JP2506910B2 - 光記録媒体の前処理方法 - Google Patents
光記録媒体の前処理方法Info
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- JP2506910B2 JP2506910B2 JP63068561A JP6856188A JP2506910B2 JP 2506910 B2 JP2506910 B2 JP 2506910B2 JP 63068561 A JP63068561 A JP 63068561A JP 6856188 A JP6856188 A JP 6856188A JP 2506910 B2 JP2506910 B2 JP 2506910B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording medium
- optical recording
- pretreatment method
- information carrier
- carrier layer
- Prior art date
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、繰返し記録を行なう光記録媒体への前処理
方法に関するものである。
方法に関するものである。
従来の技術 繰返し記録が行なえる光記録媒体のうち、信号記録層
を結晶状態からアモルファス状態へ、あるいはその逆方
向へ可逆的に変化せしめて、その２つの状態の記録層の
光学的性質の差を例えば光の反射率の差の信号として読
み出す、いわゆる相変化型の光ディスクを一例として第
７図において説明する。
を結晶状態からアモルファス状態へ、あるいはその逆方
向へ可逆的に変化せしめて、その２つの状態の記録層の
光学的性質の差を例えば光の反射率の差の信号として読
み出す、いわゆる相変化型の光ディスクを一例として第
７図において説明する。
光ディスク１は、透光性の基板2,情報担体層3,接着層
4,保護板５から構成された公知の構造である。情報媒体
層３は、誘電体層６及び7,記録層8,反射層９より構成さ
れている。誘電体層６及び7,反射層９は繰返し記録時に
受ける熱作用に対する耐久性向上や、光の干渉により信
号出力を増大させるために形成されている。
4,保護板５から構成された公知の構造である。情報媒体
層３は、誘電体層６及び7,記録層8,反射層９より構成さ
れている。誘電体層６及び7,反射層９は繰返し記録時に
受ける熱作用に対する耐久性向上や、光の干渉により信
号出力を増大させるために形成されている。
記録層８は、通常真空蒸着やスパッタリング等の非平
衡プロセスで形成されるのでアモルファス状態となるの
が普通である。
衡プロセスで形成されるのでアモルファス状態となるの
が普通である。
第７図に示す構造において、記録層８がアモルファス
状態では、光学的性質を表わす屈折率ｎと消衰係数Ｒ共
に小さいので基板２側すなわち記録・再生側から見た反
射率が著しく小さくなり、フォーカスやトラッキングを
かけることが困難となる。
状態では、光学的性質を表わす屈折率ｎと消衰係数Ｒ共
に小さいので基板２側すなわち記録・再生側から見た反
射率が著しく小さくなり、フォーカスやトラッキングを
かけることが困難となる。
したがって、記録層８をアモルファス状態から結晶状
態へ変化させてn,R共に大きくしてフォーカスやトラッ
キングが安定してかかるように反射率を大きくするいわ
ゆる前処理が必要となる。
態へ変化させてn,R共に大きくしてフォーカスやトラッ
キングが安定してかかるように反射率を大きくするいわ
ゆる前処理が必要となる。
従来の前処理方法の一例を特開昭60−106031号公報に
おいて第８図，第９図に基づき説明する。第８図の例は
連続発光するレーザ光を光学系で収束させると共に細長
い形状Ａのスポットに形成して、その短かい方が光ディ
スクのトラック進行方向になるよう相対的に走査して照
射し、レーザ光の熱で記録層８を結晶化するものであ
る。
おいて第８図，第９図に基づき説明する。第８図の例は
連続発光するレーザ光を光学系で収束させると共に細長
い形状Ａのスポットに形成して、その短かい方が光ディ
スクのトラック進行方向になるよう相対的に走査して照
射し、レーザ光の熱で記録層８を結晶化するものであ
る。
第９図の例は前記形状Ａのスポットに先行してより細
くてパワー密度の高い形状Ｂスポットを走査してスポッ
トＢにて強く加熱した後、形状Ａのスポットで結晶化す
るものであり、形状Ｂのスポットも連続発光するレーザ
光から形成される。
くてパワー密度の高い形状Ｂスポットを走査してスポッ
トＢにて強く加熱した後、形状Ａのスポットで結晶化す
るものであり、形状Ｂのスポットも連続発光するレーザ
光から形成される。
相変化型光ディスクへのレーザ光照射による繰返し記
録方法は情報担体層３の性質に応じて、通常次の２つの
方法が使い分けされる。
録方法は情報担体層３の性質に応じて、通常次の２つの
方法が使い分けされる。
第１の方法は該当トラックの記録層８をまず低パワー
のレーザ光で結晶化してそのトラックに記録されていた
信号を消した後、例えば０と１からなる記録信号のうち
１を高パワーのレーザ光でアモルファス化して記録する
方法である。
のレーザ光で結晶化してそのトラックに記録されていた
信号を消した後、例えば０と１からなる記録信号のうち
１を高パワーのレーザ光でアモルファス化して記録する
方法である。
第２の方法は該当トラックに記録信号のうち０を前記
と同様に低パワーのレーザ光で結晶化させつつ１を高パ
ワーのレーザ光でアモルファス化して新しい信号を記録
しつつ旧信号を消していく。いわゆるオーバライト方法
である。
と同様に低パワーのレーザ光で結晶化させつつ１を高パ
ワーのレーザ光でアモルファス化して新しい信号を記録
しつつ旧信号を消していく。いわゆるオーバライト方法
である。
いずれの方法においても情報担体層３には結晶化とア
モルファス化のための熱が繰返し作用することになる。
モルファス化のための熱が繰返し作用することになる。
ここで従来の方法で前処理された光ディスクに最初に
信号記録されたトラックの記録層８の結晶化部の状態を
C1,アモルファス化部の状態をA1とし、ｎ回繰返し記録
された後のそれぞれの状態をCn,Anとする。繰返し熱作
用を受けることによって記録層８の原子や分子の結合状
態や構造あるいは転位等の欠陥状態がエネルギのより低
い状態、すなわち安定な状態に向って変化する。その変
化は記録層８だけでなく同様に熱作用を受ける誘電体層
6,7にも発生する。
信号記録されたトラックの記録層８の結晶化部の状態を
C1,アモルファス化部の状態をA1とし、ｎ回繰返し記録
された後のそれぞれの状態をCn,Anとする。繰返し熱作
用を受けることによって記録層８の原子や分子の結合状
態や構造あるいは転位等の欠陥状態がエネルギのより低
い状態、すなわち安定な状態に向って変化する。その変
化は記録層８だけでなく同様に熱作用を受ける誘電体層
6,7にも発生する。
そうすると記録層8,誘電体層6,7共に光学的性質が変
化し、それによってディスクの反射率や再生信号振幅が
変化して信号処理系の振幅マージンが小さくなりエラー
発生の確率が高くなるという問題が発生する。
化し、それによってディスクの反射率や再生信号振幅が
変化して信号処理系の振幅マージンが小さくなりエラー
発生の確率が高くなるという問題が発生する。
前記変化の度合はｎ＝10〜20までは比較的大きく、そ
れ以降はゆるやかになる傾向があるので10〜20回の繰返
し記録に相当する熱作用すなわち安定化熱作用を前処理
の工程で与えることができれば上記の問題を解決するこ
とができる。
れ以降はゆるやかになる傾向があるので10〜20回の繰返
し記録に相当する熱作用すなわち安定化熱作用を前処理
の工程で与えることができれば上記の問題を解決するこ
とができる。
発明が解決しようとする課題 ところが従来の方法で上記熱作用を与えるためには同
一トラックを10〜20回繰返し走査する必要があるので長
時間を要するという問題があった。
一トラックを10〜20回繰返し走査する必要があるので長
時間を要するという問題があった。
そこで、本発明は短時間で安定化熱作用を与えること
ができる光記録媒体の前処理方法を提供しようとするも
のである。
ができる光記録媒体の前処理方法を提供しようとするも
のである。
課題を解決するための手段 そして上記課題を解決するため本発明は、電磁波の強
度に変調をかけて光記録媒体の情報担体層に照射するも
のである。
度に変調をかけて光記録媒体の情報担体層に照射するも
のである。
作 用 本発明は上記した方法により、強度変調によって繰返
し記録に相当する熱作用を、多数回の繰返し走査なしで
与えることができる。
し記録に相当する熱作用を、多数回の繰返し走査なしで
与えることができる。
その結果、短時間で前処理が可能となる。
実施例 以下、本発明の一実施例を添付図面に基づいて説明す
る。
る。
第１図は本発明の一実施例を示す図で、（ａ）は従来
例の第８図と同様にレーザスポット20の形状を示してい
る。（ｂ）はレーザスポット20のトラック進行方向の光
強度の分布を示す図で、光強度P1〜P2の間がアモルファ
ス化に必要な値で、P3〜P4の間が結晶化に必要な値であ
る。Ｓはレーザスポット20のトラック進行方向の長さで
ある。レーザ光強度分布がＨレベルにある時、レーザ光
スポット20の中央部の長さl1の強度はアモルファス化レ
ベルにあり、端部長さl2は結晶化レベルにある。レーザ
光強度分布がＬレベルにある時、レーザスポット20の中
央部の長さl1の強度は結晶化レベルにある。
例の第８図と同様にレーザスポット20の形状を示してい
る。（ｂ）はレーザスポット20のトラック進行方向の光
強度の分布を示す図で、光強度P1〜P2の間がアモルファ
ス化に必要な値で、P3〜P4の間が結晶化に必要な値であ
る。Ｓはレーザスポット20のトラック進行方向の長さで
ある。レーザ光強度分布がＨレベルにある時、レーザ光
スポット20の中央部の長さl1の強度はアモルファス化レ
ベルにあり、端部長さl2は結晶化レベルにある。レーザ
光強度分布がＬレベルにある時、レーザスポット20の中
央部の長さl1の強度は結晶化レベルにある。
第１図（ｃ）はレーザ光強度を周期Ｔで前記Ｈレベル
とＬレベルに変調することを示す図で、結晶化に要する
時間はアモルファス化のそれよりも長いのでＬレベルの
時間を長くしてある。変調は図示しないが、公知の例え
ばEO変調器等で容易に行なうことができる。
とＬレベルに変調することを示す図で、結晶化に要する
時間はアモルファス化のそれよりも長いのでＬレベルの
時間を長くしてある。変調は図示しないが、公知の例え
ばEO変調器等で容易に行なうことができる。
ここでレーザスポット20の相対走査速度Ｖ＝10m/sレ
ーザ光強度の変調周期を十分アモルファス化と結晶化が
行なわれるよう余裕をみてＴ＝２μs,情報担体層３と安
定化させるに必要なアモルファス化と結晶化すなわち前
記ＨレベルとＬレベルの繰返し回数をこれも十分余裕を
みてｎ＝100回としても、レーザスポット20の長さl1は l1（mm）＝Ｖ（m/s）×Ｔ（μｓ）×ｎ×10-3＝2mm となる。l2はl1の1/10もあれば十分にレーザスポット20
通過後の記録層８を結晶化することができる。上記l1,l
2共に容易に実現できる寸法である。
ーザ光強度の変調周期を十分アモルファス化と結晶化が
行なわれるよう余裕をみてＴ＝２μs,情報担体層３と安
定化させるに必要なアモルファス化と結晶化すなわち前
記ＨレベルとＬレベルの繰返し回数をこれも十分余裕を
みてｎ＝100回としても、レーザスポット20の長さl1は l1（mm）＝Ｖ（m/s）×Ｔ（μｓ）×ｎ×10-3＝2mm となる。l2はl1の1/10もあれば十分にレーザスポット20
通過後の記録層８を結晶化することができる。上記l1,l
2共に容易に実現できる寸法である。
以上の方法により１回レーザ光を走査するだけで十分
安定化熱作用を与えることができるのできわめて短時間
に前処理を行なうことができる。
安定化熱作用を与えることができるのできわめて短時間
に前処理を行なうことができる。
次に本発明の他の実施例について説明する。
第２図はレーザスポット20と同様にレーザ光強度変調
を行なうレーザスポット21を、一定のＬレベル強度の結
晶化専用レーザスポット22に先行させて走査する方法を
示す図である。
を行なうレーザスポット21を、一定のＬレベル強度の結
晶化専用レーザスポット22に先行させて走査する方法を
示す図である。
第１図の結晶化用l2部のように変調に伴なって強度が
変動すると、記録層８の性質によっては結晶化部に変調
周期に対応するムラが残り、若干のノイズが発生するこ
とがあるが、第２図の構成ではそのようなことはなく多
様な性質の記録層に対応することができる。
変動すると、記録層８の性質によっては結晶化部に変調
周期に対応するムラが残り、若干のノイズが発生するこ
とがあるが、第２図の構成ではそのようなことはなく多
様な性質の記録層に対応することができる。
また高出力のレーザ光源あるいは光源があり、基板２
の耐熱性が良ければ第１図，第２図のように小面積のレ
ーザスポットを走査する必要はなく、光ディスクの全面
積に亘って前記光を第３図に示すように変調をかけて照
射すればよい。
の耐熱性が良ければ第１図，第２図のように小面積のレ
ーザスポットを走査する必要はなく、光ディスクの全面
積に亘って前記光を第３図に示すように変調をかけて照
射すればよい。
以上記録層８に熱エネルギを与える方法として光を例
にあげて述べてきたが、光に限るものでなく、光もその
中に含まれるが記録層８に限らず情報担体層３に吸収さ
れる電磁波であればよい。
にあげて述べてきたが、光に限るものでなく、光もその
中に含まれるが記録層８に限らず情報担体層３に吸収さ
れる電磁波であればよい。
情報担体層３に吸収されてヒステリシス損失，渦電流
損失，誘電体損失のうち少なくとも１つの損失を生じて
情報担体層３を加熱できる周波数の電磁波を与えてやれ
ばよい。
損失，誘電体損失のうち少なくとも１つの損失を生じて
情報担体層３を加熱できる周波数の電磁波を与えてやれ
ばよい。
その電磁波の周波数が一般的にヒステリシス損失や渦
電流損失を生じさせる数百Hz〜数MHzであれば、例えば
第４図に示すように、光ディスク１に高周波電源25を接
続したコイル26を近接させて与えることができる。また
その中でも高い方の周波数であれば、第５図に示すよう
に電極板27,28で光ディスク１をはさんで与えることが
できる。
電流損失を生じさせる数百Hz〜数MHzであれば、例えば
第４図に示すように、光ディスク１に高周波電源25を接
続したコイル26を近接させて与えることができる。また
その中でも高い方の周波数であれば、第５図に示すよう
に電極板27,28で光ディスク１をはさんで与えることが
できる。
誘電体損失が支配的となるマイクロ波であれば、第６
図に示すように導波管29で光ディスクまで導いてやれば
よい。
図に示すように導波管29で光ディスクまで導いてやれば
よい。
以上第４図〜第６図の例で述べたように、光よりも波
長の長い電磁波においても光において述べた第１図のよ
うにも第２図のようにもエネルギを与えることができ、
また走査するのではなく前記したように全面積に亘って
第３図に示すように変調をかけて与えることができる。
長の長い電磁波においても光において述べた第１図のよ
うにも第２図のようにもエネルギを与えることができ、
また走査するのではなく前記したように全面積に亘って
第３図に示すように変調をかけて与えることができる。
また、光ディスクは相変化型に限らず光磁気型であっ
てもよい。光磁気ディスクへの前処理の目的は記録層８
を結晶化したりアモルファス化したりすることではな
く、通常はアモルファス状態のままで繰返し記録される
時に情報担体層が受ける熱作用と等価な作用を与えて相
変化型と同様に記録層や誘電体層を安定化させることに
あり、それによって反射率や再生信号振幅を安定化させ
ることができる。
てもよい。光磁気ディスクへの前処理の目的は記録層８
を結晶化したりアモルファス化したりすることではな
く、通常はアモルファス状態のままで繰返し記録される
時に情報担体層が受ける熱作用と等価な作用を与えて相
変化型と同様に記録層や誘電体層を安定化させることに
あり、それによって反射率や再生信号振幅を安定化させ
ることができる。
発明の効果 本発明は、電磁波の強度に変調をかけて、光記録媒体
の情報担体層に照射することによって光記録媒体の前処
理を行なうので繰返し記録に相当する熱作用を多数回の
繰返し走査なしで与えることができる。
の情報担体層に照射することによって光記録媒体の前処
理を行なうので繰返し記録に相当する熱作用を多数回の
繰返し走査なしで与えることができる。
その結果、短時間で前処理を行なうことが可能にな
る。
る。
第１図（ａ）は本発明の一実施例の光記録媒体の前処理
方法を示すレーザスポットの形状図、第１図（ｂ）はレ
ーザ光強度の分布を示す特性図、第１図（ｃ）はレーザ
光強度を変調することを示す波形図、第２図（ａ）は本
発明の他の実施例のレーザスポット形状と配置を示す状
態図、第２図（ｂ）はレーザ光強度の分布図、第３図は
その他の実施例の光強度の変調を示す波形図、第４図〜
第６図はそれぞれその他の実施例の要部斜視図、第７図
は光ディスクの構造を示す断面図、第８図は従来例を説
明するためのレーザスポットの形状図、第９図はその他
の従来例を説明するためのレーザスポット形状と配置を
示す状態図である。 １……光ディスク、２……基板、３……情報担体層、20
……レーザスポット。
方法を示すレーザスポットの形状図、第１図（ｂ）はレ
ーザ光強度の分布を示す特性図、第１図（ｃ）はレーザ
光強度を変調することを示す波形図、第２図（ａ）は本
発明の他の実施例のレーザスポット形状と配置を示す状
態図、第２図（ｂ）はレーザ光強度の分布図、第３図は
その他の実施例の光強度の変調を示す波形図、第４図〜
第６図はそれぞれその他の実施例の要部斜視図、第７図
は光ディスクの構造を示す断面図、第８図は従来例を説
明するためのレーザスポットの形状図、第９図はその他
の従来例を説明するためのレーザスポット形状と配置を
示す状態図である。 １……光ディスク、２……基板、３……情報担体層、20
……レーザスポット。
Claims (5)
- 【請求項１】電磁波の強度に変調をかけて、光記録媒体
の情報担体層に照射してなる光記録媒体の前処理方法。 - 【請求項２】光記録媒体の情報担体層に電磁波を相対的
に走査して照射してなる請求項１に記載の光記録媒体の
前処理方法。 - 【請求項３】電磁波は光である請求項１に記載の光記録
媒体の前処理方法。 - 【請求項４】電磁波の周波数を情報担体層にヒステリシ
ス損失，渦電流損失，誘電体損失のうちの少なくとも１
つの損失を生じせしめる周波数としてなる請求項１に記
載の光記録媒体の前処理方法。 - 【請求項５】電磁波の強度に変調をかけた第１の電磁波
と変調をかけない第２の電磁波とを、前記第１の電磁波
を先行せしめて光記録媒体の情報担体層に相対的に走査
して照射してなる光記録媒体の前処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63068561A JP2506910B2 (ja) | 1988-03-22 | 1988-03-22 | 光記録媒体の前処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63068561A JP2506910B2 (ja) | 1988-03-22 | 1988-03-22 | 光記録媒体の前処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01241049A JPH01241049A (ja) | 1989-09-26 |
| JP2506910B2 true JP2506910B2 (ja) | 1996-06-12 |
Family
ID=13377298
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63068561A Expired - Lifetime JP2506910B2 (ja) | 1988-03-22 | 1988-03-22 | 光記録媒体の前処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2506910B2 (ja) |
-
1988
- 1988-03-22 JP JP63068561A patent/JP2506910B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01241049A (ja) | 1989-09-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |