CN1228670C - 掩模、带光反射膜的基板、光反射膜的形成方法、电光装置及其制造方法、以及电子装置 - Google Patents

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Abstract

本发明的课题是，提供用于制造干涉条纹的发生少的带光反射膜的基板的掩模、使用该掩模而形成的带光反射膜的基板、光反射膜的制造方法、具有干涉条纹的发生少的带光反射膜的基板的电光装置和具有干涉条纹的发生少的带光反射膜的基板的电子装置。作成带光反射膜的基板，以比点区域的数目少的点部分为一个单位形成光透过部或光不透过部，并且在该单位内不规则地排列，同时使用包含多个该单位的掩模，使在基体材料上形成的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等，同时使该多个凸部或凹部的平面形状成为相互重叠的圆和相互重叠的多边形或其中的某一种平面形状，并且使多个凸部或凹部在平面方向随机地排列。

Description

掩模、带光反射膜的基板、光反射膜的形成方法、 电光装置及其制造方法、以及电子装置
技术领域
本发明涉及掩模、带光反射膜的基板、光反射膜的形成方法、电光装置的制造方法和电光装置以及电子装置。
更详细而言，本发明涉及用于制造干涉条纹发生少的带光反射膜的基板的掩模、使用该掩模而形成的带光反射膜的基板、光反射膜的形成方法、具有干涉条纹发生少的带光反射膜的基板的电光装置和具有干涉条纹发生少的带光反射膜的基板的电子装置。
背景技术
众所周知，从谋求薄型化和节能化等角度考虑，作为各种电子装置的显示装置，正在广泛地使用液晶显示装置。这样的液晶显示装置通常是在将液晶封入一对玻璃基板等之间的状态下利用密封材料将其周围贴合而成的结构。并且，装配了这样的液晶显示装置的电子装置为保护液晶显示装置，使之免受来自外部的冲击等，采用将保护板配置在该液晶显示装置的观察侧，即观看显示的观察者一侧的结构。这样的保护板，通常是由具有光透过性的材料例如透明塑料等构成的板状构件。
但是，使这样的保护板中的与液晶显示装置相向的面成为完全的平滑面是困难的，多数情况存在微细的凹凸。并且，将这样的保护板配置到液晶显示装置上时，存在因表面的微细的凹凸致使显示品质显著地降低的问题。
显示品质降低的原因之一，是液晶显示装置的观察侧的基板与保护板的间隔随着在保护板的表面存在的凹凸而造成离散。即，来自液晶显示装置的出射光在透过保护板时与这样的间隔的离散对应地发生干涉，其结果是，将产生干涉条纹。并且，据推测由于发生的干涉条纹与显示图像相互重叠，从而将引起显示品质降低。
另外，如图26所示，在特开平6-27481号公报中公开了反射型液晶显示装置400，如图27所示，在特开平11-281972号公报中公开了反射透过两用型500，它们分别设置了为减少干涉条纹的发生的、高度不同的多个凹凸结构404a、404b(504a、504b)，并在其上形成高分子树脂膜405(505)，进而再在其上形成连续的波状的反射电极409(509)。
另外，也公开了具有这样的反射电极的液晶显示装置的制造工序，例如图28所示的工序。首先，如图28(a)所示，在玻璃基板600的整个面上形成抗蚀剂膜602，然后，如图28(b)所示的那样，通过由直径不同的多个圆构成的图形604进行曝光。然后，如图28(c)所示，进行显影，形成高度不同的多个有角的凸部606a、606b，进而，如图28(d)所示，进行加热，使凸部的角部软化，形成去掉角部的凸部608a、608b。并且，如图28(e)所示，在将指定量的高分子树脂膜620充填到这样的凹凸结构的间隙610中形成具有波状表面的连续层后，进而在高分子树脂620上利用溅射法等层叠方法形成连续的波状的反射电极624。
可是，在特开平6-27481号公报等所公开的反射型液晶显示装置或反射透过两用型的液晶显示装置中虽然打算使用将直径不同的多个圆等规则排列或一部分不规则排列的掩模，利用紫外线曝光和显影而形成高度不同的多个凹凸结构，但存在涂布厚度的离散等问题，要严密地调整高度以有效地防止光干涉是很困难的。另外，由于是在高度不同的多个凹凸结构上形成反射电极，所以，也发现容易发生断线或短路等问题。此外，还发现公开了的带光反射膜的基板的制造方法存在工序数多、管理项目多这样的制造上的问题。
因此，特开平6-27481号公报等所公开的带光反射膜的基板不仅难以有效地防止发生干涉条纹，而且也难以稳定而高效率地制造这样的带光反射膜的基板。
因此，本发明的发明人对以上的问题进行了锐意的研究，结果发现在带光反射膜的基板的基体材料上设置多个凸部或凹部的同时，通过实质上不改变该多个凸部或凹部的高度而在平面方向随机地排列，可以很容易地得到干涉条纹发生少的带光反射膜的基板。
发明内容
即，本发明的目的在于提供可以得到干涉条纹发生少而且制造容易的带光反射膜的基板的掩模、那样的带光反射膜的基板、那样的光反射膜的形成方法、具有那样的带光反射膜的基板的电光装置和具有那样的带光反射膜的基板的电子装置。
按照本发明，这是一种用于在具有多个点区域的基板上形成图形的掩模，其特征在于：具有可以透过入射光的光透过部和实质上不使光透过的光不透过部，光透过部或光不透过部具有指定形状，该指定形状之间一部分相互重叠。提供了这样的掩模，就可以解决上述问题。
即，由指定形状的光透过部或光不透过部构成的图形是例如平面形状为圆(包括椭圆。下同)和多边形或其中的某一种形状，将具有它们的一部分相互重叠的形状的光透过部或光不透过部在平面方向排列，从而，在制造带光反射膜的基板时，就发挥了优异的光散射效果，可以有效地防止干涉条纹的发生。
此外，将使用带光反射膜的基板的液晶显示装置等中的多个点部分作为基本单位时，例如将与像素对应的RGB点的3点、6点或12点作为1个单位将光透过部或光不透过部在平面方向随机地排列时，可以减少关于由光透过部或光不透过部形成的图形的信息量。因此，由指定形状的光透过部或光不透过部构成的图形是例如平面形状为圆(包括椭圆。下同)和多边形或其中的某一种形状，在形成由具有它们的一部分相互重叠的形状的光透过部或光不透过部构成的图形时，通过重复这样的基本单位，可以非常容易并且在短时间内进行掩模的设计。
控制光透过部或光不透过部的平面形状的理由是，在构成光反射膜的基体材料的感光性树脂上照射了透过光透过部的光的部位发生光分解而可溶化于显影剂的正型和照射了透过光透过部的光的部位感光而不溶化于显影剂的负型。
另外，在构成本发明的掩模时，最好使光透过部或光不透过部的直径为3～15μm范围内的值。
另外，在构成本发明的掩模时，最好具有直径各不相同的多个光透过部或直径各不相同的光不透过部。
即，例如，最好使光透过部或光不透过部的直径不同，设置2～10种光透过部或光不透过部。
另外，本发明的另一形态的掩模是用于在具有多个点区域的基板上形成图形的掩模，其特征在于：具有可以透过入射光的光透过部和实质上不使光透过的光不透过部，光透过部或光不透过部具有指定形状，该指定形状之间一部分相互重叠，由光透过部或光不透过部形成的图形以多个点部分为1个单位而形成，同时在该1个单位内包含对称的部位。
通过这样构成，可以有效地制造干涉条纹发生少的带光反射膜的基板。即，在制造带光反射膜的基板时，指定的对称图形利用例如1条假想线分割掩模，利用对该假想线呈镜面对称的图形，可以使光适当地散射，所以，可以有效地防止干涉条纹的发生。另外，由于利用对称图形，并重复应用该图形，从而，可以减少关于图形的信息量，带光反射膜的基板的制造就变得容易。
另外，本发明的另一形态是包含基体材料和反射层的带光反射膜的基板，其特征在于：具有包含凸部或凹部的光反射膜，凸部或凹部具有指定形状，同时，该指定形状之间一部分相互重叠。
这样，由于凸部或凹部具有指定形状，同时将例如与像素对应的RGB点的3点、6点或12点作为1个单位在平面方向随机地排列，所以，就发挥了优异的光散射效果，可以有效地防止干涉条纹的发生。
另外，在构成本发明的带光反射膜的基板时，最好使凸部的高度或凹部的深度在面内实质上相等。
例如，是包含基体材料和光反射膜的带光反射膜的基板时，最好使在该基体材料的表面独立形成的多个凸部或凹部的高度实质上相等。
这样，通过使多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等，可以很容易地进行制造，同时，可以得到均匀的反射特性。
另外，如果多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等，并且是比较平坦的结构，则与光散射膜及液晶显示装置的保护板组合时，可以有效地抑制由于间隙的凹凸引起的显示品质的降低。
另外，在构成本发明的带光反射膜的基板时，最好使多个凸部或凹部的直径为3～15μm范围内的值。
例如，使多个凸部或凹部的平面形状成为相互重叠的圆和多边形或其中的某一种平面形状，同时最好使该直径为3～15μm范围内的值。
另外，在构成本发明的带光反射膜的基板时，最好使多个凸部或凹部的间隔为2～30μm范围内的值。
另外，在构成本发明的带光反射膜的基板时，最好使多个凸部的高度或凹部的深度为0.1～10μm范围内的值。
另外，在构成本发明的带光反射膜的基板时，最好利用多个点所定义的单位比整个基板的点数少，并且为了构成整个基板而包含多个该单位。
另外，在构成本发明的带光反射膜的基板时，最好具有直径各不相同的多个凸部或直径各不相同的多个凹部。
另外，本发明的另一形态的带光反射膜的基板是在具有多个点区域的基板上形成光反射膜的带光反射膜的基板，其特征在于：具有包含凸部或凹部的光反射膜，凸部或凹部具有指定形状，同时，该指定形状之间一部分相互重叠，由凸部或凹部形成的图形是以多个点部分为一个单位而形成的，并且在该单位内包含对称的部位。
另外，本发明的另一形态是具有多个点区域的电光装置，其特征在于：具有形成包含凸部或凹部的光反射膜的基板和被基板支撑的电光层，凸部或凹部具有指定形状，同时，该指定形状之间一部分相互重叠。
另外，在构成本发明的电光装置时，最好使凸部的高度或凹部的深度在面内实质上相等。
另外，在构成本发明的电光装置时，由多个点定义的一个单位(基本单位)最好比整个基板的点区域的数目少，并且为了构成整个基板而包含多个该单位。
另外，在构成本发明的电光装置时，由与多个点对应地设置的颜色各不相同的多个着色层和与它们对应的多个点形成1个像素，最好在一个单位内至少对应1个像素。
另外，本发明的另一形态的电光装置是具有多个点区域的电光装置，其特征在于：具有形成包含凸部或凹部的光反射膜的基板和被基板支撑的电光层，凸部或凹部具有指定形状，同时，该指定形状之间一部分相互重叠，由凸部或凹部形成的图形是以多个点部分为一个单位而形成的，并且在该单位内包含对称的部位。
另外，在构成本发明的电光装置时，由与多个点对应地设置的颜色各不相同的多个着色层和与它们对应的多个点形成1个像素，最好在一个单位内至少对应1个像素。
另外，本发明的另一形态的电光装置是一种电光装置，其特征在于：具有电光层、配置在电光层的一侧的光散射膜和配置在电光层的另一侧的光反射膜，在光反射膜上形成不规则排列的凸部或凹部，并且，凸部或凹部具有指定形状，同时，该指定形状之间一部分相互重叠。
另外，在构成本发明的电光装置时，使用的光散射膜的霾值最好大于10％、小于60％。
另外，在构成本发明的电光装置时，最好具有多个点区域，由凸部或凹部形成的图形在由1点或2点定义的一个单位内不规则地排列，同时使用的光散射膜的霾值采用40～60％范围内的值。
另外，在构成本发明的电光装置时，由多个点区域和与它们对应地设置的颜色各不相同的多个着色层形成1个像素，在一个单位内至少对应该1个像素。
另外，在构成本发明的电光装置时，最好具有多个点区域，由凸部或凹部形成的图形在包含3个以上的点的一个单位内不规则地排列，同时使用的光散射膜的霾值大于10％、小于40％。
另外，在构成本发明的电光装置时，最好具有配置在一侧的保护板。
另外，本发明的另一形态是在包含电光装置作为显示部的电子装置中作为电光装置是具有多个点区域的电光装置，其特征在于：具有形成包含凸部或凹部的光反射膜的基板和被基板支撑的电光层，在光反射膜上形成不规则排列的凸部或凹部，凸部或凹部具有指定形状，同时，该指定形状之间一部分相互重叠。
另外，本发明的另一形态是包含电光装置作为显示部的电子装置，其特征在于：作为所采用的的电光装置，具有形成包含凸部或凹部的光反射膜的基板和被基板支撑的电光层，在光反射膜上形成不规则排列的凸部或凹部，凸部或凹部具有指定形状，同时该指定形状之间一部分相互重叠，并且，由凸部或凹部形成的图形是以多个点部分为一个单位而形成的，在该单位内包含对称的部位。
另外，本发明的另一形态是包含电光装置作为显示部的电子装置，其特征在于：作为所采用的电光装置具有电光层、配置在电光层的一侧的光散射膜和配置在电光层的另一侧的光反射膜，在光反射膜上形成不规则排列的凸部或凹部。
另外，本发明的另一形态是在具有多个点区域的基体材料上形成光反射膜的方法，其特征在于：包括在基体材料上涂布感光性材料的工序、将感光性材料曝光的工序、在曝光后的感光性材料上形成凹凸的工序和在凹凸上形成光反射膜的工序，凹凸具有指定形状，同时，该指定形状之间一部分相互重叠。
另外，关于本发明的形成另一光反射膜的方法是在具有多个点区域的基体材料上形成光反射膜的方法，其特征在于：包括在基体材料上涂布感光性材料的工序、将感光性材料曝光的工序、在曝光后的感光性材料上形成凹凸的工序和在凹凸上形成光反射膜的工序，凹凸具有指定形状，同时，该指定形状之间一部分相互重叠，凹凸的图形是以多个点部分为一个单位而形成的，并且在该单位内包含对称的部位。
另外，本发明的电光装置的制造方法的特征在于：包括在具有多个点区域的基体材料上形成光反射膜的方法作为工序，光反射膜的形成方法包括在基体材料上涂布感光性材料的工序、将感光性材料曝光的工序、在曝光后的感光性材料上形成凹凸的工序和在凹凸上形成光反射膜的工序，凹凸具有指定形状，同时，该指定形状之间一部分相互重叠。
另外，本发明的另一电光装置的制造方法的特征在于：包括在具有多个点区域的基体材料上形成光反射膜的方法作为工序，光反射膜的形成方法包括在基体材料上涂布感光性材料的工序、将感光性材料曝光的工序、在曝光后的感光性材料上形成凹凸的工序和在凹凸上形成光反射膜的工序，凹凸具有指定形状，同时，该指定形状之间一部分相互重叠，以多个点部分为一个单位形成凹凸的图形，并且在该1单位内包含对称的部位。
附图说明
图1是用于说明本发明的掩模的平面图。
图2是用于说明以1个像素(RGB：3点)为一个单位使光透过部或光不透过部在平面方向随机地排列的掩模的平面图。
图3是用于说明以2个像素(RGB：6点)为一个单位使光透过部或光不透过部在平面方向随机地排列的掩模的平面图。
图4是用于说明以4个像素(RGB：12点)为一个单位使光透过部或光不透过部在平面方向随机地排列的掩模的平面图。
图5是用于说明光透过部或光不透过部的直径不同的掩模的平面图。
图6是用于说明光透过部或光不透过部呈镜面对称的掩模的平面图。
图7是包含第1基板和第2基板的带光反射膜的基板的剖面图。
图8是由非对称的实质上为泪滴型的凸部构成的带光反射膜的基板的平面图和剖面图。
图9是表示视觉的光量与观察的角度的关系的图。
图10是具有开口部的带光反射膜的基板的剖面图。
图11是带光反射膜的基板的制造工序图。
图12是带光反射膜的基板的制造工序的流程图。
图13是用于说明与TFT元件电连接的带光反射膜的基板的剖面图。
图14是表示无源矩阵方式的液晶显示装置的结构的剖面图。
图15是表示另一液晶显示装置的结构的剖面图。
图16是表示作为电子装置的一例的个人计算机的结构的斜视图。
图17是表示作为电子装置的一例的移动电话机的结构的斜视图。
图18是实质上由圆锥形的凹部构成的带光反射膜的基板的平面图和剖面图。
图19是由非对称的实质上为泪滴型的凹部构成的带光反射膜的基板的平面图和剖面图。
图20是由非对称的实质上为棱锥状的凹部构成的带光反射膜的基板的平面图和剖面图。
图21是由实质上水平剖面为曲率半径小的抛物线、垂直剖面为曲率半径比其大的抛物线的凹部构成的带光反射膜的基板的平面图和剖面图。
图22是由实质上水平剖面为矩形、垂直方向为角锥状的凹部构成的带光反射膜的基板的平面图和剖面图。
图23是TFD方式的液晶显示装置的分解图。
图24是TFD方式的液晶显示装置的局部剖面图。
图25是TFD方式的液晶显示装置的局部斜视图。
图26是表示现有的液晶显示装置的结构的剖面图。
图27是表示现有的液晶显示装置的另一结构的剖面图。
图28是现有的液晶显示装置的制造工序图。
具体实施方式
下面，参照附图说明本发明的实施例。当然，以下所示的实施例示出了本发明的一种实施形态，并不是对本发明作任何限定，而是在本发明的技术思想的范围内可以任意地变更。
实施例1.
实施例1是用于在具有多个点区域的基板上形成图形的掩模，具有可以透过入射光的光透过部和实质上不使光透过的光不透过部，光透过部或光不透过部具有指定形状，该指定形状之间一部分相互重叠。
即，这是一种例如用于制造图2所示的带光反射膜的基板的掩模20，其特征在于：使光透过部或光不透过部22成为平面形状为一部分重叠了的圆(包含椭圆)和多边形或其中的某一种形状，同时使光透过部或光不透过部22以比点区域的数目少的点部分，例如与不规则排列而成的指定的像素对应的RGB点为一个单位在平面方向随机地排列。
1.光透过部或光不透过部
(1)形状
如图1所示，最好使掩模的光透过部或光不透过部为一部分重叠了的圆(包含椭圆)和多边形或其中的某一种平面形状。
其理由在于，通过使光透过部或光不透过部成为一部分重叠了的圆(包含椭圆)或多边形，在为了制造带光反射膜的基板而实施曝光工艺时可以使树脂的凹凸配置变得复杂。另外，一部分重叠了的圆或多边形是基本图形，所以，掩模本身的制造也变得很容易。作为理想的多边形，可举出一部分重叠了的四边形、五边形、六边形、八边形等。
另一方面，不必使光透过部或光不透过部的平面形状全部成为相互重叠的圆(包含椭圆)或相互重叠的多边形，从调整反射量的关系考虑，最好包含一部分独立的圆(包含椭圆)或多边形。
这时，设光透过部或光不透过部的数目为100％时，则最好使由独立的圆或多边形构成的光透过部或光不透过部的数目为20～90％范围内的值。
其理由在于，由这样的独立的圆或多边形构成的光透过部或光不透过部的数目小于20％的值时，则重叠的部分将增大，图形将连在一起，另一方面，如果超过90％，则独立图形占支配地位，从而干涉条纹将增加。因此，最好使由独立的圆或多边形构成的光透过部或光不透过部的数目相对于全体的数目为25～75％范围内的值，而采用40～60％范围内的值则更好。
(2)直径和间隔
另外，最好使掩模上的光透过部或光不透过部的直径为3～15μm范围内的值。
其理由在于，光透过部或光不透过部的直径小于3μm时，在制造带光反射膜的基板时，即使使用曝光工艺，有时也难以正确地控制凸部或凹部的平面形状及配置图形。另外，光透过部或光不透过部的直径小于3μm时，有时掩模本身的制造也变得很困难。
另一方面，如果光透过部或光不透过部的直径超过15μm，则在所得到的带光反射膜的基板中难以使光进行适度的散射，从而散射特性降低而成为暗的反射。
因此，最好使掩模的光透过部或光不透过部的直径为5～13μm范围内的值，而采用6～12μm范围内的值则更好。
另外，最好使掩模上的光透过部或光不透过部的至少1个的直径为大于5μm的值。即，在有直径不同的光透过部或光不透过部时，至少1个光透过部或光不透过部的直径为大于5μm的值，而在直径不同的其他光透过部或光不透过部，其直径可以是小于5μm的值。
其理由在于，如果这样的光透过部或光不透过部的平面形状都是小于5μm的圆或多边形，则在所得到的带光反射膜的基板中，使光过度散射的情况将增多，从而成为暗的反射。但是，如果光透过部或光不透过部的直径过度增大，则光的散射效果将降低，有时将发生干涉条纹。
因此，最好使掩模的光透过部或光不透过部的至少1个的直径为5～13μm范围内的值，而采用6～12μm范围内的值则更好。
另外，最好使掩模上的光透过部或光不透过部的间隔(间距)为2～30μm范围内的值。
其理由在于，这样的光透过部或光不透过部的间隔为小于3.5μm的值时，光透过部或光不透过部的独立性将降低，重叠部分将增大。
另一方面，如果这样的光透过部或光不透过部的间隔超过30μm，有时光透过部或光不透过部的随机配置性将降低。
因此，最好使掩模上的光透过部或光不透过部的间隔(间距)为3～20μm范围内的值，而使掩模上的光透过部或光不透过部的间隔(间距)为4～15μm范围内的值则更好。
这样的光透过部或光不透过部的间隔是从相邻的光透过部或光不透过部的中心到中心的距离，是10个部位以上的平均值。
(3)种类
另外，最好使掩模上的光透过部或光不透过部的直径不同，最好设置2～10种光透过部或光不透过部。例如，如图5所示，在1个随机图形内设置具有不同直径的光透过部或光不透过部。
其理由在于，通过这样存在直径不同的光透过部或光不透过部，可以更有效地制造干涉条纹发生少的带光反射膜的基板。即，使用这样的掩模制造带光反射膜的基板时，所得到的凸部或凹部的排列更分散，从而可以使光适当地散射。因此，将这样的带光反射膜的基板使用到液晶显示装置等中时，可以更有效地防止干涉条纹的发生。
作为光反射膜用掩模图形上由直径不同的光透过部或光不透过部构成的图形的组合，可以举出下述较好的例子：
1)7.5μm的重叠六边形图形和9μm的重叠六边形图形的组合；
2)5μm的重叠六边形图形、7.5μm的重叠六边形图形和9μm的重叠六边形图形的组合；
3)4.5μm的重叠正方形图形、5μm的重叠正方形图形、7.5μm的重叠六边形图形、9μm的重叠六边形图形和11μm的重叠六边形图形的组合。
(4)面积比率
另外，最好使掩模的光透过部或光不透过部的面积比率相对于整体面积为10～60％范围内的值。
其理由在于，如果这样的面积比率为小于10％的值，则在制造带光反射膜的基板时，多个凸部或凹部的占有面积将减小，平坦部增加，从而光散射效果往往显著地降低。另一方面，这样的面积比率超过60％时，平坦部也增加，从而光散射效果往往也显著地降低。
因此，最好使掩模的光透过部或光不透过部的面积比率相对于整体面积为15～50％范围内的值，而采用20～40％范围内的值则更好。
作为构成基体材料的感光性树脂，在使用正型时，照射了透过光透过部的光的部位发生光分解，可溶化于显影剂，所以，掩模的光不透过部的面积比率将成问题，使用负型时，照射了透过光透过部的光的部位将感光，不溶化于显影剂，所以，掩模的光透过部的面积比率将成问题。
2.随机排列
(1)随机排列1
在实施例1中，其特征在于：例如，如图1所示，使掩模10上的光透过部或光不透过部12在平面方向随机地排列。
即，通过使用这样的掩模，利用曝光工艺形成带光反射膜的基板时，可以很容易地使多个凸部或凹部相对于基体材料随机地排列，从而可以使光适当地散射。
所谓随机排列，显然意味着使光透过部或光不透过部无序地排列，更正确地说，就是将掩模按每单位面积划界将这些掩模重叠时，各个图形完全不相同，或者即使有部分的重叠部位，也意味着完全不一致的状态。
(2)随机排列2
另外，最好使光反射膜用掩模图形的光透过部或光不透过部以形成使用光反射膜的液晶显示装置等中的像素的RGB点为基准在平面方向随机地排列。
即，最好以使用光反射膜的液晶显示装置等中的1个像素(RGB：3点)、2个像素(RGB：6点)、或4个像素(RGB：12点)为一个单位将它们重复，在平面方向随机地排列。
例如，如图2所示，在纵向的行L1和L2中，可以分别以所划分的3种RGB点为一个单位使由光透过部或光不透过部22构成的随机图形重复排列。另外，如图3所示，在纵向的行L1和L2以及横向的行L3中，可以分别以由所划分的6种RGB点为一个单位使由光透过部或光不透过部32构成的随机图形重复排列。此外，如图4所示，在纵向的行L1～L5和横向的行L6中，可以分别以所划分的12种RGB点为一个单位使由光透过部或光不透过部42构成的随机图形重复排列。
其理由在于，通过采用具有将几个这样的RGB点集中起来为基本单位的图形的掩模，由此而得到的光反射膜中的多个凸部或凹部使光适当地散射，可以有效地防止干涉条纹的发生。另外，由于将几个RGB点集中起来为基本单位而图形化，所以，可以减少图形的信息量，从而在制造光反射膜时可以很容易地进行图形的位置调整等。
在本发明中，以液晶显示装置等中的RGB点为基准将光反射膜用掩模图形的光透过部或光不透过部在平面方向随机地排列时，不一定必须同时使用具有像素的构件例如滤色片，结果，可以按RGB点单位形成指定的随机图形。
(3)随机排列3
另外，在构成掩模时，最好至少利用1条假想线分割掩模，使由光透过部或光不透过部形成的图形对该假想线呈镜面对称地排列。
通过这样构成，可以更有效地制造干涉条纹发生少的带光反射膜的基板。即，在制造带光反射膜的基板时，可以利用多个凸部或凹部是镜面对称图形的条件，使光适当地发生散射，所以，可以更有效地防止干涉条纹的发生。
另外，由于利用了镜面对称图形，所以，通过使之旋转移动，可以形成同一图形。因此，可以减少图形的信息量，从而带光反射膜的基板制造变得容易。
下面，参照图6(a)和(b)更具体地说明作为随机排列的镜面对称图形。在图6(a)和(b)中，为了可以很容易地理解镜面对称图形的关系，将利用由圆或多边形构成的光透过部或光不透过部形成的图形作为文字图形(F)。
首先，如图6(a)所示，最好使由多个凸部或凹部构成的文字图形(F)对1条假想线(L1)呈镜面对称地即左右对称地排列。通过这样构成，利用一方的图形通过使其反转，便可形成另一方的图形。
另外，如图6(b)所示，最好使由多个凸部或凹部构成的文字图形(F)对2条假想线(L1和L2)分别呈镜面对称，以左右对称和上下对称地排列。通过这样构成，利用1个文字图形63可以形成其他3个文字图形。即，通过使文字图形63以L1为轴反转可以形成文字图形65。另外，通过使文字图形63以L2为轴反转可以形成文字图形67。此外，通过使文字图形63以基点68为中心旋转180°可以形成文字图形69。
并且，不论哪种情况，图形都呈镜面对称时，就不可能使以假想线为轴形成对称而得到的图形之间在上下方向相互重叠，作为由本发明规定的随机图形的一种，可以使光发生适度的散射。
实施例2.
实施例2是在具有多个点区域的基板上形成光反射膜的带光反射膜的基板，其特征在于：具有包含凸部或凹部的光反射膜，凸部或凹部具有指定形状，同时该指定形状之间一部分相互重叠，由凸部或凹部形成的图形在利用多个点定义的一个单位中不规则地排列。
即，如图7所示，作为一例，表示的是使用负型的感光性树脂的情况，是包含基体材料77和反射层72的带光反射膜的基板70，使在该基体材料77上形成的多个凸部76的高度或凹部的深度实质上相等，同时，使该多个凸部或凹部76的平面形状为一部分重叠了的圆和多边形或其中的某一种平面形状，并且使多个凸部或凹部76在平面方向随机地排列。
1.基体材料
作为基体材料的结构，如图7所示，从下方开始依次包含第1基体材料76和第2基体材料79，该第1基体材料76由独立的多个凸部构成，第2基体材料79是连续层。
通过这样构成，可以使通过作为连续层的第2基体材料79而在其上形成的反射层72成为比较平缓的曲面，所以，在应用于液晶显示装置等中时，可以有效地防止干涉条纹的发生。下面，作为合适的例子，如图7所示，以从下方起基体材料77由第1基体材料76和第2基体材料79构成的情况为例进行说明。
(1)第1基体材料
最好使第1基体材料上的独立的多个凸部的高度或凹部的深度为0.5～5μm范围内的值。
其理由在于，如果这样的凸部的高度或凹部的深度为小于0.5μm的值，则难以通过第2基体材料设置具有适当的曲面的反射层。另一方面，如果这样的凸部的高度或凹部的深度超过5μm，则反射层的凹凸将增大，从而往往使光发生过度的散射，或者容易发生断线。
因此，最好使第1基体材料上的独立的多个凸部的高度或凹部的深度为0.8～4μm范围内的值，而采用1～3μm范围内的值则更好。
(2)第2基体材料
最好使在第2基体材料上连续的凸部的高度或凹部的深度为0.1～3μm范围内的值。
其理由在于，如果这样的凸部的高度或凹部的深度为小于0.1μm的值，就难以在其上设置具有适当的曲面的反射层。另一方面，如果这样的凸部的高度或凹部的深度超过3μm，则在其上形成的反射层的凹凸将增大，从而往往使光发生过度的散射，或者容易发生断线。
因此，最好使第2基体材料上的独立的多个凸部的过度或凹部的深度为0.1～2μm范围内的值，而采用0.3～2μm范围内的值则更好。
(3)多个凸部或凹部
①凸部或凹部的平面形状
另外，关于在基体材料上形成的多个凸部或凹部的平面形状，最好采用相互重叠的圆和相互重叠的多边形或其中的某一种平面形状。
其理由在于，通过采用一部分相互重叠的圆和多边形或其中的某一种平面形状，可以使用曝光工艺正确地控制多个凸部或凹部的平面形状或配置图形。另外，只要是这样的平面形状的凸部或凹部，就可以使光散射，从而可以有效地防止干涉条纹的发生。
另外，作为凸部的平面形状的合适的例子，有图8(a)所示的偏移的椭圆形(液滴形状)和图8(b)所示的偏移的四边形(棱锥型)，或者，作为凹部的平面形状的合适例子，可举出图18～图22所示的椭圆的圆顶形状和长圆的圆顶形状等。
其理由在于，通过将多个凸部或凹部的平面形状作为这样的平面形状，如图9所示，与高度方向的斜面相结合，维持指定的光散射性不变而提高光指向性。在图9中，单点点划线a表示在图8(a)所示的偏移的椭圆形的情况下视觉接收的光量，实线b表示在未偏移的均等的圆形情况下视觉接收的光量。因此，通过采用这样的平面形状，从恒定方向观看时，在例如角度为+15°的位置进入眼中的光量增多，从而在该位置可以看到明亮的图像。
②凸部或凹部的直径
另外，关于在基体材料上形成的多个凸部或凹部，最好使该凸部或凹部的直径为3～15μm范围内的值。
其理由在于，只要是具有这样范围的直径的多个凸部或凹部，就可以使用曝光工艺正确地控制平面形状或配置图形，同时，可以使光发生适度的散射，从而可以有效地防止干涉条纹的发生。另外，只要是具有这样范围的直径的多个凸部或凹部，就可以减少视觉感到的形状不定的斑点图样。
因此，最好使多个凸部或凹部的直径为5～13μm范围内的值，而采用6～12μm范围内的值则更好。
③凸部的高度和凹部的深度
另外，关于在基体材料上形成的多个凸部或凹部，最好使该凸部的高度或凹部的深度为0.1～10μm范围内的值。
其理由在于，如果这样的凸部的高度或凹部的深度为小于0.1μm的值，即使使用曝光工艺，凹凸也会减小，从而散射特性将降低。另一方面，如果这样的凸部的高度或凹部的深度超过10μm，则反射层的凹凸将增大，从而往往使光发生过度散射，或者容易发生断线。
因此，最好使凸部的高度或凹部的深度为0.2～3μm范围内的值，而采用0.3～2μm范围内的值则更好。
④随机排列1
另外，最好使在基体材料表面上形成的多个凸部或凹部特别是构成第1基体材料的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等，同时使该多个凸部或凹部在平面方向随机地排列。
其理由在于，如果多个凸部或凹部规则地排列，则应用于液晶显示装置等时，将发生干涉条纹，图像品质将显著地降低。
另外，要使这样的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等，反之，如果如特开平6-27481号公报或特开平11-281972号公报所述的那样使多个凸部的高度或凹部的深度不同，则往往制造变得困难，不能稳定地抑制干涉条纹的发生。
另外，最好使多个凸部或凹部的直径不同，例如设置2～10种凸部或凹部。
其理由在于，通过这样构成，可以获得利用1种凸部或凹部不能得到的复杂的光反射，从而可以使光更分散地发生散射。
因此，通过设置直径不同的多个凸部或凹部，可以更有效地防止干涉条纹的发生。
⑤随机排列2
最好使多个凸部或凹部以使用光反射膜的液晶显示装置等中的1个像素(RGB：3点)、2个像素(RGB：6点)或4个像素(RGB：12点)为一个单位在平面方向随机地排列。
其理由在于，即使是以几个RGB点为单位的多个凸部或凹部，多个凸部或凹部也可以使光适当地发生散射，从而可以有效地防止干涉条纹的发生。另外，由于以RGB点为基本单位进行图形化，所以，可以减少图形的信息量，从而在制造光反射膜时图形的对位等变得很容易。
如上所述，这样的随机排列通过图2～图4所示的光反射膜用掩模图形利用曝光工艺可以很容易地形成。
⑥随机排列3
另外，最好利用假想线将基体材料分割，使多个凸部或凹部对该假想线呈镜面对称地排列。
通过这样构成，利用呈镜面对称的情况可以使光发生适当的散射，所以，可以更有效地防止干涉条纹的发生。另外，利用镜面对称图形时，通过进行旋转移动，可以使之一致，所以，可以减少图形的信息量，从而带光反射膜的基板制造变得容易。
在作成这样的镜面对称图形时，可以很好地使用具有在实施例1中说明的镜面对称图形的掩模。
(4)开口部
在带光反射膜的基板中，最好设置用于使光部分地通过的开口部。通过这样构成，可以应用于反射透过两用型的液晶显示装置等。
即，如图10所示，通过在光反射膜100的一部分设置开口部102，可以利用光反射膜100使来自外部的光有效地反射，同时对于从内部发出的光也可以通过开口部102有效地向外部射出。
开口部的大小不加特别限制，最好根据带光反射膜的基板的用途等而决定，例如，设带光反射膜的基板的整体面积为100％时，则最好采用5～80％范围内的值，采用10～70％范围内的值更好，而采用20～60％范围内的值则更好。
2.反射层
①厚度
最好使带光反射膜的基板上的反射层的厚度为0.05～5μm范围内的值。
其理由在于，如果这样的反射层的厚度为小于0.05μm的值，则反射效果往往显著地降低。另一方面，如果这样的反射层的厚度超过5μm，则所得到的带光反射膜的基板的柔性往往降低，制造时间将过度延长。
因此，最好使这样的反射层的厚度为0.07～1μm范围内的值，而采用0.1～0.3μm范围内的值则更好。
②种类
另外，反射层的构成材料不加特别限制，最好是例如铝(Al)、银(Ag)、铜(Cu)、金(Au)、铬(Cr)、钽(Ta)和镍(Ni)等导电性和光反射性优异的金属材料。
另外，在上述反射层上，最好使用氧化铟锡(ITO)或氧化铟或者氧化锡等透明导电材料。
但是，使用这样的金属材料和透明导电材料时，在有向液晶中溶入的情况下，最好在由该金属材料等构成的反射膜的表面设置电绝缘膜，或与溅射金属材料等一起溅射电绝缘物。
③基底层
另外，在第2基板上形成反射层时，为了提高紧密粘附力，同时使反射层成为平缓的曲面，最好设置厚度0.01～2μm的基底层。
作为这样的基底层的构成材料，有硅烷偶联剂、钛偶联剂、铝偶联剂、铝-镁合金、铝-硅烷合金、铝-铜合金、铝-锰合金、铝-金合金等的仅仅一种或两种以上的组合。
④镜面反射率
另外，最好使反射层上的镜面反射率为5～50％范围内的值。
其理由在于，如果这样的镜面反射率为小于5％的值，在应用于液晶显示装置等中时，所得到的显示图像的亮度往往显著降低。另一方面，如果这样的镜面反射率超过50％，则散射性往往降低，有背景映入或外部光过度地发生镜面反射。
因此，最好使反射层上的镜面反射率为10～40％范围内的值，而采用15～30％范围内的值则更好。
最好使上述带光反射膜的基板与其他构件组合，例如如图14和图15所示的那样，与滤色片150、遮光层151、覆盖层157、多个透明电极154和取向膜等组合。
通过这样组合，可以有效地提供干涉条纹发生少的彩色液晶显示装置等的构件。例如，通过将由例如RGB(红、绿、蓝)3色的色要素构成的条形排列、镶嵌排列、或三角形排列等的滤色片150组合起来，很容易实现彩色化，从而，通过与遮光层151组合，可以得到对比度优异的图像。另外，带光反射膜的基板也可以作为反射电极使用，但是，通过设置其他电极例如透明电极154，既可以防止光吸收，又可以排除由多个凸部或凹部构成的反射膜的影响。
此外，也可以利用由YMC(黄、深红、深蓝)组成的3色元构成滤色片，以取代由RGB(红、绿、蓝)组成的3色元构成的滤色片。这样，由YMC3色元构成的滤色片的光透过性优异，应用于例如反射型液晶显示装置时，可以得到更明亮的显示。
实施例3.
实施例3是在具有多个点区域的基体材料上形成光反射膜的光反射膜的方法，其特征在于：包括将感光材料涂布到基体材料上的工序、将感光材料曝光的工序、在曝光后的感光材料上形成凹凸的工序和在凹凸上形成光反射膜的工序，凹凸具有指定形状，同时，该指定形状之间一部分相互重叠，该凹凸的图形以比点区域的数目少的多个点部分为一个单位并且在该一个单位内不规则地形成。
即，带光反射膜的基板的制造方法的特征在于：包括形成具有独立的多个凸部或凹部的第1基体材料的工序、将感光性树脂涂布到该第1基体材料的表面通过曝光工艺形成具有连续的多个凸部或凹部的第2基体材料的工序和在该第2基体材料的表面形成反射层的工序，上述独立的多个凸部或凹部是通过使用使光透过部或光不透过部成为例如相互重叠的圆和相互重叠的多边形或其中的某一种平面形状并且在平面方向随机地排列的掩模对所涂布的感光性树脂通过曝光工艺而形成的，是高度实质上相等、在平面方向随机地排列的并且平面形状为相互重叠的圆和相互重叠的多边形或其中的某一种平面形状。
下面，适当参照图11和图12以在第1基体材料的表面形成凹部的情况为例具体说明带光反射膜的基板的制造方法。图11是将带光反射膜的基板的制造工序图解化的图，图12是它的流程图。
1.形成第1基体材料的工序
利用在实施例1中说明过的掩模由正型感光性树脂通过曝光工艺形成在平面方向随机地排列的多个凹部。
即，使用使光透过部或光不透过部成为相互重叠的圆和相互重叠的多边形或其中的某一种平面形状并且在平面方向随机地排列的掩模，由感光性树脂构成与该掩模图形对应的、相互重叠的圆和相互重叠的多边形或其中的某一种平面形状的独立的多个凹部。
(1)感光性树脂
对构成第1基体材料的感光性树脂的种类不加特别限制，可举出例如丙烯酸类树脂、环氧类树脂、硅酮类树脂、苯酚类树脂、氧杂环丁烷类树脂等仅仅一种或两种以上的组合。另外，为了能够高精度地成为指定的圆形或多边形，也可以在感光性树脂中添加二氧化硅粒子、氧化钛、氧化锆、氧化铝等无机充填物。
如上所述，作为构成第1基体材料的感光性树脂，有照射了透过光透过部的光的部位发生光分解而可溶化于显影剂的正型和照射了透过光透过部的光的部位发生固化而不溶化于显影剂的负型，不论哪一种都可以使用得很好。
(2)曝光工艺
如图11(a)和图12的工序P31所示，在形成作为独立的多个凹部的第1基体材料时，最好使用转涂机等将构成第1基体材料的感光性树脂均匀地涂布到支撑部114上，形成第1层110。这时，作为转涂机的工艺条件，最好是例如600～2000rpm的转数，进行5～20秒。
其次，如图12的工序P32所示，为了提高分辨率，最好对第1层110进行预烘处理。这时，使用例如加热板，采用80～120℃、1～10分钟的加热条件。
然后，如图11(b)和图12的工序P33所示，最好使用实施例1的掩模119，将实施例1的掩模119放置到由均匀涂布的感光性树脂构成的第1层110上，用i射线等进行曝光。这时，最好是i射线等的曝光量为例如50～300mJ/cm2范围内的值。
其次，如图11(c)和图12的工序P34所示，利用显影液对例如透过掩模119的光透过部117的部分进行正片显影，可以形成由在平面方向随机地排列的独立的多个凹部构成的第1基体材料112。
在形成第2基体材料113之前，如图12的工序P35和工序P36所示，作为一例，以曝光量为300mJ/cm2对整个面进行后曝光之后，最好通过按220℃、50分钟的条件加热，进行后烘焙处理，使第1基体材料112更加强固。
2.形成第2基体材料的工序
形成第2基体材料的工序是通过树脂涂布等在第1基体材料上即在平面方向随机地排列的多个凹部上形成作为连续层的第2基体材料。
(1)感光性树脂
对构成第2基体材料的感光性树脂的种类不加特别限制，有例如丙烯酸类树脂、环氧类树脂、硅酮类树脂、苯酚类树脂等。
另外，为了提高第1基体材料与第2基体材料间的紧密粘附力，构成第2基体材料的感光性树脂最好与构成第1基体材料的感光性树脂为同一种树脂。
另外，为了提高第1基体材料与第2基体材料间的紧密粘附力，最好预先对第1基体材料的表面进行硅烷偶联剂等处理。
(2)曝光工序
如图11(d)和图12的工序P37～P40所示，在形成第2基体材料113时，在涂布构成第2基体材料113的感光性树脂之后，最好在面板显示区域周边的装配区域，用i射线等进行曝光，除去树脂层。这时，和对第1基体材料112进行曝光一样，最好使i射线等的曝光量为例如50～300mJ/cm2范围内的值。
此外，如图12的工序P41～P42所示，在形成第2基体材料113之后，作为一例，在以曝光量为300mJ/cm2对整个面进行后曝光之后，最好通过按220℃、50分钟的条件加热，进行后烘焙处理，分别使第1基体材料112和第2基体材料113更加强固。
3.形成反射层的工序
如图11(e)和图12的工序P43～P44所示，形成反射层的工序是在第2基体材料113的表面形成具有平滑的曲面的反射层116以使光发生适度的散射的工序。
(1)反射层材料
作为反射层材料，如在实施例2中说明过的那样，最好采用铝(Al)和银(Ag)等光反射性优异的金属材料。
(2)形成方法
最好应用溅射等方法形成反射层。另外可以用光刻等方法除去所希望的部位以外的反射层材料。
另外，由于在第2基体材料的表面形成了凹凸，所以，有时反射层材料不以均匀的厚度层叠，这时，最好采用旋转蒸发法或旋转溅射法。
此外，最好在形成反射层的同时，使该反射层与TFT(薄膜晶体管)或MIM(金属-绝缘层-金属)等的端子进行电连接。
实施例4.
实施例4是作为有源元件而使用2端子型的有源元件的TFD(薄膜二极管)的有源矩阵方式的液晶显示装置，其特征在于：具有夹在基板间的液晶元件和设置在与该液晶元件的观察侧相反一侧的基板上的带光反射膜的基板，该带光反射膜的基板由基体材料和反射层构成，使在该基体材料上形成的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等，同时使该多个凸部或凹部的平面形状成为相互重叠的圆和相互重叠的多边形或其中的某一种平面形状，并且该多个凸部或凹部在平面方向随机地排列。
下面，参照图23～图25具体进行说明，以可以有选择地进行使用外部光的反射显示和使用照明装置的透过显示的方式的半透过反射型液晶装置为例进行说明。
首先，在本实施例中，如图23所示，液晶装置230也是通过用密封材料(图中未示出)将第1基板231a与第2基板231b贴合在一起并将液晶封入由第1基板231a、第2基板231b和密封材料所包围的间隙即盒隙内而形成的。在一方的基板231b的表面最好用例如COG(芯片键合在玻璃上)方式直接安装液晶驱动用IC(图中未示出)。
并且，在图23中，放大表示了构成液晶装置230的显示区域的多个显示点中的几个剖面结构，图24表示1个显示点部分的剖面结构。
这里，如图23所示，在由第2基板231b的密封材料所包围的内部区域中，多个像素电极在行方向XX和列方向YY以点阵状的排列而形成。另外，在由第1基板231a的密封材料所包围的内部区域上形成条状电极，该条状电极与第2基板231b侧的多个像素电极相向而配置。
另外，由第1基板231a上的条状电极和第2基板231b上的1个像素电极将液晶夹在中间的部分形成1个显示点，多个该显示点在由密封材料包围的内部区域内通过排列成点阵状而形成显示区域。另外，液晶驱动用IC通过有选择地将扫描信号和数据信号加到多个显示点内的对置电极间，对每个显示点控制液晶的取向。即，通过液晶的取向控制来调制通过该液晶的光，从而在显示区域内显示文字、数字等图像。
另外，在图24中，第1基板231a具有由玻璃、塑料等形成的基体材料236a、在该基体材料236a的内侧表面形成的光反射膜231、在该光反射膜231上形成的滤色片242和在该滤色片242上形成的透明的条状电极243。在该条状电极243上形成取向膜241a。对该取向膜241a进行作为取向处理的摩擦处理。条状电极243由例如ITO(氧化铟锡)等透明导电材料形成。
另外，与第1基板231a相向的第2基板231b具有由玻璃、塑料等形成的基体材料236b、在该基体材料236b的内侧表面形成的具有开关元件功能的作为有源元件的TFD(薄膜二极管)247和与该TFD247连接的像素电极239。在TFD247和像素电极239上形成取向膜241b。对该取向膜241b进行作为取向处理的摩擦处理。像素电极239由例如ITO(氧化铟锡)等透明导电材料形成。
另外，属于第1基板231a的滤色片242在与第2基板231b侧的像素电极239相向的位置上最好具有R(红)、G(绿)、B(蓝)或Y(黄)、M(深红)、C(深蓝)等各色的某一种滤色元242a，而在与像素电极239不相向的位置上最好具有黑掩模242b。
另外，如图24所示，第1基板231a与第2基板231b间的间隔即盒隙由分散在某一方的基板的表面上的球状衬垫304维持其尺寸，将液晶封入到该盒隙内。
这里，如图24所示，TFD247由第1金属层244、在该第1金属层244的表面形成的绝缘层246和在该绝缘层246上形成的第2金属层248构成。这样，TFD247就由第1金属层/绝缘层/第2金属层构成的层叠结构即所谓的MIM(金属-绝缘体-金属)结构所构成。
另外，第1金属层244由例如钽单质、钽合金等形成。作为第1金属层244，使用钽合金时，在主成分的钽中，添加例如钨、铬、钼、铼、钇、镧、镝等在元素周期表中属于第6～第8族的元素。
另外，第1金属层244与行布线249的第1层249a一体地形成。该行布线249将像素电极239夹在中间并被形成为条状，起作为用于向像素电极239供给扫描信号的扫描线或用于向像素电极239供给数据信号的数据线的作用。
另外，绝缘层246由利用例如阳极氧化法通过将第1金属层244的表面氧化而形成的氧化钽(Ta2O5)构成。将第1金属层244进行阳极氧化时，行布线249的第1层249a的表面也同时被氧化，同样形成由氧化钽构成的第2层249b。
另外，第2金属层248由例如Cr等导电材料形成。像素电极239在基体材料236b的表面形成，其一部分与第2金属层248的前端重叠。在基体材料236b的表面，在形成第1金属层244和行布线的第1层249a之前，有时利用氧化钽等形成基底层。这是为了使第1金属层244不致在第2金属层248淀积后通过热处理而从基底上剥离，以及杂质不会扩散到第1金属层244中的缘故。
并且，在第1基板231a上所形成的光反射膜231由例如铝等光反射性的金属形成，在与属于第2基板231b的各像素电极239对应的位置即与各显示点对应的位置上形成光透过用的开口241。另外，在光反射膜231的液晶侧表面，最好以例如图8和图18～图22所示的长圆形形成圆顶形状的谷部或山部80、84、180、190、200、210、220。即，这样的谷部或山部80、84、180、190、200、210、220最好以作为行布线的延长方向的X轴线方向为长轴、以与之成直角的Y轴线方向为短轴进行排列。另外，谷部或山部80、84、180、190、200、210、220的长轴方向X被设定为与沿基体材料的XX方向延伸的端边平行，短轴方向Y被设定为与沿基体材料的YY方向延伸的端边平行。
实施例4的液晶显示装置230按以上方式构成，所以，该液晶显示装置230在进行反射型显示时，在图23中，从观察者侧即第2基板231b侧进入液晶显示装置230的内部的外部光通过液晶到达光反射膜231，由该反射膜231反射后再次供给液晶(参见图24的箭头F1)。液晶由加到像素电极239与条状对置电极243之间的电压即由扫描信号和数据信号按每个显示点控制其取向，这样，供给液晶的反射光按每个显示点进行调制，以此在观察者侧显示文字、数字等图像。
另一方面，液晶显示装置230在进行透过型显示时，配置在第1基板231a的外侧的照明装置(图中未示出)即所谓的背光源发光，该发光在通过偏振片233a、延迟片232a、基体材料236a、光反射膜231的开口241、滤色片242、电极243和取向膜241a之后，供给液晶(参见图24的箭头F2)。此后，与反射型显示时一样，进行显示。
并且，在实施例4中，在带光反射膜的基板的基体材料上设置具有相互重叠的圆和相互重叠的多边形或其中的某一种平面形状的多个凸部或凹部，同时实质上不改变该多个凸部或凹部的高度，在平面方向随机地排列，从而可以减少干涉条纹的发生。
另外，在实施例4中，如上所述，使多个凸部或凹部中的沿X轴线的立体形状和沿Y轴线的立体形状互不相同时，可以在将向恒定的视角方向的反射光量抑制得很低的基础上，增大向另外的特定的视角方向的反射光量。其结果是，观察者在使用光反射膜进行的反射型显示时可以将在液晶显示装置的显示区域内显示的图像作为对特定的视角方向非常明亮的显示进行观察。
实施例5.
实施例5是关于无源矩阵方式的反射型液晶显示装置的液晶显示装置，其特征在于：具有夹在基板间的液晶元件和设置在与该液晶元件的观察侧相反一侧的基板上的带光反射膜的基板，该带光反射膜的基板由基体材料和反射层构成，使在该基体材料上形成的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等，同时，使该多个凸部或凹部的平面形状成为相互重叠的圆和相互重叠的多边形或其中的某一种平面形状，并且该多个凸部或凹部在平面方向随机地排列。
下面，参照图14等具体说明实施例5中的无源矩阵方式的反射型液晶显示装置。在以下所示的各图中，使各层或各部件在图面上采用可以识别的大小，所以，对各层或各部件采用的比例尺往往不同。
1.结构
如图14所示，该液晶显示装置140是通过密封材料158将互相相向的第1基板141和第2基板142贴合在一起并将液晶144封入两基板间而构成的。此外，在该液晶显示装置141的观察侧，设置了具有光透过性的保护板145。该保护板145是用于保护该液晶显示装置140免遭来自外部的冲击等的板状构件，设置在例如安装液晶显示装置140的电子装置的框体上。另外，保护板145与液晶显示装置140中的第1基板141(观察侧的基板)的基板面接近地被设置。在实施例5中，设想为使由塑料构成的保护板145与第1基板141的结构要素中最靠近观察侧的偏振片146的表面接触。这样，利用塑料构成保护板145时，有成形容易、可以廉价地制造的优点，而缺点是在其表面容易形成微细的凹凸。
另一方面，液晶显示装置140的第1基板141和第2基板142是玻璃、石英、塑料等具有光透过性的板状构件。其中，在位于观察侧的第1基板141的内侧(液晶144侧)表面形成在指定的方向延伸的多个透明电极143。各透明电极143是由ITO(氧化铟锡)等透明导电材料形成的带状的电极。此外，形成这些透明电极143的第1基板141的表面由取向膜(图示省略)所覆盖。该取向膜是聚酰亚胺等有机薄膜，进行了用于规定未加电压时的液晶144的取向方向的摩擦处理。
2.光散射膜
在第1基板141的外铡(液晶144的相反一侧)，设置了使入射光在指定方向偏振的偏振片146和介于第1基板141与偏振片146之间的散射层147。散射层147是用于使透过该散射层147的光发生散射的层，具有用于将偏振片146粘结到第1基板141上的粘结剂148a和分散到该粘结剂148a中的大量的微粒148b。作为该散射层147，可以使用将由二氧化硅构成的微粒148b分散到例如丙烯酸类或环氧类等粘结剂148a中而成的散射层。并且，粘结剂148a的折射率与微粒148b的折射率不同，入射到该散射层147上的光在粘结剂148a与微粒148b的边界处发生折射。其结果是，可以使入射到散射层147上的光以适当散射的状态出射。
此外，实施例5中的散射层147选择分散在粘结剂148a中的微粒148b的数目和两者的折射率等，以使其霾值H在10～60％的范围内。这里，所谓霾值H，是表示入射到某一构件上的入射光在透过该构件时发生散射的程度的值，由下式定义：
霾值H＝(Td/Tt)×100％
其中，Tt是全部光线透过率(％)，Td是散射光透过率(％)。全部光线透过率Tt是表示向作为霾值H的测定对象的试料入射的入射光量中透过该试料的光量的比例的值。另一方面，散射光透过率Td是表示对试料从指定方向照射光时透过该试料的光量中向上述指定方向以外的方向出射的光量即散射光量的比例的值。即，设从试料出射的出射光量中向与入射光平行的方向出射的出射光量的比例为平行光透过率Tp(％)，则上述散射光透过率Td就由上述全部光线透过率Tt与平行光透过率Tp之差(Td＝Tt-Tp)表示。由以上所述可知，如果霾值H高，散射的程度就大，即，散射光量在透过光量中所占的比例就大，反之，如果霾值H低，则散射的程度就小，即，可以减小散射光量在透过光量中所占的比例。
对于上述霾值H，在JIS(日本工业标准)K6714～1977中有详细的描述。
3.反射层(光反射膜)
另一方面，在第2基板142的内侧(液晶144一侧)表面形成了反射层149。该反射层149是用于将从观察侧入射的光向液晶显示装置140反射的层，由例如铝或银这样的具有光反射性的金属形成。
这里，如图14所示，第2基板142的内侧表面中由反射层149所覆盖的区域是形成了大量的微细的突起和洼坑的粗糙面。更具体而言，是包含基体材料和反射层的带光反射膜的基板，是使在该基体材料的表面独立地形成的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等，同时使该多个凸部或凹部的平面形状成为相互重叠的圆和相互重叠的多边形或其中的某一种平面形状并且使多个凸部或凹部在平面方向随机地排列的反射层149。
因此，反射层149的表面成为反映了第2基板142表面的突起和洼坑的粗糙面。即，反射层149具有用于使该表面上的反射光适度地发生散射而实现宽的视角的散射结构。更具体而言，反射层149是在由多个凸部或凹部构成的基体材料上形成的、并且使在基体材料上形成的多个凸部的高度实质上相等、同时使该多个凸部或凹部的平面形状成为相互重叠的圆和相互重叠的多边形或其中的某一种平面形状、并且使多个凸部或凹部在平面方向随机地排列的结构。
4.其他结构
此外，在覆盖第2基板142的反射层149的面上，形成了滤色片150、遮光层151、用于使由滤色片150和遮光层151形成的凹凸平坦化的覆盖层157、多个透明电极154和取向膜(图示省略)。
各透明电极154是在与第1基板141上的透明电极143的延伸方向交叉的方向(图14中纸面的左右方向)延伸的带状的电极，与透明电极143一样，由ITO等透明导电材料形成。
在这样的结构中，液晶144的取向方向随加到透明电极143与透明电极154间的电压而变化。即，透明电极143与透明电极154交叉的区域具有像素(子像素)的功能。滤色片150是与这些像素分别对应地设置的树脂层，利用染料或颜料着色为R、G、B中的某一种。
另外，遮光层151是用于将各像素的间隙部分遮光的网格状的层，由例如分散了碳黑的黑色树脂材料等形成。
5.工作
利用以上说明的结构，实现反射型显示。即，太阳光或室内照明光等外光透过保护板145入射到液晶显示装置140上，在反射层149的表面反射。
该反射光透过液晶144和第1基板141，在散射层147中发生适度的散射后透过偏振片146，向液晶显示装置140的观察侧出射。并且，来自液晶显示装置140的出射光透过保护板145，为观察者所观看。
这里，如上所述，作为保护板145的材料，使用塑料时，使其表面成为完全的平面是困难的，容易形成多个微细的凹凸。这样，将形成了微细的凹凸的保护板145靠近液晶显示装置140的第1基板141配置时，来自该液晶显示装置140的出射光在透过保护板145时将发生干涉，其结果是，与该凹凸对应的干涉条纹与显示图像重叠，可招致显示品质降低。
但是，如上述实施例所示，本发明者的试验结果是，利用散射层147使通过液晶144到达保护板145的光发生散射时，可以实现高品质的显示。
另外，在图14所示的结构中，从抑制干涉条纹的发生的角度考虑，希望散射层147的霾值H高，即，希望散射的程度高。但是，如果使该霾值H太高时(例如大于70％)，从液晶显示装置140到达保护板145的光将过度散射，从而显示图像的对比度将降低，即，将发生显示图像模糊的新的问题。另一方面，如果散射层147的霾值H太低，例如小于10％时，将容易看到起因于凹凸的斑点。
本发明人的试验结果发现，由凸部或凹部形成的图形在由1点或2点定义的一个单位内不规则地排列时，最好将散射层147的霾值H设定为40％～60％范围内的值，这样，既可以避免显示图像的对比度显著降低，又可以有效地抑制起因于保护板145的表面的凹凸的显示品质降低，从而可以确保良好的显示品质。
另外，由凸部或凹部形成的图形在由3点以上定义的一个单位内不规则地排列时，通过将散射层147的霾值H设定为10％～40％范围内的值，可以提高对比度。
如实施例5所示，使用将微粒148b分散到粘结剂148a中的散射层147时，通过调节例如微粒148b的添加量(数量)，可以任意选定霾值H。
即，如果增加分散到粘结剂148a中的微粒148b的添加量，则向该散射层147入射的入射光将引起散射，所以，可以提高该散射层147的霾值H，反之，如果减少微粒的添加量，就可以降低散射层147的霾值H。
另外，按照实施例5，具有可以在很宽的范围内容易地选定从液晶显示装置140出射的光的散射程度的优点。即，在不具有上述散射层147的液晶显示装置中，为了调节从液晶显示装置140出射的光的散射程度，必须调节反射层149的表面的形状例如凸部的高度或凹部的深度或者相邻的凸部(或凹部)间的距离等。
但是，考虑到在第2基板142上形成所希望的凹凸的制造技术上的问题等，要使反射层149的表面正确地成为所希望的形状未必是很容易的。此外，仅通过调节反射层149表面的形状所能调节从液晶显示装置140出射的光的散射程度的幅度将限定在非常窄的范围内。
与此相对照，按照本实施例，即使不大幅度地变更反射层149的表面的形状，通过变更散射层147的霾值H，例如通过适当地调节分散到粘结剂148a中的微粒148b的添加量等，就具有可以在很宽的范围内容易地调节从液晶显示装置140出射的光的散射的程度的优点。
实施例6.
实施例6是具有夹在基板间的液晶元件和设置在与该液晶元件的观察侧相反一侧的基板上的带光反射膜的基板的无源矩阵方式的半透过反射型液晶显示装置，其特征在于：该带光反射膜的基板由基体材料和反射层构成，使在该基体材料上形成的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等，同时，使该多个凸部或凹部的平面形状成为相互重叠的圆和相互重叠的多边形或其中的某一种平面形状，并且该多个凸部或凹部在平面方向随机地排列。
因此，参照图15具体说明实施例6的无源矩阵方式的半透过反射型液晶显示装置。
1.基本结构
如图15所示，在实施例6中，在液晶显示装置160的背面侧(观察侧的相反一侧)配置了背光源单元153。该背光源单元153具有起光源作用的多个LED15(在图15中仅图示了1个LED15)、将入射到侧端面上的LED15的光向液晶显示装置160中的第2基板142的整个面上导引的导光板152、将由该导光板152导引的光向液晶显示装置160均匀地漫射的漫射板155和将从导光板152向与液晶显示装置160相反一侧出射的光对液晶显示装置160侧反射的反射板156。
这里，LED15不是总在点亮，而是在外光几乎不存在的环境中使用时根据用户的指示或来自传感器的检测信号点亮。
此外，在实施例6的液晶显示装置160中，在反射层149中与各像素的中央部附近对应的区域形成开口部159。另外，在第2基板142的外侧(液晶144的相反一侧)粘贴着另外的偏振片，但在图15中省略了该偏振片。
2.工作
按照这样构成的液晶显示装置160，除了在上述实施例5中所示的反射型显示外，还可以实现透过型显示。即，从背光源单元153向液晶显示装置160照射的光通过反射层149的开口部159。该光透过液晶144和第1基板141，在散射层147中发生散射后，透过偏振片146向液晶显示装置160的观察侧出射。并且，利用该出射光透过保护板145向观察侧出射，实现透过型显示。
因此，在本实施例中，与上述实施例5一样，即使靠近液晶显示装置160设置在表面形成了微细的凹凸的保护板145，也可以抑制由该凹凸引起的显示品质的降低。
实施例7.
实施例7是具有夹在基板间的液晶元件和设置在与该液晶元件的观察侧相反一侧的基板上的带光反射膜的基板的液晶显示装置的变例，该带光反射膜的基板由基体材料和反射层构成，使在该基体材料上形成的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等，同时，使该多个凸部或凹部的平面形状成为相互重叠的圆和相互重叠的多边形或其中的某一种平面形状，并且该多个凸部或凹部在平面方向随机地排列。
(1)变例1
在上述各实施例中，采用将散射层147设置在第1基板141与偏振片146之间的结构，但是，散射层147的位置不限于此。例如，将用于补偿干涉色的延迟片设置在偏振片146与第1基板141之间时，可以将散射层147插入到该延迟片与第1基板141之间，或者，也可以将散射层147插入到延迟片与偏振片146之间。总之，相对于液晶144，只要将散射层147设置在保护板145侧即可。
另外，在上述各实施例中，使用了其结构为将大量的微粒148b分散到粘结剂148a中的散射层147，但是，散射层147的结构不限于此，只要是可以使入射光发生散射的层即可，可以是任何结构。不过，在使用包含粘结剂148a的散射层147时，可以利用该粘结剂148a将夹持该散射层147的构件例如上述各实施例中的第1基板141与偏振片146彼此之间粘结起来，所以，与使用不包含粘结剂148a的散射层147的情况相比，具有可以降低制造成本和简化制造工序的优点。
(2)变例2
在上述实施例5中，例示的是反射型液晶显示装置，在实施例6中例示的是半透过反射型液晶显示装置，但是，也可以将本发明应用于不具有反射层149而仅进行透过型显示的透过型液晶显示装置。即，在透过型液晶显示装置中，可以采用除了图15所示的半透过反射型液晶显示装置中的反射层149的结构。
另外，在上述实施例4中，采用了利用具有开口部159的反射层149实现反射型显示和透过型显示两者的结构，但是，对于使用使照射的光中的一部分透过而使另一部分反射的所谓的半反射镜来取代这样的反射层149的半透过反射型液晶显示装置，也可以应用本发明。
(3)变例3
在上述各实施例中，例示了作为保护板145使用塑料的板状构件的情况。由于在这样的保护板145的表面容易形成凹凸，所以，通过应用本发明，可以获得特别显著的效果。但是，保护板145的材料不限于此，也可以使用其他各种各样的材料的板状构件作为保护板145。
(4)变例4
在上述各实施例中，例示了在第2基板142上形成滤色片150和遮光层151的情况，但是，对于在第1基板141上形成这些要素的结构的液晶显示装置或不具备滤色片150或遮光层151的液晶显示装置，当然也可以应用本发明。这样，只要是靠近观察侧设置保护板145的液晶显示装置160，不论其他要素的形态如何，都可以应用本发明。
(5)变例5
在上述实施例4中，例示了作为有源元件使用2端子型的有源元件TFD的有源矩阵方式的液晶显示装置，但是，如图13所示，也可以是作为有源元件使用3端子型的有源元件TFT的有源矩阵方式的液晶显示装置。这时，如图13所示，最好将TFT元件设置在遮光区域。
实施例8.
实施例8是包括具有带光反射膜的基板的液晶显示装置的电子装置，其特征在于：带光反射膜的基板由基体材料和反射层构成，使在该基体材料上形成的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等，同时，使该多个凸部或凹部的平面形状成为相互重叠的圆和相互重叠的多边形或其中的某一平面形状，并且使该多个凸部或凹部在平面方向随机地排列。
(1)移动型计算机
首先，说明将本发明的液晶显示装置应用于移动型的个人计算机(所谓的笔记本型个人计算机)的显示部的例子。图16是表示该个人计算机的结构的斜视图。如该图所示，个人计算机161具有包括键盘162的主机部163和使用本发明的液晶显示装置(图示省略)的显示部164。显示部164是将本发明的液晶显示装置160收容到与窗口部165对应地设置了塑料的保护板145的框体166中而构成。更详细而言，就是液晶显示装置160被收容到框体166中，使得其观察侧的基板面靠近保护板145。在这样的个人计算机161中，即使在外光不充分的状况下，也应确保显示的可视性，所以，最好如上述实施例6所示的那样，使用在背面侧具有背光源单元153的半透过反射型液晶显示装置。
(2)移动电话机
下面，说明将本发明的液晶显示装置应用于移动电话机的显示部的例子。图17是表示该移动电话机的结构的斜视图。如该图所示，移动电话机170除了多个操作按钮171外，还具有受话口172、送话口173和使用本发明的液晶显示装置(图示省略)的显示部174。在该移动电话机170中，本发明的液晶显示装置被收容到与窗口部174b对应地设置了塑料的保护板175的框体176中。在移动电话机170中，与上述个人计算机一样，液晶显示装置被收容到框体176中，使得其观察侧的基板面靠近保护板175。
作为可以应用本发明的液晶显示装置的电子装置，除了图16所示的个人计算机和图17所示的移动电话机外，还有液晶电视机、取景器型和监视器直视型录像机、汽车导行装置、传呼机、电子记事簿、计算器、文字处理器、工作站、电视电话机、POS终端、具有触摸屏的装置等。
如上所述，按照本发明的液晶显示装置，将表面具有微细的凹凸的保护板靠近该液晶显示装置的基板面设置时，也可以抑制由该凹凸引起的显示品质的降低。因此，通过不影响显示品质而将保护板靠近液晶显示装置设置，可以实现电子装置的薄型化乃至小型化。
其他结构
按照设置本发明的带光反射膜的基板的液晶显示装置和具有带光反射膜的基板的电子装置，将表面具有微细的凹凸的保护板靠近而设置时，也可以抑制由该凹凸引起的显示品质的降低。
这样的效果在上述液晶显示装置和电子装置的结构中也可以得到，但是，利用以下的结构也可以实现。
(1)是在互相相向的一对基板间具有液晶而在一对基板中靠近观察侧的基板的基板面设置保护板的液晶显示装置，其特征在于：具有为了使透过的光发生散射而设置的、相对于液晶设置在保护板侧的散射层和相对于上述液晶设置在与观察侧相反一侧的、表面形成多个凹凸的反射层。
(2)是上述(1)所述的液晶显示装置，其特征在于：散射层的霾值大于10％、小于60％。
(3)是上述(1)或(2)所述的液晶显示装置，其特征在于：反射层具有使光通过的开口部。
(4)是在互相相向的一对基板间具有液晶而在一对基板中靠近观察侧的基板的基板面设置保护板的液晶显示装置，其特征在于：具有相对于液晶设置在保护板侧的使透过的光发生散射的散射层，该散射层的霾值大于10％、小于60％。
(5)是上述(1)～(4)的任一项所述的液晶显示装置，其特征在于：散射层设置在配置于观察侧的基板上的偏振片与该观察侧的基板之间。
(6)是上述(1)～(5)的任一项所述的液晶显示装置，其特征在于：散射层是将多个微粒分散到粘结剂中而形成的。
(7)是电子装置，其特征在于：具有上述(1)～(6)的任一项所述的液晶显示装置和靠近液晶显示装置中观察侧的基板的基板面的保护板。
如上所述，按照本发明的掩模和由它得到的带光反射膜的基板，利用光透过部或光不透过部或者多个凸部或凹部分别具有特定的随机图形，使设计和制造都变得容易，在具有多个凸部或凹部的基体材料上可以形成平坦部少的具有平滑的斜面的反射层，在应用于液晶显示装置等中时，可以有效地抑制干涉条纹的发生。
另外，按照本发明的掩模，由于重复使用信息量少的图形，所以，不用说小型的液晶显示装置等，即使是大型的液晶显示装置等，也可以容易而迅速地设计可以得到干涉条纹的发生少的带光反射膜的基板的掩模。
另外，按照设置本发明的带光反射膜的基板的电光装置和电子装置，可以减少干涉条纹的发生，同时设计和制造也变得容易。另外，按照设置本发明的带光反射膜的基板的电光装置和电子装置，通过与光散射膜组合，可以有效地抑制使带光反射膜的基板上的多个凸部或凹部形成随机图形时发生的不定形的斑点图样。
此外，按照设置本发明的带光反射膜的基板的电光装置和具有带光反射膜的基板的电子装置，将表面具有微细的凹凸的保护板靠近而设置时，也可以抑制由该凹凸引起的显示品质的降低。
本发明的带光反射膜的基板、电光装置和电子装置除了在实施例中说明过的液晶显示装置等外，也可以良好地应用于利用电泳的显示设备等。

Claims (33)

1.一种用于在具有多个点区域的基板上形成图形的掩模，其特征在于：
具有可以透过入射光的光透过部和实质上不使光透过的光不透过部，
上述光透过部或光不透过部具有指定形状，该指定形状之间一部分相互重叠。
2.如权利要求1所述的掩模，其特征在于：
上述光透过部或光不透过部的直径采用3～15μm范围内的值。
3.如权利要求1所述的掩模，其特征在于：
具有直径各不相同的多个上述光透过部或直径各不相同的光不透过部。
4.一种用于在具有多个点区域的基板上形成图形的掩模，其特征在于：
具有可以透过入射光的光透过部和实质上不使光透过的光不透过部，
上述光透过部或光不透过部具有指定形状，该指定形状之间一部分相互重叠，
由上述光透过部或光不透过部形成的图形以多个点部分为1个单位而形成，同时，在该1个单位内包含对称的部位。
5.一种在具有多个点区域的基板上形成光反射膜的带光反射膜的基板，其特征在于：
具有包含凸部或凹部的光反射膜，
上述凸部或凹部具有指定形状，同时，该指定形状之间一部分相互重叠。
6.如权利要求5所述的带光反射膜的基板，其特征在于：
上述凸部的高度或凹部的深度在面内实质上是相等的。
7.如权利要求5所述的带光反射膜的基板，其特征在于：
上述多个凸部或凹部的直径采用3～15μm范围内的值。
8.如权利要求5所述的带光反射膜的基板，其特征在于：
上述多个凸部或凹部的间隔采用2～30μm范围内的值。
9.如权利要求5所述的带光反射膜的基板，其特征在于：
上述多个凸部的高度或凹部的深度采用0.1～10μm范围内的值。
10.如权利要求5所述的带光反射膜的基板，其特征在于：
由上述多个点定义的单位少于上述点区域的数目并且包含多个上述单位。
11.如权利要求5所述的带光反射膜的基板，其特征在于：
具有直径各不相同的多个上述凸部或直径各不相同的多个上述凹部。
12.如权利要求5所述的带光反射膜的基板，其特征在于：
由上述凸部或凹部形成的图形以多个点部分为1个单位而形成，并且在其单位内包含对称的部位。
13.一种具有多个点区域的电光装置，其特征在于：
具有形成包含凸部或凹部的光反射膜的基板和由上述基板支撑的电光层，
上述凸部或凹部具有指定形状，同时，该指定形状之间一部分相互重叠。
14.如权利要求13所述的电光装置，其特征在于：
上述凸部的高度或凹部的深度在面内实质上是相等的。
15.如权利要求13所述的电光装置，其特征在于：
由上述多个点定义的单位少于上述点区域的数目并且包含多个上述单位。
16.如权利要求13所述的电光装置，其特征在于：
由与多个点对应地设置的原色各不相同的多个着色层和与它们对应的多个点形成1个像素，在上述1个单位内至少对应1个像素而成。
17.如权利要求13所述的电光装置，其特征在于：
由上述凸部或凹部形成的图形以多个点部分为1个单位而形成，并且在其单位内包含对称的部位。
18.如权利要求17所述的电光装置，其特征在于：
由与多个点对应地设置的原色各不相同的多个着色层和与它们对应的多个点形成1个像素，在上述1个单位内至少对应1个像素而成。
19.一种电光装置，其特征在于：
具有电光层、配置在上述电光层的一侧的光散射膜和配置在上述电光层的另一侧的光反射膜，
在上述光反射膜上形成不规则地排列的凸部或凹部，凸部或凹部具有指定形状，同时，该指定形状之间一部分相互重叠。
20.如权利要求19所述的电光装置，其特征在于：
上述光散射膜的霾值大于10％、小于60％。
21.如权利要求19所述的电光装置，其特征在于：
具有多个点区域，
由上述凸部或上述凹部形成的图形在由1个点或2个点定义的1个单位内不规则地排列，
上述光散射膜的霾值采用40～60％范围内的值。
22.如权利要求21所述的电光装置，其特征在于：
由多个点区域和与它们对应地设置的原色各不相同的多个着色层形成1个像素，在上述1个单位内至少对应上述1个像素而成。
23.如权利要求19所述的电光装置，其特征在于：
具有多个点区域，
由上述凸部或凹部形成的图形在包含3个以上的点的1个单位内不规则地排列，
上述光散射膜的霾值大于10％、小于40％。
24.如权利要求19所述的电光装置，其特征在于：
具有配置在上述一侧的保护板。
25.一种包含电光装置作为显示部的电子装置，其特征在于：
采用权利要求13所述的电光装置作为上述电光装置。
26.一种包含电光装置作为显示部的电子装置，其特征在于：
采用权利要求17所述的电光装置作为上述电光装置。
27.一种包含电光装置作为显示部的电子装置，其特征在于：
采用权利要求19所述的电光装置作为上述电光装置。
28.一种在具有多个点区域的基体材料上形成光反射膜的方法，其特征在于：
包括将感光材料涂布到基体材料上的工序、将上述感光材料曝光的工序、在上述曝光后的感光材料上形成凹凸的工序和在上述凹凸上形成光反射膜的工序，
上述凹凸具有指定形状，同时，该指定形状之间一部分相互重叠。
29.如权利要求28所述的形成光反射膜的方法，其特征在于：
上述凹凸的图形是以多个点部分为1个单位并且在该单位内包含对称的部位而形成的。
30.一种电光装置的制造方法，其特征在于：
将权利要求28所述的光反射膜的形成方法作为工序包含在其中。
31.一种电光装置的制造方法，其特征在于：
将权利要求29所述的光反射膜的形成方法作为工序包含在其中。
32.一种电光装置，在第1基板和第2基板之间夹持有电光层，同时具有多个点区域，并且相对于第2基板，保护板被靠近配置，其特征在于：
上述第1基板形成具有在上述点区域中随机排列而成的多个凸部或多个凹部的光反射膜，
上述凸部或凹部具有指定形状，同时，上述点区域中的上述多个凸部或多个凹部中一部分的凸部或凹部的上述指定形状之间一部分相互重叠。
33.如权利要求32所述的电光装置，其特征在于：
由上述凸部或凹部形成的图形以多个点部分为1个单位而形成，并且邻接的上述图形变为对称。
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