JP7261869B2 - フレキソ印刷版用水性現像液およびフレキソ印刷版の製造方法 - Google Patents
フレキソ印刷版用水性現像液およびフレキソ印刷版の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7261869B2 JP7261869B2 JP2021513586A JP2021513586A JP7261869B2 JP 7261869 B2 JP7261869 B2 JP 7261869B2 JP 2021513586 A JP2021513586 A JP 2021513586A JP 2021513586 A JP2021513586 A JP 2021513586A JP 7261869 B2 JP7261869 B2 JP 7261869B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flexographic printing
- group
- printing plate
- aqueous developer
- integer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 17
- -1 2-phenylethan-2-yl group Chemical group 0.000 claims description 69
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 30
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 20
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 15
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 10
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 7
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 25
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 25
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 25
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 21
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 19
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 19
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical class C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 17
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 14
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 9
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 9
- DQYSALLXMHVJAV-UHFFFAOYSA-M 3-heptyl-2-[(3-heptyl-4-methyl-1,3-thiazol-3-ium-2-yl)methylidene]-4-methyl-1,3-thiazole;iodide Chemical compound [I-].CCCCCCCN1C(C)=CS\C1=C\C1=[N+](CCCCCCC)C(C)=CS1 DQYSALLXMHVJAV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 7
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 7
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 7
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 6
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 4
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000003352 sequestering agent Substances 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012901 Milli-Q water Substances 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 3
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 3
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L sulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])[O-] QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 3
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 2
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N Potassium ion Chemical compound [K+] NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 2
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 150000001767 cationic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 229910001411 inorganic cation Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003049 isoprene rubber Polymers 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 description 2
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- POSICDHOUBKJKP-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoxybenzene Chemical compound C=CCOC1=CC=CC=C1 POSICDHOUBKJKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical group C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000001509 sodium citrate Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 2
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 2
- HRXKRNGNAMMEHJ-UHFFFAOYSA-K trisodium citrate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O HRXKRNGNAMMEHJ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229940038773 trisodium citrate Drugs 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N vinyl-ethylene Natural products C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- VQJMAIZOEPPELO-KYGIZGOZSA-N (1S,2S,6R,14R,15R,16R)-5-(cyclopropylmethyl)-16-(2-hydroxy-5-methylhexan-2-yl)-15-methoxy-13-oxa-5-azahexacyclo[13.2.2.12,8.01,6.02,14.012,20]icosa-8(20),9,11-trien-11-ol hydrochloride Chemical compound Cl.CO[C@]12CC[C@@]3(C[C@@H]1C(C)(O)CCC(C)C)[C@H]1Cc4ccc(O)c5O[C@@H]2[C@]3(CCN1CC1CC1)c45 VQJMAIZOEPPELO-KYGIZGOZSA-N 0.000 description 1
- CMCBDXRRFKYBDG-UHFFFAOYSA-N 1-dodecoxydodecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCOCCCCCCCCCCCC CMCBDXRRFKYBDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROGIWVXWXZRRMZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1 ROGIWVXWXZRRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZRLNYVDCIYXPG-UHFFFAOYSA-N 2-naphthalen-2-yloxynaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC(OC=3C=C4C=CC=CC4=CC=3)=CC=C21 DZRLNYVDCIYXPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJVIKVWFGPLAFS-UHFFFAOYSA-N 9-(2-methylprop-2-enoyloxy)nonyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C YJVIKVWFGPLAFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004709 Chlorinated polyethylene Substances 0.000 description 1
- QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N Disodium Chemical compound [Na][Na] QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical group C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N Methyl 2-benzoylbenzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 NQSMEZJWJJVYOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- LULCPJWUGUVEFU-UHFFFAOYSA-N Phthiocol Natural products C1=CC=C2C(=O)C(C)=C(O)C(=O)C2=C1 LULCPJWUGUVEFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYFOMFSECSVAHX-UHFFFAOYSA-N S(=O)(=O)([O-])[O-].[NH4+].C1(=CC=CC=C1)OC=CC.[NH4+] Chemical class S(=O)(=O)([O-])[O-].[NH4+].C1(=CC=CC=C1)OC=CC.[NH4+] PYFOMFSECSVAHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BCKXLBQYZLBQEK-KVVVOXFISA-M Sodium oleate Chemical compound [Na+].CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC([O-])=O BCKXLBQYZLBQEK-KVVVOXFISA-M 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N Sulfobutanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)S(O)(=O)=O ULUAUXLGCMPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical group C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000008055 alkyl aryl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical group 0.000 description 1
- 229940045714 alkyl sulfonate alkylating agent Drugs 0.000 description 1
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008378 aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004210 cyclohexylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004851 cyclopentylmethyl group Chemical group C1(CCCC1)C* 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- YVIGPQSYEAOLAD-UHFFFAOYSA-L disodium;dodecyl phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].CCCCCCCCCCCCOP([O-])([O-])=O YVIGPQSYEAOLAD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 229920005558 epichlorohydrin rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 229940057995 liquid paraffin Drugs 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940006487 lithium cation Drugs 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000004923 naphthylmethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C* 0.000 description 1
- 229920006173 natural rubber latex Polymers 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 125000005496 phosphonium group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- OCDPVICYFFZSFE-UHFFFAOYSA-N prop-1-enoxybenzene Chemical class CC=COC1=CC=CC=C1 OCDPVICYFFZSFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 1
- 125000001725 pyrenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003333 secondary alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229940080236 sodium cetyl sulfate Drugs 0.000 description 1
- BTURAGWYSMTVOW-UHFFFAOYSA-M sodium dodecanoate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCC([O-])=O BTURAGWYSMTVOW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 229940082004 sodium laurate Drugs 0.000 description 1
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 1
- KZOJQMWTKJDSQJ-UHFFFAOYSA-M sodium;2,3-dibutylnaphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(S([O-])(=O)=O)=C(CCCC)C(CCCC)=CC2=C1 KZOJQMWTKJDSQJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NHQVTOYJPBRYNG-UHFFFAOYSA-M sodium;2,4,7-tri(propan-2-yl)naphthalene-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CC(C)C1=CC(C(C)C)=C(S([O-])(=O)=O)C2=CC(C(C)C)=CC=C21 NHQVTOYJPBRYNG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MWZFQMUXPSUDJQ-KVVVOXFISA-M sodium;[(z)-octadec-9-enyl] sulfate Chemical compound [Na+].CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOS([O-])(=O)=O MWZFQMUXPSUDJQ-KVVVOXFISA-M 0.000 description 1
- DAJSVUQLFFJUSX-UHFFFAOYSA-M sodium;dodecane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCS([O-])(=O)=O DAJSVUQLFFJUSX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GGHPAKFFUZUEKL-UHFFFAOYSA-M sodium;hexadecyl sulfate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O GGHPAKFFUZUEKL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 229920006250 telechelic polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 235000020681 well water Nutrition 0.000 description 1
- 239000002349 well water Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/322—Aqueous alkaline compositions
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/12—Printing plates or foils; Materials therefor non-metallic other than stone, e.g. printing plates or foils comprising inorganic materials in an organic matrix
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2004—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light
- G03F7/2006—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light using coherent light; using polarised light
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2014—Contact or film exposure of light sensitive plates such as lithographic plates or circuit boards, e.g. in a vacuum frame
- G03F7/2016—Contact mask being integral part of the photosensitive element and subject to destructive removal during post-exposure processing
- G03F7/202—Masking pattern being obtained by thermal means, e.g. laser ablation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
〔上記式(I)中、R及びR1は、炭素数2~6のアルキル基又はアルケニル基であり、Aは炭素数2~4のアルキレン基であり、nは1~5の数である。〕」が記載されている([請求項1])。
RO(AO)nR1 ・・・・・・・・・(I)
CnH2n+2 ・・・・・・・・・・・・・(II)
上記式で(I)中、R及びR1は、炭素数2~6のアルキル基又はアルケニル基であり、Aは炭素数2~4のアルキレン基であり、nは1~5の数である。
上記式で(II)中、nは6~20である。」が記載されている([請求項1])。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。
ここで、上記式(1)中、
Arは、m価の芳香族基を表し、mは、1~8の整数を表す。
Xは、1価の有機基を表し、pは、mより小さい0~3の整数を表す。pが2または3である場合、複数のXは、互いに同一であっても異なっていてもよい。
Aは、炭素数2~4のアルキレン基を表し、Rは、水素原子またはアニオン性基を表し、nは、1~100の整数を表す。nが2~100の整数である場合、複数のAは、互いに同一であっても異なっていてもよい。m-pが2~6の整数である場合、複数のA、nおよびRは、いずれも、互いに同一であっても異なっていてもよい。
[3] 上記式(1)中のXが、アラルキル基である、[1]または[2]に記載のフレキソ印刷版用水性現像液。
[4] 上記式(1)中のXが、2-フェニルエタン-2-イル基またはベンジル基である、[3]に記載のフレキソ印刷版用水性現像液。
[5] 上記式(1)中のpが、1~3の整数を表す、[1]~[4]のいずれかに記載のフレキソ印刷版用水性現像液。
[6] 上記式(1)中のRが、水素原子を表す、[1]~[5]のいずれかに記載のフレキソ印刷版用水性現像液。
感光層を有するフレキソ印刷版原版に対して、感光層を画像様に露光する露光工程と、
露光工程の後に、[1]~[6]のいずれかに記載のフレキソ印刷版用水性現像液を用いて現像し、非画像部と画像部とを形成する現像工程と、
現像工程の後に、水を用いてリンスするリンス工程とを有する、フレキソ印刷版の製造方法。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本願明細書において、「~」を用いて表される数値範囲は、「~」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、各成分は、各成分に該当する物質を1種単独でも用いても、2種以上を併用してもよい。ここで、各成分について2種以上の物質を併用する場合、その成分についての含有量とは、特段の断りが無い限り、併用した物質の合計の含有量を指す。
本発明のフレキソ印刷版用水性現像液(以下、「本発明の水性現像液」とも略す。)は、下記式(1)で表される界面活性剤(以下、「特定界面活性剤」とも略す。)と、水とを含有する、フレキソ印刷版用の水性現像液である。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
まず、水性現像液は、通常、2回以上の現像に繰り返して用いられるが、例えば、2回目の現像に用いる現像液には、1回目の現像によりフレキソ印刷版原版から除去された版材、すなわち、未露光部(未硬化)の版材が分散物として存在することになる。
そのため、本発明においては、特定界面活性剤を配合することにより、特定界面活性剤と分散物が吸着し、リンス工程を想定した水で希釈した際にも吸着状態を維持できるためであると考えられる。具体的には、上記式(1)中の[X]p-Ar-で表される構造部分(疎水部)が分散物の周囲に吸着または接近し、かつ、-[O-(AO)n-R]m-pで表される構造部分(親水部)が、分散物の水中での分散を安定化させているため、分散物の凝集が抑制できたと考えられる。
以下に、本発明の水性現像液が含有する各成分について詳細に説明する。
また、上記式(1)中、Xは、1価の有機基を表し、pは、mより小さい0~3の整数を表す。pが2または3である場合、複数のXは、互いに同一であっても異なっていてもよい。
また、上記式(1)中、Aは、炭素数2~4のアルキレン基を表し、Rは、水素原子またはアニオン性基を表し、nは、1~100の整数を表す。nが2~100の整数である場合、複数のAは、互いに同一であっても異なっていてもよい。m-pが2~6の整数である場合、複数のA、nおよびRは、いずれも、互いに同一であっても異なっていてもよい。
ここで、芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナンスロリン環などが挙げられ、芳香族複素環としては、例えば、フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環などが挙げられる。
また、上記式(1)中のArが示す芳香族基の価数(m)は、1~8の整数であり、2~6の整数であることが好ましく、2~4の整数であることがより好ましく、2または3であることが更に好ましい。
これらのうち、Arとしては、2価のベンゼン環(すなわち、フェニレン基)、1価のナフタレン環(すなわち、ナフチル基)であることが好ましく、フェニレン基であることがより好ましい。
アルキル基としては、例えば、炭素数1~18の直鎖状または分岐鎖状のアルキル基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、tert-ペンチル基、n-ヘキシル基などが挙げられる。
シクロアルキル基としては、例えば、炭素数3~20の単環または多環のシクロアルキル基が挙げられ、具体的には、シクロペンチル基、シクロペンチルメチル基、シクロペンチルエチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘキシルエチル基などが挙げられる。
アリール基としては、例えば、炭素数6~14のアリール基が挙げられ、具体的には、例えば、フェニル基、メチルフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ピレニル基などが挙げられる。
アラルキル基としては、例えば、炭素数7~20のアラルキル基が挙げられ、具体的には、ベンジル基、フェネチル基、2-フェニルエタン-2-イル基、ナフチルメチル基などが挙げられる。
アルケニル基としては、例えば、炭素数3~20のアルケニル基が挙げられ、具体的には、ビニル基、アリル基などが挙げられる。
なお、2-フェニルエタン-2-イル基およびベンジル基の構造は、それぞれ、下記式(X-1)および(X-2)に示す通りであるが、下記式(X-1)で示す構造(2-フェニルエタン-2-イル基)については、「スチレン化」もしくは「スチリル基」ともいう。
なお、上記式(1)のm-pは、1~3の整数であることが好ましく、1または2であることがより好ましく、1であることが更に好ましい。
これらのアニオン性基は、塩を構成していてもよい。上記塩は、無機カチオンとの塩であっても、有機カチオンとの塩であってもよい。
無機カチオンとしては、リチウムカチオン、ナトリウムカチオン、カリウムカチオン、カルシウムカチオン、マグネシウムカチオンなどが挙げられる。リチウムカチオン、ナトリウムカチオン、カリウムカチオンが好ましく、ナトリウムカチオン、カリウムカチオンがより好ましい。
有機カチオンとしては、アンモニウム(NH4+)、4級アンモニウム、4級ピリジニウム、4級ホスホニウムなどが挙げられる。アンモニウム、4級アンモニウム、4級ピリジニウムが好ましく、4級アンモニウムがより好ましい。
ここで、HLB値は、Griffinの算出式によって求められる値を採用する。
Griffinの算出式では、S(エステルのケン化価)の値と、N(エステルを構成する脂肪酸の中和価)の値とを用いて、下記式に従ってHLB値が計算される。
HLB値は20に近いほど親水的であることを意味し、0に近いほど親油的であることを意味する。
HLB値=20(1-S/N)
ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル、下記式(1-1)で表されるポリオキシエチレントリスチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル縮合物などのポリオキシアルキレンポリスチリルフェニルエーテル;
ポリオキシエチレンドデシルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンフェニルエーテル、ポリオキシエチレンベンジルエーテル、ポリオキシエチレンβ-ナフチルエーテル、ポリオキシエチレンビスフェノールAエーテル、ポリオキエチレンビスフェノールFエーテル、ポリオキシエチレンクミルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、ポリオキシエチレントリベンジルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアリールエーテル、ポリオキシエチレン多環フェニルエーテル、ポリオキシアルキレン多環フェニルエーテル;
などが挙げられる。
本発明の水性現像液が含有する水は、特に限定されず、精製水、蒸留水、イオン交換水、純水、ミリQ水等の超純水のいずれも使用することができる。なお、ミリQ水とは、メルク(株)の超純水製造装置であるミリQ水製造装置による得られる超純水である。
本発明の水性現像液に含まれる水の含有量は、水性現像液の総質量に対して80~99.99質量%であることが好ましく、90~99.9質量%であることがより好ましい。
本発明の水性現像液は、現像性がより良好となる理由から、アルカリ金属炭酸塩およびアルカリ金属水酸化物の少なくとも一方を含有していることが好ましく、少なくともアルカリ金属炭酸塩を含有していることがより好ましい。
ここで、アルカリ金属としては、具体的には、例えば、ナトリウム、カリウムおよびカルシウムなどが挙げられる。
また、アルカリ金属炭酸塩としては、具体的には、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどが挙げられ、中でも、安全性の面から炭酸ナトリウムが好ましい。
また、アルカリ金属水酸化物としては、具体的には、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどが挙げられる。
本発明の水性現像液は、分散物の凝集をより抑制することができる理由から、金属封鎖剤を含有していることが好ましい。
金属封鎖剤としては、具体的には、例えば、クエン酸、くえん酸三ナトリウム、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)などが挙げられる。
本発明の水性現像液は、必要に応じて任意成分として、各種添加剤を配合することができる。
添加剤としては、例えば、エタノールアミンなどのアルカノールアミン;ベンゾトリアゾール、安息香酸などの防腐剤;グリコール類(例えば、エチレングリコール等)、低級アルコール類(例えば、エタノール等)などの凝固点降下剤;シリコーン類、ポリオール類などの消泡剤;等を本発明の効果を損なわない範囲で適宜配合することができる。
本発明の水性現像液を用いた現像方法は、従来公知の水性現像液を用いた現像方法と同様の方法が挙げられ、例えば、水性現像液をフレキソ印刷版原版の未露光部に接触させて、ブラシ、水圧、超音波などの物理的作用を加えて、未露光部を構成する感光層(感光性樹脂組成物)を水性現像液中に分散させ、除去する方法が挙げられる。
この時、水性現像液は、未露光部を浸漬させておいてよく、また、物理的作用が及ぶときに連続的に供給して接触させておいてもよい。
また、水性現像液は、現像時の液温が20~60℃であることが好ましく、30~50℃であることがより好ましい。
また、通常使用される物理的作用力としては、ブラシが用いられ、毛の材質、太さ、長さ、毛の密植度、配置、ブラシの移動、回転方向などが適宜選択される。
本発明の水現像液で現像されるフレキソ印刷版原版が有する感光層(感光性樹脂組成物)は、従来公知の感光性樹脂組成物を用いることができ、例えば、水分散ラテックス、ゴム、光重合性モノマー、光重合開始剤、界面活性剤などを含有する樹脂組成物が挙げられる。
樹脂組成物が含有する水分散ラテックスは特に限定されず、従来公知のフレキソ印刷版に用いられている水分散ラテックスを用いることができる。
水分散ラテックスとしては、具体的には、例えば、ポリブタジエンラテックス、天然ゴムラテックス、スチレン-ブタジエン共重合体ラテックス、アクリロニトリル-ブタジエン共重合体ラテックス、ポリクロロプレンラテックス、ポリイソプレンラテックス、ポリウレタンラテックス、メチルメタクリレート-ブタジエン共重合体ラテックス、ビニルピリジン重合体ラテックス、ブチル重合体ラテックス、チオコール重合体ラテックス、アクリレート重合体ラテックスなどの水分散ラテックス重合体;これら重合体にアクリル酸、メタクリル酸などの他の成分を共重合して得られる重合体;等が挙げられ、これらを1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
樹脂組成物が含有するゴムは特に限定されず、従来公知のフレキソ印刷版に用いられているゴム材料を用いることができる。
上記ゴムとしては、具体的には、例えば、ブタジエンゴム(BR)、ニトリルゴム(NBR)、アクリルゴム、エピクロルヒドリンゴム、ウレタンゴム、イソプレンゴム、スチレンイソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、エチレン-プロピレン共重合体、塩素化ポリエチレンなどが挙げられ、これらを1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
樹脂組成物が含有する光重合性モノマーは特に限定されず、従来公知のフレキソ印刷版に用いられている光重合性モノマーを用いることができる。
光重合性モノマーとしては、例えば、エチレン性不飽和化合物を挙げることができる。
エチレン性不飽和化合物としては、具体的には、例えば、(メタ)アクリルモノマー、(メタ)アクリルオリゴマ、(メタ)アクリル変性重合体などを挙げることができる。
また、(メタ)アクリル変性重合体としては、具体的には、例えば、(メタ)アクリル変性ブタジエンゴム、(メタ)アクリル変性ニトリルゴムなどを挙げることができる。
なお、「(メタ)アクリル」とは、アクリルまたはメタクリルを意味する表記である。
樹脂組成物が含有する光重合開始剤は、上述した光重合性モノマーの光重合を開始させるものであれば特に限定されず、例えば、アルキルフェノン類、アセトフェノン類、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、アントラキノン類、ベンジル類、ビアセチル類等の光重合開始剤を挙げることができる。
具体的には、例えば、ベンジルジメチルケタール、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オン、メチル-o-ベンゾイルベンゾエート、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどを挙げることができる。
樹脂組成物が含有する樹脂組成物は、水現像性を向上させる観点から、界面活性剤を含有していることが好ましい。
界面活性剤としては、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤を挙げることができる。なかでも、アニオン性界面活性剤が好ましい。
ラウリン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム等の脂肪族カルボン酸塩;
ラウリル硫酸エステルナトリウム、セチル硫酸エステルナトリウム、オレイル硫酸エステルナトリウム等の高級アルコール硫酸エステル塩;
ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸エステルナトリウム等のポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩;
ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル硫酸エステルナトリウム、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル硫酸エステルナトリウム等のポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル硫酸エステル塩;
アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、ドデシルスルホン酸ナトリウム、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム等のアルキルスルホン酸塩;
アルキルジスルホン酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム等のアルキルアリルスルホン酸塩;
ラウリルリン酸モノエステルジナトリウム、ラウリルリン酸ジエステルナトリウム等の高級アルコールリン酸エステル塩;
ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸モノエステルジナトリウム、ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸ジエステルナトリウム等のポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩;
等が挙げられる。これらは1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
本発明のフレキソ印刷版の製造方法は、感光層を有するフレキソ印刷版原版に対して、感光層を画像様に露光する露光工程と、露光工程の後に、上述した本発明のフレキソ印刷版用水性現像液を用いて現像し、非画像部と画像部とを形成する現像工程と、現像工程の後に、水を用いてリンスするリンス工程とを有する、製造方法である。
上記露光工程は、感光層に画像様に活性光線を照射することにより、活性光線の照射された領域の架橋および/または重合を惹起し、硬化させる工程である。
また、真空フレーム露光装置を用いて行うことも好ましく、その場合、レリーフ形成層とマスクとの間の空気を排出した後、活性光線による露光が行われる。
また、露光は、酸素濃度を低下させた状態で行ってもよく、大気中で行ってもよく、特に限定されないが、酸素による重合阻害を防止する観点では、低酸素濃度で露光を行うことが好ましい。
上記現像工程は、上述した本発明の水性現像液を用いて現像し、非画像部と画像部とを形成する工程であり、詳しくは、上述した本発明の水性現像液の現像方法において説明した説明した通りである。
上記リンス工程は、上記現像工程で形成された非画像部と画像部の表面を、水を用いてリンスする工程である。
本発明においては、非画像部および画像部の表面などに残存した現像液が、上述した本発明の水性現像液であるため、リンス工程で用いる水によって水性現像液が希釈された場合でも、現像液中の分散物の付着および凝集を抑制することができる。
本発明のフレキソ印刷版用水性現像液は、フレキソ印刷版用の水性現像液の他、現像装置の浴槽の壁面などを洗浄する洗浄液としても使用することができる。
下記表1に示す、水、界面活性剤、アルカリ金属炭酸塩および添加剤を、下記表1に示す質量部となるように配合した水性現像液を調製した。
<市販品>
実施例1~14、16~22および比較例1~4の評価では、市販の水現像タイプのフレキソ印刷版原版〔FLENEX FW-L2、富士フイルム(株)製〕を用いた。
実施例15の評価では、以下の方法で作製したフレキソ印刷版原版を用いた。
(感光性樹脂組成物の調製)
水分散ラテックス(日本ゼオン(株)製、Nipol LX111NF、ポリブタジエンの水分散ラテックス、固形分55%)54.5質量部と、1,9-ノナンジオールジメタクリレート(新中村化学工業(株)製、NKエステルNOD-N)10質量部と、テレケリックポリマー(大阪有機化学工業製、BAC-45)(両末端にアクリロイルオキシ基を有するポリブタジエン、Mw=10,000)12質量部と、ポリオキシエチレンラウリルエーテル(竹本油脂(株)製、パイオニンD-1105)1質量部と、を含有する混合物を得た。
この混合物と、ブタジエンゴム(旭化成製、NF35R)20質量部と、可塑剤(流動パラフィン)15質量部と、界面活性剤(日油製、ラピゾールA-80、有効分80%)5質量部とを110℃に設定したニーダー中で45分混練した。その後、ニーダー中に、熱重合禁止剤0.2質量部と、光重合開始剤(東京化学工業製、ベンジルジメチルケタール)3質量部とを投入し、5分間混練して、感光性樹脂組成物を得た。
アクリル樹脂(根上工業社製、ハイパール M-5000)50質量部と、エラストマー(日本ゼオン社製、Nipol DN-101)50質量部と、カーボンブラック(三菱ケミカル社製、MA-8)100質量部とにメチルイソブチルケトン812質量部を加え、羽撹拌にて混合した。得られた混合液をペイントシェイカーで分散させた後、固形分が15質量%となるように、さらにメチルイソブチルケトンを加えることにより、ポリマー/カーボンブラック分散液(赤外線アブレーション層用塗工液)を得た。
次いで、厚さ75μmのPETフィルム(カバーフィルム)の片面に、乾燥後の厚さが1.0μmとなるように、バーコーターで赤外線アブレーション層用塗工液を塗工した後、140℃に設定したオーブンで5分間乾燥させることにより、保護フィルム上に赤外線アブレーション層が形成された積層体(赤外線アブレーション層用積層体)を作製した。
厚さ125μmのPETフィルム(基板)の片面に接着剤を塗布して、基板に接着層を形成した。そして、上記接着層と、上述のとおり作製した赤外線アブレーション層用積層体の赤外線アブレーション層との間に、上述のとおり調製した感光性樹脂組成物を挟んで、感光性樹脂組成物の層(感光層)の厚みが1mmになるように80℃に加熱したプレス機でプレスすることにより、基板と接着層と感光層と赤外線アブレーション層と保護フィルムとをこの順に有するフレキソ印刷版原版を作製した。
<現像性>
下記表1に記載の原版のカバーフィルムを剥がし、基板側から、40Wのケミカル灯を15本並べた露光装置で15cmの距離から2秒間露光(裏露光)した。
その後、調製した各水性現像液を入れたブラシ式洗い出し機(液温50℃)で3分間現像を行った。
その後、60℃の熱風にて水分が除去されるまで乾燥を行った。得られたフレキソ印刷版について、定圧厚さ測定器を使用して厚みを測定し、現像前後での厚み変化から1分あたりの膜厚変化(現像速度)を算出した。そして、以下の基準で評価した。結果を下記表1に示す。実用上、B以上の評価であることが好ましい。
(評価基準)
A:現像速度が170μm/min以上
B:現像速度が100μm/min以上170μm/min未満
C:現像速度が100μm/min未満
下記表1に記載の原版のカバーフィルムを剥がし、基板側から、40Wのケミカル灯を15本並べた露光装置で15cmの距離から2秒間露光(裏露光)した。
その後、調製した各水性現像液を入れたブラシ式洗い出し機(液温50℃)で、現像カス(分散物)の固形分が5.0質量%となるように任意の時間現像を行った。なお、現像カスの固形分は、使用した水性現像液(以下、「疲労液」とも略す。)を1.0g測りとり、85℃で1時間乾燥し、乾燥前と乾燥後の重量変化から、疲労液中の固形分%を算出した。
次いで、疲労液1.0g(固形分0.05g)測りとり、硬度約60の井水9.0gと混合した。18時間静置した後、1.0μmポアフィルターを使用して疲労液を濾過した。濾過残渣を十分乾燥させた後、質量を測定し、固形分変化からカス凝集度%を算出した。そして、以下の基準で評価した。結果を下記表1に示す。実用上、B以上の評価であることが好ましい。
カス凝集度%=(濾過残渣(g)÷0.05(g))×100
(評価基準)
A:カス凝集度が25%未満
B:カス凝集度が25%以上50%未満
C:カス凝集度が50%以上75%未満
D:カス凝集度が75%以上
・パイオニンD-6112:ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル(竹本油脂社製)
・パイオニンD-6115:ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル(竹本油脂社製)
・パイオニンD-6112W:ポリオキシアルキレンポリスチリルフェニルエーテル(竹本油脂社製)
・パイオニンD-6120:ポリオキシエチレンポリスチリルフェニルエーテル(竹本油脂社製)
・エマルゲンA-60:ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル(花王社製)
・エマルゲンA-90:ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル(花王社製)
・エマルゲンA-500:ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテル(花王社製)
・エレミノールHB-29:ポリオキシエチレントリベンジルフェニルエーテル(三洋化成工業社製)
・ラテムルE-1000A:ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテルアンモニウムサルフェート(花王社製)
・ニューカルゲンFS-3PG:ポリオキシエチレンアリルフェニル)エーテルホスフェートアミン塩(竹本油脂社製)
・ニューカルゲンFS-7S:ポリオキシアルキレンアリルフェニルエーテルサルフェート・Na(竹本油脂社製)
・ニューカルゲンP-205S30:ポリオキシアルキレンアリルフェニルエーテルサルフェート・Na(竹本油脂社製)
・アクアロンAR:ポリオキシエチレンスチレン化プロペニルフェニルエーテル硫酸エステルアンモニウム(第一工業社製)
・アクアロンAN:ポリオキシエチレンスチレン化プロペニルフェニルエーテル(第一工業社製)
・パイオニンD-1105:ポリオキシエチレンラウリルエーテル(竹本油脂社製)
・パイオニンD-1100:ポリオキシエチレンラウリルエーテル(竹本油脂社製)
・パイオニンD-1105S:ポリオキシエチレン2級アルキルエーテル(竹本油脂社製)
・炭酸ナトリウム:富士フイルム和光純薬社製の試薬
・Finish洗剤:レキットベンキーザー社製の食洗器用洗剤
・くえん酸三ナトリウム:富士フイルム和光純薬社製の試薬
また、ポリオキシエチレンラウリルエーテルなど、特定界面活性剤に該当しない界面活性剤を配合した場合には、現像性は良好となったが、現像カスの凝集を抑制できないことが分かった(比較例2~4)。
これに対し、特定界面活性剤を配合した場合は、良好な現像性を維持し、現像カスの凝集を抑制できることが分かった(実施例1~22)。
特に、実施例1~6の対比から、特定界面活性剤のHLB値が14未満であると、現像カスの凝集をより抑制できることが分かった。
また、実施例1と実施例9との対比から、特定界面活性剤の含有量が1~5質量%であると、現像カスの凝集を更に抑制できることが分かった。
また、実施例1、10および11の対比から、アルカリ金属炭酸塩を配合すると、現像性がより良好となることが分かった。
また、実施例10と実施例12との対比、および、実施例11と実施例13との対比から、金属封鎖剤を配合すると、現像カスの凝集をより抑制できることが分かった。
Claims (5)
- 非画像部と画像部を有するフレキソ印刷版の製造方法であって、
感光層を有するフレキソ印刷版原版に対して、前記感光層を画像様に露光する露光工程と、
前記露光工程の後に、下記式(1)で表される界面活性剤と水とを含有するフレキソ印刷版用水性現像液を用いて現像し、非画像部と画像部とを形成する現像工程と、
前記現像工程の後に、水を用いてリンスするリンス工程とを有する、フレキソ印刷版の製造方法。
Arは、m価の芳香族基を表し、mは、1~8の整数を表す。
Xは、アリール基、アラルキル基およびアルケニル基のいずれかを表し、pは、mより小さい1~3の整数を表す。pが2または3である場合、複数のXは、互いに同一であっても異なっていてもよい。
Aは、炭素数2~4のアルキレン基を表し、Rは、水素原子またはアニオン性基を表し、nは、1~100の整数を表す。nが2~100の整数である場合、複数のAは、互いに同一であっても異なっていてもよい。m-pが2~6の整数である場合、複数のA、nおよびRは、いずれも、互いに同一であっても異なっていてもよい。 - 前記界面活性剤の含有量が、0.1~20質量%である、請求項1に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
- 前記式(1)中のXが、アラルキル基である、請求項1または2に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
- 前記式(1)中のXが、2-フェニルエタン-2-イル基またはベンジル基である、請求項3に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
- 前記式(1)中のRが、水素原子を表す、請求項1~4のいずれか1項に記載のフレキソ印刷版の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019076184 | 2019-04-12 | ||
JP2019076184 | 2019-04-12 | ||
PCT/JP2020/014862 WO2020209143A1 (ja) | 2019-04-12 | 2020-03-31 | フレキソ印刷版用水性現像液およびフレキソ印刷版の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2020209143A1 JPWO2020209143A1 (ja) | 2020-10-15 |
JP7261869B2 true JP7261869B2 (ja) | 2023-04-20 |
Family
ID=72751682
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2021513586A Active JP7261869B2 (ja) | 2019-04-12 | 2020-03-31 | フレキソ印刷版用水性現像液およびフレキソ印刷版の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220026808A1 (ja) |
EP (1) | EP3955059A4 (ja) |
JP (1) | JP7261869B2 (ja) |
CN (1) | CN113661444A (ja) |
WO (1) | WO2020209143A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116615693A (zh) | 2020-11-30 | 2023-08-18 | 富士胶片株式会社 | 柔版印刷版用水性显影液及柔版印刷版的制造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003066605A (ja) | 2001-08-23 | 2003-03-05 | Asahi Kasei Corp | フレキソ印刷用感光性樹脂組成物 |
JP2009143988A (ja) | 2007-12-11 | 2009-07-02 | Fuji Seal International Inc | 水系エマルジョン型感熱接着剤、感熱ラベルおよびラベル付き容器 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3266357B2 (ja) * | 1993-03-09 | 2002-03-18 | 東京応化工業株式会社 | フレキソ印刷版用現像液組成物 |
JP2985655B2 (ja) * | 1993-03-31 | 1999-12-06 | 日本ゼオン株式会社 | 感光性組成物、感光性ゴム版およびその製法並びにフ レキソ印刷版およびその製法 |
JPH08339090A (ja) * | 1995-06-12 | 1996-12-24 | Toagosei Co Ltd | 感光性フレキソ版の溶出用水性組成物およびその応用 |
JPH0940728A (ja) * | 1995-07-31 | 1997-02-10 | Nippon Paint Co Ltd | 変性ブロック共重合体およびその応用 |
JPH09171261A (ja) * | 1995-12-20 | 1997-06-30 | Toagosei Co Ltd | アルカリ現像液 |
DE69817281T2 (de) * | 1997-02-27 | 2004-06-17 | Toyo Boseki K.K. | Entwickler für photoempfindliche harzplatte |
JP4147312B2 (ja) | 2002-03-28 | 2008-09-10 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | 感光性高分子用水性現像液組成物 |
JP4323206B2 (ja) | 2003-04-14 | 2009-09-02 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 感光性樹脂用水性現像液 |
CN1828429A (zh) * | 2005-02-28 | 2006-09-06 | 明德国际仓储贸易(上海)有限公司 | 显影液组成物 |
JP2010234554A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-21 | Fujifilm Corp | 印刷版の作製方法 |
JP5711168B2 (ja) * | 2012-02-27 | 2015-04-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法 |
JP6081458B2 (ja) * | 2012-06-29 | 2017-02-15 | 富士フイルム株式会社 | 現像処理廃液濃縮方法及び現像処理廃液のリサイクル方法 |
-
2020
- 2020-03-31 JP JP2021513586A patent/JP7261869B2/ja active Active
- 2020-03-31 WO PCT/JP2020/014862 patent/WO2020209143A1/ja unknown
- 2020-03-31 CN CN202080027925.9A patent/CN113661444A/zh active Pending
- 2020-03-31 EP EP20788486.7A patent/EP3955059A4/en active Pending
-
2021
- 2021-10-06 US US17/495,064 patent/US20220026808A1/en active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003066605A (ja) | 2001-08-23 | 2003-03-05 | Asahi Kasei Corp | フレキソ印刷用感光性樹脂組成物 |
JP2009143988A (ja) | 2007-12-11 | 2009-07-02 | Fuji Seal International Inc | 水系エマルジョン型感熱接着剤、感熱ラベルおよびラベル付き容器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN113661444A (zh) | 2021-11-16 |
JPWO2020209143A1 (ja) | 2020-10-15 |
EP3955059A4 (en) | 2022-06-15 |
US20220026808A1 (en) | 2022-01-27 |
EP3955059A1 (en) | 2022-02-16 |
WO2020209143A1 (ja) | 2020-10-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2014112176A (ja) | 化学増幅型レジスト膜のパターニング用有機系処理液、及び、化学増幅型レジスト膜のパターニング用有機系処理液の収容容器、並びに、これらを使用したパターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス | |
EP2470963B1 (en) | Method for providing flexographic printing plates using a developer solution | |
JP7261869B2 (ja) | フレキソ印刷版用水性現像液およびフレキソ印刷版の製造方法 | |
US20040018453A1 (en) | Photoresist processing aid and method | |
JP3933675B2 (ja) | 凸版印刷用水現像性印刷版の製造方法 | |
JP5886589B2 (ja) | 多成分溶媒溶液の再平衡方法 | |
JP7242838B2 (ja) | 水現像性フレキソ印刷版原版、フレキソ印刷版および感光性樹脂組成物 | |
WO2022114208A1 (ja) | フレキソ印刷版用水性現像液およびフレキソ印刷版の製造方法 | |
JP7058721B2 (ja) | フレキソ印刷版用水性現像液およびフレキソ印刷版の製造方法 | |
CN110199226B (zh) | 柔性版显影剂及使用方法 | |
JP2004035874A (ja) | 洗浄組成物及び方法 | |
US5204227A (en) | Method of developing photopolymerizable printing plates and composition therefor | |
JP3592336B2 (ja) | 感光性樹脂印刷版の製造方法及び処理液 | |
JP2018054969A (ja) | 印刷版の現像方法および現像装置 | |
JP7241187B2 (ja) | 水現像性フレキソ印刷版原版、及び、フレキソ印刷版 | |
JP2024038196A (ja) | フレキソ印刷版用水性現像液、フレキソ印刷版用水性現像濃縮液およびフレキソ印刷版の製造方法 | |
JP4147312B2 (ja) | 感光性高分子用水性現像液組成物 | |
JP2004317660A (ja) | 感光性樹脂用水性現像液組成物 | |
JP2008058957A (ja) | 感光性樹脂組成物およびそれを用いた感光性樹脂印刷用原版 | |
US20230221647A1 (en) | Aqueous developer for flexographic printing plate and manufacturing method of flexographic printing plate | |
CA2018954C (en) | Method of developing photopolymerizable printing plates and composition therefor | |
JPH0528824B2 (ja) | ||
JP2010256860A (ja) | フレキソ印刷用感光性樹脂組成物及びそれから得られる印刷用原版 | |
JP2010211023A (ja) | 洗浄液 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211006 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20220719 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20220916 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20221011 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20221206 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230306 |
|
C60 | Trial request (containing other claim documents, opposition documents) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60 Effective date: 20230306 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20230315 |
|
C21 | Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21 Effective date: 20230322 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230404 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230410 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7261869 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |