CN1194247C - 液晶器件、液晶器件的制造方法和电子装置 - Google Patents

Abstract

本发明的课题是，即使在半透射半反射膜发生位置偏离的场合，抑制光透过区和光反射区之间产生面积比率的分散性，防止在液晶面板的显示品质方面产生分散性。液晶器件1系在第1基板2和第2基板3之间配置液晶23而成。该液晶器件1包括在第1基板2上形成的反射性导电膜18，层叠在反射性导电膜18上、并且边缘部分34与基底膜35或第1基板2相接触的透光性金属氧化物膜19，以及从第1基板2的外侧向液晶23照射光的照明装置25。由于存在反射性导电膜18周围的边缘部分34，所以即使反射性导电膜18向横向发生位置偏离，对反射有贡献的光反射区的面积也不发生变化。

Description

液晶器件、液晶器件的制造方法和电子装置

技术领域

本发明涉及液晶器件及其制造方法，以及用该液晶器件构成的电子装置。

背景技术

近年来，作为移动电话、便携式信息终端机、手表等电子装置的显示部，液晶器件得到了广泛的应用。作为例子，这些液晶器件具有呈矩阵状排列的多个显示点，并且通过对这些显示点的每一个，控制施加在液晶上的电压，对每个显示点调制通过该液晶的光，据此向外部显示文字、数字、图形等图像。

已知在上述构成的液晶器件中，依据对液晶的供光方式，存在反射型液晶器件和透射型液晶器件。这里，反射型液晶器件是利用从观察侧向液晶器件入射后被液晶的背侧反射的光进行显示的结构的液晶器件。另一方面，透射型液晶器件是利用来自配置在液晶背侧的照明装置的光进行显示的结构的液晶器件。

上述反射型液晶器件，因无背光等的照明装置，故耗电少，一直以来多用于各种电子装置的显示部。但是，该反射型液晶器件因用自然光或照明光等外部光进行显示，所以存在在暗处难以看到显示的问题。

于是，提出了在亮处与反射型液晶器件一样利用外部光，而在暗处可以靠内部光源看到显示的这种形态的液晶器件。

也就是说，该液晶器件是采用兼具反射型和透射型的显示方式，根据周围的明亮度切换为反射显示和透射显示中的某一种显示方式，从而既减少功耗又可以在周围变暗的情况下进行清楚的显示的液晶器件。下面在本说明书中称这种液晶器件为半透射半反射型液晶器件。

作为该半透射半反射型液晶器件，已知以往存在具有半透射半反射膜、所谓的半透射镜的产品。该半透射半反射膜是通过将在通常的光学领域作反射膜用的铝之类的金属膜的膜厚做到最适当，使其在一定程度上透过光的同时又在一定程度上反射光。但是，为形成半透射半反射膜，需要掩蔽溅射等成膜技术，除了工序复杂外，膜厚的分散性也大，因而存在透射率和反射率的分散性增大的缺点。

于是，为克服上述半透射半反射膜的缺点，提出了在反射膜上形成透光用的狭缝，即开口的结构的液晶器件。图6示出了作为这种结构的液晶器件之一例的简单矩阵式的半透射半反射型彩色液晶器件。在该液晶器件70中，液晶73被夹持在一对透明基板71、72之间。在下基板71的液晶侧表面上依次层叠反射膜74、滤色片75、外覆膜76、氧化硅膜77和段电极78。另外，在上基板72的液晶侧表面上形成公用电极79。

在下基板71上形成的滤色片75具有红(R)、绿(G)、蓝(B)不同颜色的色素层75r、75g、75b，这些色素层从箭头A方向观察在平面上以一定的图形，例如条形进行排列。另外，段电极78用ITO(Indium Tin Oxide：氧化铟锡)等透明导电膜从箭头A方向观察形成为条形。另一方面，在上基板72上形成的公用电极79由ITO等透明导电膜形成，在与上述段电极78正交的方向上形成为条形。

在下基板71上形成的反射膜74用铝等反射率高的金属膜形成。然后在该反射膜74上对每个显示点形成透光用的狭缝80。另外，在上下基板71、72的外侧配置偏振片82a和82b，进而在下基板71的下表面一侧，即观察侧的背面一侧配置背光等照明装置83。

在明亮的场所以反射显示状态使用上述结构的液晶显示器件70时，如箭头R所示，从上基板72入射的外部光透过液晶73在反射膜74的表面反射后再次透过液晶73，然后从上基板72侧出射。另一方面，在阴暗的场所以透射显示状态使用时，从设置在下基板71的外侧的照明装置83出射的光在狭缝80的部分透过反射膜74，然后透过液晶73从上基板72一侧出射。这些光对各显示状态下的显示作出贡献。

可是，在上述那样的半透射半反射型液晶器件中，虽然以往一直用铝等金属膜作为反射膜，但近年来得到了更为明亮的画面，为此使用了反射率比铝高的合金APC，即银·钯·铜(Ag-Pd-Cu)合金。

然而APC在制造工艺中有耐水性差的性质，已形成了图形的APC因电离溶解而产生的电迁移和由此形成的电蚀(腐蚀)使得在可靠性方面存在问题。这样，A PC难以单独使用，因而提出了在APC的上层或下层层叠ITO以形成叠层膜，用该叠层膜作为半透射半反射膜的方案。

图7示出了一例这样的在由APC和ITO的叠层膜形成的反射电极上设置透光用狭缝的结构的半透射半反射型彩色液晶器件。在该液晶器件60的例子中，液晶63被夹持在一对透明基板61、62之间。在下基板61的液晶侧表面上，由具有狭缝64的APC膜65和在其上形成的ITO膜66构成的叠层结构的段电极67，从箭头A方向看形成为条形。还在段电极67上形成了取向膜68。

另一方面，在上基板62上依次形成由R、G、B的色素层59r、59g、59b构成的滤色片59、外覆膜58、由ITO膜构成的从箭头A方向看呈条形的公用电极57和取向膜56。另外，在上下基板61、62的外侧表面上配置偏振片82a和82b，还在下基板61的下表面一侧，即观察侧的背面一侧配置背光等照明装置83。

在以上的结构中，下基板61上的APC膜65和ITO膜66的叠层膜在具有作为半透射半反射层的功能的同时，还具有作为液晶驱动用电极的功能，因此，在下基板61上不能形成滤色片，滤色片59形成在上基板62之上。

另外，APC不仅反射率高，而且具有比ITO等电阻率低的特性，因此也适合于作为电极材料或布线材料。特别是与ITO相比时，ITO的电阻率为2×10^-4Ωm，而APC的电阻率为3.9×10^-6Ωm，只有其约1/50的值。亦即，若假定膜厚相同，为得到相同的电阻值，APC布线的布线宽度为ITO布线宽度的1/50就可以了。

因此，在电极和驱动用IC之间的迂回布线中使用APC的图7的液晶器件与迂回布线中使用ITO的图6的液晶器件相比，实现了迂回布线的微细化，故而有效显示区周围的非显示区、所谓边框区的面积可以减小，即窄边框化。特别是由于窄边框化了的液晶器件可以被装入内置该液晶器件的电子装置的壳体内的有限空间，而且相对于该液晶器件在电子装置内占据的占有面积，可显示的信息量增多，所以用于移动电话等便携式小型电子装置是很合适的。

但是，在图7所示的现有液晶器件中，如反复使用，就可能会发生因构成段电极67和迂回布线的APC产生电迁移，使电极和布线变细，或者有时断线等不良现象，因而存在可靠性低的问题。

为消除此问题，虽尚非众所周知，本申请人提出了图8和图9所示的结构的液晶器件。在这些图中，对与图7所示的液晶器件60中使用的构件相同构件标以相同的编号表示，对这些构件的说明从略。在图8和图9所示的液晶器件中，ITO膜66覆盖了构成段电极67的APC膜65的全部上表面和侧面。另外，ITO膜53覆盖了构成布线55的APC膜54的全部上表面和侧面。在图8和图9中，符号52表示黑掩模，符号51表示形成在显示区周围的遮光层。

如以上所述，若用ITO膜覆盖APC膜的全部表面，即使在电极和布线用APC形成的场合，也能防止在APC上发生电迁移，故而能够形成可靠性高的半透射半反射型液晶器件。

可是，在上述液晶器件中，在图9的背面一侧基板61上形成的反射膜65的内部区域内，对应于各显示点设置开口，即狭缝64，同时在液晶器件的背面一侧设置照明装置83。据此结构，使从照明装置83射出并入射至背面一侧的基板61的光通过设置在反射膜65上的狭缝64向观察一侧出射，从而实现了透射型显示。

在这种液晶器件中，由于在形成反射层65的工序，或使一对基板61、62贴合的工序等各种工序中发生的误差，会产生为进行反射型显示使光反射的区域的面积和为进行透射型显示使光透过的区域的面积的比率与预期的比率，即设计上的比率不相同的情况。于是，例如在使光透过的区域的面积比预期的面积小，而使光反射的区域的面积比预期的面积大的场合，出现进行透射型显示时的明亮度比进行反射型显示时的要发暗的情况，存在随显示方式而显示品质产生分散性的问题。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而进行的，其目的在于：即使在制造液晶器件时产生各种误差的情况下，也能抑制半透射半反射膜中的光透过区和光反射区之间的面积比率的分散性的发生，由此，即使在液晶器件的显示方式变化的场合，也不产生显示品质的分散性。

(1)为达到上述目的，本发明的第1液晶器件，由在第1基板和第2基板之间配置液晶而构成，其特征在于：包括多个显示点；在上述第1基板上形成的反射性导电膜；层叠在该反射性导电膜上、且边沿部分与上述第1基板相接触的透光性金属氧化物膜；在第2基板上形成的墨掩模；以及从上述第1基板的外侧向上述液晶照射光的照明装置；上述边缘部分构成光透射区域，上述反射性导电膜构成光反射区域；上述黑掩模与邻接的多个显示点的间隔相对而配置。

在该液晶器件中，从上述照明装置向液晶供给光时，该光中到达上述透光性的金属氧化物膜，例如ITO膜的边缘部分的光透过该边缘部分到达液晶，根据该液晶的取向而被调制。

于是由此实现了透射型显示。在这种结构的液晶器件中，不是通过在反射膜内部区域形成的开口，即狭缝进行透射显示，而是利用在金属氧化物膜的边缘部分形成的光透过区进行透射型显示。

据此结构，在反射性导电膜对金属氧化物膜的边缘部分的延展区域向横向偏离的误差发生的场合，只要该误差在边缘部分的宽度尺寸以内，1个显示点区域内的光透过区的面积与光反射区的面积的比例就不发生变化。因此，即使在液晶器件的显示方式变化的场合，也能防止显示品质分散性的产生。

(2)其次，本发明的第2液晶器件的特征在于：在第1基板和第2基板之间配置液晶而成的液晶器件中，包括设置在上述第1基板上的基底膜，形成在该基底膜上的反射性导电膜，层叠在该反射性导电膜上、且边缘部分与上述基底膜相接触的透光性金属氧化物膜，以及从上述第1基板的外侧向上述液晶照射光的照明装置。

此第2液晶器件与上述第1液晶器件的不同点是在反射性导电膜之下形成基底膜，金属氧化物膜的边缘部分不与第1基板接触，而是与上述基底膜接触。在设置基底膜的本结构的液晶器件中，由于能够借助于金属氧化物膜更加可靠地为反射性导电膜遮挡住外部环境，所以能够更加可靠地防止反射性导电膜上的电迁移等故障的发生。

(3)在上述结构的各液晶器件中，与上述第1基板接触的上述边缘部分或者与上述基底膜接触的上述边缘部分可以构成半透射半反射型液晶显示的1个显示点内的透光部。这里，所谓“1个显示点”系指在显示区内显示文字、数字等图像时的最小限度的显示单位，具体而言，在用R(红)、G(绿)、B(蓝)3原色或C(深蓝)、M(深红)、Y(黄)3原色进行彩色显示的场合，为对应于R、G、B等各色素膜之1的点区，在单色显示的场合，为一对电极相互重合的像素区。另外，在用R、G、B等3原色进行彩色显示的场合，与该各色对应的3个显示点合在一起形成1个像素。

另外，在上述结构的液晶器件中，上述基底膜可以含金属氧化物。作为金属氧化物，例如可以采用ITO。

另外，在上述结构的液晶器件中，可以在上述反射性导电膜的上表面设置反射蓝色成分的光的反射层。在用APC作为反射性导电膜的场合，有时相当于被该APC反射的光中的蓝色成分的波长的光反射较弱。与此相关，如果在反射性导电膜的上表面设置反射蓝色成分的光的反射层，可以补偿显示画面的蓝色成分的减少。

其次，在上述结构的液晶器件中，上述反射性导电膜和上述金属氧化物膜可以构成用于对上述液晶施加电压的第1电极。据此结构，由于电极兼用作光反射膜，所以与在电极之外另形成光反射膜的场合相比，液晶器件的结构简单，同时可以简单地制造液晶器件。

其次，在上述结构的液晶器件中，可以具有与上述第1电极相向，在上述第2基板上形成的第2电极以及对应于上述第1电极和第2电极的交叉区设置了的着色层。据此可以用液晶器件进行彩色显示。于是，即使在显示方式在反射型和透射型等之间变化的场合，也能防止彩色显示的显示品质发生变化。还有，在着色层含R、G、B或C、M、Y三原色的场合，可以进行彩色显示。

其次，本发明的液晶器件可以构成为简单矩阵方式的液晶器件，这时相互交叉的条形电极在它们一对基板的每一个上形成。另外，本发明的液晶器件也可以构成为有源矩阵方式的液晶器件，这时，上述第1电极构成为点状电极。

其次，在上述结构的液晶器件中，可具有与上述第1电极相向、在上述第2基板上形成的第2电极，与上述第1电极相连接的布线以及与上述第2电极相连接的布线。于是，在这种结构的场合，可以用如下方式构成：显示区由上述第1电极和上述第2电极的交叉区的集合形成，与上述第1电极相连接的布线以及与上述第2电极相连接的布线存在于上述显示区的外侧，上述布线中的至少一方由金属氧化物形成，不含反射性导电膜。

一般地说，布线多在显示区以外的区域，即不存在液晶的区域形成。这时，若假定布线中含有APC等反射性导电膜，在该APC上发生电迁移的可能性就增高。与此相对照，若处理成在布线中不含反射性导电膜，则可以防止电迁移发生的可能性增高。

其次，在上述结构的液晶器件中，上述反射性导电膜可以用银单质或含银的合金形成。作为含银的合金可以考虑银·钯·铜合金APC。若用这些材料形成反射性导电膜，可以得到高的光反射率，进而与仅使用ITO等金属氧化物膜的场合相比，可以达到显著的低电阻化。

其次，在上述结构的液晶器件中，上述金属氧化物膜可由ITO形成，通过用该金属氧化物膜覆盖反射性导电膜，就能够可靠地防止该反射性导电膜发生变质。

其次，在上述结构的液晶器件中，与上述第1基板或上述基底膜相接触的上述边缘部分的面积希望为该边缘部分所属的1个显示点的面积的10～70％，最好是30～50％。根据发明人的实验，通过将边缘部分面积的比例作如上的设定，可以可靠地防止在反射型显示和透射型显示之间显示品质有大的变化。

(4)其次，本发明的第1液晶器件的制造方法，用于制备在第1基板和第2基板之间配置液晶而构成的具有多个显示点的液晶器件，其特征在于，包括在上述第1基板上形成反射性导电膜的工序；在上述反射性导电膜上形成边沿部分与上述第1基板相接触的透光性金属氧化物膜的工序；在上述第2基板上形成黑掩模的工序；以及在上述第1基板的外侧设置照射光的照明装置的工序；上述边缘部分构成光透射区域，上述反射性导电膜构成光反射区域；上述黑掩模与邻接多个显示点的间隔相对而配置。根据这种结构的液晶器件的制造方法，可以可靠地制造以上所述结构的液晶器件。

(5)其次，本发明的第2液晶器件的制造方法，用于制造在第1基板和第2基板之间配置液晶而构成的液晶器件，其特征在于，包括在上述第1基板上形成基底膜的工序；在该基底膜上形成反射性导电膜的工序；在上述反射性导电膜上形成边沿部分与上述基底膜相接触的透光性金属氧化物膜的工序；以及在上述第1基板的外侧设置照射光的照明装置的工序。根据这种结构的液晶器件的制造方法，可以可靠地制造以上所述结构的液晶器件。

该第2液晶器件的制造方法与上述第1液晶器件的制造方法的不同点是在反射性导电膜之下形成基底膜，金属氧化物膜的边缘部分不与第1基板接触，而是与上述基底膜接触。如设置基底膜，则由于能够借助于金属氧化物膜更加可靠地为反射性导电膜遮挡住外部环境，所以能够更加可靠地防止反射性导电膜上的电迁移等故障的发生。

(6)其次，本发明的电子装置的特征是用以上所述结构的液晶器件构成。依据此电子装置，即使在液晶器件的显示方式发生变化的场合，例如显示方式在反射型显示和透射型显示之间发生变化的场合，也能够防止显示品质产生分散性。

附图说明

图1是示出本发明的液晶器件的一个实施例的平面图。

图2是示出沿图1之I-I线的液晶器件的剖面结构的侧面剖面图。

图3是示出图1之液晶器件的主要部分的平面结构的平面图。

图4是示出与图3相同部分中的其他结构要素的平面图。

图5是示出本发明液晶器件的另一实施例之主要部分的剖面结构的剖面图。

图6是示出一例现有的液晶器件之剖面结构的剖面图。

图7是示出另一例现有的液晶器件之剖面结构的剖面图。

图8是示出对本发明作为参考的液晶器件的主要部分的平面图。

图9是沿图8之III-III线的剖面图。

图10是示出本发明液晶器件的又一实施例的斜视图。

图11是示出图10所示液晶器件之主要部分的剖面结构的剖面图。

图12是示出图10所示液晶器件之主要部分的平面结构的平面图。

图13是示出图10所示液晶器件之其他主要部分的剖面结构的剖面图。

图14是示出图10所示液晶器件之其他主要部分的平面结构的平面图。

图15是示出图11所示液晶器件之制造方法的一个实施例的工序图。

图16是说明图10所示液晶器件中使用的反射性导电膜之特性的曲线图。

图17是示出本发明液晶器件的又一实施例的斜视图。

图18是示出图17所示液晶器件之主要部分的平面结构的平面图。

图19是示出本发明液晶器件的又一实施例的斜视图。

图20示出本发明液晶器件的又一实施例的主要部分的剖面结构的剖面图。

图21是示出图20所示液晶器件之其他主要部分的剖面结构的剖面图。

图22是示出图20所示液晶器件之制造方法的一个实施例的工序图。

图23是示出本发明液晶器件的又一实施例的主要部分的平面结构的平面图。

图24是沿图23的II-II线的剖面图。

图25是示出用于制造图24的元件结构的制造方法之一例的工序图。

图26是接续图25的工序图。

图27是接续图26的工序图。

图28是示出本发明的液晶器件的又一实施例的主要部分的平面结构的平面图。

图29是将图28的一部分放大示出，同时还示出图28中未示出的其他结构要素的平面图。

图30是说明与图29所示技术有关的技术的平面图。

图31是说明图29所示技术之功能的平面图。

图32是示出本发明的液晶器件的又一实施例的主要部分的平面结构的平面图。

图33是示出本发明的液晶器件的又一实施例的主要部分的平面结构的平面图。

图34是示出本发明的液晶器件的又一实施例的主要部分的剖面结构的剖面图。

图35是图34所示结构的平面图。

图36是示出具有图34所示剖面结构的液晶器件的整体外观的斜视图。

图37是示出本发明的电子装置的一个实施例的斜视图。

图38是示出本发明的电子装置的另一实施例的斜视图。

图39是示出本发明的电子装置的又一实施例的斜视图。

图40是示出本发明的电子装置的又一实施例的斜视图。

具体实施方式

(液晶器件的第1实施例)

图1示出了本发明的液晶器件的一个实施例。该实施例是将本发明应用于以简单矩阵方式的、COG(Chip On Glass，芯片在玻璃上)方式的、可进行彩色显示的液晶器件的场合的实施例。另外，图2示出了沿图1的I-I线的液晶器件的剖面结构。另外，图3示出了图1所示液晶器件的1个像素部分的电极的平面结构。另外，图4示出了图1所示液晶器件的1个像素部分的反射性导电膜和滤色片的平面上的位置关系。还有，在上述各图中，为了容易明白地示出结构，各结构要素的膜厚、尺寸的比例等与实际情况并不相同。

在图1的本实施例的液晶器件1中，平面形状为矩形的下基板2和同样为矩形的上基板3，通过用它们周围呈环形的密封材料4相互贴合，相互相向配置。这些下基板2和上基板3例如由玻璃、塑料等透明基板形成。

密封材料4的一部分在各基板2、3的一边(即图1中的上边)开口，形成液晶注入口5。另外，如图2所示，在被两块基板2、3和密封材料4包围的间隙内封入液晶23，例如STN(Super TwistedNematic，超扭曲向列)液晶，并在该状态下用密封材料6封住图1的液晶注入口5。

在图1中，下基板2的外形尺寸以比上基板3大的形式形成。

另外，上基板3和下基板2以在它们的一边(即图1中的上边)将其边沿对齐相贴合，而在剩下的3边(即图1中的下边、右边、左边)以下基板2的边缘部分向上基板3的外部伸出的方式相贴合。然后，驱动用IC7被安装在下基板2的下边一侧的伸出部分上，上基板3和下基板2两方的电极被该驱动用IC7驱动。还有，符号8表示用于为有效显示区周围遮蔽光的环形遮光层。

在图1中，在下基板2上沿图中纵向延伸的多条直线状段电极10相互平行地形成，作为整体形成为条形。另一方面，在上基板3上，与段电极10正交的、沿图中横向延伸的多条直线状公用电极11相互平行地形成，作为整体形成为条形。

在图2中，在下基板2的下面一侧，即观察一侧的背面一侧，配置了照明装置25作为背光。另外，在上基板3的液晶一侧表面上形成了滤色片13。该滤色片13通过以合适的排列图形，例如图4所示的条形排列将R、G、B的各色素层13r、13g、13b进行排列而形成。还有，色素层的排列，除条形排列外，也可以作成例如三角形排列、镶嵌形排列等。各色素层13r、13g、13b之间用黑掩模33隔开，该黑掩模33用例如树脂黑或者反射率较低的铬等遮光性金属形成。

各色素层13r、13g、13b对应于各段电极10的延伸方向(即图2的与纸面垂直的方向)配置，在图2所示横向排列的R、G、B三个显示点构成1个像素。在下基板2的液晶一侧表面，用例如ITO形成基底膜35，在该基底膜35之上形成由作为反射性导电膜的APC膜18和作为金属氧化物膜的ITO膜19构成的叠层结构，段电极10由该叠层结构膜构成。这里，APC膜18在构成电极的同时，还具有反射膜的功能。另外，在段电极10之上形成由聚酰亚胺等构成的取向膜20。然后，在两基板2、3贴合前对该取向膜20进行取向处理，例如摩擦处理。

在图1中，对于多条公用电极11之中的图1的上半部分的公用电极11，迂回布线14从公用电极11的右端向密封材料4引出。于是，这些迂回布线14经由掺在密封材料4中的导电粒子构成的上下通导材料41，从上基板3到下基板2进行电连接，然后迂回到下基板2的周边部分，再与驱动用IC7的输出端连接。

同样，对于图1的下半部分的公用电极11，迂回布线14从公用电极11的左端向密封材料4引出。于是，这些迂回布线14经由掺在密封材料4中的导电粒子构成的上下通导材料41，从上基板3到下基板2进行电连接，然后引向下基板2的周边部分，进而与驱动用IC7的输出端连接。另一方面，关于段电极10，迂回布线15从段电极10的下端向密封材料4引出，直接与驱动用IC7的输出端连接。

在图2中，迂回布线14、15与段电极10一样，由APC膜18和ITO膜19的叠层膜构成。另外，在图1中，用于向驱动用IC7提供各种信号的输入用布线16以从下基板2的下边引向驱动用IC7的输入端的方式进行了设置。

在段电极10以及迂回布线14、15中，ITO膜19的边缘部分向APC膜的外侧伸出，该边缘部分的底面与基底膜35的上表面接触。因此，ITO膜19以不仅只是层叠在APC膜19的上表面，而且还覆盖了APC膜18的侧面的方式形成。

在形成于上基板3的液晶一侧表面的滤色片13的表面上，形成了用于在使各色素层间的台阶平坦化的同时，还保护各色素层的表面的外覆膜21。该外覆膜21可以是丙烯、聚酰亚胺等树脂膜，也可以是氧化硅膜等无机膜。进而在外覆膜21的表面上形成了由ITO的单层膜构成的公用电极11，该公用电极11从箭头A方向看沿图2的纸面的横向呈条形，在其表面上形成了由聚酰亚胺等构成的取向膜22。在两基板2、3贴合前对该取向膜2 2进行取向处理，例如摩擦处理。

在图2中，黑掩模33的宽度W与相邻的2个显示点内的ITO膜19之间的间隔P1大致相等地形成。因此，当基板2和基板3正确地被贴合时，黑掩模33的侧面周边和ITO膜19的侧面周边被设定成从箭头A方向看在位置方面一致。图3在平面上示出了此种情形，如图示那样，黑掩模33的纵向侧面和构成段电极10的ITO膜19的侧面就图的纵向而言在位置方面是一致的。

另外，在图2中，在与黑掩模33的两侧相对应的位置的下基板2的表面，配置了作为ITO膜19的边缘部分，即与基底膜35相接触的部分34。该边缘部分34构成了用于在照明装置25发光时使其光透过并将该光导向液晶23的光透过区。另一方面，APC膜18构成了在太阳光、室内光等外部光从上基板3一侧入射时反射该外部光的光反射区。如图3所示，位于APC膜18的外侧的ITO膜19的边缘部分34，在为被黑掩模33分隔的长方形区的各个显示点内，处于沿着黑掩模33的纵向的延伸方向。

在图2中，段电极10以及迂回布线14、15具有APC膜18和ITO膜19的2层结构。APC膜18等反射性导电膜其本身的耐水性弱，具有使用时易发生电迁移的性质。这一点，在本实施例中，由于构成段电极10以及迂回布线14、15的ITO膜19完全覆盖了APC膜18的整个上表面和侧面，所以能够避免因制造工艺中的水分附着使APC膜18被腐蚀，或者因APC膜18的表面污染在APC膜18上发生电迁移等问题，因而可以形成可靠性高的液晶器件。此外，由于通过用ITO膜19覆盖设置在显示区内、具有反射膜功能的APC膜18的全部表面，可以防止该APC膜18的反射率在制造工艺中降低，所以可以以高成品率制造具有在反射显示时能得到明亮显示的优越特性的液晶器件。

另外，在本实施例的液晶器件中，如图2所示，由于在上基板3上的滤色片13上形成了黑掩模33，所以能够使制造工艺，特别是下基板2这一侧的制造工艺简化。另外，由于迂回布线14、15因含APC膜18而电阻变低，所以可以使得这些布线的线宽微细化，其结果是能够实现窄边框化。

此外，在本实施例中，在图1中由于利用上下通导材料41由设置在下基板2的表面上的1个驱动用IC7担负段电极10的驱动和公用电极11的驱动，所以可以使边框区整体变窄，由此也可得到窄边框化。据此，按照本实施例，可以提供适合于小型便携式电子装置的液晶器件。

在图2中，黑掩模33的宽度W设定成与在相邻的2个显示点中所含的ITO膜19的间隔P1大致一致，而且比相邻的2个APC膜18的间隔P2小。进而，令在本实施例的液晶器件的组装工序中上基板3和下基板2贴合时产生的偏离量(例如可能引起的最大偏离量)为δ，将从黑掩模33的边沿到APC膜18的边沿的尺寸D设定成比上述偏离量δ大，即D＞δ。另外，在本实施例的场合，从黑掩模33的边沿到APC膜18的边沿的尺寸D与1个段电极10内从ITO膜19的边沿到APC膜18的边沿的尺寸一致。

从图3中看以上情形，段电极10的轮廓线就是ITO膜19的侧边沿，黑掩模33的轮廓线与表示该ITO膜19的侧边沿的线一致。而且，APC膜18的侧边沿位于ITO膜19的内侧。即从平面上看时，在段电极10的左右边沿的细长部分，即边缘部分34中不存在APC膜18，只存在ITO膜19，此外该边缘部分34是没有被黑掩模33覆盖的区域。因此，边缘部分34形成透射显示时使来自背光25(参照图2)的光透过的光透过区。

本实施例的液晶器件，通过用图3和图4所示的边缘部分34作为光透过区，就可以没有图8所示的液晶器件的透光用窗部64，这样一来，可以通过将APC膜18的宽度做窄在段电极10的边缘部分34上设置只存在ITO膜19的光透过区。此外，边缘部分34不仅有只作为光透过区的功能，而且还有作为防止因贴合偏离而出现的反射显示时亮度降低的结构的功能。

即，在如图9所示结构的液晶器件的场合那样，在黑掩模52的宽度W与APC膜65之间的间隔P2一致，黑掩模52的边沿在平面上与APC膜65的边沿重合的场合，虽然在无贴合偏离时不存在问题，但当贴合有少许偏离时，就存在黑掩模52覆盖在APC膜65上，因而APC膜65作为反射膜的有效面积减小，反射显示时显示变暗的缺点。

与此相对照，在图2所示的本实施例的液晶器件中，由于设置了边缘部分34，而且将边缘部分34的宽度(即与从黑掩模33的边沿到APC膜18的边沿的尺寸D相当的宽度)做得比贴合偏离量大，所以即使有贴合偏离产生，黑掩模33也不会覆盖在APC膜18上。

另外，当贴合偏离产生时，在1个显示点中，虽然因一侧的边缘部分34的一部分被黑掩模33遮住而使该边缘部分34的宽度变细，但这样一来，相反一侧的边缘部分34的宽度变宽，所以就显示点整体看，光的透过量也不改变。这样，即使有贴合偏离，反射显示时的显示也不变暗，利用黑掩模33既可防止滤色片13的混色，又能提供抗贴合偏离的结构。

另外，在本实施例中，构成段电极10以及迂回布线14、15的APC膜18，其上表面、下表面、侧面的整个面完全被ITO膜19和35覆盖，APC膜18的所有面形成被ITO膜19和35覆盖的状态。故而，能够更加可靠地避免由制造工艺中的水分附着所致的腐蚀问题和起因于APC膜18的表面污染的电迁移问题。因此，本实施例的液晶器件能够得到更高的可靠性。

进而，通过采用APC膜18可以得到反射显示时显示明亮度提高、透射显示时颜色的色度提高、下基板2这一侧的制造工艺不再复杂、求得器件窄边框化等各种效果。

在以上说明了的实施例中，如图2所示，在下基板2的表面上形成了基底膜35，在该基底膜35之上形成了段电极30，即APC膜18和ITO膜19。但是，对取代此结构的图9所示的剖面结构，即不在下基板61的表面形成基底膜而在下基板61上直接形成由APC膜65和ITO膜66构成的段电极67这样的结构的液晶器件，当然也能应用本发明。

(液晶器件的第2实施例)

图5示出了本发明的液晶器件的另一实施例的主要部分的剖面结构。本实施例的液晶器件与图2所示的前一实施例的液晶器件的不同点在于迂回布线24是仅由ITO膜35构成的单层结构。其他结构因与图2所示的前一实施例的情形相同，所以对相同的结构要素标以相同的符号表示，而省略其详细说明。

在图2所示的液晶器件中，段电极10和迂回布线14双方都具有由APC膜18和ITO膜19构成的2层结构，而在图5所示的本实施例中，迂回布线24为仅由ITO膜35构成的单层结构。于是，只在显示区内的下基板2的表面上设置APC膜18，构成段电极10的APC膜18的整个上表面和侧面，与图2的实施例的场合一样，用ITO膜19覆盖。

迂回布线24由于位于密封材料4之外，易受到污染，因此在迂回布线24中含APC膜的场合，有可能发生由该迂回布线24的表面被污染而引起的在APC膜中的电迁移。与此相对照，在本实施例中，由于迂回布线24如图5所示形成为仅由ITO膜35构成的单层结构，即不含APC膜的结构，故迂回布线24的表面即使被污染，也不用担心电迁移发生。

另外，在本实施例中，由于段电极10也具有反射性导电膜即APC膜18和金属氧化物膜即ITO膜19的2层结构，构成段电极10的ITO膜19完全覆盖了APC膜18的全部上表面和侧面，所以能够避免制造工艺中因水分附着所致的腐蚀问题，以及由APC膜18的表面污染引起的电迁移问题等，因此，可以构成可靠性高的液晶器件。

(液晶器件的第3实施例)

图10示出了本发明的液晶器件的另一实施例。这里所示的液晶器件90是一方面在外部光充分的场合具有反射型的功能，而在外部光不充分的场合通过点亮背光具有透射型的功能的半透射半反射型。图11是示出沿X方向剖开图10的液晶器件90时的结构的部分剖面图。

在图10中，液晶器件90通过在液晶面板100上附设作为背光的照明装置25而形成。如图11所示，液晶面板100的结构如下：位于观察一侧的前面基板200和位于其背面一侧的背面基板300通过掺有兼作衬垫的导电粒子114的密封材料110保持恒定的间隙而被贴合，同时在该间隙内封入例如TN(Twisted Nematic，扭曲向列)型的液晶160。

另外，密封材料110虽然沿前面基板200的内周边在某一方的基板上形成，但为了封入液晶160，它的一部分还是留了开口。因此，在液晶封入后，该开口部分用图10中的密封材料112封住。

在前面基板200的与背面基板300相向的面上，多条扫描电极，即公用电极210沿行方向即X方向延伸形成。而且，另一方面，在背面基板300的与前面基板200相向的面上，多条数据电极即段电极310沿列方向即Y方向延伸形成。因此，在本实施例中，由于在公用电极210和段电极310相互交叉的区域，电压通过两电极施加至液晶160上，故该交叉区具有1个显示点的功能。

另外，在背面基板300的从前面基板200伸出的2条边上，利用后述的COG(Chip On Glass，芯片在玻璃上)技术分别安装了用于驱动公用电极210的驱动用IC122和用于驱动段电极310的驱动用IC124。进而，FPC(Flexible Printed Circuit，柔性印刷电路)基板150与该2条边之中的安装有驱动用IC124的区域的外侧相键合。

在前面基板200上形成的公用电极210，在图11中经掺入密封材料110中的导电粒子114与在背面基板300上形成的布线350的一端相连接。另一方面，布线350的另一端在图10中与驱动用IC122的输出一侧的凸点(即突起电极)相连接。也就是说，形成驱动用IC122通过布线350、导电粒子114和公用电极210这样的路径提供公用信号的结构。还有，驱动用IC122的输入一侧凸点和外部电路基板即FPC基板150之间，通过布线360连接。

另外，在背面基板300上形成的段电极310直接与驱动用IC124的输出一侧凸点连接。即形成驱动用IC124直接向段电极310提供段信号的结构。还有，驱动用IC124的输入一侧凸点和FPC基板150之间，通过布线370连接。

在液晶面板100上，在如图11所示的前面基板200的观察一侧(即图的上侧)设置了偏振片121和延迟片123。另外，在背面基板300的背面一侧(即图的下侧)设置了偏振片131和延迟片133。还有，在图10中偏振片和延迟片等的图示从略。另外，在背面基板300的背面一侧设置了为了在外部光少的场合作透射型的光源用的照明装置25作为背光。

<显示区>

下面就液晶面板100的显示区的详情进行说明。首先说明前面基板200的详情。如图11所示，在基板200的外表面贴附延迟片123和偏振片121。另一方面，在基板200的内表面，形成作为遮光膜的黑掩模202，该黑掩模202在防止多个显示点间混色的同时，具有作限定显示区的边框的功能。

进而，对应于公用电极210和段电极310的交叉区，即对应于黑掩模202的开口区以设定的排列设置滤色片204。还有，在本实施例中，虽然R(红)、G(绿)、B(蓝)滤色片204形成适合数据类显示的条形排列(参照图12)，R、G、B的3个显示点构成大致为正方形的1个像素，但其宗旨并非将本发明限定于此。

其次，在图11中，由绝缘材料构成的平坦化膜205是使由黑掩模202和滤色片204产生的台阶平坦化的膜，ITO等透明导电材料在该平坦化了的膜上构成条形图形，形成公用电极210。然后，在公用电极210的表面上形成由聚酰亚胺等构成的取向膜208。另外，在将其与背面基板300贴合前，对该取向膜208在设定方向上进行摩擦处理。另外，由于黑掩模202、滤色片204和平坦化膜205在显示区以外是不需要的，所以在密封材料110区附近不进行设置。

下面对背面基板300的结构进行说明。在基板300的外表面贴附延迟片133和偏振片131。另一方面，在基板300内表面的整个面上形成具有绝缘性和透光性的基底膜303。进而在该基底膜303的表面形成由作为反射性导电膜的反射图形312和作为金属氧化物膜的透明导电膜314层叠而成的带状段电极310。还有，之所以在基板300的表面设置基底膜303，是为了提高在基板300的表面上形成的反射图形312的紧密附着性。

反射图形312由银合金，例如APC等构成，用于反射从前面基板200一侧入射的光，使其再返回到前面基板200。这时，反射图形312不必是完全的镜面，适当的漫反射结构更好。因此，希望在有某种程度起伏的面上形成反射图形312。

透明导电膜314以比反射图形312大一圈，具体而言，超出反射图形312的边缘部分34，即周边部分与基底膜303相接触的方式形成。因此，由于反射图形312的表面完全被透明导电膜314覆盖，故在本实施例中不存在反射图形312向外露出的部分。另外，边缘部分34具有使从照明装置25射出的光透过并将其引向液晶160的区域，即光透过区的作用。

其次，在段电极310的表面上设置保护膜307。该保护膜307例如由TiO₂等形成，兼用作保护包含反射图形312和透明导电膜314的段电极310的保护层和较多地反射蓝色成分的光的层。然后，在保护膜307的表面上形成由聚酰亚胺等构成的取向膜308。另外，在贴合前面基板200和背面基板300之前在设定的方向上对该取向膜308进行摩擦处理。另外，关于背面基板300的制造工艺的说明，为方便计，在对布线350、360、370进行说明之后进行。

<密封材料附近>

其次，在图11之外还参照图12对液晶面板100中形成密封材料110的区域附近进行说明。这里，图12是示出该区域附近的详细结构的平面图。

如这些图所示，前面基板200的公用电极210延伸至形成密封材料110的区域，而背面基板300上构成布线350的透明导电膜354与公用电极210相向地延伸至形成密封材料110的区域。因此，当密封材料110中以合适的比例散布兼作衬垫的球状导电粒子114时，公用电极210和透明导电膜354经该导电粒子114进行电连接。

这里，如上所述，布线350作为在公用电极210和驱动用IC122的输出一侧凸点之间进行电连接的布线，它由反射性导电膜352和透明导电膜354层叠而成。其中，反射性导电膜352是将与反射图形312相同的导电层构成图形的膜，同样，透明导电膜354是将与透明导电膜314相同的导电层以比反射性导电膜352大一圈，具体地说，以超出反射性导电膜352的边缘部分与基底膜303相接的方式构成图形的膜。但是，在形成密封材料110形成的区域，如图11所示，不层叠反射性导电膜352，仅设置透明导电膜354。换言之，反射性导电膜352避开作为密封材料110的形成区、与公用电极210连接的部分而形成。

另外，为说明方便，图11中的导电粒子114的直径画得比实际情况大很多，因此，在密封材料110的宽度方向看只设置了一个，较正确的是如图12所示，形成为在密封材料110的宽度方向随机地排列了多个导电粒子114的结构。

<驱动用IC的安装区及FPC基板的键合区附近>

接着，对背面基板300之中安装驱动用IC122、124的区域和FPC基板150进行键合的区域附近进行说明。图13是以布线为中心示出这些区域之结构的剖面图。另外，图14是示出驱动用IC122安装区的布线的结构的平面图。另外，如上所述，在背面基板300上，除段电极300外，虽然还设置了布线350、360和370，但这里以与驱动用IC122有关的布线350、360为例进行说明。

首先，如这些图所示，用于将从驱动用IC122输出的公用信号供给到公用电极210的布线350，虽然如上所述，是层叠反射性导电膜352和透明导电膜354而成，但在安装驱动用IC122的区域，如图13所示，不设置反射性导电膜352，仅形成透明导电膜354。换言之，反射性导电膜352避开与驱动用IC122结合的键合部分而形成。

另外，用于将由FPC基板150供给的各种信号供给到驱动用IC122的布线360，同样是层叠反射性导电膜362和透明导电膜364而成。其中，反射性导电膜362是将与反射图形312或反射性导电膜352的相同导电层构成图形的膜，同样，透明导电膜364是将与透明导电膜314、354的相同导电层，以比反射性导电膜362大一圈，即以超出反射性导电膜362的边缘部分与基底膜303相接的方式构成图形的膜。但是，在布线360中的安装驱动用IC122的区域和FPC基板150进行键合的区域(在图14中图示从略)，不设置反射性导电膜362，只形成透明导电膜364。换言之，反射性导电膜362避开与驱动用IC122的键合部分以及与FPC基板150的键合部分而形成。

对这样的布线350、360，驱动用IC122进行了如下所述的COG安装。首先，在长方体形状的驱动用IC122的一面，在其内周边缘部分设置多个电极，而在这些电极的每一个上，预先分别形成例如由金(Au)等构成的凸点129a、129b。

然后，按如下的顺序进行处理。即第1，在背面基板300上应安装驱动用IC122的区域装载将导电粒子134均匀散布在环氧树脂等粘结材料130中的片状各向异性导电膜。第2，用将电极形成面置于下侧的驱动用IC122和背面基板300夹住该各向异性导电膜。第3，驱动用IC122在位置被确定后，经该各向异性导电膜被热压到背面基板300上。

据此，驱动用IC122之中提供公用信号的输出一侧凸点129a经粘结材料130中的导电粒子134与构成布线350的透明导电膜354进行电连接；另外，输入来自FPC基板150的信号的输入一侧凸点129b经粘结材料130中的导电粒子134与构成布线360的透明导电膜364进行电连接。这时，粘结材料130兼作供保护驱动用IC122的电极形成面，使之免受湿气或污染、应力等影响的密封材料。

另外，这里虽是以与驱动用IC122有关的布线350、360为例进行了说明，但对与驱动用IC124有关的段电极310和用于将由FPC基板150供给的各种信号供给到驱动用IC124的布线370，分别如图13各括号中书写的数字表示，也形成为与布线350、360相同的结构。

亦即，用于供给从驱动用IC124输出的段信号的段电极310，如上所述，虽形成为反射图形312和透明导电膜314层叠的结构，但在安装驱动用IC124的区域，不设置反射图形312，只形成透明电极314。换言之，反射图形312避开与驱动用IC124的键合部分而形成。

另外，用于将由FPC基板150供给的各种信号供给到驱动用IC124的布线370，同样地形成为反射性导电膜372和透明导电膜374层叠的结构。其中，反射性导电膜372是将与反射图形312或反射性导电膜352、362相同的导电层构成图形的膜。另外，透明导电膜374是将与透明导电膜314、354、364相同的导电层，以比反射性导电膜372大一圈，即以超出反射性导电膜372的边缘部分与基底膜303相接方式构成图形的膜。但是，在布线370之中安装驱动用IC124的区域和FPC基板150进行键合的区域，不设置反射性导电膜372，只形成透明导电膜374。换言之，反射性导电膜372避开与驱动用IC124的键合部分以及与FPC基板150的键合部分而形成。

然后，驱动用IC124与驱动用IC122一样，经各向异性导电膜对这样的段电极310、布线370进行连接。

另外，对于布线图形360、370，在有FPC基板150键合的场合，同样地使用各向异性导电膜。据此，在FPC基板150中，在聚酰亚胺之类的基体材料152上形成的布线154，分别经粘结材料140中的导电粒子144对构成布线360的透明导电膜364和构成布线370的透明导电膜374进行电连接。

<制造工艺>

这里，参照图15对上述液晶面板的制造工艺，特别是背面基板的制造工艺进行说明。另外，这里以公用电极210和段电极310相交叉的显示区域为中心进行说明。

首先，如图15(a)所示，用溅射法等在基板300的整个内表面上淀积Ta₂O₅、SiO₂等，形成基底膜303。接着如图15(b)所示，用溅射法等使银单质或以银为主成分的反射性导电层312’成膜。作为该导电层312’例如希望用除重量比占约98％的银(Ag)外还含有铂(Pt)·铜(Cu)的合金或银·铜·金合金，甚至银·钌(Ru)·铜合金等。

接着如图15(c)所示，用光刻技术和刻蚀技术对导电层312’构图，在显示区形成反射图形312，在显示区外形成反射性导电膜352、362、372。

之后，如图15(d)所示，用溅射法等使ITO等导电层314’成膜。然后如图15(e)所示，用光刻技术和刻蚀技术对导电层314’构图，在显示区形成透明导电膜314，在显示区外形成透明导电膜354、364、374。这时，使透明导电膜314、354、364、374的周边部分，即边缘部分34与基底膜303相接，以使反射图形312、反射性导电膜352、362、372不至露出。据此，由于在导电层314’成膜后反射图形312，反射性导电膜352、362、372的表面不会露出，所以能够防止它们被腐蚀和剥离等。另外，在液晶160和反射图形312之间夹有透明导电膜314，所以能够防止杂质从反射图形312溶到液晶160内。

另外，关于此后的处理，虽省略了图示，但若要作简单说明，那就是依次形成图11中的保护膜307、取向膜308，并对该取向膜308进行摩擦处理。接着，借助于其中适当地散布有导电粒子114的密封材料110将这样的背面基板300和同样地对取向膜208进行了摩擦处理的前面基板200贴合在一起。

其次，造成近乎真空的状态，向密封材料110的开口部分滴入液晶160。然后返回到常压，在整个面板内封入液晶160，然后用密封材料112封住该开口部分。之后，如上所述，通过安装驱动用IC122、124和FPC基板150形成图10所示的液晶面板100。

<显示工作等>

其次对这种结构的液晶显示器件的显示工作简单地进行说明。首先，上述驱动用IC122在每一水平扫描期间按设定的顺序对各个公用电极210施加选择电压，而驱动用IC124经对应的段电极310分别供给与位于施加了选择电压的公用电极210的1行显示点的显示内容相应的节信号。这时，该区域的液晶160的取向状态，在每个显示点上，受到由公用电极210和段电极310施加的电压差的控制。

这里，在图11中，来自观察者一侧的外部光，借助于经由偏振片121和延迟片123，形成设定的偏振状态，进而经前面基板200→滤色片204→公用电极210→液晶160→段电极310这一路径到达反射图形312，从这里反射，再沿着刚才的路径逆序返回。因此，在反射型时，借助于液晶160的取向状态随施加于公用电极210和段电极310之间的电压差而变化，外部光之中被反射图形312反射后通过偏振片最后被观察者看到的光量，在每个显示点上受到控制。

另外，在反射型时，对短波长一侧(即蓝色一侧)的光，被位于反射图形312的上层的保护膜307反射的成分比起被反射图形312反射的成分要多。设置这样的保护膜307的理由如下：含银的反射图形312的波长一反射率特性，如图16所示，不像一般使用的铝那样平坦，有随着波长变短而反射率下降的趋势。其结果是，被反射图形312反射的光的蓝色成分减少，有带黄色的倾向，故而特别是在进行彩色显示的场合，对色的重现性有不良影响。于是，对蓝色成分的光，使由保护膜307反射的成分比起被反射图形312反射的成分多，就可防止该保护膜307和反射图形312联合的反射光中带黄色的倾向。

另一方面，在图11中将位于背面基板300的背面一侧的照明装置25点亮的场合，来自该照明装置25的光，借助于经由偏振片131和延迟片133，形成设定的偏振状态，进而经背面基板300→边缘部分34→段电极310→液晶160→公用电极210→前面基板200→偏振片201这一路径出射至观察者一侧。因此，在透射型时，借助于液晶160的取向状态随施加于公用电极210和段电极310之间的电压差而变化，透过边缘部分34的光之中通过偏振片121最后被观察者看到的光量，在每个显示点上受到控制。

以上结果表明：在本实施例的液晶器件中，由于外部光充分时为反射型，外部光弱时通过点亮背光25变为以透射型为主，所以可用任何一种类型进行显示。另外，在本实施例中，因对光进行反射的反射图形312使用了银或以银为主成分的银合金等，所以反射率增高，返回至观察者一侧的光增多，其结果是，可以进行明亮的显示。进而，在本实施例中，因构成透明电极310的导电层312’成膜后，反射图形312的表面不存在向外部暴露的部分，所以防止了反射图形312被腐蚀和剥离等，其结果是提高了可靠性。

另外，由于设置在前面基板200上的公用电极210经导电粒子114和布线350迂回至背面基板300，进而又通过布线360迂回至驱动用IC124的安装区的附近，所以在本实施例中，尽管是简单矩阵型，与FPC基板150的键合只在一个面上的一个部位就可以了。因此能够简化安装工序。

另一方面，因段电极310为透明导电膜314和由银单质或以银为主成分的银合金等构成的反射图形312层叠而成的结构，所以实现了低电阻化，同样，因显示区外的布线350、360、370为透明导电膜354、364、374和由与反射图形312相同的导电层构成的反射性导电膜352、362、372分别层叠而成的结构，所以实现了低电阻化。

特别是因为从FPC基板150至驱动用IC122的输入一侧凸点的布线360，包含供给公用信号的驱动用IC122的电源线，所以施加了较高的电压，而且，该布线距离比布线370要长。因此，当布线360为高电阻时，就不能忽视电压降的影响。与此相对照，在本实施例的布线360中，因叠层而实现了低电阻化，所以电压降的影响变小。

另外，在段电极310之中安装驱动用IC124的区域，未设置反射图形312，只形成透明导电膜314。另外，在布线350之中包含在密封材料110内而形成的区域和安装驱动用IC122的区域中，未设置反射性导电膜352，只形成透明导电膜354。

同样，在布线360之中安装驱动用IC122的区域和FPC基板150进行键合的区域，未设置反射性导电膜362，只形成透明导电膜364。另外，布线370之中安装驱动用IC124的区域和FPC基板150进行键合的区域，未设置反射性导电膜372，只形成透明导电膜374。

进行以上这样处理的原因，是由于银合金欠缺紧密附着性，因而在有应力施加的部分设置它是不合适的。即，虽然当优先考虑布线的低电阻化时，希望在透明电极或透明导电膜的下层整个区域形成反射图形或反射性导电膜的结构，但是用这样的结构，在例如在驱动用IC的安装工序中因产生接触不良而更换该芯片时，由于紧密附着性差，存在该反射性导电膜从基板上剥离的可能性。因此，在本实施例中，在易施加应力的部分不设置银合金等，只形成透明电极或透明导电膜，事先防止银合金等的剥离。

如以上说明的那样，在本实施例中，如图12所示，构成段电极310的透明导电膜314的边缘部分34，即不存在反射图形312的透明部分，沿Y方向延伸设置在遮光膜202的两侧。这样，这些边缘部分34在透射显示时起光透过区的作用，而反射图形312在反射显示时起光反射区的作用。

这样，在本实施例中，由于将位于光反射区外侧的透明导电膜314的边缘部分34用作光透过区，所以在图12中，即使因制造误差或其他原因，反射图形312和遮光膜202的相对位置关系发生了偏差，只要该偏差量在边缘部分34的宽度的尺寸以内，光反射区和光透过区之间的面积比就不发生变化，因此，即使是液晶器件的显示方式在反射型和透射型之间改变的场合，也能防止显示品质发生变化。

(液晶器件的第4实施例)

在图10所示的实施例中，形成为用驱动用IC122驱动公用电极210，用驱动用IC124驱动段电极310的结构。但本发明不限于这种结构，例如也能应用于如图17所示的用单芯片化的驱动器IC126驱动公用电极210和段电极310两者之结构的液晶器件。

在图17所示的液晶器件190中，在前面基板200上有多条公用电极210沿X方向延伸形成这一点上，与图10的液晶器件90是相同的，但是，在上半部分的公用电极210从左侧，而下半部分的公用电极210从右侧分别引出与驱动用IC126连接这一点上，与图10的液晶器件90又是不相同的。

驱动用IC126是使图10的液晶器件90中的驱动用IC122和124单芯片化的驱动器。因此，驱动用IC126的输出一侧除段电极310外，还经布线350与公用电极210相连接。另外，FPC基板150经布线360(370)供给来自外部电路(图示从略)的用于控制驱动用IC126的信号等。

这里对安装驱动用IC126的区域附近的实际布线布局进行说明。图18是示出一例该布线布局的平面图。如该图所示，段电极310从驱动用IC126的输出一侧引出后其间距被扩大，迂回至显示区，与此相对照，关于从布线350到公用电极210的情况，从驱动用IC126的输出一侧引出后，布线间距一度变窄，在沿Y方向延伸后作90°角弯曲的同时使间距扩大，迂回至显示区。

布线350在从驱动用IC1 6的输出一侧向Y方向延伸的区域其间距变窄的理由如下：因该区域是对显示无贡献的静区，所以该区域一宽，相应地从1块大型玻璃，即母玻璃中的取出数就变少，因而导致成本增高。另外，为了利用COG技术将驱动用IC126的输出一侧凸点键合到布线350上，某种程度的间距是必要的，因此在驱动用IC126的键合区，其间距反而增大。

另外，如果图17所示的液晶器件190中的公用电极210的条数较少，也可以做成将该公用电极210只从一侧引出的结构。

另外，如图19所示，也可应用于不在液晶面板100上安装驱动用IC的类型。即在该图所示的液晶器件290中，利用倒装芯片等技术将驱动用IC126安装到FPC基板150上。另外，可做成采用TAB(TapeAutomated Bouding，带式自动键合)技术，借助其内引线对驱动用IC126进行键合，也可利用其外引线与液晶面板100键合的结构。但是在这种结构中，随着像素数的增多，与FPC基板150连接的点数也增加。

(液晶器件的第5实施例)

虽然在图11所示的液晶器件90中，使用了具有绝缘材料作为由银合金等构成的基底膜303的制品。但本发明不限于此，也可以用ITO、Sn₂O₃等导电材料。因此，下面对用导电性材料作为基底膜303的实施例进行说明。另外，由于本实施例的液晶器件在外观上与图10所示的液晶器件90相同，所以这里以内部电极和布线的结构为中心进行说明。

图20示出了将本实施例的液晶器件390的液晶面板100之结构沿X方向剖开时的剖面结构。另外，图21示出了背面基板300之中安装驱动用IC122和124的区域、FPC基板150进行键合的区域的剖面结构。

在这些图中，在为了提高作为反射性导电膜的反射图形312以及反射性导电膜352、362、372的紧密附着性而设置基底膜303这一点上，与图11的实施例是相同的，但在由ITO或Sn₂O₃这样的具有导电性和透光性的材料构成这一点上，与图11的实施例又是不同的。

对该基底膜303，如后所述，利用与透明导电膜314、354、364、374相同的工艺，构成与这些透明导电膜有大致相同形状的图形。

若要详细了解本实施例的结构上的特征，第1，在段电极310上，如图20所示，以反射图形312被基底膜303和透明电极314夹在中间，并且透明导电膜314之中超出反射图形312的边缘部分34，即周边部分与基底膜303相接的方式形成。因此，段电极310为依次层叠由导电材料形成的基底膜303、反射图形312和透明导电膜314的3层结构。但是，反射图形312如图21的括号中书写的数字所示，以避开与驱动用IC124的输出一侧凸点129a的键合部分的形式形成。另外，边缘部分34起透射显示时的光透过区的作用。

其次，第2，在从驱动用IC122的输出一侧凸点129a迂回至与公用电极210的连接部分的布线350上，如图20和图21所示，以反射性导电膜352被基底膜303和透明导电膜354夹在中间，并且透明导电膜354之中超出反射性导电膜352的边缘部分与基底膜303相接的方式形成。因此，布线350为依次层叠基底膜303、反射性导电膜352和透明导电膜354的3层结构，不过其中的反射性导电膜352避开经导电粒子114的与公用电极210的键合部分(参照图20)以及与驱动用IC122的输出一侧凸点的键合部分(参照图21)而形成。

其次，第3，在从与FPC基板150的连接端点迂回至驱动用IC122的输入一侧凸点129b的布线360上，如图21所示，以反射性导电膜362被基底膜303和透明导电膜364夹在中间，并且透明导电膜364之中超出反射性导电膜362的边缘部分与基底膜303相接的方式形成。因此，布线360为依次层叠基底膜303、反射性导电膜362和透明导电膜364的3层结构，不过其中的反射性导电膜362避开经导电粒子114的与FPC基板150的键合部分以及与驱动用IC122的输入一侧凸点129b的键合部分而形成。

其次，第4，在从与FPC基板150的连接端点迂回至驱动用IC124的输入一侧凸点129b的迂回布线370，如图21括号中书写的数字所示，以反射性导电膜372被基底膜303和透明导电膜374夹在中间，并且透明导电膜374之中超出反射性导电膜372的边缘部分与基底膜303相接的方式形成。因此，布线370为依次层叠基底膜303、反射性导电膜372和透明导电膜374的3层结构，不过其中的反射性导电膜372避开经导电粒子114的与FPC基板150的键合部分以及与驱动用IC124的输入一侧凸点129b的键合部分而形成。

另外，在图20和图21中，在与驱动用IC122、124的键合部分以及与FPC基板150的键合部分，形成为基底膜303和透明导电膜314、354、364或374的2层(结构)，但代替它们的也可以是任何一方为单层结构。

另外，在本实施例中，基底膜303从平面上看形成为与透明导电膜314、354、364、374相同的形状。因此，本实施例的液晶面板的显示点的平面结构与图3所示的先前的实施例的场合相同。还有，在图20所示的本实施例的液晶面板100中，驱动用IC的安装区附近的平面结构也与图5所示的先前的实施例的场合相同。

<制造工艺>

下面参照图22对图20所示的液晶面板100的制造工艺，特别是背面基板的制造工艺进行说明。首先，如图22(a)所示，用溅射法等在基板300的整个内表面上淀积ITO或Sn₂O₃等金属氧化物材料，形成基底膜303’。接着，如图22(b)所示，用溅射法等使银单质或以银为主成分的反射性导电层312’成膜。另外，关于该导电层312’可以用与图11的液晶器件90的场合相同的材料。

接着，如图22(c)所示，用光刻技术和刻蚀技术只对在基底膜303’上形成的导电层312’构图。通过该刻蚀，在显示区形成反射图形312，在显示区外形成反射性导电膜352、362、372。

这里，因在金属氧化物基底膜303’和合金导电层312’中选择比不同，详言之，因与基底膜303’相比，导电层312’易被刻蚀，所以若用适当的刻蚀液，就可以有选择地只刻蚀导电层312’。另外，作为这样的刻蚀液，例如可举出按重量比为磷酸(54％)、醋酸(33％)、硝酸(0.6％)，其余为水的混合液。

之后，如图22(d)所示，利用溅射等法将ITO等导电层314’成膜。然后如图22(e)所示，利用光刻技术和刻蚀技术同时对基底膜303’和导电层314’构图，形成基底膜303和透明导电膜314。据此，形成了段电极310。另外，在显示区外分别对基底膜303’和导电层314’构图，使它们分别成为基底膜303和透明导电膜354、364、374。据此，形成了布线350、360、370。

这里，若对透明导电膜314、354、364、374和基底膜303，以比反射图形312或反射性导电膜352、362、372大一圈的形式构图，则透明导电膜之中超出反射图形或反射性导电膜的边缘部分与基底膜303相接，因此反射图形或反射性导电膜不至暴露出来。

另外，此后进行的处理与图15所示的先前的实施例相同，依次形成图20中的保护膜307、取向膜308，并对该取向膜308进行摩擦处理。之后，借助于其中适当地散布有导电粒子114的密封材料110将背面基板300和同样地对取向膜208进行了摩擦处理的前面基板200贴合，进而造成近乎真空的状态，向密封材料110的开口部分滴入液晶160。之后返回到常压，用密封材料112封住该开口部分。然后，通过安装驱动用IC122、124和FPC基板150，形成与图10所示的实施例相同的液晶面板100。

按照图20所示的本实施例，由银合金等构成的反射图形312以及反射性导电膜352、362、372分别被透明导电膜314、354、364、374完全覆盖，并且被同为金属氧化物的基底膜和透明导电膜夹住。因此，基底膜和透明导电膜的紧密附着性要比使用无机材料和金属氧化物的图11的实施例为好，因而水分等经它们的界面的侵入减少。

另外，在图20的实施例中，虽然添加了基底膜303作为金属氧化物膜，但因它的构图工序是与透明导电膜314、354、364、374并用的，所以与图11的实施例比较，其工艺并未复杂化。

进而，关于图20的实施例中的布线电阻，因在结合部分以外形成为3层结构，所以可以比2层结构的图11的实施例为低。另外，至于其他作用效果，则与图11的实施例相同。

(液晶器件的第6实施例)

在以上作了说明的各实施例中，虽然举简单矩阵型液晶器件为例进行了说明，但本发明也可应用于采用有源元件，即开关元件驱动液晶的有源矩阵型液晶器件。因此，下面对将本发明应用于采用有源元件驱动液晶之结构的液晶器件的场合进行说明。

另外，在本实施例中，使用了作为有源元件之一例的2端有源元件TFD(Thin Filmed Diode，薄膜二极管)。另外，本实施例的液晶器件在外观上与图1所示的液晶器件相同，所以这里也以内部的电极或布线的结构为中心进行说明。

图23示出了本实施例的液晶面板的由与R、G、B的各色对应的3个显示点的集合构成的1个像素的平面结构。另外，图2 4示出了沿图23的I I-II线的剖面结构。在图23的本实施例的液晶面板中，在前面基板上，扫描线2100在行方向即X方向延伸形成，而在背面基板上，数据线3100，即信号线在列方向即Y方向延伸形成。

于是，进而对应于扫描线2100和数据线3100的各交差部分，多个矩形像素电极330呈矩阵状排列。其中排列在同一列上的像素电极330经TFD320共同连接到一条数据线3100上。还有，在本实施例中，扫描线2100由驱动用IC122驱动，数据线3100由驱动用IC1224驱动。

在本实施例中，TFD320在背侧基极300的表面形成，它包括第1TFD320a和第2 TFD320b。另外，TFD320在具有绝缘性和透光性的基底膜303的表面上形成，它包括由钨化钽等形成的第1金属膜3116，通过将该第1金属膜3116的表面进行阳极氧化而形成的绝缘膜3118以及在该表面上形成的相互分离的第2金属膜3122、3124。第2金属膜3122、3124皆是银合金等的反射性导电膜，第2金属膜3122就是原数据线3100的一部分，而第2金属膜3124形成为构成像素电极330的反射性导电膜3320。

如从数据线3100一侧看，TFD320之中的第1TFD320a依次为第2金属膜3122/绝缘膜3118/第1金属膜3116，因采取金属/绝缘体/金属的MIM结构，故该电流一电压特性在正负两个方向均为非线性。

另一方面，如从数据线3100一侧看，第2 TFD320b依次为第1金属膜3116/绝缘膜3118/第2金属膜3124，有与第1 TFD320a相反的电流一电压特性。因此，TFD320为将2个二极管元件相互反向串联连接的结构，因此与用1个元件的场合比较，电流一电压的非线性特性在正负两个方向上变得对称。

作为数据线3100的一部分的反射性导电膜3120，第2金属膜3122、3124以及像素电极330的反射性导电膜3320是对同一银合金层构图后的膜。因此，在本实施例中，这些膜被由ITO构成的透明导电膜3140、3340覆盖，不会暴露在外部。另一方面，数据线3100从基底膜303起，依次形成为金属膜3112、绝缘膜3114、反射性导电膜3120和透明导电膜3140。

另外，图23中在沿X方向延伸的同一行上排列的多个像素电极330，分别与同一行扫描线2100相向。该扫描线2100与图12所示的实施例中的公用电极210一样，是由ITO构成的条形透明电极。因此，扫描线2100具有像素电极330的对置电极的功能。

因此，对应于某种颜色的显示点的液晶电容在扫描线2100和数据线3100的交叉部分，由夹在该扫描线2100和像素电极330两者之间的液晶160构成。

由于本实施例的液晶面板以如上的方式构成，所以不论施加在数据线3100上的数据电压，只要将使TFD320导通的选择电压施加于扫描线2100上，与该扫描线2100和该数据线3100的交叉部分对应的TFD320则导通，并在与导通了的TFD320相连接的液晶电容上积累与该选择电压和该数据电压之差相应的电荷。电荷积累后，即使将非选择电压施加于扫描线2100上，使该TFD320关闭，液晶电容上的电荷积累也能保持。

这里，因液晶160的取向状态随液晶电容上积累的电荷量而变化，所以通过偏振片121(参照图11、图20)的光量，无论是透射型或反射型的任何一方，都随积累的电荷量变化。因此，通过用施加选择电压时的数据电压对每个显示点控制液晶电容的电荷积累量，可以进行设定的灰度显示。

制造工艺

下面对图23所示的实施例的液晶面板的制造工艺，特别是在背面基板上设置的TFT320的制造工艺进行说明。图25、图26和图27示出了该制造工艺。

首先，如图25(a)所示，通过用溅射法等在基板300的整个内表面淀积Ta₂O₅或SiO₂等，并通过对用溅射法等淀积了的钽(Ta)进行热氧化、形成基底膜303。

接着如图25(b)所示，在基底膜303的上表面使第1金属层3112’成膜。这里，对第1金属层3112’的膜厚，依TFD320的用途选择合适的值，一般为100～500nm左右。另外，第1金属层3112’的组成例如为钽单质或钨化钽(TaW)等钽合金。

这里，用钽单质作为第1金属层3112’时，可以用溅射法或电子束蒸发法等形成。另外，用钽合金作为第1金属层3112’时，在主成分钽中，除钨之外还可添加铬或钼、铼、钇、镧、镝等周期表中的VI-VIII族元素。

作为该添加元素，如上所述，最好是钨，它的含量比例，例如希望重量比为0.1～6％。另外，为形成由钽合金构成的第1金属层3112’，可以用采取混合靶的溅射法或者共同溅射法、电子束蒸发法等。

进而如图25(c)所示，利用光刻技术和刻蚀技术对导电层3112’构图，形成作为数据线3100的最下层的金属膜3112和由该金属膜3112分岔出来的第1金属膜3116。

接着，如图25(d)所示，用阳极氧化法对第1金属膜3116的表面进行氧化，形成绝缘膜3118。这时，同时也对作为数据线3110的最下层的金属膜3112的表面进行氧化，同样地形成绝缘膜3114。对绝缘膜3118的膜厚，根据其用途选择合适的值，在本实施例中，例如为10～35nm左右。

在本实施例中，因TFD320由第1 TFD320a和第2 TFD320b两者构成，所以与对1个显示点用1个TFD的场合相比，绝缘膜3118的膜厚约为其一半。对用于阳极氧化的膜生成液无特别的限制，例如可以用重量比为0.01～0.1％的柠檬酸水溶液。

其次如图25(e)所示，将从数据线3100的基础部分，即被绝缘膜3114覆盖的金属膜3112分岔出来的绝缘膜3118之中的虚线部分3119，连同构成其基础的第1金属膜3116一并除去。由此，造成第1TFD320a和第2 TFD320b共用的第1金属膜3116与数据线3100的电隔离。另外，对虚线部分3119的去除，可以采用通常使用的光刻和刻蚀技术。

接着，如图26(f)所示，用溅射法等将银单质或以银为主成分的反射性导电层3120’成膜。另外，该导电层3120’可以用与图22所示的实施例的导电层312’相同的材料。

进而，如图26(g)所示，用光刻技术和刻蚀技术对导电层3120’构图，分别形成数据线3100的反射性导电膜3120，TFD320的第2金属膜3122、3124和像素电极330的反射性导电膜3320。

TFD320的第2金属膜3122是反射性导电膜3120的分岔部分，第2金属膜3124是像素电极330从反射性导电膜3320的突出部分。另外，在对导电层3120’构图时，同时形成了布线的反射性导电膜352、362、372(参照图13)。本实施例的反射性导电膜3120被用作图11等所示实施例的反射性导电膜312。

另外，关于这些反射性导电膜，布线避开与驱动用IC、FPC基板等键合的部分形成，这一点与图11等所示实施例的场合相同。

其次，如图27(h)所示，利用溅射法等将ITO等具有透明性的导电层3140’成膜。然后如图27(i)所示，利用光刻技术和刻蚀技术对导电层3140’构图，以完全覆盖银合金等反射性导电膜3120和第2金属膜3122的形式形成透明导电膜3140。同样地，以完全覆盖反射性导电膜3320和第2金属膜3124的形式形成透明导电膜3340。

另外，在对导电层3140’构图时，对于布线的透明导电膜354、364、374中的每一个，也以分别完全覆盖反射性导电膜352、362、372的形式形成。

还有，之后进行的制造工艺与图15或图22所示实施例的场合相同。即依次形成图11中的保护膜307、取向膜308，并对该取向膜308进行摩擦处理。然后，借助于其中适当地散布有导电粒子114的密封材料110将背面基板300和同样地对取向膜208进行了摩擦处理的前面基板200贴合，进而，造成近乎真空的状态，向密封材料110的开口部分滴入液晶160。此后返回到常压，用密封材料112封住该开口部分。然后，通过安装驱动用IC122、124和FPC基板150，形成与图10所示的液晶器件90相同的液晶面板100。

如以上所述，在本实施例中，因TFD320的第2金属膜3122、3124和数据线3100之中的反射性导电膜3120由反射性导电膜3320的同一层形成，所以制造工艺并不那么复杂。另外，因数据线3100含低电阻的反射性导电膜3120，所以该布线电阻减少。

另外，根据本实施例，第2金属膜3122、3124或反射性导电膜3120、3320虽然各自都是银合金等，但由于与布线350、360、370的反射性导电膜352、362、372一样，被ITO等透明导电膜3140、3340覆盖得不向外部暴露，所以能够防止腐蚀和剥离，其结果是可以提高液晶器件的可靠性。

另外，虽然本实施例的TFD320是将第1 TFD320a和第2 TFD320b制成相互反向的结构，以使电流一电压特性在正负两方向上具有对称性，但是如果对电流一电压特性的对称性没有那么高的要求的话，当然只用1个TFD也是可以的。

本实施例的TFD320原本就是2端型开关元件的一个例于。因此，作为有源元件，除能用采用ZnO(氧化锌)可变电阻或MSI(MetalSemi-Insulator，金属-半导体-绝缘体)等单一元件外，还能使用将2个这类元件反向串联连接或并联连接的单元等作为2端开关元件。此外，除这类2端型元件外，还可设置TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)元件、用这些元件进行驱动、同时通向这些元件的布线的一部分或者全部利用反射图形的同一导电层而构成。

图23和图24中设置在反射性导电膜3320上的透明导电膜3340，以比反射性导电膜3320大的形式形成，故而透明导电膜3340的边缘部分34伸出到反射性导电膜3320的外侧。因此，该边缘部分34的底面如图24所示与基底膜303相接触。

在本实施例中，如图24中箭头R所示，反射性导电膜3320在反射显示时构成光反射区。另外，当用来自背光25的光进行透射显示时，如图24中箭头T所示，边缘部分34具有光透过区的作用，起到将光引向液晶160的作用。

如图23所示，透明导电膜3340的边缘部分34，在被黑掩模33分隔而成的1个长方形区的显示点内，沿纵向的黑掩模33和横向的黑掩模33两方设置成环形。因此，即使在反射性导电膜3320和黑掩模33之间有制造误差，或者由于其他某种原因在纵向和/或横向产生位置偏离，1个显示点内的光反射区的面积和光透过区的面积的比例也不发生变化。因此，按照本实施例，即使在液晶器件的显示方式在反射型和透射型之间变化的场合，也能够防止显示品质发生变化。

<应用例·变例>

虽然在图11所示的实施例中是借助于掺入密封材料110中的导电粒子114使公用电极210和布线350导通的，但也可制成借助于在密封材料110的框外另外设置的区域实现导通的结构。

另外，由于图11所示的公用电极210与段电极310，或图23所示的扫描线2100和数据线3100有互相相对的关系，所以可以当在前面基板200上形成段电极310时，同时也在背面基板300上形成公用电极300，以及当在前面基板200上形成数据线3100时，同时也在背面基板300上形成扫描线2100。

另外，在以上的说明中，虽然作为例子举出使用滤色片进行彩色显示的液晶器件进行了说明，但本发明也能应用于不使用滤色片的、进行黑白显示的液晶器件。

另外，虽然在上述实施例中，作为液晶使用了TN型，但也可使用BTN(Bi-stab1e Twisted Nematic，双稳态扭曲向列)型，具有铁电型等存储性的双稳态型，高分子分散型，甚至是将在分子的长轴方向和短轴方向对可见光的吸收具有各向异性的染料(即宾)溶解在有恒定的分子排列的液晶(即主)中，使染料分子与液晶分子平行排列的GH(宾主)型等液晶。

另外，也可以作成不施加电压时液晶分子对两基板在垂直方向排列，而当施加电压时液晶分子对两基板在水平方向排列的垂直取向(即垂面取向)的结构，或者也可以作成不施加电压时液晶分子对两基板在水平方向排列，而当施加电压时液晶分子对两基板在垂直方向排列的平行取向，即水平取向，或沿面取向的结构。这样，在本发明中，作为液晶或取向方式可以应用于各种制品。

(液晶器件的第7实施例)

图28示出了本发明的液晶器件的又一实施例的主要部分。这里示出的液晶器件是简单矩阵方式液晶器件，图28所示的结构在平面上示出了夹持液晶相互对置的电极的交叉部分，即显示点部分。

在图28中，在附图的跟前面一侧设置了沿Y方向并列、沿X方向延伸的多条公用电极11。另外，在附图的内侧设置了沿X方向并列、沿Y方向延伸的多条段电极10。段电极10通过在作为反射性导电膜的APC膜18之上层叠作为金属氧化物膜的ITO膜19而形成。ITO膜19覆盖了APC膜18的全部上表面和侧面。ITO膜19之中不存在APC膜18的边缘部分34构成使光透过并将其引向液晶的光透过区。

具有图28所示的电极结构的本实施例的液晶器件的整体结构与图2所示的液晶器件1相同，图28所示的公用电极11和段电极10等用与在图2中以相同符号表示的电极等相同的材料，并在相同位置上配置。

公用电极11和段电极10的交叉部分构成1个显示点，对应于这一显示点，逐一设置了滤色片13(参照图2)内的每一色素层13r、13g、13b。在图28中，红色素层用“R”，绿色素层用“G”，而蓝色素层用“B”表示。虽然图28的场合的滤色片的颜色排列是条形排列，但根据需要也可采用其他排列，例如三角形排列、镶嵌形排列等。

作为显示的最小单位的显示点可以考虑是被图2中的黑掩模3 3包围的区域。该黑掩模33在本实施例的场合以如图29所示的将长方形显示点分隔开的形式形成，在该显示点内配置了APC膜18。在图29中只示出了APC膜18和黑掩模33的位置关系，其他光学要素的图示从略。

如图29所示，APC膜18以覆盖显示点内的一部分区域的形式形成。其结果是，与显示点的一部分对应、形成APC膜18的区域，即光反射区17具有使从上基板3(参照图2)入射的光反射，进行反射型显示用的区域的功能。

显示点之中光反射区17以外的区域，即被APC膜18覆盖的区域以外的区域，即与IT0膜19的边缘部分34相当的区域，具有使从作为背光的照明装置25(参照图2)发出、入射至下基板2的光透过，进行透射显示的区域，即光透过区的功能。

在本实施例中，APC膜18的形状以如下方式选定：光反射区17和光透过区34沿划定与显示点对应的区域的4条边，即划定黑掩模33的开口区域的4条边中的每一条相邻接。

例如通过在图29中将在显示点内的大致为中央部位的APC膜18的横向宽度在横向形成得宽些，从而对于显示点的4条边中的每一条，当从该边的一端走向另一端时，沿着该边，各区域按照光透过区34、光反射区17、光透过区34的顺序相邻接。

换言之，当假定与该显示点的各边接近，且与该边平行的直线L在该显示点内时，该直线L就通过光反射区17和光透射区34两方。

进而在本实施例中，APC膜18的形状被选定为，使沿显示点的各边相邻接的光反射区17和光透射区34之中沿着该边的长度大致相等。具体而言，显示点之中沿在Y方向延伸的边的光反射区17的长度La1与沿该边的光透过区34的长度La2(＝La2’+La2”)大致相等。

用以下的做法可以防止由于如以上所述在本实施例中光反射区17和光透过区34在1个显示点内沿该显示点的周边相邻接，在该显示点内的光反射区17和光透过区34的面积比率方面产生由制造上的误差所致的分散性。

即，作为设置1个显示点内的光反射区和光透过区用的结构，也可考虑例如图30所示的结构。即，以显示点之中沿着在Y方向延伸的2条边的区域作为光透过区34，而以被该光透过区34夹持的区域作为光反射区17。另外，在图30中，在设计上应具有显示点功能的区域，作为被虚线包围的区域29而示出。

即，区域29是在设计时预先确定作为基板面内之中的、公用电极11和段电极10(参照图2)应该对置的区域的区域。不过，由于公用电极11、APC膜18和段电极10可以利用光刻或刻蚀等技术以极高的精度获得，所以可以说将公用电极11和段电极10实际相向的区域考虑成区域29也无妨。

这里，将要着眼于制造液晶器件的工序之中将APC膜赖以形成的图2中的下基板2和黑掩模3 3赖以形成的上基板3贴合起来的工序。在该工序中，一般是一边进行两基板之间的相对位置调整，一边将该两基板贴合。这时，假如例如由于制造技术上的原因等，两基板在X方向上的相对位置发生了偏离，则如图30(b)所示，应该具有显示点功能的区域29之中的光透过区34，更具体地说，图30中左侧的光透过区34被黑掩模33覆盖。

因此，本来应该具有显示点功能的区域29中的光透过区34变得不能对显示做出贡献。也就是说，占据显示点的光透过区34的面积，与黑掩模配置恰当的场合，即图30(a)的场合相比变小了。另一方面，即使在产生了这样的基板位置偏离的场合，光反射区17也不会被黑掩模33覆盖。也就是说，占据显示点的光反射区17的面积与图30(a)所示的场合一样。这样，在图30所示的结构中，起因于基板贴合误差使光透过区34的面积减小，相反，光反射区17的面积却不变，所以透射型显示的明亮度与反射型显示的场合相比变暗，明亮度随显示方式发生变化。

与此相对照，在本实施例中，光反射区17和光透过区34沿划定1个显示点的多条边中的每一条相邻接。因此，上基板3(参照图2)和下基板2的相对位置，从图31(a)所示的适当位置，即设计上的位置来看，在X方向偏离的场合，如图31(b)所示，光透过区34的面积与光反射区17的面积一同减小。也就是说，按照本实施例，即使在APC膜18和黑掩模33的相对位置发生偏离的场合，也能避免光透过区34或光反射区17中仅仅某一方的面积减小，从而能够防止透射型显示和反射型显示之间产生显示品质方面的差异。

此外，在本实施例中，沿显示点的1边相邻接的光反射区17和光透过区34之中沿着该1边的长度变得大致相等。因此在APC膜18和黑掩模33的相对位置发生偏离时，可以使光反射区17和光透过区34所减少的面积大致相等。因此，按照本实施例，能够更可靠地抑制透射型显示和反射型显示中在显示品质方面产生差异。

(液晶器件的第8实施例)

图32示出了本发明的液晶器件的又一实施例的主要部分。这里示出的液晶器件是简单矩阵方式的液晶器件，图32所示的结构在平面上示出了夹持液晶互相相向的公用电极11和段电极10的交叉部分，即显示点部分。

在本实施例中，作为覆盖反射性导电膜APC膜18的金属氧化物膜的ITO膜19，以比该APC膜18宽的宽度形成，ITO膜19的边缘部分34覆盖了APC膜18的全部侧面。本实施例的边缘部分34，在作为与黑掩模33的Y方向部分相平行地延伸的长方形区域的APC膜18的两侧形成。

在以透射型显示使用本实施例的液晶器件的场合，ITO膜19的边缘部分34起着使光透过并将其引向液晶的光透过区的作用。在本实施例中，即使APC膜18相对于黑掩模33有位置偏离，只要该位置偏离的尺寸在边缘部分34的宽度尺寸以内，该APC膜18在位置上就不与黑掩模33重叠。因此，即使在APC膜18发生位置偏离的场合，在光反射区的面积与光透过区的面积之间也不会发生大的变化，从而在反射显示和透射显示之间，显示品质不会发生大的变化。

本实施例与图29所示的实施例不同，在APC膜18的内部区域形成了透光用的开口28。这样，在透射显示时就可以向液晶供给多量的光。因此，希望在透射显示时有明亮的显示的场合，可以设置这样的开口28。

(液晶器件的第9实施例)

图33示出了本发明的液晶器件的又一实施例的主要部分。这里示出的液晶器件是简单矩阵方式的液晶器件，图33所示的结构在平面上示出了夹持液晶互相相向的公用电极11和段电极10的交叉部分，即显示点部分。

在本实施例中，作为覆盖反射性导电膜APC膜18的金属氧化物膜的ITO膜19，在X方向和Y方向两方以比该APC膜18宽的宽度形成，ITO膜19的边缘部分34覆盖了APC膜18的全部侧面。本实施例的边缘部分34，在各个显示点内在黑掩模33的内侧、APC膜18的外侧区域形成环形，即框形。

在以透射型显示使用本实施例的液晶器件的场合，ITO膜19的边缘部分34起着使光透过并将其引向液晶的光透过区的作用。在本实施例中，即使APC膜18相对于黑掩模33有位置偏离，只要该位置偏离的尺寸在边缘部分34的宽度尺寸以内，该APC膜18在位置上就不与黑掩模33重叠。因此，即使在APC膜18在X方向和Y方向两个方向上发生位置偏离的场合，在光反射区的面积与光透过区的面积之间也不会产生大的变化，从而在反射显示和透射显示之间显示品质不会发生大的变化。

(液晶器件的第10实施例)

图34和图35放大示出了本发明的液晶器件的又一实施例的主要部分，特别是1个显示点部分。该液晶器件的整体结构例如可以设定为图36所示的那样。另外，当考虑用例如R(红)、G(绿)、B(蓝)3原色进行彩色显示的场合时，上述1个显示点是对应于这3种颜色中每一种的点，集合3个这样的显示点就形成1个像素。另外，当考虑进行黑白显示的场合时，上述1个显示点直接相当于1个像素。

本实施例的液晶器件是用3端型有源元件TFT(Thin FilmTransistor，薄膜晶体管)作为有源元件的有源矩阵方式的半透射半反射型液晶器件，并且是将驱动用IC直接安装在基板上的方式的COG(Chip On Glass，芯片在玻璃上)方式的液晶器件。

在图36中，液晶器件401通过将驱动用IC404a和404b安装在液晶面板405上，并且附设作为照明装置的背光25而形成。背光25附设在与观察侧相反一侧的第1基板单元402a的外侧。

液晶面板405将第1基板单元402a和第2基板单元402b通过在它们周边部分的环形密封材料403贴合在一起，并且如图34所示，在第11基板单元402a和第2基板单元402b之间的间隙，即盒隙内封入液晶而形成。

在图36中，在第1基板402a的被密封材料403围住的内部区域内，多个点状像素电极以涉及行方向XX和列方向YY的矩阵状的排列形成。另外，在第2基板402b的被密封材料403围住的内部区域内，形成无图形的面状电极，该面状电极与第1基板402a一侧的多个像素电极相向配置。

由第1基板402a上的1个像素电极和第2基板402b上的面状电极将液晶夹住的部分形成1个显示点，通过在被密封材料403围住的内部区域内将多个该显示点排列成点阵状形成显示区V。通过驱动用IC404a和404b在形成多个显示点的对置电极间有选择地施加扫描信号和数据信号，对每个显示点控制液晶取向。借助于对该液晶的取向控制来调制通过该液晶的光，在显示区V内显示文字、数字等图像。

图34放大示出了液晶器件401中构成显示区V的多个显示点之中的1个的剖面结构。另外，图35示出了该显示点的平面结构。还有，图34示出了沿图35的I-I线的剖面结构。

在图34中，第1基板单元402a包含由玻璃、塑料等形成的第1基板406a。在该第1基板406a的液晶一侧的表面上形成了具有开关元件功能的作为有源元件的TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)407，在该TFT407上形成有机绝缘膜408，在该有机绝缘膜408上形成像素电极409，进而在像素电极409上形成取向膜411a。在将第1基板单元402a和第2基板单元402b贴合之前对取向膜411a进行作为取向处理的摩擦处理。利用贴附等方法在第1基板406a的外侧表面贴装偏振片457a。

像素电极409由在有机绝缘膜408上形成的反射性导电膜18和层叠在其上的金属氧化物膜19的叠层结构形成。反射性导电膜18例如由银单质或以银为主成分的合金，如APC合金形成。另外，金属氧化物膜19由例如ITO形成。金属氧化物膜19比反射性导电膜18有更大的面积，其边缘部分3 4向反射性导电膜18的外周边的外侧伸出。该边缘部分34如图35所示，沿反射性导电膜18的整个外周边形成。

在图34中，与第1基板单元402a相向的第2基板单元402b包含由玻璃、塑料等形成的第2基板406b。在该第2基板406b的液晶表面上形成具有设定图形形状的滤色片412，以掩埋在该滤色片412之间的方式形成黑掩模415。进而，在滤色片412和黑掩模415上形成透明电极413，再在该电极413上形成取向膜411b。电极413是用ITO(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)等在第2基板406b的整个表面上形成的面电极。利用贴附等方法在第2基板406b的外侧表面贴装偏振片457b。

滤色片412，以用R(红)、G(绿)、B(蓝)3原色的色素膜或者C(深蓝)、M(深红)、Y(黄)3原色的色素膜作为1个单元在平面内排列成矩阵状，进而各色的色素膜排成设定的平面排列，例如条形排列、三角形排列、镶嵌形排列。另外，3原色的各个色素膜与各个显示点一一对应，换言之，以与第1基板406a一侧的像素电极409的每一个相向的方式形成。上述黑掩模415对应于不存在像素电极409的区域形成。

在图34中，第1基板单元402a和第2基板单元402b之间的间隙，即盒隙的尺寸利用散布在某一方基板的表面上的球形衬垫414保持住，在该盒隙内封入液晶456。

TFT407包括在第1基板406a上形成的栅电极416、在该栅电极416之上在第1基板406a的全区形成的栅绝缘膜417、夹着该栅绝缘膜417在栅电极416的上方位置形成的半导体层418、在该半导体层418的一侧经接触电极419形成的源电极421以及在半导体层418的另一侧经接触电极419形成的漏电极422。

如图35所示，栅电极416由栅极总线布线423延伸出来。另外，源电极421由源极总线布线424延伸出来。多条栅极总线布线423在第1基板406a的横向延伸，向纵向以等间隔平行地形成。另外，多条源极总线布线424向纵向延伸，向横向以等间隔平行地形成，使得夹着栅绝缘膜417(参照图34)与栅极总线布线423相交叉。

栅极总线布线423与图36的驱动用IC404a和404b的一方连接，例如起着扫描线的作用。另一方面，源极总线布线424与驱动用IC404a和404b的另一方连接，例如起着信号线的作用。

另外，像素电极409如图35所示，以覆盖被相互交叉的栅极总线布线423和源极总布线424分隔成的方形区域之中除了与TFT407对应的部分外的区域的方式形成。

这里，像素电极409的外周边由金属氧化物膜19的外周边决定，该金属氧化物膜19的边缘部分34伸出至反射性导电膜18的外侧。由于在设计上，相邻的像素电极409之间埋以黑掩模415，所以边缘部分34配置在黑掩模415的内侧，反射性导电膜18的外侧。在图34中，在光从背光25射出的场合，该光透过上述边缘部分34，提供给液晶456。

图35的栅极总线布线423和栅电极416由例如铬、钽等形成。另外，图34的栅绝缘膜417由例如氮化硅(SiNx)、氧化硅(SiOx)等形成。

另外，半导体层418由例如a-Si、多晶硅、CdSe等形成。另外，接触电极419由例如a-Si等形成。另外，源电极421、与之一体的图35的源极总线布线424以及图34的漏电极422由例如钛、钼、铝等形成。

图34所示的有机绝缘膜408覆盖了图35的栅极总线布线423、源极总线布线424和TFT407，在第1基板406a上的全区形成。不过在有机绝缘膜408的与漏电极422对应的部分上形成接触孔426，在该接触孔426的部位像素电极409和TFT407的漏电极422导通。

在本实施例中，因像素电极409中含反射性导电膜18，所以到达该像素电极409的光能被该反射性导电膜18反射。这时，在用镜面反射不适宜的场合，可以在反射性导电膜18的表面形成多个微细的凸部和/或凹部以形成适度的散射光。

因本实施例的液晶器件401以如上方式构成，所以在用外部光进行反射显示的场合，如图34中的箭头R所示，从观察一侧，即第2基板单元402b一侧进入液晶器件401内部的外部光，通过液晶456到达像素电极409的反射性导电膜18，被该导电膜18反射，再次供给液晶456。另一方面，在利用从背光25射出的光进行透射显示的场合，如箭头T所示，来自背光25的光透过第1基板406a和像素电极409的金属氧化物膜19的边缘部分34，供给液晶456。

液晶456通过由扫描信号和数据信号选择的、施加在像素电极409和对置电极413之间的电压，对每个显示点控制其取向。在反射显示和透射显示的任何一种场合，当液晶456的取向被控制时，供给该液晶456的光在每个显示点被取向受到控制的液晶456调制，由此在观察一侧显示出文字、数字等图像。

如以上所述，在本实施例中，由设置在像素电极409的周边部分的边缘部分34形成光透过区，利用该光透过区实现透射显示。由于设置了此边沿部分34，所以即使在像素电极409的反射性导电膜18对黑掩模415产生相对位置偏离的场合，只要该位置偏离在边沿部分34的尺寸以内，反射性导电膜18就不会被黑掩模415遮住。其结果是，在起因于贴合第1基板单元402a和第2基板单元402b时的误差或其他制造上的误差而使像素电极409产生位置偏离的场合，也能抑制透射显示和反射显示之间在显示品质方面发生变化。

(电子装置的实施例)

下面举出实施例对使用上述液晶器件构成的电子装置进行说明。

图37示出了作为本发明的电子装置的一个实施例的便携式个人计算机。这里所示的个人计算机1100由备有键盘1102的主机部1104和液晶显示单元1106构成。该液晶显示单元1106例如可以用图11所示的液晶器件90构成。

根据以上的结构，在本实施例的个人计算机1100中，当有外光时可作为反射型，当外光不充分时可以点亮背光作为透射型而看到显示。另外，由于用位于光反射膜的外侧的透明金属氧化物膜的边缘部分作为光透过区，所以能够抑制反射型和透射型之间显示品质的变化，进行没有不谐和感的显示。

图38示出了作为本发明的电子装置的另一实施例的移动电话机。这里所示的移动电话机1200除有多个操作按键1202外，还具有受话口1204、送话口1206以及液晶显示单元1208。该液晶显示单元1208例如可以用图11所示的液晶器件90构成。在该移动电话机1200中，也能够抑制反射型显示和透射型显示之间的显示品质的变化，进行没有不谐和感的显示。

图39示出了作为本发明的电子装置的又一实施例的数码相机，使用液晶器件作取景器的制品。普通的照相机利用被摄物体的光像光使胶片感光，与此相对照，数码相机1300则是借助于CCD(ChargeCoupled Device，电荷耦合器件)等摄像元件对被摄物体的光像进行光电转换，生成摄像信号的照相机。

其结构为：在数码相机1300的外壳1302的背面设置了液晶显示单元1303，根据由CCD产生的摄像信号进行显示。因此，液晶显示单元1303具有显示被摄物体的取景器的功能。液晶显示单元1303例如可以用图11所示的液晶器件90构成。

在外壳1302的前面(图中为后面)设置了包含光学镜头、CCD等的受光单元1304。如摄影者确认在液晶显示单元1303上显示出的被摄物体的像，并按下快门按钮1306，则该时刻的CCD的摄像信号就被传送至电路基板1308的存储器，并存储在那里。另外。在该数码相机1300的外壳1302的侧面，设置了视频信号输出端点1312和数据通信用的输入、输出端点1314。因此，如图所示，可以根据需要将电视监视器1430连接到视频信号输出端点1312，或者将个人计算机1440连接到数据通信用的输入、输出端点1314。进而形成了存储在电路基板1308的存储器中的摄像信号通过设定的操作输出至电视监视器1430或个人计算机1440中的结构。

图40示出了作为本发明的电子装置的又一实施例的手表型电子装置。这里所示的手表型电子装置1500包含作为被手表本体1504支撑的显示部的液晶显示单元1502，该液晶显示单元1502例如可以用图11所示的液晶器件90构成。液晶显示单元1502被设置在手表本体1504内部的控制电路1506控制，将时刻、日期等作为信息进行显示。

另外，作为电子装置，除以上说明过的个人计算机、移动电话、数码相机和手表型电子装置外，还可举出液晶电视、取景器型或监视器直视型磁带录像机、汽车导行装置、寻呼机、电子记事本、计算器、文字处理器、工作站、电视电话机、POS终端机、具有触摸屏的装置等。因此，不言而喻，本发明的液晶器件可以用作这些各种电子装置的显示部。

[发明的效果]

如以上说明的那样，按照本发明，即使在制造液晶器件时产生各种误差的场合，也能抑制半透射半反射膜中的光透过区和光反射区之间产生面积比率的分散性，据此，在液晶器件的显示方式变化的场合也能够防止在显示品质方面产生分散性。

Claims (20)

1.一种液晶器件，由在第1基板和第2基板之间配置液晶而构成，其特征在于：

包括

多个显示点；

在上述第1基板上形成的反射性导电膜；

层叠在该反射性导电膜上、且边沿部分与上述第1基板相接触的透光性金属氧化物膜；

在第2基板上形成的黑掩模；以及

从上述第1基板的外侧向上述液晶照射光的照明装置；

上述边缘部分构成光透射区域，上述反射性导电膜构成光反射区域；

上述黑掩模与邻接的多个显示点的间隔相对而配置。

2.如权利要求1所述的液晶器件，其特征在于：

与上述第1基板接触的上述边沿部分构成半透射半反射方式的液晶显示的1个显示点内的透光部。

3.如权利要求1所述的液晶器件，其特征在于：

与上述第1基板接触的上述边沿部分的面积为该边沿部分所属的1个显示点的面积的10～70％，最好是30～50％。

4.一种液晶器件，由在第1基板和第2基板之间配置液晶而构成，其特征在于：

包括

在上述第1基板上设置的基底膜；

在该基底膜上形成的反射性导电膜；

层叠在该反射性导电膜上、且边沿部分与上述基底膜相接触的透光性金属氧化物膜；以及

从上述第1基板的外侧向上述液晶照射光的照明装置。

5.如权利要求4所述的液晶器件，其特征在于：

与上述基底膜接触的上述边沿部分构成半透射半反射方式的液晶显示的1个显示点内的透光部。

6.如权利要求4所述的液晶器件，其特征在于：

上述基底膜含金属氧化物。

7.如权利要求4所述的液晶器件，其特征在于：

与上述基底膜接触的上述边沿部分的面积为该边沿部分所属的1个显示点的面积的10～70％，最好是30～50％。

8.如权利要求1或4所述的液晶器件，其特征在于：

在上述反射性导电膜的上表面有反射蓝色成分的光的反射层。

9.如权利要求1或4所述的液晶器件，其特征在于：

上述反射性导电膜为银单质或含银的合金。

10.如权利要求1或4所述的液晶器件，其特征在于：

上述金属氧化物膜是ITO(Indium Tin Oxide：氧化铟锡)。

11.一种电子装置，其特征在于：

它含有权利要求1或2所述的液晶器件。

12.如权利要求1或4所述的液晶器件，其特征在于：

上述反射性导电膜和上述金属氧化物膜构成用于对上述液晶施加电压的第1电极。

13.如权利要求12所述的液晶器件，其特征在于：

具有与上述第1电极相向，在上述第2基板上形成的第2电极；以及

对应于上述第1电极和上述第2电极的交叉区域设置的着色层。

14.如权利要求12或权利要求13所述的液晶器件，其特征在于：

上述第1电极为构成简单矩阵方式的液晶器件的条状电极。

15.如权利要求12或权利要求13所述的液晶器件，其特征在于：

上述第1电极为构成有源矩阵方式的液晶器件的点状电极。

16.如权利要求12所述的液晶器件，其特征在于：

具有与上述第1电极相向，在上述第2基板上形成的第2电极；

与上述第1电极相连接的布线；以及

与上述第2电极相连接的布线，

显示区由上述第1电极和上述第2电极的交叉区域的集合形成，与上述第1电极相连接的布线及与上述第2电极相连接的布线存在于上述显示区的外侧，上述布线中的至少一方由金属氧化物形成，不含反射性导电膜。

17.一种液晶器件的制造方法，用于制造在第1基板和第2基板之间配置液晶而构成的具有多个显示点的液晶器件，其特征在于：

在与互相邻接的上述透光性金属氧化物模的间隙相对的上述第2基板上形成作为遮光膜的黑掩膜的工序；和

在上述第1基板的外侧设置将光照射的照明装置的工序；

上述黑掩模的宽度被形成与互相邻接的上述透光性的金属氧化物膜的间隔相等，而比互相邻接的上述反射性导电膜的间隔狭窄。

包括

在上述第1基板上形成反射性导电膜的工序；

在上述反射性导电膜上形成边沿部分与上述第1基板相接触的透光性金属氧化物膜的工序；

在上述第2基板上形成黑掩模的工序；以及

在上述第1基板的外侧设置照射光的照明装置的工序；

上述边缘部分构成光透射区域，上述反射性导电膜构成光反射区域；

上述黑掩模与邻接多个显示点的间隔相对而配置。

18.一种液晶器件的制造方法，用于制造在第1基板和第2基板之间配置液晶而构成的液晶器件，其特征在于：

包括

在上述第1基板上形成基底膜的工序；

在该基底膜上形成反射性导电膜的工序；

在上述反射性导电膜上形成边沿部分与上述基底膜相接触的透光性金属氧化物膜的工序；以及

在上述第1基板的外侧设置照射光的照明装置的工序。

19.一种半透射反射型液晶器件，将液晶配置在第1基板和第2基板之间而构成，其特征在于：具有

在上述第1基板上形成的反射性导电膜；

在该反射性导电膜上叠层、并且具有从该反射性导电膜的边缘突出的部分的透光性金属氧化物膜；

在与互相邻接的上述透光性金属氧化物膜的间隙相对的上述第2基板上形成作为遮光膜的黑掩模；和

从上述第1基板的外侧将光照射向上述液晶的照明装置；

上述黑掩模的宽度被形成与互相邻接的上述透光性的金属氧化物膜的间隔相等，而比互相邻接的上述反射性导电膜的间隔狭窄。

20.一种半透射反射型液晶器件的制造方法，该液晶器件将液晶配置在第1基板和第2基板之间而构成，其特征在于：具有

在上述第1基板上形成反射性导电膜的工序；

在上述反射性导电膜上形成透光性金属氧化物膜，使之从上述反射性导电膜的边缘突出的工序；

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