichiSuzuki和Keishi Kasahara编缉，Kobunshi Kanko Kai颁布(1993)；Soichi Muroi，“GoseiLatex no Kagaku(合成胶乳化学)”，Kobunshi Kanko Kai(1970)等描述了这种胶乳。其具体例子括甲基丙烯酸甲酯(33.5重量％)/丙烯酸乙酯(50重量％)/甲基丙烯酸(16.5重量％)共聚物的胶乳、甲基丙烯酸甲酯(47.5重量％)/丁二烯(47.5重量％)/衣康酸(5重量％)共聚物的胶乳、丙烯酸乙酯/甲基丙烯酸共聚物的胶乳、甲基丙烯酸甲酯(58.9重量％)/丙烯酸2-乙基己酯(25.4重量％)/乙烯(8.6重量％)/甲基丙烯酸2-羟乙基酯(5.1重量％)/丙烯酸(2.0重量％)共聚物的胶乳等。对于防护层的粘合剂，可结合使用在日本专利申请11-6872公开的聚合物胶乳，以及在日本专利申请11-143058、第0021～0025段；和日本专利申请11-6872，第0027～0028段和日本专利申请11-199626、第0023～0041段公开的技术。

成像层的涂布溶液的制备温度优选为30℃～65℃，更优选35℃～60℃，最优选35℃～55℃。加入聚合物胶乳后，涂布溶液的温度优选立即保持在30℃～65℃。在加入聚合物胶乳之前，可优选混合还原剂和有机酸的银盐。

成像层的涂布溶液优选为所谓的触变型流。触变性指流体的粘度随剪切速率的增加而降低。任何装置均可用于测定粘度，例如优选使用Rheometrics Far EastCo.,Ltd的RFS流体分光计，并在25℃下进行测定。成像层的涂布溶液的粘度优选在剪切速率为0.1秒^-1时为400mPa·s～100，000 mPa·s，更优选500mPa·s～20，000mPa·s。剪切速率为1000秒^-1时粘度优选为1mPa·s～200mPa·s，更优选5mPa·s～80mPa·s，。

已知多种显示触变性质的体系，例如在“Lecture on Rheology”,Kobunshi KankoKai；Muroi&Morino,“Polymer Latex”,Kobunshi Knako Kai等中描述。流体需要含大量细固体微粒以显示触变性质。为了增加触变性质，流体与增加粘度的线性聚合物一起加入，或含有的细固体微粒具有各向异性形状和增加的高径比是有效的。碱性增加粘度的试剂或表面活性剂的使用对于该目的也是有效的。

光热敏成像乳剂提供作为载体上的一层或多层。当其提供作为单层时，该层必须含有有机酸的银盐、卤化银、显影剂、粘合剂和所需的附加材料如调色剂、涂布助剂和其它助剂。当该层为双层时，第一乳剂层(通常该层邻近载体)必须含有有机酸的银盐和卤化银，第二乳剂层或所述的两层可含有其它组分。也可使用双层结构的另一种类型，其中一层为含所有需要组分的单乳剂层，另一层为保护的顶涂层。多种颜色的光热敏成像材料可含各种颜色的这样的双层，或可含在美国专利4,708,928描述的单层中所有需要的组分。对于含多种染料的多种颜色的光热敏成像材料，每种乳剂层可用如美国专利4,460,681描述的在相邻感光层之间的功能性或非功能性阻挡层独自保持。

在成像层中，多种类型的染料和颜料可用于提高颜色色调，以防止在处于激光曝光期间产生的条纹干扰，并防止辐射。这些技术在国际专利公开WO98/36322中详细描述。用于本发明的光热敏成像材料的优选的染料和颜料包括，例如蒽醌染料、偶氮甲碱染料、靛苯胺染料、偶氮染料、蒽醌型阴丹酮颜料(如C.I.颜料蓝60等)、花青颜料(如铜酞菁类如C.I.颜料蓝15；无金属酞菁类如C.I.颜料蓝16)、印染色淀颜料型的三芳基羰基颜料、靛蓝、无机颜料(如群青、钴蓝等)。可用任何方法将这些染料和颜料如添加剂以溶液、乳剂、或细固体微粒的分散剂加入，或加入媒染这些染料和颜料的聚合物媒染剂。这些化合物的用量根据所希望的吸收而不同。通常，化合物的用量优选为每m²光热敏成像材料1μg～1g。

在本发明的光热敏成像材料中，抗晕层可以在感光层离光源较远的位置而提供。在JP-A-11-65021，第0123～0124段和JP-A-11-223898中描述了该抗晕层。

在本发明的光热敏成像材料中，脱色染料和基质前体优选加入到光热敏成像材料的非感光层中，使得非感光层可用作过滤层或抗晕层。除了感光层之外，光热敏成像材料通常具有非感光层。根据它们的位置，非感光层分为(1)在感光层(载体的对侧)上的防护层；(2)在两层或多层感光层间，或在感光层和防护层间的中间层；(3)在感光层和载体间的底涂层；(4)在感光层的对侧的背层(backing layer)。在感光材料中以层(1)或(2)提供过滤层。在感光材料中以层(3)或(4)提供抗晕层。

脱色染料和基质前体优选加入到相同的非感光层中。它们还可分别加入到相邻的两层非感光层中。如果需要的话，在两层非感光层间提供阻挡层。

作为将脱色染料加入到非感光层中的方法，可采用包含向非感光层的涂布溶液中加入溶液、乳剂、染料的固体微粒分散剂或浸渗在聚合物中的染料的步骤的方法。该染料也可用聚合物媒染剂加入到非感光层中。这些加入方法与那些通常加入染料至常用的光热敏成像材料中的方法相同。在美国专利4,199,363、德国延迟公开专利25,141,274、2,541,230、欧洲专利公开EP029104和JP-B-53-41091中描述了制备浸渗在聚合物中的染料的聚合物胶乳。在国际专利WO88/00723中描述了通过将染料加入至其中溶解了聚合物的溶液中的乳方方法。

脱色染料的量根据染料的使用目的而定。通常，染料的用量应使得在目的波长下测定的光学密度(吸光度)大于1.0。光学密度优选为0.2～2。得到这种光学密度的染料用量通常为约0.001～约1g/m²，特别优选约0.01～0.2g/m²。

以这种方式，脱色染料可降低材料的光学密度至0.1或更低。两种或多种不司的脱色染料可用于热脱色型记录材料或光热敏成像材料。类似的，两种或多种不同的基质前体可组合使用。

本发明的光热敏成像材料优选为所谓的单侧感光材料，该感光材料含至少一种含有载体一侧上的卤化银乳剂的感光层以及另一侧的背层的感光层。

本发明的光热敏成像材料优选含有增加材料转移能力的滑光剂。在JP-A-11-65021，第0126～0127段中描述了该滑光剂。滑光剂的用量优选为每1m²感光材料1～400mg/m²，更优选5～300mg/m²。

乳剂层的表面的滑光度没有特别限制，只要材料没有星尘(stardust)缺陷。滑光表面的Beck平滑度优选为30秒～2000秒，更优选40秒～1500秒。

本发明背层的滑光度优选跌至Beck光滑度所示的10秒～1200秒，更优选20秒～800秒，最优选40秒～500秒。

在本发明中，滑光剂优选包含在最外部表层，或在作为最外部表层的层中，或在靠近光热敏成像材料的外表层的层中。该试剂还优选包含在作为防护层的层中。

在JP-A-11-65021，第0128～0130段中描述了用于本发明光热敏成像材料的背层。

固化剂可加入到感光层、防护层、背层和其它层中。在TH.James,“THETHEORY OF THE PHOTOGRAPHIC PROCESS,FOURTHEDITION”,MacmillanPublishingCo.,Inc,1977,77-87页描述了固化剂的例子。优选使用在上述文南的78页中描述的多价金属离子，在美国专利4,281,060和JP-A-6-208193中描述的聚异氰酸酯；在美国专利4,791,042中描述的环氧化物；在JP-A-62-89048中描述的乙烯基砜化合物等。

固化剂以溶液加入到涂布溶液中。溶液加入到防护层的涂布溶液的优选加入时间为涂布前的180分钟-恰好涂布前，优选涂布前的60分钟～10秒。混合的方法和条件没有特别限制，只要本发明的效果可令人满意地得到。混合方法的具体例子包括其中在罐中进行混合的方法，该罐的设计以得到从加入流速和至涂层的进料量来计算所需的平均停留时间，N.Hamby,M.F.Edwards,A.W.Nienow,“EkitaiKongo Gijutsu(混合液体技术)”,KojiTakahashi译,第8章，Nikkan KogyoShinbunsha,1989描述的利用静态混合器的方法等。

在JP-A-11-65021，第0132段中描述了可用于本发明的表面活性剂；在上述专利文献的第0133段描述了可使用的溶剂；在上述专利文献的第0134段中描述了可使用的载体；在上述专利文献的第0135段描述了可使用的抗静电层和导电层；在上述专利文献的第0136段中描述了可用于形成彩色图像的方法。

本发明的光热敏成像材料的膜表面在热显影之前，PH优选为6.0或更低，更优选5.5或更低。下限没有特别限制，通常约为3。为了控制膜表面pH，有机酸如邻苯二甲酸衍生物或非挥发性酸如硫酸，以及挥发性碱如氨优选用于降低膜表面pH。特别优选氨以得到低的膜表面PH，因为其是高挥发性的，并从而其可在涂渍或热显影之前除去。在日本专利申请11-87297，第0123段中描述了测定膜表面pH的方法。

作为本发明的光热敏成像材料的透明载体，优选使用的是聚酯膜，特别是聚乙烯对苯二甲酸酯膜，在130～185℃的温度范围间进行热处理以松驰在双向拉申期间在膜中形成的内变形，从而消除了在热显影期间产生的热收缩变形。在光热敏成像材料用于医学用途的青况下，透明载体可用蓝色染料着色(例如在JP-A-8-240877实施例中提及的染料1)，或可不被着色。

优选使用在JP-A-11-84574中提及的水溶性聚酯、JP-A-10-186565中提及的苯乙烯/丁二烯共聚物、日本专利申请11-106881，第0063-0080段中提及的1,1-二氯乙烯共聚物等的底涂层技术用于载体。对于抗静电层和底涂层，可采用在JP-A-56-143430、JP-A-56-143431、JP-A-58-62646、JP-A-56-120519、JP-A-11-84573，第0040-0051段、美国专利5,575,973、JP-A-11-223898，第0078-0084段公开的技术等。

光热敏成像材料优选为单片型材料(该单片不使用接收图像材料所需的附加的基片，并可在材料本身上直接形成图像)。

光热敏成像材料还可含有抗氧化剂、稳定剂、增塑剂、紫外吸收剂或涂布助剂。这种添加剂可加入到任何感光层或非感光层中。对于这些添加剂，可参考国际专利WO98/36322、欧洲专利EP803764A1、JP-A-10-186567、JP-A-10-18568等。

制备本发明的光热敏成像材料的涂布方法没有特别限制，可采用任何涂布方法。其具体例子包括多种涂布技术，例如挤出涂布、滑涂、幕涂、浸涂、刮涂、流涂、利用在美国专利2,681,294描述的漏斗的挤出涂布等。优选的例子包括在StephenF.Kistler,Petert M.Schweizer,“LIQOID FIL M COATING”,CHAPMAN&HALL Co.,Ltd,1997,399-536页公开的挤出涂布和滑涂，最优选的例子包括滑涂。用于滑涂的滑涂器的形状的例子在上述参考文献的427页，图11b,1所示。如果需要的话，同时可形成两层或多层，例如，根据上述参考文献第399页～536页所述的方法，或根据美国专利2,761,791和英国专利837,095中所述的方法。

光热敏成像材料可切割成预定大小(一半大小、B4、A4、DK等)的基片。以堆积的多片装入内包装材料和外包装材料并装运。在这种情况下，内包装材料优选由薄纸板、聚丙烯基片、聚乙烯基片、其层压材料等组成，以保持多层光热敏成像材料基片的堆积态(如50-200片)并防止材料的擦痕和折叠。用内包装材料包装的材料还可用例如Al层压的外包装材料包装外表面，并具有光屏蔽性质和高气体阻滞性质。从而包装材料的状态如图2和3所示。图3显示了用内包装材料20包装预定大小的多个堆积的光热敏成像材料基片。此外图2显示了用外包装材料3进一步包装的基片。如图4所示，光热敏成像材料1通常具有含载体10、成像层11和在载体的一个表面上按序堆积的表面防护层12，以及在载体的另一面提供的背层13的结构。

对于本发明的光热敏成像材料，外包装材料内的空隙比率优选为0.03～25％，更优选0.03～15％。外包装材料内的空隙比率通过将外包装材料的空隙体积除以外包装材料的容积并将该商乘以100而计算。通过从外包装材料的内体积中减去光热敏成像材料形成的体积和内包装材料的体积而得到空隙体积。

此外，对于本发明的光热敏成像材料，外包装材料中的湿度优选为30～70％，更优选30～50％。如果包装光热敏成像材料使得包装中的湿度在上述范围内并装运，可进一步抑制光热敏成像材料的性能随时间变化，特别是形成的图像周围的密度变化，从而可得到稳定的性能。

在欧洲专利公开EP803764A1、EP883022A1、国际专利公开W098/36322、JP-A-56-62648、JP-A-58-62744、JP-A-9-281637、JP-A-9-297367、JP-A-9-304869、JP-A-9-311405、JP-A-9-329865、JP-A-10-10669、JP-A-10-62899、JP-A-10-69023、JP-A-10-186568、JP-A-10-90823、JP-A-10-171063、JP-A-10-186565、JP-A-10-186567、JP-A-10-186569、JP-A-10-186570、JP-A-10-186571、JP-A-10-186572、JP-A-10-197974、JP-A-10-197982、JP-A-10-197983、JP-A-10-197985、JP-A-10-197986、JP-A-10-197987、JP-A-10-207001、JP-A-10-207004、JP-A-10-221807、JP-A-10-282601、JP-A-10-288823、JP-A-10-288824、JP-A-10-307365、JP-A-10-312038、JP-A-10-339934、JP-A-11-7100、JP-A-11-15105、JP-A-11-24200、JP-A-11-24201、JP-A-11-30832、JP-A-11-84574、JP-A-11-65021、JP-A-11-125880、JP-A-11-129629、JP-A-11-133536、JP-A-11-133537、JP-A-11-133538、JP-A-11-133539、JP-A-11-133542和JP-A-11-133543也描述了可用于制备本发明的光热敏成像材料的其它技术。

本发明的光热敏成像材料可以任何方式显影。通常，图像式曝光的光热敏成像材料可经加热而显影。显影的温度优选为80℃～250℃，更优选100℃～140℃。显影时间优选为1～180秒，更优选10～90秒，最优选10～40秒。

对于材料的热显影，优选板式加热体系。对于通过板式加热体系的热显影，优选在JP-A-11-133572中描述的方法，其使用了热显影装置，其中在其上形成潜像的光热敏成像材料与在热显影部分中的加热装置接触以得到可见的图像，且其中加热方式中含有板式加热器，多个压力辊以面对板式加热器的一个表面上安装，其中光热敏成像材料的热显影可经通过材料经压力辊和板式加热器之间而得到。板式加热器优选分为2至6级，顶部的温度优选保持在低于其它级约1～10℃。在JP-A-54-30032中也描述了这种方法。板式加热体系可从材料中除去在光热敏成像材料中含有的水分和有机溶剂，并通过材料的快速加热防止光热敏成像材料的载体的形状改变。

本发明的光热敏成像材料可通过任何方式曝光。作为曝光的光源，优选激光射线。在本发明中使用的激光，优选气体激光器(Ar⁺、He-Ne)、YAG激光器、染料激光器、半导体激光器等。也可使用半导体激光器和第二个谐波产生装置的组合。优选的例子包括用于红光的气体和半导体激光器以进行红外辐射。

单模激光器可用作激光射线，并可使用在JP-A-11-65021，第0140段公开的技术。

激光器输出优选为至少1mW，更优选至少10mW。甚至更优选的是至少40mW的高输出。如果需要的话，可组合使用多个激光器。激光束的直径以Gaussian束的1/e²光点直径为计，可介于约30～200μm之间。

具有曝光部分和热显影部分的激光成像器的例子是FujiMedicalDryLaerImagerFM-DPL。在Fuji Medical Review第8期，39-55页中描述了FM-DPL，且其中描述的技术当然可用于本发明的光热敏成像材料的激光成像器。

本发明的光热敏成像材料形成基于银图像的单色图像，且优选用于医学诊断、工业照相、印刷和COM的光热敏成像材料。应理解，在这种应用中，形成的单色图像可在复制膜MI-Dup，来自Fuji Photo Film上复制用于医学诊断，并用于印刷，图像可作为掩膜用于形成如Fuji Photo film的DO-175和PDO-100的印刷模上或胶板印刷板上的反像。此外，其可用作“AD network”中的激光图像的光热敏成像材料，该network由FujiMedical system作为符合DICOM标准的network体系提出。

实施例

通过下列实施例更具体解释本发明。在下列实施例中所示的材料、试剂、比率、步骤等可任选改变，只要这种改变不偏离本发明的精神。因此，本发明的范围不限于下列实施例。(实施例1)

实施例1中所用的化合物的结构如下所示。

光谱敏化染料A碲光敏剂B基质前体化合物11

花青染料化合物13

蓝色染料化合物14《PET载体的制备》

采用对苯二甲酸和乙二醇，以常用的方式得到特性粘度Ⅳ为0.66(在25℃，苯酚/四氯乙烷=6/4(重量比)中测定)的PET。将该PET压片，且压片在130℃干燥4小时，在300℃熔化，从T中挤出，淬灭以制备具有这种热固定后膜的厚度变为175μm的未伸展的膜。

通过具有不同圆周速度的滚筒，将该膜沿着纵向方向延伸3.3倍，然后用拉幅机将该膜沿着横向方向延伸4.5倍。在这种情况下，温度分别为110℃和130℃。然后，该膜在240℃进行热固定20秒并在相同温度下，沿着横向方向松驰4％。进而，松开拉幅机的卡盘后，膜的两边均滚花，且该膜以4kg/cm²卷起得到厚度为175μm的一卷膜。《表面电晕放电处理》

采用Piller公司制造的6KVA型固态电晕放电处理机，载体的两个表面均在室温下，以20m/min处理。在这种情况下，从电流和电压的读数可知0.375KV.A.min/m²的处理施用于载体。此时处理的频率为9.6kHz，且在电极和电介质轧辊间的缝隙为1.6mm。《底涂层载体的制备》(1)制备底涂层的涂布溶液制剂1(成像层侧的底涂层)Takamatsu制备的PesresinA-515GBYushi K.K.(30重量％溶液)           234g聚乙二醇单壬基苯基醚(指环氧乙烷值=8.5,10重量％溶液)    21.5gSoken Kagaku K.K.制备的MP-1000(聚合物微粒，平均粒径0.4μm)       0.91g蒸馏水                            744ml制剂2(用于背面的第一层)丁二烯苯乙烯共聚物胶乳(固体含量：40重量％，丁二烯/苯乙烯的重量比=32/68)       158g2,4-二氯-6-羟基-S-三嗪钠盐(8重量％水溶液)                     20g月桂基苯磺酸钠的1重量％水溶液       10ml蒸馏水                            854ml制剂3(用于背面侧的第2层)SnO₂/SbO(重量比：9/1，平均粒径0.038μm17重量％分散剂)                       84g明胶(10％水溶液)                       89.2gShin-Etsu化学有限公司制备的Metorose TC-5(2％水溶液)               8.6gSoken Kagaku K.K.制备的MP-1000(聚合物微粒)                           0.01g月桂基苯磺酸钠的1重量％水溶液           10mlNaOH(1％)                             6mlProxel(由ICICo.制备)                  1ml蒸馏水                                 805ml《底涂层载体的制备》

对上述双向拉伸厚度为175μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯载体的两个表面均进行上述电晕放电处理后，其一个表面(光敏层侧)通过钢丝条以湿涂量为6.6ml/m²(每一表面)用制剂1的底涂层溶液涂布，并在180℃干燥5分钟。然后，其背面通过钢丝条以湿涂量为5.7ml/m²用制剂2的底涂层溶液涂布，并在180℃干燥5分钟。此外，这样涂布的背面通过钢丝条以湿涂量为7.7ml/m²用制剂3的底涂层溶液涂布，并在180℃干燥6分钟以制备底涂层的载体。《制备用于背面的涂布溶液》(Ⅰ)基材前体的固态微粒分散剂(a)的制备

将64g基材前体化合物11、28g二苯基亚砜和10g表面活性剂、Demor N(由Kao Corporation制备)与220ml蒸馏水混合，混合物用砂磨机(1/4Gallon SandGrinder Mill,Imex Co.制备)分散颗粒，得到平均粒径为0.2μm的基材前体化合物的固态微粒分散剂(a)。(2)染料微粒分散剂的制备

将9.6g花青染料化合物13和5.8g对月桂基苯磺酸钠与305ml蒸馏水混合，然后混合物用砂磨机(1/4 Gallon Sand Grinder Mill,Imex Co.制备)分散颗粒，得到平均粒径为0.2μm的染料固态微粒分散剂。(3)抗晕层的涂布溶液的制备

将17g明胶、9.6g聚丙烯酰眩、70g上述基材前体的固态微粒分散剂(a)、56g上述染料固态微粒分散剂、1.5g聚甲基丙烯酸甲酯微粒(平均粒径6.5μm)、0.03g苯并异噻唑啉酮、2.2g聚乙烯磺酸钠、0.2g蓝色染料化合物14和844ml水混合以制备抗晕层的涂布溶液。《背面防护层的涂布溶液的制备》

在一保持在40℃的容器中，将50g明胶、0.2g聚苯乙烯磺酸钠、2.4gN,N-亚乙基双(乙烯基磺基乙酰胺)、1g叔辛基苯氧基乙氧基乙磺酸钠、30mg苯并异噻唑啉酮、37mgN-全氟辛基磺基N-丙基丙氨酸钾盐、0.15g聚乙二醇单(N-全氟辛基磺基-N-丙基-2-氨基乙基)醚[环氧乙烷的平均聚合度为15]、32mg的C₈F₁₇SO₃K、64mgC₈F₁₇SO₂N(C₃H₇)(CH₂CH₂O)₄(CH₂)₄-SO₃Na、8.8g丙烯酸/丙烯酸乙酯共聚物(共聚比例(重量)：5/95)、0.6gAerosol OT(American Cyanamid Company制备)、1.8g(作为液体石蜡)的液体石蜡乳剂和950ml水混合以形成背面防护层的涂层溶液。《卤化银乳剂1的制备》

在1421ml蒸馏水中加入8.0ml1重量％的溴化钾溶液，再加入8.2ml1mol/l硝酸和20g酞菁化(phthalized)明胶。分别通过向37.04g硝酸银中加入蒸馏水将其稀释到159ml制备溶液A，并通过用蒸馏水稀释32.6g溴化钾至200ml体积来制备溶液B。向上述保持在37℃并在涂钛的不锈钢反应容器中搅拌的混合物中，通过控制双注射法，经1分钟以恒定的流速加入所有体积的溶液A，同时pAg保持在8.1。另外，通过控制双注射法加入溶液B。然后，向混合物中加入30ml3.5重量％过氧化氢水溶液，并进一步加入36ml3重量％苯并咪唑水溶液。分别通过将溶液A用蒸馏水稀释至317.5ml体积来制备溶液A2，将六氟铱酸(hexachloroiridate)三钾溶解在溶液B中，其量使得其最终浓度为每摩尔银1×10^-4摩尔，并用蒸馏水将得到的溶液稀释至溶液B的两倍体积400ml来制备溶液B2。通过控制双注射法，经10分钟以恒定的流速再向混合物中加入所有体积的溶液A2，同时pAg保持在8.1。通过控制双注射法还加入溶液B2。然后，向混合物中加入50ml0.5重量％的2-巯基-5-甲基苯并咪唑的甲醇溶液。用硝酸银将pAg增加到7.5后，混合物用0.5mol/l硫酸调节至pH为3.8，停止搅拌。然后，混合物进行沉淀、脱盐并用水洗涤，加入3.5g去离子明胶和1mol/l氢氧化钠，调节pH值为6.0，且pAg值为8.2以形成卤化银分散剂。

在完全的卤化银悬浮液中的颗粒是球平均直径为0.053μm，球的平均直径的变异系数为18％的纯溴化银颗粒。通过采用电子显微镜，对1000个颗粒的平均值得到粒径和其它。通过Kubelka-Munk法测定这些颗粒的[100]面的比率为85％。

上述乳剂在38℃搅拌下加入0.035g苯并异噻唑啉酮(以3.5重量％的化合物的甲醇溶液加入)，40分钟后，以每摩尔银5×10^-3摩尔的量加入光谱敏化染料A的固体分散剂(明胶的水溶液)。1分钟后，混合物加热到47℃，20分钟后，每摩尔银加入3×10^-5摩尔苯基硫代磺酸钠。此外，2分钟后，以每摩尔银5×10^-5摩尔的量向混合物中加入碲灵敏剂B，然后熟化90分钟。熟化结束前向混合物中立即加入5ml0.5重量％的N,N’-二羟基-N”-二乙基三聚氰胺的甲醇溶液，并在降低温度至31℃后，加入5ml3.5重量％的苯氧基乙醇的甲醇溶液、每摩尔银加入7×10^-3摩尔的5-甲基2-巯基苯并咪唑和6.4×10^-3摩尔的1-苯基-2-庚基-5-巯基-1,3,4-三唑以制得卤化银乳剂1。《卤化银乳剂2的制备》

按制备卤化银乳剂1的相同方式，除了形成颗粒的液体温度从37℃改变到50℃，制备球的平均粒径0.08μm，球的平均直径的变异系数为15％的纯溴化银立方颗粒乳剂。此外，在与卤化银乳剂1相同的情况下，进行沉定、脱盐、水洗和分散步骤。再者，按照卤化银乳剂1的相同方式，除了光谱敏化染料A的加入量改变到每摩尔银4.5×10^-3摩尔，进行光谱敏化、化学敏化并加入1-苯基-2-庚基-5-巯基1,3,4-三唑以制得卤化银卤乳剂2。《卤化银乳剂3的制备》

按制备卤化银乳剂1的相同方式，除了形成颗粒的液体温度从37℃改变到27℃，制备球的平均粒径0.038μm，球的平均直径的变异系数为20％的纯溴化银立方颗粒乳剂。此外，在与卤化银乳剂1相同的情况下，进行沉淀、脱盐、水洗和分散步骤。再者，按照卤化银乳剂1的相同方式，除了光谱敏化染料A的加入量改变到每摩尔银6×10^-3摩尔，进行光谱敏化、化学敏化并加入5-甲基-2-巯基苯并咪唑和1-苯基-2-庚基5-巯基-1,3,4-三唑以制得卤化银乳剂3。《涂布溶液的混合乳剂A的制备》

将70重量％卤化银乳剂1、15重量％卤化银乳剂2和15重量％卤化银乳剂3混合，并以每摩尔银7×10^-3摩尔的量加入以1重量％水溶液的碘化苯并噻唑形成涂布溶液的混合乳剂A。《鳞状脂肪酸银盐的制备》

87.6kg二十二烷酸(EdenorC22-85R，商品名，汉高公司制备)、423L蒸馏水、49.2L 5mol/NaOH水溶液和120L叔丁醇混合，并在75℃搅拌下反应一小时，得到二十二烷酸钠的溶液。另外制备含40.4kg的硝酸银(pH4.0)的206.2L水溶液，并保持在10℃。保持在30℃，向反应容器中含有635L蒸馏水和30L叔丁醇的混合物中加入所有量的上述二十二烷酸钠溶液，以及所有量的硝酸银水溶液，它们以恒定流速分别经过62分钟又10秒和60分钟加入。在这种情况下，它们以这样的方式加入使得开始加入硝酸银水溶液后，仅加入硝酸银水溶液7分钟又20秒，完成加入硝酸银水溶液后，仅加入二十二烷酸钠溶液9分钟又30秒。在该操作期间，控制外部温度使反应器中的温度为30℃，液体温度恒定。二十二烷酸钠溶液的加入体系的管路通过蒸汽伴热管加热，且控制汽体通路使得加入喷嘴的外孔口的液体温度为75℃。硝酸银水溶液的加入体系的管路通过外部双管循环冷却水保持。二十二烷酸钠溶液的加入位置和硝酸银水溶液的加入位置以搅拌轴为中心对称设置，控制加入位置的高度使得不与反应混合物接触。

完成加入二十二烷酸钠溶液后，混合物再在相同温度下搅拌20分钟，然后温度降至25℃，进而经离心过滤回收固体含量，且固体含量用水洗涤直到滤液的电导率为30μS/cm。从而，得到脂肪酸银盐。以湿饼形式贮存固体含量，而无需干燥。

当得到的二十二烷酸银颗粒的形状用电镜照相术评价时，颗粒为平均值a=0.14μm，b=0.4μm，c=0.6μm、平均高径比为5.2、球的平均直径为0.52μm，且球的平均直径的变异系数为15％的鳞状晶体(a,b和c为本说明书定义的意义)。

向湿饼中，相对于100g干固体含量，加入7.4g聚乙烯醇(PVA-217，商品名，平均聚合度：1700)和水，使总量为385g，且混合物通过均匀混合器预分散。

然后，预分散的存贮分散剂在分散仪(Microfluidizer-M-110S-EH；商品名，由Microfluidex International Corporation制备，采用G10Z相互作用室)，压力控制至1750kg/cm²中处理三次，以得到二十二烷酸银分散剂。在冷却期间，通过固定在相互作用室之前和之后的盘旋热交换器得到分散温度为18℃，并控制致冷剂的温度。《25重量％还原剂的分散剂的制备》

向10kg1,1-双(2-羟基-3,5-二甲基苯基)-3,5,5-三甲基己烷和10kg 20重量％变性聚乙烯醇(PovalMP302，由Kuraray Co,.Ltd.制备)的水溶液中加入16kg水，充分混合以形成浆液。该浆液通过膜式泵送入含平均直径为0.5mm的氧化锆颗粒的水平式砂磨机(UVM-2，由Imex Co.制备)中，分散3小时又30分钟。然后，该浆液中加入0.2g苯并噻唑啉酮钠盐和水使还原剂的浓度变为25重量％以得到还原剂分散剂。在上述得到的还原剂分散剂中含有的还原剂颗粒的平均直径为0.40μm，最大粒径为1.8μm或更小。得到的还原剂分散剂经孔径为10.0μm的聚丙烯过滤器过滤以除去灰尘等，并贮存。《10重量％巯基化合物的分散剂的制备》

5kg1-苯基2-庚基5-巯基1,3,4-三唑和5kg20重量％变性聚乙烯醇(PovalMP203，由KurarayCo.,Ltd.制备)的水溶液中加入8.3kg水，充分混合以形成浆液。该浆液通过膜式泵送入含平均直径为0.5mm的氧化锆颗粒的水平式砂磨机(UVM-2，由ImexCo.制备)中，并分散6小时。然后，该浆液加入水使巯基化合物的浓度变为10重量％以得到巯基化合物的分散剂。在上述得到的巯基化合物分散剂中含有的巯基化合物的颗粒平均直径为0.40μm，最大粒径为2.0μm或更小。巯基化合物经孔径为10.0μn的聚丙烯过滤器过滤以除去灰尘等，并贮存。在使用前，分散剂立即通过孔径为10.0μm的聚丙烯过滤器过滤。《20重量％有机多卤代化合物1的分散剂的制备》

5kg三溴甲基萘基砜、2.5kg20重量％变性聚乙烯醇(PovalMP203，由KuarayCo.,Ltd.制备)的水溶液和213g 20重量％的三异丙基萘磺酸钠溶液中加入10kg水，充分混合以形成浆液。该浆液通过膜式泵送入含平均直径为0.5mm的氧化锆颗粒的水平式砂磨机(UVM-2，由ImexCo.制备)中，并分散5小时。然后，该浆液加入0.2g苯并异噻唑啉酮钠盐和水使有机多卤代化合物的浓度变为20重量％以得到有机多卤代化合物的分散剂。在上述得到的有机多卤代化合物分散剂中含有的有机多卤代化合物的颗粒的平均直径为0.36μm，最大粒径为2.0μm或更小。得到有机多卤代化合物经孔径为3.0μm的聚丙烯过滤器过滤以除去灰尘等，并贮存。《25重量％有机多卤代化合物2的分散剂的制备》

以制备20重量％有机多卤代化合物1的分散剂的相同方式制备分散剂，除了用5kgN-丁基-3-三溴甲磺酰苯甲酰胺代替5kg三溴甲基萘基砜，稀释使有机多卤代化合物的浓度变为25重量％，并过滤。在上述得到的存多卤代化合物分散剂中含有的有机多卤代化合物的颗粒平均直径为0.39μm，最大粒径为2.2μm或更小。得到有机多卤代化合物经孔径为3.0μm的聚丙烯过滤器过滤以除去灰尘等，并贮存。《30重量％有机多卤代化合物3的分散剂的制备》

以制备20重量％有机多卤代化合物1的分散剂的相同方式制备分散剂，除了用5kg三溴甲基萘基砜代替5kg三溴甲基萘基砜，且20重量％的MP203水溶液的量改变为5kg，稀释使有机多卤代化合物的浓度变为30重量％，并过滤。在上述得到的有机多卤代化合物分散剂中含有的有机多卤代化合物的颗粒平均直径为0.41μm，最大粒径为2.0μm或更小。得到有机多卤代化合物经孔径为3.0μm的聚丙烯过滤器过滤以除去灰尘等，并贮存。该分散剂贮存在10℃或更低直至使用。《5重量％酞嗪化合物溶液的制备》

8kg变性聚乙烯醇(PovalMP-203，由KuarayCo.,Ltd.制备)溶解在174.57kg水中，然后加入3.15kg20重量％三异丙基萘磺酸钠水溶液和14.28kg70重量％的6-异丙基酞嗪水溶液以得到5重量％的6-异丙基酞嗪溶液。《20重量％颜料的分散剂的制备》

64gC.I.颜料蓝60和6.4g由Kao Corporation制备的DemorN中加入250g水，并充分混合得到浆液。然后，800g平均直径为0.5mm的氧化锆颗粒与浆液-起放置在容器中，该浆液通过分散仪(1/4G Sand Grinder Mill；由ImexCo.制备)分散25小时以得到颜料分散剂。在上述得到的颜料分散剂中含有的颜料颗粒的平均粒径为0.21μm。《40重量％SBR胶乳的制备》

如下得到超滤(UF)纯化的SBR胶乳。

用蒸馏水稀释10倍的下述SBR胶乳被稀释并用UF-纯化组件FS03-FC-FUYO3A1(由Daisen Membrane SystemK.K.制备)纯化直至离子导电性为1.5mS/cm，并加入Sandet-BL(由SANYO CHEMICAL INDUSTRIES,LTD.制造)至浓度为0.22重量％。此外，向胶乳中加入NaOH和NH₄OH使Na⁺离子NH₄ ⁺离子的比率为1∶2.3(摩尔比)以调节pH为8.4。此时，胶乳的浓度为40重量％。(SBR胶乳：St(68)-Bu(29)-AA(3)-胶乳，其中括号中的值指重量％含量，St代表苯乙烯，Bu代表丁二烯，AA代表丙烯酸)

该胶乳具有下列性质：平均粒径为0.1μm，浓度45％，在25℃相对湿度60％时平衡水分含量为0.6重量％，离子电导率为4.2mS/cm(用导电计，CM-30S，由ToaElectronics,Ltd.制造测定25℃时胶浮贮液40％))，pH8.2。《成像层的涂布溶液的制备》

1.1g20重量％的上述得到的颜料的含水分散剂、103g有机酸银盐分散剂、5g20重量％聚乙烯醇水溶液、PVA-205(由KurarayCo.，Ltd.制备)、25g25重量％的还原剂分散剂、13.2g有机多卤代化合物1-3的总分散剂(重量比=2∶5∶2)、6.2g10重量％的巯基化合物的分散剂、106g通过超滤(UF)纯化并进行pH调节的40重量％的SBR胶乳和18ml 5重量％的酞嗪化合物混合，加入10g卤化银乳剂A，并充分混合以制备成像层(光敏层、乳剂层)的涂布溶液。将涂布溶液送入涂布模中，其送入量应得到70ml/m²的涂布量并涂布。

上述乳剂层的涂布溶液的粘度用Tokyo Keiki K.K.制造的B型粘度计测定，发现在40℃为85[mPa·s](Rotor 1号，60rpm)。

在25℃通过Rheometric Far EastCo.,Ltd.制造的RFS流动分光计测定涂布溶液的粘度，发现其在剪切速率为0.1、1、10、100和1000[1/秒]时分别为1500、220、70、40和20[mPa·s]。《在乳剂层表面上中间层的涂布溶液的制备》

772g10重量％聚乙烯醇水溶液、PVA-205(由KurarayCo.,Ltd.制备)、5.3g20重量％的颜料分散剂和226g27.5重量％的甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/丙烯酸丁酯/甲基丙烯酸羟乙酯/丙烯酸共聚物(共聚比(重量)：64/9/20/5/2)的胶乳加入2ml 5重量％的Aerosol OT(由American Cyanamid Company制备)水溶液、10.5ml20重量％邻苯二甲酸二铵盐水溶液和水，其中水的加入量应得到880g总量以形成中间层的涂布溶液。该涂布溶液送入涂布模中，其量应得到涂布量为10ml/m²。

在40℃用B型粘度计(Rotor 1号，60rpm)测定的涂布溶液的粘度为21[mPa.s]。《在乳剂层表面上第一层防护层的涂布溶液的制备》

将64g惰性明胶溶于水中，加入80g27.5重量％的甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/丙烯酸丁酯/甲基丙烯酸羟乙酯/丙烯酸共聚物(共聚比(重量)：64/9/20/5/2)的胶乳、23ml10重量％邻苯二甲酸的甲醇溶液、23ml10重量％4-甲基邻苯二甲酸的水溶液、28ml0.5mol/l硫酸、5ml5重量％的AerosolOT(由American CyanamidCompany制备)水溶液、0.5g苯氧基乙醇、0.1g苯并异噻唑啉酮和水，其中水的加入量应得到总量为750g以形成涂布溶液。该涂布溶液在涂布前立即与26ml4重量％铬明矾通过静态混合器混合，并送入涂布模中，其量应得到涂布量为18.6ml/m²。

在40℃(用B型粘度计(Rotor 1号，60rpm)测定的涂布溶液的粘度为17[mPa.s]。《在乳剂层表面上第二层防护层的涂布溶液的制备》

将80g惰性明胶溶于水中，加入102g27.5重量％的甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/丙烯酸丁酯/甲基丙烯酸羟乙酯/丙烯酸共聚物(共聚比(重量)：64/9/20/5/2)的胶乳、3.2ml5重量％的N-全氟辛基磺酰基N-丙基丙氨酸钾盐的溶液、32m1 2重量％的聚乙二醇单(N-全氟辛基磺酰基-N-丙基2-氨基乙基)醚[环氧乙烷平均聚合度=15]、23ml5重量％的Aerosol OT(由American Cyanamid Company制备)水溶液、4g聚甲基丙烯酸甲酯微粒(平均粒径：0.7μm)、21g聚甲基丙烯酸甲酯微粒(平均粒径：6.4μm)、1.6g4-甲基邻苯二甲酸、4.8g邻苯二甲酸、44ml 0.5mol/l的硫酸、10mg苯并异噻唑啉酮和水，其加入量应得到总量为650g。在涂布前，混合物还与含4重量％铬明矾和0.67重量％邻苯二甲酸的445ml水溶液通过静态混合器立即混合，以形成表面防护层的涂布溶液，并送入涂布模中，其量应得到涂布量为8.3ml/m²。

在40℃用B型粘度计(Rotor 1号，60rpm)测定的涂布溶液的粘度为9[mPa·s]。《光热敏成像材料的制备》

在具有底涂层的上述载体的背侧，抗晕层的涂布溶液和背面防护层的涂布溶液同时用作堆积层，使得在抗晕层所施用的固体微粒染料的固体含量为0.04g/m²，在防护层中施用的明胶的量为1.7g/m²，并干燥以形成抗晕背层。

然后，在背侧的对侧，成像层(涂布的卤化银的量为0.14g/m²)、中间层、第一防护层和第二防护层按从底涂层的秩序同时施用滑动颗粒应用法作为堆积层，以形成光热敏成像材料样品001。

涂布以160m/min的速率进行。在涂模顶部与载体间的缝隙设定为0.14～0.28mm，并控制涂布的宽度使得与涂布溶液的防护滑动宽度相比，其在两侧均以0.5mm散开。减压室的压力调节至低于大气压392Pa。在这种情况下，控制操作、温度和湿度使得载体不带静电，且静电荷进一步通过在涂布前立即通过离子风(ionized wind)消除。在随后的冷却段中，用显示干球温度为18℃，湿球温度为12℃的空气吹材料30秒，以冷却涂布溶液。然后，在盘旋型的浮动型干燥段中，用显示干球温度为30℃，湿球温度为18℃的空气干吹材料200秒。然后，材料通过70℃的干燥段20秒，随后通过另一90℃的干燥段10秒，并冷却至25℃以蒸发在涂布溶液中的溶剂。在冷却段和干燥段中涂布层表面的风的平均风速为7m/sec。

制备的光热敏成像材料根据Beck光滑度显示消光度为成像层侧为55秒，背面为130秒。

制备样品102和123，其中酚还原剂(式(Ⅰ)化合物)以及满足至少一种需求A和B的化合物的涂布量如表1所示调节，使得它们得到基本上与上述样品101相同的显影密度，并评价图像的耐贮性。当这些样品被制备时，用酚还原剂(式(Ⅰ)化合物)代替1,1-双(2-羟基-3,5-二甲基苯基)-3,5,5-三甲基己烷用于上述25％还原剂的分散剂。

样品102的化合物(Ⅱ-2)在形成成像层之后加入下列分散剂中。作为其用量，其以与还原剂等摩尔量使用。对于样品103-123，在表1中提及的各种化合物以相同方式分散，并以表1中提及的量(以化合物（Ⅱ-2)的量为计，代表相对摩尔％，化合物(Ⅱ-2)为100％)使用。《化合物Ⅱ-2分散剂的制备》

1kg化合物Ⅱ-2和1kg20重量％的变性聚乙烯醇(PovalMP302，由KurarayCo.,Ltd.制备)水溶液中加入1.6kg水，充分混合以形成浆液。该浆液通过膜式泵送入含平均直径为0.5mm的氧化锆颗粒的水平式砂磨机(UVM-2，由ImexCo制备)中，并分散3小时又30分钟。然后，该浆液加入0.2g苯并异噻唑啉酮内盐和水使磷酰基化合物的浓度变为25重量％以得到磷酰基化合物的固体微粒分散剂。在上述得到的分散剂中含有的磷酰基化合物的颗粒平均直径为0.45μm，最大粒径为2.0μm或更小。得到分散剂经孔径为10.0μn的聚丙烯过滤器过滤以除去灰尘等，并贮存。

在60℃和相对湿度为50％下热显影一天后，用贮存的各种光敏材料评价样品的图像耐贮性，并在贮存前或之后，在空白部分测定密度的改变△Dmin。结果如表1所示。

表1

样品号	式(Ⅰ)还原剂		与还原剂一起使用的化合物		图像耐贮性ΔDmin	备注
							类型	涂布量(相对wol％)	类型	涂布量(相对mol％)
	101	(Ⅰ-1)	100	-							-	0.127	比较
102					(Ⅰ-1)	100	(Ⅱ-2)	100	0.026	发明
	103	(Ⅰ-2)	80	(Ⅱ-2)							80	0.021	发明
104					(Ⅰ-3)	50	(Ⅱ-2)	50	0.035	发明
	105	(Ⅰ-4)	65	(Ⅱ-2)							65	0.033	发明
106					(Ⅰ-7)	90	(Ⅱ-2)	90	0.032	发明
	107	(Ⅰ-7)	90	(2)							90	0.094	发明
108					(Ⅰ-1)	100	(2)	100	0.091	发明
	109	(Ⅰ-1)	100	(6)							100	0.037	发明
110					(Ⅰ-1)	100	(8)	100	0.063	发明
	111	(Ⅰ-1)	100	(11)							100	0.051	发明
112					(Ⅰ-1)	100	(13)	100	0.043	发明
	113	(Ⅰ-1)	100	(15)							100	0.047	发明
114					(Ⅰ-1)	100	(16)	100	0.059	发明
	115	(Ⅰ-1)	100	(17)							100	0.062	发明
116					(Ⅰ-1)	100	(Ⅱ-51)	100	0.069	发明
	117	(Ⅰ-1)	100	(Ⅱ-4)							100	0.049	发明
118					(Ⅰ-1)	100	(Ⅱ-8)	100	0.018	发明
	119	(Ⅰ-1)	100	(Ⅱ-26)							100	0.084	发明
120					(Ⅰ-1)	100	(23)	100	0.047	发明
	121	(Ⅰ-1)	100	(24)							100	0.056	发明
122					(Ⅰ-1)	100	(29)	100	0.040	发明
	123	(Ⅰ-1)	100	对甲氧基苯甲腈							100	0.165	比较

*Kf=9.8±0.4

从表1所示的结果清晰可知，通过混合使用本发明的化合物可显著提高图像的耐贮性。(实施例2)

按实施例1相同的方式得到光热敏成像材料，除了在实施例1中使用的卤化银乳剂1-3、涂布用的混合乳剂A、还原剂的固体细颗粒的分散剂、25重量％的有机多卤代化合物2的分散剂、30重量％的有机多卤代化合物3的分散剂和成像层用的涂布溶液通过下列方法制备的物质代替外，并使用磷酰基化合物分散剂。《卤化银乳剂1的制备》

在1421ml蒸馏水中加入3.1ml1重量％的溴化钾溶液，再加入3.5ml1mol/l硝酸和31.7g酞嗪化明胶。分别通过向22.22g硝酸银中加入蒸馏水将其稀释到95.4ml制备溶液A，并通过用蒸馏水稀释15.9g溴化钾至97.4ml体积来制备溶液B。向上述保持在34℃并在涂钛的不锈钢反应器中搅拌的混合物中，经45秒以恒定的流速加入溶液A和溶液B的所有体积。然后，向混合物中加入10ml3.5重量％的过氧化氢水溶液，再入10.8ml10重量％苯并咪唑水溶液。分别通过向51.86g硝酸银中加入蒸馏水稀释至317.5ml来制备溶液C，用蒸馏水稀释45.8g溴化钾至400ml体积来制备溶液D。以恒定流速经20分钟将溶液C的所有体积加入到混合物中。通过控制双注射法，同时pAg保持在8.1来加入溶液D。在加入溶液C之后并开始加入溶液D时，以一次10分钟加入Hexachloroiridic酸(Ⅱ)钾盐，其用量应使得其浓度为每摩尔银1×10^-4摩尔。此外，加入溶液C完成之后，以一次10秒加入六氰化铁(Ⅲ)钾，其用量应使得其浓度为每摩尔银3×10^-4摩尔。然后混合物用0.5mol/l硫酸调节至pH为3.8，停止搅拌。然后，混合物进行沉淀、脱盐并用水洗涤，用1mol/l氢氧化钠调节pH为5.9以形成pAg为8.0的卤化银分散剂。

上述卤化银分散剂在38℃搅拌下加入5m10.34重量％的1,2-苯并异噻-3-酮的甲醇溶液，40分钟后，然后以每摩尔银1×10^-3摩尔的量加入光谱敏化染料A的甲醇溶液。1分钟后，混合物加热到47℃，20分钟后，每摩尔银加入7.6×10^{- 5}摩尔苯基硫代硫酸钠。此外，5分钟后，以每摩尔银1.9×10^-5摩尔的量向混合物中加入作为甲醇溶液的碲灵敏剂B，熟化91分钟。向混合物中立即加入1.3ml0.8重量％的N,N’-二羟基-N”-二乙基三聚氰胺的甲醇溶液，4分钟后，每摩尔银加入3.7×10^-3摩尔5-甲基2-巯基苯并咪唑和4.9×10^-3摩尔的1-苯基-2-庚基-5-巯基-1,3,4-三唑的甲醇溶液以制备卤化银乳剂1。

在制备的卤化银乳剂中的颗粒是球的平均直径0.046μm，球的平均直径的变异系数为20％的纯溴化银颗粒。通过采用电子显微镜，对1000个颗粒的平均得到粒径和其它。通过Kubelka-Munk法测定这些颗粒的[100]面的比率为80％。《卤化银乳剂2的制备》

按制备卤化银乳剂1的相同方式，除了形成颗粒的液体温度从34℃改变到49℃，溶液C的加入时间改变为30分钟，并且不使用六氰化铁(Ⅲ)钾，制备卤化银乳剂2。此外，在卤化银乳剂1的情况下，进行沉淀、脱盐、用水洗涤和分散步骤。再者，以卤化银乳剂1的相同方式，除了光谱敏化染料A的加入量改变为每摩尔银75×10^-3摩尔，且1-苯基-2-庚基-5-巯基-1,3,4-三唑的加入量改变为每摩尔银3.3×10^-3摩尔，进行光谱敏化、化学敏化并加入5-甲基2-巯基苯并咪唑和1-苯基-2-庚基-5-巯基1,3,4-三唑以得到卤化银乳剂2。卤化银乳剂2中的乳剂颗粒是球的平均直径0.080μm，球的平均直径的变异系数为20％的纯溴化银立方颗粒。《卤化银乳剂3的制备》

按制备卤化银乳剂1的相同方式，除了形成颗粒的液体温度从34℃改变到27℃，制备卤化银乳剂3。此外，在卤化银乳剂1的情况下，进行沉淀、脱盐、用水洗涤和分散步骤。再者，以卤化银乳剂1的相同方式，除了光谱敏化染料A固体分散剂(明胶水溶液)的加入量改变到每摩尔银6×10^-3摩尔，碲灵敏剂B的加入量改变到每摩尔银5.2×10^-4摩尔，得到卤化银乳剂3。卤化银乳剂3中的乳剂颗粒是球的平均直径0.038μm，球的平均直径的变异系数为20％的纯溴化银立方颗粒。《涂布溶液的混合乳剂A的制备》

将70重量％卤化银乳剂1、15重量％卤化银乳剂2和15重量％卤化银乳剂3混合，并以每摩尔银7×10^-3摩尔的量加入碘化苯并噻唑，以1重量％水溶液形成涂布溶液的混合乳剂A。《还原剂的固体微粒分散剂的制备》

向作为还原剂的10kg1,1-双(2-羟基3,5-二甲基苯基)-3,5,5-三甲基己烷和10kg20重量％变性聚乙烯醇(PovalMP203，由KurarayCo.,Ltd.制备)的水溶液中加入16kg水，充分混合以形成浆液。该浆液通过膜式泵送入含平均直径为0.5mm的氧化锆颗粒的水平式砂磨机(UVM-2，由ImexCo制备)中，分散3小时又30分钟。然后，该浆液加入0.2g苯并噻唑啉酮钠盐和水使还原剂的浓度变为25重量％以得到还原剂的固体微粒分散剂。在上述得到的分散剂中含有的还原剂颗粒平均直径为0.42μm，最大粒径为2.0μm或更小。得到的还原剂分散剂经孔径为10.0μm的聚丙烯过滤器过滤以除去灰尘等，并贮存。《磷酰基化合物分散剂的制备》

向作为磷酰基化合物的1kg三苯基磷氧化物和1kg20重量％变性聚乙烯醇(PovalMP203，由KurarayCo.,Ltd制备)的水溶液中加入1.6kg水，充分混合以形成浆液。该浆液通过膜式泵送入含平均直径为0.5mm的氧化锆颗粒的水平式砂磨机(UVM-2，由Imex公司制备)中，分散3小时又30分钟。然后，该浆液加入0.2g苯并噻唑啉酮钠盐和水使磷酰基化合物的浓度变为25重量％以得到磷酰基化合物的固体微粒分散剂。在上述得到的分散剂中含有的磷酰基化合物颗粒平均直径为0.45μm，最大粒径为2.0μm或更小。得到的还原剂分散剂经孔径为10.0μm的聚丙烯过滤器过滤以除去灰尘等，并贮存。《25重量％有机多卤代化合物2的分散剂的制备》

以制备20重量％有机多卤代化合物1的分散剂的相同方式制备分散剂，除了用5kg三溴甲基(4-(2,4,6-三甲基苯基磺酰基)苯基)砜代替5kg三溴甲基萘基砜，稀释使有机多卤代化合物的浓度变为25重量％，并过滤。在上述得到的有机多卤代化合物分散剂中含有的有机多卤代化合物颗粒的平均直径为0.38μm，最大粒径为2.0μm或更小。得到有机多卤代化合物分散剂经孔径为3.0μm的聚丙烯过滤器过滤以除去灰尘等，并贮存。《30重量％有机多卤代化合物3的分散剂的制备》

以制备20重量％有机多卤代化合物1的分散剂的相同方式制备分散剂，除了用5kg三溴甲基苯基砜代替5kg三溴甲基萘基砜，且20重量％的MP203水溶液的量改变为5kg，稀释使有机多卤代化合物的浓度变为30重量％，并过滤。在上述得到的有机多卤代化合物分散剂中含有的有机多卤代化合物颗粒的平均直径为0.41μm，最大粒径为2.0μm或更小。得到有机多卤代化合物分散剂经孔径为3.0μm的聚丙烯过滤器过滤以除去灰尘等，并贮存。该分散剂贮存在10℃或更低直至使用。《成像层(感光层)的涂布溶液的制备》

将1.1g20重量％颜料的分散剂、103g有机酸银盐分散剂、5g20重量％聚乙烯醇PVA-205(由KurarayCo.,Ltd.制备)水溶液、25g25重量％还原剂的分散剂、9.4g磷酰基化合物的分散剂、16.3g多卤代化合物1、2和3的总分散剂(重量比=5∶1∶3)、6.2g10重量％巯基化合物的分散剂、106g通过超滤(UF)纯化并进行pH调节的40重量％的SBR胶乳和18ml5重量％的酞嗪化合物溶液混合，其均由上述得到，加入到10g卤化银的混合乳剂A中，并充分混合以制备成像层的涂布溶液。将涂布溶液以涂布染料加入，其加入量应使得涂布量为70ml/m²。《光热敏成像材料的制备》

光热敏成像材料的样品，样品202按实施例1的相同方式制备，除了使用上述材料外。

样品201和203-218按样品202的相同方式制备，除了还原剂的种类和用量以及磷酰基化合物的用量如表2所示改变。

此外，样品301-316通过那些表3中所示改变还原剂以及磷酰基化合物的种类和用量类似地制备。

当样品通过采用与样品202不同的还原剂制备时，可用另一种还原剂代替1,1-双(2-羟基3,5-二甲基苯基)-3,5,5-三甲基己烷用作上述25重量％还原剂的分散剂。

在60℃相对湿度为50％热显影一天后，用贮存的各种感光材料评价样品的图像耐贮性，并在贮存之前或之后，在空白部分测定密度的改变△Dmin。结果如表2和表3所示。《照相性质的评价》

采用Fuji Medical Dry Laser Imager FM-DPL(带有660nm半导体激光器，最大输出：60mW(ⅢB))对各种照相材料进行曝光并热显影(约120℃)，用光密度计评价得到的图像。结果如表2和3所示。

表2

样品号	还原剂(Ⅰ)	涂渍量(相对mol％)	磷酰基化合物(Ⅱ)	涂渍量(相对mol％)	热显影能力		图像耐贮性Δ3min	备注
									Dmin	Dmax
					201	(Ⅰ-1)					100	-	-	0.155	3.72	0.119	对比
202	(Ⅰ-1)	100	(Ⅱ-2)	50			0.152	3.71	0.055	发明
					203	(Ⅰ-1)					100	(Ⅱ-2)	100	0.150	3.70	0.032	发明
204	(Ⅰ-1)	100	(Ⅱ-2)	150			0.149	3.65	0.019	发明
					205	(Ⅰ-2)					80	-	-	0.153	3.71	0.098	对比
206	(Ⅰ-2)	80	(Ⅱ-2)	40			0.150	3.70	0.043	发明
					207	(Ⅰ-2)					80	(Ⅱ-2)	80	0.149	3.70	0.029	发明
208	(Ⅰ-2)	80	(Ⅱ-2)	120			0.148	3.68	0.017	发明
					209	(Ⅰ-3)					50	-	-	0.161	3.74	0.175	对比
210	(Ⅰ-3)	50	(Ⅱ-2)	25			0.151	3.73	0.092	发明
					211	(Ⅰ-3)					50	(Ⅱ-2)	50	0.149	3.72	0.060	发明
212	(Ⅰ-3)	50	(Ⅱ-2)	75			0.148	3.71	0.040	发明
					213	(Ⅰ-3)					50	(Ⅱ-2)	100	0.148	3.69	0.026	发明
214	(Ⅰ-4)	65	-	-			0.157	3.76	0.194	对比
					215	(Ⅰ-4)					65	(Ⅱ-2)	33	0.150	3.75	0.088	发明
216	(Ⅰ-4)	65	(Ⅱ-2)	65			0.148	3.74	0.047	发明
					217	(Ⅰ-4)					65	(Ⅱ-2)	98	0.146	3.72	0.032	发明
218	(Ⅰ-4)	65	(Ⅱ-2)	130			0.145	3.70	0.019	发明

表3

样品号	还原剂(Ⅰ)	涂渍量(相对mol％)	磷酰基化合物(Ⅱ)	涂渍量(相对mol％)	热显影能力		图像耐贮性ΔDmin	备注
									Dmin	Dmax
					301	(Ⅰ-7)					90	-	90	0.153	3.75	0.139	对比
302	(Ⅰ-7)	90	(Ⅱ-1)	90			0.148	3.68	0.017	发明
					303	(Ⅰ-7)					90	(Ⅱ-6)	90	0.148	3.70	0.023	发明
304	(Ⅰ-7)	90	(Ⅱ-8)	90			0.149	3.71	0.026	发明
					305	(Ⅰ-7)					90	(Ⅱ-2)	90	0.150	3.71	0.030	发明
306	(Ⅰ-7)	90	(Ⅱ-22)	90			0.150	3.73	0.043	发明
					307	(Ⅰ-7)					90	(Ⅱ-25)	90	0.152	3.74	0.051	发明
308	(Ⅰ-7)	90	(Ⅱ-24)	90			0.153	3.74	0.063	发明
					309	(Ⅰ-9)					60	-	60	0.157	3.77	0.165	对比
310	(Ⅰ-9)	60	(Ⅱ-1)	60			0.146	3.70	0.022	发明
					311	(Ⅰ-9)					60	(Ⅱ-6)	60	0.148	3.72	0.026	发明
312	(Ⅰ-9)	60	(Ⅱ-8)	60			0.147	3.74	0.032	发明
					313	(Ⅰ-9)					60	(Ⅱ-2)	60	0.149	3.74	0.039	发明
314	(Ⅰ-9)	60	(Ⅱ-22)	60			0.151	3.75	0.047	发明
					315	(Ⅰ-9)					60	(Ⅱ-25)	60	0.153	3.75	0.063	发明
316	(Ⅰ-9)	60	(Ⅱ-24)	60			0.154	3.76	0.076	发明

如表2所示的结果清晰可知，通过混合采用式(Ⅰ)还原剂和带磷酰基的化合物，热显影后的雾(Dmax)可抑制，并且图像贮存后Dmin的增加可显著降低，而基本上不降低显影密度(Dmax)。

因为(Ⅰ-3)和(Ⅰ-4)为高活性的，它们的量可如表2所示显著降低。这种高活性还原剂在处理后得到强雾并因此降低图像耐贮性。但是，通过采用磷酰基化合物与本发明物质混合，可抑制雾，且同时处理后的图像耐贮性可显著增加。

从表3所示结果清楚可知，还原剂和磷酰基化合物混合对于抑制雾和增加图像耐贮性是有效的。(实施例3)

实施例3中所用的化合物结构如下所示。化合物G染料A化合物A敏化染料A化合物B

成核剂A

多卤代化合物A

多卤代化合物B化合物C

化合物Z化合物D

化合物E化合物S

化合物F《PET载体的制备》

采用邻苯二甲酸和乙二醇，可以常用的方式得到特性粘度为0.66(在25℃苯酚/四氯乙烷=6/4(重量比)中测定)的PET。该PET压片，且该片在130℃干燥4小时，在300℃熔化，从T模中挤出，淬灭以制备热固化后膜厚度为120μm的厚度的未伸展膜。

通过具有不同圆周速度的滚筒，将该膜沿着纵向方向延伸3.3倍，然后用拉幅机将该膜沿着横向方向延伸4.5倍。在这种情况下，温度分别为110℃和130℃。然后，该膜在240℃进行热固定20秒并在相同温度下，沿着横向方向松驰4％。进而，松开拉幅机的卡盘后，膜的两边均滚花，且该膜以4.8kg/cm²卷起得到宽度为2.4m，长度为3500m以及厚度为120μm的一卷PET载体。《底涂层的涂布》

具有下列组分的底涂层(a)和底涂层(b)连续用于上述得到的PET载体的两侧，分别在180℃干燥4分钟。底涂层(a)的厚度为2.0μm。(1)底涂层(a)的组分聚合物胶乳(A)(含90重量％核和10重量％壳的核壳型胶乳，核：1,1-二氯乙烯/丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸甲酯/丙烯腈/丙烯酸=93/3/3/0.9/0.1(重量％)，壳：1,1-二氯乙烯/丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸甲酯/丙烯腈/丙烯酸=88/3/3/3/3(重量％)，重量平均分子量；38000)                          3.0cg/m²

                               作为固体含量2,4-二氯-6-羟基-三嗪                  23mg/m²滑光剂(聚苯乙烯，平均直径：2.4μm)    1.5mg/m²(2)底涂层(b)组分去离子明胶(Ca²⁺含量：0.6ppm

胶强度：230g)                     50mg/m²《形成背层》

下列导电层和防护层连续用于上述得到的具有两层底涂层的PET载体的一侧，分别在180℃干燥4分钟，以制备背层。(1)导电层组分Julimer ET-410(Nihon Junyaku Co.,Ltd.)               96mg/m²碱处理的明胶(分子量：约10000，Ca2+含量：30ppm)                     42mg/m²去离子明胶(Ca²⁺含量：0.6ppm)           8mg/m²化合物G                               0.2mg/m²聚氧乙烯苯基醚                         10mg/m²Sumitex ResinM-3(水溶性三聚氰胺树脂，Sumitomo Chemical Co.,Ltd.)            18mg/m²染料A                  其量应得到在783nm光密度为1.2SnO₂/Sb(重量比：9/1，针形颗粒，短轴/长轴=20-30，Isihara Sangyo Kaisha,Ltd.)160mg/m²滑光剂(聚甲基丙烯酸甲酯，平均粒径：5μm)     7mg/m²(2)防护层组分聚合物胶乳(B)(甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/丙烯酸2-乙基己酯/甲基丙烯酸2羟乙基乙酯/丙烯酸=59/9/26/5/1(重量％))

                                        1000mg/m²

                                  作为固体含量聚苯乙烯磺酸盐(分子量：1000-5000)           2.6mg/m²Cellosol524(Chukyo YushiCo.,Ltd.)                      25mg/m²Sumitex ResinM-3(水溶性三聚氰胺化合物，Sumitomo Chemical Co.,Ltd.)                 218mg/m²《传送期间的热处理》(1)热处理

如上制备的带有背层和底涂层的PET载体如下进行热处理：将其引入至设定在160℃，总长度为200m的热处理段中，并将其以3kg/cm²的张力和20m/min的传送速率传送。(2)后热处理

进行上述热处理之后，载体通过在40℃的段15秒，并卷起。这种操作的卷起张力为10kg/cm²。《成像层的涂布溶液的制备》(1)有机酸银盐分散剂的制备

二十二烷酸(87.6g，商品名：EdenorC22-85R,Henkel Corp.制备)、蒸馏水(423ml)、5mol/lNaOH水溶液(49.2ml)和叔丁醇(120ml)混合，并在75℃搅拌下反应一小时制备二十二烷酸钠溶液。制备硝酸银(40.4g)的水溶液(206.2ml)，并保持在10℃。含蒸馏水(635ml)和叔丁醇(30ml)的反应器保持在30℃，并以恒定流速分别经62分钟又10秒和60分钟加入所有体积的二十二烷酸钠溶液和硝酸银水溶液。设定这种操作使得在开始加入硝酸银水溶液后仅加入硝酸银水溶液7分钟又20秒。然后开始加入二十二烷酸钠溶液，使得在加入硝酸银水溶液完成后，仅加入二十二烷酸钠溶液9分钟又30秒。在该操作期间，反应器内部的温度保持在30℃，并加以控制使得不升高混合物的温度。二十二烷酸钠溶液的加入体系的管路通过蒸汽伴热管加热，且控制蒸汽量使得加入喷嘴的外孔口的溶液温度为75℃。此外，硝酸银水溶液加入体系的配管由双管体系组成。二十二烷酸钠溶液和硝酸银水溶液的加入点以相对于搅拌轴对称设置，控制其高度使不与反应混合物接触。

加入二十二烷酸钠溶液完成后，混合物再在该温度下搅拌20分钟，使得混合物的温度降至25℃。然后经离心过滤分离固体含量，且固体含量用水洗涤直到滤液的导电性为30μS/cm。得到的如上所述的固体含量不经过干燥，而以湿饼贮存。

当得到的二十二烷酸银颗粒的形状用电镜照相术分析时，得到的颗粒为平均投射面积直径为0.52μm，平均颗粒厚度为0.14μm，且球的平均直径的变异系数为15％的鳞状晶体。

向湿饼中，相对于100g干固体含量加入7.4g聚乙烯醇(PVA-217，商品名，平均聚合度：约1700)和水，使总量为385g，且混得到的混合物在平均混合物中预分散。然后，预分散的存贮溶液在分散仪(商品名Microfiuidizer-M-110S-EH由Microfluidizer Intemational Corporation制备，采用G10Z相互作用室)，压力控制至1750kg/cm²中处理三次，以得到作为有机酸银盐分散剂的二十二烷酸银分散剂。在冷却期间，通过固定在相互作用室之前和之后的盘旋热交换器得到所需的分散温度，并控制致冷剂的温度。

在上述得到的二十二烷酸银分散剂中含有的二十二烷酸银颗粒为体积均直径为0.52μm，变异系数为15％的颗粒。通过Malvem Instruments Ltd.制备的MasterSizer X测定粒径。此外，当用电子显微照相术评价时，颗粒的长轴长度与短轴长度的比率为1.5，颗粒厚度为0.14μm，平均高径比(颗粒的投射面积的环形直径与颗粒厚度比)为5.1。(2)光敏性卤化银乳剂的制备

在700ml水中，溶解碱处理过的明胶(钙含量：2700ppm或更低，11g)、溴化钾(30mg)和苯基硫代磺酸钠(10mg)。溶液在40℃温度下调至pH5.0后，通过控制双管注射法经6分钟又30秒加入159ml含硝酸银(18.6g)和含1mol/l溴化钾、5×10^-6mol/l的(NH₄)₂RhCl₅(H₂O)和2×10^-5mol/lK₃IrCl₆的水溶液的水溶液，同时pAg保持在7.7。然后，通过控制双管注射法经28分钟30秒加入476ml含硝酸银(55.5g)和含1mol/l溴化钾、2×10^-5mol/lK₃IrCl₆的水溶液的水溶液，同时pAg保持在7.7。

然后降低pH以产生凝结物沉淀以进行脱盐，加入化合物A(0.17g)和平均分子量15,000(钙含量：20ppm或更低，51.1g)的低分子量明胶，并分别将pH和pAg调至5.9和8.0。得到的颗粒为平均粒径0.08μm，投射面积的变异系数为9％且[100]面的比率为90％的立方形颗粒。

将上述得到的感光卤化银颗粒的温度升至60℃，并加入苯基硫代磺酸钠(每摩尔银76μmol)。3分钟后，再加入三乙基硫脲(71μmol)，颗粒熟化100分钟，然后加入5×10^-4mol/l的4-羟基-6-甲基-1,3,3a,7-tetrazaindene，并冷却到40℃。然后在搅拌下，同时乳剂保持在40℃时，敏化染料A和化合物B以每摩尔感光卤化银12.8×10^-4mol和6.4×10^-3mol的量加入。20分钟后，乳剂淬灭至30℃以完成感光卤化银乳剂的制备。(3)超高造影剂的固体微粒分散剂的制备

向超高造影剂(成核剂A,10g)中加入聚乙烯醇(2.5g,PVA-217，由KurarayCo.,Ltd制备)和水(87.5g)，混合物剧烈搅拌以形成浆液。该浆液放置3小时。然后制备0.5mm的氧化锆颗粒(240g)，并与浆液一起放入容器中。容器中的物质在分散仪(1/4G Sand GrinderMill，由Imex Co.制备)中分散10小时以制备固体微粒分散剂。在这种分散剂中，80重量％的微粒的粒径为0.1～1.0μm，平均粒径为0.5μm。(4)还原剂的固体微粒分散剂的制备

向1,1-双(2-羟基3,5-二甲基苯基)-3,5,5-三甲基己烷(25g)中加入20重量％MP聚合物(25gMP-203，由KurarayCo.,Ltd.制备)的水溶液、Safinol 104E(NisshinKagakuCo.,Ltd.,0.1g)、甲醇(2g)和水(48ml)，混合物剧烈搅拌以形成浆液。得到的浆液放置3小时。然后制备1mm的氧化锆颗粒(360g)，并与浆液一起放入容器中。容器中的物质在分散仪(1/4G Sand Grinder Mill，由Imex Co.制备)中分散3小时以制备还原剂的固体微粒分散剂。在这种分散剂中，80重量％的微粒的粒径为0.3～1.0μm，平均粒径为0.5μm。(5)多卤代化合物的固体微粒分散剂的制备

向多卤代化合物A(30g)中加入MP聚合物(4g,MP-203，由KurarayCo.,Ltd.制备)、化合物C(0.25g)和水(66g)，混合物剧烈搅拌以形成浆液。然后制备0.5mm的氧化化锆颗粒(200g)，并与浆液—起放入容器中。容器中的物质在分散仪(1/6G Sand Grinder Mill，由ImexCo.制备)中分散5小时以制备多卤代化合物A的分散剂。在这种分散剂中，80重量％的微粒的粒径为0.3～1.0μm。

以制备多卤代化合物A的同样方式制备多卤代化合物B的固体微粒分散剂(6)锌化合物的固体微粒分散剂的制备

向化合物Z(30g)中加入MP聚合物(3g,MP-203，由KurarayCo.,Ltd.制备)和水(87ml)，混合物剧烈搅拌以形成浆液。该浆液放置3小时。然后浆液以上述(4)提及的制备还原剂的固体微粒分散剂的相同方式处理，以制备锌化合物(化合物Z)的固体微粒分散剂。在这种分散剂中，80重量％的微粒的粒径为0.3～1.0μm。(7)制备成像层的涂布溶液

将下列组分以分散剂中每1摩尔银的具体量加入到上述(1)制备的有机酸银盐(二十二烷酸银)的分散剂中，并加入水以制备成像层的涂布溶液。上述(2)得到的感光卤化银乳剂                   0.05mol的Ag上述(3)得到的成核剂的固体微粒分散剂           17.1g固体上述(4)得到的还原剂的固体微粒分散剂           166g固体上述(5)得到的多卤代化合物分散剂A              0.06mol固体上述5)得到的多卤代化合物分散剂B               0.02mol固体上述(6)得到的锌化合物的固体微粒分散剂         10.5g固体粘合剂：LACSTAR3307B(SBR胶乳，由Dai-Nippon Ink&ChemicalsInc制备，玻璃转化温度：17℃)                  470g固体乙烷硫代磺酸钠                                2.2mmol5-甲基苯并三唑                                1.36g聚乙烯醇(PVA-235，KurarayCo.,Ltd)                    12.1g6-异丙基酞嗪                                  16.5g二氢正磷酸钠二氢化物                          0.37g染料A                       用量应得到在783mn处光学密度为0.3

                                        (约0.50g)《成像侧上的防护层的涂布溶液的制备》(1)制备成像侧上的防护层(a)的涂布溶液

含甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/丙烯酸2-乙基己酯/甲基丙烯酸2-羟乙酯/丙烯酸=58.9/8.6/25.4/5.1/2(重量％)(玻璃转化温度：57℃，固体含量：21.5重量％平均粒径：120nm，相对于胶乳的固体含量，含有15重量％的作为成膜助剂的化合物D,956g)的聚合物胶乳溶液中加入水、化合物E(1.62g)、化合物S(3.15g)、滑光剂(聚苯乙烯颗粒，平均直径：7μm，平均粒径的变异系数为8％,1.98g)和聚乙烯醇(PVA-235,KurarayCo.,Ltd,23.6g)，并再加入水以形成成像层侧的防护层(a)的涂布溶液。(2)制备成像侧上的防护层(b)的涂布溶液

含甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯/丙烯酸2-乙基己酯/甲基丙烯酸2-羟乙酯/丙烯酸=58.9/8.6/25.4/5.1/2(重量)(玻璃转化温度：54℃，固体含量：21.5重量％，平均粒径：70nm，相对于胶乳的固体含量，含有15重量％的作为成膜助剂的如(6-1)所示的化合物D,630g)的聚合物胶乳溶液中加入水、30重量％巴西棕榈蜡溶液(Cellosol524,Chukyo YushiCo.,Ltd.,6.30g)、化合物E(0.72g)、化合物F(7.95g)、化合物S(0.90g)、上述(1)提及，滑光剂(聚苯乙烯颗粒，平均直径：7μm,1.18g)和聚乙烯醇(PVA-235,KurarayCo.,Ltd,8.30g)，并再加入水以形成成像层侧的防护层(b)的涂布溶液。《光热敏成像材料的制备》

在传送期间，在具有上述载体的底层的对侧进行热处理，即涂布底涂层(a)和底涂层(b)的载体侧，涂布成像层的涂布溶液使得涂布的银量为1.6g/m²。此外，成像层的防护层(a)的涂布溶液涂在成像层上，同时用成像层的涂布溶液作为层压层，使得涂布的聚合物胶乳的固体含量为1.31g/m²。然后，成像表面的防护层(b)的涂布溶液涂在涂层上，使得涂布的聚合物胶乳的固体含量为3.02g/m²以制备光热敏成像材料。在成像层侧得到的光热敏成像材料的膜表面pH为4.9,Beck平滑度为660秒。对于对表面，膜表面pH为5.9,Beck平滑度为560秒。

用实施例1的不同种类和涂布量的酚还原剂(式(Ⅰ)化合物)和式(Ⅱ)、(Ⅲ)、(Ⅳ)和(Ⅴ)化合物制备样品，使样品得到基本上与上述样品相媲美的显影密度，并评价其成像耐贮性。《评价》(1)曝光

采用带有束直径(束强度的1/2的FWHM)为12.56μm，激光输出50mW，和输出波长783nm的半导体激光器的单波道圆筒内表面型的激光曝光装置对各种光热敏成像材料进行曝光2×10^-8秒。通过控制镜旋转值调节曝光时间，并通过改变输出调节曝光。曝光的重叠系数为0.449。(2)热处理

通过采用如图1所示的热显影装置对上述(1)得到的曝光的光热敏成像材料进行热处理，其中热显影部分的辊表面材料由硅酮橡胶组成，平面由Teflon无纺织物组成。热显影以传送线性速率20mm/sec如下进行：在90-110℃的预热部分预热15秒(预热部分和热显影部分的驱动单元互相独立，且速度不同使得热显影部分调至-0.5％～-1％)，在120℃的热显影部分进行20秒，并在逐步冷却部分进行15秒。横向的温度精度为±1℃。(3)在暗室中贮存后评价热显影的图像耐贮性

光热敏成像材料以实施例1相同的方式进行曝光和热显影。

结果，与对比实施例相比，很清楚本发明的光热敏成像材料显示了更优异的性能，且与实施例1所观察到的相比，超高造影光热敏成像材料显示了更优异的图像耐贮性。(实施例4)

通过用表4提及的各种化合物等摩尔量代替样品102中的化合物(Ⅱ-2)制备14种光热敏成像材料。以实施例1相同的方式，评价各种光热敏成像材料的图像耐贮性(△Dmin)。结果如表4所示。

表4

样品号	与还原剂一起使用的化合物	图像耐贮性△Dmin	备注
				401	Ⅱ-56	0.039	发明
402	Ⅱ-57	0.034	发明
				403	Ⅱ-58	0.030	发明
404	Ⅱ-61	0.022	发明
				405	Ⅱ-62	0.018	发明
406	Ⅱ-64	0.029	发明
				407	Ⅱ-66	0.040	发明
408	Ⅱ-69	0.020	发明
				409	Ⅱ-71	0.027	发明
410	Ⅱ-77	0.039	发明
				411	Ⅱ-81	0.028	发明
412	Ⅱ-84	0.037	发明
				413	Ⅱ-85	0.034	发明
414	Ⅱ-88	0.037	发明

当使用在苯基的邻位具有取代基的磷酰基化合物时，可得到更优异的图像耐贮性。(实施例5)

以实施例1制备样品105的相同方式制备光热敏成像材料样品，样品501，除了在实施例1中样品105的感光层的SRB胶乳被相同重量的苯乙烯(70.5)/丁二烯(26.5)/丙烯酸(3)共聚合物的胶乳(Tg：23℃，平均粒径92nm)代替。

经目测证明涂布样品的表面是透明的。在样品502中，其对应于不含化合物(Ⅱ-2)的样品501，证明由于使用了高Tg的粘合剂，成像性质和透明度降低，雾增加。因此，这证明了化合物(Ⅱ-2)是作为增塑剂的性质。

也评价了在样品501和502中的色调的改变。《色调的评价》

采用Fuji Medical Dry Laser Imager FM-DPL(带660nm半导体激光，最大输出：60mW(ⅢB))对各种照相材料进行曝光并热显影(约120℃)，用F2荧光灯作为光源测定在得到的图像中的密度为1.0部分的可见吸收光谱以得到在L^*a^*b^*色空间的色度坐标。然后，处理后的样品在荧光(1000lux,30℃,80％)下放置一天，在照射之前得到的色度坐标的相同位置处测定色度坐标。荧光照射前和之后的色差△Eab^*以得到由荧光照射引起的色调改变的大小。如果样品502的值为100，则样品501的值为30。因此，这证明色调的改变也可通过采用本发明的化合物降低。(实施例6)

本发明实施例2的光热敏成像材料被切割为B4大小的基片，并以B4大小堆积光热敏成像材料1的151基片，用由聚丙烯制备的内包装材料包装，再用由在图2所示的内包装材料的外侧涂布聚丙烯的铝片组成的外包装材料包装。当内包装材料用外包装材料封装时，通过控制气体吸压调节空间为33％或10％。如下计算空间比：将包装材料浸渍在水中来得到外包装材料的体积(A)。然后，打开包装的材料，得到内包装材料的比重来计算其体积(B)。最后，从堆积的感光材料的厚度(C)和基片的面积(D)，得到光热敏成像材料的体积(E=D×C)，以(A-B-E)/A×100)的值得到空间比率。此外，在氮分压为80％下进行外包装材料的包装，使得在外包装材料中的氮分压为80％。此外，通过选择大气压进行封装使得在封装中的湿度为40％RH。感光材料在25℃放置10天后，通过将湿度计插入开在外包装材料中的小孔中测定封装中的湿度。

然后，材料在40℃上述状态中贮存十天。在贮存之前或之后的光热敏成像材料用Fuji Medical Dry Laser Imager FM-DPL(提供660nm半导体激光，最大输出：60mW(ⅢB))进行曝光和热显影(约120℃)，并用光密度计评价得到的图像。

计算在贮存之前或之后的光密度的改变。结果发现较小的空间比产生了光密度较小的改变。

Claims (8)

1．一种光热敏成像材料，其在载体的一侧上包括感光卤化银、非感光的有机酸银盐、用作银离子的还原剂和粘结剂，特征在于其中含有一种或多种用作还原剂的酚化合物和一种或多种满足如下A和B中至少一种要求的化合物：A：氢键形成速率常数Kf为20-4000，B：化学结构如下式(Ⅱ)、(Ⅲ)、(Ⅳ)或(Ⅴ)所示，或者含有磷酰基

其中：

在式(Ⅱ)中，R²¹和R²²独立地代表烷基，R²³代表烷基、芳基或杂环基，R²¹、R²²和R²³中的两个或多个可以一起成环；

在式(Ⅲ)中，R³¹和独R³²独立地代表烷基、芳基或杂环基，R³¹和R³²可以一起成环；

在式(Ⅳ)中，R⁴¹和R⁴²独立地代表烷基、芳基或杂环基，R⁴³代表烷基、芳基、杂环基或-N(R⁴⁴)(R⁴⁵)，其中R⁴⁴和R⁴⁵独立地代表烷基、芳基或杂环基，R⁴¹、R⁴²、R⁴³、R⁴⁴和R⁴⁵中的两个或多个可以一起成环；以及

在式(Ⅴ)中，R⁵¹、R⁵²、R⁵³、R⁵⁴和R⁵⁵独立地代表氢原子或取代基，R⁵¹、R⁵²、R⁵³、R⁵⁴和R⁵⁵中的两个或多个可以一起成环。

2．根据权利要求1的光热敏成像材料，其中酚化合物是邻多元酚化合物。

3．根据权利要求2的光热敏成像材料，其中邻多元酚化合物是由下式(Ⅰ)所代表的化合物：

其中R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷和R⁸独立地代表氢原子或在苯环上能够取代的基团，L代表基团-S-或基团-CHR⁹-，其中R⁹代表氢原子或烷基。

4．根据权利要求3的光热敏成像材料，其中在式(Ⅰ)所代表的化合物中，R²、R⁴、R⁵和R⁷是氢原子，R¹和R⁸独立地代表烷基，R³和R⁶独立地代表烷基，L是-CHR⁹-。

5．根据权利要求4的光热敏成像材料，其中R¹和R⁸独立地代表仲或叔烷基。

6．根据权利要求1-5中任一种光热敏成像材料，其中氢键形成速率常数Kf为70-4000。

7．根据权利要求2-5中任一种光热敏成像材料，其中含有一种或多种邻多元酚化合物作为还原剂以及一种或多种含有磷酰基的化合物。

8．根据权利要求7的光热敏成像材料，其中含有磷酰基的化合物为下式(Ⅳ)所代表的化合物：其中R⁶¹、R⁶²和R⁶³独立地代表烷基、芳基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、氨基或杂环基。

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