KR20070057887A - 광학 필름 및 이들의 제조 방법 - Google Patents

광학 필름 및 이들의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20070057887A
KR20070057887A KR1020077007216A KR20077007216A KR20070057887A KR 20070057887 A KR20070057887 A KR 20070057887A KR 1020077007216 A KR1020077007216 A KR 1020077007216A KR 20077007216 A KR20077007216 A KR 20077007216A KR 20070057887 A KR20070057887 A KR 20070057887A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
resin film
less
film
carrier substrate
layer
Prior art date
Application number
KR1020077007216A
Other languages
English (en)
Inventor
제휴다 그리너
찰스 체스터 앤더슨
마커스 스테판 버멜
Original Assignee
이스트맨 코닥 캄파니
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 이스트맨 코닥 캄파니 filed Critical 이스트맨 코닥 캄파니
Publication of KR20070057887A publication Critical patent/KR20070057887A/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • C08J5/18—Manufacture of films or sheets
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C41/00—Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor
    • B29C41/02—Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor for making articles of definite length, i.e. discrete articles
    • B29C41/12—Spreading-out the material on a substrate, e.g. on the surface of a liquid
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C41/00—Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor
    • B29C41/24—Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor for making articles of indefinite length
    • B29C41/26—Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor for making articles of indefinite length by depositing flowable material on a rotating drum
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C41/00—Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor
    • B29C41/24—Shaping by coating a mould, core or other substrate, i.e. by depositing material and stripping-off the shaped article; Apparatus therefor for making articles of indefinite length
    • B29C41/32—Making multilayered or multicoloured articles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/0074—Production of other optical elements not provided for in B29D11/00009- B29D11/0073
    • B29D11/00788—Producing optical films
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00—Liquid crystal materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
    • B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2001/00—Use of cellulose, modified cellulose or cellulose derivatives, e.g. viscose, as moulding material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2001/00—Use of cellulose, modified cellulose or cellulose derivatives, e.g. viscose, as moulding material
    • B29K2001/08—Cellulose derivatives
    • B29K2001/12—Cellulose acetate
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2027/00—Use of polyvinylhalogenides or derivatives thereof as moulding material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2029/00—Use of polyvinylalcohols, polyvinylethers, polyvinylaldehydes, polyvinylketones or polyvinylketals or derivatives thereof as moulding material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2067/00—Use of polyesters or derivatives thereof, as moulding material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2995/00—Properties of moulding materials, reinforcements, fillers, preformed parts or moulds
    • B29K2995/0018—Properties of moulding materials, reinforcements, fillers, preformed parts or moulds having particular optical properties, e.g. fluorescent or phosphorescent
    • B29K2995/0031—Refractive
    • B29K2995/0032—Birefringent
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
    • B29L2009/00—Layered products
    • B29L2009/001—Layered products the layers being loose
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
    • B29L2011/00—Optical elements, e.g. lenses, prisms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2301/00—Characterised by the use of cellulose, modified cellulose or cellulose derivatives
    • C08J2301/08—Cellulose derivatives
    • C08J2301/10—Esters of organic acids
    • C08J2301/12—Cellulose acetate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2369/00—Characterised by the use of polycarbonates; Derivatives of polycarbonates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Moulding By Coating Moulds (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Abstract

본 발명은 광학 용도에 적합한 수지 필름을 제조하는데 코팅 및 건조 장치를 사용하는 필름 제조 방법에 관한 것이다. 구체적으로, 낮은 표면 에너지를 갖는 이동하는 캐리어 기판에 다수개의 액체 층을 동시 도포함으로써 수지 필름을 제조한다. 용매 제거 후, 수지 필름을 사용되지 않는(sacrificial) 캐리어 기판으로부터 박리한다. 본 발명에 의해 제조되는 필름은 우수한 치수 안정성 및 낮은 평면외 지연을 나타낸다.
광학 필름, 디스플레이, 평면내 지연, 평면외 지연.

Description

광학 필름 및 이들의 제조 방법{OPTICAL FILMS AND PROCESS FOR MAKING THEM}
본 발명은 일반적으로 수지 필름의 제조 방법, 더욱 구체적으로는 액정 디스플레이 및 다른 전자 디스플레이 같은 광학 장치의 전극 기판, 편광판, 보상판 및 보호 커버를 제조하는데 사용되는 광학 필름의 개선된 제조 방법에 관한 것으로, 이 때 상기 필름은 우수한 치수 안정성을 나타내고 평면내 지연 및 평면외 지연이 둘 다 낮다.
다양한 광학 용도에 투명한 수지 필름을 사용한다. 구체적으로는, 다양한 전자 디스플레이의 편광판용 보호 커버 시트, 보상 필름 및 전극 기판으로서 수지 필름을 사용한다. 이와 관련하여, 경량의 가요성 디스플레이 스크린을 제조하기 위하여 유리를 광학 필름으로 대체하고자 한다. 이들 디스플레이 스크린은 액정 디스플레이, OLED(유기 발광 다이오드) 디스플레이 및 예를 들어 퍼스널 컴퓨터, 텔레비젼, 이동전화 및 계기판에서 발견되는 다른 전자 디스플레이를 포함한다.
액정 디스플레이(LCD) 같은 전자 디스플레이 스크린은 수지 필름으로부터 제 조될 수 있는 다수의 광학 소자를 함유한다. 반사성 LCD의 구조는 액정 셀, 하나 이상의 편광판 및 하나 이상의 보상 필름을 포함할 수 있다. 2개의 전극 기판 사이에 트위스티드 네마틱[twisted nematic(TN)] 또는 슈퍼 트위스티드 네마틱[super twisted nematic(STN)] 물질을 분산시킴으로써 액정 셀을 제조한다. 액정 셀에 있어서, 유리 기판에 대한 경량의 가요성 대체물로서 수지 기판이 제안되어 왔다. 유리와 마찬가지로, 수지 전극 기판은 투명해야 하고, 매우 낮은 복굴절률을 나타내야 하며, 산화주석인듐 같은 투명한 전도성 물질을 필름 표면 상으로 증착시키는데 필요한 고온에 견딜 수 있어야 한다. 전극 기판용으로 제안된 적합한 열안정성 수지는 폴리카본에이트, 설폰, 환상 올레핀 및 폴리아릴레이트를 포함한다.
편광판은 전형적으로 수지 필름의 다층 소자이고, 두 보호 커버 시트 사이에 끼인 편광 필름으로 이루어진다. 편광 필름은 통상적으로 투명하고 고도로 균일한 비정질 수지 필름으로부터 제조되는데, 이들 수지 필름을 후속 연신시켜 중합체 분자를 배향시키고 염료로 염색하여 이색성 필름을 생성시킨다. 편광 필름의 제조에 적합한 수지의 예는 완전히 가수분해된 폴리비닐 알콜(PVA)이다. 편광판을 제조하는데 사용되는 연신된 PVA 필름이 매우 깨지기 쉽고 치수 불안정성이기 때문에, 통상적으로는 보호 커버 시트를 PVA 필름의 양면에 적층시켜 지지력 및 내마모성 둘 다를 제공한다. 편광판의 보호 커버 시트는 높은 균일성, 우수한 치수 및 약품 안정성, 및 높은 투명성을 가져야 한다. 원래, 보호 커버 시트는 유리로 제조되었으나, 현재는 다수의 수지 필름을 사용하여 경량의 가요성 편광판을 제조한다. 보호 커버 시트에의 사용을 위해 셀룰로즈, 아크릴, 환상 올레핀 중합체, 폴리카본에이 트 및 설폰을 비롯한 다수의 수지를 제안하였으나, 아세틸 셀룰로즈 중합체를 편광판용 보호 커버 시트에 가장 통상적으로 사용한다. 아세틸 셀룰로즈 유형의 중합체는 다양한 분자량 및 셀룰로즈 주쇄상의 하이드록실기의 아실 치환도로 시판되고 있다. 이들 중에서, 완전 치환된 중합체인 트라이아세틸 셀룰로즈(TAC)를 통상적으로 사용하여 편광판용 보호 커버 시트에 사용하기 위한 수지 필름을 제조한다.
커버 시트는 통상 PVA 이색성 필름으로의 우수한 접착력을 보장하기 위하여 표면 처리를 필요로 한다. 편광판의 보호 커버 필름으로서 TAC를 사용하는 경우에는, TAC 필름을 알칼리 욕에서 처리하여 TAC 표면을 비누화시킴으로써 PVA 이색성 필름으로의 적합한 접착력을 제공한다. 알칼리 처리에서는 수산화나트륨 또는 수산화칼륨 같은 알칼리금속의 수산화물을 함유하는 수용액을 사용한다. 알칼리 처리 후, 셀룰로즈 아세테이트 필름을 전형적으로는 약산 용액으로 세척한 다음 물로 세정하고 건조시킨다. 이 비누화 공정은 성가신 동시에 시간이 많이 소요된다. 미국 특허 제 2,362,580 호에는 각각 셀룰로즈 나이트레이트 및 개질된 PVA를 함유하는 표면 층을 갖는 두 셀룰로즈 에스터 필름을 PVA 필름의 양면에 접착시킨 적층 구조체가 기재되어 있다. JP 06094915A 호는 보호 필름이 PVA 필름으로의 접착력을 제공하는 친수성 층을 갖는 편광판용 보호 필름을 개시한다.
몇몇 LCD 장치는 상의 시야각을 개선시키기 위하여 보상 필름으로서의 역할도 하는 보호 커버 시트를 갖는 편광판을 함유할 수 있다. 다르게는, LCD 장치는 보상 필름으로서 작용하는 하나 이상의 별도의 필름을 함유할 수 있다. 보상 필름(즉, 지연 필름 또는 위상차 필름)은 통상적으로 필름의 1축 연신에 의해 또는 광학 이방성 층으로 필름을 코팅시킴으로써 생성되는 조절된 수준의 복굴절률을 갖는 비정질 필름으로부터 제조된다. 연신에 의해 보상 필름을 제조하는 것으로 제안된 적합한 수지는 폴리비닐 알콜, 폴리카본에이트 및 설폰을 포함한다. 이방성 층으로 코팅함으로써 제조되는 보상 필름은 통상 낮은 복굴절률을 갖는 매우 투명한 수지 필름(예: TAC 및 환상 올레핀 중합체)을 필요로 한다.
보호 커버 시트는 번쩍임 방지 층, 반사 방지 층, 오염 방지(anti-smudge)층, 또는 대전 방지 층 같은 다른 기능성 층(이후, 보조 층이라고도 함)의 도포를 필요로 할 수 있다. 일반적으로, 이들 기능성 층은 수지 필름의 제조와는 별도의 공정 단계에서 도포된다.
최종 용도와 무관하게, 상기 다양한 유형의 광학 구성요소를 제조하는데 사용되는 전구체 수지 필름은 일반적으로 높은 투명성, 높은 균일성 및 낮은 복굴절률을 가져야 한다. 뿐만 아니라, 이들 필름은 최종 용도에 따라 소정 범위의 두께를 가질 필요가 있을 수 있다.
일반적으로는, 용융 압출 방법 또는 캐스팅 방법에 의해 수지 필름을 제조한다. 용융 압출 방법은 용융될 때까지(100,000cp 정도의 대략적인 점도) 수지를 가열한 다음, 압출 다이를 이용하여 고온의 용융된 수지를 고도로 연마된 금속 밴드 또는 드럼에 도포하고, 필름을 냉각시키고, 최종적으로 금속 지지체로부터 필름을 박리시킴을 포함한다. 그러나, 여러 이유로, 용융 압출에 의해 제조된 필름은 일반적으로 광학 용도에 적합하지 않다. 이들중 주된 이유는 용융 압출된 필름이 높은 광학 복굴절률을 나타낸다는 사실이다. 여러 중합체의 경우, 중합체를 용융시 키는 데에는 추가적인 문제점이 있다. 예를 들어, 고도로 비누화된 폴리비닐 알콜은 230℃의 매우 높은 융점을 갖는데, 이는 탈색 또는 분해가 개시되는 온도(200℃ 이하)보다 높다. 유사하게, 셀룰로즈 트라이아세테이트 중합체는 270 내지 300℃의 매우 높은 융점을 가지며, 이는 분해가 시작되는 온도보다 높다. 또한, 용융 압출된 필름은 불량한 편평도(flatness), 핀홀 및 봉입체(inclusion) 같은 다른 가공물 문제를 갖는 것으로 알려져 있다. 이러한 결함은 광학 필름의 광학 특성 및 기계적 특성을 희생시킬 수 있다. 이러한 이유들로 인해, 용융 압출 방법은 일반적으로 광학 용도로 의도되는 다수의 수지 필름을 제조하는데 적합하지 않다. 그보다는, 캐스팅 방법을 통상적으로 이용하여 이들 필름을 제조한다.
광학 용도용 수지 필름은 거의 독점적으로 캐스팅 방법에 의해 제조된다. 캐스팅 방법은 먼저 중합체를 적절한 용매에 용해시켜 50,000cp 정도의 높은 점도를 갖는 도핑제를 생성시킨 다음, 압출 다이를 통해 점성 도핑제를 고도로 연마된 연속적인 금속 밴드 또는 드럼에 도포하고, 습윤 필름을 부분적으로 건조시키며, 부분 건조된 필름을 금속 지지체로부터 박리시킨 후, 부분 건조된 필름을 오븐을 통해 운송하여 필름으로부터 용매를 더욱 완전히 제거함을 포함한다. 캐스트 필름은 전형적으로 40 내지 200㎛의 최종 건조 두께를 갖는다. 일반적으로, 40㎛ 미만의 얇은 필름은 박리 및 건조 공정 동안 습윤 필름이 깨지기 쉽기 때문에 캐스팅 방법에 의해 제조하기가 매우 어렵다. 200㎛보다 큰 두께를 갖는 필름도 최종 건조 단계에서의 용매의 제거와 관련하여 어려움이 있기 때문에 제조하는데 문제가 된다. 캐스팅 방법의 용해 및 건조 단계가 복잡함 및 비용을 부가하기는 하지만, 캐스트 필름은 일반적으로 용융 압출 방법에 의해 제조되는 필름과 비교할 때 더욱 우수한 광학 특성을 갖고, 고온 가공에 수반되는 문제가 없다.
캐스팅 방법에 의해 제조된 광학 필름의 예는 다음을 포함한다: 1) 랜드(Land)의 미국 특허 제 4,895,769 호 및 카엘(Cael)의 미국 특허 제 5,925,289 호 및 하리타(Harita)의 미국 특허원 제 2001/0039319 A1 호 및 사네후지(Sanefuji)의 미국 특허원 제 2002/001700 A1 호에 개시된 바와 같은 편광판을 제조하는데 사용되는 폴리비닐 알콜 시트; 2) 이와타(Iwata)의 미국 특허 제 5,695,694 호에 개시된 바와 같은 편광판용 보호 커버에 사용되는 셀룰로즈 트라이아세테이트 시트; 3) 요시다(Yoshida)의 미국 특허 제 5,818,559 호 및 다케타니(Taketani)의 미국 특허 제 5,478,518 호 및 제 5,561,180 호; 및 4) 고바야시(Kobayashi)의 미국 특허 제 5,611,985 호 및 시로(Shiro)의 미국 특허 제 5,759,449 호 및 제 5,958,305 호에 개시된 바와 같은 편광판 또는 지연판용 보호 커버에 사용되는 폴리설폰 시트.
캐스팅 방법의 한 단점은 캐스트 필름이 상당한 광학 복굴절률을 갖는다는 것이다. 캐스팅 방법에 의해 제조되는 필름이 용융 압출 방법에 의해 제조되는 필름에 비해 더 낮은 복굴절률을 갖는다 해도, 복굴절률은 여전히 부당하게 높다. 예를 들어, 캐스팅 방법에 의해 제조되는 셀룰로즈 트라이아세테이트 필름은 이와타의 미국 특허 제 5,695,694 호에 개시된 바와 같이 가시광 스펙트럼의 광에 대해 7nm의 평면내 지연을 나타낸다. 캐스팅 방법에 의해 제조되는 폴리카본에이트 필름은 다케타니의 미국 특허 제 5,478,518 호 및 제 5,561,180 호에서 17nm의 평면 내 지연을 갖는 것으로 개시되어 있다. 하리타(Harita)의 미국 특허원 제 2001/0039319 A1 호는 원래의 미연신 필름에서 필름 내의 폭방향 위치 사이에서의 지연 차이가 5nm 미만인 경우 연신된 폴리비닐 알콜 시트에서의 색상 불균일이 감소된다고 주장한다.
버멜(Bermel)의 통상적으로 양도된 미국 특허 공개 제 2003/0215658A 호, 제 2003/0215621A 호, 제 2003/0215608A 호, 제 2003/0215583A 호, 제 2003/0215582A 호, 제 2003/0215581A 호, 제 2003/0214715A 호는 광학 용도에 적합한 낮은 평면내 지연을 갖는 수지 필름을 제조하는 코팅 방법을 기재한다. 버멜은 평면외 지연의 중요성 또는 낮은 평면외 지연 값을 달성하기 위한 수단에 대해서는 함구하고 있다. 이들 버멜 참조문헌에서, 수지 필름은 캐스트 필름을 제조하는데 통상적으로 사용되는 것보다 더 낮은 점도의 중합체 용액으로부터 불연속적이고 사용되지 않는(sacrificial) 기판 상으로 적용된다. 미처리 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 유리 및 알루미늄(각각 47, 49.4 및 49erg/cm2의 표면 에너지 값) 같은 높은 표면 에너지를 갖는 것들을 비롯한 다양한 기판이 개시되어 있다.
광학 필름의 몇몇 용도에 있어서는, 낮은 평면내 지연 값 및 낮은 평면외 지연 값 둘 다가 바람직하다. 특히, 10nm 미만의 평면내 지연 및 평면외 지연 값이 바람직할 수 있다.
캐스트 필름의 복굴절률은 제조 작업 동안 중합체의 배향으로부터 야기된다. 이 분자 배향은 필름 평면내 굴절률이 측정가능할 정도로 상이해지게 만든다. 복 굴절률의 두 성분은 통상 광학 필름의 특징 결정에서 통상적으로 고려되는데, 이들 둘은 상기 필름을 포함하는 광학 장치의 성능에 상이한 방식으로 영향을 끼칠 수 있다. 평면내 복굴절률은 필름 평면에 수직인 방향으로 횡단하는 편광의 굴절률 사이의 차이이다. 평면외 복굴절률은 필름 평면에 수직인 두 방향으로 횡단하는 광의 두 굴절률의 평균과 필름 표면에 평행으로 횡단하는 광의 굴절률 사이의 차이를 나타낸다. 필름 두께를 곱한 복굴절률의 절대값을 평면내 지연으로서 정의한다. 따라서, 평면내 지연 및 평면외 지연은 필름 평면 내의 분자 이방성의 두 독립적인 척도이다.
캐스팅 공정 동안, 다이에서의 도핑제의 전단, 도포 동안 금속 지지체에 의한 도핑제의 전단, 박리 단계 동안 부분 건조된 필름의 전단 및 최종 건조 단계를 통한 수송 동안 자유 직립형 필름의 전단을 비롯한 다수의 원천으로부터 분자 배향이 야기될 수 있다. 이들 전단력은 중합체 분자를 배향시키고, 궁극적으로는 바람직하지 못하게 높은 복굴절률 또는 지연값을 야기한다. 전단을 최소화시키고 가장 낮은 복굴절률의 필름을 수득하기 위하여, 캐스팅 공정은 전형적으로 이와타의 미국 특허 제 5,695,694 호에 개시된 바와 같이 1 내지 15m/분의 매우 낮은 라인 속도로 작동된다. 보다 느린 라인 속도는 일반적으로 가장 높은 품질의 필름을 생성시킨다. 이러한 방식은 평면내 지연을 최소화할 수 있지만, 평면외 지연은 여전히 상당히 높을 수 있다. 평면외 지연은 종종 접착 표면 근처에서 발생되는 건조 응력에 의해 야기된다. 마쉘(Machell) 및 그리너(Greener)의 EPA 0 380 02B 호는 회분식 캐스팅 방법에서 기판으로의 캐스팅 용액의 접착력을 낮춤으로써 필름의 평면 외 지연을 감소시킬 수 있다고 개시하였다. 예컨대 기판의 표면 에너지를 낮춤으로써 이를 달성할 수 있다.
캐스팅 방법의 다른 단점은 다수개의 층을 정확하게 도포할 수 없다는 것이다. 헤이워드(Hayward)의 미국 특허 제 5,256,357 호에 나타낸 바와 같이, 통상적인 멀티-슬롯(multi-slot) 캐스팅 다이는 허용불가능할 정도로 불균일한 필름을 생성시킨다. 특히, 선 및 줄무늬 불균일성은 종래 기술의 장치의 5%보다 더 크다. 헤이워드의 미국 특허 제 5,256,357 호에 교시된 바와 같은 특수한 다이 립 디자인을 사용함으로써 허용가능한 2층 필름을 제조할 수 있으나, 상기 다이 디자인은 복잡하고 2개보다 많은 층을 동시에 도포하기에는 비실용적일 수 있다.
캐스팅 방법의 다른 단점은 도핑제의 점도에 대한 제한이다. 캐스팅 관행상, 도핑제의 점도는 50,000cp 정도이다. 예를 들어, 헤이워드의 미국 특허 제 5,256,357 호는 100,000cp의 점도를 갖는 도핑제를 사용하는 실제 캐스팅 실시예를 기재한다. 일반적으로, 보다 낮은 점도의 도핑제를 사용하여 제조되는 캐스트 필름은 예컨대 이와타의 미국 특허 제 5,695,694 호에 나타낸 바와 같이 불균일한 필름을 생성시키는 것으로 알려져 있다. 이와타의 미국 특허 제 5,695,694 호에서는, 캐스팅 샘플을 제조하는데 사용된 도핑제의 최저 점도가 약 10,000cp이다. 그러나, 이들 높은 점도 값에서, 캐스팅 도핑제는 여과 및 탈기시키기 힘들다. 섬유 및 보다 큰 찌꺼기는 제거될 수 있으나, 중합체 슬러그 같은 보다 연질의 물질은 도핑제 전달 시스템에서 발견되는 높은 압력에서 여과하기가 더욱 어렵다. 미립자 및 기포 인공물은 눈에 띄는 봉입체 결함 및 줄무늬를 생성시키고, 상당한 폐기물 을 발생시킬 수 있다.
또한, 캐스팅 방법은 생성물 변화와 관련하여 비교적 융통성이 없을 수 있다. 캐스팅이 높은 점도의 도핑제를 필요로 하기 때문에, 생성물 제제를 변화시키는 데에는 오염 가능성을 없애기 위하여 전달 시스템을 세정하기 위한 상당한 비가동 시간이 필요하다. 특히 문제가 되는 것은 비상용성 중합체 및 용매에 관련된 제제 변화이다. 실제로, 제제 변화는 대부분의 제조 기계가 단지 한 유형의 필름만을 생성시키는 캐스팅 방법에서 너무 시간이 많이 걸리고 비싸다.
캐스팅 방법에 의한 수지 필름의 제조는 또한 스트립핑 및 수송 작업에 수반되는 다수의 인공물에 의해 혼란을 일으킨다. 예를 들어, 스트립핑 작업은 흔히 줄무늬 인공물을 생성시키지 않으면서 금속 기판으로부터의 필름 박리를 용이하게 하기 위하여 캐스팅 제제에 특수한 보조용매 또는 첨가제 같은 전환 보조제를 필요로 한다. 실제로, 스트립핑은 크눕(Knoop)의 미국 특허 제 4,584,231 호 및 제 4,664,859 호에 표시된 바와 같이 폴리메틸메타크릴레이트 필름 같은 일부 필름이 특수 공중합체에 의지하지 않고서는 캐스팅 방법에 의해 제조될 수 없다는 점에서 매우 문제가 될 수 있다. 스트립핑 인공물에 덧붙여, 캐스트 필름은 최종 건조 작업 동안 다수의 롤러를 가로지르는 운송 동안 손상될 수 있다. 예를 들어, 호소이(Hosoi)의 미국 특허 제 6,222,003 B1 호에 기재된 바와 같이 폴리카본에이트 필름에서 마모, 긁힘 및 주름 인공물이 나타났다. 운송 동안 손상을 최소화하기 위하여, 캐스트 폴리카본에이트 필름은 윤활제 또는 표면 개질제로서 작용하는 특수한 첨가제를 필요로 하거나, 또는 보호 적층 시트를 필요로 하거나, 또는 우툴두툴 한 가장자리를 필요로 한다. 그러나, 특수한 첨가제는 필름 투명성을 희생시킬 수 있다. 뿐만 아니라, 적층 장치 및 가장자리를 우툴두툴하게 만드는 장치는 비싸고, 캐스팅 공정에 복잡함을 부가한다.
마지막으로, 캐스트 필름은 바람직하지 못한 잔주름 또는 주름을 나타낼 수 있다. 보다 얇은 필름은 캐스팅 공정의 박리 및 건조 단계 동안 또는 필름의 후속 취급 동안 치수 인공물에 특히 약하다. 특히, 수지 필름으로부터 복합체 광학판을 제조하는 데에는 접착제, 압력 및 고온의 적용을 포함하는 적층 공정이 필요하다. 매우 얇은 필름을 주름지게 하지 않으면서 이 적층 공정 동안 취급하기는 힘들다. 또한, 많은 캐스트 필름은 수분의 영향으로 인해 시간의 경과에 따라 자연히 비틀어질 수 있다. 광학 필름의 경우, 저장 동안, 또한 복합체 광학판의 후속 제조 동안 우수한 치수 안정성이 필요하다.
우수한 치수 안정성을 나타내고 낮은 평면내 복굴절률 및 낮은 평면외 복굴절률 둘 다를 나타내는 중합체 필름을 포함하는 광학 수지 필름 복합체 및 이러한 필름의 제조 방법을 제공하는 것이 해결되어야 하는 과제이다.
발명의 개요
본 발명은 (a) 35erg/cm2 미만의 표면 에너지 수준을 갖는 롤-대-롤(roll-to-roll) 공정에서의 이동하는 불연속적인 캐리어 기판의 표면 상으로 액체 광학 수지/용매 혼합물을 도포하는 단계; (b) 액체 수지/용매 혼합물을 건조시켜 용매를 실질적으로 제거함으로써, 캐리어 기판에 약하게 접착된 수지 필름의 복합체를 생성시키는 단계; 및 (c) 기판으로부터 필름을 제거하는 단계를 포함하는, 100nm 미만의 평면외 지연 및 20nm 미만의 평면내 지연을 갖는 광학 수지 필름을 제조하는 방법을 제공하며, 이 때 상기 수지 필름은 캐리어 기판에 박리가능하게(releasably) 접착됨으로써 캐리어 기판으로부터 박리될 수 있으며, 생성된 필름은 100nm 미만의 평면외 지연 및 20nm 미만의 평면내 지연을 나타낸다.
본 발명은 또한 광학 수지 필름, 복합체 요소, 편광판 및 디스플레이 장치도 제공한다. 본 발명에 의해 제조되는 광학 수지 필름은 우수한 치수 안정성 및 낮은 평면내 복굴절률 및 평면외 복굴절률을 나타낸다.
건조 공정 동안 습윤 광학 필름 코팅을 지지하고 종래 기술에서 기재된 캐스팅 방법에서 요구되는 바와 같이 최종 건조 단계 전에 금속 밴드 또는 드럼으로부터 필름을 박리시킬 필요가 없는 캐리어 기판에 의해, 이들 광학 수지 필름의 제조가 용이해진다. 오히려, 광학 필름은 캐리어 기판으로부터 분리되기 전에 완전히 건조된다. 실제로, 광학 필름 및 캐리어 기판을 포함하는 복합제 요소는 바람직하게 롤로 권취되고 사용될 때까지 저장된다.
도 1은 본 발명의 방법을 실행하는데 사용될 수 있는 예시적인 롤-대-롤 코팅 및 건조 장치의 개략도이다.
도 2는 기판으로부터 분리된 수지 웹이 별도로 권취되는 스테이션을 포함하 는, 도 1의 예시적인 롤-대-롤 코팅 및 건조 장치의 개략도이다.
도 3은 본 발명의 방법을 실행하는데 사용될 수 있는 예시적인 멀티-슬롯 코팅 장치의 개략도이다.
도 4는 낮은 표면 에너지를 갖는 캐리어 기판으로부터 부분적으로 박리된, 본 발명의 방법에 의해 제조된 수지 필름의 단면도이다.
도 5는 그 위에 낮은 표면 에너지의 보충 층을 갖는 캐리어 기판으로부터 부분적으로 박리된, 본 발명의 방법에 의해 제조된 수지 필름의 단면도이다.
도 6은 낮은 표면 에너지를 갖는 캐리어 기판으로부터 부분적으로 박리된, 본 발명의 방법에 의해 제조된 다층 수지 필름의 단면도이다.
도 7은 그 위에 낮은 표면 에너지의 보충 층을 갖는 캐리어 기판으로부터 부분적으로 박리된, 본 발명의 방법에 의해 제조된 다층 수지 필름의 단면도이다.
도 8은 수지 필름을 캐스팅시키기 위한, 종래 기술에서 사용되는 캐스팅 장치의 개략도이다.
도 9는 메틸렌 클로라이드 용액으로부터 상이한 표면 에너지를 갖는 다양한 기판 상으로 캐스팅된 고체 폴리카본에이트 수지의 필름 두께에 대한 평면외 지연의 의존성을 도시한다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
10: 건조 시스템
12: 이동하는 기판/웹
14: 건조기
16: 코팅 장치
18: 풀림 스테이션
20: 백업 롤러
22: 코팅된 웹
24: 건조 필름
26: 권취 스테이션
28, 30, 32, 34: 코팅 공급 용기
36, 38, 40, 42: 펌프
44, 46, 48, 50: 도관
52: 방전 장치
54: 극성 전하 보조 장치
56, 58: 대향하는 롤러
60: 수지 필름
62, 64: 권취 스테이션
66, 68, 70, 72, 74, 76, 78, 80, 82: 건조 구역
92: 전방 구역
94: 제 2 구역
96: 제 3 구역
98: 제 4 구역
100: 배면판
102: 입구
104: 칭량 슬롯
106: 펌프
108: 최하층
110: 입구
112: 제 2 칭량 슬롯
114: 펌프
116: 층
118: 입구
120: 칭량 슬롯
122: 펌프
124: 층
126: 입구
128: 칭량 슬롯
130: 펌프
132: 층
134: 경사진 슬라이드 표면
136: 코팅 립
138: 제 2의 경사진 슬라이드 표면
140: 제 3의 경사진 슬라이드 표면
142: 제 4의 경사진 슬라이드 표면
144: 배면 착지 표면
146: 코팅 비이드
150: 수지 필름
152, 154: 캐리어 기판
156: 코팅된 표면 층
158: 수지 필름
160: 다층 필름
162: 최하층
164, 166: 중간층
168: 최상층
170: 캐리어 지지체
172: 복합체 필름
174: 최하층
176, 178: 중간층
180: 최상층
182: 캐리어 기판
184: 코팅된 표면 층
200: 공급 라인
202: 압출 호퍼
204: 가압된 탱크
206: 펌프
208: 금속 드럼
210: 건조 구역
212: 건조 오븐
214: 캐스트 필름
216: 최종 건조 구역
218: 최종 건조된 필름
220: 권취 스테이션
본 발명의 목적은 종래 기술의 캐스팅 방법의 한계를 극복하고, 매우 낮은 수준의 평면내 복굴절률 및 평면외 복굴절률 둘 다를 갖는 비정질 중합체 필름을 제조하는 신규 롤-대-롤 코팅 방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 다른 목적은 광범위한 건조 두께에 걸쳐 매우 균일한 중합체 필름을 생성시키는 신규 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 롤-대-롤 공정에서 이동하는 기판에 다수개의 층을 동시에 도포함으로써 중합체 필름을 제조하는 방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 목적은 적어도 수지 필름을 실질적으로 건조시킨 다음 수지 필름으로부터 캐리어 기판을 분리시킬 때까지 지지하는 캐리어 기판에 수지 필름을 일시적으로 접착시킴으로써 개선된 치수 안정성 및 취급능을 갖는 중합체 필름을 제조하는 신규 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 추가적인 목적은 불연속적인 캐리어 기판에 코팅된 수지 필름을 포함하는 복합체 요소를 제공하는 것으로, 이 때 상기 기판은 낮은 표면 에너지를 갖고, 수지 필름은 20nm의 평면내 지연 및 100nm의 평면외 지연을 가지며, 약 250N/m 미만의 접착 강도로 캐리어 기판에 접착된다. 본 발명의 또 다른 목적은 코팅 작업에 의해 형성된 폴리카본에이트 층을 포함하는 수지 필름을 제공하는 것이며, 이 때 상기 폴리카본에이트 필름은 20nm 미만의 평면내 지연 및 100nm 미만의 평면외 지연을 갖는다. 본 발명의 다른 추가적인 목적은 코팅 작업에 의해 생성된 셀룰로즈 에스터 층을 포함하는 수지 필름을 제공하는 것으로, 이 때 상기 셀룰로즈 에스터 필름은 20nm 미만의 평면내 지연 및 20nm 미만의 평면외 지연을 갖는다.
간단히 말해, 본 발명의 상기 및 다수의 다른 특징, 목적 및 이점은 본원에 기재되는 상세한 설명, 청구의 범위 및 도면을 읽어본 후 용이하게 알 수 있게 될 것이다. 코팅 방법에 의해 이동하는 불연속적인 캐리어 기판 상으로 중합체 수지를 함유하는 저점도 유체를 도포함으로써, 이들 특징, 목적 및 이점을 달성한다. 수지 필름을 캐스팅하는데 전형적으로 사용되는 연속적인 금속 밴드 또는 휠과는 달리, 본 발명에 사용되는 불연속적인 캐리어 기판은 10m 이상, 바람직하게는 1000m 이상의 길이를 갖는 불연속적인 기판이다. 캐리어 기판을 35erg/cm2 미만의 표면 에너지를 갖도록 개질시킨다. 바람직하게는, 표면 에너지는 15 내지 35erg/cm2이다. 표면 에너지가 35erg/cm2보다 높으면, 낮은 평면외 지연 필름을 획득하기가 매우 어렵다. 약 15erg/cm2 미만의 표면 에너지는 코팅, 습윤, 및 건조된 수지 필름의 기판으로의 충분한 접착력을 제공하는 관점에서 비실용적이다. 코팅된 필름이 실질적으로 건조된(10중량% 미만의 잔류 용매) 후에야 수지 필름을 캐리어 기판으로부터 분리시킨다. 실제로, 수지 필름과 캐리어 기판의 복합체 구조체를 롤로 권취하여 사용할 때까지 저장할 수 있다. 전형적으로, 이들 롤은 길이가 10m 이상이고, 바람직하게는 롤은 길이가 1000m 이상이다. 그러므로, 캐리어 기판은 광학 수지 필름을 수용하고 건조 공정 전체에 걸쳐 수송하는 동안 전단력으로부터 보호한다. 뿐만 아니라, 수지 필름이 캐리어 기판으로부터 최종적으로 박리될 때 건조된 고체이기 때문에, 박리 공정으로 인해 필름 내에서 중합체의 전단 또는 배향이 일어나지 않는다. 그 결과, 본 발명에 의해 제조된 필름은 매우 낮은 수준의 평면내 복굴절률 및 평면외 복굴절률을 나타낸다.
본 발명의 방법에 의해 약 1 내지 200마이크론의 두께를 갖는 중합체 필름을 제조할 수 있다. 종래 기술의 방법으로는 불가능한 라인 속도에서 40마이크론 미만의 매우 얇은 수지 필름을 용이하게 제조할 수 있다. 건조 공정 전체에서 습윤 필름을 지지하고 종래 기술에 기재된 캐스팅 방법에서 요구되는 바와 같이 최종 건조 단계 전에 금속 밴드 또는 드럼으로부터 필름을 박리할 필요가 없는 캐리어 기판에 의해, 매우 얇은 필름의 제조가 용이해진다. 오히려, 필름은 캐리어 기판으로부터 분리되기 전에 완전히는 아니더라도 실질적으로 건조된다. 모든 경우에, 건조된 수지 필름은 10중량% 미만의 잔류 용매 함량을 갖는다. 본 발명의 바람직한 실시양태에서, 잔류 용매 함량은 5% 미만, 가장 바람직하게는 1% 미만이다. 그러므로, 본 발명은 종래 기술의 캐스팅 방법으로는 불가능한 매우 정밀하고 얇은 필름의 제조를 용이하게 허용한다. 또한, 40마이크론보다 큰 두꺼운 필름도 본 발명의 방법에 의해 제조할 수 있다. 보다 두꺼운 필름을 제조하기 위하여, 추가의 코팅을 직렬식 작업으로 또는 광학 품질을 희생시키지 않으면서 오프라인 공정으로 필름-기판 복합체 상에 도포할 수 있다. 이러한 방식으로, 본 발명의 방법은 첫번째 도포된 필름이 후속 습윤 필름의 도포 전에 건조되기 때문에 보다 두꺼운 필름의 제조 동안 용매 제거의 한계를 극복한다. 그러므로, 본 발명은 캐스팅 방법으로 가능한 것보다 더 넓은 범위의 최종 필름 두께를 허용한다.
본 발명의 방법에서는, 코팅 호퍼의 슬라이드 표면에 단일층 또는 바람직하게는 다층 복합체(이는 낮은 점도의 바닥 층, 하나 이상의 중간층 및 계면활성제를 함유하는 임의적인 상부 층을 포함함)를 형성시키고, 다층 복합체를 슬라이드 표면 아래로 또한 코팅 호퍼의 코팅 립 위로 유동시키며, 다층 복합체를 이동하는 기판에 도포함으로써 수지 필름을 제조한다. 특히, 본 발명의 방법을 이용하면 독특한 조성을 갖는 수개의 액체 층을 도포할 수 있는 것으로 보인다. 코팅 보조제 및 첨가제를 특정 층에 위치시켜 필름 성능을 개선시키거나 제조 강도를 개선시킬 수 있다. 예를 들면, 다층 도포에 의해 계면활성제를 전체 습윤 필름 전체보다는 필요한 경우 상부 스프레딩(spreading) 층에 위치시킬 수 있다. 다른 예에서는, 최하층의 중합체 농도를 조정하여 낮은 점도를 달성하고 다층 복합체의 캐리어 기판 상으로의 고속 도포를 용이하게 할 수 있다. 그러므로, 본 발명은 특정 광학 소자 또는 다른 유사한 소자에 요구되는 것과 같은 다층 복합체 필름의 제조를 위한 유리한 방법을 제공한다.
캐리어 기판을 사용함으로써 본 발명의 방법에 의해 주름 및 잔주름 인공물을 최소화시킨다. 수지 필름에 빳빳한 백킹을 제공함으로써, 캐리어 기판은 광학 필름의 치수 뒤틀림을 최소화시킨다. 이는 약 40마이크론 미만의 매우 얇은 필름의 취급 및 가공에 특히 유리하다. 뿐만 아니라, 모든 건조 작업 동안 캐리어 기판이 수지 필름과 마모성일 수 있는 운송 롤러 사이에 놓이기 때문에 본 발명의 방법을 이용하면 캐스팅 방법에 의해 생성되는 것으로 알려져 있는 긁힘 및 마모 가공물을 피하게 된다. 또한, 캐리어 기판의 억제하는 특성으로 인해, 수분 함량의 변화에 의해 시간 경과에 따라 수지 필름이 뒤틀리거나 주름지는 경향이 없어진다. 그러므로, 본 발명의 방법은 중합체 광학 필름이 제조 및 저장 동안, 또한 광학 소자의 제조에 필요한 최종 취급 단계 동안 치수 안정성이도록 보장한다.
본 발명의 방법을 실행함에 있어서는, 기판이 10m 이상의 길이를 갖는 기판의 롤을 풂으로써 편리하게 공급되는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 같은 불연속적인 시트인 것이 바람직하다. 코팅된 표면 층 또는 전기 방전 장치로 PET 캐리어 기판을 전처리하여 그의 표면 에너지를 변화시킬 수 있다. 특히, 코팅된 표면 층을 도포하여 기판의 표면 에너지를 낮추고, 낮은 수준의 평면외 지연을 생성시키면서 필름을 기판으로부터 박리시켜낼 수 있다.
본 발명이 본원에서는 구체적으로 슬라이드 비이드 코팅 작업과 관련하여 논의되지만, 당해 분야의 숙련자는 다른 코팅 작업으로 본 발명을 유리하게 실행할 수 있음을 알 것이다. 예를 들어, 단일층 또는 다층 슬롯 다이 코팅 작업 및 단일층 또는 다층 커튼 코팅 작업으로, 낮은 평면내 지연 및 평면외 지연을 갖는 자유 직립형 필름을 달성할 수 있음이 분명하다. 뿐만 아니라, 당해 분야의 숙련자는 다른 캐리어 기판을 사용하여 본 발명을 유리하게 실행할 수 있음을 알 것이다. 예를 들면, 다른 지지체가 낮은 표면 에너지를 갖도록 처리되는 한, 다른 중합체 지지체[예컨대, 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN), 셀룰로즈 아세테이트, PET], 종이 지지체, 수지 적층된 종이 지지체 및 금속 지지체(예컨대, 알루미늄)를 사용하여, 낮은 평면내 복굴절률 및 평면외 복굴절률을 갖는 필름을 박리시킬 수 있다.
본 발명의 실제 용도는 특히 광학 필름, 적층 필름, 박리 필름, 사진 필름 및 포장 필름으로서 사용되는 중합체 필름의 제조를 포함한다. 특히, 본 발명의 방법에 의해 제조된 수지 필름은 액정 디스플레이 같은 전자 디스플레이의 제조시 광학 소자로서 사용될 수 있다. 예를 들어, 액정 디스플레이는 편광판, 보상판 및 전극 기판을 비롯한 다수의 필름 소자로 구성된다. 편광판은 전형적으로 각 표면이 매우 낮은 평면내 복굴절률을 갖는 보호 커버에 접착되는, 이색성 필름(통상적으로는 요오드로 처리된 연신된 폴리비닐 알콜)을 갖는 다층 복합체 구조체이다. 본 발명의 방법에 의해 제조된 수지 필름이 적합한 보호 시트이고, 또한 편광판을 제조하기 위한 전구체 필름으로서도 적합하다. 본 발명의 방법에 의해 제조되는 수지 필름은 또한 보상판 및 전극 기판의 제조에도 적합하다.
본 발명의 방법으로 제조된 필름은 광학 필름에 특히 유용하다. 본 발명의 방법으로 제조된 필름은 제조된 그 상태에서 약 85% 이상, 바람직하게는 약 90% 이상, 가장 바람직하게는 약 95% 이상의 광 투과율을 갖는다. 또한, 필름은 제조된 그 상태에서 1.0% 미만의 헤이즈 값을 갖는다. 또한, 필름은 100nm 미만의 표면 조도 평균(Ra, ANSI 규격 B46.1, 1985), 가장 바람직하게는 50nm 미만의 표면 조도를 가지면서 매끈하다.
본원에 사용되는 용어 "광학 수지" 및 "광학 필름"은 높은 광 투과율(즉, 85%보다 큼) 및 낮은 헤이즈 값(즉, 1.0% 미만)을 갖는 고투명성 필름을 생성시키는 임의의 중합체 물질을 기재하는데 사용된다. 예시적인 광학 수지는 본원에 기재되는 것, 즉 셀룰로즈 트라이아세테이트(트라이아세틸 셀룰로즈, TAC라고도 불림), 폴리비닐 알콜, 폴리카본에이트, 폴리에터설폰, 폴리메틸메타크릴레이트 및 폴리비닐뷰티랄을 포함한다. 다른 가능한 광학 수지는 특히 플루오로 중합체(폴리비닐리덴 플루오라이드, 폴리비닐 플루오라이드 및 폴리클로로트라이플루오로에텐), 다른 셀룰로즈 에스터(예컨대, 셀룰로즈 다이아세테이트, 셀룰로즈 아세테이트 뷰티레이트 및 셀룰로즈 아세테이트 프로피온에이트), 폴리올레핀(환상 올레핀 중합체), 폴리스타이렌, 방향족 폴리에스터(폴리아릴레이트 및 폴리에틸렌 테레프탈레이트), 설폰(폴리설폰, 폴리에터설폰, 폴리아릴설폰) 및 폴리카본에이트 공중합체를 포함한다.
한 바람직한 실시양태에서, 광학 수지 필름은 20nm 미만의 평면내 지연 및 100nm 미만의 평면외 지연을 갖는 폴리카본에이트 필름이다. 가장 바람직하게는, 평면외 지연은 80nm 미만이다. 폴리카본에이트는 하기 화학식의 구조를 갖는 축합 중합체이다:
Figure 112007024677311-PCT00001
상기 식에서, R은 단량체 다이올로부터 유도되는 유기 잔기이다.
가장 통상적인 폴리카본에이트는 비스페놀 A 단량체[2,2-비스(4-하이드록시-페닐)프로페인]로부터 유도되지만, 다른 단량체를 그 자체로 또는 다수개의 폴리카본에이트 구조체를 생성시키기 위하여 다른 다이올과 조합하여 사용할 수 있다. 방향족 주쇄 구조체를 갖는 대부분의 폴리카본에이트는 그로부터 캐스팅된 필름에서 높은 수준, 전형적으로는 TAC 수지에 의해 생성되는 것보다 훨씬 더 높은 평면외 지연을 생성시키는 내재적인 복굴절성 물질이다.
다른 바람직한 실시양태에서, 광학 수지 필름은 20nm 미만의 평면내 지연 및 20nm 미만의 평면외 지연을 갖는 셀룰로즈 에스터 필름이다. 바람직하게는, 평면외 지연은 10nm 미만, 가장 바람직하게는 5nm 미만이다.
먼저 도 1을 보면, 본 발명의 방법을 실행하는데 적합한 예시적이고 널리 공지되어 있는 롤-대-롤 코팅 및 건조 시스템(10)이 개략적으로 도시되어 있다. 코팅 및 건조 시스템(10)은 전형적으로 이동하는 기판(12)에 매우 얇은 필름을 도포한 후 건조기(14)에서 용매를 제거하는데 이용된다. 단일 코팅 장치(16)는 시스템(10)이 하나의 코팅 도포 지점 및 하나의 건조기(14)를 갖도록 도시되어 있으나, 2 또는 3개의(심지어는 6개 정도로 많은) 추가적인 코팅 도포 지점 및 상응하는 건조 구역이 얇은 복합체 필름의 제조에 알려져 있다. 연속적인 도포 및 건조 공정은 직렬 코팅 작업으로서 당해 분야에 공지되어 있다.
코팅 및 건조 장치(10)는 백업 롤러(20) 둘레에 이동하는 기판(12)(여기에 코팅 장치(16)에 의해 코팅이 도포됨)을 공급하기 위한 풀림 스테이션(18)을 포함한다. 이어, 코팅된 웹(22)을 건조기(14)를 통해 전진시킨다. 본 발명의 방법을 실행함에 있어서는, 기판(12)상에 수지 필름을 포함하는 최종 건조 필름(24)을 권취 스테이션(26)에서 롤로 권취한다.
도시된 바와 같이, 예시적인 4층 코팅을 이동하는 웹(12)에 도포한다. 각 층의 코팅액은 개별적인 코팅 공급 용기(28, 30, 32, 34)에 보유된다. 펌프(36, 38, 40, 42)에 의해 코팅 공급 용기로부터 각각 코팅 장치(16) 도관(44, 46, 48, 50)에 코팅액을 전달한다. 또한, 코팅 및 건조 시스템(10)은 또한 코로나 또는 글로우 방전 장치(52) 같은 전기 방전 장치, 또는 극성 전하 보조 장치(54)도 포함하여, 코팅을 도포하기 전에 기판(12)을 개질시킬 수 있다.
이어 도 2를 보면, 다른 권취 작업을 갖는, 도 1에 도시된 것과 동일한 예시적인 코팅 및 건조시스템(10)이 개략적으로 도시되어 있다. 따라서, 이 도면은 권취 작업 이전까지 동일하게 번호가 기재되어 있다. 본 발명의 방법을 실행함에 있어서는, 기판(이는 수지 필름, 종이, 수지 코팅된 종이 또는 금속일 수 있음) 및 그에 도포된 수지 코팅을 포함하는 건조 필름(24)을 대향하는 롤러(56, 68) 사이에 넣는다. 수지 필름(60)을 기판(12)으로부터 박리시켜, 광학 필름은 권취 스테이션(62)으로 보내고 기판(12)은 권취 스테이션(64)으로 보낸다. 본 발명의 바람직한 실시양태에서는, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)를 기판(12)으로서 사용한다. 기판(12)을 보충 층으로 전처리하여 기판(12)의 표면 에너지를 변화시킬 수 있다.
코팅 유체를 이동하는 기판(12)에 전달하는데 이용되는 코팅 장치(16)는 예컨대 러셀(Russell)의 미국 특허 제 2,761,791 호에 교시된 바와 같은 슬라이드 비이드 호퍼 또는 휴즈(Hughes)의 미국 특허 제 3,508,947 호에 교시된 바와 같은 슬라이드 커튼 호퍼 같은 다층 도포기일 수 있다. 다르게는, 코팅 장치(16)는 슬롯 다이 호퍼 또는 제트 호퍼 같은 단일층 도포기일 수 있다. 본 발명의 바람직한 실시양태에서, 도포 장치(16)는 다층 슬라이드 비이드 호퍼이다.
상기 언급한 바와 같이, 코팅 및 건조 시스템(10)은 전형적으로 코팅된 필름으로부터 용매를 제거하기 위한 건조 오븐인 건조기(14)를 포함한다. 본 발명의 방법을 실행하는데 사용되는 예시적인 건조기(14)는 제 1 건조 구역(66) 및 온도 및 기류를 독립적으로 조절할 수 있는 8개의 추가적인 건조 구역(68 내지 82)을 포함한다. 건조기(14)가 9개의 독립적인 건조 구역을 갖는 것으로 도시되어 있지만, 더 적은 구획을 갖는 건조 오븐이 널리 공지되어 있고 이를 본 발명의 방법을 실행하는데 사용할 수 있다. 본 발명의 바람직한 실시양태에서, 건조기(14)는 둘 이상의 독립적인 건조 대역 또는 구역을 갖는다.
바람직하게는, 각각의 건조 구역(68 내지 82)은 온도 및 기류를 독립적으로 조절한다. 각 구역에서, 온도는 5 내지 150℃로 조정될 수 있다. 습윤 필름의 표면 경화 또는 스키닝-오버(skinning-over)로부터의 건조 결함을 최소화하기 위하여, 건조기(14)의 초기 구역에서 최적 건조 속도가 필요하다. 초기 건조 대역에서의 온도가 부적절할 때 생성되는 다수의 인공물이 있다. 예를 들면, 대역(66, 68, 70)에서의 온도가 25℃로 설정될 때에는 폴리카본에이트 필름의 흐려짐 또는 붉어짐이 관찰된다. 이 붉어지는 결함은 코팅 유체에 높은 증기압의 용매(메틸렌 클로라이드 및 아세톤)가 사용될 때 특히 문제가 된다. 침략적으로 높은 온도도 수지 필름의 표면 경화, 망상 조직 패턴 및 미소공극 같은 다른 인공물을 수반한다. 본 발명의 바람직한 실시양태에서, 제 1 건조 구역(66)은 약 25℃ 이상 95℃ 미만의 온도에서 작동되는데, 이 경우에는 코팅된 웹(22)의 습윤 코팅 상에 직접적인 공기 충돌이 없다. 본 발명의 방법의 다른 바람직한 실시양태에서는, 건조 구역(68, 70)을 약 25℃ 이상 95℃ 미만의 온도에서 작동시킨다. 건조 구역(66, 68)의 실제 건조 온도는 당해 분야의 숙련자에 의해 이 범위 내에서 실험적으로 최적화될 수 있다.
이제 도 3을 보면, 예시적인 코팅 장치(16)의 개략도가 상세하게 도시되어 있다. 측부 단면이 개략적으로 도시된 코팅 장치(16)는 제 1 구역(92), 제 2 구역(94), 제 3 구역(96), 제 4 구역(98) 및 배면판(100)을 포함한다. 펌프(106)를 통해 코팅액을 제 1 칭량 슬롯(104)으로 공급함으로써 최하층(108)을 형성시키기 위한 제 2 구역(94) 내로의 입구(102)가 있다. 펌프(114)를 통해 코팅액을 제 2 칭량 슬롯(112)으로 공급하여 층(116)을 생성시키기 위한 제 3 구역(96) 내로의 입구(110)가 있다. 펌프(122)를 통해 코팅액을 칭량 슬롯(120)으로 공급하여 층(124)을 형성시키기 위한 제 4 구역(98) 내로의 입구(118)가 있다. 펌프(130)를 통해 코팅액을 칭량 슬롯(128)으로 공급하여 층(132)을 생성시키기 위한 배면판(100) 내로의 입구(126)가 있다. 각 슬롯(104, 112, 120, 128)은 횡방향 분배강을 포함한다. 전방 구역(92)은 경사진 슬라이드 표면(134) 및 코팅 립(136)을 포함한다. 제 2 구역(94)의 상부에는 제 2의 경사진 슬라이드 표면(138)이 있다. 제 3 구역(96)의 상부에는 제 3의 경사진 슬라이드 표면(140)이 있다. 제 4 구역(98)의 상부에는 제 4의 경사진 슬라이드 표면(142)이 있다. 배면판(100)은 경사진 슬라이드 표면(142) 위로 연장되어 배면 착지 표면(144)을 형성한다. 코팅 장치 또는 호퍼(16) 근처에는 그 주위로 웹(12)이 운송되는 코팅 백킹 롤러(20)가 위치한다. 코팅 층(108, 116, 124, 132)은 립(136)과 기판(12) 사이에 코팅 비이드(146)를 형성하는 다층 복합체를 형성한다. 전형적으로, 코팅 호퍼(16)는 비-코팅 위치로부터 코팅 백킹 롤러(20)를 향해 코팅 위치로 이동할 수 있다. 코팅 장치(16)가 4개의 칭량 슬롯을 갖는 것으로 도시되어 있지만, 더 많은 수의 칭량 슬롯(9개 이상으로 많음)을 갖는 코팅 다이가 널리 공지되어 있고 본 발명의 방법을 실행하는데 이를 사용할 수 있다.
코팅 유체는 주로 적합한 용매에 용해된 중합체 수지로 구성된다. 적합한 수지는 투명한 필름을 형성하는데 사용될 수 있는 임의의 중합체 물질을 포함한다. 광학 필름을 제조하는데 현재 사용되는 수지의 실제 예는 편광판의 경우 폴리비닐 알콜, 유리 적층체의 경우 폴리비닐 뷰티랄, 보호 커버 및 기판의 경우 아크릴 및 폴리스타이렌, 및 보호 커버, 보상판 및 전극 기판의 경우 셀룰로즈 에스터, 폴리카본에이트, 폴리아릴레이트, 폴리올레핀, 플루오로 중합체(예컨대, 폴리비닐플루오라이드 및 폴리비닐리덴 플루오라이드), 설폰을 포함한다. 본 발명의 방법에서는, 광학 필름을 제조하는데 사용될 수 있는 중합체 유형 또는 중합체 블렌드에 대해 특별한 제한이 없다.
전술한 수지 물질용 용매 면에서, 적합한 용매는 예컨대 염소화된 용매(메틸렌 클로라이드 및 1,2-다이클로로에테인), 알콜(메탄올, 에탄올, n-프로판올, 아이소프로판올, n-뷰탄올, 아이소뷰탄올, 다이아세톤 알콜, 페놀 및 사이클로헥산올), 케톤(아세톤, 메틸에틸 케톤, 메틸아이소뷰틸 케톤 및 사이클로헥산온), 에스터(메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, n-프로필 아세테이트, 아이소프로필 아세테이트, 아이소뷰틸 아세테이트 및 n-뷰틸 아세테이트), 방향족 화합물(톨루엔 및 자일렌) 및 에터(테트라하이드로퓨란, 1,3-다이옥솔레인, 1,2-다이옥솔레인, 1,3-다이옥세인, 1,4-다이옥세인 및 1,5-다이옥세인)를 포함한다. 물을 용매로서 사용할 수도 있다. 전술한 용매의 블렌드로 코팅 용액을 제조할 수도 있다.
코팅 유체는 또한 전환 보조제로서 작용하는 첨가제를 함유할 수 있다. 전환 보조제는 가소화제 및 계면활성제를 포함하고, 이들 첨가제는 일반적으로 중합체 필름의 유형에 대해 특이적이다. 예를 들어, 폴리카본에이트, 폴리에터설폰 및 셀룰로즈 트라이아세테이트 필름에 적합한 가소화제는 프탈레이트 에스터(다이에틸프탈레이트, 다이뷰틸프탈레이트, 다이사이클로헥실프탈레이트, 다이옥틸프탈레이트 및 뷰틸 옥틸프탈레이트), 아디페이트 에스터(다이옥틸 아디페이트) 및 포스페이트 에스터(트라이크레실 포스페이트 및 트라이페닐 포스페이트)를 포함한다. 반면, 수용성 폴리비닐 알콜의 경우, 적합한 가소화제는 글라이세린 및 에틸렌 글라이콜 같은 다가 알콜, 및 에탄올아민 같은 아민 알콜을 포함한다. 본원에서는 가소화제를 전환 작업에서 코팅 보조제로서 사용하여 코팅 호퍼에서의 때이른 필름 응고를 최소화시키고 습윤 필름의 건조 특징을 개선시킬 수 있다. 본 발명의 방법에서는, 가소화제를 사용하여 건조 작업 동안 수지 필름의 부풀음, 말림(curl) 및 이층을 최소화할 수 있다. 본 발명의 바람직한 실시양태에서는, 최종 수지 필름에서 결함을 완화시키기 위하여 중합체의 농도에 대해 50중량% 이하의 총 농도로 가소화제를 코팅 유체에 첨가할 수 있다.
낮은 복굴절률의 중합체에 대한 코팅 제제는 또한 UV 필터 소자 성능을 제공하고/하거나 낮은 복굴절률의 중합에 필름에 대해 UV 안정화제로서 작용하기 위하여 하나 이상의 UV 흡수 화합물을 함유할 수도 있다. 자외선 흡수 화합물은 일반적으로 자외선 흡수제를 함유하지 않는 중합체 100중량부에 기초하여 0.01 내지 20중량부의 양으로 중합체에 함유되고, 0.01 내지 10중량부, 특히 0.05 내지 2중량부의 양으로 바람직하게 함유된다. 다양한 중합체 요소에 사용하는 것으로 기재된 다양한 자외선 흡수 화합물중 임의의 화합물(예컨대, 하이드록시페닐-s-트라이아진, 하이드록시페닐벤조트라이아졸, 폼아미딘 또는 벤조페논 화합물)을 본 발명의 중합체 요소에 사용할 수 있다. 2002년 5월 5일자로 출원되어 통상적으로 양도된 동시 계류중인 미국 특허원 제 10/150,634 호에 기재되어 있는 바와 같이, 상기 나열된 것과 같은 제 2 UV 흡수 화합물과 함께 다이벤조일메테인 자외선 흡수 화합물을 사용하면, UV 스펙트럼 영역과 가시광선 스펙트럼 영역 사이에서 흡수율의 날카로운 컷 오프(cut off)를 제공하는 동시에 더 많은 UV 스펙트럼을 가로질러 증가된 보호력을 제공하는 관점에서 특히 바람직한 것으로 밝혀졌다. 사용될 수 있는 추가의 가능한 UV 흡수제는 4-3급-뷰틸페닐살리실레이트 같은 살리실레이트 화합물 및 [2,2'-티오비스-(4-3급-옥틸페놀레이트)]n-뷰틸아민 니켈(II)을 포함한다. 가장 바람직한 것은 다이벤조일메테인 화합물과 하이드록시페닐-s-트라이아진 또는 하이드록시페닐벤조트라이아졸 화합물의 조합이다.
사용될 수 있는 다이벤조일메테인 화합물은 하기 화학식 IV의 화합물을 포함한다:
Figure 112007024677311-PCT00002
상기 식에서, R1 내지 R5는 각각 독립적으로 수소, 할로겐, 나이트로 또는 하이드록실, 또는 추가의 치환되거나 치환되지 않은 알킬, 알켄일, 아릴, 알콕시, 아실록시, 에스터, 카복실, 알킬 티오, 아릴 티오, 알킬 아민, 아릴 아민, 알킬 나이트릴, 아릴 나이트릴, 아릴설폰일 또는 5 내지 6원 헤테로환 고리 기이다.
바람직하게는, 이들 기 각각은 20개 이하의 탄소 원자를 포함한다. 더욱 바람직하게는, 화학식 IV의 R1 내지 R5는 하기 화학식 IVA에 따라 위치된다:
Figure 112007024677311-PCT00003
R1 및 R5가 1 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 알킬 또는 알콕시기를 나타내고 R2 내지 R4가 수소 원자를 나타내는 화학식 IVA의 화합물이 특히 바람직하다.
본 발명의 요소에 따라 사용될 수 있는 화학식 IV의 대표적인 화합물은 (IV-1): 4-(1,1-다이메틸에틸)-4'-메톡시다이벤조일메테인[파솔(PARSOL; 등록상표) 1789], (IV-2): 4-아이소프로필 다이벤조일메테인[유솔렉스(EUSOLEX; 등록상표) 8020], (IV-3): 다이벤조일메테인[로디아스타브(RHODIASTAB; 등록상표) 83]을 포함한다.
본 발명의 요소에 사용될 수 있는 하이드록시페닐-s-트라이아진 화합물은 예를 들어 미국 특허 제 4,619,956 호에 기재되어 있는 트리스-아릴-s-트라이아진 화합물의 유도체일 수 있다. 이러한 화합물은 하기 화학식 V로 표시될 수 있다:
Figure 112007024677311-PCT00004
상기 식에서,
X, Y 및 Z는 각각 6-원 고리 3개 미만의 방향족 탄소환상 라디칼이고, X, Y 및 Z중 적어도 하나는 트라이아진 고리로의 부착 지점에 대해 오르토인 하이드록시기에 의해 치환되며;
R1 내지 R9는 수소, 하이드록시, 알킬, 알콕시, 설폰, 카복시, 할로, 할로알킬 및 아실아미노로 이루어진 군으로부터 선택된다.
특히 바람직한 것은 하기 화학식 VA의 하이드록시페닐-s-트라이아진이다:
Figure 112007024677311-PCT00005
상기 식에서, R은 수소, 또는 1 내지 18개의 탄소 원자를 갖는 알킬이다.
본 발명의 요소에 사용될 수 있는 하이드록시페닐벤조트라이아졸 화합물은 예를 들어 하기 화학식 VI으로 표시되는 화합물의 유도체일 수 있다:
Figure 112007024677311-PCT00006
상기 식에서, R1 내지 R5는 독립적으로 수소, 할로겐, 나이트로, 하이드록시, 또는 추가의 치환되거나 치환되지 않은 알킬, 알켄일, 아릴, 알콕시, 아실옥시, 아릴옥시, 알킬티오, 모노 또는 다이알킬 아미노, 아실 아미노 또는 헤테로환상 기일 수 있다.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 벤조트라이아졸 화합물의 구체적인 예는 2-(2'-하 이드록시-3'-3급-뷰틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트라이아졸; 2-(2'-하이드록시-3',5'-다이-3급-아밀페닐)벤조트라이아졸; 옥틸 5-3급-뷰틸-3-(5-클로로-2H-벤조트라이아졸-2-일)-4-하이드록시벤젠프로피온에이트; 2-(하이드록시-5-3급-옥틸페닐)벤조트라이아졸; 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트라이아졸; 2-(2'-하이드록시-3'-도데실-5'-메틸페닐)벤조트라이아졸; 및 2-(2'-하이드록시-3',5'-다이-3급-뷰틸페닐)-5-클로로벤조트라이아졸을 포함한다.
본 발명의 요소에 사용될 수 있는 폼아미딘 화합물은 예를 들어 미국 특허 제 4,839,405 호에 기재되어 있는 폼아미딘 화합물일 수 있다. 이들 화합물은 하기 화학식 VII 또는 VIII로 표시될 수 있다:
Figure 112007024677311-PCT00007
Figure 112007024677311-PCT00008
상기 식에서,
R1은 1 내지 약 5개의 탄소 원자를 함유하는 알킬기이고;
Y는 H, OH, Cl 또는 알콕시기이고;
R2는 페닐기, 또는 1 내지 약 9개의 탄소 원자를 함유하는 알킬기이며;
X는 H, 카보알콕시, 알콕시, 알킬, 다이알킬아미노 및 할로겐으로 이루어진 군으로부터 선택되며;
Z는 H, 알콕시 및 할로겐으로 이루어진 군으로부터 선택되고;
A는 --COOR, --COOH, --CONR'R", --NR'COR, --CN 또는 페닐기이고;
R은 1 내지 약 8개의 탄소 원자를 갖는 알킬기이고;
R' 및 R"은 각각 독립적으로 수소, 또는 1 내지 약 4개의 탄소 원자를 갖는 저급 알킬기이다.
본 발명에 따라 사용될 수 있는 폼아미딘 화합물의 구체적인 예는 미국 특허 제 4,839,405 호에 기재된 것, 특히 4-[[(메틸페닐아미노)메틸렌]아미노]-에틸 에스터를 포함한다.
본 발명의 요소에 사용될 수 있는 벤조페논 화합물은 예를 들어 2,2'-다이하이드록시-4,4'-다이메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논 및 2-하이드록시-4-n-도데실옥시벤조페논을 포함할 수 있다.
코팅 유체는 또한 코팅 보조제로서 계면활성제를 함유하여 코팅 후 유동에 관련된 인공물을 조절할 수 있다. 코팅 후 유동에 의해 발생되는 인공물은 얼룩, 반발, 오렌지-필(orange-peel)(버나드 셀) 및 가장자리-움츠림(edge-withdraw)을 포함한다. 유기 용매에 용해되는 중합체 수지의 경우, 코팅 후 유동 인공물을 조절하는데 사용되는 계면활성제는 실록세인 및 플루오로 화합물을 포함하다. 실록세인 유형의 시판중인 계면활성제의 예는 하기 화합물을 포함한다: 1) 다우 코닝(Dow Corning) 제품인 DC200 플루이드(Fluid) 같은 폴리다이메틸실록세인, 2) 다 우 코닝 제품인 DC510 플루이드 같은 폴리(다이메틸, 메틸페닐)실록세인, 3) 다우 코닝 제품인 DC190 및 DC1248, 및 유니온 카바이드(Union Carbide) 제품인 L7000 실웨트(Silwet) 씨리즈(L7000, L7001, L7004 및 L7230) 같은 폴리알킬 치환된 폴리다이메틸실록세인, 및 4) 제네랄 일렉트릭(General Electric) 제품인 SF1023 같은 폴리알킬 치환된 폴리(다이메틸, 메틸페닐)실록세인. 시판중인 플루오로 화합물 계면활성제의 예는 하기 화합물을 포함한다: 1) 3엠 코포레이션(3M Corporation) 제품인 플루오라드(Fluorad) 씨리즈(FC430 및 FC431) 같은 플루오르화된 알킬 에스터, 2) 듀퐁(Du Pont) 제품인 조닐(Zonyl) 씨리즈(FSN, FSN100, FSO, FSO100) 같은 플루오르화된 폴리옥시에틸렌 에터, 3) NOF 코포레이션(NOF Corporation) 제품인 F 씨리즈(F270 및 F600) 같은 아크릴레이트 폴리퍼플루오로알킬 에틸아크릴레이트, 및 4) 아사히 글래스 캄파니(Asahi Glass Company) 제품인 서플론(Surflon) 씨리즈(S383, S393 및 S8405) 같은 퍼플루오로알킬 유도체.
수성 용매에 용해되는 중합체 수지의 경우, 적절한 계면활성제는 다수의 문헌에 기재된 바와 같은 수성 코팅에 적합한 것을 포함한다[예를 들어, Surfactants: Static and dynamic surface tension by YM Tricot in Liquid Film Coating, pp 99-136, 키스틀러 및 슈바이처 편집, Chapman and Hall (1997) 참조]. 계면활성제는 비이온성, 음이온성, 양이온성 및 양쪽성 유형을 포함할 수 있다. 실제 계면활성제의 예는 폴리옥시에틸렌 (8) 아이소옥틸페닐 에터, 폴리옥시에틸렌 (10) 아이소옥틸페닐 에터 및 폴리옥시에틸렌 (40) 아이소옥틸페닐 에터 같은 폴리옥시에틸렌 에터; 및 듀퐁에서 시판중인 조닐 씨리즈 같은 플루오르화된 폴리옥시 에틸렌 에터를 포함한다.
본 발명의 방법에서는, 사용되는 계면활성제의 유형에 대해 특별히 제한하지 않는다. 본 발명의 방법에서, 계면활성제는 일반적으로 비이온성 유형이다. 본 발명의 바람직한 실시양태에서는, 유기 용매를 사용하여 필름을 제조하는 경우 실록세인 또는 플루오르화 유형의 비이온성 화합물을 최상층에 첨가한다.
계면활성제 분포와 관련하여, 계면활성제는 다층 코팅의 최상층에 존재할 때 가장 효과적이다. 최상층에서, 계면활성제의 농도는 바람직하게는 0.001 내지 1.000중량%, 가장 바람직하게는 0.010 내지 0.500%이다. 또한, 더욱 적은 양의 계면활성제를 두번째 최상층에 사용하여 계면활성제가 최상층으로부터 멀리 확산되는 것을 최소화할 수 있다. 두번째 최상층중 계면활성제의 농도는 바람직하게는 0.000 내지 0.200중량%, 가장 바람직하게는 0.000 내지 0.100중량%이다. 계면활성제가 최상층에만 필요하기 때문에, 최종 건조된 필름에 잔류하는 계면활성제의 총량은 적다.
계면활성제가 본 발명의 방법을 실행하는데 필요한 것은 아니지만, 계면활성제는 코팅된 필름의 균일성을 개선시킨다. 실제로, 계면활성제를 사용함으로써 얼룩 불균일이 감소된다. 투명한 수지 필름에 있어서, 얼룩 불균일은 가벼운 검사 동안 용이하게 눈에 보이지 않는다. 얼룩 인공물을 가시화시키기 위하여, 유기 염료를 최상층에 첨가하여 코팅된 필름에 색상을 부가할 수 있다. 이들 염색된 필름에 있어서는, 불균일을 용이하게 관찰하고 정량한다. 이러한 방식으로, 최적 필름 균일성에 효과적인 계면활성제 유형 및 수준을 선택할 수 있다.
다음으로 도 4 내지 도 7을 보면, 본 발명의 방법에 의해 제조된 다양한 필름 구성을 도시하는 단면도가 도시되어 있다. 도 4에는, 35erg/cm2 미만의 표면 에너지를 갖도록 개질된 캐리어 기판(152)으로부터 부분적으로 박리된 단일층 광학 필름(150)이 도시되어 있다. 단일 액체 층을 캐리어 기판(152)에 도포함으로써, 또는 층 사이에서 실질적으로 동일한 조성을 갖는 다층 복합체를 도포함으로써, 광학 필름(150)을 제조할 수 있다. 다르게는, 도 5에서는, 기판의 표면 에너지를 35erg/cm2 미만으로 변화시키는 코팅된 표면 층(156)으로 캐리어 기판(154)을 전처리할 수 있다. 도 6은 35erg/cm2 미만의 표면 에너지를 갖도록 개질된 캐리어 기판(170)에 가장 근접한 최하층(162), 두 중간층(164, 166) 및 최상층(168)을 포함하는 4개의 조성 면에서 구별된 층으로 이루어진 다층 필름(160)을 도시한다. 도 6은 또한 전체 다층 복합체(160)를 캐리어 기판(170)으로부터 박리할 수 있음을 도시한다. 도 7은 캐리어 기판(182)에 가장 근접한 최하층(174), 두 중간 층(176, 178) 및 최상층(180)을 포함하는 다층 복합체 필름(172)(이는 캐리어 기판(182)으로부터 박리됨)을 도시한다. 캐리어 기판(182)을 코팅된 표면 층(184)으로 처리하여 기판(182)의 표면 에너지를 개질시켰다. 코팅된 표면 층(156, 184)은 35erg/cm2 미만의 표면 에너지를 제공하는 임의의 중합체 물질로 구성될 수 있다. 이들의 예시적인 예는 플루오르화 및 염소화 중합체 및 라텍스, 예를 들어 폴리(테트라플루오로에틸렌), 폴리(헥사플루오로프로필렌), 폴리(트라이플루오로에틸렌), 비닐리덴 플루오라이드 상호 공중합체(interpolymer), 비닐리덴 클로라이드 상호 공중합체 및 폴리(트라이플루오로클로로에틸에틸렌); 폴리스타이렌; 폴리올레핀, 예컨대 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌; 실리콘 중합체 등을 포함한다. 수성 또는 유기 용매 코팅 방법에 의해, 용융 압출 코팅 방법에 의해, 진공 코팅 방법에 의해, 또는 다른 널리 공지되어 있는 표면 코팅 방법에 의해 코팅된 표면 층을 도포할 수 있다. 코팅된 표면 층에 사용되는 물질의 선택은 목적하는 표면 에너지를 달성하기 위하여 당해 분야의 숙련자에 의해 실험적으로 최적화될 수 있다.
본 발명의 방법은 또한 미리 제조된 수지 필름 및 캐리어 기판의 복합체 위에 코팅하는 단계도 포함할 수 있다. 예를 들면, 도 1 및 도 2에 도시된 코팅 및 건조 시스템(10)을 사용하여 두번째 다층 필름을 기존 광학 필름/기판 복합체에 도포할 수 있다. 후속 코팅을 도포하기 전에 필름/기판 복합체를 권취하는 경우에는, 이 공정을 멀티-패스(multi-pass) 코팅 작업이라고 한다. 코팅 및 건조 작업을 여러 코팅 스테이션 및 건조 오븐을 갖는 기계 상에서 연속적으로 수행하는 경우에는, 이 공정을 직렬식 코팅 작업이라고 한다. 이러한 방식으로, 매우 두꺼운 습윤 필름으로부터 다량의 용매를 제거하는데 수반되는 문제점 없이 높은 라인 속도로 두꺼운 필름을 제조할 수 있다. 더욱이, 멀티-패스 또는 직렬식 코팅을 수행하면 진한 줄무늬, 진한 얼룩 및 전체 필름 불균일 같은 다른 인공물을 최소화하는 이점도 갖는다.
직렬식 코팅 또는 멀티-패스 코팅을 실행할 때에는, 1차-패스 필름과 캐리어 기판 사이에 최소한의 접착 수준이 요구된다. 몇몇 경우에는, 불량한 접착력을 갖 는 필름/기판 복합체가 멀티-패스 작업시 2차 또는 3차 습윤 코팅의 도포 후 부풀어오르는 것으로 관찰된다. 부풀음 결함을 피하기 위하여, 1차-패스 수지 필름과 캐리어 기판 사이에서 접착력은 0.3N/m보다 커야 한다. 이 접착력 수준은 다양한 보충 층 및 다양한 전기 방전 처리를 비롯한 다양한 웹 처리에 의해 수득될 수 있다. 그러나, 후속 박리 작업 동안 필름이 손상될 수 있기 때문에 도포된 필름과 기판 사이의 과도한 접착력은 바람직하지 못하다. 구체적으로, 250N/m보다 큰 접착력을 갖는 필름/기판 복합체는 불량하게 박리되는 것으로 밝혀졌다. 이러한 과도하게 잘 접착된 복합체로부터 박리된 필름은 필름의 인열 및/또는 필름 내에서의 점착 파괴로 인해 결함을 나타낸다. 본 발명의 바람직한 실시양태에서, 수지 필름과 캐리어 기판 사이의 접착력은 250N/m 미만이다. 가장 바람직하게는, 수지 필름과 캐리어 기판 사이의 접착력은 0.5 내지 25N/m이다.
폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN), 폴리스타이렌, 셀룰로즈 트라이아세테이트 및 다른 중합체 필름 같은 다양한 캐리어 필름에 수지 코팅을 도포하는데 본 발명의 방법이 적합하다. 중합체 기판은 연신되지 않거나 1축 연신되거나 2축 연신된 필름 또는 시트일 수 있다. 추가적인 기판은 종이, 종이와 중합체 필름의 적층체, 유리, 천, 알루미늄 및 다른 금속 지지체를 포함할 수 있다. 몇몇 경우, 기판은 보충 층 또는 전기 방전 장치로 전처리될 수 있다. 기판은 또한 다양한 결합제 및 첨가제를 함유하는 기능성 층으로 전처리될 수도 있다. 기판의 두께와 관련해서는 특별한 조건이 없다. 본원에서 제조되는 광학 수지 필름이 경우, 기판은 100 또는 175㎛의 두께를 갖는 PET이다. 5 내지 500 ㎛의 두께를 갖는 기판을 사용하여 본 발명의 방법을 실행할 수 있다.
종래 기술의 수지 필름 캐스팅 방법이 도 8에 도시되어 있다. 도 8에 도시된 바와 같이, 펌프(206)에 의해 가압된 탱크(204)로부터 공급 라인(200)을 통해 압출 호퍼(202)로 점성 중합체 도핑제를 전달한다. 도핑제를 건조 오븐(212)의 제 1 건조 구역(210) 내에 위치하는 고도로 연마된 금속 드럼(208) 상으로 캐스팅시킨다. 캐스트 필름(214)을 이동하는 드럼(208) 상에서 부분적으로 건조시킨 다음 드럼(208)으로부터 박리시킨다. 이어, 캐스트 필름(214)을 최종 건조 구역(216)으로 운송하여 잔류 용매를 제거한다. 최종 건조된 필름(218)을 권취 스테이션(220)에서 롤로 권취한다. 종래 기술의 캐스트 필름은 전형적으로 40 내지 200㎛의 두께를 갖는다.
코팅 방법은 각 기법에 필요한 공정 단계에 의해 캐스팅 방법과 구분된다. 이들 공정 단계는 다시 유체 점도, 전환 보조제, 기판 및 각 방법에 독특한 하드웨어 같은 다수의 유형자산에 영향을 끼친다. 일반적으로, 코팅 방법은 묽은 저점도 액체를 얇은 가요성 기판에 도포하고, 건조 오븐에서 용매를 증발시키고, 건조된 필름/기판 복합체를 롤로 권취함을 포함한다. 대조적으로, 캐스팅 방법은 농축된 점성 도핑제를 고도로 연마된 금속 드럼 또는 밴드에 도포하고, 금속 기판 상의 습윤 필름을 부분적으로 건조시키고, 부분 건조된 필름을 기판으로부터 스트립핑시키고, 건조 오븐에서 부분 건조된 필름으로부터 추가의 용매를 제거하고, 건조된 필름을 롤로 권취함을 포함한다. 점도 면에서, 코팅 방법은 5,000cp 미만의 매우 낮은 점도의 액체를 요구한다. 본 발명의 방법을 실행함에 있어서, 코팅되는 액체의 점도는 일반적으로 2000cp 미만, 가장 흔히는 1500cp 미만이다. 뿐만 아니라, 본 발명의 방법에서 최하층의 점도는 고속 코팅 도포의 경우 200cp 미만, 가장 바람직하게는 100cp 미만인 것이 바람직하다. 대조적으로, 캐스팅 방법은 실제 작업 속도에 있어서 10,000 내지 100,000cp의 점도를 갖는 매우 농축된 도핑제를 필요로 한다. 전환 보조제의 면에서, 코팅 방법은 일반적으로 전환 보조제로서 계면활성제를 사용하여 코팅 후 유동 인공물(예컨대, 얼룩, 반발, 오렌지 필 및 가장자리 움츠림)을 조절함을 포함한다. 대조적으로, 캐스팅 방법을 계면활성제를 필요로 하지 않는다. 대신, 캐스팅 방법에서의 스트립핑 및 운송 작업을 보조하기 위해서만 전환 보조제를 사용한다. 예를 들어, 종종 저급 알콜을 전환 보조제로서 캐스트 광학 필름에 사용하여 건조 오븐을 통한 운송 동안 마모 인공물을 최소화시킨다. 기판의 면에서, 코팅 방법은 일반적으로 얇은(10 내지 250마이크론) 가요성 지지체를 사용한다. 대조적으로, 캐스팅 방법은 두껍고(1 내지 100mm) 연속적이며 고도로 연마된 금속 드럼 또는 경질 밴드를 사용한다. 공정 단계에서의 이러한 차이의 결과, 각각 도 1 및 도 7에 도시된 개략도를 비교함으로써 알 수 있는 바와 같이 코팅에 사용되는 하드웨어가 캐스팅에 사용되는 것과 현저히 상이하다.
도 9는 메틸렌 클로라이드 용액으로부터 상이한 표면 에너지를 갖는 다양한 기판 상으로 캐스팅된 폴리카본에이트 수지 필름의 필름 두께에 대한 평면외 지연의 의존성을 도시한다. 이들 폴리카본에이트 필름의 평면내 지연은 모두 본질적으로 0이었다. 지연 및 표면 에너지는 아래 개괄적으로 나타낸 바와 같이 결정하였다.
지연. 370 내지 1000nm의 파장에서 월람(Woollam) M-2000V 분광분석 엘립소미터를 이용하여 수지 필름의 지연(nm)을 결정하였다. 평면내 지연 및 평면외 지연은 하기 수학식에 의해 정의된다:
Re = │nx -ny│× d
ROOP = │[0.5(nx + ny) - nz]│×d
상기 식에서,
Re는 590nm에서의 평면내 지연이고,
ROOP(또는 OPR)는 590nm에서의 평면외 지연이고,
nx는 기계방향에 따른 박리된 필름의 굴절률이고,
ny는 횡방향에 따른 박리된 필름의 굴절률이며,
nz는 그의 평면에 평행한 필름의 굴절률이고,
d는 박리된 필름의 두께(nm)이다.
그러므로, Re는 박리된 필름의 기계방향에서의 굴절률과 횡방향에서의 굴절률의 차이에 필름의 두께를 곱한 절대값이다. ROOP는 유사하게 기계방향에서의 굴절률과 횡방향에서의 굴절률의 평균과 필름 평면에 평행한 굴절률의 차이에 필름의 두께를 곱한 절대값이다.
표면 에너지. 고체 표면의 표면 에너지는 기리팔코-굿-폭스(Girifalco- Good-Fowkes) 방정식을 이용하여 결정한다. 이 방정식은 고체 표면과 액체 방울 사이의 접촉각의 측정치, 및 액체의 표면 장력, 분산력 및 극성 힘을 필요로 한다. 본 발명의 측정치는 증류수(극성 액체) 및 메틸렌 아이오다이드(비극성 액체)를 사용하여 수득하였다. 두 액체의 표면 장력, 분산력 및 극성 힘은 아래 표에 기재된다.
Figure 112007024677311-PCT00009
백색광원을 갖는 레임-하트 측각기(Rame-Hart Goniometer)를 사용하여 실온(20℃)에서 투명한 표면 상에서 접촉각 측정을 수행하였다. 아세톤, 아이소프로판올 및 증류수로 반복해서 세정함으로써 표면을 세척하였다. 깨끗한 표면에 증류수 또는 메틸렌 아이오다이드 방울을 떨어뜨리고, 각 액체에 대해 2 내지 3방울씩 방울의 각 면에서 접촉각을 측정하였다.
본 발명에 따라, 낮은 표면 에너지를 갖는 캐리어 기판, 100nm 미만의 평면외 지연 및 20nm 미만의 평면내 지연을 갖는 광학 수지 필름 및 상기 광학 수지 필름에 도포된 하나 이상의 보조 층을 포함하는 복합체 요소를 제조할 수 있다. 하나 이상의 보조 층은 광학 수지 필름과 동시에 도포될 수 있거나, 또는 이들은 별도의 코팅 작업으로 도포될 수 있다. 본 발명에 사용하기 적합한 보조 층은 PVA 접착-촉진 층, 내마모성 경질코팅 층, 번쩍임 방지 층, 오염 방지 층 또는 얼룩 방지 층, 반사 방지 층, 저반사 층, 대전 방지 층, 시야각 보상 층 및 수분 차단 층 을 포함한다. 임의적으로는, 본 발명의 복합체 요소는 또한 캐리어 기판 반대쪽 복합체 요소 면 상에 스트립핑가능한 보호 층도 포함할 수 있다.
본 발명에 사용하기 특히 효과적인 내마모성 층은 선(radiation) 또는 열 경화되는 조성물을 포함하고, 바람직하게는 이 조성물은 선 경화된다. 자외선(UV) 및 전자 빔 선이 가장 통상적으로 사용되는 선 경화 방법이다. UV 경화성 조성물은 본 발명의 내마모성 층을 생성시키는데 특히 유용하며, 2개의 주요 경화 유형(즉, 자유 라디칼 및 양이온성)을 이용하여 경화될 수 있다. 아크릴레이트 단량체(반응성 희석제) 및 올리고머(반응성 수지 및 래커)가 자유 라디칼계 제제의 주성분이며, 경화된 코팅에 그의 물리적 특징의 대부분을 부여한다. UV 광 에너지를 흡수하고 분해시켜 자유 라디칼을 생성시키고 아크릴레이트기 C=C 이중결합을 공격하여 중합을 개시시키기 위하여, 광-개시제가 필요하다. 양이온성 경화에서는 주성분으로서 지환족 에폭시 수지 및 비닐 에터 단량체를 사용한다. 광-개시제는 UV 광을 흡수하여 루이스산을 생성시키고, 이 루이스산이 에폭시 고리를 공격하여 중합을 개시시킨다. UV 경화란 자외선 경화를 의미하고, 280 내지 420nm, 바람직하게는 320 내지 410nm의 파장을 갖는 UV 선을 사용함을 포함한다.
본 발명에 유용한 마모 층에 사용가능한 UV 선 경화성 수지 및 래커의 예는다작용성 화합물(예: 다가 알콜) 및 (메트)아크릴레이트 작용기를 갖는 이들의 유도체[예: 에톡실화 트라이메틸올프로페인 트라이(메트)아크릴레이트, 트라이프로필렌 글라이콜 다이(메트)아크릴레이트, 트라이메틸올프로페인 트라이(메트)아크릴레이트, 다이에틸렌 글라이콜 다이(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트) 아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트라이(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 1,6-헥세인다이올 다이(메트)아크릴레이트 또는 네오펜틸 글라이콜 다이(메트)아크릴레이트 및 이들의 혼합물]의 아크릴레이트 및 메타크릴레이트 올리고머(본원에서 사용되는 용어 "(메트)아크릴레이트"는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트를 말함) 같은, 광중합성 단량체 및 올리고머로부터 유도되는 것; 및 저분자량 폴리에스터 수지, 폴리에터 수지, 에폭시 수지, 폴리우레탄 수지, 알키드 수지, 스피로아세탈 수지, 에폭시 아크릴레이트, 폴리뷰타다이엔 수지 및 폴리티올-폴리엔 수지 등 및 이들의 혼합물로부터 유도되는 아크릴레이트 및 메타크릴레이트 올리고머; 및 비교적 다량의 반응성 희석제를 함유하는 이온화 선-경화성 수지이다. 본원에 사용가능한 반응성 희석제는 에틸 (메트)아크릴레이트, 에틸헥실 (메트)아크릴레이트, 스타이렌, 비닐톨루엔 및 N-비닐피롤리돈 같은 일작용성 단량체, 및 다작용성 단량체, 예컨대 트라이메틸올프로페인 트라이(메트)아크릴레이트, 헥세인다이올 (메트)아크릴레이트, 트라이프로필렌 글라이콜 다이(메트)아크릴레이트, 다이에틸렌 글라이콜 다이(메트)아크릴레이트, 펜타에리틀리톨 트라이(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 1,6-헥세인다이올 다이(메트)아크릴레이트 또는 네오펜틸 글라이콜 다이(메트)아크릴레이트를 포함한다.
본 발명을 실행하는데 편리하게 사용되는 UV 선 경화성 수지의 예는 사토머 캄파니(Sartomer Company) 제품인 CN 968(등록상표)이다. 본 발명의 내마모성 층은 전형적으로 2H 이상, 바람직하게는 2H 내지 8H의 연필 경도(연필 시험 ASTM D 3363에 의한, 경도에 대한 표준 시험 방법을 이용함)를 갖는 층을 제공한다.
본 발명의 복합체 요소는 번쩍임 방지 층, 저반사 층 또는 반사 방지 층을 함유할 수 있다. 특히 밝은 주위 광에서 볼 때 디스플레이의 시야 특징을 개선시키기 위하여 이들 층을 LCD에 사용한다.
번쩍임 방지 코팅은 거울 반사를 감소시키는데 사용되는 거칠어진 또는 텍스쳐화된 표면을 제공한다. 모든 원치 않는 반사광이 여전히 존재하지만, 이는 거울 반사되기 보다는 산란된다. 본 발명에서, 번쩍임 방지 코팅은 바람직하게는 유기 또는 무기 (무광택화) 입자를 첨가하거나 또는 표면을 엠보싱시킴으로써 수득되는 텍스쳐화된 또는 거칠어진 표면을 갖는 선 경화되는 조성물을 포함한다. 내마모성 층에 대해 상기 기재된 선 경화되는 조성물을 또한 번쩍임 방지 층에도 효과적으로 사용한다. 선 경화되는 조성물에 무광택화 입자를 첨가함으로써 표면 조도를 바람직하게 수득한다. 적합한 입자는 금속의 산화물, 질화물, 황화물 또는 할로겐화물을 갖는 무기 화합물을 포함하며, 금속 산화물이 특히 바람직하다. 금속 원자로서, Na, K, Mg, Ca, Ba, Al, Zn, Fe, Cu, Ti, Sn, In, W, Y, Sb, Mn, Ga, V, Nb, Ta, Ag, Si, B, Bi, Mo, Ce, Cd, Be, Pb 및 Ni가 적합하고, Mg, Ca, B 및 Si가 더욱 바람직하다. 두 유형의 금속을 함유하는 무기 화합물도 사용할 수 있다. 특히 바람직한 무기 화합물은 이산화규소, 즉 실리카이다.
본 발명의 번쩍임 방지 층에 사용하기 적합한 추가의 입자는 2003년 10월 21일자로 출원되어 통상적으로 양도된 미국 특허원 제 10/690,123 호에 기재되어 있는 층상 점토를 포함한다. 가장 적합한 층상 입자는 높은 종횡비를 갖는 판 형상 의 물질을 포함하며, 이 때 상기 비는 비대칭 입자의 긴 방향 대 짧은 방향의 비이다. 바람직한 층상 입자는 천연 점토, 특히 몬모릴로나이트, 논트로나이트, 베이델라이트, 볼콘스코이트, 헥토라이트, 사포나이트, 소코나이트, 소보카이트, 스티븐사이트, 스빈포다이트, 할로이사이트, 마가다이트, 케냐이트 및 베어미쿨라이트 같은 천연 스멕타이트 점토, 및 층상 이중 수산화물 또는 하이드로탈사이트이다. 가장 바람직한 점토 물질은 시중 구입성 때문에 천연 몬모릴로나이트, 헥토라이트 및 하이드로탈사이트를 포함한다.
본 발명의 번쩍임 방지 층에 사용하기 위한 추가의 입자는 당해 분야에 널리 공지되어 있는 중합체 무광택 입자 또는 비이드를 포함한다. 중합체 입자는 속이 꽉 차거나 다공성일 수 있으며, 바람직하게는 이들은 가교결합된 중합체 입자이다. 번쩍임 방지 층에 사용하기 위한 다공성 중합체 입자는 2003년 11월 18일자로 출원되어 통상적으로 양도된 미국 특허원 제 10/715,706 호에 기재되어 있다.
번쩍임 방지 층에 사용하기 위한 입자는 2 내지 20㎛, 바람직하게는 2 내지 15㎛, 가장 바람직하게는 4 내지 10㎛의 평균 입자 크기를 갖는다. 이들은 2중량% 이상 50중량% 미만, 전형적으로는 약 2 내지 40중량%, 바람직하게는 2 내지 20%, 가장 바람직하게는 2 내지 10%의 양으로 층에 존재한다.
번쩍임 방지 층의 두께는 일반적으로 약 0.5 내지 50㎛, 바람직하게는 1 내지 20㎛, 더욱 바람직하게는 2 내지 10㎛이다.
바람직하게는, 본 발명에 사용되는 번쩍임 방지 층은 100 미만, 바람직하게는 90 미만의 ASTM D523에 따른 60° 광택 값, 및 50% 미만, 바람직하게는 30% 미 만의 ASTM D-1003 및 JIS K-7105 방법에 따른 투과 헤이즈 값을 갖는다.
본 발명의 다른 실시양태에서는, 내마모성 경질 코팅 층 또는 번쩍임 방지 층과 함께 저반사 층 또는 반사 방지 층을 사용한다. 내마모성 층 또는 번쩍임 방지 층의 상부에 저반사 또는 반사 방지 층을 도포한다. 전형적으로, 저반사 층은 2% 미만의 평균 거울 반사율(분광광도계에 의해 측정하고 450 내지 650nm의 파장에 걸쳐 평균을 구함)을 제공한다. 반사 방지 층은 1% 미만의 평균 거울 반사율 값을 제공한다.
본 발명에 사용하기 적합한 저반사 층은 1.48 미만, 바람직하게는 약 1.35 내지 1.40의 굴절률을 갖는 플루오르-함유 단독중합체 또는 공중합체를 포함한다. 적합한 플루오르-함유 단독중합체 및 공중합체는 플루오로-올레핀(예컨대, 플루오로에틸렌, 비닐리덴 플루오라이드, 테트라플루오로에틸렌, 헥사플루오로에틸렌, 헥사플루오로프로필렌, 퍼플루오로-2,2-다이메틸-1,3-다이옥솔), (메트)아크릴산의 부분적으로 또는 완전히 플루오르화된 알킬 에스터 유도체, 및 완전히 또는 부분적으로 플루오르화된 비닐 에터 등을 포함한다. 코팅 내에 간극 공기 공극을 유도하는 마이크론 미만의 크기의 무기 입자 또는 중합체 입자를 혼입시킴으로써, 층의 효율을 개선시킬 수 있다. 이 기법은 미국 특허 제 6,210,858 호 및 제 5,919,555 호에 추가로 기재되어 있다. 2003년 11월 18일자로 출원되어 통상적으로 양도된 미국 특허원 제 10/715,655 호에 기재되어 있는 바와 같이, 감소된 코팅 헤이즈 조건을 갖는 마이크론 미만의 크기의 중합체 입자의 내부 입자 공간에 공기 공극을 제한함으로써 저반사 층의 효율을 추가로 개선시킬 수 있다.
저반사 층의 두께는 0.01 내지 1㎛, 바람직하게는 0.05 내지 0.2㎛이다.
반사 방지 층은 단일층 또는 다층을 포함할 수 있다. 단일층을 포함하는 반사 방지 층은 전형적으로 단일 파장에서(450 내지 650nm의 보다 넓은 범위 내에서)만 1% 미만의 반사율 값을 제공한다. 본 발명에 사용하기 적합한 통상적으로 사용되는 단일층 반사 방지 코팅은 플루오르화마그네슘(MgF2) 같은 금속 플루오르화물의 층을 포함한다. 널리 공지되어 있는 진공 침착 기법에 의해 또는 졸-겔 기법에 의해 층을 도포할 수 있다. 전형적으로, 이들 층은 최소 반사율이 요구되는 파장에서 약 1/4-파장의 광학 두께(즉, 층의 반사율과 층 두께의 곱)를 갖는다.
단일층이 매우 좁은 파장 범위 내에서 광의 반사율을 효과적으로 감소시킬 수 있기는 하지만, 더욱 흔히는 서로 중첩된 수개의 (전형적으로는 금속 산화물계) 투명 층을 포함하는 다층을 사용하여 넓은 파장 영역에 걸쳐 반사율을 감소시킨다(즉, 광대역 반사 조절). 이러한 구조체에서는, 1/2 파장 층을 1/4 파장 층과 교대시켜 성능을 개선시킨다. 다층 반사 방지 코팅은 2, 3, 4개 또는 그 이상의 층을 포함할 수 있다. 이 다층의 제조에는 전형적으로 층의 수(각 층은 소정의 굴절률 및 두께를 가짐)에 상응하는 다수의 증기 침착 절차 또는 졸-겔 코팅을 포함하는 복잡한 공정이 필요하다. 이들 간섭 층의 경우에는 각 층의 두께를 정밀하게 조절할 필요가 있다. 본 발명에 사용하기 적합한 다층 반사 방지 코팅의 디자인은 특허 분야 및 기술 문헌에 널리 공지되어 있고, 다양한 교재, 예컨대 맥클레오드(H. A. Macleod)의 문헌["Thin Film Optical Filters", Adam Hilger, Ltd., 브리 스톨 1985] 및 랜코트(James D. Rancourt)의 문헌["Optical Thin Films User's Handbook", Macmillan Publishing Company, 1987]에 기재되어 있다.
본 발명의 복합체 요소는 낮은 수분 투과율을 갖는 비닐리덴 클로라이드 중합체, 비닐리덴 플루오라이드 중합체, 폴리우레탄, 폴리올레핀, 플루오르화 폴리올레핀, 폴리카본에이트 등과 같은 소수성 중합체를 포함하는 수분 차단 층을 함유할 수 있다. 바람직하게는, 소수성 중합체는 비닐리덴 클로라이드를 포함한다. 더욱 바람직하게는, 소수성 중합체는 70 내지 99중량%의 비닐리덴 클로라이드를 포함한다. 유기 용매계 또는 수성 코팅 제제를 도포함으로써 수분 차단 층을 적용할 수 있다. 효과적인 수분 차단 특성을 제공하기 위하여, 층은 두께가 1㎛ 이상, 바람직하게는 1 내지 10㎛, 가장 바람직하게는 2 내지 8㎛이어야 한다. 수분 차단 층은 1000g/m2/일 미만, 바람직하게는 800g/m2/일 미만, 가장 바람직하게는 500g/m2/일 미만의 ASTM F-1249에 따른 수증기 투과 속도(MVTR)를 갖는다. 본 발명의 광학 수지 필름 상에 이러한 차단 층을 사용하면, 습도 변화에 대한 광학 필름의 저항성이 개선된다.
본 발명의 복합체 요소는 복합체 요소 및 광학 필름의 제조 및 사용동안 발생될 수 있는 정전기 하전을 조절하는데 도움이 되는 투명한 대전 방지 층을 함유할 수 있다. 본 발명의 복합체 요소는 캐리어 기판으로부터 광학 수지 필름을 박리하는 동안 마찰전기로 하전되기가 특히 쉬울 수 있다. 수지 필름과 기판의 분리로부터 야기되는 소위 "분리 전하"는 약 1×1011Ω/스퀘어 미만, 바람직하게는 1× 1010Ω/스퀘어 미만, 가장 바람직하게는 1×109Ω/스퀘어 미만의 비저항을 갖는 대전 방지 층에 의해 효과적으로 조절될 수 있다.
대전 방지 층에 사용되는 전도성 물질은 이온-전도성 또는 전자-전도성일 수 있다. 이온-전도성 물질은 간단한 무기 염, 계면활성제의 알칼리금속 염, 알칼리금속 염을 함유하는 중합체 전해질 및 콜로이드성 금속 산화물 졸(금속 염에 의해 안정화됨)을 포함한다. 이들 중에서, 미국 특허 제 4,070,189 호의 스타이렌 설폰산 공중합체의 음이온성 알칼리금속 염 및 양이온성 4급 암모늄 중합체 같은 이온-전도성 중합체, 및 실리카, 산화주석, 티타니아, 산화안티몬, 산화지르코늄, 알루미나-코팅된 실리카, 알루미나, 뵈마이트 및 스멕타이트 점토를 포함하는 이온-전도성 콜로이드성 금속 산화물 졸이 바람직하다.
본 발명에 사용되는 대전 방지 층은 바람직하게는 습도 및 온도에 독립적인 전도율 때문에 전자-전도성 물질을 함유한다. 적합한 물질은 다음을 포함한다:
1) 공여체-도핑된 금속 산화물, 산소 결핍을 함유하는 금속 산화물, 및 전도성 질화물, 탄화물 및 브롬화물을 포함하는 전자-전도성 금속-함유 입자. 특히 유용한 입자의 구체적인 예는 전도성 SnO2, In2O, ZnSb2O6, InSbO4, TiB2, ZrB2, NbB2, TaB2, CrB, MoB, WB, LaB6, ZrN, TiN, WC, HfC, HfN 및 ZrC를 포함한다. 이들 전자 전도성 입자를 기재하는 특허의 예는 미국 특허 제 4,275,103 호; 제 4,394,441 호; 제 4,416,963 호; 제 4,418,141 호; 제 4,431,764 호; 제 4,495,276 호; 제 4,571,361 호; 제 4,999,276 호; 제 5,122,445 호; 및 제 5,368,995 호를 포함한다.
2) 예를 들어 미국 특허 제 4,845,369 호 및 제 5,166,666 호에 기재된 바와 같은 비-전도성 티탄산칼륨 휘스커 상에 코팅된 안티몬-도핑된 산화주석, 미국 특허 제 5,719,016 호 및 제 5,0731,119 호에 기재된 바와 같은 안티몬-도핑된 산화주석 섬유 또는 휘스커, 및 미국 특허 제 4,203,769 호에 기재되어 있는 은-도핑된 오산화바나듐 섬유를 포함하는 섬유상 전자 전도성 입자.
3) 전자-전도성 폴리아세틸렌, 폴리티오펜 및 폴리피롤, 바람직하게는 미국 특허 제 5,370,981 호에 기재되어 있고 바이엘 코포레이션(Bayer Corp.)에서 바이트론(Baytron; 등록상표) P로 시판중인 폴리에틸렌 다이옥시티오펜.
본 발명의 대전 방지 층에 사용되는 전도성 시약의 양은 사용되는 전도성 시약에 따라 광범위하게 달라질 수 있다. 예를 들어, 유용한 양은 약 0.5 내지 약 1000mg/m2, 바람직하게는 약 1 내지 약 500mg/m2이다. 대전 방지 층은 높은 투명성을 보장하기 위하여 0.05 내지 5㎛, 바람직하게는 0.1 내지 0.5㎛의 두께를 갖는다.
콘트라스트, 색상 재생 및 안정한 회색 스케일 강도는 액정 기법을 이용하는 전자 디스플레이에 중요한 품질 속성이다. 액정 디스플레이의 콘트라스트를 제한하는 주요 인자는 어두운 또는 "흑색" 화소 상태인 액정 소자 또는 셀을 통해 광이 "누출"되는 경향이다. 뿐만 아니라, 액정 디스플레이의 누출, 따라서 콘트라스트는 또한 디스플레이 스크린이 관찰되는 방향에 따라 달라진다. 전형적으로, 최적 콘트라스트는 디스플레이로의 대략 수직 입사에 중심을 둔 좁은 시야각 범위 내에 서만 관찰되고, 관찰 방향이 디스플레이 수직으로부터 벗어남에 따라 급격히 떨어진다. 컬러 디스플레이에서는, 누출 문제가 콘트라스트를 열화시킬 뿐만 아니라 색상 재생의 열화를 수반하는 색상 또는 색조 변화도 야기한다.
그러므로, LCD의 품질을 측정하는 주요 인자중 하나는 상이한 시야각으로부터의 콘트라스트 비의 변화를 기재하는 시야각 특징이다. 광범위하게 변하는 시야각으로부터 동일한 상을 볼 수 있는 것이 바람직하고, 이러한 능력은 액정 디스플레이 장치에서 부족하다. 시야각 특징을 개선시키는 한 방법은 미국 특허 제 5,583,679 호, 제 5,853,801 호, 제 5,619,352 호, 제 5,978,055 호 및 제 6,160,597 호에 개시된 것과 같은, PVA-이색성 필름과 액정 셀 사이에 적절한 광학 특성을 갖는 시야각 보상 층(보상 층, 지연 층 또는 위상차 층이라고도 함)을 갖는 광학 수지 필름을 사용하는 것이다. 음의 복굴절률을 갖는 원반상형(discotic) 액정을 기제로 하는 미국 특허 제 5,583,679 호 및 제 5,853,801 호에 따른 보상 필름을 널리 사용한다.
본 발명에 유용한 시야각 보상 층은 광학 이방성 층이다. 광학 이방성의 시야각 보상 층은 양의 복굴절성 물질 또는 음의 복굴절성 물질을 포함할 수 있다. 보상 층은 광학 1축 또는 광학 2축일 수 있다. 보상 층은 층에 수직인 평면에서 기울어진 광학 축을 가질 수 있다. 광학 축의 기울기는 층 두께 방향에서 일정할 수 있거나, 또는 광학 축의 기울기는 층 두께 방향에서 변할 수 있다.
본 발명에 유용한 광학 이방성의 시야각 보상 층은 미국 특허 제 5,583,679 호 및 제 5,853,801 호에 기재되어 있는 음의 복굴절성 원반상형 액정; 미국 특허 제 6,160,597 호에 기재되어 있는 양의 복굴절성 네마틱 액정; 및 2003년 12월 23일자로 출원되어 통상적으로 양도된 미국 특허 공개 제 2004/0021814A 호 및 미국 특허원 제 10/745,109 호에 기재되어 있는 음의 복굴절성 비정질 중합체를 포함할 수 있다.
본 발명의 보조 층은 또한 2004년 5월 4일자로 출원되어 통상적으로 양도된 미국 특허원 제 10/838,841 호에 기재되어 있는 PVA 접착-촉진 층도 포함할 수 있다.
침지 코팅, 막대 코팅, 블레이드 코팅, 공기 나이프 코팅, 그라비야 코팅, 마이크로그라비야 코팅, 역회전 롤 코팅, 슬롯 코팅, 압출 코팅, 슬라이드 코팅, 커튼 코팅 같은 다수의 널리 공지되어 있는 액체 코팅 기법중 임의의 기법에 의해, 또는 진공 침착 기법에 의해 본 발명의 보조 층을 도포할 수 있다. 액체 코팅의 경우에는, 단순히 증발시킴으로써(이는 대류 가열 같은 공지 기법에 의해 가속화될 수 있음) 습윤 층을 통상적으로 건조시킨다. 보조 층을 광학 수지 필름과 동시에 도포할 수 있거나, 또는 광학 수지 필름을 코팅 및 건조시킨 후에 이를 도포할 수 있다. 슬라이드 코팅을 이용하여 수개의 상이한 보조 층을 동시에 코팅할 수 있는데, 예를 들어 대전 방지 층을 수분 차단 층과 동시에 코팅할 수 있거나, 또는 수분 차단 층을 시야각 보상 층과 동시에 코팅할 수 있다. 공지의 코팅 및 건조 방법은 문헌[Research Disclosure 308119, 1989년 12월 출간, 페이지 1007 내지 1008]에 더욱 상세하게 기재되어 있다.
본 발명의 광학 필름은 매우 다양한 LCD 디스플레이 모드, 예컨대 트위스티 드 네마틱(TN), 슈퍼 트위스티드 네마틱(STN), 광학 보상 벤드(Optically Compensated Bend; OCB), 평면내 스위칭(In Plane Switching; IPS) 또는 수직 정렬(Vertically Aligned; VA) 액정 디스플레이에 사용하기 적합하다. 이들 다양한 액정 디스플레이 기법은 미국 특허 제 5,619,352 호[코치(Koch) 등], 제 5,410,422 호[보스(Bos)] 및 제 4,701,028 호[클러크(Clerc) 등]에서 검토되었다.
앞의 상세한 설명에 기초하여 명백함이 분명한 바와 같이, 다양한 유형 및 배열의 보조 층을 갖는 매우 다양한 복합체 요소 및 광학 필름을 제조할 수 있다. 본 발명에 따라 가능한 구성중 일부를 하기 비제한적인 실시예에 의해 예시한다.
복합체 C1:
Figure 112007024677311-PCT00010
100㎛ 두께의 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 기판을 코로나 처리하고, 25㎛ 두께의 폴리에틸렌 층[폴리에틸렌은 문헌("Adhesion and Cohesion", 웨이스 편집, p. 190, Elsevier Publishing Company, 암스테르담, 1962)에 보고된 결과에 기초하여 31erg/cm2의 표면 장력을 가짐]을 압출 코팅한다. 트라이아세틸 셀룰로즈(TAC) 코팅 제제를 메틸렌 클로라이드 용액으로부터 폴리에틸렌 표면 상으로 도 포한다. 건조된 TAC 필름은 두께가 20㎛이고, 트라이페닐 포스페이트 가소화제 11중량%, 티누빈(TINUVIN; 등록상표) UV 흡수제[2-(2'-하이드록시-3'-3급-뷰틸-5'-메틸페닐)-5-클로로 벤조트라이아졸과 2-(2'-하이드록시-3',5'-다이3급-뷰틸페닐)-벤조트라이아졸의 혼합물, 시바 스페셜티 케미칼즈(Ciba Specialty Chemicals)에서 구입] 1중량% 및 파솔(PARSOL; 등록상표) 1789 UV 흡수제[4-(1,1-다이메틸에틸)-4'-메톡시다이벤조일메테인, 로슈 비타민즈 인코포레이티드(Roche Vitamins Inc.)에서 구입] 0.1중량%를 함유한다.
복합체 C2:
Figure 112007024677311-PCT00011
우레탄 아크릴레이트 올리고머인 CN 968(등록상표)(사토머 캄파니 제품)을 코팅 및 건조시킨 후 UV 경화시킴으로써 제조되는 내마모성 층을 건조된 TAC 필름 상에 도포하는 것을 제외하고는, 복합체 C1과 유사한 방식으로 복합체 C2를 제조한다.
복합체 C3:
Figure 112007024677311-PCT00012
플루오르화 올레핀 중합체를 포함하는 두께 0.1㎛의 저반사 층을 내마모성 층 상에 도포하는 것을 제외하고는, 복합체 C2와 유사한 방식으로 복합체 C3을 제조한다.
복합체 C4:
Figure 112007024677311-PCT00013
폴리에틸렌 테레프탈레이트 기판이 폴리에틸렌 층보다는 0.5㎛ 두께의 폴리스타이렌 층을 갖는 것을 제외하고는, 복합체 C3과 유사한 방식으로 복합체 C4를 제조한다. [폴리스타이렌은 문헌("Adhesion and Cohesion", 웨이스 편집, p 190, Elsevier Publishing Company, 암스테르담, 1962)에 보고된 결과에 기초하여 33erg/cm2의 표면 장력을 갖는다].
복합체 C5:
Figure 112007024677311-PCT00014
78중량%의 비닐 클로라이드를 함유하는 폴리(비닐리덴 클로라이드-코-아크릴로나이트릴-코-아크릴산)을 포함하는 5㎛ 두께의 수분 차단 층을 TAC 필름 상에 도포하는 것을 제외하고는, 복합체 C1과 유사한 방식으로 복합체 C5를 제조한다. 폴리(비닐리덴 클로라이드-코-아크릴로나이트릴-코-아크릴산) 결합제중 바이트론(등록상표) P(폴리에틸렌 다이옥시티오펜/폴리스타이렌 설폰에이트, 바이엘 코포레이션에서 구입)를 포함하는 대전 방지 층을 수분 차단 층 상에 도포한다. 대전 방지 층은 3mg/m2의 바이트론(등록상표) P를 함유하고, 약 1×108Ω/스퀘어의 표면 비저항을 갖는다. 복합체 C1에 사용된 내마모성 층을 대전 방지 층 상에 도포한다.
복합체 C6:
Figure 112007024677311-PCT00015
낮은 복굴절률의 중합체 필름으로서 TAC 대신 20㎛ 두께의 폴리카본에이트(비스페놀 A 유형의 단독중합체) 층을 사용하는 것을 제외하고는, 복합체 C5와 유사한 방식으로 복합체 C6을 제조한다.
보호된 커버 시트 복합체 C7:
Figure 112007024677311-PCT00016
폴리에틸렌 압출 코팅된 층을 갖는 PET 기판 대신 캐리어 기판이 100마이크론 두께의 폴리에틸렌 필름인 것을 제외하고는, 복합체 C1과 유사한 방식으로 보호된 커버 시트 복합체 C7을 제조한다.
본 발명을 그의 특정한 바람직한 실시양태를 구체적으로 참조하여 상세하게 기재하였으나, 본 발명의 원리 및 영역 내에서 변화 및 변형이 이루어질 수 있음을 알 것이다.
상기 내용으로부터, 본 발명이 명백하고 장치에 내재하는 다른 이점과 함께 상기 기재된 모든 목표 및 목적을 수득하는데 잘 적합화된 것임을 알 것이다.
특정 특징 및 부속 조합이 유용하고, 이들을 다른 특징 및 부속 조합을 참조하여 사용할 수 있음을 알 것이다. 이는 청구의 범위의 영역에 의해 고려되고 청구의 범위의 영역에 속한다.

Claims (55)

  1. (a) 35erg/cm2 미만의 표면 에너지 수준을 갖는 이동하는 불연속적인 캐리어 기판의 표면 상으로 액체 광학 수지/용매 혼합물을 도포하는 단계;
    (b) 액체 수지/용매 혼합물을 건조시켜 용매를 실질적으로 제거함으로써, 캐리어 기판에 약하게 접착된 수지 필름의 복합체를 생성시키는 단계; 및
    (c) 기판으로부터 필름을 제거하는 단계를 포함하며, 이 때
    상기 수지 필름이 캐리어 기판에 박리가능하게(releasably) 접착됨으로써 캐리어 기판으로부터 박리될 수 있으며, 생성된 필름이 100nm 미만의 평면외 지연(OPR) 및 20nm 미만의 평면내 지연을 나타내는,
    100nm 미만의 OPR을 갖는 광학 수지 필름을 제조하는 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 액체 수지/용매 혼합물을 10m 이상의 길이를 갖는 불연속적인 캐리어 기판 상으로 도포하는 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 액체 수지/용매 혼합물을 롤-대-롤(roll-to-roll) 공정을 이용하여 도포하는 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 액체 수지/용매 혼합물을 슬라이드 비이드 코팅 다이를 사용하여 도포하고, 이 때 상기 코팅 다이의 슬라이드 표면 상에 다층 복합체가 생성되는 방법.
  5. 제 2 항에 있어서,
    상기 다층 복합체의 각 액체 층의 점도가 5000cp 미만인 방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 캐리어 기판이 폴리에틸렌 테레프탈레이트인 방법.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 캐리어 기판이 코팅되는 표면에 도포된 표면 층을 갖고, 상기 층의 표면 에너지가 35erg/cm2 미만인 방법.
  8. 제 2 항에 있어서,
    상기 다층 복합체의 최상층이 계면활성제를 함유하는 방법.
  9. 제 2 항에 있어서,
    상기 다층 복합체의 적어도 상부 층이 폴리실록세인 계면활성제를 함유하는 방법.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 광학 수지 필름을 불연속적인 캐리어 기판으로부터 박리시키기 전에 상기 복합체를 하나 이상의 롤로 권취(winding)하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  11. 제 1 항에 있어서,
    (a) 건조 단계 직후에 캐리어 기판으로부터 수지 필름을 분리시키는 단계, 및 (b) 광학 수지 필름을 하나 이상의 롤로 권취하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  12. 제 8 항에 있어서,
    상기 복합체의 하나 이상의 롤의 적어도 일부를 푸는(unwinding) 단계, 및 상기 캐리어 기판으로부터 수지 필름을 분리하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 광학 수지가 셀룰로즈 에스터를 포함하고, 평면외 지연이 20nm 미만인 방법.
  14. 제 1 항에 있어서,
    상기 수지 필름을 약 250N/m 미만의 접착 강도로 캐리어 기판에 접착시키는 방법.
  15. 제 11 항에 있어서,
    상기 광학 수지 필름중 잔류 용매를 분리 단계 전에 10중량% 미만으로 감소시키는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  16. 제 12 항에 있어서,
    상기 광학 수지 필름중 잔류 용매를 분리 단계 전에 10중량% 미만으로 감소시키는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  17. 제 2 항에 있어서,
    상기 다층 복합체의 적어도 상부 층이 플루오르화된 계면활성제를 함유하는 방법.
  18. 제 1 항에 있어서,
    상기 수지 필름이 10nm 미만의 평면내 지연 및 10nm 미만의 OPR을 갖는 방법.
  19. 제 1 항에 있어서,
    상기 수지 필름이 0.5 내지 5nm의 평면내 지연 및 0.5 내지 5nm의 OPR을 갖는 방법.
  20. 제 1 항에 있어서,
    건조 단계 후에 하나 이상의 추가적인 수지 층을 상기 복합체에 도포하는 단계를 추가로 포함하는 방법.
  21. 제 1 항에 있어서,
    상기 수지 필름이 1 내지 100㎛의 두께를 갖는 방법.
  22. 제 1 항에 있어서,
    상기 필름이 폴리카본에이트, 폴리에스터, 셀룰로즈, 폴리올레핀, 아크릴, 스타이렌, 폴리아마이드 및 폴리에스터 아마이드로 이루어진 군으로부터 선택되는 수지를 포함하는 방법.
  23. 제 1 항에 있어서,
    상기 불연속적인 캐리어 기판이 플루오르화된 중합체를 포함하는 코팅 표면을 갖는 방법.
  24. 제 1 항에 있어서,
    상기 불연속적인 캐리어 기판이 폴리올레핀을 포함하는 코팅 표면을 갖는 방법.
  25. 제 1 항에 있어서,
    상기 불연속적인 캐리어 기판이 규소계 중합체를 포함하는 코팅 표면을 갖는 방법.
  26. 제 1 항에 있어서,
    상기 광학 수지가 트라이아세틸 셀룰로즈를 포함하는 방법.
  27. 제 1 항에 있어서,
    상기 광학 수지 필름이 하나 이상의 UV 흡수제를 포함하는 방법.
  28. 불연속적인 캐리어 기판 상에 코팅된 수지 필름을 포함하는 복합체 요소(composite element)로서,
    상기 수지 필름이 1 내지 100㎛의 두께를 갖고, 20nm 미만의 평면내 지연 및 20nm 미만의 OPR을 가지며, 약 250N/m 미만의 접착 강도로 캐리어 기판에 접착되는, 복합체 요소.
  29. 제 28 항에 있어서,
    상기 수지 필름이 10nm 미만의 평면내 지연 및 10nm 미만의 OPR을 갖는 복합체 요소.
  30. 제 28 항에 있어서,
    상기 수지 필름이 0.5 내지 5nm의 평면내 지연 및 0.5 내지 5nm의 OPR을 갖는 복합체 요소.
  31. 제 28 항에 있어서,
    상기 수지 필름이 약 0.3N/m 이상의 접착 강도로 캐리어 기판에 접착되는 복합체 요소.
  32. 제 28 항에 있어서,
    상기 수지 필름이 캐리어 기판으로부터 박리될 수 있는 복합체 요소.
  33. 제 28 항에 있어서,
    상기 수지 필름이 다층 복합체인 복합체 요소.
  34. 제 33 항에 있어서,
    상기 다층 복합체의 적어도 상부 층이 그 안에 계면활성제를 포함하는 복합체 요소.
  35. 제 28 항에 있어서,
    가소화제가 광학 수지 필름에 혼입되는 복합체 요소.
  36. 제 28 항에 있어서,
    하나 이상의 UV 흡수제가 광학 수지 필름에 혼입되는 복합체 요소.
  37. 제 28 항에 있어서,
    상기 수지 필름이 셀룰로즈 에스터를 포함하는 복합체 요소.
  38. 불연속적인 캐리어 기판 상에 코팅된 길이 10m 이상의 폴리카본에이트 수지 필름을 포함하는 복합체 요소로서,
    상기 수지 필름이 1 내지 100㎛의 두께를 갖고, 20nm 미만의 평면내 지연 및 100nm 미만의 평면외 지연을 가지며, 약 250N/m 미만의 접착 강도로 캐리어 기판에 접착되는, 복합체 요소.
  39. 제 38 항에 있어서,
    상기 수지 필름이 0.5 내지 5nm의 평면내 지연 및 80nm 미만의 평면외 지연을 갖는 복합체 요소.
  40. 제 38 항에 있어서,
    상기 수지 필름이 약 0.3N/m 이상의 접착 강도로 캐리어 기판에 접착되는 복합체 요소.
  41. 제 38 항에 있어서,
    상기 수지 필름이 캐리어 기판으로부터 박리될 수 있는 복합체 요소.
  42. 제 38 항에 있어서,
    상기 수지 필름이 다층 복합체인 복합체 요소.
  43. 제 38 항에 있어서,
    상기 다층 복합체의 적어도 상부 층이 그 안에 계면활성제를 포함하는 복합체 요소.
  44. 제 38 항에 있어서,
    가소화제가 광학 수지 필름에 혼입되는 복합체 요소.
  45. 제 38 항에 있어서,
    하나 이상의 UV 흡수제가 광학 수지 필름에 혼입되는 복합체 요소.
  46. 코팅 작업에 의해 생성된 수지 층을 포함하고, 1 내지 100㎛의 두께를 가지며, 20nm 미만의 평면내 지연 및 20nm 미만의 평면외 지연을 갖는 수지 필름.
  47. 제 46 항에 있어서,
    상기 광학 수지 필름이 10nm 미만의 평면내 지연 및 10nm 미만의 평면외 지연을 갖는 수지 필름.
  48. 제 46 항에 있어서,
    상기 수지 필름이 0.5 내지 5nm의 평면내 지연 및 0.5 내지 5nm의 평면외 지연을 갖는 수지 필름.
  49. 코팅 작업에 의해 생성된 수지 층을 포함하고 1 내지 100㎛의 두께를 가지며 20nm 미만의 평면내 지연 및 20nm 미만의 평면외 지연을 갖는 수지 필름을 포함하는 액정 디스플레이.
  50. 제 49 항에 있어서,
    상기 수지 필름이 10nm 미만의 평면내 지연 및 10nm 미만의 OPR을 갖는 액정 디스플레이.
  51. 제 49 항에 있어서,
    상기 수지 필름이 0.5 내지 5nm의 평면내 지연 및 0.5 내지 5nm의 OPR을 갖는 액정 디스플레이.
  52. 제 49 항에 있어서,
    상기 다층 복합체의 적어도 상부 층이 그 안에 플루오르화된 계면활성제를 포함하는 복합체 필름.
  53. 코팅 작업에 의해 생성된 폴리카본에이트 수지 층을 포함하고 5 내지 100㎛의 두께를 가지며 20nm 미만의 평면내 지연 및 100nm 미만의 평면외 지연을 갖는 수지 필름을 포함하는 액정 디스플레이.
  54. 제 53 항에 있어서,
    상기 수지 필름이 10nm 미만의 평면내 지연 및 80nm 미만의 OPR을 갖는 액정 디스플레이.
  55. 제 54 항에 있어서,
    상기 다층 복합체의 적어도 상부 층이 그 안에 플루오르화된 계면활성제를 포함하는 복합체 필름.
KR1020077007216A 2004-09-30 2005-09-19 광학 필름 및 이들의 제조 방법 KR20070057887A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/954,330 2004-09-30
US10/954,330 US20060068128A1 (en) 2004-09-30 2004-09-30 Optical films and process for making them

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20070057887A true KR20070057887A (ko) 2007-06-07

Family

ID=35478623

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020077007216A KR20070057887A (ko) 2004-09-30 2005-09-19 광학 필름 및 이들의 제조 방법

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20060068128A1 (ko)
JP (1) JP2008514468A (ko)
KR (1) KR20070057887A (ko)
CN (1) CN101031825A (ko)
TW (1) TW200639448A (ko)
WO (1) WO2006039140A1 (ko)

Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20120105062A (ko) 2003-12-19 2012-09-24 더 유니버시티 오브 노쓰 캐롤라이나 엣 채플 힐 소프트 또는 임프린트 리소그래피를 이용하여 분리된 마이크로- 및 나노- 구조를 제작하는 방법
US9040090B2 (en) * 2003-12-19 2015-05-26 The University Of North Carolina At Chapel Hill Isolated and fixed micro and nano structures and methods thereof
JP4621451B2 (ja) * 2004-08-11 2011-01-26 富士フイルム株式会社 液浸露光用保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法
KR100637201B1 (ko) * 2004-12-20 2006-10-23 삼성에스디아이 주식회사 유기 전계 발광 소자 및 그 제조방법
EP1853967A4 (en) * 2005-02-03 2009-11-11 Univ North Carolina LOW-VOLTAGE SURFACE-VOLTAGE POLYMER MATERIAL FOR USE IN LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICES
JP5004506B2 (ja) * 2005-06-24 2012-08-22 株式会社Ａｄｅｋａ 光学フィルター
JP4986503B2 (ja) * 2005-11-08 2012-07-25 富士通コンポーネント株式会社 熱可塑性樹脂筐体及びその製造方法
US8206779B2 (en) * 2006-03-24 2012-06-26 Fujifilm Corporation Method for producing laminate, polarizing plate, and image display device
US20080181958A1 (en) * 2006-06-19 2008-07-31 Rothrock Ginger D Nanoparticle fabrication methods, systems, and materials
US20100151031A1 (en) * 2007-03-23 2010-06-17 Desimone Joseph M Discrete size and shape specific organic nanoparticles designed to elicit an immune response
JP5096865B2 (ja) * 2007-09-07 2012-12-12 日東電工株式会社 光学フィルム、およびその製造方法
JP2009086604A (ja) * 2007-09-11 2009-04-23 Nitto Denko Corp 光学フィルム、およびその製造方法
EP2268417A1 (en) * 2008-03-26 2011-01-05 3M Innovative Properties Company Methods of slide coating two or more fluids
WO2009120646A1 (en) * 2008-03-26 2009-10-01 3M Innovative Properties Company Methods of slide coating fluids containing multi unit polymeric precursors
WO2009120647A1 (en) * 2008-03-26 2009-10-01 3M Innovative Properties Company Methods of slide coating two or more fluids
KR101588476B1 (ko) * 2008-03-28 2016-01-25 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 광학 용품을 위한 두꺼운 폴리에스테르 필름 및 광학 용품
KR101156436B1 (ko) * 2010-01-19 2012-06-18 삼성모바일디스플레이주식회사 광학필름 및 이를 구비하는 유기 발광 디스플레이 장치
US20110319530A1 (en) 2010-06-29 2011-12-29 Eastman Chemical Company Processes for making cellulose estate/elastomer compositions
US9273195B2 (en) 2010-06-29 2016-03-01 Eastman Chemical Company Tires comprising cellulose ester/elastomer compositions
TWI465534B (zh) * 2010-12-31 2014-12-21 Eternal Materials Co Ltd 可光固化之黏著組合物
DE102011016567B4 (de) * 2011-04-08 2023-05-11 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements und derart hergestelltes Bauelement
US20130150493A1 (en) 2011-12-07 2013-06-13 Eastman Chemical Company Process for dispersing cellulose esters into elastomeric compositions
JP2014153444A (ja) * 2013-02-06 2014-08-25 Konica Minolta Inc 位相差フィルム、偏光板及び液晶表示装置
JP6054233B2 (ja) * 2013-04-15 2016-12-27 株式会社Adeka 樹脂組成物およびそれを用いた光学フィルム
JP6054242B2 (ja) * 2013-05-09 2016-12-27 株式会社Adeka セルロース系樹脂組成物及びそれを成形してなる光学フィルム
TWI504513B (zh) * 2013-08-02 2015-10-21 Innolux Corp 可撓性顯示裝置
CN104347640B (zh) * 2013-08-02 2017-07-07 群创光电股份有限公司 可挠性显示装置
SG11201701508SA (en) 2014-08-27 2017-03-30 3M Innovative Properties Co Electrical multilayer lamination transfer films
US9586385B2 (en) * 2014-08-27 2017-03-07 3M Innovative Properties Company Inorganic multilayer lamination transfer films
JP2016102154A (ja) * 2014-11-28 2016-06-02 凸版印刷株式会社 樹脂成形体および樹脂成形体の製造方法
JPWO2017029995A1 (ja) * 2015-08-20 2018-06-21 宇部興産株式会社 光学フィルム及び画像表示装置
US10077343B2 (en) 2016-01-21 2018-09-18 Eastman Chemical Company Process to produce elastomeric compositions comprising cellulose ester additives
DE102016112390B4 (de) 2016-07-06 2021-08-12 Infineon Technologies Ag Lötpad und Verfahren zum Verbessern der Lötpadoberfläche
CN111621043A (zh) * 2020-06-04 2020-09-04 深圳市摩码科技有限公司 一种超薄聚芳酯膜的制备方法
CN112403839B (zh) * 2020-11-30 2022-08-12 天津大学 一种二氧化碳分离多层复合膜的规模化制备方法及装置
TWI747761B (zh) * 2021-03-10 2021-11-21 長春石油化學股份有限公司 聚乙烯醇薄膜、其製法及使用其之光學薄膜
WO2022236068A1 (en) * 2021-05-07 2022-11-10 Cornell University Method for protecting reactive materials with atomically thin film

Family Cites Families (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1700A (en) * 1840-07-18 Improvement in the mathematical operation of drawing lottery-schemes
US215658A (en) * 1879-05-20 Improvement in grinding-m i lls
US39319A (en) * 1863-07-21 Improved window-shade hangings
US214715A (en) * 1879-04-22 Improvement in weather-strips
US215583A (en) * 1879-05-20 Improvement in fire-stops for steam-boiler flues
US215582A (en) * 1879-05-20 Improvement in grave protectors or shields
US215608A (en) * 1879-05-20 Improvement in fruit-driers
US215621A (en) * 1879-05-20 Improvement in post-office cabinets
US2362580A (en) * 1943-05-15 1944-11-14 Eastman Kodak Co Laminar structure and its preparation
DE3129162C2 (de) * 1980-07-31 1983-10-20 Nitto Electric Industrial Co., Ltd., Ibaraki, Osaka Polarisierender Film
US4664859A (en) * 1983-12-02 1987-05-12 Vcf Films Inc. Div. Of Pmc Process for solvent casting a film
US4584231A (en) * 1983-12-02 1986-04-22 Vcf Packaging Films, Inc. Solvent cast acrylic film
US4859876A (en) * 1985-09-16 1989-08-22 AT&T Bell Laboratories American Telephone and Telegraph Company Nonlinear optical materials and devices
US4895769A (en) * 1988-08-09 1990-01-23 Polaroid Corporation Method for preparing light polarizer
EP0380028A3 (en) * 1989-01-23 1992-06-03 Eastman Kodak Company Process for the production of low birefringent polymer films
US5256357A (en) * 1992-05-28 1993-10-26 Eastman Kodak Company Apparatus and method for cocasting film layers
US5478518A (en) * 1993-10-04 1995-12-26 Teijin Limited Polycarbonate film for optical purposes and a production process thereof
US5695694A (en) * 1993-10-08 1997-12-09 Teijin Limited Method of producing an acylated cellulose film
US5645766A (en) * 1995-03-30 1997-07-08 Teijin Limited Film of aromatic polyethersulfone process for the production thereof and solution composition for the production thereof
EP0744433A1 (en) * 1995-05-23 1996-11-27 Sekisui Chemical Co., Ltd. A method of manufacturing a polysulfone resin film and a retardation film
JPH0990333A (ja) * 1995-09-26 1997-04-04 Fuji Photo Film Co Ltd 液晶表示装置
US5925289A (en) * 1997-06-20 1999-07-20 Polaroid Corporation Synthetic UV-bleached polarizer and method for the manufacture thereof
WO1998058789A1 (fr) * 1997-06-23 1998-12-30 Teijin Limited Films optiques et leur procede de production
US5965321A (en) * 1997-09-25 1999-10-12 E. U. Du Pont De Nemours And Company Peel-apart photosensitive elements and their process of use
JP4336427B2 (ja) * 1999-10-01 2009-09-30 帝人株式会社 表面保護フィルムおよびそれからなる積層体
JP2001343527A (ja) * 2000-06-01 2001-12-14 Nitto Denko Corp 光学部材および液晶表示装置
JP4802409B2 (ja) * 2000-07-21 2011-10-26 コニカミノルタホールディングス株式会社 光学補償フィルム、それを用いた偏光板及び液晶表示装置
AU2001295983A1 (en) * 2000-10-20 2002-04-29 Fuji Photo Film Co. Ltd. Cellulose acetate film with regulated retardation and thickness
US7048823B2 (en) * 2002-05-20 2006-05-23 Eastman Kodak Company Acrylic films prepared by coating methods
US7012746B2 (en) * 2002-05-20 2006-03-14 Eastman Kodak Company Polyvinyl butyral films prepared by coating methods
US20030215582A1 (en) * 2002-05-20 2003-11-20 Eastman Kodak Company Optical films prepared by coating methods
US7163738B2 (en) * 2002-05-20 2007-01-16 Eastman Kodak Company Polyvinyl alcohol films prepared by coating methods
US20030215581A1 (en) * 2002-05-20 2003-11-20 Eastman Kodak Company Polycarbonate films prepared by coating methods
US7083752B2 (en) * 2002-05-20 2006-08-01 Eastman Kodak Company Cellulose acetate films prepared by coating methods
US6913714B2 (en) * 2002-11-21 2005-07-05 Bayer Materialscience Llc Method of producing thermoplastic polycarbonate films having low optical retardation values

Also Published As

Publication number Publication date
CN101031825A (zh) 2007-09-05
WO2006039140A1 (en) 2006-04-13
JP2008514468A (ja) 2008-05-08
TW200639448A (en) 2006-11-16
US20060068128A1 (en) 2006-03-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20070057887A (ko) 광학 필름 및 이들의 제조 방법
US7252733B2 (en) Polarizer guarded cover sheet with adhesion promoter
US7279060B2 (en) Guarded cover film for LCD polarizers
US7655289B2 (en) Optical film composite having spatially controlled adhesive strength
US7399376B2 (en) Polarizing plate laminated with an improved glue composition and a method of manufacturing the same
US7662456B2 (en) Guarded cover sheet for LCD polarizers and method of making the same
US7622185B2 (en) Protective cover sheet comprising a UV-absorbing layer for a polarizer plate and method of making the same
KR20070070227A (ko) 편광판용 결합 층
KR20070073924A (ko) 편광판용 접착 촉진 층
EP1367083A2 (en) Optical films prepared by coating methods
US20070141244A1 (en) Method of making a polarizer plate
US20060225827A1 (en) Process for forming polarizer plate
WO2006073747A1 (en) Polarizing plate comprising improved glue composition
US20060225831A1 (en) Process for forming polarizer plate
US7732007B2 (en) Method of making a polarizer plate

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid