CN1165039C - 光盘记录方法和装置 - Google Patents

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Abstract

一种在一次写入型光盘上记录的方法。通过具有对应于形成的凹坑的长度的脉冲宽度的记录脉冲激励光发射的激光束，以实质上前端脉冲跨过多个阶段的记录功率，照射在一次写入型光盘上用来记录。这使得能够以快于四倍速的速度用凹坑形状来记录，比如以八倍速或十二倍速。

Description

光盘记录方法和装置
                          技术领域
本发明涉及一种标记长度记录系统的光盘记录方法和装置，其中激光照射在光盘的记录表面形成用于信息记录的凹坑。特别是，涉及用于以高于四倍速的速度记录的记录光盘的方法和装置，比如以八倍速或十二倍速记录。
                          背景技术
到目前为止，在记录介质比如光盘上记录信息时，按照光调制系统，为了最理想地在盘上形成凹坑(标记)，能量(thermal)控制由激光的脉冲发射实现。特别是，脉冲波形设置为用于驱动激光器的驱动脉冲，同时在每个脉冲周期的电平(波峰值)也被控制，来控制激光功率和激光功率和激光照射周期。
例如，在以CD-R(可记录CD)或CD-RW(可重写CD)为代表的光学记录和/或再现装置中，使用了脉冲长度控制系统或脉冲序列记录系统，其中照射的激光的脉冲长度或脉冲数量依赖于将被记录的记录标记的长度或间隔长度来改变，以控制激光功率的输出范围。
作为CD-R的最新标准，黄皮书(Orange-Book)第二部分(版本3.1)，作为一倍速、双倍速和四倍速的记录标准被批准。激光发射控制涉及写速度，也就是如图1和图2所示规定的记录策略(记录补偿)。换句话说，在CD-R标准中，信息通过3T到11T的凹坑(标记)和平台(间隔)的组合被记录在光盘中。对于单倍速和双倍速记录的记录策略(strategy)，规定了(n-θ)T+αT的激光功率输出范围，其中θ＝1T和α＝0.13T，形成nT凹坑(标记)的激光功率为Pw，如图1所示。对于四倍速记录的记录策略，(n-θ)T和ODT分别被规定为是激光功率Pw和激光功率ΔP的输出范围，形成nT凹坑(标记)的激光功率为Pw+ΔP，其中ΔP是Pw的20％到30％和ODT被设为1.25T到1.5T。注意单倍速在这里意味着盘以恒定的线速度(CLV)旋转时是1.2到1.4m/s的速度。
同时，如果由上述黄皮书(Orange Book)标准规定的以单倍速记录、双倍速记录和四倍速记录为前提的记录策略，应用于以高于四倍速的速度记录，比如八倍速或十二倍速记录时，在将被记录的凹坑和平台编码之间发生能量干涉，结果由于变形的凹坑形状或增加的抖动，记录信号在信号质量上恶化。
也就是说，如图3所示，记录数据和凹坑之间的理想关系是，对于长度等于nT的记录数据，长度等于nT的凹坑被制成椭圆形。现在例如八倍速记录如果使用对于单倍速记录和双倍速记录的记录策略，如图4所示，则形成泪滴形凹坑，其中凹坑的形迹末端一侧在垂直于轨迹中心的方向上延伸。如果使用对于四倍速记录的记录策略，如图5所示，再次形成泪滴形凹坑，它在八倍速记录的情况下，关于在垂直于轨迹中心的方向上凹坑的延伸仅有些微的改善。
在图4和图5中，时间段A和B表示从激光发射的开启到凹坑形成处理的开始的时间延迟。另一方面，时间段a、b和c表示从激光发射的关闭到凹坑形成处理的终止的时间延迟。
如果由于凹坑形状的变形或增加的抖动，记录信号在质量上恶化，则存在不能实现规则再现的风险。
                            发明内容
因此，本发明的目的是提供一种光盘记录方法和装置，用于能够以比四倍速更快的速度，比如八倍速或十二倍速使凹坑形成最佳形状。
一方面，本发明提供一种光盘记录装置，包括：记录脉冲产生装置，用于以多阶段(stage)的梯级(step)在记录脉冲的前端部分设定记录功率，并产生脉冲宽度对应于将要形成的凹坑的长度的记录脉冲；以及激光器装置，用于通过所提供的记录脉冲发射激光，以形成包括在记录介质的平台中间定义的凹坑和平台的记录数据串，其中通过记录脉冲产生装置产生的记录脉冲激光发出脉冲光照射在作为记录介质的一次写入光盘上，实现记录。
另一方面，本发明提供一种光盘记录方法，包括：产生具有与形成的凹坑的长度对应的脉冲宽度的记录脉冲，记录脉冲是在其前端使记录功率形成多个阶段的梯级来形成的，以及将由记录脉冲以脉冲光激发的激光束照射到一次写入光盘上，从而实现记录。
还在另一方面，本发明提供一种用于光记录介质的记录装置，包括：用于引起记录介质旋转的装置；用于控制旋转装置的旋转速度的控制器；用于通过为在记录介质上形成包括凹坑和凹坑的前面和后面的平台的记录数据串而提供的驱动脉冲发射激光的激光器装置；用于产生对应于记录数据的第一脉冲、用来合成到第一脉冲的前端的第二脉冲和用来合成到第一脉冲的前端的第三脉冲，并用于合成第一到第三脉冲产生驱动脉冲的驱动脉冲产生装置；以及脉冲产生控制装置，用于执行控制以使由驱动脉冲产生装置产生的第一到第三脉冲中的一个或更多个的电平或脉冲宽度依赖于形成的凹坑和平台的长度中的至少一个而改变。
仍在另一方面，本发明提供一种用于形成记录数据串的方法，包括：产生脉冲宽度对应于将要形成的凹坑的长度的第一脉冲、用来合成到第一脉冲的前端的第二脉冲和用来合成到第一脉冲的前端的第三脉冲；脉冲的脉冲电平或脉冲持续时间依赖于形成的凹坑的长度和形成的平台的长度中的至少一个而改变；合成第一到第三脉冲以产生记录脉冲，以及通过记录脉冲发射激光，以在以预定速度旋转的记录介质上形成包括凹坑和凹坑的前面和后面之间的平台的记录数据串。
按照本发明，如上所述，产生具有相应于形成的凹坑的长度的脉冲宽度的记录脉冲，在接近其前端具有跨过多个阶段的记录功率，并且由记录脉冲激发为脉冲光的激光被照射以实现记录，有可能减小由于编码之间也就是记录的凹坑和平台之间的符号间干涉产生的能量干涉，结果凹坑/平台可以被制成为最适宜的形状以能够产生有效的重放边缘，甚至以高速比如八倍速记录。另外，记录质量可以通过减少记录抖动来改善。
也就是说，使用本发明可以用高于四倍速，比如八倍速或十二倍速实现以最佳的凹坑形状记录。
                          附图说明
图1A和1B示出了如黄皮书(Orange-Book)标准规定的以一倍速记录和双倍速记录的记录策略的波形图。
图2A和2B是表示如黄皮书(Orange-Book)标准规定的以四倍速记录的波形图。
图3A和3B说明了理想的记录状态。
图4A和4B说明了使用单倍速记录和双倍速记录的记录策略在八倍速记录时的凹坑变形。
图5A和5B说明了使用四倍速记录的记录策略在八倍速记录时的凹坑变形。
图6是表示具体使用本发明的光盘记录和/或再现装置的结构的方框图。
图7是表示使用在图6所示的光盘记录和/或再现装置中的记录策略的波形图。
图8是表示在如图6所示的光盘记录和/或再现装置中的记录脉冲产生电路的特定的例证性的结构方框图。
图9是表示图6所示的光盘记录和/或再现装置的记录操作的波形图。
图10是表示在涂有蓝色素基的有机染料的CD-R上以八倍速记录获得的重放3T凹坑抖动特性的测量结果的曲线图。
图11是表示在涂有蓝色素基的有机染料的CD-R上以八倍速记录获得的重放3T平台抖动特性的测量结果的曲线图。
图12是表示在涂有酞青基的有机染料的CD-R上以八倍速记录获得的重放3T凹坑抖动特性的测量结果的曲线图。
图13是表示在涂有酞青基的有机染料的CD-R上以八倍速记录获得的重放3T平台抖动特性的测量结果的曲线图。
图14是表示在图6所示的光盘记录和/或再现装置中使用的记录策略的修正的波形图。
图15是具体实现本发明的记录激光功率控制系统的方框图。
图16A到16E说明了具体实现本发明的记录激光模式和驱动脉冲。
图17到22说明了具体实现本发明的典型的记录激光模式。
                          具体实施方式
参照附图，本发明最佳的实施例将更详细地被说明。
本发明被应用于结构如附图6所示的光盘记录和/或再现装置100。
如图6所示，光盘记录和/或再现装置100是标记长度记录系统的盘驱动，其中CD-R(可记录CD)，也就是一次写入光盘1由主轴马达2以CLV旋转驱动，并且其中激光由光头3照射在光盘1的记录表面形成凹坑，实现数据记录和/或再现。光盘记录和/或再现装置100包括与主轴马达2和光头3连接的伺服电路4、与光头3连接的记录脉冲产生电路5、同样与光头3连接的重放信号处理电路6、与记录脉冲产生电路5和重放信号处理电路6连接的编码器/解码器电路7、与编码器/解码器电路7连接的SCSI接口电路8、以及与伺服电路4、编码器/解码器电路7和SCSI接口电路8连接的系统控制器9，并通过SCSI接口电路8与外部主机10连接。
按照从主机10通过SCSI接口电路8提供的控制命令的控制操作，由主机10控制伺服电路4。伺服电路4驱动控制主轴马达2，以引起光盘以CLV旋转，从而在数据记录和/或再现时，光盘1的记录表面上的目标区域将由光头3存取。伺服电路4也控制光头3的供给、聚焦和跟踪。
在光盘记录和/或再现装置100中，将被写入的数据从主机10通过SCSI接口电路8发送到编码器/解码器电路7，在电路7中将被写入的数据被编码为需要的数据格式的信号，例如，EFM信号，以便被送到记录脉冲产生电路5。
根据记录和/或再现装置的光学系统的记录速度特性或记录介质的染料材料、反射膜的材料类型、线速度，光盘记录和/或再现装置100中的记录脉冲产生电路5对编码器/解码器电路7提供的EFM(8到14调制的)信号执行记录策略(记录补偿)处理，以产生记录脉冲。
图7表示由记录脉冲产生电路5产生的典型的记录脉冲。
在图7中，在3T到11T的记录脉冲输出期间，记录脉冲ODT1和OTD2按以下的范围可变地设定
OT≤ODT1≤3.0T，Pw*0.0≤ΔP1≤Pw*0.5
OT≤ODT2≤3.0T，Pw*0.0≤ΔP2≤Pw*0.5
注意ODT1、ODT2、ΔP1和ΔP2之间的关系为
ODT1≥ODT2
ΔP1≥ΔP2
其间，如果以下的关系被保持，则可以对每一个记录脉冲3T到11T独立地改变记录脉冲的输出期间ODT1和ODT2：
ODT1(3T)≥ODT1(4T)≥......ODT1(11T)
ODT2(3T)≥ODT2(4T)≥......ODT2(11T)
注意，在比如光盘的记录介质上记录时，按照光调制记录系统，将被记录的凹坑的正前方的平台(间隔)的长度越短，越有可能产生能量干涉，因为直接记录先前的凹坑(标记)时堆积的热量没有充分地耗散。用本记录脉冲产生电路5，各个脉冲的脉冲长度能够被随意地并分别用适当的将被记录的凹坑(标记)和平台(间隔)的组合来改变，从而改变记录脉冲长度以便最优化跟随记录后的重放信号。
由记录脉冲产生电路5产生的记录脉冲被提供给装在光头3中用于激光驱动的激光器驱动器电路30。激光二极管由激光器驱动电路30按照记录脉冲的逻辑驱动，来引起激光二极管发光，以在光盘1上记录数据。
例如如图8所示，通过记录策略处理产生记录脉冲V1，用于大致在EQEFM记录脉冲V1的前端重叠两步堆栈部分ΔP1、ΔP2的记录脉冲产生电路5包括凹坑/平台长度检测电路51、EQEFM产生电路52、ODP1产生电路53和ODP2产生电路54。
在该记录脉冲产生电路5中，凹坑/平台长度检测电路51检测从编码器/解码器电路7发送的EFM信号的脉冲宽度和正前方的凹坑和平台长度。EQEFM产生电路52产生具有从EFM信号得出的预设电平和脉冲宽度的EQEFM记录脉冲V1，同时，ODP1产生电路53产生加入到大致在激光驱动脉冲的前端的ODP1记录脉冲V2，而ODP2产生电路54产生加入到大致在激光驱动脉冲的前端的ODP2记录脉冲V3。分别由EQEFM产生电路52、ODP1产生电路53和ODP2产生电路54产生的记录脉冲V1、V2、V3根据脉冲宽度或脉冲电平(电压值)被可变控制，该脉冲宽度或脉冲电平取决于由凹坑/平台长度检测电路51检测的EFM信号的脉冲宽度或正前方的凹坑长度或平台长度。
注意，开关SW1、SW2和SW3是转换开关电路，用于分别启用/停用记录脉冲、ODP记录脉冲V2和ODP记录脉冲V3，并由系统控制器9控制。
也就是说，系统控制器9响应于从主机10发送的写命令和模式设定命令，识别使用几倍速将从主机10传送来的记录数据记录在盘上。开关SW1、SW2和SW3响应于要求的写速度被转换。例如，如果写速度是一倍速或双倍速，开关SW2和SW3被关闭，停用ODP1产生电路53和ODP2产生电路54，以便ODP记录脉冲V2或ODP记录脉冲V3不被加入，如图1所示的记录脉冲。如果要求的写速度是四倍速，只有开关SW3关闭，从而不允许ODP记录脉冲V3被加入，如图2所示的记录脉冲。如在本发明中以八倍速或十二倍速记录数据时，开关SW1、SW2和SW3全部开启，允许图7所示的记录脉冲被输出。
在记录脉冲产生电路5中产生的记录脉冲V1到V3被传送到装在光头3上的激光器驱动电路30中。激光二极管LD由激光器驱动电路30按照每个记录脉冲的逻辑驱动，引起记录激光器发射光，来在光盘1上记录数据。在激光器驱动电路30中，由EQEFM产生电路52、ODP1产生电路53和ODP2产生电路54产生的记录脉冲V1到V3分别通过电流/电压转换电路31到33转换为记录电流信号I1到I3，它们由加法电路34累加并综合到一起产生驱动电流i(＝I1+I2+I3)，随后该电流被引发流过激光二极管LD，来驱动激光二极管LD，引发记录激光器发光，在光盘1上记录数据。
也就是说，在该记录脉冲产生电路5中，由总计在记录脉冲产生电路5中产生的记录脉冲V1到V3获得的驱动电流i作为电流值，被引发流过激光二极管LD，并且在近似EQEFM信号的前边界部分具有两步堆栈部分ΔP1和ΔP2的光发射波形的记录激光从激光二极管LD发射到光盘1的记录表面，如图9所示，在记录表面上形成包括凹坑和平台的轨迹。
在图9中，时间段C表示从激光发射打开到凹坑开始形成的时间延迟，同时时间段c表示从激光发射关闭到凹坑已经形成的时间延迟。时间段C和c可以由如下表示
C＜B＜A以及
c＜b＜a，
其中，时间段A和a是如图4所示使用对单倍速和双倍速记录的记录策略作出记录的情况下的时间段，和时间段B和b是如图5所示使用对于四倍速记录的记录策略的情况下的时间段。因此，上述时间段C和c比时间段A和a或B和b短。
因此，用依照本发明的光盘记录和/或再现装置100，在高速记录时能够形成更精确适应于EFM信号的凹坑/平台。
在该光盘记录和/或再现装置100中，其中驱动电流I通过累加ODP记录脉冲V2和ODP记录脉冲V3到EQEFM记录脉冲V1产生，脉冲V1到V3的电平或脉冲宽度依赖于记录条件或者由凹坑/平台长度检测电路51检测的EFM信号的脉冲宽度或紧接在前面的凹坑或平台长度被改变，脉冲长度随意地并独立地对应于3T到11T的每个区间设定。
实际上，脉冲宽度或脉冲电平依赖于盘材料类型(染料膜材料的类型)、盘制造者、记录线速度或光头的光学特性这些条件来调整。
特别的，考虑到由染料材料的类型的不同引起的能量反射的不同，检查在记录时装载的盘的类型或盘的生产者来调整脉冲宽度或电平是有效的。开始记录后调整脉冲宽度或电平对记录操作也同样有效。
对于蓝色基或酞菁基的盘，重放3T凹坑/平台抖动的特性被测量，并获得图10到图13的结果。
图10和11表示在涂有蓝色基有机染料的CD-R介质上以八倍速记录获得的重放3T凹坑抖动特性和重放3T平台抖动特性的测量结果。图12和13表示在涂有酞菁基有机染料的CD-R介质上以八倍速记录获得的重放3T凹坑抖动特性和重放3T平台抖动特性的测量结果。图10到13中，横坐标和纵坐标表示记录功率和包含在重放RF信号中的RF抖动。
在图10到13中，使用对于显示在图1中的传统的单倍速和双倍速记录的记录策略、在θ＝0.25、α＝0.13T实现记录的情况下的测量结果，使用对于显示在图2中的传统的四倍速记录的记录策略、在θ＝0.25、α＝1.50T和P＝30％实现记录的情况下的测量结果，和在本发明的光盘记录和/或再现装置100中用各自记录脉冲的最佳的脉冲长度实现记录的情况下的测量结果，分别用■、▲和●表示。
如图10到13所示，从重放3T凹坑/平台抖动特性的测量结果可以看出，不考虑使用的有机染料材料的类型或记录介质，记录后的凹坑/平台的抖动明显地改善，同时明显地抑制关于记录功率的抖动的功率极限或记录功率的降低。
在上述光盘记录和/或再现装置100中，包括EQEFM记录脉冲V1的记录激光适合于发射光，大致在该记录脉冲V1的前边缘P1和P2被堆栈。另外，也可以使用这样的记录策略，其中记录脉冲产生电路5产生EQEFM记录脉冲V1和m种ODP1记录脉冲，也就是具有L1到Lm的脉冲宽度的ODP1记录脉冲V1到ODPm记录脉冲Vm，来产生在接近EQEFM记录脉冲V1的前端具有m级堆栈部分P1到Pm的波形的记录激光，以发射光来实现记录，如图14所示。
担负每次记录时产生激光器驱动脉冲的盘驱动装置的一个修改的实施例的部件被提取并显示在图15中。同时，盘驱动装置的全部结构近似于图1所示的第一实施例。
在记录期间，来自编码器/解码器电路7的EFM信号被发送到记录脉冲产生器121，它由凹坑/平台长度检测电路131、结束脉冲产生电路132、前端脉冲产生电路133和EQEFM产生电路134组成。
EQEFM产生电路134产生具有从EFM信号得出的预设电平和脉冲宽度的EQEFM信号V11。
前端脉冲产生电路133产生要大致被加到激光驱动脉冲的前端的起始过驱动脉冲V21。
结束脉冲产生电路132产生要大致被加到激光驱动脉冲的后端的结束过驱动脉冲V31。
结束脉冲产生电路132、前端脉冲产生电路133和EQEFM产生电路134产生具有相应于EFM信号的脉冲宽度的脉冲宽度的各脉冲V11、V21和V31。根据电流脉冲宽度或由凹坑/平台长度检测电路检测到的EFM信号的正前方凹坑或平台长度，脉冲宽度或脉冲电平(电压级)被可变地控制。
开关SW1、SW2和SW3是用于启用/关闭EEFM信号V11、起始过驱动脉冲V21和结束过驱动脉冲V31的转换电路，并且由系统控制器9控制。也就是说，系统控制器9响应于从主机10发送的写命令或模式设定命令，识别出以几倍速将从主机10传来的记录数据记录在盘上。系统控制器9根据要求的写速度转换开关SW1到SW3。例如，如果写速度是单倍速或双倍速，则系统控制器9通过断开开关SW2和SW3，停止使用前端脉冲产生电路133和结束脉冲产生电路132，以便排除起始过驱动脉冲V21和结束过驱动脉冲V31的附加部分，如由图1所示的驱动脉冲说明的。如果要求的写速度是四倍速，则只有开关SW3断开，以排除结束过驱动脉冲V31的输出，如图2所示的驱动脉冲说明的。在以八倍速记录数据时，作为按照本发明的最新提议，所有的开关SW1、SW2和SW3都接通，输出如图17到22说明的驱动脉冲。
在激光器驱动电路30中的电流/电压转换电路137、136、135中，EQEFM信号V11、起始过驱动脉冲V21和结束过驱动脉冲V31分别转换为电流信号i11、i21和i31。
在加法电路138中，电流信号i17、i27和i37被相加给出供给激光二极管LD的驱动电流i。
同时，在本实施例中，来自系统控制器9的控制信号被输入到电压/电流转换电路137、136、135。也就是说，如果每个脉冲的电平(幅度)依赖于例如记录期间盘的旋转速度(与轨迹相关的线性速度)、记录的凹坑的长度、在盘中使用的记录层(染料层)的材料类型或环境温度被改变，则控制信号或参数由系统控制器9输入。从而，各个信号V11、V21、V31的电平(幅度)单独地由提供给电压/电流转换电路137、136、135的参数控制。尽管在本实施例中电压/电流转换电路137、136、135提供电平调整功能，但也可以作为分离电路在电压/电流转换电路137、136、135的上游或下游提供电平调整电路。
在本实施例中激光功率被如下控制。
图16C、16D和16E分别表示结束过驱动脉冲(ODP结束；V31)、起始过驱动脉冲(ODP起始；V21)和EQEFM信号V11的详细说明的例子。
响应于从信号V11、V21和V31传来的电流值和加在一起的电流值，通过驱动电流输出的激光功率显示在图16A中。也就是说，通过起始过驱动脉冲的功率被加到EQEFM信号的前端，同时通过过驱动脉冲的功率被加到后端。注意Pr、Pw和Pod分别是重放激光电平、记录激光电平和通过过驱动脉冲的激光电平。
如图16B所示，利用以这种方式被控制的激光二极管LD的输出的激光功率，在盘1上形成凹坑P和平台L的轨迹。
在图16中，时间段C表示从激光发射的启动到凹坑P开始形成的时间延迟，同时时间段c表示从激光发射的停止到凹坑P的形成结束的时间延迟。
这些时间段C和c比图5所示的时间段A、B、a和b短，意味着，在本发明中，准确地处理EFM信号的凹坑/平台甚至能够在高速记录时形成。
在本实施例中，结束过驱动脉冲和起始过驱动脉冲被加到EQEFM信号中，产生驱动信号i。由记录信号产生单元121产生的EQEFM信号结束过驱动脉冲和起始过驱动脉冲，能够根据由凹坑/平台长度检测电路检测的前面和后面的凹坑和平台的凹坑和平台的长度，在电平或脉冲宽度方面改变。系统控制器9依赖于不同的脉冲3T到11T随意地可改变地设定脉冲宽度。
也就是说，脉冲宽度主要是用于N(T)EFM脉冲的(N-X(N))T脉冲的脉冲。
换句话说，用于设定EQEFM信号的脉冲宽度的值X3到X11依赖于3T到11T的各个脉冲随意地分别设定。
例如，图16A是与图3A的EFM信号关联的，然而具有(3-X3)T脉冲宽度的脉冲宽度的EQEFM信号，在EFM信号的3T脉冲时间段产生。而且，在11T脉冲时间段，产生具有(11-X11)T的脉冲宽度的EQEFM信号。
也就是说，脉冲宽度依照脉冲宽度的不同而被控制，即由在激光发射时间段的不同引起的在记录轨迹上的热量存储不同，从而形成适宜地符合EFM信号的凹坑/平台。
通过举例，X3到X11的值可以取0.25到0.2的值。
EQEFM信号被与起始过驱动脉冲和结束过驱动脉冲相加，作为合成的波形模式(激光输出控制模式)，如图17到22所示的多种模式可以被使用。在图17到22中L1和L2分别表示起始过驱动脉冲和结束过驱动脉冲的脉冲宽度。
图17表示L1＝L2，并且起始过驱动脉冲的上升和EQEFM信号的衰减与EQEFM信号合成的情况。
图18表示L1＜L2，并且起始过驱动脉冲的上升和EQEFM信号的衰减与EQEFM信号合成的情况。
图19表示L1＞L2，并且起始过驱动脉冲的上升和EQEFM信号的衰减与EQEFM信号合成的情况。
图20表示L1＝L2，并且起始过驱动脉冲的上升早于EQEFM信号以及结束过驱动脉冲的衰减晚于EQEFM信号的情况。
图21表示L1＜L2，并且起始过驱动脉冲的上升与EQEFM信号合成以及结束过驱动脉冲的衰减晚于EQEFM信号的情况。
图22表示L1＞L2，并且起始过驱动脉冲的上升早于EQEFM信号以及结束过驱动脉冲的衰减与EQEFM信号合成的情况。
在所有这些图形中有可能认识到激光发射模式表示LD光输出。
当然其他与这些不同的模式也可以实现。
各个模式可以有选择地被使用，特别是时间段L1和L2可以依赖于由凹坑/平台长度检测电路检测的正前方和正后方的凹坑和平台长度被设定。例如，如果正前方的平台范围越长，则时间段L1越长，同时，如果正前方平台范围越短，则时间段L1越短。
也就是说，激光器驱动模式依赖于由不同的凹坑/平台长度引起的热量存储的变化来控制。
时间段L1和L2的长度可以在从0T到3T的范围内改变。
尽管没有示出，结束过驱动脉冲和起始过驱动脉冲的电平(电压值)可以象上述的L1和L2一样，依赖于前侧和后侧的凹坑和平台的长度被改变。
也就是说，存储在盘1中的热量在激光量和时间段的基础上确定，比如激光器驱动模式可以依赖于通过凹坑长度/平台长度热存储量的改变而设定。
例如，在图16中的电平Pod在记录激光功率Pw的20％向上值、25％向上值和30％向上值之间改变。
所以，当作为盘1的CD-R以八倍速旋转运行进行数据记录时，在产生各个脉冲时给定的参数以图19中所示的波形模式为例作如下解释。
如果在正前方和正后方形成的平台的长度是8T，以具有(N-0.25)T的脉冲宽度的EQEFM信号，加入到EQEFM信号的起始过驱动脉冲和结束过驱动脉冲分别具有等于1.75T和1T的脉冲宽度L1和L2。这些脉冲是大致大于EQEFM信号的电平30％的电平(幅度)。同时，在系统控制器9为记录信号产生器121设定参数时，依赖于将被记录的(3T到11T)凹坑长度和在凹坑正前方和正后方形成的平台(3T到11T)的长度，起始过驱动脉冲的脉冲宽度被改变。即，相当于9个正前方平台长度、9个记录凹坑长度和9个正后方平台长度的不同组合有总计共729个参数。例如，如果记录凹坑长度是4T并各自在5T到11T范围内，则L1＝1.75T被设到1.05T到0.35T。另外，依赖于正前方平台长度，-0.2T到+0.2T被加入到这些值中。例如，如果L1＝1.75T是参考值，则Li被设为从1.55T到1.95T。
现在，脉冲宽度和脉冲电平也依赖于盘材料(染料膜材料)的类型、盘生产者、记录线性速度或光学拾取器1的光学系统的特性来调整。
而且，因为由例如染料膜材料的类型不同引起的热能反射不同，区分记录时装载的盘或制造商的类型来调整脉冲宽度或脉冲电平。在记录过程中执行环境比如记录线性速度或记录速度可以被系统控制器9传送到记录脉冲产生器121，来调整用于光学记录的脉冲宽度或脉冲电平。
从而，通过由相当于EQEFM信号与图16A所示的结束过驱动脉冲和起始过驱动脉冲的和的驱动电流i控制激光发射，通过依赖于记录条件或正前方和正后方凹坑和平台的长度，改变在记录脉冲产生器121中的EQEFM信号、结束过驱动脉冲和起始过驱动脉冲的电平或脉冲宽度，并通过依赖于3T到11T持续时间的不同来随意地分别设定。本发明的第一和第二实施例也可以被合并使用。

Claims (27)

1.一种光盘记录装置，包括：
记录脉冲产生装置，用于以多阶段的梯级在记录脉冲的前端部分设定记录功率，并用于产生脉冲宽度对应于将要形成的凹坑的长度的记录脉冲；以及
激光器装置，用于通过所提供的记录脉冲来发射激光，以形成包括在记录介质上所述的平台之间定义的凹坑和平台的记录数据串；其中
通过由所述记录脉冲产生装置产生的记录脉冲而发射脉冲光的激光、被照射在作为所述记录介质的一次写入光盘上，以实现记录。
2.按照权利要求1的光盘记录装置，其中：
所述记录脉冲产生装置产生至少一个脉冲宽度对应于将要形成的凹坑的长度的第一脉冲、用于合成到所述第一脉冲的前端的第二脉冲和用于合成到所述第一脉冲的前端的第三脉冲，所述第三脉冲具有小于所述第二脉冲的脉冲宽度，所述第一到第三脉冲被合成以产生所述的记录脉冲。
3.按照权利要求2的光盘记录装置，其中：
所述记录脉冲产生装置依赖于记录条件，改变所述第一到第三脉冲中的一个或更多个的脉冲宽度和/或脉冲电平，以产生所述的记录脉冲。
4.按照权利要求2的光盘记录装置，其中：
所述记录脉冲产生装置包括凹坑/平台长度检测装置，用于检测将被形成的凹坑/平台的长度，并依赖于将被形成的凹坑/平台的长度的组合改变所述的第一到第三脉冲中的一个或更多个的脉冲宽度和/或脉冲电平，基于所述凹坑/平台长度检测装置的检测输出，产生记录脉冲。
5.按照权利要求2的光盘记录装置，其中：
所述记录脉冲产生装置依赖于用于记录的光盘的条件，改变所述的第一到第三脉冲中的一个或更多个的脉冲宽度和/或脉冲电平，来产生一个脉冲宽度的记录脉冲。
6.按照权利要求4的光盘记录装置，其中：
所述记录脉冲产生装置相应于正前方形成的凹坑的长度和正前方形成的平台的长度中的至少一个，可变地设定所述的第一到第三脉冲中的一个或更多个的脉冲宽度。
7.按照权利要求4的光盘记录装置，其中：
所述记录脉冲产生装置依赖于形成的凹坑的正前方形成的平台的长度，改变所述第一脉冲的脉冲宽度。
8.按照权利要求7的光盘记录装置，其中：
所述记录脉冲产生装置依赖于形成的凹坑的长度，改变所述第一脉冲的脉冲宽度。
9.按照权利要求7的光盘记录装置，其中：
所述记录脉冲产生装置依赖于形成的凹坑的正后方形成的平台的长度，改变所述第一脉冲的脉冲宽度。
10.按照权利要求1的光盘记录装置，进一步包括：
转换开关装置，用于转换所述的记录脉冲产生装置的操作，以排除由所述记录脉冲产生装置产生的所述第一到第三脉冲中至少一个的输出，所述记录脉冲产生装置与在所述的记录介质上形成记录数据串的速度相关联，执行所述转换开关装置的开关控制。
11.按照权利要求10的光盘记录装置，其中
所述的记录脉冲产生装置控制所述的转换开关装置，从而如果所述的光盘以不高于四倍于参考速度的速度的线性速度旋转，所述的第三脉冲不输出。
12.一种光盘记录方法，包括：
产生具有相当于形成的凹坑长度的脉冲宽度的记录脉冲，所述记录脉冲以其前端的记录功率形成多个阶段的梯级来形成；以及
将由所述记录脉冲以脉冲光激励的激光束照射在一次写入光盘上，以实现记录。
13.按照权利要求12的光盘记录方法，其中至少对应于记录数据的第一脉冲、用于合成到所述第一脉冲的前端的第二脉冲和用于合成到所述第一脉冲的前端的第三脉冲被产生，所述的第三脉冲的脉冲宽度小于所述的第二脉冲，所述的第一到第三脉冲被合成以产生所述的记录脉冲。
14.按照权利要求13的光盘记录方法，其中记录由依赖于记录条件控制的所述第一到第三脉冲中的一个或更多个的脉冲宽度和/或脉冲电平实现。
15.按照权利要求13的光盘记录方法，其中记录由依赖于形成的凹坑/平台的长度的不同组合控制的所述的第一到第三脉冲中的一个或更多个的脉冲宽度和/或脉冲电平实现。
16.按照权利要求13的光盘记录方法，其中记录由依赖于实现记录的光盘的条件而改变所述的第一到第三脉冲中的一个或更多个的脉冲宽度和/或脉冲电平实现。
17.一种用于光记录介质的记录装置，包括：
用于引起记录介质旋转的装置；
控制器，用于控制所述旋转装置的旋转速度；
激光器装置，用于通过提供的驱动脉冲发射激光，以形成包括在所述记录介质上的凹坑和所述凹坑前面和后面的平台的记录数据串；
驱动脉冲产生装置，用于产生相当于记录数据的第一记录脉冲、用于与所述第一脉冲的前端合成的第二脉冲和用于与所述第一脉冲的前端合成的第三脉冲，并且用于合成所述第一到第三脉冲来产生所述的驱动脉冲；以及
脉冲产生控制装置，用于执行控制，以便依赖于形成的凹坑和平台的至少一个的长度，改变由所述驱动脉冲产生装置产生的所述第一到第三脉冲中的一个或更多个的电平或脉冲宽度。
18.按照权利要求17的用于光记录介质的记录装置，其中
所述脉冲产生控制装置依赖于预先设定的记录条件可变地设定所述第二和第三脉冲的电平。
19.按照权利要求17的用于光记录介质的记录装置，其中
所述脉冲产生控制装置依赖于预先设定的记录条件可变地在0T到3T范围内设定第二和第三脉冲的脉冲宽度。
20.按照权利要求17的用于光记录介质的记录装置，其中
所述脉冲产生控制装置响应于凹坑和正前方形成的平台的长度中的至少一个，可变地设定所述第一到第三脉冲中的一个或更多个的脉冲宽度。
21.按照权利要求17的用于光记录介质的记录装置，进一步包括：
用于检测形成的凹坑的正前方形成的平台的长度的装置，所述脉冲产生控制装置依赖于检测到的平台的长度改变所述第一脉冲的脉冲宽度。
22.按照权利要求21的用于光记录介质的记录装置，进一步包括：
用于检测形成的凹坑的长度的装置，所述的脉冲产生控制装置依赖于检测到的凹坑的长度改变所述第一脉冲的脉冲宽度。
23.按照权利要求21的用于光记录介质的记录装置，进一步包括：
用于检测形成的凹坑的正后方形成的平台的长度的装置，所述的脉冲产生控制装置依赖于检测到的平台的长度改变所述第一脉冲的脉冲宽度。
24.按照权利要求17的用于光记录介质的记录装置，进一步包括：
转换开关装置，用于转换所述驱动脉冲产生装置的操作，以便由所述驱动脉冲产生装置产生的所述的第一到第三脉冲中的至少一个不输出，所述驱动脉冲产生装置与在所述记录介质上形成记录数据串时所用的速度相关联，执行所述转换开关装置的转换控制。
25.按照权利要求24的用于光记录介质的记录装置，其中所述的记录介质是一次写入型光盘而且所述脉冲产生装置控制所述转换开关装置，从而如果光盘以不快于四倍参考速度的线性速度旋转，则所述的第三脉冲将不输出。
26.一种用于形成记录数据串的记录方法，包括：
产生脉冲宽度对应于将要形成的凹坑的长度的第一脉冲、用于与所述第一脉冲的前端合成的第二脉冲和用于与所述第一脉冲的前端合成的第三脉冲，它们的电平或脉冲持续时间依赖于形成的凹坑的长度和形成的平台的长度中的至少一个被改变，合成所述的第一到第三脉冲以产生记录脉冲，并且通过所述记录脉冲发射激光以在以预先设定的速度旋转的记录媒体上形成包括凹坑和在前侧和后侧凹坑之间的平台的记录数据串。
27.按照权利要求26的记录方法，进一步包括：
在产生所述第一到第三脉冲的步骤，与在所述记录介质上形成记录数据时所用的速度相关联地控制是否产生所述第二脉冲和所述第三脉冲。
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