CN111732453A - 一种具有金属光泽装饰效果的陶瓷砖及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种具有金属光泽装饰效果的陶瓷砖及其制备方法。所述制备方法包括：在施哑光抛釉后的砖坯上施高比重高折射率釉并烧成获得陶瓷砖，所述高比重高折射率釉的折射率为1.93～2.01，所述哑光抛釉的折射率为1.50～1.53，其中所述高比重高折射率釉的熔融温度高于所述哑光抛釉280～350℃，所述高比重高折射率釉的比重高于所述哑光抛釉0.27～0.31g/cm3，以使至少部分高比重高折射率釉在烧成过程中下沉至哑光抛釉形成的熔融液相中并被所述熔融液相完全或部分包裹。所述制备方法可以克服由于金属本身具有颜色效果造成陶瓷砖面图案的单一化，同时使得釉层具有三维立体的装饰效果，提高产品装饰性。

Description

一种具有金属光泽装饰效果的陶瓷砖及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种具有金属光泽装饰效果的陶瓷砖及其制备方法，属于陶瓷砖生产制造技术领域。
背景技术
在建筑行业中，金属釉应用不乏奇多，市场上常见的金属釉产品以仿古自然面为主。为了适应市场需求，行业中也开始出现具有金属光泽的釉面砖，其金属光泽多数是由某种金属元素形成。但是金属氧化物本质为高温物质，熔点较高，因此金属氧化物用于陶瓷釉料时在低温下难以熔融，从而对釉料有机物在高温排出气体时形成一定的阻力，导致气体未能及时排出，经抛光后釉面中易形成大量毛孔。而金属元素自身具有颜色效果，因此大大缩小了配色范围，在陶瓷釉面效果搭配设计方面具有一定的局限性。另外，市场中具有下陷效果的大理石釉面装饰效果，大多数利用碳酸盐矿物在高温下分解烧失产生的收缩形成下凹效果，所形成的凹陷在产品后期使用过程中易藏污。
中国专利CN 106518029A公开一种具有金属光泽凹陷纹理的大理石陶瓷砖制备方法，其制备工艺是低温玻璃体经烧制后得到表面具有金属光泽凹陷纹理效果的大理石陶瓷砖。该陶瓷砖在后期使用过程中凹陷位置易藏污。中国专利CN 106810297B公开一种表面具有高亮和哑光贵金属光泽陶瓷砖的生产工艺，其工艺采用二次烧成，并结合金属效果墨水，利用金、银、铂贵金属的反光效果获取不同光泽度效果。贵金属本身价格昂贵，加之采取二次烧成工艺，制备工艺繁杂，导致生产成本增加。
发明内容
为了解决现有技术中利用金属形成金属光泽容易造成釉面中形成大量毛孔以及限制其装饰应用范围的问题，本发明提供一种具有金属光泽装饰效果的陶瓷砖及其制备方法，使用具有高折射率的物质来获取金属光泽效果，这样不仅可以克服由于金属本身具有颜色效果造成陶瓷砖面图案的单一化，同时使得釉层具有三维立体的装饰效果，提高产品的档次及装饰性。另外，本发明的制备方法通过高比重高折射率物质利用自身重力下陷到哑光抛釉的釉层，再经过抛光获取具有金属光泽装饰效果的釉面，釉面不会因此呈现凹陷的效果，不会影响陶瓷砖的防污性能。
第一方面，本发明提供一种具有金属光泽装饰效果的陶瓷砖的制备方法，包括：在施哑光抛釉后的砖坯上施高比重高折射率釉并烧成获得陶瓷砖，所述高比重高折射率釉的折射率为1.93～2.01，所述哑光抛釉的折射率为1.50～1.53，其中所述高比重高折射率釉的熔融温度高于所述哑光抛釉280～350℃，所述高比重高折射率釉的比重高于所述哑光抛釉0.27～0.31g/cm3，以使至少部分高比重高折射率釉在烧成过程中下沉至哑光抛釉形成的熔融液相中并被所述熔融液相完全或部分包裹。高比重高折射率釉和哑光抛釉形成的玻璃相接触面上形成折射率差值，进而使得光线入射到该接触面时形成金属光泽装饰效果。
由于哑光抛釉形成的玻璃相折射率在1.50～1.53，玻璃相本身具有透射的损耗，因此反光强度会有一定的减弱效果；而高比重高折射率釉的折射率在1.93～2.01，进而在高比重高折射率釉和哑光抛釉形成的玻璃相接触面上会形成折射率差值，在光线入射到该接触面时会使得光线反射加强，使得侧面中也形成一定的亮光效果，三维立体和金属光泽装饰效果更加突出。
所述高比重高折射率釉的折射率优选高于所述哑光抛釉0.43～0.48。对于产生全反射条件而言，两者折射率差异越大，其发生全反射的临界角越小，从而越容易发生全反射。因此高比重高折射率釉与哑光抛釉之间折射率的差值不宜过大，过大会使得釉层玻璃相中散射损耗增多，光线再折射出来强度相对减弱。然而高比重高折射率釉与哑光抛釉之间折射率的差值过小，即两者折射率相近则会出现入射角几乎等同于折射角的现象，增大散射损耗的同时减弱反射光强度，这不利于形成金属光泽装饰效果。
较佳的，所述高比重高折射率釉的比重为2.12～2.14g/cm3，所述哑光抛釉的比重为1.83～1.85 g/cm3 。要求高比重高折射率釉的比重高于抛釉的目的在于，使得高比重高折射率釉在烧制过程中因比重较大而下沉到釉浆中以形成包裹效果，这种包裹不仅可以对高比重高折射率釉起到助熔作用，同时在透明的哑光抛釉层中间形成分界线，该分界线由于呈现立体装饰感从而使得形成的金属光泽装饰效果更加突出。这是在实验过程中意外发现的现象。上述比重的差值不宜过大，否则会使得装饰部分过度下沉出现塌陷现象，在抛光后易出现釉坑。优选地，所述高比重高折射率釉的比重高于所述哑光抛釉0.27～0.31g/cm3。
由于在高温熔融过程中，哑光抛釉形成的熔融液具有一定的流动性，熔融液在惯性流动的过程中会填补高比重高折射率釉浆部分下陷的位置，有效防止烧制后由于高比重折射率釉部分下沉而导致釉面出现“凹坑”现象。经过后期冷加工抛光作用将该部分釉层抛掉，使得釉面呈现的金属光泽装饰效果与哑光抛釉在同一水平方向呈现高度贴合现象。
所述制备方法还包括：烧成后将陶瓷砖抛光的步骤。经过抛光除去哑光抛釉玻璃相的影响使得高比重高折射率釉完全裸露出来，使得高比重高折射率釉与哑光抛釉形成的折射率差效果更加显著。
所述高比重高折射率釉的熔融温度为1375～1450℃，所述哑光抛釉的熔融温度为1085～1107℃。优选地，所述高比重高折射率釉的熔融温度高于所述哑光抛釉280～350℃。若高比重高折射率釉的熔融温度过高，在釉层中会无法熔融，导致装饰部分釉面生烧，装饰线条在抛光后失去光泽效果，甚至会有部分气体上升冲开该位置造成气孔缺陷。在窑炉烧制过程中最高烧成温度是1198～1203℃，在此高温下哑光抛釉形成液相，对高比重高折射率釉起到助熔作用，因此两者的熔融温度差值不宜相差过大，防止两者在高温下发生反应产生气体，使得釉面产生针孔。
所述高比重高折射率釉在40～600℃的膨胀系数为6.68～7.07×10-6/k，所述哑光抛釉的在40～600℃的膨胀系数为7.13～7.24×10-6/k。
较佳的，所述高比重高折射率釉的原料组成包括质量占比为39～42 wt%的高比重高折射率熔块。所述高容重高折射率熔块的粒径在150～200目之间。
较佳的，所述高比重高折射率熔块的原料组成包括锆英石以及占锆英石2～3wt%的稀土氧化物CeO2和占锆英石6～8wt%的金属氧化物SnO2。
本发明通过使用高折射率物质减少对光线的散射、透射损耗，从而增强反射光强度，加上高折射物质能多角度反射光线，相对于低折射率物质更能增强反射光线。为了增强光泽效果，将高折射率物质制成150～200目的颗粒熔块，由于烧制过程中高比重高折射率釉本身熔融温度较高（1375～1450℃），因此在陶瓷烧制达到最高温度点时，熔块并不是形成均质的液相物质，而是颗粒周围被熔解形成平滑的弧状结构，该弧状结构会使得入射的光线在所制成的高折射率釉浆中多次甚至连续反射，同时伴随着多次折射，将入射的单条光线形成多条光线并反射出去，增强了釉面反射效果。
较佳的，所述高容重高折射率釉的原料组成还包括质量占比为7～9 wt%低温釉粉，所述低温釉粉的化学组成包括：以质量百分比计，烧失：0.43～0.53%、SiO2：44.67～46.52%、Al2O3：8.33～9.72%、Fe2O3：0.18～0.23%、TiO2：0.09～0.14%、CaO：3.43～4.98%、MgO：0.88～1.98%、K2O：1.74～2.57%、Na2O：2.05～2.94%、ZrO2：3.89～4.98%、ZnO：10.02～11.70%、PbO：5.87～6.92%、CeO2：6.51～7.03%、BaO：1.98～2.50%。
较佳的，所述高比重高折射率釉的原料组成还包括：质量占比14～16 wt%的水以及质量占比为34～37 wt%的釉用胶辊印油。
较佳的，所述高比重高折射率釉的施加方式为丝网印花。优选地，所述丝网的目数为120～130目。现有传统丝网厚度施加高比重高折射率釉时，釉浆堆积厚度过小。为了保证高比重高折射率釉在哑光抛釉表面具有一定的厚度，使得在烧制后仍有部分在哑光抛釉表面裸露，因此所述丝网优选0.20～0.30mm的厚度。例如使用厚度0.1mm的丝网印高比重高折射率釉，由于釉量堆积较小，导致在抛光后产品装饰虽具有金属光泽效果，但是没有出现下陷到釉层中的立体效果，其光泽仅在釉面，无法达到立体装饰效果。
较佳的，所述哑光抛釉的化学组成包括，以质量百分比计：烧失：9.78～10.60%、SiO2：45.05～47.23%、Al2O3：12.27～14.44%、Fe2O3：0.10～0.20%、CaO：6.01～7.23%、MgO：4.72～5.17%、K2O：2.78～4.14%、Na2O：0.15～2.00%、P2O5：0.25～0.27%、BaO：6.32～7.81%、ZnO：2.98～3.32%。
较佳的，所述哑光抛釉的施加方式为淋釉，施釉量620～650g/m2。
较佳的，施哑光抛釉前，在砖坯上施面釉并喷墨打印图案。所述面釉的化学组成包括，以质量百分比计：烧失：4.00～5.00%、SiO2：49.89～50.78%、Al2O3：28.87～30.45%、Fe2O3：0.22～0.42%、TiO2：0.05～0.07%、CaO：0.55～0.87%、MgO：0.13～0.24%、K2O：4.89～5.62%、Na2O：2.58～3.34%、P2O5：0.26～0.45%、ZrO2：5.03～6.45%。
优选地，所述面釉的施加方式为喷釉，面釉比重为1.42～1.43 g/cm3，施釉量为500～600 g/m2。
较佳的，为了降低高光泽度对高比重高折射率所形成金属光泽的影响，所述抛光的方式为柔抛。
较佳的，烧成周期为63～68min，最高烧成温度为1198～1203℃。
第二方面，本发明还提供上述任一项所述的制备方法获得的具有金属光泽装饰效果的陶瓷砖。
附图说明
图1为本发明实施例1具有金属装饰效果的陶瓷砖的砖面效果图；
图2为本发明具有金属装饰效果的陶瓷砖的高比重高折射率釉装饰位置在250倍放大镜下的釉层气泡效果图。
具体实施方式
通过下述实施方式进一步说明本发明，应理解，下述实施方式仅用于说明本发明，而非限制本发明。在没有特殊说明的情况下，各百分含量指质量百分含量。
以下示例性说明本发明所述具有金属光泽装饰效果的陶瓷砖的制备方法。
利用陶瓷基料压制成砖坯。所述陶瓷基料的组成不受限制，采用普通陶瓷基料即可。一些实施方式中，所述陶瓷基料的化学组成可包括：以质量百分比计，烧失：4.90～5.30%、SiO2：64.31～66.35%、Al2O3：20.51～22.67%、Fe2O3：0.55～0.92%、TiO2：0.17～0.31%、CaO：0.38～0.39%、MgO：0.59～0.69%、K2O：2.27～2.43%、Na2O：2.92～3.12%、P2O5：0.03～0.09%。
将砖坯干燥。可采用干燥窑干燥。干燥时间可为1～1.2h，干燥后砖坯的水分控制在0.2wt%以内。
在干燥后的砖坯表面施面釉。一些实施方式中，所述面釉的化学组成可包括，以质量百分比计：烧失：4.00～5.00%、SiO2：49.89～50.78%、Al2O3：28.87～30.45%、Fe2O3：0.22～0.42%、TiO2：0.05～0.07%、CaO：0.55～0.87%、MgO：0.13～0.24%、K2O：4.89～5.62%、Na2O：2.58～3.34%、P2O5：0.26～0.45%、ZrO2：5.03～6.45%。
所述面釉的施加方式可为喷釉。面釉比重可为1.42～1.43 g/cm3，施釉量为500～600g/m2。
在施面釉后的砖坯上喷墨打印图案。喷墨打印图案的颜色和图案依据设计效果作适应性变化。
在喷墨打印图案后的砖坯上施哑光抛釉。一些实施方式中，哑光抛釉的化学组成可包括，以质量百分比计：烧失：9.78～10.60%、SiO2：45.05～47.23%、Al2O3：12.27～14.44%、Fe2O3：0.10～0.20%、CaO：6.01～7.23%、MgO：4.72～5.17%、K2O：2.78～4.14%、Na2O：0.15～2.00%、P2O5：0.25～0.27%、BaO：6.32～7.81%、ZnO：2.98～3.32%。
哑光抛釉的釉面光泽度优选在32～37°之间。哑光抛釉的光泽度经过抛光打蜡后不宜超过50°，放置哑光抛釉光泽度过高而大大减弱金属光泽的装饰效果。
所述哑光抛釉的施加方式为淋釉。由于高比重高折射率釉使用丝网印花工艺，并且该丝网印花工艺的工序是在施哑光抛釉之后，因此要求哑光抛釉后的釉面具有较好的平整度。淋釉的方式对于比重要求较高，所得釉面的致密度优于喷撒，更利于高比重高折射率釉在印完后与哑光抛釉的釉面具有更高的贴合度。一些实施方式中，所述哑光抛釉的比重为1.83～1.85 g/cm3，施釉量620～650g/m2。
制备高比重高折射率熔块。上述高比重高折射率熔块的原料组成包括锆英石、稀土氧化物CeO2和金属氧化物SnO2。高比重高折射率熔块选择以锆英石为主要物质，折射率为1.93～2.01，密度为4.6～4.7g/m3，硬度较高，耐磨，经过抛光具有半透明状，呈现金属光泽。为了使金属光泽更加明显，还加入占锆英石2～3wt%的稀土氧化物CeO2（折射率为2.18～2.20，密度为7.65g/m3）以及占锆英石6～8wt%的SnO2（折射率为1.98～2.00，密度为6.95g/m3）。这两种氧化物的加入不仅可以增大折射率，还使得光泽类似于银色效果，更具高端感。对于稀土氧化物CeO2不宜加入过多，过量会使得釉层呈现淡黄色现象，大大降低了釉层的金属光泽效果。
作为示例，上述锆英石的化学组成可包括：以质量百分比计，烧失：0.78%、SiO2：32.90%、Al2O3：2.57%、Fe2O3：0.09%、TiO2：0.13%、CaO：0.11%、MgO：0.34%、K2O：0.02%、Na2O：0.25%、ZrO2：63.05%。
制备高比重高折射率釉。作为示例，所述高比重高折射率釉的原料组成可包括：高比重高折射率熔块占比为39～42 wt%，低温釉粉占比为7～9 wt%，水占比14～16 wt%，釉用胶辊印油占比为34～37 wt%和羧甲基纤维素0.2～0.3 wt%。
高比重高折射率釉中，高比重高折射率熔块的质量百分比为39～42 wt%。高比重高折射率熔块的占比过大导致釉浆熔融温度过高，因烧不熟而出现釉面鼓泡现象；占比过小烧制后的金属光泽效果较弱。
高比重高折射率熔块本身具有较高的熔融温度，在传统陶瓷烧制制度中很难烧熟，烧制后容易在釉层出现剥落现象。为了使得该熔块与哑光抛釉具有较好的结合性以及熔融温度，在配制高比重高折射率釉时加入低温釉粉以调整其熔融温度。该低温釉粉始熔点较低（800～900℃），作为助熔剂加入使用可降低其熔融温度。对于坯体和釉层而言，硫化物的氧化、碳酸盐的分解大多数集中在此温度区间，因此产生的气体能提前充分排出釉层，从而使得该部分气泡有效减少。由于气体排出时高比重高折射率熔块还处于固相，低温釉粉所形成的熔融液会充分包裹住熔块，减少颗粒之间的接触距离，同时拉平了气体排出时所形成的“火山口”。图2为烧制后在250倍放大镜观察下所看到的气泡效果。乳白色部分为高比重高折射率釉浆装饰位置，从图中明显看到乳白色部分虽然有少数气泡，但是相对于周围普通釉层，乳白色部分的气泡显著减少。这是由于熔块间的空隙利于气体提前排出，而未能提前排出的气体被低温釉粉形成的熔融液裹在下方。传统方法中利用金属形成金属光泽，由于金属氧化物难以熔融，因此无法形成液相溶液，导致釉层中的气体不断排出，在釉面金属装饰周围产生大量毛孔。本发明不仅可以避免上述缺陷，而且形成的气泡多数集中的底层，有利于减小抛光厚度。
一些实施方式中，上述低温釉粉的化学组成可包括：以质量百分比计，烧失：0.43～0.53%、SiO2：44.67～46.52%、Al2O3：8.33～9.72%、Fe2O3：0.18～0.23%、TiO2：0.09～0.14%、CaO：3.43～4.98%、MgO：0.88～1.98%、K2O：1.74～2.57%、Na2O：2.05～2.94%、ZrO2：3.89～4.98%、ZnO：10.02～11.70%、PbO：5.87～6.92%、CeO2：6.51～7.03%、BaO：1.98～2.50%。
本发明的高比重高折射率釉中低温釉粉的质量百分含量需要适量控制。针对本发明所述烧制温度，低温釉粉占比为7～9 wt%，这样可以避免严重过烧状态下进一步发生的化学反应，避免气体产生导致装饰部分膨胀，出现鼓泡、开裂等现象。低温釉粉过量会使高比重高折射率釉的熔融液黏度增大，增加高比重高折射率熔块下沉阻力，在抛光后容易将该物质抛掉，失去装饰效果。另外，低温釉粉的上述质量百分含量也利于进一步调整高比重高折射釉的膨胀系数。
高比重高折射率釉的制备：先将低温釉粉、羧甲基纤维素与水充分搅拌均匀，然后再加入高比重高折射率熔块和釉用胶辊印油。提前将水与低温釉粉混合是为了使得低温釉粉更加充分分散，防止加入釉用胶辊印油后釉粉在高粘度作用下团聚进而分散不均匀。其中，羧甲基纤维素和釉用胶辊印油是为了调节高比重高折射率釉浆的悬浮性能，防止熔块沉淀。
所述高比重高折射率釉的施加方式可为丝网印花。
作为示例，所述高比重高折射率釉的化学组成包括，以质量百分比计，烧失：2.82～3.34%、SiO2：36.35～38.56%、Al2O3：7.98～8.82%、Fe2O3：0.09～0.14%、CaO：5.56～6.09%、MgO：1.74～2.45%、K2O：1.46～2.32%、Na2O：1.68～3.02%、SnO2：5.07～6.03%、BaO：0.98～1.82%、ZnO：0.57～1.45%、CeO2：0.98～1.27%、P2O5：0.11～0.13%、ZrO2：26.37～29.20%。
哑光抛釉与高比重高折射率釉在40～600℃的膨胀系数差值不宜超过0.5×10-6/k，防止两者膨胀系数差异过大产生釉层开裂现象。高比重高折射釉浆在40～600℃的膨胀系数为6.68～7.07×10-6/k，哑光抛釉在40～600℃的膨胀系数为7.13～7.24×10-6/k。
将施高比重高折射率釉后的砖坯干燥。可采用电窑干燥。干燥窑温度控制在110℃～120℃，干燥后砖坯的水分控制在0.2wt%以内。
将干燥后的砖坯烧成。可采用辊道窑低温快烧。烧成周期可为63～68min。为了防止哑光抛釉严重过烧导致釉层产生大量气泡，最高烧成温度范围可为1198～1203℃。
对于金属墨水、金属釉装饰大理石产品，其在装饰部分通常是凹陷状态，在日后清理过程中十分困难，而本发明的装饰效果并不是将周围釉浆拨开，而是与哑光抛釉层拥有高度贴合度，与抛釉面在同一水平高度，不影响整个釉面平整度。
实施例1
步骤1. 利用普通陶瓷基料压制砖坯。
步骤2. 干燥窑干燥，干燥时间1～1.2h，干燥后砖坯的水分控制在0.2wt%以内。
步骤3. 喷面釉，面釉比重为1.42～1.43 g/cm3，施釉量为500～600g/m2。面釉的化学组成包括，以质量百分比计：烧失：4.31%、SiO2：50.42%、Al2O3：29.41%、Fe2O3：0.37%、TiO2：0.07%、CaO：0.71%、MgO：0.20%、K2O：5.62%、Na2O：2.58%、P2O5：0.26%、ZrO2：6.05%。
步骤4. 在喷面釉后的砖坯上喷墨打印图案。
步骤5. 在喷墨打印图案后的砖坯上淋哑光抛釉，比重为1.83～1.85 g/cm3，施釉量620～650g/m2。哑光抛釉的化学组成包括，以质量百分比计：烧失：10.60%、SiO2：45.90%、Al2O3：14.40%、Fe2O3：0.20%、CaO：6.66%、MgO：4.72%、K2O：4.14%、Na2O：2.00%、P2O5：0.25%、BaO：7.81%、ZnO：3.32%。
步骤6. 丝网印花高比重高折射率釉。高比重高折射率釉的化学组成包括，以质量百分比计：烧失：2.92%、SiO2：38.08%、Al2O3：8.82%、Fe2O3：0.11%、CaO：6.09%、MgO：1.74%、K2O：1.76%、Na2O：1.68%、SnO2：5.41%、BaO：1.82%、ZnO：1.00%、CeO2：1.24%、P2O5：0.13%、ZrO2：29.20%。
步骤7.采用电窑干燥，干燥窑温度控制在110℃～120℃，干燥后砖坯的水分控制在0.2wt%以内。
步骤8. 辊道窑低温快烧，烧成周期为63～68min，最高烧成温度范围为1198～1203℃。
步骤9. 抛光。
表1 抛光模块参数
Figure 456535DEST_PATH_IMAGE001
表1中可以看出，前三组使用树脂模块作为抛光模块，后三组使用纤维模块作为抛光模块。其中，目数指的是模块上耐磨粒子的细度。从图1可以看出釉面线条在旁边光晕的反衬下看到线条呈银色金属光泽。
以上实施例只用于对本发明进行进一步说明，不能理解为对本发明保护范围的限制，本领域的技术人员根据本发明的上述内容作出的一些非本质的改进和调整均属于本发明的保护范围。上述示例具体的工艺参数等也仅是合适范围中的一个示例，即本领域技术人员可以通过本文的说明做合适的范围内选择，而并非要限定于上文示例的具体数值。

Claims (10)

1.一种具有金属光泽装饰效果的陶瓷砖的制备方法，其特征在于，包括：在施哑光抛釉后的砖坯上施高比重高折射率釉并烧成获得陶瓷砖，所述高比重高折射率釉的折射率为1.93～2.01，所述哑光抛釉的折射率为1.50～1.53，其中所述高比重高折射率釉的熔融温度高于所述哑光抛釉280～350℃，所述高比重高折射率釉的比重高于所述哑光抛釉0.27～0.31g/cm3，以使至少部分高比重高折射率釉在烧成过程中下沉至哑光抛釉形成的熔融液相中并被所述熔融液相完全或部分包裹。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述高比重高折射率釉的比重为2.12～2.14g/cm3，所述哑光抛釉的比重为1.83～1.85 g/cm3。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述高比重高折射率釉的熔融温度为1375～1450℃，所述哑光抛釉的熔融温度为1085～1107℃。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述高比重高折射率釉在40～600℃的膨胀系数为6.68～7.07×10-6/k，所述哑光抛釉在40～600℃的膨胀系数为7.13～7.24×10-6/k。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述高比重高折射率釉的原料组成包括质量占比为39～42 wt%的高比重高折射率熔块，所述高比重高折射率熔块的粒径在150～200目之间。
6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述高比重高折射率熔块的原料组成包括锆英石以及占锆英石2～3wt%的稀土氧化物CeO2和占锆英石6～8wt%的金属氧化物SnO2。
7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述高比重高折射率釉的施加方式为丝网印花，所述丝网的目数为120～130目。
8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述哑光抛釉的施加方式为淋釉，施釉量为620～650g/m2。
9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，烧成周期为63～68min，最高烧成温度为1198～1203℃。
10.一种具有金属光泽装饰效果的陶瓷砖，其特征在于，所述具有金属光泽装饰效果的陶瓷砖根据权利要求1至9中任一项所述的制备方法获得。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112209744A (zh) * 2020-10-13 2021-01-12 广东清远蒙娜丽莎建陶有限公司 一种表面鳞片纹理防滑瓷质砖及其制备方法
CN113562976A (zh) * 2021-09-24 2021-10-29 佛山市道氏科技有限公司 一种陶瓷用箔金效果颗粒、陶瓷及其制备方法、釉料
CN113929499A (zh) * 2021-09-26 2022-01-14 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种具有镜面浮雕装饰效果的陶瓷砖及制备方法
CN114014698A (zh) * 2021-10-26 2022-02-08 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种片状银色光泽陶瓷岩板及制备方法
CN116062996A (zh) * 2022-12-21 2023-05-05 蒙娜丽莎集团股份有限公司 螺钿釉、螺钿亮纹陶瓷岩板及其制备方法
WO2023130932A1 (zh) * 2022-01-06 2023-07-13 蒙娜丽莎集团股份有限公司 具有防伪视觉效果的陶瓷板及其制备方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101314549A (zh) * 2007-05-29 2008-12-03 卡塔罗尼安-阿拉贡斯矿业公司 金属釉组合物
CN110078501A (zh) * 2019-06-25 2019-08-02 佛山市蓝瓷创陶科技有限公司 一种全抛闪光晶砂釉瓷质砖的制备方法
EP3564200A1 (en) * 2018-05-04 2019-11-06 Merck Patent GmbH Ceramic colours

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101314549A (zh) * 2007-05-29 2008-12-03 卡塔罗尼安-阿拉贡斯矿业公司 金属釉组合物
EP3564200A1 (en) * 2018-05-04 2019-11-06 Merck Patent GmbH Ceramic colours
CN110078501A (zh) * 2019-06-25 2019-08-02 佛山市蓝瓷创陶科技有限公司 一种全抛闪光晶砂釉瓷质砖的制备方法

Non-Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
J.R.TAYLOR等: "《陶瓷釉技术》", 31 December 1990, 鹭江出版社 *
向军等: ""陶瓦低温慢烧银黑金属釉的研发"", 《佛山陶瓷》 *
耿谦等: ""CeO2、La2O3在金光釉中的应用研究"", 《稀土》 *
蒋伟忠等: "《搪瓷与搪玻璃》", 30 November 2015, 中国轻工业出版社 *
西北轻工业学院: "《玻璃工艺学》", 31 August 2007, 中国轻工业出版社 *

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112209744A (zh) * 2020-10-13 2021-01-12 广东清远蒙娜丽莎建陶有限公司 一种表面鳞片纹理防滑瓷质砖及其制备方法
CN113562976A (zh) * 2021-09-24 2021-10-29 佛山市道氏科技有限公司 一种陶瓷用箔金效果颗粒、陶瓷及其制备方法、釉料
CN113929499A (zh) * 2021-09-26 2022-01-14 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种具有镜面浮雕装饰效果的陶瓷砖及制备方法
CN115521165A (zh) * 2021-09-26 2022-12-27 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种具有镜面浮雕装饰效果的陶瓷砖及制备方法
CN114014698A (zh) * 2021-10-26 2022-02-08 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种片状银色光泽陶瓷岩板及制备方法
WO2023130932A1 (zh) * 2022-01-06 2023-07-13 蒙娜丽莎集团股份有限公司 具有防伪视觉效果的陶瓷板及其制备方法
CN116062996A (zh) * 2022-12-21 2023-05-05 蒙娜丽莎集团股份有限公司 螺钿釉、螺钿亮纹陶瓷岩板及其制备方法
CN116062996B (zh) * 2022-12-21 2023-11-21 蒙娜丽莎集团股份有限公司 螺钿釉、螺钿亮纹陶瓷岩板及其制备方法

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