CN113661444A - 柔性版印刷版用水性显影液及柔性版印刷版的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明的课题在于提供一种柔性版印刷版用水性显影液及使用了该水性显影液的柔性版印刷版的制造方法,所述柔性版印刷版用水性显影液能够维持良好的显影性且抑制重复使用后用水稀释而成的显影液中的分散物的凝聚。本发明的柔性版印刷版用水性显影液为含有由下述式(1)表示的表面活性剂和水的柔性版印刷版用水性显影液。

Description

柔性版印刷版用水性显影液及柔性版印刷版的制造方法
技术领域
本发明涉及一种柔性版印刷版用水性显影液及使用了该水性显影液的柔性版印刷版的制造方法。
背景技术
近年来,从改善工作环境或保全地球环境的观点考虑,各个行业出现减少使用有机溶剂的趋势,在用于印刷的感光性柔性版印刷版的制版工序中的可水性显影的感光性树脂版的使用也处于正在增加的状况。
例如,专利文献1中记载有“一种感光性高分子用水性显影液组合物,其特征在于,包含HLB10~14的碳原子数8~20的仲醇的环氧烷烃加成物及由下述式(I)表示的化合物。
[化学式1]
RO(AO)nR1……………(I)
〔上述式(I)中,R及R1为碳原子数2~6的烷基或烯基,A为碳原子数2~4的亚烷基,n为1~5的数。〕”([权利要求1])。
并且,在专利文献2中,记载有“一种感光性树脂用水性显影液组合物,所述水性显影液至少包括表面活性剂(A)、pH调节剂(B)、清洗促进剂(C)及水,其特征在于,表面活性剂(A)至少包含HLB12~16的碳原子数6~8的伯醇的环氧烷加成物,pH调节剂(B)为无机盐且水性显影液的pH为8~13,清洗促进剂(C)包含下述式(1)或式(II)所表示的化合物。
RO(AO)nR1……(I)
CnH2n+2…………(II)
上述式(I)中,R及R1为碳原子数2~6的烷基或烯基,A为碳原子数2~4的亚烷基,n为1~5的数。
上述式(II)中,n为6~20。”([权利要求1])。
以往技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2003-287906号公报
专利文献2:日本特开2004-317660号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
本发明人等对专利文献1及专利文献2中所记载的水性显影液进行了研究的结果,知道了显影性良好,但是存在如下问题,即,若将该水性显影液反复用于2次以上的显影中,则用水清洗(冲洗)残留于印刷版上或显影装置的浴槽的槽面等上的显影液时,分散物在用水稀释而成的显影液中凝聚并再次附着于印刷版上等而在被印刷物上产生污垢。
因此,本发明的课题在于提供一种能够维持良好的显影性且能够抑制在重复使用后用水稀释而成的显影液中的分散物的凝聚的柔性版印刷版用水性显影液及使用了该水性显影液的柔性版印刷版的制造方法。
用于解决技术课题的手段
本发明人等为了解决上述课题而进行深入研究的结果,发现配合了具有规定结构的表面活性剂的水性显影液能够维持良好的显影性且能够抑制在重复使用后用水稀释而成的显影液中的分散物的凝聚,从而完成了本发明。
即,本发明人等发现通过以下结构能够实现上述课题。
[1]一种柔性版印刷版用水性显影液,其含有由下述式(1)表示的表面活性剂和水。
[化学式2]
Figure BDA0003297335590000021
在此,上述式(1)中,
Ar表示m价的芳香族基团,m表示1~8的整数,
X表示1价的有机基团,p表示小于m的0~3的整数,当p为2或3时,多个X可以彼此相同或不同,
A表示碳原子数2~4的亚烷基,R表示氢原子或阴离子性基团,n表示1~100的整数,当n为2~100的整数时,多个A可以彼此相同或不同,当m-p为2~6的整数时,多个A、n及R均可以彼此相同或不同。
[2]根据[1]所述的柔性版印刷版用水性显影液,其中,表面活性剂的含量为0.1~20质量%。
[3]根据[1]或[2]所述的柔性版印刷版用水性显影液,其中,上述式(1)中的X为芳烷基。
[4]根据[3]所述的柔性版印刷版用水性显影液,其中,上述式(1)中的X为2-苯基乙烷-2-基或苄基。
[5]根据[1]至[4]中任一项所述的柔性版印刷版用水性显影液,其中,上述式(1)中的p表示1~3的整数。
[6]根据[1]至[5]中任一项所述的柔性版印刷版用水性显影液,其中,上述式(1)中的R表示氢原子。
[7]一种柔性版印刷版的制造方法,所述柔性版印刷版具有非图像部及图像部,所述制造方法具有:
曝光工序,对具有感光层的柔性版印刷版原版的所述感光层以图像状进行曝光;
显影工序,在曝光工序之后,使用[1]~[6]中任一项所述的柔性版印刷版用水性显影液进行显影,形成非图像部及图像部;及
冲洗工序,在显影工序之后,使用水进行冲洗。
发明效果
根据本发明,能够提供一种能够维持良好的显影性且能够抑制在重复使用后用水稀释而成的显影液中的分散物的凝聚的柔性版印刷版用水性显影液及使用了该水性显影液的柔性版印刷版的制造方法。
具体实施方式
以下,对本发明进行详细的说明。
以下所记载的构成要件的说明是根据本发明的代表性实施方式而完成的,但是本发明并不限定于这种实施方式。
另外,在本申请说明书中,使用“~”表示的数值范围是指将记载于“~”前后的数值作为下限值及上限值而包含的范围。
并且,在本说明书中,各成分可以单独使用一种对应于各成分的物质,也可以同时使用两种以上。在此,关于各成分,当同时使用两种以上的物质时,只要没有特别指定,则关于该成分的含量是指同时使用的物质的合计含量。
[柔性版印刷版用水性显影液]
本发明的柔性版印刷版用水性显影液(以下,也简称为“本发明的水性显影液”。)为含有由下述式(1)表示的表面活性剂(以下,也简称为“特定表面活性剂”。)和水的柔性版印刷版用水性显影液。
[化学式3]
Figure BDA0003297335590000041
在本发明中,如上所述,配合了特定表面活性剂的水性显影液能够维持良好的显影性且能够抑制重复使用后用水稀释而成的显影液中的分散物的凝聚。
其详细内容虽尚不明确,但是本发明人等推测为如下。
首先,水性显影液通常可以重复用于2次以上的显影中,但是例如在用于第2次显影的显影液中作为分散物存在通过第1次的显影从柔性版印刷版原版去除的版材即末曝光部(未固化)的版材。
因此认为,这是因为,在本发明中,通过配合特定表面活性剂,特定表面活性剂与分散物吸附,从而即使假设在冲洗工序中用水稀释时,也能够维持吸附状态。具体而言,认为上述式(1)中的由[X]p-Ar-表示的结构部分(疏水部)吸附于或接近于分散物的周围,并且,由-[O-(AO)n-R]m-p表示的结构部分(亲水部)使分散物在水中的分散稳定,因此能够抑制分散物的凝聚。
以下,对本发明的水性显影液所含有的各成分进行详细的说明。
〔特定表面活性剂〕
本发明的水性显影液所含有的特定表面活性剂是由下述式(1)表示的表面活性剂。
[化学式4]
Figure BDA0003297335590000042
上述式(1)中,Ar表示m价的芳香族基团,m表示1~8的整数。
并且,上述式(1)中,X表示1价的有机基团,p表示小于m的0~3的整数。当p为2或3时,多个X可以彼此相同或不同,
并且,上述式(1)中,A表示碳原子数2~4的亚烷基,R表示氢原子或阴离子性基团,n表示1~100的整数。当n为2~100的整数时,多个A可以彼此相同或不同,当m-p为2~6的整数时,多个A、n及R均可以彼此相同或不同。
上述式(1)中的Ar所表示的芳香族基团是指包含具有芳香族性的环的基团,例如,可列举具有选自由芳香族烃环及芳香族杂环组成的组中的至少一个芳香环的m价的基团等。
在此,作为芳香族烃环,例如可列举苯环、萘环、蒽环、菲咯啉环等,作为芳香族杂环,例如可列举呋喃环、吡咯环、噻吩环、吡啶环、噻唑环、苯并噻唑环等。
并且,上述式(1)中的Ar所表示的芳香族基团的价数(m)为1~8的整数,优选为2~6的整数,更优选为2~4的整数,进一步优选为2或3。
其中,作为Ar,优选为2价的苯环(即,亚苯基)、1价的萘环(即,萘基),更优选为亚苯基。
作为上述式(1)中的X所表示的1价的有机基团,例如可列举烷基、环烷基、芳基、芳烷基、烯基等,这些基团可进一步具有取代基。
作为烷基,例如可列举碳原子数1~18的直链状或支链状的烷基,具体而言,可列举甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、叔戊基、正己基等。
作为环烷基,例如可列举碳原子数3~20的单环或多环的环烷基,具体而言,可列举环戊基、环戊基甲基、环戊基乙基、环己基、环己基甲基、环己基乙基等。
作为芳基,例如可列举碳原子数6~14的芳基,具体而言,例如可列举苯基、甲基苯基、甲苯基、二甲苯基、萘基、蒽基、菲基、芘基等。
作为芳烷基,例如可列举碳原子数7~20的芳烷基,具体而言,可列举苄基、苯乙基、2-苯基乙烷-2-基、萘基甲基等。
作为烯基,例如可列举碳原子数3~20的烯基,具体而言,可列举乙烯基、烯丙基等。
这些有机基团中,从能够进一步抑制分散物的凝聚的原因考虑,上述式(1)中的X优选为芳烷基,更优选为2-苯基乙烷-2-基或苄基。
另外,2-苯基乙烷-2-基及苄基的结构分别如下述式(X-1)及(X-2)所示,但是关于由下述式(X-1)表示的结构(2-苯基乙烷-2-基),也称为“苯乙烯化”或“苯乙烯基”。
[化学式5]
Figure BDA0003297335590000061
上述式(1)中的p表示小于m的0~3的整数,但是从能够进一步抑制分散物的凝聚的原因考虑,优选表示1~3的整数,更优选表示1或2。
另外,上述式(1)的m-p优选为1~3的整数,更优选为1或2,进一步优选为1。
上述式(1)中的A表示碳原子数2~4的亚烷基,但是优选为碳原子数2或3的亚烷基,更优选为乙烯基或亚正丙基。
作为上述式(1)中的R的一方式所表示的阴离子性基团,具体而言,例如可列举硫酸基(-SO3 -)、羧基(-CO2 -)、磷酸基(-PO3 2-)。其中,优选为硫酸基。
这些阴离子性基团可以构成盐。上述盐可以为与无机阳离子的盐,也可以为与有机阳离子的盐。
作为无机阳离子,可列举锂阳离子、钠阳离子、钾阳离子、钙阳离子、镁阳离子等。优选为锂阳离子、钠阳离子、钾阳离子,更优选为钠阳离子、钾阳离子。
作为有机阳离子,可列举铵(NH4+)、季铵、季吡啶鎓、季鏻等。优选为铵、季铵、季吡啶鎓,更优选为季铵。
上述式(1)中的R表示氢原子或阴离子性基团,但是从能够进一步抑制分散物的凝聚的原因考虑,优选为氢原子。
上述式(1)中的n表示1~100的整数,但是从能够进一步抑制分散物的凝聚的原因考虑,优选为1~30的整数,更优选为5~20的整数,进一步优选为5~15的整数。
在本发明中,从能够进一步抑制分散物的凝聚的原因考虑,特定表面活性剂的HLB(Hydrophile-Lipophile Balance:亲水亲油平衡)值优选小于14,更优选为9~13。
在此,HLB值采用通过Griffin的计算公式求出的值。
在Griffin的计算公式中,使用S(酯的皂化值)的值和N(构成酯的脂肪酸的中和值)的值,根据下述式来计算HLB值。
HLB值越接近20越表示亲水,越接近0越表示亲油。
HLB值=20(1-S/N)
作为特定表面活性剂,具体而言,例如可列举:
聚氧乙烯苯乙烯化苯基醚、聚氧乙烯聚苯乙烯基苯基醚、聚氧乙烯二苯乙烯化苯基醚、由下述式(1-1)表示的聚氯乙烯三苯乙烯基苯基醚、聚氧乙烯苯乙烯化苯基醚硫酸铵、聚氧乙烯聚苯乙烯基苯基醚缩合物等聚氧化烯聚苯乙烯基苯基醚;
聚氧乙烯十二烷基苯基醚、聚氧乙烯苯基醚、聚氧乙烯苄基醚、聚氧乙烯β-萘基醚、聚氧乙烯双酚A醚、聚氧乙烯双酚F醚、聚氧乙烯枯基苯基醚、聚氧乙烯萘基醚、聚氧乙烯三苄基苯基醚、聚氧乙烯芳基醚、聚氧乙烯多环苯基醚、聚氧化烯多环苯基醚;等。
[化学式6]
Figure BDA0003297335590000071
在本发明中,特定表面活性剂的含量优选为0.1~20质量%,更优选为0.1~10质量%,进一步优选为1~5质量%。
〔水〕
本发明的水性显影液所含有的水并无特别限定,能够使用纯净水、蒸馏水、离子交换水、纯水及Milli-Q水等超纯水中的任一种。另外,Milli-Q水为通过作为Merck KGaA公司的超纯水制造装置的Milli-Q水制造装置而获得的超纯水。
本发明的水性显影液中所包含的水的含量相对于水性显影液的总质量优选为80~99.99质量%,更优选为90~99.9质量%。
〔碱金属碳酸盐/碱金属氢氧化物〕
从显影性变得更良好的原因考虑,本发明的水性显影液优选含有碱金属碳酸盐及碱金属氢氧化物中的至少一种,更优选至少含有碱金属碳酸盐。
其中,作为碱金属,具体而言,例如可以举出钠、钾及钙等。
并且,作为碱金属碳酸盐,具体而言,例如可以举出碳酸钠及碳酸钾等,其中,从安全性方面考虑,优选碳酸钠。
并且,作为碱金属氢氧化物,具体而言,例如可以举出氢氧化钠及氢氧化钾等。
在含有碱金属碳酸盐和/或碱金属氢氧化物的情况下的含量(在含有两者的情况下为合计的含量)相对于水性显影液的总质量优选为0.01~5质量%,更优选为0.1~1质量%。
〔金属螯合剂〕
从能够进一步抑制分散物的凝聚的原因考虑,本发明的水性显影液优选包含金属螯合剂。
作为金属螯合剂,具体而言,例如可列举柠檬酸、柠檬酸三钠、乙二胺四乙酸(EDTA)等。
〔其他成分〕
本发明的水性显影液能够根据需要配合各种添加剂作为任意成分。
作为添加剂,在不损害本发明的效果的范围内例如能够适当配合乙醇胺等烷醇胺;苯并三唑、苯甲酸等防腐剂;二醇类(例如,乙二醇等)、低级醇类(例如,乙醇等)等凝固点降低剂;硅酮类、多元醇类等消泡剂;等。
〔显影方法〕
关于使用了本发明的水性显影液的显影方法,可以举出与使用了以往众所周知的水性显影液的显影方法相同的方法,例如可以举出如下方法,即,使水性显影液与柔性版印刷版原版的未曝光部接触,施加刷子、水压、超声波等物理作用,以使构成末曝光部的感光层(感光性树脂组合物)分散于水性显影液中并去除。
此时,水性显影液可以使未曝光部浸渍,并且也可以在施加物理作用时连续地供给以使其接触。
并且,水性显影液在显影时的液温优选为20~60℃,更优选为30~50℃。
并且,作为通常所使用的物理作用力,使用刷子,可以适当选择毛的材质、粗细、长度、毛的密植度、配置、刷子的移动及旋转方向等。
〔柔性版印刷版原版〕
由本发明的水显影液显影的柔性版印刷版原版所具有的感光层(感光性树脂组合物)能够使用以往众所周知的感光性树脂组合物,例如可以举出含有水分散胶乳、橡胶、光聚合性单体、光聚合引发剂及表面活性剂等的树脂组合物。
<水分散胶乳>
树脂组合物所含有的水分散胶乳并无特别限定,能够使用以往众所周知的用于柔性版印刷版的水分散胶乳。
作为水分散胶乳,具体而言,例如可以举出聚丁二烯胶乳、天然橡胶胶乳、苯乙烯-丁二烯共聚物胶乳、丙烯腈-丁二烯共聚物胶乳、聚氯丁二烯胶乳、聚异戊二烯胶乳、聚氨酯胶乳、甲基丙烯酸甲酯-丁二烯共聚物胶乳、乙烯基吡啶聚合物胶乳、丁基聚合物胶乳、硫醇聚合物胶乳、丙烯酸酯聚合物胶乳等水分散胶乳聚合物;在这些聚合物上共聚丙烯酸及甲基丙烯酸等其他成分而获得的聚合物;等,这些可以单独使用一种,也可以同时使用两种以上。
<橡胶>
树脂组合物所含有的橡胶并无特别限定,能够使用以往众所周知的用于柔性版印刷版的橡胶材料。
作为上述橡胶,具体而言,例如可以举出丁二烯橡胶(BR)、丁腈橡胶(NBR)、丙烯酸橡胶、表氯醇橡胶、聚氨酯橡胶、异戊二烯橡胶、苯乙烯异戊二烯橡胶、苯乙烯丁二烯橡胶、乙烯-丙烯共聚物及氯化聚乙烯等,这些可以单独使用一种,也可以同时使用两种以上。
<光聚合性单体>
树脂组合物所含有的光聚合性单体并无特别限定,能够使用以往众所周知的用于柔性版印刷版的光聚合性单体。
作为光聚合性单体,例如可以举出烯键式不饱和化合物。
作为烯键式不饱和化合物,具体而言,例如可以举出(甲基)丙烯酸单体、(甲基)丙烯酸低聚物及(甲基)丙烯酸改性聚合物等。
并且,作为(甲基)丙烯酸改性聚合物,具体而言,例如可以举出(甲基)丙烯酸改性丁二烯橡胶及(甲基)丙烯酸改性丁腈橡胶等。
另外,“(甲基)丙烯酸”是表示丙烯酸或甲基丙烯酸的表述。
<光聚合引发剂>
树脂组合物所含有的光聚合引发剂只要引发上述光聚合性单体的光聚合,则并无特别限定,例如可以举出烷基苯酮类、苯乙酮类、苯偶姻醚类、二苯甲酮类、噻吨酮类、蒽醌类、苯偶酰类及双乙酰类等光聚合引发剂。
具体而言,例如可以举出苄基二甲基缩酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基-丙烷-1-酮、邻苯甲酰基苯甲酸甲酯及1-羟基环己基苯基酮等。
<表面活性剂>
从提高水显影性的观点考虑,树脂组合物所含有的树脂组合物优选含有表面活性剂。
作为表面活性剂,可以举出阳离子性表面活性剂、阴离子性表面活性剂及非离子性表面活性剂。其中,优选阴离子性表面活性剂。
作为阴离子性表面活性剂,具体而言,例如可以举出
月桂酸钠、油酸钠等脂肪族羧酸盐;
月桂基硫酸钠、十六烷基硫酸钠、油烯基硫酸钠等高级醇硫酸酯盐;
聚氧乙烯月桂基醚硫酸钠等聚氧乙烯烷基醚硫酸酯盐;
聚氧乙烯辛基苯基醚硫酸钠、聚氧乙烯壬基苯基醚硫酸钠等聚氧乙烯烷基烯丙基醚硫酸酯盐;
烷基二苯醚二磺酸盐、十二烷基磺酸钠、二烷基磺基琥珀酸钠等烷基磺酸盐;
烷基二磺酸盐、十二烷基苯磺酸钠、二丁基萘磺酸钠、三异丙基萘磺酸钠等烷基烯丙基磺酸盐;
月桂基磷酸单酯二钠、月桂基磷酸二酯钠等高级醇磷酸酯盐;
聚氧乙烯月桂基醚磷酸单酯二钠、聚氧乙烯月桂基醚磷酸二酯钠等聚氧乙烯烷基醚磷酸酯盐;等。
这些可以单独使用一种,也可以同时使用两种以上。
[柔性版印刷版的制造方法]
本发明的柔性版印刷版的制造方法具有:曝光工序,对具有感光层的柔性版印刷版原版的所述感光层以图像状进行曝光;显影工序,在曝光工序之后,使用上述本发明的柔性版印刷版用水性显影液进行显影,形成非图像部及图像部;及冲洗工序,在显影工序之后,使用水进行冲洗。
〔曝光工序〕
上述曝光工序为如下工序,即,通过在感光层上以图像状照射活性光线来引起活性光线所照射的区域的交联和/或聚合以使其固化。
关于上述曝光工序,能够通过设置在感光层的外面侧的掩模进行曝光来实施。
并且,使用真空帧曝光装置进行也为优选,在此情况下,在排出浮雕形成层与掩模之间的空气之后,进行基于活性光线的曝光。
并且,曝光可以在降低氧浓度的状态下进行,也可以在大气中进行,并无特别限定,但是从防止基于氧的聚合阻碍的观点而言,优选在低氧浓度下进行曝光。
〔显影工序〕
上述显影工序为使用上述本发明的水性显影液进行显影来形成非图像部及图像部的工序,详细而言,如在上述本发明的水性显影液的显影方法中所说明。
〔冲洗工序〕
上述冲洗工序为使用水对在上述显影工序中所形成的非图像部及图像部的表面进行冲洗的工序。
在本发明中,残留于非图像部及图像部的表面等上的显影液为上述本发明的水性显影液,因此即使在通过冲洗工序中所使用的水来稀释水性显影液的情况下,也能够抑制显影液中的分散物的附着及凝聚。
作为上述冲洗工序中的冲洗方法,可以举出用自来水进行水洗的方法、喷雾器喷射高压水的方法、作为柔性版印刷版的显影机使用众所周知的间歇式或输送式的刷式洗涤机主要在水的存在下刷擦非图像部及图像部的表面的方法等。
〔用途〕
本发明的柔性版印刷版用水性显影液除了能够用作柔性版印刷版用水性显影液以外,还能够用作清洗显影装置的浴槽的壁面等的清洗液。
实施例
以下,举出实施例对本发明进行进一步详细的说明。以下实施例所示的材料、使用量、比例、处理内容及处理顺序等,只要不脱离本发明的宗旨便能够适当地进行变更。从而,本发明的范围不应被以下所示的实施例做限定性解释。
〔实施例1~实施例22及比较例1~比较例4〕
制备以成为下述表1所示的质量份的方式配合了下述表1所示的水、表面活性剂、碱金属碳酸盐及添加剂的水性显影液。
〔评价用柔性版印刷版原版〕
<市售品>
在实施例1~14、16~22及比较例1~4的评价中,使用了市售的水显影型柔性版印刷版原版〔FLENEX FW-L2、Fujifilm Corporation制〕。
<产品>
在实施例15的评价中,使用了通过以下方法制作的柔性版印刷版原版。
(感光性树脂组合物的制备)
获得了含有水分散胶乳(Zeon Corporation制、Nipol LX111NF、聚丁二烯的水分散胶乳、同体成分55%)54.5质量份、1,9-壬二醇二甲基丙烯酸酯(Shin-NakamuraChemical Co.,Ltd.制、NK酯NOD-N)10质量份、遥爪聚合物(OSAKA ORGANIC CHEMICALINDUSTRY LTD制、BAC-45)(在两末端具有丙烯酰氧基的聚丁二烯、Mw=10,000)12质量份及聚氧乙烯月桂基醚(TakemotoOil&Fat Co.,Ltd.制、PIONIN D-1105)1质量份的混合物。
将该混合物、丁二烯橡胶(ASAHI KASEI CORPORATION制、NF35R)20质量份、增塑剂(液体石蜡)15质量份及表面活性剂(NOF CORPORATION制、RAPISOL A-80、有效成分80%)5质量份在设定为110℃的捏合机中混炼了45分钟。然后,在捏合机中投入热阻聚剂0.2质量份和光聚合引发剂(Tokyo Kagaku Kougyou Co.,Ltd.制、苄基二甲基缩酮)3质量份,并混炼5分钟,从而获得了感光性树脂组合物。
(红外线烧蚀层用层叠体的制作)
向丙烯酸树脂(Negami Chemical Industrial co.,ltd.制、High pearl M-5000)50质量份、弹性体(Zeon Corporation制、Nipol DN-101)50质量份、炭黑(MitsubishiChemical Corporation制、MA-8)100质量份中添加甲基异丁基酮812质量份,并通过叶片搅拌进行了混合。用油漆搅拌器使所获得的混合液分散之后,进一步添加甲基异丁基酮,以使固体成分成为15质量%,从而获得了聚合物/炭黑分散液(红外线烧蚀层用涂布液)。
接着,以干燥后的厚度成为1.0μm的方式使用棒涂布机在厚度75μm的PET薄膜(覆膜)的一面涂布红外线烧蚀层用涂布液之后,在设定为140℃的烤箱中干燥5分钟,制作了保护膜上形成有红外线烧蚀层的层叠体(红外线烧蚀层用层叠体)。
(柔性版印刷版原版的制作)
在厚度125μm的PET薄膜(基板)的一面涂布粘结剂,从而在基板上形成了粘结层。然后,将如上述那样制备的感光性树脂组合物夹在上述粘结层与如上述那样制作的红外线烧蚀层用层叠体的红外线烧蚀层之间,通过加热至80℃的压力机进行冲压以使感光性树脂组合物的层(感光层)的厚度成为1mm,从而制作了依次具有基板、粘结层、感光层、红外线烧蚀层及保护膜的柔性版印刷版原版。
〔评价〕
<显影性>
剥离下述表1中所记载的原版的覆膜,使用排列有15个40W的化学灯的曝光装置,从距基板侧15cm的位置进行了2秒钟(反曝光)的曝光。
之后,使用装有所制备的各水性显影液的刷式洗涤机(液温50℃)进行了3分钟的显影。
之后,通过60℃的热风进行了干燥,直至水分去除。对于所获得的柔性版印刷版,使用恒压厚度测定器测定厚度,由显影前后的厚度变化计算了每1分钟的膜厚变化(显影速度)。然后,根据以下基准进行了评价。将结果示于下述表1中。实用上,优选为B以上的评价。
(评价基准)
A:显影速度为170μm/min以上
B:显影速度为100μm/min以上且小于170μm/min
C:显影速度小于100μm/min
<凝聚抑制>
剥离下述表1中所记载的原版的覆膜,使用排列有15个40W的化学灯的曝光装置,从距基板侧15cm的位置进行了2秒钟(反曝光)的曝光。
然后,使用装有所制备的各水性显影液的刷式洗涤机(液温50℃)进行了任意时间显影,以使显影残渣(分散物)的固体成分成为5.0质量%。另外,关于显影残渣的固体成分,称取所使用的水性显影液(以下,也称为“疲劳溶液”。)1.0g,在85℃下干燥1小时,根据干燥前和干燥后的重量变化计算了疲劳溶液中的固体成分%。
接着,称取疲劳溶液1.0g(固体成分0.05g),并与硬度约60的井水9.0g混合。静置18小时之后,使用1.0μm细孔过滤器过滤了疲劳溶液。使过滤残渣充分干燥之后,测定质量,由固体成分变化计算了残渣凝聚度%。然后,根据以下基准进行了评价。将结果示于下述表1中。实用上,优选为B以上的评价。
残渣凝聚度%=(过滤残渣(g)÷0.05(g))×100
(评价基准)
A:残渣凝聚度小于25%
B:残渣凝聚度为25%以上且小于50%
C:残渣凝聚度为50%以上且小于75%
D:残渣凝聚度为75%以上
[表1]
Figure BDA0003297335590000151
上述表1的各成分使用了以下成分。
·PIONIN D-6112:聚氧乙烯聚苯乙烯基苯基醚(TAKEMOTO OIL&FAT CO.,LTD制)
·PIONIN D-6115:聚氧乙烯聚苯乙烯基苯基醚(TAKEMOTO OIL&FAT CO.,LTD制)
·PIONIN D-6112W:聚氧化烯聚苯乙烯基苯基醚(TAKEMOTO OIL&FAT CO.,LTD制)
·PIONIN D-6120:聚氧乙烯聚苯乙烯基苯基醚(TAKEMOTO OIL&FAT CO.,LTD制)
·EMULGEN A-60:聚氧乙烯二苯乙烯化苯基醚(Kao Corporation制)
·EMULGEN A-90:聚氧乙烯二苯乙烯化苯基醚(Kao Corporation制)
·EMULGEN A-500:聚氧乙烯二苯乙烯化苯基醚(Kao Corporation制)
·ELEMINOL HB-29:聚氧乙烯三苄基苯基醚(Sanyo Chemical Industries,Ltd.制)
·LATEMUL E-1000A:聚氧乙烯苯乙烯基苯基醚硫酸铵(Kao Corporatjon制)
·New Kargen FS-3PG:聚氧乙烯烯丙基苯基)醚磷酸胺盐(TAKEMOTOOIL&FATCO.,LTD制)
·New Kargen FS-7S:聚氧化烯烯丙基苯基醚硫酸盐·Na(TAKEMOTO OIL&FATCO.,LTD制)
·New Kargen P-205S30:聚氧化烯烯丙基苯基醚硫酸盐·Na(TAKEMOTOOIL&FATCO.,LTD制)
·Aqualon AR:聚氧乙烯苯乙烯化丙烯基苯基醚硫酸酯铵(DAIICHI KOGYO Co.,Ltd.制)
·Aqualon AN:聚氧乙烯苯乙烯化丙烯基苯基醚(DAIICHI KOGYO Co.,Ltd.制)
·PIONIN D-1105:聚氧乙烯月桂基醚(TAKEMOTO OIL&FAT CO.,LTD制)
·PIONIN D-1100:聚氧乙烯月桂基醚(TAKEMOTO OIL&FAT CO.,LTD制)
·PIONIN D-1105S:聚氧乙烯仲烷基醚(TAKEMOTO OIL&FAT CO.,LTD制)
·碳酸钠:FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制的试剂
·Finish清洗剂:ReckiLt Benckiser公司制的洗碗机用清洗剂
·柠檬酸三钠:FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制的试剂
如上述表1所示,可知当不配合表面活性剂时,显影性差,且无法抑制显影残渣的凝聚(比较例1)。
并且,可知当配合聚氧乙烯月桂基醚等、不是特定表面活性剂的表面活性剂时,虽然显影性良好,但是无法抑制显影残渣的凝聚(比较例2~4)。
相对于此,可知当配合特定表面活性剂时,能够维持良好的显影性并且能够抑制显影残渣的凝聚(实施例1~22)。
尤其,由实施例1~6的比较可知,若特定表面活性剂的HLB值小于14,则能够进一步抑制显影残渣的凝聚。
并且,由实施例1与实施例9的比较可知,若特定表面活性剂的含量为1~5质量%,则能够进一步抑制显影残渣的凝聚。
并且,由实施例1、实施例10及实施例11的比较可知,当配合碱金属碳酸盐时,显影性变得更良好。
并且,由实施例10与实施例12的比较及实施例11与实施例13的比较可知,当配合金属螯合剂时,能够进一步抑制显影残渣的凝聚。

Claims (7)

1.一种柔性版印刷版用水性显影液,其含有由下述式(1)表示的表面活性剂和水,
Figure FDA0003297335580000011
在此,所述式(1)中,
Ar表示m价的芳香族基团,m表示1~8的整数,
X表示1价的有机基团,p表示小于m的0~3的整数,当p为2或3时,多个X彼此相同或不同,
A表示碳原子数2~4的亚烷基,R表示氢原子或阴离子性基团,n表示1~100的整数,当n为2~100的整数时,多个A彼此相同或不同,当m-p为2~6的整数时,多个A、n及R均彼此相同或不同。
2.根据权利要求1所述的柔性版印刷版用水性显影液,其中,
所述表面活性剂的含量为0.1质量%~20质量%。
3.根据权利要求1或2所述的柔性版印刷版用水性显影液,其中,
所述式(1)中的X为芳烷基。
4.根据权利要求3所述的柔性版印刷版用水性显影液,其中,
所述式(1)中的X为2-苯基乙烷-2-基或苄基。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的柔性版印刷版用水性显影液,其中,
所述式(1)中的p表示1~3的整数。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的柔性版印刷版用水性显影液,其中,
所述式(1)中的R表示氢原子。
7.一种柔性版印刷版的制造方法,所述柔性版印刷版具有非图像部及图像部,所述制造方法具有:
曝光工序,对具有感光层的柔性版印刷版原版的所述感光层以图像状进行曝光;
显影工序,在所述曝光工序之后,使用权利要求1至6中任一项所述的柔性版印刷版用水性显影液进行显影,形成非图像部及图像部;及
冲洗工序,在所述显影工序之后,使用水进行冲洗。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP4254066A4 (en) * 2020-11-30 2024-05-22 Fujifilm Corp AQUEOUS DEVELOPER FOR FLEXOGRAPHIC PRINTING PLATE AND METHOD FOR PRODUCING A FLEXOGRAPHIC PRINTING PLATE

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06258847A (ja) * 1993-03-09 1994-09-16 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd フレキソ印刷版用現像液組成物
JPH09171261A (ja) * 1995-12-20 1997-06-30 Toagosei Co Ltd アルカリ現像液
JP2009143988A (ja) * 2007-12-11 2009-07-02 Fuji Seal International Inc 水系エマルジョン型感熱接着剤、感熱ラベルおよびラベル付き容器
CN104136995A (zh) * 2012-02-27 2014-11-05 富士胶片株式会社 平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2985655B2 (ja) * 1993-03-31 1999-12-06 日本ゼオン株式会社 感光性組成物、感光性ゴム版およびその製法並びにフ レキソ印刷版およびその製法
JPH08339090A (ja) * 1995-06-12 1996-12-24 Toagosei Co Ltd 感光性フレキソ版の溶出用水性組成物およびその応用
JPH0940728A (ja) * 1995-07-31 1997-02-10 Nippon Paint Co Ltd 変性ブロック共重合体およびその応用
DE69817281T2 (de) * 1997-02-27 2004-06-17 Toyo Boseki K.K. Entwickler für photoempfindliche harzplatte
JP2003066605A (ja) * 2001-08-23 2003-03-05 Asahi Kasei Corp フレキソ印刷用感光性樹脂組成物
JP4147312B2 (ja) 2002-03-28 2008-09-10 旭化成ケミカルズ株式会社 感光性高分子用水性現像液組成物
JP4323206B2 (ja) 2003-04-14 2009-09-02 旭化成イーマテリアルズ株式会社 感光性樹脂用水性現像液
CN1828429A (zh) * 2005-02-28 2006-09-06 明德国际仓储贸易(上海)有限公司 显影液组成物
JP2010234554A (ja) * 2009-03-30 2010-10-21 Fujifilm Corp 印刷版の作製方法
CN104395834B (zh) * 2012-06-29 2019-07-05 富士胶片株式会社 显影处理废液浓缩方法及显影处理废液的再循环方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06258847A (ja) * 1993-03-09 1994-09-16 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd フレキソ印刷版用現像液組成物
JPH09171261A (ja) * 1995-12-20 1997-06-30 Toagosei Co Ltd アルカリ現像液
JP2009143988A (ja) * 2007-12-11 2009-07-02 Fuji Seal International Inc 水系エマルジョン型感熱接着剤、感熱ラベルおよびラベル付き容器
CN104136995A (zh) * 2012-02-27 2014-11-05 富士胶片株式会社 平版印刷版原版及平版印刷版的制作方法

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