JPH11102522A - 光学情報記録方法および装置 - Google Patents
光学情報記録方法および装置Info
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- JPH11102522A JPH11102522A JP9264042A JP26404297A JPH11102522A JP H11102522 A JPH11102522 A JP H11102522A JP 9264042 A JP9264042 A JP 9264042A JP 26404297 A JP26404297 A JP 26404297A JP H11102522 A JPH11102522 A JP H11102522A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】光学情報記録媒体にマークエッジ記録再生方式
の記録マークを形成する際に、記録パルスの位置制御を
行わずに記録マーク長が短い場合に起こるマーク形状の
縮小化現象を補正し、正確なピットとランドを形成でき
るようにする。 【解決手段】記録対象の符号化記録データＡから記録デ
ータパターン生成回路３で記録マークに対応する矩形パ
ルス列の記録基礎パターンＢを生成し、記録補償パター
ン生成回路５で涙形補正を加味した記録補償パターンＣ
に変換する。同時にパターン検出回路４で最短マーク長
に対応する矩形パルスを検出し、最短マーク長の場合に
レーザ照射パワーを増加させるための修正パターンＤを
記録補償修正ゲート生成回路６で生成する。合成制御回
路７はタイミングを調整して両者を合成し、駆動信号パ
ターンＥを半導体レーザ駆動回路１０に送る。記録パワ
ー制御回路９は記録する媒体の半径位置と環境温度とか
ら照射レベルを調整する。
の記録マークを形成する際に、記録パルスの位置制御を
行わずに記録マーク長が短い場合に起こるマーク形状の
縮小化現象を補正し、正確なピットとランドを形成でき
るようにする。 【解決手段】記録対象の符号化記録データＡから記録デ
ータパターン生成回路３で記録マークに対応する矩形パ
ルス列の記録基礎パターンＢを生成し、記録補償パター
ン生成回路５で涙形補正を加味した記録補償パターンＣ
に変換する。同時にパターン検出回路４で最短マーク長
に対応する矩形パルスを検出し、最短マーク長の場合に
レーザ照射パワーを増加させるための修正パターンＤを
記録補償修正ゲート生成回路６で生成する。合成制御回
路７はタイミングを調整して両者を合成し、駆動信号パ
ターンＥを半導体レーザ駆動回路１０に送る。記録パワ
ー制御回路９は記録する媒体の半径位置と環境温度とか
ら照射レベルを調整する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光学情報記録方法お
よび装置に関し、特に光ディスクを中心とした光学情報
記録媒体に対してレーザ光線等の光学的手段を用いて高
速かつ高密度に情報を記録するための光学情報記録方法
および装置に関する。
よび装置に関し、特に光ディスクを中心とした光学情報
記録媒体に対してレーザ光線等の光学的手段を用いて高
速かつ高密度に情報を記録するための光学情報記録方法
および装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ディスクを中心とする光学情報記録媒
体は、一般に、基板上の記録膜にレーザ光を照射して熱
エネルギーを加え、記録膜に何らかの変化を生じさせる
ことによりデータを記録している。データの記録再生方
式としては、長円形の記録マークの前縁および後縁部に
情報を持たせるマークエッジ記録再生方式と、円形の記
録マークの中心位置に情報を持たせるマーク位置記録再
生方式とがある。このうち、前者のマークエッジ記録再
生方式は、マーク位置記録再生方式の約２倍の記録密度
が可能で高密度化に適している半面、記録マークのエッ
ジ位置に正確さが要求されという技術的な難しさがあ
る。
体は、一般に、基板上の記録膜にレーザ光を照射して熱
エネルギーを加え、記録膜に何らかの変化を生じさせる
ことによりデータを記録している。データの記録再生方
式としては、長円形の記録マークの前縁および後縁部に
情報を持たせるマークエッジ記録再生方式と、円形の記
録マークの中心位置に情報を持たせるマーク位置記録再
生方式とがある。このうち、前者のマークエッジ記録再
生方式は、マーク位置記録再生方式の約２倍の記録密度
が可能で高密度化に適している半面、記録マークのエッ
ジ位置に正確さが要求されという技術的な難しさがあ
る。
【０００３】光学情報記録媒体に情報の記録を行う際に
は、マークエッジ記録再生方式の場合、１―７ＲＬＬ符
号などに符号化された符号化記録データから長さの異な
る矩形パルスより成る記録基礎パターン（矩形パルス信
号列）を生成し、媒体上を走査するレーザ光の強度をこ
の記録基礎パターンで変調して行う。このとき、媒体上
の記録膜に形成される記録マーク（ピットという）は、
前縁部近傍ではレーザ光による熱エネルギーの蓄積が無
いため温度上昇に時間がかかるのに対し、後縁部近傍で
は熱エネルギーの蓄積により媒体温度が高くなっている
ため、レーザ光の走査方向と熱伝導とも関連して、図６
（ａ）に示すように、ピット形状が涙形に歪んで前縁と
後縁とでは異なる位置ずれが発生し再生ジッタの増加を
引き起こす。このピット形状の涙形化に対する補正を実
現する方法としては、図６（ｂ）に示すように、記録パ
ルスの前縁部におけるレーザ照射パワーを後縁部よりも
強くするパワー補償型の記録方法と、一つの記録パルス
を複数のパルス列に分割して後半の実効レーザ照射パワ
ーを前縁部よりも弱くするパルス分割補償型の記録方法
とが実用化されている。
は、マークエッジ記録再生方式の場合、１―７ＲＬＬ符
号などに符号化された符号化記録データから長さの異な
る矩形パルスより成る記録基礎パターン（矩形パルス信
号列）を生成し、媒体上を走査するレーザ光の強度をこ
の記録基礎パターンで変調して行う。このとき、媒体上
の記録膜に形成される記録マーク（ピットという）は、
前縁部近傍ではレーザ光による熱エネルギーの蓄積が無
いため温度上昇に時間がかかるのに対し、後縁部近傍で
は熱エネルギーの蓄積により媒体温度が高くなっている
ため、レーザ光の走査方向と熱伝導とも関連して、図６
（ａ）に示すように、ピット形状が涙形に歪んで前縁と
後縁とでは異なる位置ずれが発生し再生ジッタの増加を
引き起こす。このピット形状の涙形化に対する補正を実
現する方法としては、図６（ｂ）に示すように、記録パ
ルスの前縁部におけるレーザ照射パワーを後縁部よりも
強くするパワー補償型の記録方法と、一つの記録パルス
を複数のパルス列に分割して後半の実効レーザ照射パワ
ーを前縁部よりも弱くするパルス分割補償型の記録方法
とが実用化されている。
【０００４】図５（ａ）は従来の光学情報記録装置の構
成を示すブロック図、図５（ｂ）は主要信号の波形図で
ある。記録媒体１に情報記録を行う際には、１―７ＲＬ
Ｌ符号などに符号化された符号化記録データＡから記録
データパターン生成回路３で記録基礎パターンＢ（矩形
パルス列）を生成し、記録補償パターン生成回路６で涙
形補正を考慮した記録補償パターンＣに変換する。一
方、記録媒体アドレス検出回路２では記録しようとする
アドレスに対応する記録媒体半径位置を、温度検出回路
８では装置環境温度をそれぞれ検出し、記録媒体半径位
置および装置環境温度に対応したレーザ照射パワーの設
定を記録パワー制御回路９で行う。これにより、半導体
レーザ駆動回路１０は設定されたレーザ照射パワーに対
応する大きさの記録補償パターンＣの波形の電流で半導
体レーザ１１を動作させる。
成を示すブロック図、図５（ｂ）は主要信号の波形図で
ある。記録媒体１に情報記録を行う際には、１―７ＲＬ
Ｌ符号などに符号化された符号化記録データＡから記録
データパターン生成回路３で記録基礎パターンＢ（矩形
パルス列）を生成し、記録補償パターン生成回路６で涙
形補正を考慮した記録補償パターンＣに変換する。一
方、記録媒体アドレス検出回路２では記録しようとする
アドレスに対応する記録媒体半径位置を、温度検出回路
８では装置環境温度をそれぞれ検出し、記録媒体半径位
置および装置環境温度に対応したレーザ照射パワーの設
定を記録パワー制御回路９で行う。これにより、半導体
レーザ駆動回路１０は設定されたレーザ照射パワーに対
応する大きさの記録補償パターンＣの波形の電流で半導
体レーザ１１を動作させる。
【０００５】以上の構成により、図６（ｂ）のように、
記録基礎パターンに対応するピット及びランドの形成が
行われる。しかしながら、記録密度と共に記録周波数も
高くなると、最短マーク長（１―７ＲＬＬ符号の場合は
２クロック長）に対しては、図６（ｃ）に示すように、
中央部からの熱伝導が無くパルスの立ち上り及び立ち下
りの影響が大きくなるため、長いマーク長の場合に比べ
て前縁部の位置ずれは大きく後縁部の位置ずれは小さく
なる。このため、同じような涙形補正を行った場合に
は、図６（ｄ）に示すように、形成されるピットの大き
さは小さくなり前縁および後縁の位置ずれが残る。
記録基礎パターンに対応するピット及びランドの形成が
行われる。しかしながら、記録密度と共に記録周波数も
高くなると、最短マーク長（１―７ＲＬＬ符号の場合は
２クロック長）に対しては、図６（ｃ）に示すように、
中央部からの熱伝導が無くパルスの立ち上り及び立ち下
りの影響が大きくなるため、長いマーク長の場合に比べ
て前縁部の位置ずれは大きく後縁部の位置ずれは小さく
なる。このため、同じような涙形補正を行った場合に
は、図６（ｄ）に示すように、形成されるピットの大き
さは小さくなり前縁および後縁の位置ずれが残る。
【０００６】なお、記録の高密度化に伴いレーザ光のパ
ルス間隔が短くなると、直前に記録したピットからの余
熱により記録媒体の温度が過度に上昇し、記録されるピ
ットのエッジ部が移動するという現象が発生する。この
記録マークのエッジの移動量は直前に記録したマーク長
やマーク間隔長によっても異なる可能性があり、再生ジ
ッタの要因となる。この現象に対する対策としては、特
開平４―２６５５２２号公報記載のように、記録パルス
の前後に熱遮断パルス（レーザ照射パワーを０にする部
分）を設けて直前の記録マークからの余熱の影響をすべ
て相殺する方式や、特開平５―２３４０７９号公報記載
のように、記録対象の記録パルス幅と共に直前の記録パ
ルス幅とブランクと幅を検出し、その状況に応じて記録
パルスの書き込み位置（位相）及びパルス幅を制御した
り、涙形補正用の前縁部の大きさや長さを制御すること
により、記録マークの余熱の影響を除去する方式が提案
されている。
ルス間隔が短くなると、直前に記録したピットからの余
熱により記録媒体の温度が過度に上昇し、記録されるピ
ットのエッジ部が移動するという現象が発生する。この
記録マークのエッジの移動量は直前に記録したマーク長
やマーク間隔長によっても異なる可能性があり、再生ジ
ッタの要因となる。この現象に対する対策としては、特
開平４―２６５５２２号公報記載のように、記録パルス
の前後に熱遮断パルス（レーザ照射パワーを０にする部
分）を設けて直前の記録マークからの余熱の影響をすべ
て相殺する方式や、特開平５―２３４０７９号公報記載
のように、記録対象の記録パルス幅と共に直前の記録パ
ルス幅とブランクと幅を検出し、その状況に応じて記録
パルスの書き込み位置（位相）及びパルス幅を制御した
り、涙形補正用の前縁部の大きさや長さを制御すること
により、記録マークの余熱の影響を除去する方式が提案
されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上述した特開平４―２
６５５２２号公報および特開平５―２３４０７９号公報
記載の方法は、直前のマークからの余熱による記録マー
クの位置ずれを除去することを目的としており、記録パ
ルスの前後に熱遮断パルスを設けたり、記録パルスの書
き込み位置およびパルス幅を制御したり、更に記録パル
ス前縁部の涙形補正用の部分の大きさや長さも制御した
りするものである。従って、図６（ｃ）及び図６（ｄ）
で説明したような記録マーク内部で発生する現象は考慮
されておらず、前者の方式では対応することができな
い。一方、後者の方式では、制御対象が多く対応は可能
と考えられるが、制御が複雑であり高密度化に伴い記録
パルス幅が短くなると位置制御が難しくなる難点があ
る。
６５５２２号公報および特開平５―２３４０７９号公報
記載の方法は、直前のマークからの余熱による記録マー
クの位置ずれを除去することを目的としており、記録パ
ルスの前後に熱遮断パルスを設けたり、記録パルスの書
き込み位置およびパルス幅を制御したり、更に記録パル
ス前縁部の涙形補正用の部分の大きさや長さも制御した
りするものである。従って、図６（ｃ）及び図６（ｄ）
で説明したような記録マーク内部で発生する現象は考慮
されておらず、前者の方式では対応することができな
い。一方、後者の方式では、制御対象が多く対応は可能
と考えられるが、制御が複雑であり高密度化に伴い記録
パルス幅が短くなると位置制御が難しくなる難点があ
る。
【０００８】本発明の目的は、光学情報記録媒体上にマ
ークエッジ記録再生方式の記録マークを形成する際に、
記録パルスの位置制御を行うことなく記録マーク長の差
によるマーク形状の違いを補正し、正確なピットとラン
ドとを形成することが可能な光学情報記録方法および装
置を提供することである。
ークエッジ記録再生方式の記録マークを形成する際に、
記録パルスの位置制御を行うことなく記録マーク長の差
によるマーク形状の違いを補正し、正確なピットとラン
ドとを形成することが可能な光学情報記録方法および装
置を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１の光学情報記録
方法は、レーザ光線の照射により光学情報記録媒体上に
マークエッジ記録再生方式の記録マークを形成するため
の光学情報記録方法において、記録しようとする記録マ
ークのマーク長が最短マーク長の場合に、レーザ光線の
照射パワーを他のマーク長の場合よりも増加させるよう
制御することを特徴としている。
方法は、レーザ光線の照射により光学情報記録媒体上に
マークエッジ記録再生方式の記録マークを形成するため
の光学情報記録方法において、記録しようとする記録マ
ークのマーク長が最短マーク長の場合に、レーザ光線の
照射パワーを他のマーク長の場合よりも増加させるよう
制御することを特徴としている。
【００１０】請求項２の光学情報記録方法は、請求項１
記載の光学情報記録方法において、記録しようとする最
短マーク長の記録マークの直前のマーク間隔の間隔長が
最短間隔長の場合に、少なくとも当該マーク間隔の後半
におけるレーザ光線の照射パワーを再生時の照射パワー
よりも更に低くするよう制御することを特徴としてい
る。
記載の光学情報記録方法において、記録しようとする最
短マーク長の記録マークの直前のマーク間隔の間隔長が
最短間隔長の場合に、少なくとも当該マーク間隔の後半
におけるレーザ光線の照射パワーを再生時の照射パワー
よりも更に低くするよう制御することを特徴としてい
る。
【００１１】請求項３の光学情報記録方法は、請求項１
記載の光学情報記録方法において、記録しようとする最
短マーク長の記録マークの直前のマーク間隔の間隔長が
最短間隔長の場合に、レーザ光線の照射パワーを増加さ
せる度合を他の間隔長の場合よりも小さく設定するよう
制御することを特徴としている。
記載の光学情報記録方法において、記録しようとする最
短マーク長の記録マークの直前のマーク間隔の間隔長が
最短間隔長の場合に、レーザ光線の照射パワーを増加さ
せる度合を他の間隔長の場合よりも小さく設定するよう
制御することを特徴としている。
【００１２】請求項４の光学情報記録装置は、記録対象
の符号化記録データから記録マークに対応する矩形パル
スより成る記録基礎パターンを生成する記録データパタ
ーン生成手段と、この記録基礎パターンを記録マークの
涙形補正を加味した記録補償パターンに変換する記録補
償パターン生成手段と、記録アドレスから媒体上の半径
位置を検出する記録媒体アドレス検出手段と、記録時の
環境温度を検出する温度検出手段と、レーザ光線を照射
する半導体レーザと、前記記録補償パターンに従い半導
体レーザを駆動する半導体レーザ駆動手段と、媒体上の
半径位置と環境温度とからレーザ照射パワーのレベル設
定を行う記録パワー制御手段とを備え、レーザ光線の照
射により光学情報記録媒体上にマークエッジ記録再生方
式の記録マークを形成するための光学情報記録装置にお
いて、前記記録基礎パターンの中から最短マーク長に対
応する矩形パルスを抽出するパターン検出手段と、その
抽出結果に基づいて前記記録補償パターンに対して所定
の修正を施すための修正パターンを生成する記録補償修
正ゲート生成手段と、前記記録補償パターンと修正パタ
ーンとを合成し半導体レーザを実際に駆動する駆動信号
パターンを生成する合成制御手段とを備え、請求項１，
請求項２又は請求項３記載の制御を行うことを特徴とし
ている。
の符号化記録データから記録マークに対応する矩形パル
スより成る記録基礎パターンを生成する記録データパタ
ーン生成手段と、この記録基礎パターンを記録マークの
涙形補正を加味した記録補償パターンに変換する記録補
償パターン生成手段と、記録アドレスから媒体上の半径
位置を検出する記録媒体アドレス検出手段と、記録時の
環境温度を検出する温度検出手段と、レーザ光線を照射
する半導体レーザと、前記記録補償パターンに従い半導
体レーザを駆動する半導体レーザ駆動手段と、媒体上の
半径位置と環境温度とからレーザ照射パワーのレベル設
定を行う記録パワー制御手段とを備え、レーザ光線の照
射により光学情報記録媒体上にマークエッジ記録再生方
式の記録マークを形成するための光学情報記録装置にお
いて、前記記録基礎パターンの中から最短マーク長に対
応する矩形パルスを抽出するパターン検出手段と、その
抽出結果に基づいて前記記録補償パターンに対して所定
の修正を施すための修正パターンを生成する記録補償修
正ゲート生成手段と、前記記録補償パターンと修正パタ
ーンとを合成し半導体レーザを実際に駆動する駆動信号
パターンを生成する合成制御手段とを備え、請求項１，
請求項２又は請求項３記載の制御を行うことを特徴とし
ている。
【００１３】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
て図面を参照して説明する。
【００１４】図１は、本発明の光学情報記録方法を採用
した光学情報記録装置の一実施形態の構成を示すブロッ
ク図である。
した光学情報記録装置の一実施形態の構成を示すブロッ
ク図である。
【００１５】本実施形態の光学情報記録装置は、図１に
示すように、記録媒体１と、記録アドレスから記録媒体
１上の半径位置を検出する記録媒体アドレス検出回路２
と、記録対象の符号化記録データＡから記録マークに対
応する矩形パルスより成る記録基礎パターンＢを生成す
る記録データパターン生成回路３と、記録基礎パターン
Ｂを記録マークの涙形補正を加味した記録補償パターン
Ｃに変換する記録補償パターン生成回路５と、記録時の
環境温度を検出する温度検出回路８と、レーザ光線を照
射する半導体レーザ１１と、半導体レーザ１１を駆動す
る半導体レーザ駆動回路１０と、記録媒体１上の半径位
置と環境温度とからレーザ照射パワーのレベル設定を行
う記録パワー制御回路９と、記録基礎パターンＢから最
短マーク長に対応する矩形パルスを抽出するパターン検
出回路４と、抽出結果に基づいて記録補償パターンＣに
対して所定の修正を施すための修正パターンＤを生成す
る記録補償修正ゲート生成回路６と、記録補償パターン
Ｃと修正パターンＤとを合成し半導体レーザ１１を実際
に駆動する駆動信号パターンＥを生成する合成制御回路
７とを備えている。
示すように、記録媒体１と、記録アドレスから記録媒体
１上の半径位置を検出する記録媒体アドレス検出回路２
と、記録対象の符号化記録データＡから記録マークに対
応する矩形パルスより成る記録基礎パターンＢを生成す
る記録データパターン生成回路３と、記録基礎パターン
Ｂを記録マークの涙形補正を加味した記録補償パターン
Ｃに変換する記録補償パターン生成回路５と、記録時の
環境温度を検出する温度検出回路８と、レーザ光線を照
射する半導体レーザ１１と、半導体レーザ１１を駆動す
る半導体レーザ駆動回路１０と、記録媒体１上の半径位
置と環境温度とからレーザ照射パワーのレベル設定を行
う記録パワー制御回路９と、記録基礎パターンＢから最
短マーク長に対応する矩形パルスを抽出するパターン検
出回路４と、抽出結果に基づいて記録補償パターンＣに
対して所定の修正を施すための修正パターンＤを生成す
る記録補償修正ゲート生成回路６と、記録補償パターン
Ｃと修正パターンＤとを合成し半導体レーザ１１を実際
に駆動する駆動信号パターンＥを生成する合成制御回路
７とを備えている。
【００１６】以上の構成のうち、記録媒体１，記録媒体
アドレス検出回路２，記録データパターン生成回路３，
記録補償パターン生成回路５，温度検出回路８，半導体
レーザ１１，半導体レーザ駆動回路１０及び記録パワー
制御回路９は、図５（ａ）に示した従来の光学情報記録
装置と同じであり、新たにパターン検出回路４と、記録
補償修正ゲート生成回路６と、合成制御回路７とが追加
されている。以下に、新たに追加されたパターン検出回
路４，記録補償修正ゲート生成回路６及び合成制御回路
７の機能と動作について更に詳しく説明する。
アドレス検出回路２，記録データパターン生成回路３，
記録補償パターン生成回路５，温度検出回路８，半導体
レーザ１１，半導体レーザ駆動回路１０及び記録パワー
制御回路９は、図５（ａ）に示した従来の光学情報記録
装置と同じであり、新たにパターン検出回路４と、記録
補償修正ゲート生成回路６と、合成制御回路７とが追加
されている。以下に、新たに追加されたパターン検出回
路４，記録補償修正ゲート生成回路６及び合成制御回路
７の機能と動作について更に詳しく説明する。
【００１７】まず、パターン検出回路４では、記録デー
タパターン生成回路３で生成された記録基礎パターンＢ
の中から最短マーク長に対応する記録パルスを検出す
る。符号化記録データＡが１―７ＲＬＬ符号の場合に
は、最短マーク長に対応する記録パルス幅は符号化記録
データＡのクロック周期をＴとすると２Ｔであり、検出
には最低２Ｔのタイミング遅れが避けられない。なお、
このとき、直前のマーク間隔が最短間隔長であるか否か
を同時に検出する。このためには更に最低２Ｔのタイミ
ング遅れが必要となる。
タパターン生成回路３で生成された記録基礎パターンＢ
の中から最短マーク長に対応する記録パルスを検出す
る。符号化記録データＡが１―７ＲＬＬ符号の場合に
は、最短マーク長に対応する記録パルス幅は符号化記録
データＡのクロック周期をＴとすると２Ｔであり、検出
には最低２Ｔのタイミング遅れが避けられない。なお、
このとき、直前のマーク間隔が最短間隔長であるか否か
を同時に検出する。このためには更に最低２Ｔのタイミ
ング遅れが必要となる。
【００１８】記録補償修正ゲート生成回路６は、パター
ン検出回路４で抽出した最短マーク長の記録マークに対
応する記録パルスに対して、他のマーク長の記録パルス
よりも大きい半導体レーザ駆動電流を出力させるよう
に、記録補償パターンＣを修正するための修正パターン
Ｄを生成する。この修正パターンＤは、記録補償パター
ン生成回路５で変換された最短マーク長に対応する涙形
補正付きの記録パルスのパルス幅（半クロック周期分短
い）と同じパルス幅で、相対振幅が増加させる電流の割
合に対応する矩形パルスが基本である。但し、直前のマ
ーク間隔が最短間隔長で前の記録マークからの余熱の影
響を除去する必要がある場合には、そのためのパターン
を同時に生成することができる。なお、走査速度や環境
温度により増加させるレーザ照射パワーの割合を変える
必要がある場合には、記録媒体アドレス検出回路２及び
温度検出回路８からの出力により、修正パターンの相対
振幅を変更できるように構成されている。
ン検出回路４で抽出した最短マーク長の記録マークに対
応する記録パルスに対して、他のマーク長の記録パルス
よりも大きい半導体レーザ駆動電流を出力させるよう
に、記録補償パターンＣを修正するための修正パターン
Ｄを生成する。この修正パターンＤは、記録補償パター
ン生成回路５で変換された最短マーク長に対応する涙形
補正付きの記録パルスのパルス幅（半クロック周期分短
い）と同じパルス幅で、相対振幅が増加させる電流の割
合に対応する矩形パルスが基本である。但し、直前のマ
ーク間隔が最短間隔長で前の記録マークからの余熱の影
響を除去する必要がある場合には、そのためのパターン
を同時に生成することができる。なお、走査速度や環境
温度により増加させるレーザ照射パワーの割合を変える
必要がある場合には、記録媒体アドレス検出回路２及び
温度検出回路８からの出力により、修正パターンの相対
振幅を変更できるように構成されている。
【００１９】合成制御回路７は、記録補償パターン生成
回路５が出力する記録補償パターンＣに対してパターン
検出回路４でのパターン検出に必要なタイミングの遅延
を与え、記録補償修正ゲート生成回路６から出力される
修正パターンＤと合成し駆動信号パターンＥを出力す
る。合成制御回路７から得られる駆動信号パターンＥに
は、記録マーク形状の涙形補正に必要な情報と最短マー
ク長に対する照射パワー補正を行うために必要な相対パ
ワー設定情報とが含まれている。
回路５が出力する記録補償パターンＣに対してパターン
検出回路４でのパターン検出に必要なタイミングの遅延
を与え、記録補償修正ゲート生成回路６から出力される
修正パターンＤと合成し駆動信号パターンＥを出力す
る。合成制御回路７から得られる駆動信号パターンＥに
は、記録マーク形状の涙形補正に必要な情報と最短マー
ク長に対する照射パワー補正を行うために必要な相対パ
ワー設定情報とが含まれている。
【００２０】図２〜図４は、それぞれ図１に示した主要
部の信号パターンの一例を示した波形図であり、図２及
び図３は記録マーク形状の涙形補正にパワー補償型を用
いた例を、図４はパルス分割補償型を用いた例を示して
いる。
部の信号パターンの一例を示した波形図であり、図２及
び図３は記録マーク形状の涙形補正にパワー補償型を用
いた例を、図４はパルス分割補償型を用いた例を示して
いる。
【００２１】図２において、符号化記録データＡは１―
７ＲＬＬ符号であり、対応する記録基礎パターンＢの中
の最短マーク長に対応する記録パルスＢ１，Ｂ２は、前
者が長マーク間隔後の場合を、後者は最短マーク間隔後
の場合を示している。記録補償パターンＣでは、記録パ
ルスの長さにかかわらずピーク値Ｐｐ，基準値Ｐｂ及び
基底値Ｐｒ（再生時の読み出しレーザ照射パワーに対
応）が同一であるが、修正パターンＤを合成することに
より、駆動信号パターンＥにおいては、記録パルスＢ
１，Ｂ２のピーク値および基準値はそれぞれαだけ増加
し、記録パルスＢ２の場合には直前のパルス間隔の後半
でレーザ照射パワーを０まで低下させるように修正され
ている。これにより、図６（ｃ）及び（ｄ）で説明した
記録マーク内部の要因で発生するマーク縮小化現象に対
する補正が行われると共に、直前の記録マークからの余
熱の影響を除くことが可能となる。なお、記録パルスＢ
２の直前でレーザ照射パワーを０にする期間は、余熱の
影響の程度によって符号化記録データの１クロック長以
外（１／２クロック単位）に設定してもよく、レーザ照
射パワーを０でない基底値Ｐｒよりも低い値に設定して
もよい。
７ＲＬＬ符号であり、対応する記録基礎パターンＢの中
の最短マーク長に対応する記録パルスＢ１，Ｂ２は、前
者が長マーク間隔後の場合を、後者は最短マーク間隔後
の場合を示している。記録補償パターンＣでは、記録パ
ルスの長さにかかわらずピーク値Ｐｐ，基準値Ｐｂ及び
基底値Ｐｒ（再生時の読み出しレーザ照射パワーに対
応）が同一であるが、修正パターンＤを合成することに
より、駆動信号パターンＥにおいては、記録パルスＢ
１，Ｂ２のピーク値および基準値はそれぞれαだけ増加
し、記録パルスＢ２の場合には直前のパルス間隔の後半
でレーザ照射パワーを０まで低下させるように修正され
ている。これにより、図６（ｃ）及び（ｄ）で説明した
記録マーク内部の要因で発生するマーク縮小化現象に対
する補正が行われると共に、直前の記録マークからの余
熱の影響を除くことが可能となる。なお、記録パルスＢ
２の直前でレーザ照射パワーを０にする期間は、余熱の
影響の程度によって符号化記録データの１クロック長以
外（１／２クロック単位）に設定してもよく、レーザ照
射パワーを０でない基底値Ｐｒよりも低い値に設定して
もよい。
【００２２】図３は、図２と同様のパワー補償型の記録
補償パターンＣに対して、直前の記録マークからの余熱
を考慮して修正を行った他の例である。図３では、記録
パルスＢ２の直前のパルス間隔でレーザ照射パワーを０
にする代わりに、記録パルスＢ２に対するピーク値，基
準値の増加量βを記録パルスＢ１に対する増加量αより
も小さく設定したものであり、直前の記録マークからの
余熱の影響を含め図２の場合と同様に正確なピットを記
録することができる。
補償パターンＣに対して、直前の記録マークからの余熱
を考慮して修正を行った他の例である。図３では、記録
パルスＢ２の直前のパルス間隔でレーザ照射パワーを０
にする代わりに、記録パルスＢ２に対するピーク値，基
準値の増加量βを記録パルスＢ１に対する増加量αより
も小さく設定したものであり、直前の記録マークからの
余熱の影響を含め図２の場合と同様に正確なピットを記
録することができる。
【００２３】図４は、パルス分割補償型の記録補償パタ
ーンＣに対して、記録パルスＢ１，Ｂ２の記録パワーの
みを標準値Ｐｗよりもαだけ増加させたものであり、直
前の記録マークからの余熱の影響が小さくて無視できる
場合の例である。
ーンＣに対して、記録パルスＢ１，Ｂ２の記録パワーの
みを標準値Ｐｗよりもαだけ増加させたものであり、直
前の記録マークからの余熱の影響が小さくて無視できる
場合の例である。
【００２４】上述した実施の形態の光学情報記録装置
は、従来の光学情報記録装置の既存の部分を変更せずに
パターン検出回路，記録補償修正ゲート生成回路および
合成制御回路を追加した構成としたが、これに限られる
ものではなく、既存の部分を変更することによって別の
構成で同様な機能を実現させることも可能である。
は、従来の光学情報記録装置の既存の部分を変更せずに
パターン検出回路，記録補償修正ゲート生成回路および
合成制御回路を追加した構成としたが、これに限られる
ものではなく、既存の部分を変更することによって別の
構成で同様な機能を実現させることも可能である。
【００２５】又、上述の説明では、１―７ＲＬＬ符号の
場合に最短マーク長の記録マークに対してのみ補正を行
ってレーザ照射パワーを増加させるものとした。しかし
ながら、記録マークの縮小化の現象が最短マーク長の場
合のみでなく２番目に短い記録マークに対しても無視で
きない場合には、２番目に短い記録マークに対しても同
様な補正を適用してもよく、同様な効果が期待できる。
更に、２―７ＲＬＬ符号などの他の符号に対しても適用
することができる。
場合に最短マーク長の記録マークに対してのみ補正を行
ってレーザ照射パワーを増加させるものとした。しかし
ながら、記録マークの縮小化の現象が最短マーク長の場
合のみでなく２番目に短い記録マークに対しても無視で
きない場合には、２番目に短い記録マークに対しても同
様な補正を適用してもよく、同様な効果が期待できる。
更に、２―７ＲＬＬ符号などの他の符号に対しても適用
することができる。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の光学情報
記録方法および装置は、マークエッジ記録再生方式の記
録マークを光学情報記録媒体上に形成する際に、記録マ
ーク内部における熱の蓄積と伝導との影響で主として最
短マーク長の場合に発生する記録マークの縮小化現象を
補償するものであり、記録パルスの微細な位置制御を行
うことなく、単に最短マーク長に対するレーザ照射パワ
ーを増加させることにより正確なピットを記録すること
ができる。これにより、記録密度および周波数が高くな
った場合でも、記録および再生の信頼度を向上させるこ
とができる。
記録方法および装置は、マークエッジ記録再生方式の記
録マークを光学情報記録媒体上に形成する際に、記録マ
ーク内部における熱の蓄積と伝導との影響で主として最
短マーク長の場合に発生する記録マークの縮小化現象を
補償するものであり、記録パルスの微細な位置制御を行
うことなく、単に最短マーク長に対するレーザ照射パワ
ーを増加させることにより正確なピットを記録すること
ができる。これにより、記録密度および周波数が高くな
った場合でも、記録および再生の信頼度を向上させるこ
とができる。
【図１】本発明の光学情報記録装置の一実施形態の構成
を示すブロック図である。
を示すブロック図である。
【図２】図１の主要部の信号パターンの第１の例を示す
波形図である。
波形図である。
【図３】図１の主要部の信号パターンの第２の例を示す
波形図である。
波形図である。
【図４】図１の主要部の信号パターンの第３の例を示す
波形図である。
波形図である。
【図５】従来の光学情報記録装置の構成および主要信号
波形を示す説明図である。
波形を示す説明図である。
【図６】マークエッジ記録再生方式のマーク形状の問題
点を示す説明図である。
点を示す説明図である。
１ 記録媒体 ２ 記録媒体アドレス検出回路 ３ 記録データパターン生成回路 ４ パターン検出回路 ５ 記録補償パターン生成回路 ６ 記録補償修正ゲート生成回路 ７ 合成制御回路 ８ 温度検出回路 ９ 記録パワー制御回路 １０ 半導体レーザ駆動回路 １１ 半導体レーザ
Claims (4)
- 【請求項１】 レーザ光線の照射により光学情報記録媒
体上にマークエッジ記録再生方式の記録マークを形成す
るための光学情報記録方法において、記録しようとする
記録マークのマーク長が最短マーク長の場合に、レーザ
光線の照射パワーを他のマーク長の場合よりも増加させ
るよう制御することを特徴とする光学情報記録方法。 - 【請求項２】 記録しようとする最短マーク長の記録マ
ークの直前のマーク間隔の間隔長が最短間隔長の場合
に、少なくとも当該マーク間隔の後半におけるレーザ光
線の照射パワーを再生時の照射パワーよりも更に低くす
るよう制御することを特徴とする請求項１記載の光学情
報記録方法。 - 【請求項３】 記録しようとする最短マーク長の記録マ
ークの直前のマーク間隔の間隔長が最短間隔長の場合
に、レーザ光線の照射パワーを増加させる度合を他の間
隔長の場合よりも小さく設定するよう制御することを特
徴とする請求項１記載の光学情報記録方法。 - 【請求項４】 記録対象の符号化記録データから記録マ
ークに対応する矩形パルスより成る記録基礎パターンを
生成する記録データパターン生成手段と、この記録基礎
パターンを記録マークの涙形補正を加味した記録補償パ
ターンに変換する記録補償パターン生成手段と、記録ア
ドレスから媒体上の半径位置を検出する記録媒体アドレ
ス検出手段と、記録時の環境温度を検出する温度検出手
段と、レーザ光線を照射する半導体レーザと、前記記録
補償パターンに従い半導体レーザを駆動する半導体レー
ザ駆動手段と、媒体上の半径位置と環境温度とからレー
ザ照射パワーのレベル設定を行う記録パワー制御手段と
を備え、レーザ光線の照射により光学情報記録媒体上に
マークエッジ記録再生方式の記録マークを形成するため
の光学情報記録装置において、前記記録基礎パターンの
中から最短マーク長に対応する矩形パルスを抽出するパ
ターン検出手段と、その抽出結果に基づいて前記記録補
償パターンに対して所定の修正を施すための修正パター
ンを生成する記録補償修正ゲート生成手段と、前記記録
補償パターンと修正パターンとを合成し半導体レーザを
実際に駆動する駆動信号パターンを生成する合成制御手
段とを備え、請求項１，請求項２又は請求項３記載の制
御を行うことを特徴とする光学情報記録装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9264042A JPH11102522A (ja) | 1997-09-29 | 1997-09-29 | 光学情報記録方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9264042A JPH11102522A (ja) | 1997-09-29 | 1997-09-29 | 光学情報記録方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11102522A true JPH11102522A (ja) | 1999-04-13 |
Family
ID=17397751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9264042A Pending JPH11102522A (ja) | 1997-09-29 | 1997-09-29 | 光学情報記録方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11102522A (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001078072A1 (en) * | 2000-04-07 | 2001-10-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for recording/reproducing data on/from optical disk |
| EP1174862A2 (en) * | 2000-06-19 | 2002-01-23 | Sony Corporation | Optical disc recording method and apparatus |
| WO2001086643A3 (en) * | 2000-05-11 | 2002-03-21 | Koninkl Philips Electronics Nv | Methods and devices for recording marks on a recording surface of an optical record carrier |
| JP2008004182A (ja) * | 2006-06-23 | 2008-01-10 | Hitachi Ltd | 光ディスク記録方法及び光ディスク記録装置 |
| JP2008176928A (ja) * | 2008-04-14 | 2008-07-31 | Ricoh Co Ltd | 光記録媒体の記録方法およびその装置 |
| US7450480B2 (en) | 2003-05-27 | 2008-11-11 | Panasonic Corporation | Optical information recording method, optical information recording device and optical information recording medium |
| KR100886964B1 (ko) * | 2001-06-19 | 2009-03-09 | 소니 가부시끼 가이샤 | 광신호기록/재생장치, 기록보상방법 및 재생처리방법 |
| US7602675B2 (en) | 2003-10-17 | 2009-10-13 | Mitsubishi Kagaku Media Co., Ltd. | Optical recording method |
| US7606126B2 (en) * | 2003-09-18 | 2009-10-20 | Mitsubishi Kagaku Media Co., Ltd. | Information recording method and information recording medium |
| CN101872619A (zh) * | 2009-04-27 | 2010-10-27 | 索尼公司 | 激光驱动装置和激光驱动方法、光学装置和光学单元 |
| US8009540B2 (en) | 2004-01-05 | 2011-08-30 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical disc write control method and optical disc recording apparatus therefor |
-
1997
- 1997-09-29 JP JP9264042A patent/JPH11102522A/ja active Pending
Cited By (16)
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| US7602675B2 (en) | 2003-10-17 | 2009-10-13 | Mitsubishi Kagaku Media Co., Ltd. | Optical recording method |
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| JP2008176928A (ja) * | 2008-04-14 | 2008-07-31 | Ricoh Co Ltd | 光記録媒体の記録方法およびその装置 |
| CN101872619A (zh) * | 2009-04-27 | 2010-10-27 | 索尼公司 | 激光驱动装置和激光驱动方法、光学装置和光学单元 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20000620 |