JP2605015B2 - 熱誘導記録の情報担特信号レコーダ - Google Patents
熱誘導記録の情報担特信号レコーダInfo
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- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
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- G11B7/004—Recording, reproducing or erasing methods; Read, write or erase circuits therefor
- G11B7/0045—Recording
Description
【発明の詳細な説明】 A.産業上の利用分野 本発明は情報を担持している信号を熱エネルギにより
記録することに関しており、通常その記録は光学的にセ
ンスされる。記録を行う熱エネルギを与えるために、レ
ーザ又は同等の装置を用いることが好ましい。
記録することに関しており、通常その記録は光学的にセ
ンスされる。記録を行う熱エネルギを与えるために、レ
ーザ又は同等の装置を用いることが好ましい。
B.従来技術 熱を誘導するコヒーレントな輻射線を放射するレーダ
及び半導体で通常使われており熱を誘導するＥビーム
は、微細加工及び信号記録の応用に広く用いられてい
る。熱的誘導で記録された記録パターンによつて惹起さ
れる高調波歪みは、微細加工の分野では、情報担持信号
を記録しないから、無関係である。一方、レーザ等が情
報担持信号を記録するのに使われる場合、記録結果の良
否が記録の読み取りに直接に関係する。換言すれば、信
号対キヤリア比及び信号対ノイズ比を出来るだけ大きく
維持することが望ましい。これらの比率が大きければ大
きいほど、情報担持信号を忠実に記録し且つ再生する可
能性が高くなる。このように記録に関連した問題は記録
の面積的な密度が高くなると急激に厳しくなり、このこ
とは情報担持信号を記録し及び感知する程度が低下する
ことを意味する。記録及び読み取りにおいて小さくなつ
たエネルギレベルは結果として、信号対ノイズ比も小さ
くする。ノイズの一部は同期ノイズであり、換言すれば
読み取りプロセスか又は記録プロセスの何れかにより誘
導されるノイズである。記録が中間的な面積的密度の場
合、同期ノイズは誤差範囲に入るけれども、高い面積的
記録密度の場合、同期ノイズは問題化する。従つて、本
発明の目的は熱誘導記録において、同期ノイズを減少す
ることにある。
及び半導体で通常使われており熱を誘導するＥビーム
は、微細加工及び信号記録の応用に広く用いられてい
る。熱的誘導で記録された記録パターンによつて惹起さ
れる高調波歪みは、微細加工の分野では、情報担持信号
を記録しないから、無関係である。一方、レーザ等が情
報担持信号を記録するのに使われる場合、記録結果の良
否が記録の読み取りに直接に関係する。換言すれば、信
号対キヤリア比及び信号対ノイズ比を出来るだけ大きく
維持することが望ましい。これらの比率が大きければ大
きいほど、情報担持信号を忠実に記録し且つ再生する可
能性が高くなる。このように記録に関連した問題は記録
の面積的な密度が高くなると急激に厳しくなり、このこ
とは情報担持信号を記録し及び感知する程度が低下する
ことを意味する。記録及び読み取りにおいて小さくなつ
たエネルギレベルは結果として、信号対ノイズ比も小さ
くする。ノイズの一部は同期ノイズであり、換言すれば
読み取りプロセスか又は記録プロセスの何れかにより誘
導されるノイズである。記録が中間的な面積的密度の場
合、同期ノイズは誤差範囲に入るけれども、高い面積的
記録密度の場合、同期ノイズは問題化する。従つて、本
発明の目的は熱誘導記録において、同期ノイズを減少す
ることにある。
微細加工の分野において、米国特許4475028号は毎秒
のパルス数が熔接動作の開始時において倍増される高温
スタート特性を有する多モード定電圧パルス熔接機を開
示している。“高温スタート”の目的は低周波数パルス
によつて与えられる電流レベルよりも低い電流レベルで
アークの発生を促進させることにあり、換言すれば、熔
接周期の開始時における高温スタート、即ち増加された
エネルギは熔接のためのアークを確実に発生する。
のパルス数が熔接動作の開始時において倍増される高温
スタート特性を有する多モード定電圧パルス熔接機を開
示している。“高温スタート”の目的は低周波数パルス
によつて与えられる電流レベルよりも低い電流レベルで
アークの発生を促進させることにあり、換言すれば、熔
接周期の開始時における高温スタート、即ち増加された
エネルギは熔接のためのアークを確実に発生する。
例えば、1978年３月のベルシステム・テクニカルジヤ
ーナル（BELL SYSTEM TECHNICAL JOURNAL）385頁乃至40
5頁の「薄膜及び集積回路のレーザ加工」（Laser Machi
ning of Thin Film and Integrated Circuits）と題す
るコーエン（M.I.Cohen）等による文献のように、薄膜
及び集積回路のレーザ加工についての沢山の研究があ
る。
ーナル（BELL SYSTEM TECHNICAL JOURNAL）385頁乃至40
5頁の「薄膜及び集積回路のレーザ加工」（Laser Machi
ning of Thin Film and Integrated Circuits）と題す
るコーエン（M.I.Cohen）等による文献のように、薄膜
及び集積回路のレーザ加工についての沢山の研究があ
る。
この文献は、付近の材料又はコンポーネントに与える
影響を最小限にして、微小な量の材料を加熱し、熔融し
又は蒸発させるため、加工領域の尖鋭な限定及び地域的
性格を与える製造ツールにおける半導体レーザの使用を
教示している。この文献は、除去し又は切除する材料の
適合性を決定するレーザのパワー出力それ自身ではな
く、加工される物体上で焦点で結んだ光学的パワーの強
度について開示している。更に、加工される目的物上の
加工部分のサイズは、目的物の材料の熱的性質と、レー
ザビームのスポツトのサイズと、レーザの発射ビームを
横切るエネルギの強度分布とに依存する。加工部分のエ
ツジの限定は目的物の熱的性質と、露光時間とに主とし
て従属する。加工されている材料の表面の反射率はその
材料が熔融した時か、又は雰囲気に反応した時に急激に
減少しそして後続のレーザビームの吸収は高い効率で発
生する。初期のレーザ出力エネルギは材料面を初期に破
壊するのに充分大きくなければならない。この文献によ
り教示された加工方法は、パルス期間、大きさ及び波形
が同じで、且つほぼ一定の振幅の一連のパルスを含んで
いる。
影響を最小限にして、微小な量の材料を加熱し、熔融し
又は蒸発させるため、加工領域の尖鋭な限定及び地域的
性格を与える製造ツールにおける半導体レーザの使用を
教示している。この文献は、除去し又は切除する材料の
適合性を決定するレーザのパワー出力それ自身ではな
く、加工される物体上で焦点で結んだ光学的パワーの強
度について開示している。更に、加工される目的物上の
加工部分のサイズは、目的物の材料の熱的性質と、レー
ザビームのスポツトのサイズと、レーザの発射ビームを
横切るエネルギの強度分布とに依存する。加工部分のエ
ツジの限定は目的物の熱的性質と、露光時間とに主とし
て従属する。加工されている材料の表面の反射率はその
材料が熔融した時か、又は雰囲気に反応した時に急激に
減少しそして後続のレーザビームの吸収は高い効率で発
生する。初期のレーザ出力エネルギは材料面を初期に破
壊するのに充分大きくなければならない。この文献によ
り教示された加工方法は、パルス期間、大きさ及び波形
が同じで、且つほぼ一定の振幅の一連のパルスを含んで
いる。
また、1971年８月のベルシステム・テクニカルジヤー
ナルの1761頁乃至1789頁に掲載された「レーザビームに
よる薄膜の微細加工及びイメージ記録」（Micromachini
ng and Image Recording on Thin Film by Laser Beam
s）と題するメイダン（D.Maydan）の文献において、加
工領域のサイズとレーザスポツトのサイズとの関係が17
72頁の第６図に説明されている。微細加工用光パルスの
例は、同じ振幅で且つ短い同じ期間の光パルスであるも
のとして、1773頁の第７図に示されている。1774頁の第
８図は、異なつた幅の線が、レーザの強度を変化して与
えられている。1775頁の第９図はレーザパルスの加工動
作から得られた個々の加工スポツトの写真を示してい
る。加工動作において使われる種々のパルスの形が1780
頁の第13図に示されている。ビデオ信号を記録するため
に、一定振幅のパルスを用いたレーザ加工の使用例が17
84頁の第17図に示されている。
ナルの1761頁乃至1789頁に掲載された「レーザビームに
よる薄膜の微細加工及びイメージ記録」（Micromachini
ng and Image Recording on Thin Film by Laser Beam
s）と題するメイダン（D.Maydan）の文献において、加
工領域のサイズとレーザスポツトのサイズとの関係が17
72頁の第６図に説明されている。微細加工用光パルスの
例は、同じ振幅で且つ短い同じ期間の光パルスであるも
のとして、1773頁の第７図に示されている。1774頁の第
８図は、異なつた幅の線が、レーザの強度を変化して与
えられている。1775頁の第９図はレーザパルスの加工動
作から得られた個々の加工スポツトの写真を示してい
る。加工動作において使われる種々のパルスの形が1780
頁の第13図に示されている。ビデオ信号を記録するため
に、一定振幅のパルスを用いたレーザ加工の使用例が17
84頁の第17図に示されている。
1968年に刊行されたニユーヨークアカデミツク出版
（New York Academic Press）の139頁乃至186頁に掲載
されている「微細電子素子の製造に対するレーザの応
用」（Application of Lasers to Microelectronic Fab
rication）と題するコーエン（Cohen）等の文献は、加
工される材料上のレーザビームの影響を示す付加的な文
章がある。156頁において、スポツトのサイズはパワ
ー、即ち光の強度レベルによつて大きくなることを教示
している。164頁の文章はレーザ熔接と通常の熔接との
比較を記載している。167頁はパルス期間について記載
している。この文献は、パルス型のレーザを用いた熔接
において、考慮されるべき最も重要なパラメータの１つ
はパルス期間であることを教示している。168頁の第17
図は長すぎたパルス期間の影響と、材料に対するその加
工の結果とを示している。この文献の著作者は、充分な
熱を生ずるのに必要な最小限の時間が与えられている限
りにおいて、広範囲のパルス期間にわたつて満足な熔接
をすることが可能であると述べている。このパラメータ
は熔接のために充分ではあるけれども、高い面積的密度
の情報担持信号の記録には適当なアプローチではないこ
とは明らかである。その文献の著作者はまた、適正なエ
ネルギ制御の維持の重要性を論じている。171頁で、こ
の著作者は、ピーク値に迅速に上昇し、それから低レベ
ルに降下、即ち減衰するパルス形が熔接には望ましいと
以前に提案したことがあると述べている。この観察はレ
ーザビームに向けられた領域を過熱することにより生ず
る材料の予期しない飛散を避けることにあるのは明らか
である。
（New York Academic Press）の139頁乃至186頁に掲載
されている「微細電子素子の製造に対するレーザの応
用」（Application of Lasers to Microelectronic Fab
rication）と題するコーエン（Cohen）等の文献は、加
工される材料上のレーザビームの影響を示す付加的な文
章がある。156頁において、スポツトのサイズはパワ
ー、即ち光の強度レベルによつて大きくなることを教示
している。164頁の文章はレーザ熔接と通常の熔接との
比較を記載している。167頁はパルス期間について記載
している。この文献は、パルス型のレーザを用いた熔接
において、考慮されるべき最も重要なパラメータの１つ
はパルス期間であることを教示している。168頁の第17
図は長すぎたパルス期間の影響と、材料に対するその加
工の結果とを示している。この文献の著作者は、充分な
熱を生ずるのに必要な最小限の時間が与えられている限
りにおいて、広範囲のパルス期間にわたつて満足な熔接
をすることが可能であると述べている。このパラメータ
は熔接のために充分ではあるけれども、高い面積的密度
の情報担持信号の記録には適当なアプローチではないこ
とは明らかである。その文献の著作者はまた、適正なエ
ネルギ制御の維持の重要性を論じている。171頁で、こ
の著作者は、ピーク値に迅速に上昇し、それから低レベ
ルに降下、即ち減衰するパルス形が熔接には望ましいと
以前に提案したことがあると述べている。この観察はレ
ーザビームに向けられた領域を過熱することにより生ず
る材料の予期しない飛散を避けることにあるのは明らか
である。
米国特許第3962558号は一連の低エネルギパルスを従
えた初期の高エネルギパルスを有するパルス型のレーザ
穿孔機を示している。明らかに、加工される材料の思わ
ぬ飛散を避けるためにこの装置配列が選ばれている。米
国特許第3962558号に開示された技術の改良は、米国特
許第3962558号の第２図に示された機械加工技術と、第
３図に示されたコーエン（Cohen）等による振幅衰退技
術を引用した米国特許第4114018号に示されている。米
国特許第4114018号は、この特許の第４図に示されてい
るように、ほぼ一定である最適電流の振幅がレーザ加工
の望ましい方法であることを教示している。除去型の情
報担持信号記録のための記録用レーザビームのエネルギ
レベルは、一定の記録パワーを使つて、材料を移動する
ことと、材料の蒸発又は飛散をすることなく、材料の部
分的再配置を発生するために、記録担持媒体のフイルム
を変形することとが良いということを教示している米国
特許第4410968号によつて、上述のアプローチが確かめ
られる。
えた初期の高エネルギパルスを有するパルス型のレーザ
穿孔機を示している。明らかに、加工される材料の思わ
ぬ飛散を避けるためにこの装置配列が選ばれている。米
国特許第3962558号に開示された技術の改良は、米国特
許第3962558号の第２図に示された機械加工技術と、第
３図に示されたコーエン（Cohen）等による振幅衰退技
術を引用した米国特許第4114018号に示されている。米
国特許第4114018号は、この特許の第４図に示されてい
るように、ほぼ一定である最適電流の振幅がレーザ加工
の望ましい方法であることを教示している。除去型の情
報担持信号記録のための記録用レーザビームのエネルギ
レベルは、一定の記録パワーを使つて、材料を移動する
ことと、材料の蒸発又は飛散をすることなく、材料の部
分的再配置を発生するために、記録担持媒体のフイルム
を変形することとが良いということを教示している米国
特許第4410968号によつて、上述のアプローチが確かめ
られる。
記録担持媒体上に異なつた長さの熱誘導記録を生ずる
ためのパルス型レーザ記録の他の形式が、オーバーラツ
プした弧状パルス形ビームを使つた米国特許第4473829
号に示されている。パルス間隔の短い高速パルスレーザ
又は同様なビーム発射装置は相対的に中間程度のリニヤ
記録密度においては適当な装置であるけれども、比較的
速く動く記録担持媒体上に高いリニヤ記録密度の達成
は、上述のようなパルスでは困難である。言い換えれ
ば、高速で動く記録媒体上で高い記録密度を得るために
は、レーザ又は他のビーム発射源がオンに転じたら、パ
ルス期間としてそのままオン状態に留まることが望まし
い。パルス型レーザによらない可変パルス長記録動作の
ために、高いリニヤな密度が達成される。
ためのパルス型レーザ記録の他の形式が、オーバーラツ
プした弧状パルス形ビームを使つた米国特許第4473829
号に示されている。パルス間隔の短い高速パルスレーザ
又は同様なビーム発射装置は相対的に中間程度のリニヤ
記録密度においては適当な装置であるけれども、比較的
速く動く記録担持媒体上に高いリニヤ記録密度の達成
は、上述のようなパルスでは困難である。言い換えれ
ば、高速で動く記録媒体上で高い記録密度を得るために
は、レーザ又は他のビーム発射源がオンに転じたら、パ
ルス期間としてそのままオン状態に留まることが望まし
い。パルス型レーザによらない可変パルス長記録動作の
ために、高いリニヤな密度が達成される。
除去型又は材料再配置型の記録に加えて、パルス型レ
ーザは、結晶からアモルフアス相変化型の記録にも使わ
れている。除去型記録のためのレーザ制御が他の形式の
光学記録に適用しうるかについては必ずしも明らかでな
い。例えば、1973年２月の電子装置に関するIEEE会報の
Vol.ED−20,No.2の91頁乃至105頁（IEEE TRANSACTIONS
ON ELECTRON DEVICES）に掲載された「スイツチングメ
モリ及び図形の応用のためのアモルフアス半導体」（Am
orphous Semiconductors for Switching,Memory,and Im
aging Applications）と題するオイシンスキー（Oyshin
sky）等による文献の97頁の第10図にはアモルフアス−
結晶に切換わりうる材料の電気的インピーダンス特性が
示されている。特に、初期の高い電気的インピーダンス
値が、一たび切換えられた相状態を持つと、材料に跨が
る低電圧で証明されるように、電気的インピーダンスの
レベルは低下することがある。この論文はまた、アモル
フアス状態と結晶状態との間で切換わるアモルフアス半
導体の光学的効果の逆転性を示している。術語“半導
体”は相変化光学記録で通常使われる半金属にも適用さ
れる。一定のパワーのパルスではなく一定電流のパルス
が使われていたことは明らかである。
ーザは、結晶からアモルフアス相変化型の記録にも使わ
れている。除去型記録のためのレーザ制御が他の形式の
光学記録に適用しうるかについては必ずしも明らかでな
い。例えば、1973年２月の電子装置に関するIEEE会報の
Vol.ED−20,No.2の91頁乃至105頁（IEEE TRANSACTIONS
ON ELECTRON DEVICES）に掲載された「スイツチングメ
モリ及び図形の応用のためのアモルフアス半導体」（Am
orphous Semiconductors for Switching,Memory,and Im
aging Applications）と題するオイシンスキー（Oyshin
sky）等による文献の97頁の第10図にはアモルフアス−
結晶に切換わりうる材料の電気的インピーダンス特性が
示されている。特に、初期の高い電気的インピーダンス
値が、一たび切換えられた相状態を持つと、材料に跨が
る低電圧で証明されるように、電気的インピーダンスの
レベルは低下することがある。この論文はまた、アモル
フアス状態と結晶状態との間で切換わるアモルフアス半
導体の光学的効果の逆転性を示している。術語“半導
体”は相変化光学記録で通常使われる半金属にも適用さ
れる。一定のパワーのパルスではなく一定電流のパルス
が使われていたことは明らかである。
光学記録の他の形式は1977年の日本の電気通信学会誌
のVol.60−C,No.7の89頁乃至97頁に掲載されている「多
重レンズを用いた電磁光学デイスクメモリ」（Magneto
−Optical Disk Memory Utilizing Multilenses）と題
するツジヤマ（辻山）の文献に記載されているような、
いわゆる電磁光学デイスクである。この文献は、円形領
域の記録を発生するため、一定の振幅と波形を持つパル
ス型レーザを使つて、電磁光学記録担持媒体上に記録を
行うことを教示している。電磁光学記録システムにおい
て、レーザがキユーリ点以上に材料を加熱している間、
副次的磁界が一方向又は他方向に残留磁気の向きを変え
る。興味あることは、エネルギの強度の増加がスポツト
のサイズ、従つて記録の幅及びサイズを増加することで
ある。この文献の第12図及び第13図に示されているよう
に、短いパルス及び長いパルスを記録するために、一連
のパルスが使われている。
のVol.60−C,No.7の89頁乃至97頁に掲載されている「多
重レンズを用いた電磁光学デイスクメモリ」（Magneto
−Optical Disk Memory Utilizing Multilenses）と題
するツジヤマ（辻山）の文献に記載されているような、
いわゆる電磁光学デイスクである。この文献は、円形領
域の記録を発生するため、一定の振幅と波形を持つパル
ス型レーザを使つて、電磁光学記録担持媒体上に記録を
行うことを教示している。電磁光学記録システムにおい
て、レーザがキユーリ点以上に材料を加熱している間、
副次的磁界が一方向又は他方向に残留磁気の向きを変え
る。興味あることは、エネルギの強度の増加がスポツト
のサイズ、従つて記録の幅及びサイズを増加することで
ある。この文献の第12図及び第13図に示されているよう
に、短いパルス及び長いパルスを記録するために、一連
のパルスが使われている。
半導体の製造分野では、Ｅビームの使用は周知であ
る。例えば、1978年12月のIBM技報（IBM TECHNICAL DIS
CLOSURE BULLETIN）のVol.21,No.7の2768頁乃至2769頁
の「高速度パターンの発生のためのＥビームの自動焦点
法」（Ｅ−Beam Kinetic Focus for High−Speed Patte
rn Generation）と題するコステ（Koste）等の文献があ
る。半導体チツプ上に識別標識を熱的に記録するために
Ｅビームを使用することが、1979年６月のIBM技法のVo
l.22,No.1の108頁乃至111頁の「識別及び追跡性のため
のチツプの自動直列化」（Automatic Serialization of
Chips for Identification and Traceability）と題す
るライアン（P.M.Ryan）による文献に示されている。
る。例えば、1978年12月のIBM技報（IBM TECHNICAL DIS
CLOSURE BULLETIN）のVol.21,No.7の2768頁乃至2769頁
の「高速度パターンの発生のためのＥビームの自動焦点
法」（Ｅ−Beam Kinetic Focus for High−Speed Patte
rn Generation）と題するコステ（Koste）等の文献があ
る。半導体チツプ上に識別標識を熱的に記録するために
Ｅビームを使用することが、1979年６月のIBM技法のVo
l.22,No.1の108頁乃至111頁の「識別及び追跡性のため
のチツプの自動直列化」（Automatic Serialization of
Chips for Identification and Traceability）と題す
るライアン（P.M.Ryan）による文献に示されている。
C.発明が解決しようとする問題点 本発明の目的は、熱的に誘導される記録において、記
録媒体の同期ノイズを実質的に減少することにある。
録媒体の同期ノイズを実質的に減少することにある。
D.問題点を解決するための手段 本発明に従つて、熱的に反応する記録担持媒体の記録
方法は、記録媒体をエネルギビーム放射パルス源と相対
的に移動させて、エネルギビーム放射パルス源記録担持
媒体上のトラツクを走査するように、可変パルス期間の
エネルギビームを放射することを含んでいる。光とか他
の形の熱エネルギ誘導パルスが、情報担持信号を記録す
るためにエネルギビームパルス源から、トラツクの領域
中で走査されているトラツクへ供給される。熱エネルギ
誘導パルスのパルス波形は、走査しているトラツクの長
手方向に沿つた記録の幅がほぼ均一になるように、初期
の高い記録開始値から、低い記録維持値に変化される。
このようにして、熱誘導パルスのパルス期間の間の記録
開始値で作られる記録から同期ノイズが減少される。本
発明には種々の方法と装置が含まれる。
方法は、記録媒体をエネルギビーム放射パルス源と相対
的に移動させて、エネルギビーム放射パルス源記録担持
媒体上のトラツクを走査するように、可変パルス期間の
エネルギビームを放射することを含んでいる。光とか他
の形の熱エネルギ誘導パルスが、情報担持信号を記録す
るためにエネルギビームパルス源から、トラツクの領域
中で走査されているトラツクへ供給される。熱エネルギ
誘導パルスのパルス波形は、走査しているトラツクの長
手方向に沿つた記録の幅がほぼ均一になるように、初期
の高い記録開始値から、低い記録維持値に変化される。
このようにして、熱誘導パルスのパルス期間の間の記録
開始値で作られる記録から同期ノイズが減少される。本
発明には種々の方法と装置が含まれる。
E.実施例 図面中で重要な部分や重要な性質を参照数字で示し
て、本発明をより具体的に示した図面を参照するに、第
１図は光学的情報担持信号記録装置の一部を示す。この
ような記録装置の配列は公知だからその詳細は説明しな
い。記録されるデータは、光学的熱的に反応する記録担
持媒体である回転する光学記録デイスク11上に記録する
ために、データライン10を介して記録回路、即ち書き込
み回路、WRT12へ印加される。良好な形式の記録担持媒
体11は２つの円状の点線でデイスク11上に示されている
半径方向に配置された複数本の環状トラツクを含む。ト
ラツクの実際の構成は複数個の同心円トラツクでも、複
数個の渦巻線を有する１個のスパイラルトラツクでもよ
い。各渦巻はスパイラルトラツクの単一のトラツク部分
と呼ばれている。記録担持媒体11は相対的に一定の回転
速度で回転しているものと仮定して、記録担持媒体11上
に投射する熱誘導レーザビームの強度は記録トラツクの
半径方向の位置によつて変化される。この強度の変化を
達成するために、半径位置インジケータと重複するトラ
ツク番号が記録回路12へケーブル13を介して供給され
る。記録回路12は半導体レーザ15の出力光強度を変調す
るための制御ライン14上の一連の制御パルスを発生する
ために、ライン10上の入力データ信号と、ケーブル13上
の半径位置インジケータとを組み合わせることによつて
記録制御パルスを発生する。半導体レーザ15は任意のガ
リウム砒素レーザ、又は特に一定電流振幅に従つて種々
の入力制御振幅信号を与える他の半導体レーザであつて
よい。レーザ15の出力光ビームは焦点用対物レンズ17を
通つて光路軸16に沿つて進み、光路18を介してデイスク
11に到達する。トラツクを探索し且つ追従するために、
デイスク11の半径方向にビーム18を移動するトラツク追
従回路は公知であり、図では省略されている。通常の焦
点調節用回路や、他の制御用回路及びデータ転送回路も
示されていない。
て、本発明をより具体的に示した図面を参照するに、第
１図は光学的情報担持信号記録装置の一部を示す。この
ような記録装置の配列は公知だからその詳細は説明しな
い。記録されるデータは、光学的熱的に反応する記録担
持媒体である回転する光学記録デイスク11上に記録する
ために、データライン10を介して記録回路、即ち書き込
み回路、WRT12へ印加される。良好な形式の記録担持媒
体11は２つの円状の点線でデイスク11上に示されている
半径方向に配置された複数本の環状トラツクを含む。ト
ラツクの実際の構成は複数個の同心円トラツクでも、複
数個の渦巻線を有する１個のスパイラルトラツクでもよ
い。各渦巻はスパイラルトラツクの単一のトラツク部分
と呼ばれている。記録担持媒体11は相対的に一定の回転
速度で回転しているものと仮定して、記録担持媒体11上
に投射する熱誘導レーザビームの強度は記録トラツクの
半径方向の位置によつて変化される。この強度の変化を
達成するために、半径位置インジケータと重複するトラ
ツク番号が記録回路12へケーブル13を介して供給され
る。記録回路12は半導体レーザ15の出力光強度を変調す
るための制御ライン14上の一連の制御パルスを発生する
ために、ライン10上の入力データ信号と、ケーブル13上
の半径位置インジケータとを組み合わせることによつて
記録制御パルスを発生する。半導体レーザ15は任意のガ
リウム砒素レーザ、又は特に一定電流振幅に従つて種々
の入力制御振幅信号を与える他の半導体レーザであつて
よい。レーザ15の出力光ビームは焦点用対物レンズ17を
通つて光路軸16に沿つて進み、光路18を介してデイスク
11に到達する。トラツクを探索し且つ追従するために、
デイスク11の半径方向にビーム18を移動するトラツク追
従回路は公知であり、図では省略されている。通常の焦
点調節用回路や、他の制御用回路及びデータ転送回路も
示されていない。
第２図は除去型記録、相変換型記録、磁気光学式記録
などで見られるようなパルス長記録に対する代表的な熱
誘導による記録パターンを示している。パルス長記録
は、第１の長さが１、第２の長さが２等々のように、記
録されたパターンの長さによつて情報を表示する。従つ
て、相対的に細長いパルス長記録スポツト21が記録担持
媒体11のトラツクに沿つたスポツト21の長さに従つた複
数個の情報単位を表わす。一定エネルギの熱誘導パルス
が領域21中に情報を記録した時、記録の置かれる部分で
の記録領域21の幅は所望の半径方向の幅を持つている。
パルスの長さが長くなると、一定エネルギの熱誘導ビー
ムは、部分22のように記録領域を半径方向で拡張させ
る。記録領域の半径方向への拡張は、第３図に関連して
後述するように、読み取り信号中に同期ノイズを発生す
ることになる。若し、記録領域21の形が破線23で示され
たように制御出来たとすれば、同期ノイズは除去される
か、又は非常に小さくなる。本発明は、半径方向の拡張
部分22を実質的に除去し、記録時の同期ノイズを減少す
る記録開始のエネルギ強度を用いることによつて、所望
の任意の長さの記録領域21を与える。
などで見られるようなパルス長記録に対する代表的な熱
誘導による記録パターンを示している。パルス長記録
は、第１の長さが１、第２の長さが２等々のように、記
録されたパターンの長さによつて情報を表示する。従つ
て、相対的に細長いパルス長記録スポツト21が記録担持
媒体11のトラツクに沿つたスポツト21の長さに従つた複
数個の情報単位を表わす。一定エネルギの熱誘導パルス
が領域21中に情報を記録した時、記録の置かれる部分で
の記録領域21の幅は所望の半径方向の幅を持つている。
パルスの長さが長くなると、一定エネルギの熱誘導ビー
ムは、部分22のように記録領域を半径方向で拡張させ
る。記録領域の半径方向への拡張は、第３図に関連して
後述するように、読み取り信号中に同期ノイズを発生す
ることになる。若し、記録領域21の形が破線23で示され
たように制御出来たとすれば、同期ノイズは除去される
か、又は非常に小さくなる。本発明は、半径方向の拡張
部分22を実質的に除去し、記録時の同期ノイズを減少す
る記録開始のエネルギ強度を用いることによつて、所望
の任意の長さの記録領域21を与える。
第３図は、いわゆる“MW"読み取りパターンを生じ且
つ同期ノイズの影響を示す相補的テストパターンを単純
化して示す。この同期ノイズの影響は基本周波数の振幅
に関してほぼ同じ振幅を持つ偶数倍の高調波によつて惹
起される。本発明は、ライン14を介して制御パルスを供
給し、結果の光ビームの波形25（第５図）の強度を変化
させることによつて、同期ノイズ問題を解決するもので
ある。この波形は、記録担持媒体11上の熱誘導ビームの
記録情報担持信号における、低い記録維持振幅を従えた
初期の高い記録開始振幅を示している。このような振幅
は記録媒体のタイプに応じて経験的に決められる。上述
のような記録開始のエネルギレベルは高速度記録を可能
とする。即ち、この記録開始のエネルギレベルは、記録
が生じる温度まで、記録領域を急速に加熱する。本発明
を利用する利益は第３図に示されたように、実線で示さ
れた読み取り波形26と破線で示された読み取り波形27と
を比較することによつて理解することが出来る。波形26
は一定の振幅の記録開始エネルギレベルのパルスを使つ
て記録されたものを読み取つた波形であるのに反し、波
形27は第５図の記録波形25を用いて記録したものを読み
取つた波形である。長いパルスの記録を読み取つた波形
26がゼロ軸31と交わる部分は、点28で示したように、ゼ
ロ軸31よりも可成り深いが、他方、本発明を使つて補償
された記録から読み取られた信号27はポイント30でゼロ
軸31と交わる。ポイント29での信号27はゼロ軸と交差す
る点29と殆んど同じである。この同一性が低レベルの同
期ノイズ又は除去された同期ノイズを表わす。ポイント
28において、ゼロ軸より可成り下方に実質部分を有する
波形26と、ポイント29においてゼロ軸を通る小さい実質
部分は読み取り信号中の第２高調波歪み、即ち同期ノイ
ズを表わす。読み取り信号27は、第２図の破線23で示さ
れているように、記録領域21が実質的に並行な１対の側
線を持つていることを推測させる。
つ同期ノイズの影響を示す相補的テストパターンを単純
化して示す。この同期ノイズの影響は基本周波数の振幅
に関してほぼ同じ振幅を持つ偶数倍の高調波によつて惹
起される。本発明は、ライン14を介して制御パルスを供
給し、結果の光ビームの波形25（第５図）の強度を変化
させることによつて、同期ノイズ問題を解決するもので
ある。この波形は、記録担持媒体11上の熱誘導ビームの
記録情報担持信号における、低い記録維持振幅を従えた
初期の高い記録開始振幅を示している。このような振幅
は記録媒体のタイプに応じて経験的に決められる。上述
のような記録開始のエネルギレベルは高速度記録を可能
とする。即ち、この記録開始のエネルギレベルは、記録
が生じる温度まで、記録領域を急速に加熱する。本発明
を利用する利益は第３図に示されたように、実線で示さ
れた読み取り波形26と破線で示された読み取り波形27と
を比較することによつて理解することが出来る。波形26
は一定の振幅の記録開始エネルギレベルのパルスを使つ
て記録されたものを読み取つた波形であるのに反し、波
形27は第５図の記録波形25を用いて記録したものを読み
取つた波形である。長いパルスの記録を読み取つた波形
26がゼロ軸31と交わる部分は、点28で示したように、ゼ
ロ軸31よりも可成り深いが、他方、本発明を使つて補償
された記録から読み取られた信号27はポイント30でゼロ
軸31と交わる。ポイント29での信号27はゼロ軸と交差す
る点29と殆んど同じである。この同一性が低レベルの同
期ノイズ又は除去された同期ノイズを表わす。ポイント
28において、ゼロ軸より可成り下方に実質部分を有する
波形26と、ポイント29においてゼロ軸を通る小さい実質
部分は読み取り信号中の第２高調波歪み、即ち同期ノイ
ズを表わす。読み取り信号27は、第２図の破線23で示さ
れているように、記録領域21が実質的に並行な１対の側
線を持つていることを推測させる。
次に、第４図及び第５図を参照すると、補償された記
録用光パルスのビームの発生をよく理解することが出来
る。理想化された信号40で表わされるデータ入力は可変
遅延回路VD35で受け取られる。可変遅延回路35は公知な
ので詳細な説明は省略する。半径方向位置情報、即ち、
ケーブル13を介して供給されるトラツクアドレスはデジ
タルからアナログへのコンバータDA36で受け取られる。
信号遅延の変化はライン37を介してVD35へ供給されるア
ナログ信号によつて制御される。一般に、記録信号は記
録担持媒体11上のデイスクセル（図示せず）に関して遅
延され、その遅延は半径の大きさに従つて変化する。半
径が大きくなればなる程、VD35によりデータ信号に与え
られる遅延は長くなる。ライン38上のVD35の出力41は、
既に述べたように、42で示した量だけ可変的に遅延され
る。第４図に示された回路は、電流源50,56で夫々示さ
れた第１及び第２の電流制御パルス発生部を持つてい
る。第１電流制御部は、後述されるように、各パルス発
生部からの出力電流パルスを加えることによつて、記録
開始パルス振幅44A（第５図）を発生する。シングルシ
ヨツト回路SS43（単安定マルチバイブレータ）は一定パ
ルス期間の出力パルス45を発生するため信号41に応答す
る。パルス45は、電流源I1 50からライン14を経てレー
ザ15へ送られる一定振幅電流パルスを通過する電子スイ
ツチ47を付勢するため制御ライン46に供給される。電流
源50の出力振幅は、ライン51を介して、半径方向に関連
する制御信号を供給するDA36によつて制御される。ケー
ブル13の半径位置表示が大きければ大きいほど、電流源
50により供給される振幅は大きくなる。
録用光パルスのビームの発生をよく理解することが出来
る。理想化された信号40で表わされるデータ入力は可変
遅延回路VD35で受け取られる。可変遅延回路35は公知な
ので詳細な説明は省略する。半径方向位置情報、即ち、
ケーブル13を介して供給されるトラツクアドレスはデジ
タルからアナログへのコンバータDA36で受け取られる。
信号遅延の変化はライン37を介してVD35へ供給されるア
ナログ信号によつて制御される。一般に、記録信号は記
録担持媒体11上のデイスクセル（図示せず）に関して遅
延され、その遅延は半径の大きさに従つて変化する。半
径が大きくなればなる程、VD35によりデータ信号に与え
られる遅延は長くなる。ライン38上のVD35の出力41は、
既に述べたように、42で示した量だけ可変的に遅延され
る。第４図に示された回路は、電流源50,56で夫々示さ
れた第１及び第２の電流制御パルス発生部を持つてい
る。第１電流制御部は、後述されるように、各パルス発
生部からの出力電流パルスを加えることによつて、記録
開始パルス振幅44A（第５図）を発生する。シングルシ
ヨツト回路SS43（単安定マルチバイブレータ）は一定パ
ルス期間の出力パルス45を発生するため信号41に応答す
る。パルス45は、電流源I1 50からライン14を経てレー
ザ15へ送られる一定振幅電流パルスを通過する電子スイ
ツチ47を付勢するため制御ライン46に供給される。電流
源50の出力振幅は、ライン51を介して、半径方向に関連
する制御信号を供給するDA36によつて制御される。ケー
ブル13の半径位置表示が大きければ大きいほど、電流源
50により供給される振幅は大きくなる。
第２パルス発生部は信号41から発生される基本電流部
分55を供給する。信号41は、SS43の信号伝播遅延と等し
い遅延を持つ一定遅延回路FD52を通つて、２つのパルス
発生部分の電流出力の立上りエツヂが時間同期されるよ
うに伝播する。FD52の出力信号53は、電流源I2 56から
ライン14を介してレーザ15へ一定振幅の電流を通過する
ために電子スイツチ54を付勢する。FD52からの信号53
は、波形25の基本電流部分55を発生する。波形25を生ず
る２個のスイツチ47,44の出力電流を合計するため、ラ
イン14はスイツチ47及び54の出力とオーミツク接続をす
る。レーザ15は光路16を介して、制御波形25と同じ波形
を有するエネルギ内容と強度を持つ光ビームを出力す
る。
分55を供給する。信号41は、SS43の信号伝播遅延と等し
い遅延を持つ一定遅延回路FD52を通つて、２つのパルス
発生部分の電流出力の立上りエツヂが時間同期されるよ
うに伝播する。FD52の出力信号53は、電流源I2 56から
ライン14を介してレーザ15へ一定振幅の電流を通過する
ために電子スイツチ54を付勢する。FD52からの信号53
は、波形25の基本電流部分55を発生する。波形25を生ず
る２個のスイツチ47,44の出力電流を合計するため、ラ
イン14はスイツチ47及び54の出力とオーミツク接続をす
る。レーザ15は光路16を介して、制御波形25と同じ波形
を有するエネルギ内容と強度を持つ光ビームを出力す
る。
データ信号40は、波形25の一部である出力制御パルス
59を生ずる短い期間のパルス58を含んでいる。記録開始
部分44Aは長いパルス期間のデータパルスのための記録
開始部分44Aと同じ振幅と期間を持つている。基本部分5
5Aは短いデータパルス58の期間の期間表示を持ち、他
方、基本部分55は長いデータパルス40Aの期間の期間表
示を持つ。波形25の中のパルスの期間は記録される情報
担持信号を表わす。磁気光学記録において、残留磁気の
第１方向の磁極はビツト表示領域21がないことを表わ
し、他方、残留磁気の第２方向の磁極はビツト表示領域
21を表わす。他の光学記録において、２つの表面反射の
レベルが夫々媒体表面と記録領域21とを表わす。
59を生ずる短い期間のパルス58を含んでいる。記録開始
部分44Aは長いパルス期間のデータパルスのための記録
開始部分44Aと同じ振幅と期間を持つている。基本部分5
5Aは短いデータパルス58の期間の期間表示を持ち、他
方、基本部分55は長いデータパルス40Aの期間の期間表
示を持つ。波形25の中のパルスの期間は記録される情報
担持信号を表わす。磁気光学記録において、残留磁気の
第１方向の磁極はビツト表示領域21がないことを表わ
し、他方、残留磁気の第２方向の磁極はビツト表示領域
21を表わす。他の光学記録において、２つの表面反射の
レベルが夫々媒体表面と記録領域21とを表わす。
波形25の記録開始部分44Aの形は記録を強化するため
に修正することが出来る。記録開始振幅の一定振幅の波
形は満足すべきノイズ減少を与えるけれども、記録媒体
の熱的プロフイルに対して記録開始部分の形を異ならせ
ることによつて、更にノイズの減少を計ることが出来
る。そのようなプロフイルは既に知られているように、
実験的に決められる。記録領域の温度は出来るだけ速く
上昇することが必要だから、第６図のパルス部分44Bの
立上りエツヂ60は可能な限り急峻にされるのがよい。最
大電流振幅に達したらば、パルス部分44Bの形は記録が
なされる記録媒体の熱的プロフイルと同じである。代表
的なこのプロフイルは指数関数曲線である。パルス部分
44Bの後続部分61は記録媒体の加熱性（熱的プロフイ
ル）により決められた形を持つているので、記録領域の
温度は一定幅の記録を確保するように制御される。後続
パルスのエツヂ61はレーザ制御パルスの記録維持部分55
Bに導入される。後続エツヂ61の時間間隔は一定電流パ
ルス部分及び44Aの期間よりも長い。
に修正することが出来る。記録開始振幅の一定振幅の波
形は満足すべきノイズ減少を与えるけれども、記録媒体
の熱的プロフイルに対して記録開始部分の形を異ならせ
ることによつて、更にノイズの減少を計ることが出来
る。そのようなプロフイルは既に知られているように、
実験的に決められる。記録領域の温度は出来るだけ速く
上昇することが必要だから、第６図のパルス部分44Bの
立上りエツヂ60は可能な限り急峻にされるのがよい。最
大電流振幅に達したらば、パルス部分44Bの形は記録が
なされる記録媒体の熱的プロフイルと同じである。代表
的なこのプロフイルは指数関数曲線である。パルス部分
44Bの後続部分61は記録媒体の加熱性（熱的プロフイ
ル）により決められた形を持つているので、記録領域の
温度は一定幅の記録を確保するように制御される。後続
パルスのエツヂ61はレーザ制御パルスの記録維持部分55
Bに導入される。後続エツヂ61の時間間隔は一定電流パ
ルス部分及び44Aの期間よりも長い。
記録媒体の熱的プロフイルは一定強度のレーザビーム
に対する、記録媒体の温度増加の時間測度である。後続
エツヂ61のプロフイルは、記録媒体上に投射するレーザ
ビームの中心部で測定された（赤外線センサにより）温
度増加プロフイルに対応する。そのようなプロフイルは
相対的に静止した記録媒体とレーザ源によつて決めるこ
とが出来るが、レーザ源に対して相対的に移動する記録
媒体からそのようなプロフイルが得られるのが好まし
い。熱的プロフイルが決められると、第６図に示された
パルス波形44B,55Bを発生するための通常の波形整形回
路を設計することが出来る。
に対する、記録媒体の温度増加の時間測度である。後続
エツヂ61のプロフイルは、記録媒体上に投射するレーザ
ビームの中心部で測定された（赤外線センサにより）温
度増加プロフイルに対応する。そのようなプロフイルは
相対的に静止した記録媒体とレーザ源によつて決めるこ
とが出来るが、レーザ源に対して相対的に移動する記録
媒体からそのようなプロフイルが得られるのが好まし
い。熱的プロフイルが決められると、第６図に示された
パルス波形44B,55Bを発生するための通常の波形整形回
路を設計することが出来る。
第４図を参照して、記録開始パルス部分44Bに対し
て、熱的プロフイルの形を導入することがパルス45（第
５図）の立上りエツヂで開始されるパルス整形回路62に
よつて達成される。パルス整形回路62はその熱的プロフ
イル表示制御信号63を電流源50へ印加する。電流源50は
波形整形回路62の制御信号に応答し、そして、波形整形
回路62の振幅に従つてスイツチ47へ振幅電流を供給する
電流源50を変化させる。最初に、ライン57を介してDA36
により供給される半径表示信号によつて表わされた振幅
の電流がI1 50により供給され、次に減少する振幅の電
流がパルス、即ち波形整形回路62の制御信号63により表
示される熱的プロフイルに従つて供給される。制御信号
63の振幅はI1 50によつて、レーザ15を付勢するライン5
7の信号の振幅から差し引かれ、記録開始パルス部分44B
の後続エツヂ61を発生する。
て、熱的プロフイルの形を導入することがパルス45（第
５図）の立上りエツヂで開始されるパルス整形回路62に
よつて達成される。パルス整形回路62はその熱的プロフ
イル表示制御信号63を電流源50へ印加する。電流源50は
波形整形回路62の制御信号に応答し、そして、波形整形
回路62の振幅に従つてスイツチ47へ振幅電流を供給する
電流源50を変化させる。最初に、ライン57を介してDA36
により供給される半径表示信号によつて表わされた振幅
の電流がI1 50により供給され、次に減少する振幅の電
流がパルス、即ち波形整形回路62の制御信号63により表
示される熱的プロフイルに従つて供給される。制御信号
63の振幅はI1 50によつて、レーザ15を付勢するライン5
7の信号の振幅から差し引かれ、記録開始パルス部分44B
の後続エツヂ61を発生する。
F.発明の効果 以上、説明したように、本発明の熱誘導記録方法によ
つて記録された記録媒体は、記録パターンを再生し読み
取る際に生ずる同期ノイズが実質的に取り除かれる。
つて記録された記録媒体は、記録パターンを再生し読み
取る際に生ずる同期ノイズが実質的に取り除かれる。
第１図は本発明が実施された光学的情報担持記録機を単
純化して示す図、第２図は本発明の利点を説明するた
め、熱的に反応する記録媒体上のパルス長さ記録を拡大
して示す図、第３図は第２図に示された記録を使つて発
生された対称的テストパターンからの読み取り信号を示
す図、第４図は第１図に示された記録機に使われる記録
回路の模式図、第５図は第４図に示した回路の動作を説
明するための波形と、熱誘導記録に使われるエネルギパ
ルスの波形を示す図、第６図は第１図に示された記録機
に使われる記録媒体の熱的プロフイルに対するレーザ記
録パルスの波形を示す図である。 11……熱誘導記録媒体,12……書き込み回路,15……レー
ザ,21……記録領域。
純化して示す図、第２図は本発明の利点を説明するた
め、熱的に反応する記録媒体上のパルス長さ記録を拡大
して示す図、第３図は第２図に示された記録を使つて発
生された対称的テストパターンからの読み取り信号を示
す図、第４図は第１図に示された記録機に使われる記録
回路の模式図、第５図は第４図に示した回路の動作を説
明するための波形と、熱誘導記録に使われるエネルギパ
ルスの波形を示す図、第６図は第１図に示された記録機
に使われる記録媒体の熱的プロフイルに対するレーザ記
録パルスの波形を示す図である。 11……熱誘導記録媒体,12……書き込み回路,15……レー
ザ,21……記録領域。
Claims (2)
- 【請求項１】信号記録手段（12）と、情報担持信号を記
録するための複数のトラックを有するディスクを回転可
能に搭載する手段とを有する情報担持信号レコーダにお
いて、 上記信号記録手段は、 エネルギー制御入力部（14）を有し、上記情報担持信号
を記録するために、上記ディスク上に指向される熱誘導
パルスを放出するビーム発生源（15）と、 上記情報担持信号を供給するデータ手段（10）と、 上記データ手段と上記ビーム発生源とに接続され、上記
情報担持信号に応答して第１の制御パルスを上記ビーム
発生源に供給して、第１のエネルギーレベルの熱誘導パ
ルスを所定期間発生させる第１電流源手段（50）と、 上記データ手段と上記ビーム発生源とに接続され、上記
情報担持信号に応答して第２の制御パルスを上記ビーム
発生源に供給して、上記情報担持信号を表す期間、第２
のエネルギーレベルの熱誘導パルスを上記ビーム発生源
に発生させる第２電流源手段（56）と、 上記データ手段（10）と、上記第１電流源手段（50）
と、上記第２電流源手段（56）とに接続された、上記ビ
ーム発生源に走査されているトラックの半径位置を指示
するための半径位置制御手段（36）とを備え、 上記第２電流源手段（56）は、上記第２のエネルギーレ
ベルの熱誘導パルスが上記第１のエネルギーレベルの熱
誘導パルスと同期して生じるように上記第２の制御パル
スを上記ビーム発生源に供給して、上記２つのエネルギ
ーレベルの合計が記録開始値になるように、熱誘導パル
スを上記ビーム発生源に発生させ、 上記半径位置制御手段（36）は、上記データ手段の動作
を上記情報担持信号の受信時から上記半径位置に応じて
可変的に遅延させる可変遅延制御手段（35）を有し、該
可変遅延制御手段により上記第１及び第２の電流源手段
の起動を上記情報担持信号の受信時から上記半径位置に
応じて可変的に遅延させて上記第１及び第２の制御パル
スを発生させ、かつ、上記半径位置に応じて上記第１及
び第２の制御パルスの振幅値を変化させる。 ことを特徴とする情報担持信号レコーダ。 - 【請求項２】上記ディスクは、所定の熱的プロフイルを
有し、 上記第１の制御パルスが、上記ビーム発生源から上記第
１のエネルギーレベルのビームを発生させる初期電流振
幅を有し、次いでエネルギーレベルが上記第１エネルギ
ーレベルから上記第２エネルギーレベルに変化するビー
ムを発生させるように、上記所定の熱的プロイルに基づ
いてその電流振幅が変化する、そのような上記所定の熱
的プロフイルに基づく形状を有する上記第１の制御パル
スを供給するために、上記第１電流源手段を起動するた
めの信号整形手段（62）を、更に備えることを特徴とす
る第１項の情報担持信号レコーダ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US74902185A | 1985-06-26 | 1985-06-26 | |
| US749021 | 1985-06-26 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS626443A JPS626443A (ja) | 1987-01-13 |
| JP2605015B2 true JP2605015B2 (ja) | 1997-04-30 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61088404A Expired - Fee Related JP2605015B2 (ja) | 1985-06-26 | 1986-04-18 | 熱誘導記録の情報担特信号レコーダ |
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| JP (1) | JP2605015B2 (ja) |
| DE (1) | DE3681974D1 (ja) |
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| WO2020089686A1 (en) * | 2018-10-30 | 2020-05-07 | Marvell World Trade Ltd. | Thermal compensation for laser in heat assisted magnetic recording |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1986
- 1986-04-18 JP JP61088404A patent/JP2605015B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1986-04-30 US US06/857,268 patent/US4731773A/en not_active Expired - Lifetime
- 1986-06-25 DE DE8686304934T patent/DE3681974D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1986-06-25 EP EP86304934A patent/EP0206824B1/en not_active Expired
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| JPS626443A (ja) | 1987-01-13 |
| EP0206824A2 (en) | 1986-12-30 |
| DE3681974D1 (de) | 1991-11-21 |
| EP0206824A3 (en) | 1988-10-19 |
| EP0206824B1 (en) | 1991-10-16 |
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