JPS626443A - 熱誘導記録方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 Ａ、産業上の利用分野 本発明は情報を担持している信号を熱エネルギにより記
録することに関しており、通常その記録は光学的にセン
スされる。記録を行う熱エネルギを与えるために、レー
ザ又は同等の装置を用いることが好ましい。

Ｂ、従来技術 熱を誘導するコヒーレントな輻射線を放射するレーザ及
び半導体で通常使われてお９熱を誘導するＥビームは、
微細加工及び信号記録の応用に広く用いられている。熱
的誘導で記録された記録パターンによって惹起される高
調波歪みは、微細加工の分野では、情報担持信号を記録
しないから、無関係である。一方、レーザ等が情報担持
信号を記録するのに使われる場合、記録結果の良否が記
録の読み取りに直接に関係する。換言すれば、信号対キ
ャリア比及び信号対ノイズ比を出来るだけ大きく維持す
ることが望ましい。これらの比率が大きければ大きいほ
ど、情報担持信号を忠実に記録し且つ再生する可能性が
高くなる。このように記録に関連した問題は記録の面積
的な密度が高くなると急激に厳しくなり、このことは情
報担持信号を記録し及び感知する程度が低下することを
意味する。記録及び読み取りにおいて小さくなったエネ
ルギレベルは結果として、信号対ノイズ比も小さくする
。ノイズの一部は同期ノイズであり、換言すれば読み取
りプロセスか又は記録プロセスの何れかにより誘導され
るノイズである。記録が中間的な面積的密度の場合、同
期ノイズは誤差範囲に入るけれども、高い面積的記録密
度の場合、同期ノイズは問題化する。従って、本発明の
目的は熱誘導記録において、同期ノイズを減少すること
にある。

微細加工の分野において、米国特許４４７５０２８号は
毎秒のパルス数が溶接動作の開始時において倍増される
高温スタート特性を有する多モード定電圧パルス溶接機
を開示している。”高温スタート”の目的は低周波数パ
ルスによって与えられる電流レベルよりも低い電流レベ
ルでアークの発生全促進させることにあわ、換言すれば
、溶接周期の開始時における高温スタート、即ち増加さ
れたエネルギは溶接のだめのアークを確実に発生する。

例えば、１９７８年３月のベルシステム・テクニカルジ
ャーナル（ＢＥＬＬ　ＳＹＳＴＥＭ　ＴＥＣＨＮ工ＣＡ
ＬＪＯＵＲＮＡＬ　）　３８５頁乃至４０５頁の「薄膜
及び集積回路のレーザ加工Ｊ　（Ｌａ５ｅｒ　Ｍａｃｈ
ｉｎｉｎｇ　ｏｆＴｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　ａｎｄ工ｎｔｅ
ｇｒａｔｅｄ　Ｃ１ｒｃｕｉｔｓ　）と題するコーエン
（Ｍ、１．Ｃｏｈｅｎ　）等による文献のように、薄膜
及び集積回路のレーザ加工についての沢山の研究がある
。

この文献は、付近の材料又はコンポーネントに与える影
響を最小限にして、微少な量の材料を加熱し、熔融し又
は蒸発させるため、加工領域の尖鋭な限定及び地域的性
格を与える製造ツールにおける半導体レーザの使用を教
示している。この文献は、除去し又は切除する材料の適
合性を決定するレーザのパワー出力それ自身ではなく、
加工される物体上で焦点を結んだ光学的パワーの強度に
ついて開示している。更に、加工される目的物上の加工
部分のサイズは、目的物の材料の熱的性質と、レーザビ
ームのスポットのサイズと、レーザの発射ビームを横切
るエネルギの強度分布とに依存する。加工部分のエツジ
の限定は目的物の熱的性質と、露光時間とに主として従
属する。加工されている材料の表面の反射率はその材料
が熔融した時か、又は雰囲気に反応した時に急激に減少
しそして後続のレーザビームの吸収は高い幼木で発生す
る。初期のレーザ出力エネルギは材料面を初期に破壊す
るのに充分大きくなければならない。

この文献により教示された加工方法は、パルス期間、大
きさ及び波形が同じで、且つほぼ一定の振幅の一連のパ
ルスを含んでいる。

また、１９７１年８月のベルシステム・テクニカルジャ
ーナルの１７６１頁乃至１７８９頁に掲載された［レー
ザビームによる薄膜の微細加工及びイメージ記録ｊ　（
Ｍｉｃｒｏｍａｃｈｉｎｉｎｇ　ａｎｄ　工ｍａｇｅＲ
ｅｃｏｒｄｉｎｇ　ｏｎ　Ｔｈ１ｎ　Ｆｉｌｍ　ｂｙ　
Ｌａ５ｅｒ　Ｂｅａｍｓ　）と題するメイダン（Ｄ、Ｍ
ａｙｄａｎ　）の文献において、加工領域のサイズとレ
ーザスポットのサイズとの関係が１７７２頁の第６図に
説明されている。微細加工用光パルスの例は、同じ畿幅
で且つ短い同じ期間の光パルスであるものとして、１７
７３頁の第７図に示されている。１７７４頁の第８図は
、異なった幅の線が、レーザの強度を変化して与えられ
ている。１７７５頁の第９図はレーザパルスの加工動作
から得られた個々の加ニスポットの写真を示している。

加工動作において使われる種々のパルスの形が１７８０
頁の第１３図に示されている。ビデオ信号を記録するた
めに、一定振幅のパルスを用いたレーザ加工の使用例が
１７８４頁の第１７図に示されている。

１９６８年に刊行されたニューヨークアカデミツク出版
（Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ　Ａｃａｄｅｍｉｃ　Ｐｒｅｓｓ　
）の１３９頁乃至１８６頁に掲載されている［微細電子
素子の製造に対するレーザの応用ｊ　（Ａｐｐｌｉｃａ
ｔｉｏｎＯヱ　Ｌａ５ｅｒｓ　　ｔｏ　　Ｍｉｃｒｏｅ
ｌｅｃｔｒｏｎｉｃ　　Ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ）と題
するコーエン（ｃｏｈｅｎ　）等の文献は、加工される
材料上のレーザビームの影響を示す付加的な文章がある
。１５６頁において、スポットのサイズはパワー、即ち
光の強度レベルによって大きくなることを教示している
。１６４＠の文章はレーザ溶接と通常の熔接との比ｅｋ
記戒している。１６７貞はパルス期間について記載して
いる。この文献は、パルス型のレーザを用いた熔接にお
いて、考慮されるべき最も重要なパラメータの１つはパ
ルス期間であることを教示している。１６８貞の第１７
図は長すぎたパルス期間の影響と、材料に対するその加
工の結果とを示している。この文献の著作者は、充分な
熱を生ずるのに必要な最小限の時間が与えられている限
りにおいて、広範囲のパルス期間にわたって満足な熔接
をすることが可能であると述べている。このパラメータ
は熔接のために充分ではあるけれども、高い面積的密度
の情報担持信号の記録には適当なアプローチではないこ
とは明らかである。その文献の著作者はまだ、適正なエ
ネルギ制御の維持の重要性を論じている。

、　　１７１頁で、この著作者１は、ピーク値に迅速に
上昇し、それから低レベルに降下、即ち減衰するパルス
形が熔接には望ましいと以前に提案したことがあると述
べている。この観察はレーザビームに向けられた領域を
過熱することにより生ずる材料の予期しない飛散を避け
ることにあるのは明らかである。

米国特許第３９６２５５８号は一連の低エネルギパルス
を従えた初期の高エネルギパルスを有するパルス型のレ
ーザ穿孔機を示している。明らかに、加工される材料の
思わぬ飛散を避けるためにこの装置配列が選ばれている
。米国特許第３９６２５５８号に開示された技術の改良
は、米国特許第３９６２５５８号の第２図に示された機
械加工技術と、第３図に示されたコーエン（ｃ０ｈｅｎ
　）等による振幅衰退技術を引用した米国特許第４１１
４０１８号に示されている。米国特許第４１１４０１８
号は、この特許の第４図に示されているように、はぼ一
定である最適電流の振幅がレーザ加工の望ましい方法で
あることを教示している。除去型の情報担持信号記録の
だめの記録用レーザビームのエネルギレベル（ｒｉ、一
定の記録パワーを使って、材料を移動することと、材料
の蒸発又は飛散をすることなく、材料の部分的再配置を
発生するために、記録担持媒体のフィルムを変形するこ
ととが良いということを教示している米国特許第４４１
０９６８号によって、上述のアプローチが確かめられる
。

記録担持媒体上に異なった長さの熱誘導記録を生ずるだ
めのパルス型レーザ記録の他の形式が、オーバーラツプ
した弧状パルス形ビームを使った米国特許第４４７３８
２９号に示されている。パルス間隔の短い高速パルスレ
ーザ又は同様なビーム発射装置は相対的に中間程度のリ
ニヤ記録密度においては適当な装置であるけれども、比
較的速く動く記録担持媒体上に高いリニヤ記録密度の達
成は、上述のようなパルスでは困難である。言い換えれ
ば、高速で動く記録媒体上で高い記録密度を得るために
は、レーザ又は他のビーム発射源がオンに転じたら、パ
ルス期間としてそのままオン状態に留まることが望まし
い。パルス型レーザによらない可変パルス長記録動作の
ために、高いリニヤな密度が達成される。

除去型又は材料再配置型の記録に加えて、パルス型レー
ザは、結晶からアモルファス相変（ｔ［。

記録にも使われている。除去型記録のためのレーザ制御
が他の形式の光学記録に適用しうるかについては必ずし
も明らかでない。例えば、１９７３年２月の電子装置に
関する工ＥＦＥ会報のＶｏｌ、　ＥＤ−２０，煮２の９
１頁乃至１０５頁（工ＥＥＥ　ＴＲＡ−ＮＳＡＣＴ工０
ＮＳＯＮＥＬＥＣＴＲＯＮＤＥ■ＩＣＥＳ）に掲載され
た［スイッチングメモリ及び図形の応用のためのアモル
ファス半導体Ｊ　（ＡｍｏｒｐｈｏｕｓＳｅｍｉｃｏｎ
ｄｕｃｔｏｒｓ　ｆｏｒ　Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ、　Ｍｅ
ｍｏｒｙ、　ａｎｄＩｍａｇｉｎｇＡｐｐｌｉｃａｔｉ
ｏｎｓ　）と題するオイシンスキー（０ｙｓｈｉｎｓｋ
ｙ　）等による文献の９７頁の第１０図にはアモルファ
ス−結晶に切換わりうる材料の電気的インピーダンス特
性が示されている。特に、初期の高い電気的インピーダ
ンス値が、−たび切換えられた相状態を持つと、材料に
跨がる低電圧で証明されるように、電気的インピーダン
スのレベルは低下することがある。この論文はまた、ア
モルファス状態と結晶状態との間で切換わるアモルファ
ス半導体の光学的効果の逆転性を示している。術語”半
導体″は相変換光学記録で通常使われる半金属にも適用
される。一定のパワーの・（ルスではなく一定電流のパ
ルスが使われていたことは明らかである。

光学記録の他の形式は１９７７年の日本の電気通信学会
誌のＶｏｌ、　６０−Ｃ，Ａ７の８９頁乃至９７頁に掲
載されている「多重レンズを用いた電磁光学ディスクメ
モリＪ　（Ｍａｇｎｅｔｏ−Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｄｉｓｋ
Ｍｅｍｏｒｙ　Ｕｔｉｌｉｚｉｎｇ　Ｍｕｌｔｉｌｅｎ
ｓｅｓ　）　　と題するノジャマ（仕出）の文献に記載
されているような、いわゆる電磁光学ディスクである。

この文献は、円形領域の記録を発生するため、一定の振
幅と波形を持つパルス型レーザを使って、電磁光学記録
担持媒体上に記録を行うことを教示している。電磁光学
記録システムにおいて、レーザがキューリ点以上に材料
を加熱している間、副次的磁界が一方向又は他方向に残
留磁気の向きを変える。興味あることは、エネルギの強
度の増加がスポットのサイズ、従って記録の幅及びサイ
ズを増加することである。この文献の第１２図及び第１
３図に示されているように、短いパルス及び長いパルス
を記録するために、一連のパルスが使われている。

半導体の製造分野では、Ｅビームの使用は衆知である。

例えば、１９７８年１２月のよりＭ技報（よりＭ　ＴＥ
ＣＨＮ工ＣＡＬ　Ｄ工５ＣＬＯ８ＵＲＥ　ＢＵＬＬＥＴ
工Ｎ）のＶｏｌ、　２１．　Ａ７の２７６８頁乃至２７
６９頁の［高速度パターンの発生のためのＥビームの自
動焦点法ｊ　（Ｆ２−Ｂｅａｍ　Ｋｉｎｅｔｉｃ　Ｆｏ
ｃｕｓ　ｆｏｒ　Ｈｉｇｈ−ｓｐｅｅｄ　Ｐａｔ；ｔ、
ｅｒｎ　Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ　）と題するコステ（Ｋ
ｏｓｔｅ　）等の文献がある。半導体チップ上に識別標
識を熱的に記録するためにＥビームを使用することが、
１９７９年６月のＩＢＭ技報のＶｏｌ、２２＋Ａ１の１
０８頁乃至１１１頁の「識別及び追跡性のためのチップ
の自動直列化Ｊ　（Ａｕｔｏｍａｔｉｃ　５ｅｒ−ｉａ
ｌｉｚａｔｉｏｎ　ｏｆ　Ｃｈｉｐｓ　ｆｏｒ工ｄｅｎ
ｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ　ａｎｄＴｒａｃｅａｂｉｌｉｔ
ｙ　）と題するライアン（Ｐ、　Ｍ、　Ｒｙａｎ　）に
よる文献に示されている。

Ｃ９発明が解決しようとする問題点 本発明の目的は、熱的に誘導される記録において、記録
媒体の同期ノイズを実質的に減少することにある。

Ｄ０問題点を解決するための手段 本発明に従って、熱的に反応する記録担持媒体の記録方
法は、記録媒体をエネルギビーム放射パルス源と相対的
に移動させて、エネルギビーム放射パルス源記録担持媒
体上のトラックを走査するように、可変パルス期間のエ
ネルギビームを放射することを含んでいる。光とか他の
形の熱エネルギ誘導パルスが、情報担持信号を記録する
ためにエネルギビームパルス源から、トラックの領域中
で走査されているトラックへ供給される。熱エネルギ誘
導パルスのパルス波形は、走査しているトラックの長手
方向に沿った記録の幅がほぼ均一になるように、初期の
高い記録開始値から、低い記録維持値に変化される。こ
のようにして、熱誘導パルスのパルス期間の間の記録開
始値で作られる記録から同期ノイズが減少される。本発
明には種々の方法と装置が含まれる。

Ｅ、実施例 図面中で重要な部分や重要な性質を参照数字で示して、
本発明をより具体的に示した図面を参照するに、第１図
は光学的情報担持信号記録装置の一部を示す。このよう
な記録装置の配列は公知だからその詳昶は説明しない。

記録されるデータは、光学的熱的に反応する記録担持媒
体である回転する光学記録ディスク１１上に記録するた
めに、データライン１０を介して記録回路、即ち書き込
み回路、ＷＲＴ１２へ印加される。良好な形式の記録担
持媒体１１は２つの円状の点線でディスク１１上に示さ
れている放射方向に配置された複数本の環状トラックを
含む。トラックの実際の構成は複数個の同心円トラック
でも、複数個の渦巻線を有する１個のスパイラルトラッ
クでもよい。各渦巻はスパイラルトラックの単一のトラ
ック部分と呼ばれている。記録担持媒体１１は相対的に
一定の回転速度で回転しているものと仮定して、記録担
持媒体１１上に投射する熱誘導レーザビームの強度は記
録トラックの半径方向の位置によって変化される。この
強度の変化を達成するだめに、半径位置インジケータと
重複するトラック番号が記録回路１２ヘゲ−プル１３を
介して供給される。記録回路１２は半導体レーザ１５の
出力光強度を変調するための制御ライン１４上の一連の
制御パルスを発生するために、ライン１ａ上の入力デー
タ信号と、ケーブル１３上の半径位置インジケータとを
組み合わせることによって記録制御パルスを発生する。

半導体レーザ１５は任意のガリウム砒素レーザ、又は特
に一定電流振幅に従って種々の入力制御振幅信号を与え
る他の半導体レーザであってよい。レーザ１５の出力光
ビームは焦点用対物レンズ１７を通って光路軸１６に沿
って進み、光路１８を介してディスク１１に到達する。

トラックを探索し且つ追従するために、ディスク１１の
放射方向にビーム１８を移動するトラック追従回路は公
知であり、図では省略されている。通常の焦点調節用回
路や、他の制御用回路及びデータ転送回路も示されてい
ない。

第２図は除去型記録、相変換型記録、磁気光学式記録な
どで見られるようなパルス長記録に対する代表的な熱誘
導による記録パターンを示している。パルス長記録は、
第１の長さが１、第２の長さが２等々のように、記録さ
れたパターンの長さによって情報を表示する。従って、
相対的に細長いパルス長記録スポット２１が記録担持媒
体１１のトラックに沿ったスポット２１の長さに従った
複数個の情報単位を表わす。一定エネルギの熱誘導パル
スが領域２１中に情４Ｌヲ記録した時、記録の置かれる
部分での記録領域２１の幅は所望の半径方向の幅を持っ
ている。パルスの長さが長くなると、一定エネルギの熱
誘導ビームは、部分２２のように記録領域を半径方向で
拡張させる。記録領域の半径方向への拡張は、第３図に
関連して後述するように、読み取り信号中に同期ノイズ
を発生することになる。若し、記録領域２１の形が破線
２３で示されたように制御出来たとすれば、同期ノイズ
は除去されるか、又は非常に小さくなる。

本発明は、半径方向の拡張部分２２を実質的に除去し、
記録時の同期ノイズを減少する記録開始のエネルギ強度
を用いることによって、所望の任意の長さの記録領域２
１を与える。

第３図は、いわゆる”ＭＷ”読み取りパターンを生じ且
つ同期ノイズの影響を示す相補的テストパターンを単純
化して示す。この同期ノイズの影響は基本周波数の振幅
に関してほぼ同じ振幅を持つ偶数倍の高調波によって惹
起される。本発明は、ライン１４を介して制御パルスを
供給し、結果の光ビームの波形２５（第５図）の強度を
変化させることによって、同期ノイズ問題を解決するも
のである。この波形は、記録担持媒体１１上の熱誘導ビ
ームの記録情報担持信号における、低い記録担持媒体を
従えた初期の高い記録開始振幅を示している。このよう
な振幅は記録媒体のタイプに応じて経験的に決められる
。上述のような記録開始のエネルギレベルは高速度記録
を可能とする。即ち、この記録開始のエネルギレベルは
、記録が生じる温度まで、記録領域を急速に加熱する。

本発明を利用する利益は第３図に示されたように、実線
で示された読み取り波形２６と破線で示された読み取り
波形２７とを比較することによって理解することが出来
る。波形２６は一定の振幅の記録開始エネルギレベルの
パルスを使って記録されたものを読み取った波形である
のに反し、波形２７は第５図の記録波形２５を用いて記
録したものを読み取った波形である。長いパルスの記録
を読み取った波形２６がゼロ軸３１と交わる部分は、点
２８で示したように、ゼロ軸３１よυも可成り深いが、
他方、本発明を使って補償された記録から読み取られた
信号２７はポイント３０でゼロ軸３１と交わる。ポイン
ト２９での信号２７はゼロ軸と交差する点２９と殆んど
同じである。この同一性が低レベルの同期ノイズ又は除
去された同期ノイズを表わす。ポイント２８において、
ゼロ軸よシ可成り下方に実質部分を有する波形２６と、
ポイント２９においてゼロ軸を通る小さい実質部分は読
み取り信号中の第２高調波歪み、即ち同期ノイズを表わ
す。読み取り信号２γは、第２図の破線２３で示されて
いるように、記録領域２１が実質的に並行な１対の側線
を持っていることを推測させる。

次に、第４図及び第５図を参照すると、補償された記録
用光パルスのビームの発生をよく理解することが出来る
。理想化された信号４０で表わされるデータ入力は可変
遅延回路ＶＤ３５で受は取られる。可変遅延回路３５は
公知なので詳細な説明は省略する。半径方向位置情報、
即ち、グープル１３を介して供給されるトラックアドレ
スはデジタルからアナログへのコンバータＤＡ３６で受
は取られる。信号遅延の変化はライン３７を介してＶＤ
３５へ供給されるアナログ信号によって制御される。一
般に、記録信号は記録担持媒体１１上のディスクセル（
図示せず）に関して遅延され、その遅延は半径の大きさ
に従って変化する。半径が大きくなればなる程、ＶＤ３
５によりデータ信号に与えられる遅延は長くなる。ライ
ン３８上のＶＤ３５の出力４１は、既に述べたように、
４２で示した量だけ可変的に遅延される。第４図に示さ
れた回路は、電流源５０．５６で夫々示された第１及び
第２の電流制御パルス発生部を持っている。第１電流制
御部は、後述されるように、各パルス発生部からの出力
電流パルスを加えることによって、記録開始パルス振幅
４４（第５図）を発生する。シングルショント回路５Ｓ
４３（単安定マルチバイブレータ）は一定パルス期間の
出力パルス４５を発生するため信号４１に応答する。パ
ルス４５は、電流源工１５０からライン１４を経てレー
ザ１５へ送られる一定振幅電流パルスを通過する電子ス
イッチ４７を付勢するため制御ライン４６に供給される
。電流源５０の出力振幅は、ライン５１を介して、半径
方向に関連する制御信号を供給するＤＡ３６によって制
御される。クープル１３の半径位置表示が大きければ大
きいほど、電流源５０により供給される振幅は大きくな
る。

第２パルス発生部は信号４１から発生される基本電流部
分５５を供給する。信号４１は、５ｓ４３の信号伝播遅
延と等しい遅延を持つ一定遅延回路ＦＤ５２’＆通って
、２つのパルス発生部分の電流出力の立上υエッヂが時
間同期されるように伝播する。ＦＤ５２の出力信号５３
は、電流源工２５６からライン１４を介してレーザ１５
へ一定振幅の電流を通過するために電子スイッチ５４を
付勢する。ＦＤ５２からの信号５３ば、波形２５の基本
電流部分５５を発生する。波形２５を生ずる２個のスイ
ッチ４γ、５４の出力電流を合計するため、ライン１４
はスイッチ４７及び５４の出力とオーミック接続をする
。レーザ１５は光路１６を介して、制御波形２５と同じ
波形を有するエネルギ内容と強度を持つ光ビームを出力
する。

データ信号４０は、波形２５の一部である出力制御パル
ス５９を生ずる短い期間のパルス５８を含んでいる。記
録開始部分４４Ａは長いパルス期間のデータパルスのだ
めの記録開始部分４４と同じ振幅と期間を持っている。

基本部分５５Ａは短いデータパルス５８の期間の期間表
示を持ち、他方、基本部分５５は長いデータパルス４０
Ａの期間の期間表示を持つ。波形２５の中のパルスの期
間は記録される情報担持信号を表わす。磁気光学記録に
おいて、残留磁気の第１方向の磁極はビット表示領域２
１がないことを表わし、他方、残留磁気の第２方向の磁
極はビット表示領域２１を表わす。他の光学記録におい
て、２つの表面反射のレベルが夫々媒体表面と記録領域
２１とを表わす。

波形２５の記録開始部分４４．４４Ａの形は記録を強化
するために修正することが出来る。記録開始振幅の一定
振幅の波形は満足すべきノイズ減少を与えるけれども、
記録媒体の熱的プロフィルに対して記録開始部分の形を
異ならせることによって、更にノイズの減少を計ること
が出来る。そのようなプロフィルは既に知られているよ
うに、実験的に決められる。記録領域の温度は出来るだ
け速く上昇することが必要だから、第６図のパルス部分
４４Ｂの立上りエッヂ６０は可能な限り急峻にされるの
がよい。最大電流振幅に達したらば、パルス部分４４Ｂ
の形は記録がなされる記録媒体の熱的プロフィルと同じ
である。代表的なこのプロフィルは指数関数曲線である
。パルス部分４４Ｂの後続部分６１は記録媒体の加熱性
（熱的プロフィル）により決められた形を持っているの
で、記録領域の温度は一定幅の記録を確保するように制
御される。後続パルスのエッヂ６１はレーザ制御パルス
の記録維持部分５５Ｂに導入される。後続エッヂ６１の
時間間隔は一定電流パルス部分４４及び４４Ａの期間よ
りも長い。

記録媒体の熱的プロフィルは一定強度のレーザビームに
対する、記録媒体の温度増加の時間測度である。後続エ
ッヂ６１のプロフィルは、記録媒体上に投射するレーザ
ビームの中心部で測定された（赤外線センサにより）温
度増加プロフィルに対応する。そのようなプロフィルは
相対的に静止した記録媒体とレーザ源によって決めるこ
とが出来るが、レーザ源に対して相対的に移動する記録
媒体からそのようなプロフィルが得られるのが好ましい
。熱的プロフィルが決められると、第６図に示されたパ
ルス波形４４Ｂ、５５Ｂを発生するだめの通常の波形整
形回路を設計することが出来る。

第４図を参照して、記録開始パルス部分４４Ｂに対して
、熱的プロフィルの形を導入することがパルス４５（第
５図）の立上りエッヂで開始されるパルス整形回路６２
によって達成される。パルス整形回路６２はその熱的プ
ロフィル表示制御信号６３を電流源５０へ印加する。電
流源５０は波形整形回路６２の制御信号に応答し、そし
て、波形整形回路６２の振幅に従ってスイッチ４７へ振
幅電流を供給する電流源５０を変化させる。最初に、ラ
イン５７を介してＤＡ３５により供給される半径表示信
号によって表わされた振幅の電流が工１５０により供給
され、次に減少する振幅の電流がパルプ、即ち波形整形
回路６２の制御信号６３により表示される熱的プロフィ
ルに従って供給される。制御信号６３の振幅は工１５０
によって、レーザ１５を付勢するライン５７の信号の振
幅から差し引かれ、記録開始パルス部分４４Ｂの後続エ
ッヂ６１を発生する。

Ｆ０発明の効果 以上、説明したように、本発明の熱誘導記録方法によっ
て記録された記録媒体は、記録パターンを再生し読み取
る際に生ずる同期ノイズが実質的に取り除かれる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明が実施された光学的情報担持記録機を単
純化して示す図、第２図は本発明の詳細な説明するため
、熱的に反応する記録媒体上のパルス長さ記録を拡大し
て示す図、第３図は第２図に示された記録を使って発生
された対称的テストパターンからの読み取シ信号を示す
図、第４図は第１図に示された記録機に使われる記録回
路の模式図、第５図は第４図に示した回路の動作を説明
するだめの波形と、熱誘導記録に使われるエネルギパル
スの波形を示す図、第６図は第１図に示された記録機に
使われる記録媒体の熱的プロフィルに対するレーザ記録
パルスの波形を示す図である。 １１・・・熱誘導記録媒体、１２・・・書き込み回路。 １５・・・レーザ、２１・・・記録領域。 出願人　　　インターカショカル・ビジネス・マシーン
ズ・コーポレークタン代理人　弁理士　　山　　　本　
　　仁　　　朗（外１名） 記録回路 第４図 熱誘導記娃用パルス 第５図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 熱的に反応する記録担持媒体上に情報担持信号を記録す
   る方法において、 （ａ）エネルギビーム放射パルス源が記録担持媒体上の
   トラックを走査するようパルス型のエネルギビームを放
   射するように、記録担持媒体と上記パルス源とを相対的
   に移動するステップと、 （ｂ）情報担持信号を記録するため、上記パルス源から
   トラックの領域で走査されているトラックへエネルギの
   熱誘導パルスを供給するステップと、 （ｃ）偶数倍の高調波を熱誘導パルスのパルス期間の間
   の記録開始値で作られる記録から減少させるために、ト
   ラック中の結果の記録が走査されているトラックの長さ
   に沿って均一になるように、初期の高い記録開始値から
   記録維持値へ熱誘導パルスの振幅を変化させるステップ
   とから成る熱誘導記録方法。