CN1290925A - 磁头臂制造方法及磁头臂用金属基板的检测方法 - Google Patents
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Abstract
一种磁头臂制造方法及磁头臂用金属基板的检测方法,该制造方法在由不锈钢构成的长条形基板端部区域采取与基板宽度方向TD平行的若干片试验片,测量所采取的试验片的曲率差异,选择曲率差异在0.002(1/mm)以下的基板作为磁头臂用基板,将所选择的基板沿长度方向输送,并在基板上层积绝缘层及导体层而形成多个磁头臂。能减少在长条形基板上形成的多个磁头臂舌片的翘曲差异,提高正品率。
Description
本发明涉及磁盘装置用磁头臂的制造方法及磁头臂用金属基板的检测方法。
在磁盘装置中,为了将磁头定位在旋转磁盘所希望的磁道上,采用了称为磁头臂(suspen sion)的片状支承体。在该磁头臂上,形成有若干布线图形,同时在顶端附近设有安装磁头的磁头安装区(下面称为舌片tongue)。在制造磁头臂时,在金属构成的基板上依次形成绝缘层,布线图形及覆盖层。
近年来,为了多个生产磁头臂,提出了一种制造方法(日本发明专利公开1998年第320736号公报),该方法是一面用卷筒连续或断续输送长条形的基板,一面在长条形基板上依次进行绝缘层形成工序,布线图形形成工序及覆盖层形成工序。
图12所示为上述以往的制造方法中长条形基板的平面图。如图12所示,在长条形基板100上沿基板100的长度方向设有两列作为曝光处理单元的若干矩形区域110。各区域110内形成6列及16行的多个磁头臂。
将这样的长条形基板100一面连续或断续输送,一面在基板100上的各区域110依次进行规定的工序,这样就能够在长条形基板100上同时形成大量的磁头臂。
但是,在将磁头安装在磁头臂的舌片上时,要将舌片进行弯曲加工,使舌片相对于磁头臂本体(除去舌片的磁头臂部分)形成规定的角度。在对舌片进行弯曲加工时,必须使许多磁头臂舌片的角度一定。
但是,原来卷在卷筒上的长条形基板具有一定程度的翘曲。因而,对于在这样基板上形成的多个磁头臂,其舌片要产生翘曲。
在舌片弯曲加工时,为了使多个的磁头臂舌片的角度一定,希望多个的磁头臂舌片的翘曲也一定。因此要求长条形基板各区域的翘曲差异要小。
本发明目的在于提供一种磁头臂的制造方法,该制造方法能够减少长条形金属基板上形成的多个磁头臂舌片的翘曲差异,提高正品率。
本发明的其它目的在于提供一种磁头臂用金属基板的检查方法,该检查方法能够减少长条形金属基板上形成的多个磁头臂舌片的翘曲差异,提高正品率。
本发明者进行了各种实验及研究,结果发现长条形金属基板宽度方向的曲率差异与该金属基板上形成的多个磁头臂安装磁头部分的翘曲差异之间有相关关系,当长条形金属基板一部分的宽度方向曲率差异在规定值以下时,就能够减小该金属基板上形成的多个磁头臂安装磁头部分的翘曲差异。因而根据这一结果,提出以下本发明的方案。
根据本发明一形态的磁头臂制造方法,具有对长条形金属基板一部分区域的宽度方向曲率差异进行测量的步骤,对曲率差异在规定值以下的金属基板进行选择的步骤,以及将选择的金属基板沿长度方向输送并在金属基板上层积绝缘层及导体层而形成多个磁头臂的步骤。
当长条形金属基板一部分区域的宽度方向曲率差异在规定值以下时,该金属基板几乎整个长度内各区域的翘曲差异可降低至一定值以下。因而,通过选择一部分区域的宽度方向曲率差异在规定值以下的金属基板,在该选择的金属基板上层积绝缘层及导体层而形成多个磁头臂,就能够在金属基板几乎整个长度内降低多个磁头臂安装磁头部分的翘曲差异。结果将提高磁头臂的正品率,而且将提高安装磁头部分的弯曲加工精度。
规定值最好在2.0×10-3mm-1以下。这种情况下,在长条形金属基板上形成的多个磁头臂安装磁头部分的翘曲差异可减小到足够程度。因而将进一步提高磁头臂的正品率,将进一步提高安装磁头部分的弯曲加工精度。
规定值最好在1.0×10-3mm-1以下。这种情况下,在长条形金属基板上形成的多个磁头臂安装磁头部分的翘曲差异可以进一步减小到足够程度。因而将进一步提高磁头臂的正品率,将进一步提高安装磁头部分的弯曲加工精度。
形成多个磁头臂的步骤包括在金属基板上形成多个磁头臂并使多个磁头臂的长度方向与金属基板宽度方向平行的步骤。
这种情况下,在金属基板上形成的多个磁头臂的安装磁头部分弯曲加工方向与金属基板翘曲方向一致。由于在金属基板几乎整个长度内宽度方向的翘曲差异在一定值以下,因此金属基板上形成的多个磁头臂安装磁头部分的翘曲差异减小到足够程度。
金属基板可以由具有15μm以上50μm以下厚度的不锈钢构成。另外,金属基板可以由具有100mm以上500mm以下宽度的不锈钢构成。这些情况下,通过选择一部分区域的宽度方向曲率差异在规定值以下的金属基板,能够在金属基板几乎整个长度内充分降低多个磁头臂安装磁头部分的翘曲差异。
测量曲率差异的步骤可以包括在长条形金属基板一部分区域采取沿其宽度方向排列并延伸的若干条形试验片的步骤,在所采取的各试验片长度方向设定三个以上测量点的步骤,对各试验片设定的三个以上测量点的高度分别进行测量的步骤,根据对各试验片测量的三个以上测量点的高度求得各试验片曲率的步骤,以及根据若干试验片曲率计算曲率差异的步骤。
计算曲率差异的步骤可以是求出若干试验片曲率的最大值与最小值之差作为曲率差异的步骤。
采取若干试验片的步骤可以是利用刻蚀方法从长条形金属基板一部分区域去掉除了若干试验片以外部分的步骤。
分别测量三个以上测量点高度的步骤可以是用激光显微镜对各试验片设定的三个以上测量点的高度分别进行测量的步骤。
根据本发明其它形态的磁头臂用金属基板检查方法,具有对长条形金属基板一部分区域的宽度方向曲率差异进行测量的步骤,以及选择曲率差异在规定值以下的金属基板作为磁头臂用金属基板的步骤。
当长条形金属基板一部分区域的宽度方向曲率差异在规定值以下时,该金属基板几乎整个长度内各区域的翘曲差异可降低至一定值以下。因而,通过选择一部分区域的宽度方向曲率差异在规定值以下的金属基板作为磁头臂用金属基板,能够降低在金属板基板上形成的多个磁头臂安装磁头部分的翘曲差异。结果将提高磁头臂的正品率,而且将提高安装磁头部分的弯曲加工精度。
规定值最好在2.0×10-3mm-1以下。这种情况下,在长条形金属基板上形成的多个磁头臂安装磁头部分的翘曲差异可更减小到足够程度。因而将进一步提高磁头臂的正品率,将进一步提高安装磁头部分的弯曲加工精度。
规定值最好在1.0×10-3mm-1以下。这种情况下,在长条形金属基板上形成的多个磁头臂安装磁头部分的翘曲差异可进一步减小到足够程度。因而将更进一步提高磁头臂的正品率,将更进一步提高安装磁头部分的弯曲加工精度。
金属基板可以由具有15μm以上50μm以下厚度的不锈钢构成。另外,金属基板可以由具有100mm以上500mm以下宽度的不锈钢构成。这些情况下,通过选择一部分区域的宽度方向曲率差异在规定值以下的金属基板,能够在金属基板几乎整个长度内充分降低多个磁头臂安装磁头部分的翘曲差异。
测量曲率差异的步骤可以包括在长条形金属基板一部分区域采取沿其宽度方向排列并延伸的若干条形试验片的步骤,在所采取的各试验片长度方向设定三个以上测量点的步骤,对各试验片设定的三个以上测量点的高度分别进行测量的步骤,根据对各试验片测量的三个以上测量点的高度求得各试验片曲率的步骤,以及根据若干试验片曲率计算曲率差异的步骤。
计算曲率差异的步骤可以是求出若干试验片曲率的最大值与最小值之差作为曲率差异的步骤。
采取若干试验片的步骤可以是利用刻蚀方法从长条形金属基板一部分区域去掉除了若干试验片以外部分的步骤。
分别测量三个以上测量点高度的步骤可以是用激光显微镜对各试验片设定的三个以上测量点的高度分别进行测量的步骤。
图1为对本发明一实施例的磁头臂制造中所采用的基板检查方法进行说明用的平面图。
图2为在图1的基板宽度方向上曲率差异测量方法的说明图。
图3为利用本发明实施例的制造方法而制造的磁头臂的平面图。
图4(a)及图4(b)分别为沿图3中的A-A线及B-B线的磁头臂的剖面图。
图5是表示图3的磁头臂制造工序的示意工序剖面图。
图6是表示图3的磁头臂制造工序的示意工序剖面图。
图7是表示图3的磁头臂制造工序的示意工序剖面图。
图8为本发明一实施例的制造方法中长条形基板的平面图。
图9为图8的长条形基板上一个区域的平面图。
图10为图9的子区域内一个区域的一部分的平面图。
图11所示为对试验片曲率差异与舌片的翘曲差异的关系进行测量的结果。
图12为以往的制造方法中长条形基板的平面图。
下面说明本发明一实施例中磁头臂的制造方法。
在本实施例的磁头臂制造方法中,首先用下述的检查方法对不锈钢构成的长条形基板进行检查,选择宽度方向曲率差异在规定值以下的基板。然后,在该选择的基板上用后述的方法形成多个磁头臂。
首先说明磁头臂用基板的检查方法。图1为对本实施例的磁头臂制造中所采用的基板检查方法进行说明用的平面图。另外,图2为在图1的基板宽度方向上曲率差异测量方法的说明图。
在图1中,基板10的厚度例如为15~50μm,基板10的宽度例如为100~500mm,基板10的长度例如约为25m。在基板10的端部区域,利用刻蚀方法采取10条与基板10宽度方向TD平行的试验片70。这种情况下,在基板10上的端部区域,仅仅在试验片70部分形成刻蚀剂图形,利用刻蚀方法去掉基板10的其它部分。试验片70在基板10的长度方向MD有2.5mm的宽度,在基板10的宽度方向TD有30mm的长度。10片试验片70在基板10的宽度方向TD整个宽度范围内分别配置在隔开一定距离d1的位置处。
接着如图2所示,将采取的试验片70放在激光显微镜的平台80上。然后,在试验后70的长度方向每隔10mm设定三个测量点P1、P2、P3,在这些测量点P1,P2,P3分别测量从平台80起试验片70的高度h1、h2、h3。该测量是在三个测量点P1、P2、P3中测量试验片70宽度方向的中心部分。然后,将三个测量点P1、P2、P3中两端两个测量点P1及P3的高度作为零,利用下式求得这种情况下中央部分测量点P2的高度h。
h=h2-(h1+h3)/2 …(1)
再利用上式(1)求得的中央部分测量点P2的高度h,根据下式求得试验片70的曲率k[l/mm]。
k=2h/(h2+100) …(2)
将根据上式(2)求得的基板10宽度方向TD上10片试验片70的曲率k的最大值与最小值之差作为宽度方向TD中曲率k的差异。
选择这样求得的基板10在宽度方向TD上曲率k的差异在0.002[l/mm]以下的基板10作为优良品,将宽度方向TD上曲率k的差异大于0.002[l/mm]的基板10作为不合格品。然后利用下面的方法在所选择的基板10上形成多个磁头臂。
如上所述,最好是选择宽度方向TD上曲率k的差异在0.002[l/mm]以下的基板10作为优良品,如后所述,选择宽度方向TD上曲率k的差异在0.001[l/mm]以下的基板10作为优良品则更理想。
下面说明磁头臂的制造方法。图3为利用本发明实施例的制造方法而制造的磁头臂的平面图。图4(a)为图3的磁头臂沿A-A线的剖面图,图4(b)为图3的磁头臂沿B-B线的剖面图。
如图3所示,磁头臂1具有利用不锈钢构成的长条形基板10形成的磁头臂本体20。在磁头臂本体20上形成有布线图形25。在磁头臂本体20的顶端通过形成U字形开口部分26,设置安装磁头部分(下面称为舌片)24。舌片24在虚线R处进行弯折加工,使其相对磁头臂本体20形成规定的角度。
在舌片24的端部形成四个电极焊盘22。在磁头臂本体20的另一端形成四个电极焊盘27。舌片24上的电极焊盘22与磁头臂本体20另一端的电极焊盘27利用布线图形25电气连接。在磁头臂本体20上形成若干个孔28。另外,图3中未表示覆盖层。
如图4(a)所示,在基板10上形成由聚酰亚胺构成的绝缘层11。在绝缘层11上的四个地方依次层积铬膜12,由铜构成的导体层图形16及镍膜17,再在镍膜17上形成由金构成的电极焊盘27。在绝缘层11上的上面,除了电极焊盘27的上面,用聚酰亚胺构成的覆盖层18覆盖。
如图18(b)所示,在绝缘层11上一侧与另一侧两部分的分别两个地方依次层积铬膜12,由铜构成的导体层图形16及镍膜17。两侧部分的两组铬膜12,导体层图形16及镍膜17用聚酰亚胺构成的覆盖层覆盖。这样形成布线图形25。
下面说明图3的磁头臂制造工序。图5,图6及图7所示为图3的磁头臂制造工序的示意工序剖面图。
首先如图5(a)所示,在厚度为15~50μm不锈钢构成的基板10上,涂布厚度为5~25μm的感光聚酰亚胺树脂前驱体11a。接着如图5(b)所示,在曝光机中隔着规定的掩模对基板10上的感光聚酰亚胺树脂前驱体11a照射200~700mJ/cm2的紫外线,形成由聚酰亚胺构成的绝缘层11。
然后如图5(c)所示,在基板10上及绝缘层11上利用铬及铜的连续溅射依次形成厚度为100~600的铬膜12及厚度为500~2000具有0.6Ω/□以下薄膜电阻的镀铜基底13。
接着如图5(d)所示,在镀铜基底13上形成具有规定图形的镀膜用抗蚀剂14。然后如图5(e)所示,在抗蚀剂14的开口处利用电镀铜的方法形成厚度为2~15μm的铜镀层15。在本实施例中,铜镀层15的厚度约为10μm。
接着如图6(f)所示,去掉抗蚀剂14后,利用碱性处理液通过刻蚀方法去掉镀铜基底13,形成由铜构成的导体层图形16。再如图6(g)所示,利用碱性处理液(氰铁化钾溶液)通过刻蚀方法去掉基板10上及绝缘层11上露出的铬膜12。
接着如图6(h)所示,利用镍的非电解镀在基板10上及导体层图形16上形成厚度为0.05~0.1μm的镍膜17。该镍膜17是为了提高导体层图形16与覆盖层18的密接性及为了防止铜的迁移而设置的。
接着如图6(i)所示,在镍膜17上及绝缘层11上涂布感光聚酰亚胺树脂前驱体,依次进行曝光处理,加热处理,显影处理及加热硬化处理,从而缘层11上及镍膜17上形成具有规定图形的由厚度为3~5μm聚酰亚胺构成的覆盖层18。这种情况下,在覆盖层18的规定位置设置形成电极焊盘用的开口19。另外,露出一部分镍膜17作为电极焊盘电镀用引线部分29。
接着如图7(j)所示,将露出的镍膜剥离之后,在覆盖层18的开口19内利用电镀形成厚度为1~5μm的镍膜21及由厚度为1~5μm的金属构成的电极焊盘22。然后如图7(k)所示,利用刻蚀去掉电极焊盘电镀用引线部分29。
接着如图7(l)所示,在基板10上及覆盖层18上形成具有规定图形的光刻胶23。然后如图7(m)所示,利用氯化铁溶液及氯化铜溶液对基板10进行刻蚀,在形成开口部分26后,去掉光刻胶23。最后进行水洗。这样就制成图3所示的磁头臂1。
下面参照图8,图9及图10说明在长条形基板上形成多个磁头臂的方法。图8为本发明实施例的制造方法中长条形基板的平面图。图9为图8的长条形基板上一个区域的平面图,图10为图9的子区域内一个区域的一部分的平面图。
如图8所示,由不锈钢构成的长条形基板10沿长度方向MD输送。在基板10上,沿长度方向MD设置若干矩形区域30。各矩形区域30分成四个子区域31,子区域31是沿基板10的长度方向MD配置两列,而沿宽度方向TD配置两行。子区域31是利用曝光机进行曝光处理的一个单元,区域30是在图7(j)完成电极焊盘镀层处理以后进行批量处理时的一个单元。
基板10的宽度W为50~500mm,最好为125~300mm,在本实施例中为250mm。另外,其板10的厚度为10~60μm,从防止振动的观点来看,最好为10~30μm,在本实施例中为25μm。
区域30的面积为25~2500cm2。在本实施例中,区域30的宽D1约为200mm,长L1约为235mm。子区域31的面积为区域30的面积被子区域数除的大小。在本实施例中,子区域31为四个,但也可以为三个或两个。另外,也可以无子区域31。在本实施例中,子区域31的宽D2约为100mm,长L2约为110mm。
再有,在长度方向MD的区域30间的间隔S1为5~50mm,在本实施例中约为20mm。在宽度方向TD区域30外侧宽度S2为10~50mm,在本实施例中约为25mm。
在子区域31内沿长度方向MD配置2~200个,沿宽度方向TD配置1~30个磁头臂,共计配置2~6000个磁头臂。子区域31的面积及子区域31内形成的磁头臂的个数,为了提高正品率,最好尽可能要大一些及多一些。
如图9所示,各子区域31又分成若干区域32。在本实施例中,各子区域31分成沿长度方向MD延伸的三个区域32。在本实施例中,沿长度方向MD相邻子区域31间的间隔S3为14mm,沿宽度方向TD相邻子区域31间的间隔S4为4mm。
如图10所示,在各区域32中沿宽度方向TD平行排列许多磁头臂1。这里,将沿长度方向MD若干磁头臂1的排列称为列,将沿宽度方向TD若干磁头臂1的排列称为行。在本实施例中,各区域32中排列了2列及24行的磁头臂1。因而,在各子区域31中排列了6列及24行磁头臂,而在各区域30中,排列了12列及48行磁头臂。
实施例
下面在对三个基板10利用上述实施例的检查方法对试验片70的曲率k的差异进行测量后,在这三个基板10上利用图3~图10的制造方法制造多个磁头臂1,再来检查舌片24的翘曲差异。下面将三个基板10分别作为实施例1,实施例2及比较例来进行。
在实施例1,实施例2及比较例中,采用由不锈钢构成的长条形基板10。基板10的宽度W为250mm,厚度为25μm。
首先,在这些基板10的端部区域涂布光刻胶,利用日光曝光及显影在与图1所示10片试验片70对应的区域上形成光刻胶图形。然后将基板10的端部区域用氯化铁溶液进行刻蚀,通过这样采取10片试验片70。
然后,用图2所示的方法利用上式(1)及(2)求得各试验片70的曲率k,求得10处试验片70的曲率k的最大值与最小值之差作为试验片70的曲率k的差异。
接着利用图3~图10所示的制造方法在实施例1,实施例2及比较例的基板10上制造多个的磁头臂。各子区域31的宽度D2为100mm,长度L2为110mm。沿长度方向MD相邻区域30间的间隔S1约为20mm,沿宽度方向TD各区域30的外侧宽度S2约为25mm。
在各区域30内的各子区域31中排列了6列及24行磁头臂。即在基板10的宽度方向TD的整个宽度内排列的两个子区域31中排列了12列及24行磁头臂。
这些12列到及24行磁头臂1的舌片24的翘曲角度是利用竹芝(TAKESIBA)电机株式会社生产的HGA/磁头臂角度测量装置SAM-8000根据下述测量原理进行测量的。用激光显微镜测量舌片24四角的4点及舌片24中央的4点共8点的XYZ坐标。然后利用最小平方法根据8点的XYZ坐标计算出平面,再求出该平面相对于基准水平面(磁头臂本体20)形成的上下方向的角度作为翘曲角度。这时也可以根据超过8点的测量点来求出翘曲角度。
计算这些磁头臂1各列沿长度方向24个舌片24的翘曲平均值,再求出12列磁头臂1的舌片24的翘曲平均值的最大值与最小值之差,将该差作为舌片24的翘曲差异。
表1及图11所示为实施例1,实施例2及比较例中试验片70的曲率k的差异与磁头臂1的舌片24的翘曲差异之关系的测量结果。
表1
如表1及图11所示可知,在基板10端部区域采取的试验片70的曲率k之差异与在该基板10上形成的多个磁头臂1的舌片24的翘曲差异之间存在着明显的相关关系。即基板10端部区域采取的试验片70的曲率k之差异越小,在该基板10上形成的多个磁头臂1的舌片24的翘曲差异也越小。
当试验片70的曲率k的差异为0.002[l/mm]时,舌片24的翘曲差异约为0.6°。而当试验片70的曲率k的差异为0.001[l/mm]时,舌片24的翘曲差异约为0.5°。
因而,最好是选择试验片70的曲率k差异在0.002[l/mm]以下的基板10作为磁头臂1用的基板。进一步更好是选择试验片70的曲率k的差异在0.001[l/mm]以下的基板10作为磁头臂1用的基板。
这样能够减少磁头臂1的舌片24的翘曲差异,提高正品率。结果将提高磁头臂1的舌片24的弯曲加工精度。
Claims (19)
1.一种磁头臂制造方法,其特征在于,具有
对长条形金属基板一部分区域的宽度方向曲率差异进行测量的步骤,
对所述曲率差异在规定值以下的金属基板进行选择的步骤,
以及将所述选择的金属基板沿长度方向输送并在所述金属基板上层沉积绝缘层及导体层而形成多个磁头臂的步骤。
2.如权利要求1所述的磁头臂制造方法,其特征在于,
所述规定值为2.0×10-3mm-1。
3.如权利要求1所述的磁头臂制造方法,其特征在于,
所述规定值为1.0×10-3mm-1。
4.如权利要求1所述的磁头臂制造方法,其特征在于,
形成所述多个磁头臂的步骤包括在所述金属基板上形成所述多个磁头臂并使所述多个磁头臂的长度方向与所述金属基板的宽度方向平行的步骤。
5.如权利要求1所述的磁头臂制造方法,其特征在于,
所述金属基板由具有15μm以上50μm以下厚度的不锈钢构成。
6.如权利要求1所述的磁头臂制造方法,其特征在于,
所述金属基板由具有100mm以上500mm以下宽度的不锈钢构成。
7.如权利要求1所述的磁头臂制造方法,其特征在于,
测量所述曲率差异的步骤包括:
在所述长条形金属基板的所述一部分区域采取分别沿其宽度方向排列并延伸的若干条形试验片的步骤,
在所述所采取的各试验片长度方向设定三个以上测量点的步骤,
对各试验片设定的三个以上测量点的高度分别进行测量的步骤,
根据对各试验片测量的所述三个以上测量点的高度求得各试验片曲率的步骤,
以及根据所述若干试验片曲率计算所述曲率差异的步骤。
8.如权利要求7所述的磁头臂制造方法,其特征在于,
计算所述曲率差异的步骤包括求出所述若干试验片曲率的最大值与最小值之差作为所述曲率差异的步骤。
9.如权利要求7所述的磁头臂制造方法,其特征在于,
采取所述若干试验片的步骤包括利用刻蚀方法从所述长条形金属基板的所述一部分区域去掉除了所述若干试验片以外部分的步骤。
10.如权利要求7所述的磁头臂制造方法,其特征在于,
分别测量所述三个以上测量点高度的步骤包括用激光显微镜对各试验片设定的所述三个以上测量点的高度分别进行测量的步骤。
11.一种磁头臂用金属基板检查方法,其特征在于,具有:
对长条形金属基板一部分区域的宽度方向曲率差异进行测量的步骤,
选择所述曲率差异在规定值以下的金属基板作为磁头臂用金属基板的步骤。
12.如权利要求11所述的磁头臂用金属基板检查方法,其特征在于,
所述规定值为2.0×10-3mm-1。
13.如权利要求11所述的磁头臂用金属基板检查方法,其特征在于,
所述规定值为1.0×10-3mm-1。
14.如权利要求11所述的磁头臂用金属基板检查方法,其特征在于,
所述金属基板由具有15μm以上50μm以下厚度的不锈钢构成。
15.如权利要求11所述的磁头臂用金属基板检查方法,其特征在于,
所述金属基板由具有100mm以上500以下宽度的不锈钢构成。
16.如权利要求11所述的磁头臂用金属基板检查方法,其特征在于,
测量所述曲率差异的步骤包括:
在所述长条形金属基板的所述一部分区域采取分别沿其宽度方向排列并延伸的若干条形试验片的步骤,
在所述采取的各试验片长度方向设定三个以上测量点的步骤,
对各试验片设定的所述三个以上测量点的高度分别进行测量的步骤,
根据对各试验片测定的所述三个以上测量点的高度求得各试验片曲率的步骤,
以及根据所述若干试验片曲率计算所述曲率差异的步骤。
17.如权利要求16所述的磁头臂用金属基板检查方法,其特征在于,
计算所述曲率差异的步骤包括求出所述若干试验片曲率的最大值与最小值之差作为所述曲率差异的步骤。
18.如权利要求16所述的磁头臂用金属基板检查方法,其特征在于,
采取所述若干试验片的步骤包括利用刻蚀方法从所述长条形金属基板的一部分区域去掉除了所述若干试验片以外部分的步骤。
19.如权利要求16所述的磁头臂用金属基板检查方法,其特征在于,
分别测量所述三个以上测量点高度的步骤包括用激光显微镜对各试验片设定的所述三个以上测量点的高度分别进行测量的步骤。
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