JPH091028A - 塗布装置 - Google Patents

塗布装置

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JPH091028A
JPH091028A JP7144499A JP14449995A JPH091028A JP H091028 A JPH091028 A JP H091028A JP 7144499 A JP7144499 A JP 7144499A JP 14449995 A JP14449995 A JP 14449995A JP H091028 A JPH091028 A JP H091028A
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liq
iii
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water
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Junichi Tobari
純一 戸張
Takeshi Kishido
健 岸戸
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Konica Minolta Inc
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 筋等の塗布故障の発生を防ぎ、安定塗布を可
能にする塗布装置の提供。 【構成】 流量規制型のダイスを用いる塗布装置におい
て、下記の部分の少なくとも一ヶ所に、フッ化炭素鎖を
有するシランカップリング剤を含んだ高分子膜を形成し
たことを特徴とする塗布装置により達成。 I:塗布装置の先端部分の全金属面及びその近傍の金属
面、II:前記塗布装置の塗布液供給スリット内部の塗布
液に接する金属面、III:前記塗布装置の塗布液供給管
内部及び塗布液ポケット内部の塗布液に接する金属面。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は流量規制型ダイスを用い
る塗布装置に関し、詳しくは筋故障等の発生を抑え、安
定な塗布性が得られる塗布装置に関する。
【0002】
【従来の技術】流量規制型のダイスを有する塗布装置、
例えばスライドホッパー型或いはエクストルージョンホ
ッパー型コーターは、高速、薄膜、多層同時塗布が可能
であり、その特徴により写真感光材料や磁気記録材料等
の塗布装置として広く用いられている。このタイプのコ
ーターは塗布装置先端(単にリップともいう)と走行す
る可撓性支持体(ウェブともいう)の間にビードと称す
る塗布液溜まりをつくり、このビードを介して塗布が行
われる。
【0003】図2はスライドホッパー塗布装置の一例を
示す断面図であって、2層同時塗布可能の塗布装置であ
る。ダイスの材質は一般的にはステンレス(SUS30
4、SUS316、PSL(日立金属〔株〕製)等)で
ある。同図に於いて、複数の塗布液10(例えば 保護
層用ゼラチン液)、11(例えば写真感光材料用乳剤
液)は幅方向に広がるポケット3ならびにスリット2を
通ってスライド面5に至り、塗布液はスライド面を流下
して塗布装置先端(リップ)1に至り、ここでビード9
と称する液溜まりを介してバックアップロール6に抱か
れて走行するウェブ7上に塗布膜12として塗布され
る。同図に於いて減圧装置8は、ビードを下方に引っ張
ることによりビードの安定性の向上を図るものである。
尚、バックアップロールやその他のウェブ搬送ロールは
空気浮上式を用いる場合もある。
【0004】前記のようないわゆるビードコーターに於
いては、安定な塗布の為にはビードの安定性が非常に重
要である。ビードの安定性は、リップとウェブとの間隙
の設定、環境条件、塗布液物性(粘度、表面張力、特に
多層同時塗布の場合は層間の物性の関係)等が大きく影
響し、更に塗布速度が速くなったり、塗布膜厚が薄くな
ると、ビードを安定に維持する事が難しくなる。ビード
が不安定であると筋故障や液切れ故障等の塗布故障が発
生し、生産ロスとなってしまう。
【0005】図3はスライドホッパー塗布装置における
ビード部分の拡大図である。同図に於いて、スライド面
5を重畳して流下した塗布液10、11は、スライド面
先端のリップ1でウェブ7との間にビード9を形成する
が、前記のような金属等のダイスでは表面の濡れが非常
に良いため、塗布条件やビードへの外乱によって、ビー
ドがウェブ7に対峙するリップ面13(図3の点線部
分)に入り込み、塗布幅方向でそのビードが乱れ易く、
それにより筋状の塗布故障(ビード筋)が発生してしま
うという問題があった。
【0006】又、図2のポケット3やスリット2の内部
には、塗布液中の異物が付着したり、塗布液等の凝集体
が生成したりして、それらが原因となって筋状の塗布故
障(スリット筋)を発生してしまうという問題もあっ
た。
【0007】このようなことはスライドホッパー塗布装
置のみならずエクストルージョン塗布装置等のビードコ
ーター全体に言えることである。
【0008】又、同様のことはカーテンコーターにおい
ても言える。カーテンコーターは、ビードを形成せずに
塗布液がカーテン状に流下し、ウェブに衝突することに
よって、ウェブ上に塗布膜を形成する。その塗布装置の
先端部分の形態は様々だが、例えばエクストルージョン
タイプの場合は、塗布液の流下膜が出るスリット出口に
於いて、リップ面及びリップに続く傾斜面に塗布液が濡
れ広がり、これがスリット出口の塗布液が離れる部分を
乱して流下膜上に筋故障を発生してしまうのである。
又、スリットやポケットの状況はビードコーターと何等
変わるところがなく、従って前記のようなスリット筋は
カーテンコーターにおいても発生する。
【0009】そこで、これらの筋の発生を無くす方法と
して、例えばビード筋については、コーター先端部分の
金属を撥水加工し、撥水効果によりビードの位置を固定
することでビードの不安定さを無くす方法があった。例
えば特開昭59−189963号 にはポリテトラフル
オロエチレン(テフロン=〔株〕デュポン製)等の撥水
性樹脂パーツを埋め込む方法、特開平5−261330
号には無電解ニッケルメッキによりフッ素樹脂含有皮膜
を形成させる方法がある。
【0010】ところが、昨今の高生産性の追求の結果、
塗布自体がより過酷な条件になってきている状況から、
コーターリップ部には、その寸法精度が数μmクラスで
ある事やその精度が塗布幅手方向で均一な事(例えば塗
布巾手方向1m当たりで寸法変化が100μm以下であ
る事)、機械的強度が要求されてきており、その上、メ
ンテナンスの点から前記の撥水効果が長期にわたって維
持される事やそのメンテナンス方法自体が簡便である事
が必要で、特開昭59−189963 号の方法や特開
平5−261330号の方法ではそれらの全てを満足す
るのは困難であるのが現状であった。
【0011】即ち、特開昭59−189963号のリッ
プ部にテフロン等の撥水性樹脂の付与加工を施すという
方法では、撥水効果は優れているものの、加工手段で仮
に研磨仕上げしたとしても前記のようなリップとして要
求される精度が出せず、又それを傷つけることなく維持
することも困難であり、更にそのメンテナンスではその
複雑な加工を再度やり直さなければならないので簡便と
は言えず、現状では実用的とは言えない。又、特開平5
−261330号のリップ部にフッ素樹脂の無電解ニッ
ケルメッキによる撥水加工を施すという方法では、前記
のようなリップとして要求される精度はほぼ満足できる
ものの、メッキ皮膜中のフッ素樹脂が欠落する等の影響
で、長時間の塗布において撥水効果が減少してしまう程
に撥水効果の寿命が短く、撥水効果の長期間持続が困難
である上、その加工は大がかりな装置を必要とするメッ
キ加工であり、そのメンテナンスではその大がかりなメ
ッキ加工を再度実施しなければならないので簡便とは言
えず、現状ではやはり実用的とは言えない。
【0012】又、スリット筋については、撥水効果が同
時に異物付着抑制効果ももたらすので、前記と同様にス
リットやポケット内部を撥水処理すれば良い事になる
が、前記方法ではビード筋の時と同様にやはり前記に示
すような寸法精度や機械的強度や簡便な方法という点を
全ては満足できないという問題点があった。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記のような
従来技術の問題点を解決することを課題とし、より具体
的には、下記の全てを満たすような撥水処理の施された
塗布装置を提供することである。
【0014】 機械的強度に優れていること 寸法精度が満足されていること 撥水効果が長期間にわたって維持されること 付与方法やメンテナンス方法が簡便であること
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は、流
量規制型のダイスを用いる塗布装置において、下記I〜
IIIの部分の少なくとも一ヶ所に、フッ化炭素鎖を有す
るシランカップリング剤を含んだ高分子膜を形成したこ
とを特徴とする塗布装置により達成される。
【0016】I 前記塗布装置の先端部分の全金属面
及びその近傍の金属面 II 前記塗布装置の塗布液供給スリット内部の塗布液
に接する金属面 III 前記塗布装置の塗布液供給管内部及び塗布液ポケ
ット内部の塗布液に接する金属面 以下、本発明について具体的に説明する。
【0017】本発明によれば、撥水処理をフッ化炭素鎖
を有するシランカップリング剤を含む高分子膜によって
形成するので、前記のような寸法精度及び機械的強度を
維持しつつ、付与方法やメンテナンス方法が簡便で、長
期間にわたって撥水性を有して筋故障を防止することが
できるのである。以下、具体的に図面を用いて説明す
る。
【0018】図1は、本願発明の実施形態の一例として
の、スライドホッパー塗布装置における本願発明を施す
部分の断面図である。
【0019】この処理を施す部分としては、前記Iで
は、ホッパーのリップ面の他に、リップ面に連続するス
ライド面等のリップ面近傍に施してもよい。図1に於い
て、リップ面及びスライド面の一部に点線で表した部分
が本発明の撥水加工を施してよい面を示している。又、
前記II及びIIIでは、該金属面の一部でも良いが、好ま
しくは該金属面の全面に施したほうが良い。図1に於い
て、スリットやポケットの部分に点線で表した部分が本
願発明の撥水加工を施してよい面を示している。
【0020】この処理を施す各々の部分の組み合わせと
しては、前記Iのみでもビートから発生する筋故障に対
し効果があり、前記II及び/又はIIIのみでもスリット
やポケットの内部から発生する筋故障に対し効果がある
ので、どちらかだけでもよいが、筋故障の発生原因がビ
ート及びスリットやポケットの3ヵ所全てに及んでいる
点を考慮すると、好ましくはI及びII及びIIIの3ヵ所
全てに処理を施した方が良い。
【0021】図1に於いて、スリット2やポケット3の
部分に点線で表した部分が本願発明の撥水加工を施して
よい面を示している。処理を施す部分の組合せとして
は、I、II、IIIのどれか一ヶ所でもよく、I及びII、
I及びIII、II及びIIIのような2ヶ所の組合せでもよい
が、好ましくはI及びII及びIIIの3ヶ所すべてに処理
を施した方がその効果がより発揮される。
【0022】尚、前記フッ化炭素鎖を有するシランカッ
プリング剤による高分子膜は前記一般式〔1〕で示され
る構造を有するものであることが本発明の好ましい態様
であり、具体例としては例えば一般式〔1〕において、 化合物A:x=2、y=11 化合物B:x=2、y=13 が挙げられる。尚、一般式〔1〕中のnは処理面積によ
り定まる値である。
【0023】本発明の化合物の合成方法については、
「材料技術(材料技術研究協会編)Vol.12 N
o.3 1994」の「フッ化炭素鎖を有する表面改質
剤(好野則夫著)」等に記載されている。
【0024】一般式〔1〕で表される化合物を実際に塗
布装置に適用する簡便な方法としては、例えば、スプレ
ーコーティング方法がある。これは、予め該化合物を溶
媒(例えばパーフルオロヘキサン等)で溶液にしてお
き、これをスプレー(例えばクロマトスプレー等)で該
加工面に直接噴霧するという方法である。噴霧前に予め
該加工面を同溶媒で洗浄しておくとより効果がある。噴
霧時に不織布等で該処理液をムラ無く均一にのばしても
よい。又、噴霧後に純水で湿らせた不織布で該加工面を
拭うとより効果がある。更に、加工終了後に処理面全体
を加熱処理するとより効果があり、その際の加熱温度は
好ましくは130℃以上200℃以下だが、簡便さの点
からヘアードライヤー等による60℃前後の加熱処理で
もよい。加熱時間は好ましくは30分以上だが、3〜7
分でも効果がある。このスプレーコーティング方法はあ
くまでも方法の一例であって、本発明がそれに束縛され
るものではない。
【0025】前記方法の利点は、それによる撥水効果や
その長期間持続性以外にその方法の簡便さにもある。前
記方法を実施する環境は常温常湿下の大気中で良いので
大がかりな加工装置が不要であり、加工時間も生産に使
用する実際の塗布機で、従来の特開昭59−18996
3号や特開平5−261330号の方法では数日以上か
かるものが、前記のスプレーコーティング方法では延べ
約3時間で済み、更に本発明の撥水処理では処理後の研
磨加工等が一切不要であり、前記の従来加工方法に比べ
てはるかに簡便なものとなっている。そのメンテナンス
方法も、前記のスプレーコーティング方法を再実施すれ
ばよいので、従来の再加工に比べはるかに簡便なものと
なる。
【0026】本発明の撥水処理方法による高分子膜の厚
さは、寸法精度上10nm以下が好ましい。前記加工方
法による化合物Bでの撥水処理膜は、ESCA測定より
その厚さは50Å弱であった。
【0027】本発明の適用される塗布液としては、写真
感光材料用親水性コロイド層液(乳剤液を含む)、合成
高分子溶液、磁性粉を含んだ液、揮発性溶媒、等であ
る。又、適用される支持体としては、ハロゲン化銀写真
感光材料用各種支持体、例えばセルローストリアセテー
ト、ポリエチレンテレフタレート、紙等の他、ガラスや
金属等でもよい。
【0028】
【実施例】以下、実施例により具体的に本発明を適用し
た場合について、発明の効果を例証するが、本発明はこ
れに拘束されるものではない。
【0029】図2に示すような2層型スライドホッパー
塗布装置(SUS316製)を用いて下記のような塗布
内容で塗布を実施した。用いた塗布液は特に筋故障を発
生し易いものを選んだ。
【0030】 塗布液 下層:ハロゲン化銀写真感光材料用沃臭化銀乳剤液 ゼラチン濃度=4.0% 粘度=15cP 上層:ハロゲン化銀写真感光材料用保護膜液 ゼラチン濃度=6.0% 粘度=10cP 塗布条件 塗布速度:120m/min、 塗布減圧:−40mmAq 塗布間隙:200μm 塗布膜厚 下層 50μm、 上層 20μm 計 70μm 塗布装置 図1に示すI、II、IIIの各部分に下記のような各種加
工を施したものを製作し、塗布に使用した。
【0031】加工1:加工なし 加工2:無電解ニッケルメッキ加工(特開平5−261
330号記載の方法による) 加工3:ポリテトラフルオロエチレンのコーティング加
工(特開昭59−189963号記載の方法による) 加工4:ポリテトラフルオロエチレンのライニング加工
(特開昭59−189963号記載の方法でコーティン
グの代わりにライニングでポリテトラフルオロエチレン
を接着した) 加工5:本発明の化合物Aのコーティング加工(前記ス
プレーコーティング方法による) (評価方法) 評価 筋故障 前記塗布の試料を通常の黒白ハロゲン化銀写真感光材料
用の現像処理により現像し、筋故障の発生本数を目視カ
ウントした。結果を下記のような塗布方向巾手10cm
当たりの筋発生本数のランクに分類して評価した。
【0032】 Aランク:筋発生無し Bランク:筋発生1本 Cランク:筋発生2〜3本 Dランク:筋発生4〜6本 Eランク:筋発生7〜10本 Fランク:筋発生11本以上 評価 ビードの乱れ 内側中央部に小型CCDカメラを設置したアクリル樹脂
製の透明なバックアップロールを用いて塗布を行い、塗
布中におけるスライドホッパーダイスの塗布巾手中央部
のビード挙動の映像を採取し、乱れの有無を目視評価し
た。
【0033】図4はその際のバックアップロール及びC
CDカメラの設置状況を示す斜視図である。
【0034】評価 表面耐性 各塗布装置を実際に十数回使用後、その表面、特にリッ
プ面とスライド面が接する部分の角部分をルーペにて目
視観察し、傷等の劣化状況を下記のような傷発生数のラ
ンクに分類して評価した。
【0035】 Aランク:傷無し Bランク:傷1〜2ヶ所有り Cランク:傷3〜5ヶ所有り Dランク:傷6〜10ヶ所有り Eランク:傷11ヶ所以上有り 尚、評価のみは、加工を施す場所を4通り、即ち図1
で、Iのみ、IIのみ、IIIのみ、I及びII及びIIIの全て
の組合せでの評価を実施した。評価以外は、その加工
部分はI及びII及びIIIとした。
【0036】又、前記加工1〜5のものについて、オフ
ラインで下記のような測定を行い、評価に加えた。
【0037】評価 撥水性 23℃55RH%調温調湿の部屋で、前記加工1〜5を
施したステンレス面に一定量の水滴を滴下し、その側面
映像を拡大写真撮影し現像プリントして、水滴による液
滴接触角を分度器で測定した。測定は該試料幅手で5ヶ
所行い、最大値及び最小値を除いた残り3点の値の平均
値を求め、その値を比較評価した。
【0038】評価 異物付着性 図5に示すような波発生装置に、前記塗布で下層用塗布
液に使用したハロゲン化銀写真感光材料用沃臭化銀乳剤
液14を一定量入れ、前記加工1〜5を施した各試料板
Sをその中に浸し、一定時間(本実験では6時間)波発
生板Dを左右に動かすことにより発生する液面の波によ
って試料板上の接液線Eを上下動させ、その際に発生し
た目に見える大きさの乳剤塗布液被膜を目視カウント
し、下記のような接液線の単位長さ(本実験では5c
m)あたりの被膜発生数のランクに分類して評価した。
【0039】 Aランク:被膜発生無し Bランク:被膜発生1〜2ヶ所有り Cランク:被膜発生3〜5ヶ所有り Dランク:被膜発生6〜10ヶ所有り Eランク:被膜発生11ヶ所以上有り
【0040】
【表1】
【0041】
【表2】
【0042】表1及び2の結果から、本発明の加工を施
した塗布装置は各種評価項目において優れており全ての
条件を満足していることがわかる。
【0043】
【発明の効果】本発明において、フッ化炭素鎖を有する
シランカップリング剤という塗布装置の分野では新規な
高分子膜を簡便な方法で塗布装置のビード近傍/スリッ
ト内部/ポケット内部に適用して撥水性をもたせること
によって、従来の撥水性樹脂では全てを満足できなかっ
た事項、即ち、耐久性、寸法精度、撥水効果の長期間持
続、簡便なメンテナンスの全て満足することができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】スライドホッパー塗布装置における本発明を施
す部分の断面図
【図2】スライドホッパー塗布装置の断面図
【図3】ビード部の拡大図
【図4】CCDカメラの設置状況を示す斜視図
【図5】波発生装置の断面図
【符号の説明】
1 リップ 2 塗布液供給スリット 3 塗布液ポケット 4 塗布液供給管 5 スライド面 6 バックアップロール 7 ウェブ 8 減圧装置 9 ビード 10 上層塗布液(保護層) 11 下層塗布液(乳剤液) 12 塗布膜 13 リップ面 14 下層用塗布液に使用したハロゲン化銀写真感光材
料用沃臭化銀乳剤液 C CCDカメラ L 光源 D 波発生板 E 接液線 S ステンレス試料板

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 流量規制型のダイスを用いる塗布装置に
    おいて、下記I〜IIIの部分の少なくとも一ヶ所に、フ
    ッ化炭素鎖を有するシランカップリング剤を含む高分子
    膜を形成したことを特徴とする塗布装置。 I :前記塗布装置の先端部分の全金属面及びその近傍
    の金属面 II :前記塗布装置の塗布液供給スリット内部の塗布液
    に接する金属面 III:前記塗布装置の塗布液供給管内部及び塗布液ポケ
    ット内部の塗布液に接する金属面
  2. 【請求項2】 前記フッ化炭素鎖を有するシランカップ
    リング剤による高分子膜が下記一般式〔1〕で示される
    構造を有するものであることを特徴とする請求項1記載
    の塗布装置。 【化1】 〔式中、x、yは0以上の整数、nは自然数を表す。〕
JP7144499A 1995-06-12 1995-06-12 塗布装置 Pending JPH091028A (ja)

Priority Applications (2)

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