CN1143081A - 含支链烷基链的硅烷(类)化合物 - Google Patents
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Abstract
通式I的硅烷,其中n是1至5的整数,至少一个R基团代表可水解的基团,其选自卤素、烷氧基、仲氨基和氧羰基氢或氧羰基烷基,其它基团代表烷基,环烷基、芳基或一种上述可水解基团,其制备方法和它们的用途。
Description
此外,本发明还涉及制备通式I硅烷的方法,以及通式Ia的硅烷的用途其中n是0至5的整数,基团R如权利要求1所定义,用途包括用于多孔无机材料的疏水作用,用于制备色谱固定相,涂覆无机颜料、制备电子元件硅烷基质上的绝缘膜、用作涂覆材料或α-烯烃聚合的立体改性剂。
含长的正烷基链和至少一个连在硅原子上的可水解基团的硅烷用于玻璃的疏水(EPA535691)或其它无机材料的疏水(EP-A273867)。
DE2851456涉及用其中所定义管式反应器制备有机硅化合物的方法,管式反应器的特征是在其中的循环速度至少为1000cm/min。该文献的一个实施例公开了三氯硅烷与二异丁烯反应生成2,4,4-三甲基戊基三氯硅烷的反应。
EP-A252372涉及分子量500至30,000并带有硅基团的聚异丁烷的制备方法。得到的硅烷显示用作起始化合物的聚合物的分子量分布。这种不均匀的化学产品通常不是工业应用所期望的。例如,为了在无机材料上形成单分子层,只有含明确定义的烷基链的硅烷是适合的,可以形成高质量的层。对于其它应用,如保护建筑物,在官能团化聚异丁烯中的高分子量部分的反应显著地比低分子量部分慢,这是不利的。除此之外,由于聚异丁烯的不完全转化,导至非官能性的聚异丁烯在最终产物中存在。这也是不期望的,因为甲硅烷基化的聚异丁烷的应用是基于甲硅烷基的进一步反应。因此,在现有产物中存在起始化合物是可能不利的,因为它们不反应。
这还应用于聚烯烃,如在WO93/24539中所述其与甲硅烷基化试剂反应。
因此,本发明的目的是提供含长支链烷基链的化学均匀的硅烷。
因此,发现了以上定义的硅烷I和制备该硅烷I的方法。此外,本发明涉及如上定义的通式Ia硅烷在各种技术领域的应用,特别是无机材料的涂覆和作为α-烯烃聚合的立体改性剂。
根据本发明的硅烷I,除了支链烷基外,至少一个取代基R是可水解的。“可水解基团”这个术语是指其在水存在下反应,切断硅原子与可水解基团之间的键,生成硅烷醇,它可进一步反应如生成硅氧烷。
以下基团可用作可水解基团R:
-卤原子,如氟、氯和溴,优选氯和溴,特别优选氯,
-烷氧基,其中该基团可以是直链或支链的,优选C1-C12烷氧基,特别优选C1-C4烷氧基,如甲氧基、乙氧基、n-丙氧基和n-丁氧基。
-仲氨基,如二烷基氨基、芳基烷基氨基,例如甲基苯基氨基;和二芳基氨基,如二苯基氨基;优选二(C1-C6烷基)氨基,如二甲基氨基、二乙基氨基和二丁基氨基。
-氧基羰基氢和氧基羰基烷基,优选C2-C8的氧基羰基烷基,如氧基乙酰基和氧基丙酰基。
其它R基团也可以代表可水解的基团。除此之外,也可以是以下在水解条件下稳定的基团:
-烷基,其中这些基团可以是直链、支链或环状的,优选C1-C12烷基,特别优选C1-C6烷基,如甲基、乙基、n-丙基、异丙基、n-丁基、仲丁基、叔丁基、n-己基、环戊基和环己基,
-芳基,优选C6-C10芳基,特别优选苯基,其中芳基可以带一个或多个惰性取代基,如卤素或烷氧基。
特别要提到的是以下基团SiR3
三氯甲硅烷基、一氯二甲氧基甲硅烷基、二氯甲氧基甲硅烷基、三甲氧基甲硅烷基、二氯甲基甲硅烷基、二甲氧基甲基甲硅烷基、二乙氧基甲基甲硅烷基、三乙氧基甲硅烷基、二甲氧基环戊基甲硅烷基、叔丁基二甲氧基甲硅烷基和二甲氧基异丙基甲硅烷基。
特别优选的是以下的硅烷:
三氯(2,4,4,6,6-五甲基庚基)硅烷、
二氯甲基(2,4,4,6,6-五甲基庚基)硅烷、
二甲氧基甲基(2,4,4,6,6-五甲基庚基)硅烷、
二甲氧基(2,4,4,6,6-五甲基庚基)异丙基硅烷、
一氯二甲基(2,4,4,6,6-五甲基庚基)硅烷、
叔丁基二甲氧基(2,4,4,6,6-五甲基庚基)硅烷、
三氯(2,4,4,6,6,8,8-七甲基壬基)硅烷、
一氯(2,4,4,6,6,8,8-七甲基壬基)二甲氧基硅烷、
二氯(2,4,4,6,6,8,8-七甲基壬基)甲氧基硅烷、
(2,4,4,6,6,8,8-七甲基壬基)三甲氧基硅烷、
二氯(2,4,4,6,6,8,8-七甲基壬基)甲基硅烷、
三氯(2,4,4,6,6,8,8,10,10-九甲基十一烷基)硅烷、
三甲氧基(2,4,4,6,6,8,8,10,10-九甲基十一烷基)硅烷,或
二甲氧基(2,4,4,6,6,-五甲基庚基)环戊基硅烷。
硅烷I的支链烷基是由异-丁烯齐聚物衍生的。式II的齐聚物是本发明制备硅烷I的起始物料。其中n代表1-5的整数的异丁烯齐聚物是由工业聚合异丁烯生成聚异丁烯得到(C.E.SchildKnecht,Vinyl andRelated Polymers,New York 1952,P.534-571),并且异丁烯齐聚物可以通过蒸馏与其它聚合物分离。它们可以被精馏,由此得到超过90wt%,优选超过95wt%的含有相同碳原子数的异构体混合物。在分子内部含双键的异丁烯齐聚物混合物在氢化甲硅烷基化时以齐聚物II相同的方式发生部分反应,生成期望的产物I。优选反应的异丁烯中n代表1、2或3。
对于制备硅烷I,首先通常作为含所期望的异构体作为主要组份的不同异构体混合物形式的异丁烯齐聚物II与含SiH基团的硅烷进行双键加成。得到的硅烷I任意地进一步反应在硅原子上引入一定的取代基。
异丁烯齐聚物II与除氢外带有其它取代基,如氯、溴、烷基和/或芳基的硅烷反应。所有其它取代基,如以上提到的,优选通过进一步的反应导入。优选的硅烷是三氯硅烷、甲基二氯硅烷和二甲基氯硅烷。
氢化甲硅烷基化从“Comprehensive HandBook onHydrosilylation”,B.Marciniec,Oxford-New York得知。在该反应中,通常是异丁烯齐聚物II与等摩尔或过量的含SiH基团的硅烷反应。
该反应是在常规已知的氢化甲硅烷基化催化剂存在下进行的。所用的合适催化剂是以下化合物,如铂、铑或钌化合物,优选铂化合物,特别是六氯铂酸和二乙烯基硅氧烷-铂-O-配合物。这些催化剂的用量可以是每1kg异构体混合物10-2至10-6mol。
反应温度通常是80至160℃。通常反应是在常压下进行,但也可以在减压下进行或,如使用高度挥发性的硅烷,在高于大气压至10巴范围内进行。反应可连续或间歇地进行。
将起始化合物、催化剂或选择的溶剂如甲苯、二甲苯或松节油代用品混合,并且通常在反应温度加热2至24h。如果使用低沸点硅烷而不希望在加压下操作,硅烷可以在其它组分已加热到反应温度下加入。反应混合物根据已知方法进行处理,优选蒸馏。
通过如下已知方法经氯或溴取代物取代,可以在上述的氢化甲硅烷基化产物中进一步引入取代基:
-与氟化氢或三氟化锑反应,生成含氟硅烷I(W.Noll,“Chemie und Techologie der Silicone”,VCHWeinheim1960,P.59),
-与醇、原甲酸三烷基酯或碱金属醇盐反应,生成烷氧取代的硅烷I(“Methoden der Oeganischen Chemie”,Houben-Weyl,Vol.XIII/5,“Organosiliciumverbindungen”Stuttgart,1980),
-与羧酸或羟酸酐反应生成硅烷I的氧羰基取代物(S.Houben-Weyl,loc.cit.),
-与仲胺或它们的碱金属氨化物反应生成氨基取代的硅烷I(S.Horben-Weyl,Loc.cit),和
-与卤化烷基或环烷基镁或与烷基锂或钠或环烷基锂或钠反应生成含1或2个烷基或环烷基代替氯或溴基团的通式I的硅烷。
优选使用C2-C6烷基或C5-C6环烷基化合物用作所述烷基或环烷基化合物。更优选使用的是乙基、n-丙基、异丙基、n-丁基、仲丁基、n-己基、环戊基或环己基化合物。
当然,上述氢化甲烷基化产物可以进行一个以上的进一步反应。
根据本发明方法以高的产率制备硅烷I。
如上定义的式Ia硅烷,由于其基团水解生成活性的硅烷醇,它们主要被用于对底物要求有良好粘合力的技术领域。优选使用的是本发明式I的硅烷,这是因为它们表现出良好改进的粘合特性。更优选,使用以下硅烷:
三氯(2,4,4,6,6-五甲基庚基)硅烷,
二氯(2,4,4,6,6-五甲基庚基)甲基硅烷,
二甲氧基(2,4,4,6,6-五甲基庚基)甲基硅烷,
二甲氧基(2,4,4,6,6-五甲基庚基)异丙基硅烷,
一氯二甲基(2,4,4,6,6-五甲基庚基)硅烷,
叔丁基二甲氧基(2,4,4,6,6-五甲基庚基)硅烷,
二甲氧基(2,4,4,6,6-五甲基庚基)环戊基硅烷,
三氯(2,4,4,6,6,8,8-七甲基壬基)硅烷,
一氯(2,4,4,6,6,8,8-七甲基壬基)二甲氧基硅烷,
二氯(2,4,4,6,6,8,8-七甲基壬基)甲氧基硅烷,
(2,4,4,6,6,8,8-七甲基壬基)三甲氧基硅烷,
二氯(2,4,4,6,6,8,8-七甲基壬基)甲基硅烷,
三氯(2,4,4,6,6,8,8,10,10-九甲基十一基)硅烷,或
三甲氧基(2,4,4,6,6,8,8,10,10-九甲基十一基)硅烷。
这些硅烷用来制备改善无机材料疏水性特征的试剂。特别是,这些硅烷可以和其它硅烷一起使用,以改善多孔无机底物的浸渍性和疏水性,如天然石头、砖、混凝土或熟石膏面料,并改善其水排斥性、阻止水侵蚀和加速盐侵入。
使用这些硅烷,这类试剂的疏水性可明显改善,保护层的耐久性也可以增加。
制备这种疏水剂包括将一种或多种所述硅烷,优选三烷氧基硅烷,与在烷基中含1至6个碳原子的烷基三烷氧基硅烷和合适的溶剂和松节油代用品或C2-C6的醇混合制得。
通常在所述混合物中只加少量(1-10wt%)所述硅烷就能完全达到疏水效果。在这些混合物或溶液中可以加入缩合催化剂,如二月桂二丁基锡或原丁酸钛,它们改善这些疏水剂的应用特征,因为它们加速硅烷在无机底物表面的反应。此外,通过加入水,可以制成共水解产物,其与无水混合物或溶液相比有类似的特性。
此外,所述硅烷可以用来制备具有改善分离特性的色谱相。
制备这些色谱相的方法和技术记载于以下文献,并可以相类似方法应用:Journal of Chromatography Libra-ry,Vol.16:Porous Silica,Its Propertiesand Use asSupport in Column Liquid Chromatography,Unger,Klaus K.,Elsevier,Amsterdam1979。
例如,为制备这样的色谱相,硅胶可以悬浮于甲苯中,并在搅拌下加热沸腾。在悬浮液中加入三乙胺和一种本发明化合物,特别是三氯硅烷和三烷氧基硅烷。
这些硅烷可以用来涂覆无机颜料和填料,特别是以硅石为底物的无机颜料和填料,这样这些颜料抵抗大气影响的稳定性增加,并且其表面特性,如疏水性和光泽得以改善。此外,颜料与强非极性介质的配伍性被改善,导至这些颜料在非极性有机介质中的分散性更好。当用作让填料与例如高弹体配伍和混合时,本发明的硅烷特别有用。涂覆颜料的方法是已知,例如,G.Witucki,J.Coat.Technol.65(1993)822,57或E.P.Plueddemann,Silane Coupling Agents,PlenumPress,New York 1982。
这些硅烷还可以在电子设备上形成薄的绝缘膜。在此项应用中在硅底物或设备上生成单分子层。这些单分子层是自我集合的单层,其稳定性是由本发明化合物与硅上的硅氧化物层的硅醇基团反应形成的共价键提供的。
这些层可以由不同的方法产生。优选,通过浸泡或在底物上喷雾产生。通常,将0.5至2g一种或多种本发明化合物,优选含三氯甲硅烷基的化合物,溶于100g有机溶剂,如乙醇,随后将要浸泡的部件浸入溶液几分钟。然后将部件从浸泡槽中拿出,用溶剂冲洗,最后干燥。也可以升温干燥。如用含三烷氧基甲硅烷基硅烷I涂覆,建议在进行涂覆步骤前数小时加入少量水(例如5至10g),并将溶液用酸将pH值调至4.5至5.5,优选用乙酸调,这样烷氧基被水解,产生了能与底物表面反应的硅醇基团。
这此硅烷可以用作玻璃、有抗反射层的玻璃和经SiO2或MgF2涂覆的可塑玻璃的疏水涂覆层。
此外,这些硅烷可用作聚合α-烯烃的立体改性剂。同时在这种情况下,优选所用的硅烷是本发明通式I的硅烷,更优选式I的硅烷所含基团为两个甲氧基和一个C1-C6烷基或一个C5-C6环烷基。特别优选使用的式I硅烷,其两个基团R代表甲氧基,并且一个R代表甲基、异丙基、仲丁基、叔丁基、环戊基或环己基。
上述聚合的起始化合物优选使用C2-C10α烯烃,如乙烯、丙烯、1-丁烯、1-戊烯、1-已烯,更优选乙烯、丙烯和1-丁烯,特别优选丙烯。
上述硅烷与Ziegler-Natta型催化剂体系一起使用,如在EP-B14523,EP-A23425,EP-A45975,EP-A195497,EP-A250229,US4857613和DE-A-19609952中已知的。用于聚合α-烯烃的催化体系还含有五价钛化合物、卤化铝和/或烷基卤化铝、以及给电子化合物,如硅化合物,醚、羧酸酯、酮和内酯,它们与钛化合物混合使用或作为共催化剂。
实施例实施例1
制备三氯(2,4,4,6,6,8,8-七甲基壬基)硅烷
将在异丙醇中的0.1ml 0.1MH2PtCl6·6H2O溶液加到100g合成聚异丁烯的副产物馏份中,该馏份所含98wt%化合物含16个碳原子,形成的混合物被加热到120℃。将三氯硅烷(60g,0.44mol,)加到热烯烃中,温度在120℃保持16小时。然后,将产物蒸馏。
产率:96g
NMR数据
13C-NMR,δ(ppm)=25.1,25.4(2C),29.5,29.7,30.85,30.90(4C),32.7(3C),32.8(1C),35.7(1C),36.5(1C),37.8(1C),56.0(1C),56.4(1C),58.3(1C)
29Si-NMR,δ(ppm)=11.8
b.p.=117℃/0.3mbar
元素分析:C53.9%(计算值53.4),H9.0%(计算值9.24),C129.42%(计算值29.55)。实施例2
制备-氯(2,4,4,6,6,8,8-七甲基壬基)二甲氧基硅烷
除反应时间为4h,根据实施例1,79g齐聚物馏份与三氯硅烷(52g,0.38mol)反应所得粗产物,除去过量三氯硅烷,与122g(1.15mol)原甲酸三甲酯混合,回流8h。蒸馏反应混合物。得到的产物,二氯(2,4,4,6,6,8,8-七甲基壬基)甲氧基硅烷A31g,其中含21%-氯(2,4,4,6,6,8,8-七甲基壬基)二甲氧基硅烷B。
b.p.=95至115℃/<1mbar
NMR数据
29Si-NMR:δ(ppm)=-9.0ppm(A);-26,6(B)实施例3
制备(2,4,4,6,6,8,8-七甲基壬基)三甲氧基硅烷
根据实施例1步骤制备的211.5g(0.588mol)三氯(2,4,4,6,6,8,8-七甲基壬基)硅烷被加到在甲醇和1l四氢呋喃(THF)的甲醇钠30%溶液中。反应混合物搅拌4h。将沉淀的氯化钠分离后,将THF和甲醇蒸出,产物经蒸馏纯化。
产率:181.9g,89%
NMR数据
13C-NMR,δ(ppm)=21.1(1C),24.9(1C),25.9(1C),26.9,29.8,30.9,31.0(4C),32.8(1C),32.9(1C),36.5(1C),37.9(1C),50.7(3C),56.6(1C),56.9(1C),58.4(1C)
29Si-NMR,δ(ppm)=-42.1
b.p.=107to110℃/0.08mbar
元素分析:C65.9%(计算值65.83),H11.6%(计算值12.21)。实施例4
制备(2,4,4,6,6,8,8-七甲基壬基)三甲氧基硅烷
将33.5g(0.093mol)三氯(2,4,4,6,6,8,8-七甲基壬基)硅烷加热到100℃。将无水甲醇装到与反应器连接的洗瓶中。氩气(10l/h)通过洗瓶送到氯硅烷中。在6h中将18.8g(0.59mol)甲醇送入反应器。将产物中高挥发组分除去。
产率:32.2g,100%
29Si-NMR,δ(ppm)=42.1ppm
在H2PtCl6·6H2O有在下,于110℃经10h,用三甲氧基硅烷作起始化合物直接氢化甲硅烷基化,不发生反应。实施例5
制备三氯(2,4,4,6,6,8,8,10,10-九甲基十一基)硅烷
在100g至少97wt%化合物含20个碳原子的合成聚丁烯的副产物馏份中加入0.1ml0.1MH2PtCl6·6H2O在异丙醇中的溶液,并将混合物加热到120℃。加入三氯硅烷(60g,0.44mol),温度保持在120℃16h。接着,进行真空蒸馏。
产率:59g
NMR数据
13C-NMR,δ(ppm)=25.02(1C),25.07(1C),29.2,29.3,30.7,30.89,30.93(6C),32.4(3C),35.3(1C),32.5,36.2,37.65,37.72(4C),55.8,56.7,58.1,58.5(4C)
29Si-NMR,δ(ppm)=11.8
b.p.=158℃/0.2mbar,含量(GC):98.5%
元素分析:C58.7%(计算值57.74),H9.7%(计算值9.94),Cl25.56%(计算值25.57)。实施例6
制备二氯(2,4,4,6,6,8,8-七甲基壬基)甲基硅烷
在100g至少98wt%化合物含16个碳原子的合成聚丁烯的副产物馏份中加入0.1ml0.1MH2PtCl·6H2O在丙醇中的溶液,将混合物加热到120℃。在热烯烃中加入二氯甲基硅烷(50g,0.44mol),温度在120℃保持3h。接着进行真空蒸馏。
产率:104g
29Si-NMR数据,δ=31.7ppm
b.p.=114℃/0.3mbar,含量(GC):96%
元素分析:C60.1%(计算值60.15),H10.4%(计算值10.69),Cl20.5%(计算值20.89)。实施例7
制备三氯(2,4,4,6,6-五甲基庚基)硅烷
在100g至少95wt%化合物含12个碳原子的合成聚异丁烷副产物馏份中加0.1ml在二甲苯中的二乙烯基硅氧烷-铂-O-配合物(3-3.5%pt),将混合物加热至120℃。在热烯烃中加入三氯硅烷(80g,0.59mol),温度在120℃保持7h。接着进行真空蒸馏。
产率:97g
29Si-NMR数据,δ=11.8ppm
b.p.=106℃/0.3mbar
氯含量:35.17%(计算值35.01)
元素分析:C47.4%(计算值47.44),H8.4%(计算值8.30)实施例8
制备三甲氧基(2,4,4,6,6,8,8,10,10-九甲基十一基)硅烷
在108g甲醇钠在甲醇中30%溶液和300mlTHF中加入83.2g(0.2mol)三氯(2,4,4,6,6,8,8,10,10-九甲基十一基)硅烷,产生强放热反应。滴加完成后,搅拌30分钟,分离出沉淀的氯化钠。将THF和甲醇蒸出,蒸馏纯化产物。
产率:66g,82%
NMR数据
13C-NMR,δ(ppm)=21.2,24.9(1C),25.9(1C),29.7,29.9,31.1,31.3,31.5(6C),32.8(3C),32.9,36.5,38.1,38.2(4C),50.7(3C),57.2,57.3,58.6,59.0(4C)
29Si-NMR,δ(ppm)=-42.1
b.p.=125to130℃/0.01bar
元素分析:C68.2%(计算值68.55),H12.1%(计算值12.51)实施例9
制备二氯(2,4,4,6,6-五甲基庚基)异丙基硅烷
根据实施例7制备的137.8g三氯(2,4,4,6,6-五甲基庚基)硅烷溶于甲苯中,在氩气下加热到100℃。通过滴液漏斗在1h内加入220ml在THF中的2mol氯化异丙基镁。接着将THF在塔中蒸出,反应混合物在100℃搅拌20h。过滤分离沉淀固体,真空蒸馏分离产物。
产率:59.3g,42%
b.p.=80℃/0.015mbar
29Si-NMR数据,δ(ppm)=34.7实施例10
制备二甲氧基(2,4,4,6,6-五甲基庚基)异丙基硅烷
根据实施例9制备的64.8g二氯(2,4,4,6,6-五甲基庚基)异丙基硅烷在氩气下溶于250ml无水THF中。在快速搅拌下在30min内滴加77g甲醇钠(30.1%,在甲醇中),反应混合物在室温搅拌2h。分离沉淀的氯化钠,用旋转蒸发器除去溶剂,残留物用Vigreux塔蒸馏。
产率:54.6g,89%
b.p.=83℃/0.015mbar
纯度(GC)=99.5F1-%
元素分析:C67.2%(计算值67.48),H12.3%(计算值12.66),Si9.1%(计算值9.28)
13C-NMR数据,δ(ppm)=12.7(1C),17.0(2C),22.1(1C),24.6(1C),25.7(1C),29.0(1C),29.2(1C),32.2(3C),32.4(1C),35.9(1C),50.5(2C),55.7(1C),56.6(1C)
29Si-NMR数据,δ(ppm)=-5.2
Claims (8)
1.通式I的硅烷其中n是1至5的整数,至少一个基团R代表可水解的基团,其选自卤素、烷氧基、仲氨基和氧羰基氢或氧羰基烷基,其它基团代表烷基、环烷基、芳基或一个所述可水解基团。
2.如权利要求1所述的硅烷,其中至少一个基团R代表氯或C1-C4烷氧基。
3.如权利要求1或2所述的硅烷,其中基团SiR3选自三氯甲硅烷基、一氯二甲氧基甲硅烷基、二氯-甲氧基甲硅烷基、三甲氧基甲硅烷基、二甲氧基甲基甲硅烷基、二甲氧基异丙基甲硅烷基、二乙氧基甲基甲硅烷基、三乙氧基甲硅烷基、一氯二甲基甲硅烷基和二氯甲基甲硅烷基。
4.如权利要求1至3中之一硅烷,其中n代表1、2或3。
5.三氯(2,4,4,6,6-五甲基庚基)硅烷、
二氯甲基(2,4,4,6,6-五甲基庚基)硅烷、
二甲氧基甲基(2,4,4,6,6-五甲基庚基)硅烷、
二甲氧基(2,4,4,6,6-五甲基庚基)异丙基硅烷、
一氯二甲基(2,4,4,6,6-五甲基庚基)硅烷、
叔丁基二甲氧基(2,4,4,6,6-五甲基庚基)硅烷、
三氯(2,4,4,6,6,8,8-七甲基壬基)硅烷、
一氯(2,4,4,6,6,8,8-七甲基壬基)二甲氧基硅烷、
二氯(2,4,4,6,6,8,8-七甲基壬基)甲氧基硅烷、
(2,4,4,6,6,8,8-七甲基壬基)三甲氧基硅烷、
二氯(2,4,4,6,6,8,8-七甲基壬基)甲基硅烷、
三氯(2,4,4,6,6,8,8,10,10-九甲基十一烷基)硅烷、
三甲氧基(2,4,4,6,6,8,8,10,10-九甲基十一烷基)硅烷,或
二甲氧基(2,4,4,6,6-五甲基庚基)环戊基硅烷。
7.根据权利要求6所述方法,其特征在于权利要求6的式II异丁烯齐聚物与三氯硅烷、甲基二氯硅烷基或二甲基一氯硅烷反应。
8.式Ia硅烷的用途,其中n是0至5的整数,R基团如在权利要求1中所定义,用于多孔无机材料的疏水化,用于制备色谱相,用于涂覆无机颜料,用于制备电子设备硅底物上的绝缘膜,用于涂覆玻璃或用于聚合α烯烃的立体改性剂。
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