CN113429130A - 一种闪光超耐磨钻石釉、瓷砖及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及建筑陶瓷材料领域，具体公开了一种闪光超耐磨钻石釉、瓷砖及其制备方法，其中，所述闪光超耐磨钻石釉主要由全抛釉浆料和锆英砂制成，全抛釉浆料以质量百分比计的化学成分为：SiO₂+Al₂O₃=70~82wt%，CaO+MgO+ZnO+BaO+SrO=15~27wt%，Na₂O+K₂O=1.8~2.5wt%，P₂O₅=0~2wt%，ZrO₂=0~0.5wt%，SiO₂/Al₂O₃=1.3~1.8。相应的，本发明还公开了由闪光超耐磨钻石釉瓷砖及其制备方法。采用本发明，能同时兼具闪光效果好、透明性优异、耐磨性能好、硬度高、防污性能优异且持久等特点。

Description

一种闪光超耐磨钻石釉、瓷砖及其制备方法

技术领域

本发明涉及建筑陶瓷材料技术领域，尤其涉及一种闪光超耐磨钻石釉、瓷砖及其制备方法。

背景技术

现有的闪光瓷砖表面通过材料配方和工艺，通过添加闪光干粒等原料，可以制作出具有光泽效果的瓷砖。

然而，现有的闪光瓷砖，其闪光效果和产品性能质量难以同时兼顾。

例如，现有技术1为公开号CN103435369的中国专利，公开了一种耐磨防滑干粒陶瓷砖的制造方法，主要包括：1）成型陶瓷砖平面基体，进行图案装饰；2）制备具有耐磨防滑性能的干粒；3）按配比混合耐磨防滑干粒、闪光干粒、透明干粒，供布料使用；4）将混合干粒布施于装饰釉坯的表面，喷施耐温固定剂。5）输送至辊道窑烧成。该技术所使用的闪光干粒为云母片和闪光金属粒组成。该方法是表面不抛光的。一抛光就没有闪光效果。

现有技术2为公开号CN106830686的中国专利，公开了一种烧成后具有凹凸质感的糖果釉及瓷砖的制造方法，其糖果釉在高温烧成时不会熔平，烧成砖面产生凹凸不平感，在灯光的照射下，透明熔块会闪闪发亮，效果更佳丰富细腻。该方法是表面不抛或半抛的。但该方法表面不能抛平。一抛平就没有闪光效果。

现有技术3为公开号CN110078501B的中国专利，公开了全抛闪光晶砂釉瓷砖的制备方法，主要是将闪光粒（锆英砂）与釉料（或干粒和釉浆）按照一定比例混合，同时加入水、悬浮剂、助溶剂，经充分混合后，再通过淋釉或喷釉的方法进行施釉。然而，该方法经检测及用户反映具有不耐磨、易磨花、不防污、热稳定性差等缺点，同时生产过程中因锆英砂比重大，易于沉淀，而造成产品质量不稳定。因此该技术及产品满足不了用户的需求。

现有技术4为公开号CN112745145A的中国专利，其公开了一种全抛釉、以及具有全抛釉的抛釉砖及其制备方法，所述全抛釉的化学组成包括：按质量计，SiO₂：45～48%、Al₂O₃：14～16%、Fe₂O₃：0.1～0.3%、CaO：5～6.5%、MgO：2.5～4%、K₂O：3.0～4.0%、Na₂O：0.8～1.5%、BaO：9～11%、ZnO：8～10%、ZrO₂：0.5～2%、烧失：3.5～4.5%。该全抛釉烧成后透明度高、硬度达到6级，耐磨等级达到6000转(4级)，且釉层均匀存在一定数量直径在20μm以下的气泡，由于气泡直径小，不影响釉层的透感，抛光后，会形成大量的半球形小凹坑。然后在上述半球形小凹坑中涂覆含纳米银成分的超洁亮蜡水。现有技术4通过纳米银颗粒，修补了抛光表面的气孔和微缝隙，形成连续致密的光洁表面，降低砖表面的粗糙度，有效防止各种污物残留于砖表面和通过气孔和微裂隙进入砖体内部，同时赋予产品良好的防污性能。同时利用银离子取得优异的抗菌性能。然而，由于超洁亮蜡和纳米银颗粒仅仅涂覆在砖的表面，其在使用中很容易被带出，带出后，影响砖的防污性，其防污性不持久。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于，提供一种闪光超耐磨钻石釉以及采用其的闪光超耐磨钻石釉瓷砖，同时兼具闪光效果好、透明性优异、耐磨性能好、硬度高、防污性能优异且稳定持久等特点。

本发明所要解决的技术问题在于，提供一种闪光超耐磨钻石釉瓷砖的制备方法，工艺简单，可实施性强，且能提高产品性能、降低成本。

为达到上述技术效果，本发明提供了一种闪光超耐磨钻石釉，其主要由全抛釉浆料和锆英砂制成，其中，所述全抛釉浆料以质量百分比计的化学成分为：

SiO₂+Al₂O₃=70~82wt%，CaO+MgO+ZnO+BaO+SrO=15~27wt%，Na₂O+K₂O=1.8~2.5wt%，P₂O₅=0~2wt%，ZrO₂=0~0.5wt%，SiO₂/Al₂O₃=1.3~1.8。

作为上述方案的改进，所述锆英砂与闪光超耐磨钻石釉的质量比为1：（9~16）。

作为上述方案的改进，所述闪光超耐磨钻石釉主要由全抛釉浆料、锆英砂和助剂制成；

所述助剂包括悬浮剂、减水剂的一种或多种；

所述悬浮剂为水性聚氨酯树脂，基于所述闪光超耐磨钻石釉的总量，所述悬浮剂的加入量为0.5~1%。

相应的，本发明还提供一种闪光超耐磨钻石釉瓷砖，其原料包括坯体原料和闪光超耐磨钻石釉，所述闪光超耐磨钻石釉主要由全抛釉浆料和锆英砂制成；

所述全抛釉浆料以质量百分比计的化学成分为：

SiO₂+Al₂O₃=70~82wt%，CaO+MgO+ZnO+BaO+SrO=15~27wt%，Na₂O+K₂O=1.8~2.5wt%，P₂O₅=0~2wt%，ZrO₂=0~0.5wt%，SiO₂/Al₂O₃=1.3~1.8。

所述闪光超耐磨钻石釉瓷砖是通过将所述闪光超耐磨钻石釉施加到坯体原料制成的生坯上，再经过抛亮光处理而得。

作为上述方案的改进，所述锆英砂与闪光超耐磨钻石釉的质量比为1：（9~16）。

所述闪光超耐磨钻石釉主要由全抛釉浆料、锆英砂和助剂制成；

所述助剂包括悬浮剂、减水剂的一种或多种；

所述悬浮剂为水性聚氨酯树脂，基于所述闪光超耐磨钻石釉的总量，所述悬浮剂的加入量为0.5~1%。

作为上述方案的改进，所述抛亮光处理为采用≥3500目的弹性模块进行抛亮光处理，抛亮光处理后釉面光泽度大于93度，且表面无凹坑和微缝隙。

相应的，本发明还提供一种闪光超耐磨钻石釉瓷砖的制备方法，包括：

(1) 将锆英砂与全抛釉浆料混合，得到闪光超耐磨钻石釉；

(2) 用压砖机将坯体粉料压制，然后烘干，得生坯；

(3) 将所述生坯施底釉后，进行喷墨打印，接着施保护釉，之后再施所述闪光超耐磨钻石釉；

(4)将施过所述闪光超耐磨钻石釉的生坯烘干，然后烧成，得到半成品瓷质砖；

(5) 用弹性模块对所述半成品瓷质砖进行抛亮光处理，得闪光超耐磨钻石釉瓷砖。

作为上述方案的改进，所述步骤（1）包括：

根据全抛釉浆料的化学成分，在球磨机中分别加入相关原料，再加入水、悬浮剂、减水剂，然后球磨至细度小于1%；

按配比加入锆英砂，充分搅拌均匀。

作为上述方案的改进，所述烧成的温度为1170~1210度，烧成的周期为45~90分钟，从最高烧成温度冷却至900度的时间为20~30分钟。

作为上述方案的改进，步骤（1）中所述锆英砂的粒度为60~180目；

步骤（2）中所述生坯的烘干温度为150~230度；步骤（4）中施过闪光超耐磨钻石釉的所述生坯的烘干温度为145~220度；

步骤（5）中，采用≥3500目的弹性模块进行抛亮光处理，抛亮光处理后釉面光泽度大于93度，且表面无凹坑和微缝隙。

实施本发明具有如下有益效果：

本发明闪光超耐磨钻石釉，通过调整SiO₂/Al₂O₃质量比、SiO₂+Al₂O₃总质量、一价金属氧化物总重量、二价金属氧化物总重量、P₂O₅质量、ZrO₂质量，延长最高烧成温度冷却至900度时间，显著提高了抛釉砖表层釉的透明性、耐磨度、硬度、热稳定性和防污性，具体如下：

（1）采用高含量的SiO₂+Al₂O₃，SiO₂+Al₂O₃=70~82wt%，降低Na₂O+K₂O含量，控制SiO₂/Al₂O₃小于1.8，促使釉浆高温下易于析晶。同时添加一定比例的五氧化二磷，目的是促使该釉浆高温下易于产生分相，分相的结果是产生大量晶核，最终产生整体析晶。整体析晶的宏观效果是釉中将产生含锆晶体。由于含锆晶体折射率高，与周围晶体或玻璃相产生较大的折射率反差，从而产生闪光效果。上述配方的全抛釉浆料，能显著提高釉的硬度和耐磨性，且显著提高釉中玻璃相的硬度、强度。另外，锆英石更容易转变为釉中含锆晶体，因此闪光效果得到明显提高。

（2）本发明延长最高烧成温度冷却至900度时间，含锆晶体有更多的时间析出和长大，有利于含锆晶体的析出和长大，砖面闪光效果会更好。

（3）本发明优选加入水性聚氨酯树脂，釉浆颗粒易于与聚氨酯形成一定粘度的网络架构，阻止比重较大锆英砂颗粒的沉降，增加釉浆的悬浮性能，改善了抛釉砖表层釉的耐磨度、硬度。

附图说明

图1是本发明闪光超耐磨钻石釉瓷砖的制备方法的流程图。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述。

本发明提供了一种闪光超耐磨钻石釉，其主要由全抛釉浆料和锆英砂制成，其中，所述全抛釉浆料以质量百分比计的化学成分为：

SiO₂+Al₂O₃=70~82wt%，CaO+MgO+ZnO+BaO+SrO=15~27wt%，Na₂O+K₂O=1.8~2.5wt%，P₂O₅=0~2wt%，ZrO₂=0~0.5wt%，SiO₂/Al₂O₃=1.3~1.8。

优选的，所述全抛釉浆料以质量百分比计的化学成分为：

SiO₂+Al₂O₃=70~82wt%，CaO+MgO+ZnO+BaO+SrO=15~27wt%，Na₂O+K₂O=1.8~2.5wt%，P₂O₅=0.1~2wt%，ZrO₂=0.1~0.5wt%，SiO₂/Al₂O₃=1.3~1.8。

更佳的，所述全抛釉浆料以质量百分比计的化学成分为：

SiO₂+Al₂O₃=75~79wt%，CaO+MgO+ZnO+BaO+SrO=18~25wt%，Na₂O+K₂O=2.0~2.4wt%，P₂O₅=0.1~1.8wt%，ZrO₂=0.1~0.3wt%，SiO₂/Al₂O₃=1.4~1.7。

本发明提高SiO₂+Al₂O₃含量，降低Na₂O+K₂O含量，控制SiO₂/Al₂O₃比例，促使釉浆高温下易于析晶。添加一定比例的五氧化二磷，目的是促使该釉浆高温下易于产生分相，分相的结果是产生大量晶核，最终产生整体析晶。整体析晶的宏观效果是釉中将产生含锆晶体。由于含锆晶体折射率高，与周围晶体或玻璃相产生较大的折射率反差，从而产生闪光效果。通常情况下含锆晶体折射率为1.9以上，其他晶体或玻璃相折射率为1.50~1.65。

而且，上述配方的全抛釉浆料，不但提高SiO₂+Al₂O₃含量，还限定了SiO₂/Al₂O₃比例小于1.8，能显著提高釉的硬度和耐磨性，且显著提高釉中玻璃相的硬度、强度。另外，锆英石更容易转变为釉中含锆晶体，因此闪光效果得到明显提高。

SiO₂是玻璃网络形成体，在釉中的作用是形成透明玻璃。Al₂O₃是玻璃网络连接体。在釉中起到增强玻璃网络结构和强度的作用。本发明Al₂O₃的加入量远高于常规全抛釉，能够提高釉的硬度和耐磨性，但是加入太多的Al₂O₃的确会影响釉的透明性。但是本发明通过调节釉中各成分的比例，使各成分达到一个共同的低共融点，同时采用适当降低釉层厚度和印刷保护釉等措施，同样可以满足全抛釉发色和透明性的需要。

本发明将SiO₂/Al₂O₃控制在1.3~1.8内，若SiO₂/Al₂O₃比例小于1.3，釉会失透，影响透明性，甚至生烧。若SiO₂/Al₂O₃比例大于1.8，会影响釉的硬度和耐磨性。

Na₂O和K₂O的作用是破坏玻璃网络结构，起到降低釉的熔融温度，提高釉的透明性的作用，但会降低釉的硬度和耐磨性。与现有技术相比，本发明将Na₂O+K₂O的总含量降至1.8~2.5wt%，可以获得釉既成熟透明又有较高硬度和耐磨性的效果。

若Na₂O+K₂O＜1.8wt%，釉会生烧、或者釉的高温粘度会偏高、或者釉的表面张力会偏大而导致高温下缩釉现象，若Na₂O+K₂O＞2.5wt%，会影响釉的硬度和耐磨性。

添加0~2wt%的五氧化二磷和氧化锆，目的是促使该釉浆高温下易于产生分相或晶核，分相的结果是产生大量晶核，最终产生整体析晶。本发明氧化锆加入量很少，主要起晶核剂作用，氧化锆成为玻璃相中的异相，起到异相成核的作用。

关于CaO+MgO+ZnO+BaO+SrO=15~27wt%，CaO、MgO、ZnO、BaO、SrO的作用基本相同，一方面起助熔作用，另一方面与SiO2、Al₂O₃结合形成铝硅酸盐微晶，提高釉的硬度和耐磨性。所不同的是CaO、MgO、ZnO、BaO、SrO助熔能力有所不同、熔融温度不同、析晶温度不同。

闪光超耐磨钻石釉其主要由全抛釉浆料和锆英砂通过混合制成，优选的，所述锆英砂与闪光超耐磨钻石釉的质量比为1：（9~16）。更佳的，所述锆英砂与闪光超耐磨钻石釉的质量比为1：（10~15）。

锆英砂是一种以锆的硅酸盐为主要组成的矿物，晶构造属四方晶系，呈四方锥柱形，均匀莫氏硬度为7～8级，折射率1.93－2.01，熔点随所含杂质的不同在2190~2420℃内波动。

本发明通过控制锆英砂的加入量，配合上述的全抛釉浆料，可以获得更好的防污性能以及闪光效果。

如果锆英砂加入量大于1:9，则说明锆英砂偏多。锆英砂多很容易导致锆英砂颗粒之间重叠团聚在一起而无法烧结，气孔率大，釉的防污性能变差。如果锆英砂加入量小于1:16，则说明锆英石含量偏低，釉中析出含锆晶体的量偏少且细小，从而导致釉的闪光效果相对不明显。

作为本发明更佳的实施例，所述闪光超耐磨钻石釉主要由全抛釉浆料、锆英砂和助剂制成；所述助剂包括悬浮剂、减水剂的一种或多种；基于所述闪光超耐磨钻石釉的总量，所述减水剂的加入量为0.3~1.0%，所述悬浮剂的加入量为0.5~1%。

所述减水剂的作用是促使釉浆充分解胶，减少团聚，使釉浆在同等固相含量的情况下，流动性更好。釉浆流动性好，有利于釉浆钟罩淋釉淋得更平整。而且，可以间接的提高釉面的成色率，烧制后将釉面进行抛光就能够使色釉图案能够长期保持。优选的，所述减水剂为三聚磷酸钠、水玻璃、木质磺酸素中的一种或多种，但不限于此。

所述悬浮剂的作用是降低釉浆分层沉淀的速度，提高了釉浆的稳定性。本发明选用水性聚氨酯树脂为悬浮剂。所述水性聚氨酯树脂具有以水为溶剂，无污染、安全可靠、机械性能优良、相容性好、易于改性等优点。所述水性聚氨酯树脂用到本发明配方体系中，釉浆颗粒易于与聚氨酯形成一定粘度的网络架构，阻止比重较大锆英砂颗粒的沉降，增加釉浆的悬浮性能，改善了抛釉砖表层釉的耐磨度、硬度及其稳定性。

优选的，所述水性聚氨酯树脂为分子量为3000~5000的阴离子聚醚型水性聚氨酯树脂，以粉末状加入。

选用分子量为3000~5000、阴离子聚醚型水性聚氨酯粉末的目的是为了增加釉浆的悬浮性能。阴离子聚醚型水性聚氨酯粉末颗粒溶于水后离解为阴离子长链，釉浆颗粒易于与聚氨酯形成一定粘度的网络架构，阻止比重较大锆英砂颗粒的沉降，进而改善抛釉砖表层釉的机械性能。同时，还具有环保无污染、安全可靠、机械性能优良、相容性好等优点。

综上所述，本发明是通过调节全抛釉中各组分的含量及其相互之间的比例，使各组分按照SiO₂+Al₂O₃=70~82wt%，CaO+MgO+ZnO+BaO+SrO=15~27wt%，Na₂O+K₂O=1.8~2.5wt%，P₂O₅=0~2wt%，ZrO₂=0~0.5wt%，SiO₂/Al₂O₃=1.3~1.8的比例进行配制，通过选择合适的悬浮剂和减水剂，达到比重较大的锆英砂颗粒不会沉降并能满足钟罩淋釉釉浆性能要求。通过添加少量的晶核剂P₂O₅和ZrO₂，促使釉中含锆晶体更容易成核和长大，从而实现了釉层同时具有闪光效果好、透明性优异、耐磨性能好、硬度高、防污性能优异且持久等特点。再通过延长冷却时间，确保含锆晶体长得更加完整，更具较好闪光效果。通过采用特定目数的金刚砂弹性模块，确保抛光过程中不带来凹坑、微缝隙等新的缺陷，进一步确保本发明具有闪光效果好、透明性优异、耐磨性能好、硬度高、防污性能优异且稳定持久等特点。

进一步，上述闪光超耐磨钻石釉的制备方法如下：

根据全抛釉浆料的化学成分，在球磨机中分别加入相关原料，再加入水、悬浮剂、减水剂，然后球磨至细度小于1%；

按配比加入锆英砂，充分搅拌均匀。

本发明需要在磨成釉浆后再加锆英砂，否则容易影响含锆晶体的析出，影响闪光效果。优选的，锆英砂粒度范围选定为60~180目，若大于180目，锆英砂太细，影响含锆晶体的析出，影响闪光效果；若小于60目，锆英砂太粗，一方面大颗粒在釉浆中易于沉淀，另一方面，大颗粒难于与釉完全结合在一起，抛光时，易于被模块带出，留下凹坑缺陷。

相应的，本发明还提供一种闪光超耐磨钻石釉瓷砖，其原料包括坯体原料和上述闪光超耐磨钻石釉；

其中，（1）关于坯体原料，本发明可以选用的坯体原料包括：钾钠长石、高白钠石、高白钾砂、高白灰泥、A93 球土、烧滑石。

所述坯体原料可选用的配方如下：

钾钠长石20-30wt%、高白钠石10-20wt%、高白钾砂20-35wt%、高白灰泥5-15wt%、A93 球土10-30wt%、烧滑石0.1-5wt%。

优选的，所述坯体原料可选用的配方如下：

钾钠长石22-26wt%、高白钠石12-15wt%、高白钾砂25-30wt%、高白灰泥8-12wt%、A93 球土15-25wt%、烧滑石1-3wt%。

需要说明的是，本发明还可以选用其他的坯体原料，其实施方式并不局限本发明。

（2）闪光超耐磨钻石釉主要由全抛釉浆料和锆英砂制成，比重为1.80~1.85，施加量为400~420克（800*800毫米砖）。

具体的，所述全抛釉浆料的技术细节同上所述，在此不再赘述。

（3）所述闪光超耐磨钻石釉瓷砖是通过将所述闪光超耐磨钻石釉施加到坯体原料制成的生坯上，烧成后，再经过抛亮光处理而得。本发明瓷质砖抛亮光后，表面平整致密，无凹坑和微缝隙。

抛亮光有利于提高釉面光泽度，釉面光泽度越高，越有利于釉层内部高光泽颗粒的光线折射出来，更有利于提高闪光效果。优选的，本发明将釉面光泽度抛到大于93度。

具体的，所述抛亮光过程中，采用弹性模块进行抛亮光处理，弹性模块更有利于抛得更平，弹性模块对釉面的结构破坏更小，抛后釉面防污性更好。硬性模块易于将没有完全熔融的锆英砂颗粒带出，使釉面产生凹坑缺陷。更优的，所述弹性模块为弹性金刚砂模块，弹性模块的细度≥3500目。

经过上述弹性模块的抛光处理，尤其是经过细度≥3500目的弹性金刚砂模块的抛光处理，配合本发明的釉料，可以使得瓷质砖无凹坑和微缝隙，获得优异且持久的耐污性能。本发明的防污性能优异，采用蓝色油性记号笔，十次不可见痕迹。而且，本发明的防污性能能保持持久，瓷质砖在使用1-2年后，仍然可以保持优异的防污性能，采用蓝色油性记号笔，十次不可见痕迹。

相应的，如图1所示，本发明还提供一种闪光超耐磨钻石釉瓷砖的制备方法，包括：

S101、将锆英砂与全抛釉浆料混合，得到闪光超耐磨钻石釉；

S102、用压砖机将坯体粉料压制，然后烘干，得生坯；

S103、将所述生坯施底釉后，进行喷墨打印，接着施保护釉，之后再施所述闪光超耐磨钻石釉；

S104、将施过所述闪光超耐磨钻石釉的生坯烘干，然后烧成，得到半成品瓷质砖；

S105、用弹性模块对所述半成品瓷质砖进行抛亮光处理，得闪光超耐磨钻石釉瓷砖。

具体的，所述步骤S101包括：

根据全抛釉浆料的化学成分，在球磨机中分别加入相关原料，再加入水、悬浮剂、减水剂，然后球磨至细度小于1%；

按配比加入锆英砂，充分搅拌均匀。

本发明需要在磨成釉浆后再加锆英砂搅拌均匀，否则如果与釉浆一起球磨，锆英砂颗粒会磨得太细，会影响含锆晶体的析出，影响闪光效果。优选的，锆英砂粒度范围选定为60~180目，若大于180目，锆英砂太细，影响含锆晶体的析出，影响闪光效果；若小于60目，锆英砂太粗，一方面大颗粒在釉浆中易于沉淀，另一方面，大颗粒难于与釉完全结合在一起，抛光时，易于被模块带出，留下凹坑缺陷。

步骤S102中，所述生坯的烘干温度为150~230度。

步骤S103中，上述底釉可以根据现有技术进行选择，施底釉后，通过喷墨打印形成图案，接着施保护釉，之后再施所述闪光超耐磨钻石釉，在图案表面形成一个透明效果理想的闪光釉层。

具体的，本发明在底釉后，通过喷墨打印形成图案之后，施所述闪光超耐磨钻石釉之前，增设施保护釉。所述保护釉钾钠含量高，熔融温度相对较低，高温下可以扩散到表面的抛釉，形成成分梯度釉，既能帮助发色、同时又显著不影响表面硬度和耐磨性。

超耐磨闪光全抛釉浆料0.3mm厚釉层光透过率70～85%，具有良好的显示图案效果。优选的，当喷墨打印大理石图案后，通过施保护釉，之后再施超耐磨闪光全抛釉浆料，既能帮助发色、能显真的呈现天然大理石纹理，同时又不影响表面硬度和耐磨性。

步骤S104中，施过闪光超耐磨钻石釉的所述生坯的烘干温度为145~220度，烧成的温度为1170~1210度，烧成的周期为45~90分钟，从最高烧成温度冷却至900度的时间为20~30分钟。

本发明延长最高烧成温度冷却至900度时间，含锆晶体有更多的时间析出和长大，有利于含锆晶体的析出和长大，砖面闪光效果会更好。

步骤S105中，抛亮光有利于提高釉面光泽度，釉面光泽度越高，越有利于釉层内部高光泽颗粒的光线折射出来，更有利于提高闪光效果。优选的，本发明将釉面光泽度抛到大于93度。

具体的，所述抛亮光过程中，采用弹性模块进行抛亮光处理，弹性模块更有利于抛得更平，弹性模块对釉面的结构破坏更小，抛后釉面防污性更好。硬性模块易于将没有完全熔融的锆英砂颗粒带出，使釉面产生凹坑缺陷。更优的，所述弹性模块为弹性金刚砂模块，弹性模块细度≥3500目。

经过上述弹性模块的抛光处理，尤其是经过细度≥3500目的弹性金刚砂模块的抛光处理，配合本发明的釉料，可以使得瓷质砖无凹坑和微缝隙，获得优异且持久的耐污性能。本发明的防污性能优异，采用蓝色油性记号笔，十次不可见痕迹。而且，本发明的防污性能能保持持久，瓷质砖在使用1-3年后，仍然可以保持优异的防污性能，采用蓝色油性记号笔，十次不可见痕迹。

综上所述，本发明全抛釉浆料，通过调整SiO₂/Al₂O₃质量比、SiO₂+Al₂O₃总质量、一价金属氧化物总重量、二价金属氧化物总重量、P₂O₅质量、ZrO₂质量，延长最高烧成温度冷却至900度时间，显著提高了抛釉砖表层釉的透明性、耐磨度、硬度、热稳定性和防污性。

本发明闪光超耐磨大理石瓷砖的制备方法，工艺简单，可实施性强，且能提高产品性能、降低成本。

本发明闪光釉瓷质砖与现有闪光釉瓷质砖的技术对比如下：

下面以具体实施例进一步阐述本发明

实施例1

1）用钾钠长石、石英粉、烧滑石、碳酸钡、碳酸锶、氧化锌、硅灰石、刚玉粉、白云石、透辉石、锆英砂、减水剂和水等原料按照化学成分质量为：

SiO₂+Al₂O₃=71.9wt%，CaO+MgO+ZnO+BaO+SrO=25wt%，Na₂O+K₂O=1.9wt%，P₂O₅=1.0wt%，ZrO₂=0.2wt%，SiO₂/Al₂O₃=1.8的比例，称量入球磨机进行球磨。球磨10小时后至细度0.7%。

2）将60~130目的锆英砂按照1：9质量比与全抛釉浆料的混合，然后加入0.6%水性聚氨酯，充分搅拌均匀，得到闪光超耐磨钻石釉；

3）用压砖机将瓷质砖坯体粉料压制成生坯，然后送干燥窑于200度下烘干，得瓷质砖生坯；

4）将烘干后瓷质砖生坯施底釉后，进行喷墨打印，接着施保护釉，之后再施2）中所述闪光超耐磨钻石釉；

5）将4）所述施过闪光超耐磨钻石釉的瓷质砖生坯输送至160度的干燥窑中烘干，然后再输送至辊道窑烧成，得半成品瓷质砖；烧成温度为1180度，烧成周期为55分钟，从最高烧成温度冷却至900度的时间为25分钟。

6）用弹性金刚砂模块对5）中制得的半成品瓷质砖进行抛亮光处理，得闪光超耐磨钻石釉瓷砖。

实施例2

1）用钾钠长石、石英粉、烧滑石、碳酸钡、碳酸锶、氧化锌、硅灰石、刚玉粉、白云石、透辉石、锆英砂、减水剂和水等原料按照化学成分质量为：

SiO₂+Al₂O₃=76wt%，CaO+MgO+ZnO+BaO+SrO=20wt%，Na₂O+K₂O=2.2wt%，P₂O₅=1.55wt%，ZrO₂=0.25wt%，SiO₂/Al₂O₃=1.5的比例，称量入球磨机进行球磨。球磨9小时后至细度0.75%。

2）将70~160目的锆英砂按照1：12质量比与全抛釉浆料的混合，然后加入0.7%水性聚氨酯，充分搅拌均匀，得到闪光超耐磨钻石釉；

3）用压砖机将瓷质砖坯体粉料压制成生坯，然后送干燥窑于190度下烘干，得瓷质砖生坯；

4）将烘干后瓷质砖生坯施底釉后，进行喷墨打印，接着施保护釉，之后再施2）中所述闪光超耐磨钻石釉；

5）将4）所述施过闪光超耐磨钻石釉的瓷质砖生坯输送至180度的干燥窑中烘干，然后再输送至辊道窑烧成，得半成品瓷质砖；烧成温度为1190度，烧成周期为65分钟，从最高烧成温度冷却至900度的时间为28分钟。

6）用弹性金刚砂模块对5）中制得的半成品瓷质砖进行抛亮光处理，得闪光超耐磨钻石釉瓷砖。

实施例3

1）用钾钠长石、石英粉、烧滑石、碳酸钡、碳酸锶、氧化锌、硅灰石、刚玉粉、白云石、透辉石、锆英砂、减水剂和水等原料按照化学成分质量为：

SiO₂+Al₂O₃=75.3wt%，CaO+MgO+ZnO+BaO+SrO=20wt%，Na₂O+K₂O=2.2wt%，P₂O₅=2wt%，ZrO₂=0.5wt%，SiO₂/Al₂O₃=1.6的比例，称量入球磨机进行球磨。球磨12小时后至细度0.50%。

2）将80~150目的锆英砂按照1：15质量比与全抛釉浆料的混合，然后加入0.8%水性聚氨酯，充分搅拌均匀，得到闪光超耐磨钻石釉；

3）用压砖机将瓷质砖坯体粉料压制成生坯，然后送干燥窑于210度下烘干，得瓷质砖生坯；

4）将烘干后瓷质砖生坯施底釉后，进行喷墨打印，接着施保护釉，之后再施2）中所述闪光超耐磨钻石釉；

5）将4）所述施过闪光超耐磨钻石釉的瓷质砖生坯输送至210度的干燥窑中烘干，然后再输送至辊道窑烧成，得半成品瓷质砖；烧成温度为1205度，烧成周期为75分钟，从最高烧成温度冷却至900度的时间为30分钟。

6）用弹性金刚砂模块对5）中制得的半成品瓷质砖进行抛亮光处理，得闪光超耐磨钻石釉瓷砖。

实施例4

1）用钾钠长石、石英粉、烧滑石、碳酸钡、碳酸锶、氧化锌、硅灰石、刚玉粉、白云石、透辉石、锆英砂、减水剂和水等原料按照化学成分质量为：

SiO₂+Al₂O₃=80wt%，CaO+MgO+ZnO+BaO+SrO=15.2wt%，Na₂O+K₂O=2.30wt%，P₂O₅=2wt%，ZrO₂=0.5wt%，SiO₂/Al₂O₃=1.4的比例，称量入球磨机进行球磨。球磨13小时后至细度0.55%。

2）将60~125目的锆英砂按照1：10质量比与全抛釉浆料的混合，然后加入0.9%水性聚氨酯，充分搅拌均匀，得到闪光超耐磨钻石釉；

3）用压砖机将瓷质砖坯体粉料压制成生坯，然后送干燥窑于200度下烘干，得瓷质砖生坯；

4）将烘干后瓷质砖生坯施底釉后，进行喷墨打印，接着施保护釉，之后再施2）中所述闪光超耐磨钻石釉；

5）将4）所述施过闪光超耐磨钻石釉的瓷质砖生坯输送至200度的干燥窑中烘干，然后再输送至辊道窑烧成，得半成品瓷质砖；烧成温度为1210度，烧成周期为65分钟，从最高烧成温度冷却至900度的时间为26分钟。

6）用弹性金刚砂模块对5）中制得的半成品瓷质砖进行抛亮光处理，得闪光超耐磨钻石釉瓷砖。

实施例5

1）用钾钠长石、石英粉、烧滑石、碳酸钡、碳酸锶、氧化锌、硅灰石、刚玉粉、白云石、透辉石、锆英砂、减水剂和水等原料按照化学成分质量为：

SiO₂+Al₂O₃=82wt%，CaO+MgO+ZnO+BaO+SrO=15wt%，Na₂O+K₂O=1.8wt%，P₂O₅=0.7wt%，ZrO₂=0.5wt%，SiO₂/Al₂O₃=1.3的比例，称量入球磨机进行球磨。球磨15小时后至细度0.4%。

2）将60~100目的锆英砂按照1：13质量比与全抛釉浆料的混合，然后加入0.9%水性聚氨酯，充分搅拌均匀，得到闪光超耐磨钻石釉；

3）用压砖机将瓷质砖坯体粉料压制成生坯，然后送干燥窑于210度下烘干，得瓷质砖生坯；

4）将烘干后瓷质砖生坯施底釉后，进行喷墨打印，接着施保护釉，之后再施2）中所述闪光超耐磨钻石釉；

5）将4）所述施过闪光超耐磨钻石釉的瓷质砖生坯输送至210度的干燥窑中烘干，然后再输送至辊道窑烧成，得半成品瓷质砖；烧成温度为1195度，烧成周期为90分钟，从最高烧成温度冷却至900度的时间为30分钟。

6）用弹性金刚砂模块对5）中制得的半成品瓷质砖进行抛亮光处理，得闪光超耐磨钻石釉瓷砖。

对实施例1-5所得成品进行技术检测，结果如下：

由上可知，本发明的耐磨性能好，耐磨等级达到4级，8000～9000转；硬度高，莫氏硬度高达5.5-6，而且，防污性能好，采用蓝色油性记号笔，基本能达到10次不可见痕迹。而且，本发明抛釉砖表层釉的透明性好，能获得理想的闪光效果。

对实施例1-5所得成品经过水热处理后，再进行技术检测，具体如下：

水热处理的过程为：将实施例1-5所得成品切割成若干尺寸为φ10mm×5mm的试样，放入到装有一定量蒸馏水的高压釜中，高压釜的压力为压力4.0-4.5Mpa，在 DHG-9101-1SA型电热鼓风干燥箱中进行水热处理，温度200℃，时间为0~40h。

在水热处理过程中，每隔20h取出若1个尺寸为ϕ10mm×5mm 的陶瓷试样，计测其莫氏硬度；

在水热处理过程中，每隔20h取出若1个尺寸为ϕ10mm×5mm 的陶瓷试样进行耐磨性测试；

在水热处理过程中，每隔20h取出若1个尺寸为ϕ10mm×5mm 的陶瓷试样进行耐污性测试。

实施例1-5所得成品经过水热处理后的技术检测结果如下：

由上可知，经过水热处理20h后，本发明的莫氏硬度变化＜10%，代表本发明基本没有发生水热老化现象，其硬度变化较小，性能较为稳定；耐磨级别为4级、6000-7000转，水热处理20h后仍具有良好的耐磨性能，满足高品质抛釉砖的耐磨度的性能要求；另外，本发明的耐污性能变化非常小，基本上能维持水热处理前的耐污性能，具有理想的耐污性。

经过水热处理40h后，本发明的莫氏硬度大概维持在4.5-5左右，仍然具有良好的硬度；而耐磨级别大概为4级，2100转，基本上能满足抛釉砖的耐磨要求；另外，本发明的耐污性能变化不大，仍然能维持七到八次的不可见痕迹（蓝色油性记号笔）。

因此，本发明制得的闪光釉瓷质砖，其性能稳定，抗老化性能好。经过水热处理，仍能获得较为良好的硬度、耐磨性能以及耐污性。

以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种闪光超耐磨钻石釉，其特征在于，其主要由全抛釉浆料和锆英砂制成，其中，所述全抛釉浆料以质量百分比计的化学成分为：

SiO₂+Al₂O₃=70~82wt%，CaO+MgO+ZnO+BaO+SrO=15~27wt%，Na₂O+K₂O=1.8~2.5wt%，P₂O₅=0~2wt%，ZrO₂=0~0.5wt%，SiO₂/Al₂O₃=1.3~1.8。

2.如权利要求1所述的闪光超耐磨钻石釉，其特征在于，所述锆英砂与闪光超耐磨钻石釉的质量比为1：（9~16）。

3.如权利要求2所述的闪光超耐磨钻石釉，其特征在于，所述闪光超耐磨钻石釉主要由全抛釉浆料、锆英砂和助剂制成；

所述助剂包括悬浮剂、减水剂的一种或多种；

所述悬浮剂为水性聚氨酯树脂；

基于所述闪光超耐磨钻石釉的总量，所述悬浮剂的加入量为0.5~1%。

4.一种闪光超耐磨钻石釉瓷砖，其特征在于，其原料包括坯体原料和闪光超耐磨钻石釉，所述闪光超耐磨钻石釉主要由全抛釉浆料和锆英砂制成；

所述全抛釉浆料以质量百分比计的化学成分为：

SiO₂+Al₂O₃=70~82wt%，CaO+MgO+ZnO+BaO+SrO=15~27wt%，Na₂O+K₂O=1.8~2.5wt%，P₂O₅=0~2wt%，ZrO₂=0~0.5wt%，SiO₂/Al₂O₃=1.3~1.8。

所述闪光超耐磨钻石釉瓷砖是通过将所述闪光超耐磨钻石釉施加到坯体原料制成的生坯上，高温烧成后，再经过抛亮光处理而得。

5.如权利要求4所述的闪光超耐磨钻石釉瓷砖，其特征在于，所述锆英砂与闪光超耐磨钻石釉的质量比为1：（9~16）。

所述闪光超耐磨钻石釉主要由全抛釉浆料、锆英砂和助剂制成；

所述助剂包括悬浮剂、减水剂的一种或多种；

所述悬浮剂为水性聚氨酯树脂；

基于所述闪光超耐磨钻石釉的总量，所述悬浮剂的加入量为0.5~1%。

6.如权利要求4所述的闪光超耐磨钻石釉瓷砖，其特征在于，所述抛亮光处理为采用≥3500目的弹性模块进行抛亮光处理，抛亮光处理后釉面光泽度大于93度，且表面无凹坑和微缝隙。

7.一种闪光超耐磨钻石釉瓷砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1) 将锆英砂与全抛釉浆料混合，得到闪光超耐磨钻石釉；

(2) 用压砖机将坯体粉料压制，然后烘干，得生坯；

(3) 将所述生坯施底釉后，进行喷墨打印，接着施保护釉，之后再施所述闪光超耐磨钻石釉；

(4)将施过所述闪光超耐磨钻石釉的生坯烘干，然后烧成，得到半成品瓷质砖；

(5) 用弹性模块对所述半成品瓷质砖进行抛亮光处理，得闪光超耐磨钻石釉瓷砖。

8.如权利要求7所述的闪光超耐磨钻石釉瓷砖的制备方法，其特征在于，步骤（1）包括：

根据全抛釉浆料的化学成分，在球磨机中分别加入原料，再加入水、悬浮剂、减水剂，然后球磨至细度小于1%；

按配比加入锆英砂，充分搅拌均匀。

9.如权利要求7所述的闪光超耐磨钻石釉瓷砖的制备方法，其特征在于，所述烧成的温度为1170~1210度，烧成的周期为45~90分钟，从最高烧成温度冷却至900度的时间为20~30分钟。

10.如权利要求7所述的闪光超耐磨钻石釉瓷砖的制备方法，其特征在于，步骤（1）中所述锆英砂的粒度为60~180目；

步骤（2）中所述生坯的烘干温度为150~230度；步骤（4）中施过闪光超耐磨钻石釉的所述生坯的烘干温度为145~220度；

步骤（5）中，采用≥3500目的弹性模块进行抛亮光处理，抛亮光处理后釉面光泽度大于93度，且表面无凹坑和微缝隙。

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