CN114450095B - 模头 - Google Patents

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Abstract

一种模头,其具有并列的两个以上模唇以及形成于相邻的模唇之间且输送及吐出涂布液的狭缝,并列方向一端的模唇的出料面和并列方向另一端的模唇的在与狭缝形成面相反的一侧与出料面相连的外侧面中的至少一者的甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下。

Description

模头
技术领域
本发明涉及一种模头。
背景技术
已知有在具备模头的涂布装置中在基材上形成目标涂布层的方法。
在专利文献1中记载有一种涂布部件的制造装置,其在一对模唇前端部之间形成涂布液的吐出口,并且在相对于吐出口相对移动的被涂布部件的表面形成涂膜,其中,将位于涂膜的形成侧的下游侧模唇的前端部相对于水的接触角度设为大于上游侧模唇的前端部相对于水的接触角度。
在专利文献2中记载有一种模涂装置,其在将至少含有金属材料的透明导电层形成用涂布液涂布于透明基材上来形成透明导电层时使用,所述模涂装置具有:模头,吐出透明导电层形成用涂布液;涂液槽,容纳透明导电层形成用涂布液;及送液路径,从涂液槽向模头送出透明导电层形成用涂布液,模头至少在位于与涂布方向相反的方向的表面上形成有疏液区域。
以往技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2002-248399号公报
专利文献2:日本特开2016-68047号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
在模头中,通常模唇中的与涂布液的接触部一旦附着涂布液,在其后就会被涂布液覆盖(即,会在上述接触部由涂布液形成覆膜)。由于模唇中的与涂布液的接触部被涂布液覆盖,因此此处成为起点而产生涂布条纹。
在此所说的涂布条纹有两种。即,例如是由相对于作为被涂布部件的基材的输送方向为最上游侧的模唇引起的涂布条纹和由最下游侧的模唇引起的涂布条纹这两种。
由最上游侧的模唇引起的涂布条纹有如下两种情况:在出料面(land surface)或出料面缘部产生的涂布液的干燥物(即,固体成分)扰乱流道(bead)端部的形状为原因的条纹的情况;和因由形成于出料面的涂布液形成的覆膜与流道的表面张力差而产生的流动所形成的液滴附着于流道端部为原因的条纹的情况。在前者的情况下,单独或连续地出现多个沿基材的输送方向延伸的线状的膜厚不均匀(即,条纹),其宽度为0.1mm~5mm左右。在后者的情况下,单独或零星地出现多个沿基材的输送方向延伸的线状的膜厚不均匀(即,条纹),其宽度为0.1mm~5mm左右。
另一方面,由最下游侧的模唇引起的涂布条纹是指在与模唇的狭缝形成面相反的一侧到达与出料面相连的面的涂布液的液滴或涂布液的干燥物(即固体成分)扰乱流道端部的形状为原因的条纹。在该条纹的情况下,单独或多个连续出现沿着基材的输送方向延伸的线状的膜厚不均匀(即条纹),其宽度为0.1mm~5mm左右。
关于由最上游侧的模唇引起的涂布条纹及由最下游侧的模唇引起的涂布条纹的确认,能够通过观察涂布时的流道的形状并且观察所形成的涂膜的面状以掌握膜厚不均匀的形状来进行确认。即,通过将流道的形状的观察结果与所形成的膜厚不均匀的形状建立关联,能够确认是由最上游侧的模唇引起的涂布条纹,还是由最下游侧的模唇引起的涂布条纹。
在此,涂膜的面状的观察可以为目视,也可以使用放大镜,也可以使用通过透射或反射观察面状的装置。并且,涂膜的面状的观察中可以使用显微镜,根据涂膜的种类,也可以使用正交尼科耳法。
因此,本发明的一实施方式要解决的课题在于提供一种能够抑制产生涂布条纹的模头。
用于解决技术课题的手段
用于解决课题的具体方案包括以下方式。
<1>一种模头,其具有并列的两个以上模唇以及形成于相邻的模唇之间且输送及吐出涂布液的狭缝,
并列方向一端的模唇的出料面和并列方向另一端的模唇的在与狭缝形成面相反的一侧并且与出料面相连的外侧面中的至少一者的甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下。
<2>根据<1>所述的模头,其中,上述并列方向一端的模唇的上述出料面及上述并列方向另一端的模唇中的上述外侧面的十点平均粗糙度Rzjis为1.0μm以下。
<3>根据<1>或<2>所述的模头,其中,上述并列方向另一端的模唇的上述出料面由上述甲基乙基酮引起的动态接触角滞后为20°以下。
<4>根据<1>至<3>中任一项所述的模头,其中,上述并列方向一端的模唇的出料面及上述并列方向另一端的模唇中的上述外侧面中由上述甲基乙基酮引起的动态接触角滞后为20°以下的面具备使用含氟化合物形成的表面处理层。
<5>根据<4>所述的模头,其中,上述含氟化合物为具有全氟聚醚基的化合物。
<6>根据<1>至<5>中任一项所述的模头,其中,上述并列方向另一端的模唇在侧视时上述外侧面中的与出料面相连的部位具有曲面。
<7>根据<6>所述的模头,其中,上述并列方向另一端的模唇中的上述曲面为曲率半径0.2mm以上的曲面。
<8>根据<1>至<7>中任一项所述的模头,其中,在进行涂布时,上述并列方向一端的模唇相对于涂布方向位于下游侧,上述并列方向另一端的模唇相对于涂布方向位于上游侧。
发明效果
根据本发明的一实施方式,可提供一种能够抑制产生涂布条纹的模头。
附图说明
图1是表示本发明中的模头的前端部的一例的概略侧视图。
图2是表示本发明中的模头的前端部的另一例的概略侧视图。
图3是表示本发明中的模头的前端部的又一例的概略侧视图。
具体实施方式
以下,对本发明的模头进行详细说明。
另外,本发明并不受以下参考附图说明的实施方式的任何限制,在本发明的目的的范围内能够适当施加变更来实施。在各附图中使用相同的符号表示的构成要件表示相同的构成要件。关于在各实施方式中重复的构成要件及符号,有时省略说明。
附图中的尺寸未必一定表示实际尺寸及比率。
在本发明中,“工序”一词不仅包括独立的工序,即使在无法与其他工序明确地区分的情况下,只要可实现该工序的预期目的,则也包含于本术语中。
在本发明中,使用“~”表示的数值范围表示将记载于“~”前后的数值分别作为最小值及最大值而包含的范围。
在本发明中阶段性地记载的数值范围中,以某一数值范围记载的上限值可以被替换为其他阶段性地记载的数值范围的上限值,或者,以某一数值范围记载的下限值可以被替换为其他阶段性地记载的数值范围的下限值。并且,在本发明中所记载的数值范围中,以某一数值范围记载的上限值或下限值也可以被替换为实施例所示的值。
在本发明中,两个以上的优选方式的组合为更优选的方式。
在本发明中,“固体成分”是指溶剂(优选有机溶剂)以外的成分。
如已叙述,在使用模头的涂布中,一直研究抑制产生上述涂布条纹的方法。
本发明人进行研究的结果,得到了如下见解:对于相对于作为被涂布部件的基材的输送方向为最上游侧的模唇的在与狭缝形成面相反的一侧与出料面相连的外侧面和最下游侧的模唇的出料面这两个部位中的至少一方,通过将甲基乙基酮动态接触角滞后设为20°以下,能够抑制产生涂布条纹。
动态接触角滞后为20°以下的上述外侧面及出料面即使一旦被涂布液覆盖,由于涂布液迅速移动,因此在形成流道时也能够恢复为清洁状态。清洁状态是指,在侧视模头时,在上述外侧面及上述出料面上形成由固体(即,外侧面及出料面)、液体(即,涂布液)及气体(即,大气)构成的三相界面。
尤其认为,通过将表面张力低至20°左右的甲基乙基酮中的动态接触角滞后设为20°以下,与适用于模头的涂布液的种类无关地,可得到上述清洁状态的形成效果。
认为若在上述外侧面及上述出料面上形成三相界面,则停留在外侧面及出料面上的涂布液会减少,能够抑制产生由于在上述外侧面及上述出料面存在由涂布液形成的覆膜而产生的涂布条纹。
在上述专利文献1及2中所记载的模头中,上述外侧面一旦由涂布液形成覆膜,则该覆膜不会被去除,外侧面不会露出,因此不会形成上述三相界面。
基于以上见解的本发明的模头具有并列的两个以上模唇以及形成于相邻的模唇之间且输送及吐出涂布液的狭缝,并列方向一端的模唇的出料面和并列方向另一端的模唇的在与狭缝形成面相反的一侧与出料面相连的外侧面中的至少一者的甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下。
本发明的模头通过在进行涂布时并列方向一端的模唇相对于涂布方向位于下游侧且并列方向另一端的模唇相对于涂布方向位于上游侧,能够抑制产生涂布条纹。
在此,本发明中的“涂布方向”是指形成涂膜的方向。
在使用本发明的模头进行涂布时,使模头和被涂布部件相对移动来进行。即,“使模头和被涂布部件相对移动”包括使被涂布部件相对于固定的模头移动、使模头相对于固定的被涂布部件移动及使模头和被涂布部件向一方向相互移动。
当使作为被涂布部件的基材相对于固定的模头输送移动时,基材的输送方向与上述“涂布方向”相反。
并且,在本发明中,只要没有特别指定,则“并列方向另一端的模唇的在与狭缝形成面相反的一侧与出料面相连的外侧面甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下。”包含在并列方向另一端的模唇的外侧面的整个面或一部分中甲基乙基酮的动态接触角滞后为20°以下。在并列方向另一端的模唇的外侧面中甲基乙基酮的动态接触角滞后为20°以下的区域优选为至少包括与涂布液接触的区域。
以下,将与涂布液接触的区域也称为接触部。
此外,在本发明中,例如,从测定极限的观点考虑,甲基乙基酮动态接触角滞后的下限值在任一面上都可以举出1°。
在以往的模头(例如,上述专利文献1及2中所记载的模头)中,根据涂布液的种类、涂布条件,已叙述的由相对于基材的输送方向为最上游侧的模唇引起的涂布条纹和由最下游侧的模唇引起的涂布条纹的产生量有时不同。
因此,在本发明的模头中,对于容易产生涂布条纹的一侧的模唇中的对应面,即上述并列方向一端的模唇的出料面和/或上述并列方向另一端的模唇的外侧面,通过将甲基乙基酮动态接触角滞后设为20°以下,能够有效地减少涂布条纹的产生量。
为了更有效地减少涂布条纹的产生量,为如下方式:在本发明的模头中,对于并列方向一端的模唇的出料面和并列方向另一端的模唇的在与狭缝形成面相反的一侧与出料面相连的外侧面双方,将甲基乙基酮动态接触角滞后设为20°以下。
[甲基乙基酮动态接触角滞后]
首先,对甲基乙基酮动态接触角滞后进行说明。
另外,“甲基乙基酮动态接触角滞后”也简称为“动态接触角滞后”。
动态接触角滞后是指液滴在固体壁的表面滑落时的前进接触角(θa)与后退接触角(θr)之差[θa-θr]。在本发明中,作为液滴,使用甲基乙基酮的液滴。
动态接触角滞后是根据向水平地支撑的固体壁的表面滴加液滴并使固体壁逐渐倾斜而液滴开始滑落时的前进接触角及后退接触角来计算出。
如上所述,测定中使用滑落法(即,测定向水平地支撑的固体壁的表面滴加液滴并使固体壁逐渐倾斜而液滴开始滑落时的液滴的状态的方法)。并且,测定在室温25℃、湿度50%的环境下进行,作为测定时的条件,将固体壁的表面温度设为25℃,液滴温度也设为25℃,液滴量通常设为1μL~4μL,但从再现接近实际现象的状况的观点考虑,液滴量并不受限制。另外,固体壁可以使用模头本身,也可以使用具有与作为测定对象区域的出料面、外侧面等相同的表面(具体而言为具有相同的表面处理层且具有相同的十点平均粗糙度Rzjis的表面)的板状物。
本发明的模头为挤出型模头,其在吐出涂布液的狭缝与被涂布部件(例如,基材)之间储存从狭缝吐出的涂布液来形成流道,经由流道将涂布液涂布于被涂布部件。
即,流道是指形成于模头与被涂布部件之间的涂布液储存部。
以下,参考附图对本发明的模头进行详细说明。
图1是表示本发明中的模头的前端部的一例的概略侧视图。
图1所示的模头100A具有相对于作为被涂布部件的基材F的输送方向X位于上游侧的上游侧模唇10和位于下游侧的下游侧模唇20。
即,在图1所示的方式中,由于在输送移动的基材F上进行涂布液的涂布,因此基材的输送方向X成为与涂布方向相反的方向。
另外,在图1中,下游侧模唇20中的接触部20Cz被标记为相对于下游侧模唇20的面20C具有阶梯差,但该标记是为了便于说明的标记,接触部20Cz并不具有相对于下游侧模唇20的面20C具有阶梯差的结构。这对于后述的图2所示的下游侧模唇20的面20C中的接触部20Cz及图3所示的下游侧模唇50的面50C中的接触部50Cz也是相同的。
在模头100A中,上游侧模唇10具有狭缝形成面10B,并且下游侧模唇20具有狭缝形成面20B,如图1所示,在上游侧模唇10的狭缝形成面10B与下游侧模唇20的狭缝形成面20B之间形成有输送及吐出涂布液L的狭缝30。
狭缝30与未图示的歧道(manifold)连通。歧道为沿着模头100A的宽度方向(即,图1中的背面侧方向)延伸的空间,使供给到模头100A的涂布液L向涂布宽度方向(即,模头100A的宽度方向)扩散,并暂时贮存涂布液L。
在图1所示的模头100A中,在进行涂布时在狭缝30与基材F之间形成有流道B,涂布液L经由该流道B涂布于基材F。
在模头100A中,上游侧模唇10的出料面10A的动态接触角滞后为20°以下。出料面10A为并列方向一端的模唇的出料面的一例。并且,下游侧模唇20的面20C中的与涂布液的接触部20Cz的动态接触角滞后也为20°以下。接触部20Cz为并列方向另一端的模唇的在与狭缝形成面相反的一侧与出料面相连的外侧面的一部分,是与涂布液的接触部的一例。
通过出料面10A及与涂布液的接触部20Cz的动态接触角滞后为20°以下,在出料面10A及与涂布液的接触部20Cz形成已叙述的三相界面,其结果,能够抑制产生涂布条纹。
下游侧模唇20的面20C中所占的与涂布液的接触部20Cz的形成区域只要是鉴于涂布液、涂布条件等而设想的能够与涂布液接触的区域即可。与涂布液的接触部20Cz的形成区域例如设定从出料面20A的缘部起1mm以上的区域。
另外,从表面处理的效率等观点考虑,优选下游侧模唇20的面20C的整个面的动态接触角滞后为20°以下。
并且,从即使因振动等干扰而三相界面从接触部20Cz向出料面20A移动也能够防止在出料面20A上形成涂布液的覆膜的观点考虑,优选下游侧模唇20的出料面20A的动态接触角滞后也为20°以下。
此外,从在清洗模头100A时容易去除涂布液、在其后重新开始涂布时不易因狭缝30的污垢而引起故障的观点考虑,优选上游侧模唇10的狭缝形成面10B和下游侧模唇20的狭缝形成面20B的动态接触角滞后均为20°以下。
在此,出料面10A及20A均指与基材F对置的面。
在模头100A中,上游侧模唇10的出料面10A与基材F的距离及下游侧模唇20的出料面20A与基材F的距离均根据涂布液的粘度、所要形成的涂膜的膜厚等确定即可。
例如,上游侧模唇10的出料面10A与基材F的距离及下游侧模唇20的出料面20A与基材F的距离分别能够选择50μm~500μm,也可以选择100μm~300μm。
在此,上述距离是指出料面与基材的最短距离。该距离例如能够利用锥度规来测定。
接着,使用图2对本发明中的模头的另一方式进行说明。
在此,图2是表示本发明中的模头的前端部的另一例的概略侧视图。
图2所示的模头为多层涂布用模头。
图2所示的模头100B具有相对于作为被涂布部件的基材F的输送方向X为最上游侧的上游侧模唇10、最下游侧的下游侧模唇20及位于上游侧模唇10与下游侧模唇20之间的中间模唇40。
上游侧模唇10具有狭缝形成面10B,下游侧模唇20具有狭缝形成面20B,以及中间模唇40具有狭缝形成面40B1及40B2。在上游侧模唇10的狭缝形成面10B与中间模唇40的狭缝形成面40B1之间形成有输送及吐出涂布液L1的狭缝30a。并且,在中间模唇40的狭缝形成面40B2与下游侧模唇20的狭缝形成面20B之间形成有输送及吐出涂布液L2的狭缝30b。
而且,狭缝30a及狭缝30b分别与未图示的歧道连通。模头100B中的歧道与模头100A中的歧道相同。
在图2所示的模头100B中,在进行涂布时,在狭缝30a、狭缝30b及基材F之间由涂布液L1及涂布液L2形成有流道B,涂布液L1及涂布液L2经由该流道B涂布于基材F。
在模头100B中,上游侧模唇10的出料面10A的动态接触角滞后为20°以下。出料面10A为并列方向一端的模唇的出料面的一例。并且,下游侧模唇20的面20C中的与涂布液的接触部20Cz的动态接触角滞后也为20°以下。接触部20Cz为并列方向另一端的模唇的在与狭缝形成面相反的一侧与出料面相连的外侧面的一部分,是与涂布液的接触部的一例。
通过出料面10A及与涂布液的接触部20Cz的动态接触角滞后为20°以下,在出料面10A及与涂布液的接触部20Cz形成已叙述的三相界面,其结果,能够抑制产生涂布条纹。
在模头100B中,下游侧模唇20的面20C中所占的与涂布液的接触部20Cz的形成区域也只要是鉴于涂布液、涂布条件等而设想的能够与涂布液接触的区域即可。与涂布液的接触部20Cz的形成区域例如设定从出料面20A的缘部起1mm以上的区域。
另外,从表面处理的效率等观点考虑,优选下游侧模唇20的面20C的整个面的动态接触角滞后为20°以下。
并且,在模头100B中,从即使因振动等干扰而三相界面从接触部20Cz向出料面20A移动也能够防止在出料面20A上形成涂布液的覆膜的观点考虑,优选下游侧模唇20的出料面20A的动态接触角滞后也为20°以下。
此外,从在清洗模头100B时容易去除涂布液的观点考虑,优选中间模唇40的出料面40A的动态接触角滞后也为20°以下。
此外,从在清洗模头100B时容易去除涂布液、在其后重新开始涂布时不易因狭缝30a及30b的污垢而引起故障的观点考虑,优选上游侧模唇10的狭缝形成面10B、下游侧模唇20的狭缝形成面20B及中间模唇40的狭缝形成面40B1及40B2的动态接触角滞后也均为20°以下。
在此,出料面10A、20A及40A均指与基材F对置的面。
在模头100B中,上游侧模唇10的出料面10A与基材F的距离、下游侧模唇20的出料面20A与基材F的距离及中间模唇40的出料面40A与基材F的距离均根据涂布液的粘度、所要形成的涂膜的膜厚等确定即可。
例如,上游侧模唇10的出料面10A与基材F的距离、下游侧模唇20的出料面20A与基材F的距离及中间模唇40的出料面40A与基材F的距离分别能够选择50μm~500μm,也可以选择100μm~300μm。
而且,使用图3对本发明中的模头的又一方式进行说明。
在此,图3是表示本发明中的模头的前端部的又一例的概略侧视图。
图3所示的模头100C具有相对于作为被涂布部件的基材F的输送方向X为上游侧的上游侧模唇10和下游侧的下游侧模唇50。
图3所示的模头100C具有代替图1所示的模头100C中的下游侧模唇20而具备下游侧模唇50的结构。图3所示的下游侧模唇50以外的各构成要件的功能及结构均与图1所示的模头100A中的各构成要件相同,因此在此省略说明。
模头100C中的下游侧模唇50具有出料面50A、狭缝形成面50B及面50C。而且,在下游侧模唇50的面50C具有与涂布液的接触部50Cz。接触部50Cz为并列方向另一端的模唇的在与狭缝形成面相反的一侧与出料面相连的外侧面的一部分,是与涂布液的接触部的一例。而且,接触部50Cz在如图3那样侧视时与出料面50A相连的部位具有凸状曲面。
在模头100C中,出料面10A及与涂布液的接触部50Cz的动态接触角滞后为20°以下,因此在出料面10A及接触部50Cz形成已叙述的三相界面,其结果,能够抑制产生涂布条纹。
在利用模头100C进行涂布液的涂布的过程中形成的三相界面通常因各种因素而在接触部50Cz的区域移动。通过如接触部50Cz那样与出料面50A相连的部位具有凸状曲面,能够提高所形成的三相界面的移动自由度。即,三相界面的移动不会受到下游侧模唇50的角部的阻碍。并且,在接触部50Cz中,即使三相界面移动,液体也不会残留于角部(即使液体从三相界面分离并附着于角部,其也不会残留于角部),能够抑制产生涂布条纹。
在接触部50Cz中,通过三相界面的移动自由度得到提高,能够更有效地抑制产生涂布条纹。
从加工精度的观点考虑,接触部50Cz中的凸状曲面优选为圆弧曲面。
并且,接触部50Cz中的凸状曲面优选为曲率半径0.1mm以上的曲面,更优选为曲率半径0.2mm以上的曲面。
凸状曲面的曲率半径的上限例如为10mm。
在此,曲面的曲率半径利用以下方法来测定。
利用显微镜(例如,KEYENCE CORPORATION制造)从侧面进行观察,根据观察图像求出曲率半径。
对曲面的10个部位求出曲率半径,将10个部位的算术平均值作为外侧面中的曲面的曲率半径。
下游侧模唇50的面50C中所占的与涂布液的接触部50Cz的形成区域(包括凸状曲面)只要是鉴于涂布液、涂布条件等而设想的能够与涂布液接触的区域即可。与涂布液的接触部50Cz的形成区域例如设定从出料面50A的缘部起1mm以上的区域。
另外,从表面处理的效率等观点考虑,优选下游侧模唇50的面50C的整个面的动态接触角滞后为20°以下。
并且,从即使因振动等干扰而三相界面从接触部50Cz向出料面50A移动也能够防止在出料面50A上形成涂布液的覆膜的观点考虑,优选下游侧模唇50的出料面50A的动态接触角滞后也为20°以下。
当如下游侧模唇50那样接触部50Cz的与出料面50A相连的部位具有凸状曲面时,出料面50A是指与基材F对置的面且平面部。即,当如图3那样侧视时,直线所示的区域成为下游侧模唇的平坦部。
在模头100C中,上游侧模唇10的出料面10A与基材F的距离及下游侧模唇50的出料面50A与基材F的距离均根据涂布液的粘度、所要形成的涂膜的膜厚等确定即可。
例如,上游侧模唇10的出料面10A与基材F的距离及下游侧模唇50的出料面50A与基材F的距离分别能够选择50μm~500μm,也可以选择100μm~300μm。
在此,上述距离是指出料面与基材的最短距离。该距离例如能够利用锥度规来测定。
本发明的模头优选为金属制,模头的主体和模唇的前端部可以由不同的金属形成。
作为构成本发明的模头的金属,具体而言,除了不锈钢以外,还可以举出用于模唇的前端部的超细合金(例如,TF15(Mitsubishi Material Corporation)、硬质合金(例如,Nippon Tungsten Co.,Ltd.)等。
另外,在本发明的模头中,如已叙述,涂布液的接触部具有凸状曲面的方式的情况下,凸状曲面通过倒角加工形成即可。
[表面处理]
接着,对动态接触角滞后的控制方法进行说明。
作为将上述出料面10A、与涂布液的接触部20Cz等的动态接触角滞后设为20°以下的方法,可以举出使用选自包括含氟化合物及含硅化合物的组中的至少一种化合物的表面处理。
即,上述出料面10A、与涂布液的接触部20Cz等优选具备使用含氟化合物形成的表面处理层。使用含氟化合物形成的表面处理层中例如优选使用Surf Industry Co.,Ltd.的“氟类超薄膜涂层MX-031”等组合物(具体而言为包含含氟化合物的组合物,例如为涂层剂)。
(含氟化合物)
作为表面处理中使用的含氟化合物,只要为能够将动态接触角滞后设为20°以下的化合物,则并没有特别限制。
作为含氟化合物,具体而言,优选为具有全氟聚醚基的化合物。
作为上述全氟聚醚基,可以举出-(OCF2)n1-、-(OC2F4)n2-、-(OC3F6)n3-、-(OC4F8)n4-及它们中的两个以上连结而成的基团等。另外,n1~n4各自独立地表示1以上的整数,优选20~200,更优选30~200。但是,当含氟化合物包含-(OCF2)n1-、-(OC2F4)n2-、-(OC3F6)n3-或-(OC4F8)n4-时,n1、n2、n3或n4表示2以上的整数。
另外,-(OC3F6)n3-及-(OC4F8)n4-中的全氟基可以为直链,也可以为支链,优选为直链。
并且,含氟化合物优选为除了具有全氟聚醚基以外还具有键合有水解性基团或羟基的含Si原子基团的化合物(即,也对应于含硅化合物)。
作为上述键合有水解性基团或羟基的含Si原子基团,优选-Si(Ra)m(Rb)3-m所表示的基团。Ra表示羟基或水解性基团,Rb表示氢原子、碳原子数1~22的烷基或-Y-Si(Rc)p(Rd)3-p,m表示1~3的整数。在此,Y表示2价的有机基团,Rc的含义与Ra相同,Rd的含义与Rb相同,p表示0~3的整数。
作为上述水解性基团,可以举出通过水解而提供羟基(硅烷醇基)的基团,具体而言,可以举出碳原子数1~6的烷氧基、氰基、乙酰氧基、氯原子及异氰酸酯基等。其中,作为水解性基团,优选碳原子数1~6(更优选1~4)的烷氧基或氰基,更优选碳原子数1~6(更优选1~4)的烷氧基。
作为Y所表示的2价的有机基团,可以举出亚烷基、亚烷基与醚键(-O-)组合而成的基团、亚烷基与亚芳基组合而成的基团。
关于含氟化合物的详细内容,能够参考日本特开2015-200884号公报的0033~0103段中所记载的含氟硅烷化合物、国际公开第2018/012344号公报的0148~0223段中所记载的式(1a)、(1b)、(2a)、(2b)、(3a)或(3b)所表示的化合物(全氟聚醚类化合物)的记载,这些内容被编入本说明书中。
作为具有全氟聚醚基的含氟化合物,也可以使用市售品,具体而言,作为包含具有全氟聚醚基的含氟化合物的组合物(例如,涂层剂),可以举出DAIKIN INDUSTRIES,LTD.的“OPTOOL DSX”、“OPTOOL DSX-E”、“OPTOOL UD100”、Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.的“KY-164”、“KY-108”等。
-表面处理-
使用含氟化合物的表面处理例如使用以下方法。
即,将含氟化合物赋予到模头中的被表面处理部(具体而言,上述出料面10A、与涂布液的接触部20Cz等将动态接触角滞后设为20°以下的区域)等之后,进行干燥、固化处理。
作为含氟化合物的赋予方法,例如可以举出刷毛涂布、浸涂、喷涂等。
-预处理-
在使用含氟化合物的表面处理之前,优选对模头中的被表面处理部(具体而言,上述出料面10A、与涂布液的接触部20Cz等将动态接触角滞后设为20°以下的区域)等进行预处理。
作为预处理,可以举出酸处理、碱处理、底漆处理、表面粗糙化处理、等离子体等表面改性处理等。
表面处理层优选十点平均粗糙度Rzjis为2.0以下,更优选为1.5μm以下,进一步优选为1.0μm以下。从测定极限的观点考虑,表面处理层的十点平均粗糙度Rzjis的下限值例如可以举出0.001μm以上。
在此,十点平均粗糙度Rzjis为通过JIS B 0601-2001中所记载的方法测定的值。作为测定装置,例如可以使用触针式表面粗糙度测定机(SURFCOM,Tokyo Seimitsu Co.,Ltd.)。
接着,对利用模头进行涂布的基材、基材的输送机构及涂布液进行说明。
[基材]
作为基材F,只要为被涂布部件,则并没有特别限制,根据涂布层的用途适当选择即可。例如,当利用本发明的模头进行连续涂布时,只要为长条的基材即可。尤其,从输送性等观点考虑,基材优选使用聚合物薄膜。
若为光学膜用途,则基材的透光率优选为80%以上。
若为光学膜用途,则当使用聚合物薄膜作为基材时,优选使用光学各向同性的聚合物薄膜。
作为基材,例如可以举出聚酯类基材(聚对苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等薄膜或薄片)、纤维素类基材(二乙酰纤维素、三乙酰纤维素(TAC)等薄膜或薄片)、聚碳酸酯类基材、聚(甲基)丙烯酸类基材(聚甲基丙烯酸甲酯等薄膜或薄片)、聚苯乙烯类基材(聚苯乙烯、丙烯腈苯乙烯共聚物等薄膜或薄片)、烯烃类基材(聚乙烯、聚丙烯、具有环状或降冰片烯结构的聚烯烃、乙烯丙烯共聚物等薄膜或薄片)、聚酰胺类基材(聚氯乙烯、尼龙、芳香族聚酰胺等薄膜或薄片)、聚酰亚胺类基材、聚砜类基材、聚醚砜类基材、聚醚醚酮类基材、聚苯硫醚类基材、乙烯醇类基材、聚偏二氯乙烯类基材、聚乙烯缩丁醛类基材、聚(甲基)丙烯酸酯类基材、聚甲醛类基材、环氧树脂类基材等透明基材、或由将上述聚合物材料共混而成的共混聚合物构成的基材等。
作为基材,可以为在上述聚合物薄膜上预先形成有层的基材。
作为预先形成的层,可以举出粘接层、对水、氧等的阻挡层、折射率调整层、取向层等。
[基材的输送机构]
在图1及图2中,朝向输送方向X输送基材F,但基材的输送机构并不限定于该方式。
即,基材的输送机构并没有特别限制,例如能够以拉紧的状态输送基材,从涂布精度得到提高的观点考虑,利用模头涂布时的输送机构优选为支承辊。
即,优选对卷绕于支承辊上的基材进行利用模头的涂布液的涂布。
支承辊为旋转自如地构成且能够卷绕基材而连续输送的部件,其以与基材的输送速度相同的速度旋转驱动。
为了提高涂膜的干燥促进,从抑制由膜面温度下降引起涂膜发白(blushing)(即,由微细结露的产生引起的涂膜白化)等观点考虑,支承辊可以进行加温。
并且,支承辊优选检测表面温度并根据该温度通过温度控制方法维持支承辊的表面温度。
支承辊的温度控制方法有加热方法及冷却方法。作为加热方法,可以使用感应加热、水加热、油加热等,作为冷却方法,可以使用利用冷却水的冷却。
作为支承辊的直径,从容易卷绕基材的观点、利用模头容易涂布的观点、支承辊的制造成本的观点考虑,优选100mm~1000mm,更优选100mm~800mm,进一步优选200mm~700mm。
从确保生产率的观点及涂布性的观点考虑,利用支承辊的基材的输送速度例如优选为10m/min~100m/min。
从使涂布时的基材输送稳定化并抑制产生涂膜的厚度不均匀的观点考虑,基材相对于支承辊的包角优选60°以上,更优选90°以上。并且,包角的上限例如能够设定为180°。
另外,包角是指由基材与支承辊接触时的基材的输送方向与基材从支承辊分离时的基材的输送方向形成的角度。
[涂布液]
作为涂布液,只要为能够利用模头吐出的涂布液,则并没有特别限制。
本发明的模头可以抑制产生涂布条纹,因此通过尤其在形成薄层(例如,湿润厚度20μm以下)的涂膜时适用,会明显地显现其效果。
作为适用于本发明的模头的涂布液,只要为具有流动性的液状物,则并没有特别限制。
作为涂布液,可以为包含聚合性或交联性化合物的固化性涂布液,也可以为非固化性涂布液。
并且,在包含有机溶剂的涂布液的情况下,具有容易产生涂布条纹的倾向。因此,若对本发明的模头适用包含有机溶剂的涂布液,则容易显现抑制产生涂布条纹的效果。
涂布液中使用的有机溶剂并没有特别限制,只要为能够溶解或分散涂布液中所包含的成分的有机溶剂即可。
有机溶剂的含量并没有特别限制。
(涂布液的例子)
作为适用于本发明的模头的涂布液,只要为具有流动性的液状物,则并没有特别限制。但是,当使用容易产生涂布条纹的涂布液时,通过使用本发明的模头,会明显地显现其效果。
作为涂布液的一例,可以举出形成光学各向异性层的例如包含一种或两种以上的聚合性液晶化合物、聚合引发剂、流平剂及有机溶剂且固体成分浓度为20质量%~40质量%的涂布液。该涂布液还可以包含聚合性液晶化合物以外的液晶化合物、取向控制剂、表面活性剂、倾斜角控制剂、取向助剂、增塑剂及交联剂等。
作为涂布液的另一例,可以举出形成偏振层的例如包含液晶性聚合物、二色性化合物、液晶性聚合物及溶解二色性化合物的有机溶剂且固体成分浓度为1质量%~7质量%的涂布液。该涂布液还可以包含表面改良剂、聚合引发剂及各种添加剂等。
作为涂布液的又一例,可以举出形成硬涂层的例如包含聚合性化合物(优选多官能的聚合性化合物)、无机粒子(优选二氧化硅粒子)、聚合引发剂及有机溶剂且固体成分浓度为40质量%~60质量%的涂布液。该涂布液还可以包含单体及各种添加剂等。
作为涂布液的又一例,可以举出形成取向层的例如包含聚乙烯醇(优选具有丙烯酰基的改性聚乙烯醇)、水及有机溶剂且固体成分浓度为1质量%~10质量%的涂布液。该涂布液还可以包含交联剂等。
(目标涂布层)
作为由涂布液形成的目标涂布层,并没有特别限制,例如,若为光学膜用途,则可以举出硬涂层、光学各向异性层、偏振层、折射率调整层等。
作为由涂布液形成的层的厚度,根据用途而不同,例如能够设为5μm以下,更优选设为0.1μm~100μm的范围。
实施例
以下,利用实施例对本发明进行更进一步具体的说明,但本发明只要不超出其宗旨,则并不限定于以下实施例。
<基材的准备>
作为基材,准备了厚度60μm、宽度1340mm的长条状的三乙酰纤维素(TAC)薄膜(TD40UL,Fujifilm Corporation,折射率1.48)。
<涂布液的准备>
(涂布液A的制备)
混合下述成分而制备出涂布液A。
·下述聚合性液晶化合物L-9∶47.50质量份
·下述聚合性液晶化合物L-10:47.50质量份
·下述聚合性液晶化合物L-3:5.00质量份
·下述聚合引发剂PI-1:0.50质量份
·下述流平剂T-1(重均分子量:10,000):0.20质量份
·甲基乙基酮:235.00质量份
[化学式1]
在上述聚合性液晶化合物L-9及上述聚合性液晶化合物L-10中,R1及R2中的一方表示甲基,另一方表示氢原子,R3及R4中的一方表示甲基,另一方表示氢原子。即,上述聚合性液晶化合物L-9及上述聚合性液晶化合物L-10分别为甲基的位置不同的位置异构体的混合物。
[化学式2]
在上述聚合性液晶化合物L-9及L-10中,与甲基丙烯酰基相邻的基团表示甲基被亚乙基取代的2价的基团。聚合性液晶化合物L-9及L-10分别为甲基的取代位置不同的位置异构体的混合物。
(涂布液B的制备)
混合下述成分而制备出涂布液B。
下述液晶性聚合物LP1:4.011质量份
(重均分子量:13,300,在分子中以80:20〔(1):(2);质量比〕的比例包含结构单元(1)和结构单元(2)。)
下述二色性化合物D1:0.792质量份
下述二色性化合物D2:0.963质量份
下述表面改良剂F2:0.087质量份
下述表面改良剂F3:0.073质量份
下述表面改良剂F4(重均分子量:10,000):0.073质量份
四氢呋喃(沸点为80℃以下的有机溶剂):37.6004质量份
环戊酮:56.4006质量份
[化学式3]
[化学式4]
[化学式5]
(涂布液C的制备)
相对于甲基乙基酮500质量份添加IPA(异丙醇)500质量份、部分己内酯改性的多官能丙烯酸酯(KAYARAD DPCA-20,Nippon Kayaku Co.,Ltd.)750质量份、二氧化硅溶胶(MIBK-ST,Nissan Chemical Corporation)200质量份及光聚合引发剂(Omnirad 184(原Irgacure184)、IGM Resins B.V.)50质量份而制备出涂布液C。
(涂布液D的制备)
相对于下述改性聚乙烯醇(PVA,聚合度1,000):20质量份混合戊二醛(交联剂):1质量份、水:378质量份、甲醇:120质量份而制备出涂布液D。
[化学式6]
上述(PVA)中,主链的各结构单元中附注的数值为摩尔比。
<模头1的准备>
使用不锈钢(SUS630)制作出与图1相同的结构的模头100A。
在图1所示的模头100A中,利用以下方法,对上游侧模唇10的出料面10A、下游侧模唇20的面20C及下游侧模唇20的对应于出料面20A的面进行了表面处理。
首先,使0.1质量%的NaOH水溶液附着,然后通过进行干燥而进行了预处理。
然后,使用Surf Industry Co.,Ltd.的MX-031进行了表面处理。
对于以如上方式形成的表面处理层,利用已叙述的方法测定了甲基乙基酮动态接触角滞后,其结果为18°。
并且,关于表面处理层的Rzjis,利用已叙述的方法进行了测定,其结果为1.1μm。
<模头2的准备>
除了改变对上游侧模唇10的出料面10A、下游侧模唇20的面20C及下游侧模唇20的对应于出料面20A的面的磨削精加工条件以外,以与模头1相同的方式制作出使用不锈钢(SUS630)的图1所示的结构的模头100A。
然后,利用与模头1相同的方法进行预处理及表面处理而得到了模头2。
对于模头2的表面处理层,利用已叙述的方法测定了甲基乙基酮动态接触角滞后,其结果为15°。
并且,关于表面处理层的Rzjis,利用已叙述的方法进行了测定,其结果为0.9μm。
<模头3的准备>
使用不锈钢(SUS630)制作出与图2相同的结构的模头100B。
在图2所示的模头100B中,利用以下方法,对上游侧模唇10的出料面10A、下游侧模唇20的面20C、下游侧模唇20的出料面20A及中间模唇40的出料面40A进行了表面处理。
首先,使0.1质量%的NaOH水溶液附着,然后通过进行干燥而进行了预处理。
然后,使用Surf Industry Co.,Ltd.的MX-031进行了表面处理。
对于以如上方式形成的表面处理层,利用已叙述的方法测定了甲基乙基酮动态接触角滞后,其结果为18°。
并且,关于表面处理层的Rzjis,利用已叙述的方法进行了测定,其结果为1.1μm。
<模头4的准备>
在模头1中,除了将预处理及表面处理改变为以下方法以外,以与模头1相同的方式制作出模头4。
即,在与图1相同的结构的模头100A中,对于上游侧模唇10的出料面10A、下游侧模唇20的面20C及下游侧模唇20的对应于出料面20A的面,使用Du Pont公司的四氟乙烯树脂进行了氟树脂涂布。
对于以如上方式进行了氟树脂涂布的面,利用已叙述的方法测定了甲基乙基酮动态接触角滞后,其结果为21°。
并且,关于氟树脂涂布的面的Rzjis,利用已叙述的方法进行了测定,其结果为1.1μm。
<模头5的准备>
在模头1中,除了将预处理及表面处理改变为以下方法以外,以与模头1相同的方式制作出模头5。
即,在与图1相同的结构的模头100A中,通过无电解电镀,对上游侧模唇10的出料面10A、下游侧模唇20的面20C及下游侧模唇20的对应于出料面20A的面形成了镍及聚四氟乙烯的复合镀层。
对于以如上方式形成的复合镀层,利用已叙述的方法测定了甲基乙基酮动态接触角滞后,其结果为40°。
并且,关于复合镀层的Rzjis,利用已叙述的方法进行了测定,其结果为1.1μm。
<模头6的准备>
使用不锈钢(SUS630)制作出与图3相同的结构的模头100C。
在图3所示的模头100C中,利用以下方法,对上游侧模唇10的出料面10A、下游侧模唇50的面50C及下游侧模唇50的对应于出料面50A的面进行了表面处理。另外,作为下游侧模唇50,使用了在面50C中的接触部50Cz的与出料面50A相连的部位具有曲率半径0.1mm的凸状曲面的模唇。
首先,使0.1质量%的NaOH水溶液附着,然后通过进行干燥而进行了预处理。
然后,使用Surf Industry Co.,Ltd.的MX-031进行了表面处理。
对于以如上方式形成的表面处理层,利用已叙述的方法测定了甲基乙基酮动态接触角滞后,其结果为18°。
并且,关于表面处理层的Rzjis,利用已叙述的方法进行了测定,其结果为1.1μm。
<模头7的准备>
在模头6中,除了对以下形状的下游侧模唇进行上述表面处理以外,以与模头6相同的方式制作出模头7。
即,作为下游侧模唇50,使用了在面50C中的接触部50Cz的与出料面50A相连的部位具有曲率半径0.2mm的凸状曲面的模唇。
对于以如上方式形成的表面处理层,利用已叙述的方法测定了甲基乙基酮动态接触角滞后,其结果为18°。
并且,关于表面处理层的Rzjis,利用已叙述的方法进行了测定,其结果为1.1μm。
(实施例1)
如图1那样配置模头1,并在TAC薄膜上进行涂布液A的连续涂布,以宽度200mm形成了厚度3μm的涂膜。
具体而言,在表面温度60℃、外径300mm的支承辊上输送TAC薄膜,并使用模头1对支承辊上的基材进行了涂布液A的涂布。此时,TAC薄膜的包角为150°,TAC薄膜的输送速度为30m/分钟。
此外,模头1的上游侧模唇10的出料面10A与基材(TAC薄膜)F的距离为100μm,下游侧模唇20的出料面20A与基材(TAC薄膜)F的距离为100μm。
在此,涂膜的形成在23℃、50%RH的环境下进行。
(实施例2)
除了将涂布液A代替为涂布液B以外,以与实施例1相同的方式,以宽度200mm形成了厚度0.5μm的涂膜。
(实施例3)
除了将涂布液A代替为涂布液C以外,以与实施例1相同的方式,以宽度200mm形成了厚度5μm的涂膜。
(实施例4)
除了将涂布液A代替为涂布液D以外,以与实施例1相同的方式,以宽度200mm形成了厚度1μm的涂膜。
(实施例5、比较例1、5)
除了将模头1代替为模头2、4或5以外,以与实施例1相同的方式,以宽度200mm形成了厚度3μm的涂膜。
(实施例6、比较例2、6)
除了将模头1代替为模头2、4或5以外,以与实施例2相同的方式,以宽度200mm形成了厚度0.3μm的涂膜。
(实施例7、比较例3、7)
除了将模头1代替为模头2、4或5以外,以与实施例3相同的方式,以宽度200mm形成了厚度5μm的涂膜。
(实施例8、比较例4、8)
除了将模头1代替为模头2、4或5以外,以与实施例4相同的方式,以宽度200mm形成了厚度1μm的涂膜。
(实施例9)
如图2那样配置模头3,并在TAC薄膜上进行涂布液A与涂布液A的连续多层涂布而以宽度200mm形成了总厚度30μm(上层5μm、下层25μm)的涂膜。
具体而言,在表面温度60℃、外径300mm的支承辊上输送TAC薄膜,并使用模头对支承辊上的基材进行了涂布液A的涂布。此时,TAC薄膜的包角为150°,TAC薄膜的输送速度为30m/分钟。
此外,模头3的上游侧模唇10的出料面10A与基材(TAC薄膜)F的距离为100μm,下游侧模唇20的出料面20A与基材(TAC薄膜)F的距离为120μm,中间模唇40的出料面40A与基材(TAC薄膜)F的距离为70μm。
(实施例10、12)
除了将模头1代替为下述表1中所记载的模头6或7以外,以与实施例1相同的方式,以宽度200mm形成了厚度3μm的涂膜。
(实施例11、13)
除了将模头1代替为下述表1中所记载的模头6或7以外,以与实施例2相同的方式,以宽度200mm形成了厚度0.5μm的涂膜。
(观察:三相界面的确认)
利用与上述各例子相同的方法,在内部具备照相机的玻璃制的透明辊上进行涂布,用透明辊内部的照相机观察了进行涂布时的上游侧模唇10的出料面10A及下游侧模唇20的面20C。
若上游侧模唇10的出料面10A及下游侧模唇20的面20C一旦被涂布液覆盖之后,被覆盖的区域再次露出,作为固体面而形成有三相界面,则判断为“有”三相界面。
将结果示于表1。
(评价:涂布条纹的评价)
从正面方向侧(即,上游侧模唇10的面10C侧)及背面方向侧(即,下游侧模唇20的面20C侧)观察在上述各例子中进行涂布时的流道的形状,并且将所形成的涂膜(宽度200mm×长度5000mm的尺寸)载置于测光台(light table)上,照射透射光并以肉眼观察深浅或深浅有无重复,并将流道的形状的观察结果与以深浅表示的膜厚不均匀建立关联而评价了涂布条纹。
设由相对于基材的输送方向为最上游侧的模唇引起的涂布条纹1,由最下游侧的模唇引起的涂布条纹2。
另外,对于将涂布开始5分钟后形成的涂膜以上述尺寸切出而得到的试样1和涂布开始2小时后形成的涂膜以上述尺寸切出而得到的试样2这两个试样进行了涂布条纹的评价。将前者设为“5分钟后涂布条纹”,并且,将后者设为“2小时后涂布条纹”。
评价指标如下。将结果示于表1。
-涂布条纹的评价指标-
1:未观察到涂布条纹。
2:观察到极弱的涂布条纹。
3:观察到1条以上且少于5条的清晰的涂布条纹。
4:在整个面上观察到5条以上清晰的涂布条纹。
如表1所示,可知通过实施例形成的涂膜的涂布条纹1及涂布条纹2的产生均得到抑制。
更具体地进行说明。
使用上游侧模唇10的出料面10A及下游侧模唇20的面20C的动态接触角滞后的值为21°或40°的模头形成的涂膜,即通过比较例1~8形成的涂膜,在涂布液A~D的所有涂布液中观察到由相对于基材的输送方向为最上游侧的模唇引起的涂布条纹。并且,同样地,通过比较例1~8形成的涂膜在涂布液A~D的所有涂布液中还观察到由相对于基材的输送方向为最下游侧的模唇引起的涂布条纹。
另一方面,使用上游侧模唇10的出料面10A及下游侧模唇20的面20C的动态接触角滞后的值为18°或15°的模头形成的涂膜,即通过实施例1~9形成的涂膜,在涂布液A~D的所有涂布液中未观察到由相对于基材的输送方向为最上游侧的模唇引起的涂布条纹。同样地,通过实施例1~9形成的涂膜在涂布液A~D的所有涂布液中也未观察到由相对于基材的输送方向为最下游侧的模唇引起的涂布条纹。
如表1所示,可知在实施例10~13中,2小时后,涂布条纹1及涂布条纹2的产生也得到抑制。尤其,可知通过将下游侧模唇50中的曲面的曲率半径设为0.2mm以上,2小时后的涂布条纹1及涂布条纹2的产生有效地得到抑制。
2019年9月30日申请的日本专利申请2019-180291号及2020年3月6日申请的日本专利申请2020-039221号的所有公开内容通过参考被并入本说明书中。
符号说明
10-上游侧模唇,10A-上游侧模唇的出料面,10B-上游侧模唇的狭缝形成面,10C-上游侧模唇的与狭缝形成面相反的一侧的面,20、50-下游侧模唇,20A、50A-下游侧模唇的出料面,20B、50B-下游侧模唇的狭缝形成面,20C、50C-下游侧模唇的与狭缝形成面相反的一侧的面(即,外周面),20Cz、50Cz-与涂布液的接触部,30、30a、30b-狭缝,40-中间模唇,40A-中间模唇的出料面,40B1、40B2-中间模唇的狭缝形成面,100A、100B、100C-模头,F-基材(被涂布部件的一例),L、L1、L2-涂布液,X-基材的输送方向,B-流道。

Claims (6)

1.一种模头,其具有并列的两个以上模唇以及狭缝,该狭缝形成于相邻的模唇之间且输送涂布液并将涂布液吐出到基材上,
在进行涂布时,并列方向一端的模唇相对于涂布方向位于上游侧,所述并列方向另一端的模唇相对于涂布方向位于下游侧,
所述并列方向一端的模唇的、与基材上的涂布液接触的出料面和所述并列方向另一端的模唇的外侧面上的至少与基材上的涂布液接触的区域的甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下,该外侧面在与狭缝形成面相反的一侧,并且与出料面相连,
所述并列方向一端的模唇的出料面及所述并列方向另一端的模唇的所述外侧面之中,所述甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下的面具备使用含氟化合物形成的表面处理层,
所述含氟化合物为具有全氟聚醚基的化合物,
“甲基乙基酮动态接触角滞后”是指液滴在固体壁的表面滑落时的前进接触角(θa)与后退接触角(θr)之差[θa-θr],作为液滴,使用甲基乙基酮的液滴,“甲基乙基酮动态接触角滞后”是根据向水平地支撑的固体壁的表面滴加液滴并使固体壁逐渐倾斜而液滴开始滑落时的前进接触角及后退接触角来计算出。
2.根据权利要求1所述的模头,其中,
所述并列方向一端的模唇的所述出料面及所述并列方向另一端的模唇的所述外侧面的十点平均粗糙度Rzjis为1.0μm以下。
3.根据权利要求1或2所述的模头,其中,
所述并列方向另一端的模唇的所述出料面的所述甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下。
4.根据权利要求1或2所述的模头,其中,
所述并列方向另一端的模唇在侧视时所述外侧面中的与出料面相连的部位具有曲面。
5.根据权利要求4所述的模头,其中,
所述并列方向另一端的模唇的所述曲面为曲率半径0.2mm以上的曲面。
6.根据权利要求1或2所述的模头,其中,
所述并列方向一端的模唇的出料面及所述并列方向另一端的模唇的所述外侧面的所述甲基乙基酮动态接触角滞后为20°以下。
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002248399A (ja) * 2001-02-27 2002-09-03 Toray Ind Inc 塗布部材の製造方法及び装置
JP2003266001A (ja) * 2002-03-15 2003-09-24 Seiko Epson Corp 成膜装置、デバイスの製造方法及び電子機器
JP2005040979A (ja) * 2003-07-22 2005-02-17 Seiko Epson Corp 液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置、及び機能性膜
JP2011235452A (ja) * 2010-05-06 2011-11-24 Toyobo Co Ltd 溶液製膜用コーティングダイおよび溶液製膜方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH091028A (ja) * 1995-06-12 1997-01-07 Konica Corp 塗布装置
JP4353681B2 (ja) * 2002-07-18 2009-10-28 大日本印刷株式会社 塗工用ダイヘッド
JP2004216298A (ja) * 2003-01-16 2004-08-05 Mitsubishi Chemicals Corp 塗布方法およびスリットダイノズル
JP2007144362A (ja) * 2005-11-30 2007-06-14 Toppan Printing Co Ltd ダイヘッドの製造方法
US20100285227A1 (en) * 2007-12-31 2010-11-11 Yapel Robert A Method for applying a coatable material
JP2014026107A (ja) * 2012-07-26 2014-02-06 Asahi Kasei E-Materials Corp 感光性エレメントの製造方法
JP2016068047A (ja) * 2014-09-30 2016-05-09 大日本印刷株式会社 ダイコート装置および透明導電基材の製造方法
JP2017148763A (ja) * 2016-02-26 2017-08-31 東レ株式会社 塗布装置、塗布方法、及びそれを用いた積層フィルムの製造方法
JP2018183762A (ja) * 2017-04-27 2018-11-22 株式会社ヒラノテクシード 塗工装置及びその塗工方法
WO2018207916A1 (ja) * 2017-05-12 2018-11-15 ダイキン工業株式会社 パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有化合物を含む表面処理剤

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002248399A (ja) * 2001-02-27 2002-09-03 Toray Ind Inc 塗布部材の製造方法及び装置
JP2003266001A (ja) * 2002-03-15 2003-09-24 Seiko Epson Corp 成膜装置、デバイスの製造方法及び電子機器
JP2005040979A (ja) * 2003-07-22 2005-02-17 Seiko Epson Corp 液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置、及び機能性膜
JP2011235452A (ja) * 2010-05-06 2011-11-24 Toyobo Co Ltd 溶液製膜用コーティングダイおよび溶液製膜方法

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