CN112441753A - 玻璃基板的处理方法及化学强化玻璃基板 - Google Patents

玻璃基板的处理方法及化学强化玻璃基板 Download PDF

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Abstract

本发明涉及玻璃基板的处理方法及化学强化玻璃基板，玻璃基板的处理方法具备如下工序：准备具有互相对向的一对主面且上述主面的面积A与上述一对主面彼此之间的厚度t的比A/t为25000以上的玻璃基板的工序、将上述玻璃基板以上述主面与铅垂方向大致平行的朝向保持于玻璃收容部的工序及使上述玻璃基板保持于上述玻璃收容部的状态不变并对上述玻璃基板进行液体处理的工序，上述玻璃收容部具备：玻璃支承部，利用第一支承部件及第二支承部件支承所述玻璃基板；及引导部件，分别设置于被上述玻璃支承部支承的上述玻璃基板的厚度方向上的一侧和另一侧。

Description

玻璃基板的处理方法及化学强化玻璃基板
技术领域
本发明涉及玻璃基板的处理方法及化学强化玻璃基板。
背景技术
在用于移动信息终端PDA(Personal Digital Assistants：个人数字助理)、便携式计算机等的平板显示装置中，薄板状的罩玻璃配置于显示器的前面。这样的罩玻璃例如经过化学强化、药液处理、HF蚀刻、超声波清洗等各种的液体处理工序来进行制作。
在上述的液体处理工序中，均在罩玻璃被保持于盒的状态下进行处理。但是，随着罩玻璃的薄壁化，特别是在厚度为0.2mm以下的薄板玻璃的情况下，将玻璃稳定保持变得困难。
例如，当使用如专利文献1、2所记载的现有的盒来保持罩玻璃时，可能会发生罩玻璃因自重或外力而挠曲并且玻璃表面被推抵至周围的部件而损伤或罩玻璃从盒的脱落、破损等。
因此，已知对薄板玻璃施加外力而使之弯曲并保持弯曲的状态不变来进行液体处理的方法(专利文献3、4)。在该方法中进行如下操作：准备平坦的初始形状的玻璃板，通过应力的负荷使玻璃板从初始形状弯曲为弯曲的第二形状。然后，弯曲的玻璃板保持承受应力的状态而进行后续加工以保持该第二形状。在后续加工后，解除负荷应力、使玻璃板的至少一部分回复到初始形状。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利第5730241号公报
专利文献2：国际公开第2008/078492号
专利文献3：日本特表2016-529196号公报
专利文献4：日本专利第6392363号公报
发明内容
发明所要解决的课题
然而，在专利文献3的方法中，在对玻璃基板进行化学强化处理的情况下，存在在玻璃基板的表里产生应力差的问题、玻璃基板变形的问题。此外，在玻璃基板的清洗工序中，在上述方法中在流动液体中的保持力不足，进而成为玻璃基板的破损的原因。另外，在专利文献4的方法中，通过具备调整螺钉组件的夹具来控制玻璃薄板的弯曲，并仅对玻璃基材的主要面的一方进行非对称离子交换来进行化学强化，但使玻璃基板变形的课题与上述同样地无法避免。
本发明的目的在于提供一种玻璃基板的处理方法，不会对玻璃的品质造成影响，维持在板面内稳定地保持玻璃板的状态并能够实施各种处理工序，由此能够成品率高并且稳定地制造抑制了处理后的玻璃的变形的玻璃基板。
另外，本发明的第二目的在于提供抑制了裂纹、翘曲的化学强化玻璃基板。
用于解决课题的技术方案
本发明由下记的结构构成。
该玻璃基板的处理方法具备如下工序：
准备具有互相对向的一对主面且上述主面的面积A与上述一对主面彼此之间的厚度t的比A/t为25000以上的玻璃基板；
使上述玻璃基板以上述主面与铅垂方向大致平行的朝向保持于玻璃收容部；及
使上述玻璃基板保持于上述玻璃收容部的状态不变，对上述玻璃基板进行液体处理，其中，
上述玻璃收容部具备：
玻璃支承部，利用第一支承部件及第二支承部件支承上述玻璃基板，该第一支承部件卡定上述玻璃基板的铅垂方向下方的下侧周缘部，该第二支承部件卡定比上述玻璃基板的上述下侧周缘部靠铅垂方向上方的上侧周缘部；及
引导部件，分别设置于被上述玻璃支承部支承的上述玻璃基板的厚度方向上的一侧和另一侧，
在上述玻璃基板呈平坦状的情况下，上述引导部件从上述玻璃基板的上述主面分离，
在上述玻璃基板挠曲的情况下，在上述玻璃基板与上述第一支承部件和上述第二支承部件中的至少任一个的卡定解除之前，上述引导部件与上述玻璃基板的凸侧的上述主面接触，从而抑制上述玻璃基板的挠曲。
另外，本发明的第二方式由下记的结构构成。
一种化学强化玻璃基板，
具有互相对向的一对主面，
上述主面的面积A与上述一对主面彼此之间的厚度t的比A/t为25000以上，
上述一对主面中的一方的主面的压缩应力值与另一方的主面压缩应力值的差为10MPa以下。
发明效果
根据本发明，不会对玻璃的品质造成影响，维持在板面内稳定地保持玻璃板的状态并能够实施各种处理工序。由此能够成品率高并且稳定地制造抑制了处理后的玻璃的变形的玻璃基板。
另外，根据本发明的第二方式，可以提供抑制了裂纹、翘曲的化学强化玻璃基板。
附图说明
图1是说明本发明的玻璃基板的处理方法的概略框图。
图2是示意性地示出在玻璃基板的化学强化处理工序中使用的第一构成例的盒的概略立体图。
图3是第一构成例的盒的概略俯视图。
图4是从X方向观察图2所示的第一构成例的盒的概略主视图。
图5是表示引导部件与变形时的玻璃基板的位置关系的主要部分俯视图。
图6的(A)是示出第一变形例的引导部件的配置的盒的主要部分俯视图，图6的(B)是示出第二变形例的引导部件的配置的盒的主要部分俯视图。
图7的(A)是示出第三变形例的引导部件的配置的盒的主视图，图7的(B)是示出第四变形例的引导部件的配置的盒的主视图，图7的(C)是示出第五变形例的引导部件的配置的盒的主视图，图7的(D)是示出第六变形例的引导部件的配置的盒的主视图。
图8是第七变形例的盒的立体图。
图9的(A)是支承凹部为V字状的槽的玻璃支承部的主要部分俯视图，图9的(B)是支承凹部为凹部状的槽的玻璃支承部的主要部分俯视图。
图10是表示一对第二支承部件与玻璃基板的尺寸关系的主要部分俯视图。
图11是示意性地示出在玻璃基板的药液处理工序中使用的第二构成例的盒的概略立体图。
图12是第二构成例的引导部件的轴线正交方向的剖视图。
图13是第二构成例的盒的概略俯视图。
图14是第二构成例的盒的从X方向观察时的概略主视图。
图15是示意性地示出用阴影表示引导部件与玻璃基板的主面重合的区域的二维的投影图像的说明图。
标号说明
11 化学强化工序(化学强化处理工序)
13 清洗工序(化学强化处理工序)
15 酸处理工序(药液处理工序)
17 碱处理工序(药液处理工序)
19 清洗工序(药液处理工序)
21 玻璃基板
23、51 引导部件
25、45 盒
25A 盒
27、53 盒主体
29 玻璃收容部
31 玻璃支承部
33 下边
34 上边
35、47 第一支承部件
37 上侧周缘部
38 侧边
39、49 第二支承部件
41 支承凹部
41A 槽(支承凹部)
43 限位部件
55 芯材
57 树脂材料
具体实施方式
以下，参照附图对本发明的实施方式进行说明。
本发明的玻璃基板的处理方法概略地具备以下的工序。
(1)准备具有互相对向的一对主面且主面的面积A与一对主面彼此之间的厚度t的比A/t为25000以上的玻璃基板的工序。
(2)使玻璃基板以主面与铅垂方向大致平行的朝向保持于玻璃收容部的工序。
(3)使玻璃基板保持于玻璃收容部的状态不变，对玻璃基板进行液体处理的工序。
在上述的各工序中使用的玻璃收容部具备玻璃支承部和引导部件。
玻璃支承部具有第一支承部件及第二支承部件并支承玻璃基板，该第一支承部件卡定玻璃基板的铅垂方向下方的下侧周缘部，该第二支承部件卡定比玻璃基板的下侧周缘部靠铅垂方向上方的上侧周缘部。
引导部件分别设置于被玻璃支承部支承的玻璃基板的厚度方向上的一侧和另一侧。
根据该玻璃收容部的结构，在玻璃基板的主面呈平坦状的情况下，引导部件从玻璃基板的主面分离。另一方面，在玻璃基板的下侧周缘部与上侧周缘部被玻璃支承部支承的同时，玻璃基板21的主面在厚度方向上位移而成为曲面状(以下将该位移状态作为玻璃基板21的“挠曲”进行说明。)的情况下，在玻璃基板与第一支承部件和第二支承部件中的至少任一个的卡定解除之前，引导部件与玻璃基板的凸侧的主面接触。由此能够抑制玻璃基板的挠曲。
根据使用上述的玻璃收容部的玻璃基板的处理方法，玻璃基板利用第一支承部件来支承自重、利用第二支承部件来限制其向任一个主面侧的倒斜，从而以立起姿势被保持。除此之外，抑制了挠曲的玻璃基板的主面通过引导部件抑制了推抵于周围的部件，从而不易损伤。此外，还抑制了玻璃基板因挠曲而从玻璃支承部脱离，从玻璃收容部脱落而破损(破裂)。其结果，能够将容易变形的薄板玻璃在抑制了处理后的变形的同时稳定地支承。此外，玻璃基板在呈平坦状时不与除玻璃支承部以外的周围的部件接触，因此不妨碍化学强化、清洗、药液处理的效果。
接下来，在下文对上述的本发明的一项实施方式进行说明。
＜第一构成例＞
图1是说明本发明的玻璃基板的处理方法的概略框图。
此处例示的玻璃基板的处理方法大致区分为化学强化处理工序和药液处理工序。化学强化处理工序进一步分为化学强化工序11和清洗工序13。药液处理工序进一步分为酸处理工序15、碱处理工序17及清洗工序19。
在包含利用含有指定盐的无机盐进行的化学强化工序11的玻璃基板的处理方法中，以提高玻璃的清洁度为目的，通常实施化学强化工序11之后的清洗工序13、酸处理工序15中的水冲洗、碱处理工序17中的水冲洗及碱处理工序后的清洗工序19。存在这些清洗处理是施加超声波而进行的超声波清洗的情况。
本发明的玻璃基板的处理方法包含化学强化工序11，该化学强化工序11通过使含钠玻璃与含有硝酸钾和从由K2CO3、Na2CO3、KHCO3、NaHCO3、K3PO4、Na3PO4、K2SO4、Na2SO4、KOH及NaOH构成的组中选择的至少一种盐的无机盐接触，来对处理对象玻璃中的Na和上述的无机盐中的K进行离子交换。此外，玻璃基板的处理方法包含在化学强化工序11之后对处理对象玻璃进行酸处理的酸处理工序15、在酸处理工序15之后对处理对象玻璃进行碱处理的碱处理工序17及前述的清洗工序13、19。
关于上述的化学强化处理及药液处理的详细内容，例如，与日本特开2019-6615号公报、日本特开2019-6650号公报相同，因此希望根据需要适当地参照。
使用以下说明的第一构成例的盒进行液体处理的工序的是对玻璃基板21进行化学强化处理的工序。
在化学强化工序中有以下的特有的课题。
由于在熔融盐中处理玻璃基板21，因此对支承玻璃基板21的支承部件要求耐药性。此外，在支承部件与玻璃基板21之间滞留的盐成为污渍并附着于支承部件。进一步地，由于在400℃附近的高温气氛下处理玻璃基板21，因此对于支承部件需要选定有耐热性的材料。此外，由于在高温处理后的降温时，在与玻璃基板21的支承部件的接触部和非接触部产生温度差或熔融盐与玻璃基板21的比重的差小，因此需要防止玻璃基板21在熔融盐等液体中的浮游。
(盒及玻璃基板)
图2是示意性地示出在玻璃基板的化学强化工序中使用的第一构成例的盒25的概略立体图。在图2中，为了简化盒25的说明而示意性地示出了盒25，并且玻璃基板21的收容张数、各部分的尺寸不限于此而是任意的。
此处使用的玻璃基板21具有互相对向的一对主面。玻璃基板21的主面的面积A与一对主面彼此之间的厚度t的比A/t为25000以上，优选为50000以上，更优选为100000以上。
玻璃基板21的厚度为0.2mm以下，例如优选具有30μm～150μm的厚度。此外，玻璃基板21的宽度W、高度H(参照图4)，例如从50mm～800mm左右的小型的玻璃基板到超过1000mm的大型的玻璃基板等中根据上述的比A/t适当地选定。此处示出的玻璃基板21例示了上边34及下边33的宽度W互相相等且一对侧边38的宽度(高度H)也互相相等的长方形，但是玻璃基板21的形状不限于此。
在此，使用具有玻璃收容部29的盒25，该玻璃收容部29同时保持多张所准备的玻璃基板。使玻璃基板21为主面与铅垂方向大致平行的朝向而保持于玻璃收容部29。接下来，维持将玻璃基板21保持于玻璃收容部29的状态并针对每个盒25对玻璃基板21进行液体处理。
在对玻璃基板21进行液体处理时，既可以以单体对收容有多张玻璃基板21的盒25进行处理，也可以将多个盒25固定于未图示的托架从而同时处理收容于多个盒25中的多张玻璃基板组。在该情况下，托架也可以将盒25在水平方向上连结，也可以将结盒25在铅垂方向上连结。
盒25的玻璃收容部29具备玻璃支承部31和引导部件23。
(玻璃支承部)
玻璃支承部31具有第一支承部件35及第二支承部件39，第一支承部件35卡定玻璃基板21的铅垂方向下方的下侧周缘部的一部分即下边33，第二支承部件39卡定比玻璃基板21的下侧周缘部靠铅垂方向上方的包含上边34及侧边38的上侧周缘部37。多张玻璃基板21通过第一支承部件35和第二支承部件39隔开规定的间隔而被玻璃收容部29支承。这里所谓的下侧周缘部意味着比玻璃基板21的铅垂方向的中心靠下方的周缘部。
第一支承部件35和第二支承部件39在形成为框状或箱状的盒主体27，以沿一个方向在从X方向的一方的端部到另一方的端部之间架设的状态分别固定长边方向的两端。即，第一支承部件35在盒主体27的底部沿X方向配置在Y方向上分离的互相平行的两根。第二支承部件39在盒主体27的Y方向两端部沿X方向配置。
第一支承部件35和第二支承部件39使多张玻璃基板21卡定于第一支承部件35和第二支承部件39的任意的支承凹部41，从而互相分离并且互相平行地进行支承。
在图2中，第一支承部件35和第二支承部件39分别配置两列，但也可以分别配置三列以上。此外，也可以是第一支承部件35在下边33的中央部仅配置一列的结构。
第一支承部件35和第二支承部件39的在铅垂方向上的分离距离优选设定为玻璃基板21的高度H(参照图4)的60％以上，优选70％以上，另外优选设定为高度H的90％以下，优选80％以下。
(引导部件)
引导部件23在被玻璃支承部31支承的玻璃基板21的厚度方向(X方向)一侧和另一侧分别与主面对向而设置。各个引导部件23例如可以将线材弯曲为在俯视观察时为U字状、V字状而形成。
第一支承部件35、第二支承部件39及引导部件23具有450℃以上的耐热性，例如由不锈钢材料构成。第一支承部件35和第二支承部件39分别具有相同的结构，优选其表面由具有耐热性的玻璃纤维等缓冲材料覆盖。
图3是第一构成例的盒25的概略俯视图。图4是从X方向观察第一构成例的盒25的概略主视图。另外，在图3中，省略盒25下侧的第一支承部件35。
在图3所示的第二支承部件39(第一支承部件35也相同)形成有槽宽Pb比玻璃基板21的厚度t大的支承凹部41。在支承凹部41插入玻璃基板21的周缘部，从而将玻璃基板21在第一支承部件35及第二支承部件39的轴向上定位并支承。
在第一支承部件35和第二支承部件39，在圆柱材料的外周沿圆周方向分别形成有槽深Db的周槽即支承凹部41。支承凹部41沿第一支承部件35和第二支承部件39的轴线使轴向(X方向)的相位互相一致地设置于多个位置。
支承凹部41除了是轴向剖面为三角形状的V槽以外，也可以是矩形状等其他的形状。支承凹部41的槽深Db根据玻璃基板21的厚度t、主面的面积A而设定。例如，支承凹部41的槽深Db优选为玻璃基板21的厚度t的10倍以上，更优选为20倍以上，进一步优选为30倍以上，且优选为300倍以下，更优选为200倍以下，进一步优选为150倍以下。
此外，优选被支承凹部41支承的玻璃基板21使玻璃基板21的沿板厚方向(X方向)的配置间隔Pt为相对于玻璃基板21的主面的面积A除以一对主面彼此之间的厚度t得到的值(A/t)的0.00006～0.0006倍的范围。更优选为0.00008倍以上，进一步优选为0.00010倍以上，更优选为0.0005倍以下，进一步优选为0.0004倍以下的范围。配置间隔Pt虽然优选为恒定，但也可以是不等的间隔。
进一步地，第一支承部件35和第二支承部件39也可以对大直径的圆柱材料进行加工并将支承凹部41的槽深Db形成为玻璃基板21的厚度t的50～100倍左右。在该情况下，根据使用条件不同能够发挥后述详细内容的引导部件23的玻璃支承功能。
如图3所示，优选引导部件23从玻璃基板21的周缘部(图4的侧边38)朝向主面的中央以比支承凹部41的槽深Db长的方式伸出(伸出长度Da)。引导部件23例如具有将线材弯曲为U字状而形成的前端的弯曲部23a及连接于弯曲部23a的基端部23b，配置在与排列的玻璃基板21的主面正交的假想面(XY平面)内。基端部23b的线材形成为直线状或在假想面内向彼此的外侧扩展的弯曲状。
引导部件23优选以沿玻璃基板21的厚度方向(X方向)的恒定的配置间隔Pa设置。优选的配置间隔Pa比支承凹部41的槽宽Pb长且为玻璃基板21的厚度的5000倍以下，更优选为4000倍以下，进一步优选为2500倍以下。
通过使引导部件23的配置间隔Pa设定为上述范围，能够确保玻璃基板21与引导部件23的分离距离。
图4是从X方向观察图2所示的第一构成例的盒25的概略主视图。
引导部件23以从玻璃基板21的外周缘朝向玻璃基板21的主面的中央伸出的方式设置。在引导部件23从玻璃基板21的侧边38在水平方向上伸出的情况下，引导部件23的优选的伸出长度La为其伸出方向上的玻璃基板21的宽度W的20％以上，更优选为30％以上，优选为宽度W的50％以下，更优选为40％以下。
通过使伸出长度La为上述的下限值以上，抑制了玻璃基板21的过剩的挠曲的发生，能够可靠地维持支承玻璃基板21的状态。此外，通过使伸出长度La为上述的上限值以下，抑制了玻璃基板21的主面与引导部件23的接触，不易产生因与玻璃基板21接触而造成的损伤等的影响。
此外，引导部件23设置于从使主面在铅垂方向上立起的玻璃基板21的下边33起在铅垂方向上高度Ha的位置。高度Ha的优选范围RH为相对于玻璃基板21的高度H的45％的高度位置以上，优选为50％的高度位置以上，进一步优选为60％的高度位置以上，并且为相对于玻璃基板21的高度H的95％的高度位置以下，优选为90％的高度位置以下，进一步优选为85％的高度位置以下。在此，所谓相对于高度H的n％的高度位置意味着在玻璃基板21的下边33附加了高度H的n％的量的高度的高度位置。
通过将引导部件23配置于玻璃基板21的上述范围RH，在玻璃基板21挠曲了的情况下，引导部件23在避开玻璃基板21的中心部的位置处接触。因此，能够保护玻璃基板21的主面的主要部分。此外，在引导部件23与挠曲了的玻璃基板21的接触位置不会产生大的接触压力，而能够有效地支承玻璃基板21。
图4所示的引导部件23在玻璃基板21的铅垂方向上配置于第二支承部件39与玻璃基板21的上边34之间，但在玻璃基板21的下边33侧也可以配置引导部件。即，在作为引导部件23的下方的从玻璃基板21的下边33到相对于玻璃基板21的高度H的50％的高度位置的范围配置下方引导部件24。在该情况下，在玻璃基板21的上边34侧与下边33侧双方配置引导部件，能够将挠曲了的玻璃基板21更稳定地支承。
此外，也可以取代引导部件23而仅在玻璃基板21的下边33侧配置下方引导部件24。在此情况下，优选增加引导部件的数量或者延长伸出长度来充分地确保引导部件与玻璃基板21的接触长度。
(作用的说明)
接下来，对上述的结构的作用进行说明。
图5是表示引导部件23与变形时的玻璃基板21的位置关系的主要部分俯视图。
玻璃支承部31将玻璃基板21的侧边38(参照图4)卡定于对向的第二支承部件39的支承凹部41。与卡定有该玻璃基板21的支承凹部41相邻而设置有引导部件23。
在玻璃基板21为平坦状的情况下，引导部件23从玻璃基板21的主面分离。在玻璃基板21在厚度方向(X方向)上挠曲了的情况下，在玻璃基板21与第一支承部件35和第二支承部件39中的至少任一个的卡定解除之前，引导部件23与玻璃基板21的凸侧的主面接触，从而抑制玻璃基板21的挠曲。在该情况下，玻璃基板21挠曲为曲面状，因此成为与由线材构成的引导部件23大致点接触的状态。即，引导部件2在小的区域与玻璃基板21接触即可。
这样，玻璃基板21在利用第一支承部件35支承自重、利用第二支承部件39来限制向厚度方向的任一个主面侧的倾倒的状态下，以立起姿势被保持。即，玻璃基板21仅在重力的作用下，不施加用于基板支承的外力而稳定地保持。在该保持状态中，玻璃基板21由于不会因外力而强制地弯曲，因此不会由于化学强化处理而在玻璃基板21的一方和另一方的主面产生应力差，而防止了玻璃基板21的化学强化处理后的变形。
除此之外，在玻璃收容部29具备引导部件23。引导部件23在玻璃基板21大幅挠曲时与玻璃基板21的凸侧的主面接触或将凸侧的主面推回以使其回复为原来的平坦形状。由此，抑制玻璃基板21的过度的挠曲。即，即使玻璃基板21大幅挠曲，在下边33的卡定从第一支承部件35的支承凹部41解除或侧边38的卡定从第二支承部件39的支承凹部41解除之前，由引导部件23进行按压并总是维持为卡定状态。因此，即使在玻璃基板21挠曲的情况下，也能够可靠地防止玻璃基板21从玻璃收容部脱落而破损(破裂)。此外，由于引导部件23存在，玻璃基板21不会大幅挠曲而推抵于周围的部件，从而不会产生损伤。
并且，由于引导部件23通过线材的弯曲加工而形成，因此例如与由平板状的部件构成的情况相比，不易产生液体流动的妨碍，能够无碰撞地实施玻璃基板21的液体处理。
并且，在该玻璃基板的处理方法中，即使玻璃基板21是容易产生形状变化(挠曲、翘曲)的厚度为0.2mm以下的薄板玻璃，也能够稳定地保持玻璃基板21。此外，能够抑制在被盒25支承的多张玻璃基板21产生平坦度的偏差。
在第一支承部件35及第二支承部件39形成有具有比玻璃基板21的厚度大的槽宽的支承凹部41。如果支承凹部41是V字状的槽，则玻璃基板21的一对主面与将一对主面彼此连接的外周端面相交的一对角部(边缘)与V字状的槽的槽内表面接触。在该情况下，支承凹部41不与一对主面接触，防止了因支承凹部41的接触而造成的主面的损伤。
引导部件23从玻璃基板21的周缘部朝向主面的中央伸出，该伸出量La根据玻璃基板21的伸出方向的宽度W(在从上边34或下边33伸出的情况下为高度H)而设定。当玻璃基板21挠曲时，由于在主面的中央部分玻璃基板21的厚度方向的变形(突出)量与周缘部相比变大，因此由伸出的引导部件23限制玻璃基板21的挠曲。由该引导部件23进行的变形抑制效果通过引导部件23伸出至主面的中央而变为最大。
此外，第一支承部件35和第二支承部件39分别沿一个方向架设于盒主体27，并且沿其长边方向排列形成有多个支承凹部41。这样，由于各个支承凹部41在第一支承部件35和第二支承部件39的长边方向上使相位一致，即，在对应的位置分别形成，因此能够将多个玻璃基板21互相平行地支承。因此，盒主体27能够使多个玻璃基板21互相分离而一并支承。
并且，在高温的熔融盐中配置玻璃基板21并实施化学强化工序的情况下，玻璃支承部31不向玻璃基板21施加外力而支承玻璃基板21。此外，引导部件23抑制在玻璃基板21产生的挠曲，并防止玻璃基板21从玻璃支承部31的脱落。由此，在利用自重使玻璃基板21立起的状态下，能够抑制挠曲并可靠地进行保持，能够在玻璃基板21稳定的状态下进行化学强化处理。
此外，第一支承部件35、第二支承部件39及引导部件23由不锈钢材料构成，因此在处理温度达到例如330℃～450℃的高温的化学强化工序中，不易产生材料的劣化或变形。由此，防止了因第一支承部件35、第二支承部件39及引导部件23的变形造成的玻璃基板21的脱落、挠曲限制作用的降低，能够在玻璃基板21稳定的状态下进行支承。
接下来，对上述的第一构成例的变形例进行说明。
(第一、第二变形例)
图6的(A)是示出第一变形例的引导部件23的配置的盒的主要部分俯视图，图6的(B)是示出第二变形例的引导部件的配置的盒的主要部分俯视图。
如图6的(A)所示，第一变形例的引导部件23仅从盒主体27的单侧的侧部伸出。在该情况下，优选引导部件23具有伸出方向的前端超过玻璃基板21的水平方向中央的伸出长度。
此外，如图6的(B)所示，第二变形例的引导部件23从盒主体27的互相对向的一侧和另一侧的两侧在引导部件23的排列方向上交替地伸出。在该情况下，优选引导部件23的伸出方向的前端超过玻璃基板21的中央，但也可以不超过。
(第三～第六变形例)
图7的(A)是示出第三变形例的引导部件的配置的盒的主视图，图7的(B)是示出第四变形例的引导部件的配置的盒的主视图，图7的(C)是示出第五变形例的引导部件的配置的盒的主视图，图7的(D)是示出第六变形例的引导部件的配置的盒的主视图。
如图7的(A)所示，在从X方向观察盒主体27的主视图中，第三变形例的引导部件23从盒主体27的上边部27a向下伸出而配置。此外，如图7的(B)所示，第四变形例的引导部件23以在盒主体27的互相对向的一方的侧边部27b和另一方的侧边部27c两侧向上伸出的方式倾斜配置。
根据第二、第四变形例的引导部件23，在玻璃基板21挠曲并且引导部件23与玻璃基板21的主面接触时，玻璃基板21与引导部件23成为点接触状态。由此，对玻璃基板21带来的由与引导部件23的接触造成的损伤等的影响可以为最小限度。
此外，如图7的(C)、图7的(D)所示，在第五变形例中采用圆形的引导部件23A、在第六变形例中采用四边形的引导部件23B。这样，通过将引导部件形成为环状，引导部件23A、23B的与玻璃基板21的主面的在厚度方向上重叠的部分成为曲线状。在该情况下，由于引导部件23与玻璃基板21线接触，因此能够减小对玻璃基板21的接触压力。
(第七变形例)
图8是第七变形例的盒25A的立体图。
盒25A的盒主体27在多个玻璃基板21的上方设置有防止玻璃基板21的上浮的限位部件43。限位部件43安装于盒主体27的上部，是沿X方向的方向为长边方向的梁部件。限位部件43与玻璃基板21的上边34接近或接触并以从盒主体27自由装卸的方式固定。在将限位部件43从盒主体27拆下的状态下将玻璃基板21收容于盒主体27，在玻璃基板21的收容之后，将限位部件43固定于盒主体27。
当将上述结构的盒25A配置于处理液等液体中时，会在各个玻璃基板21产生浮力。即使在该情况下，根据本结构，在浮力的作用下将要上浮的玻璃基板21的上边34与限位部件43接触，从而阻止进一步的移动。这样，玻璃基板21的上浮被限制，能够抑止玻璃基板21的下边33从第一支承部件35的支承凹部41脱离。因此，在液体中也能够进行稳定的玻璃基板21的保持。由于熔融盐与玻璃的比重的差小，因此利用限位部件43来阻止玻璃基板21上浮的效果在玻璃基板容易浮游的化学强化工序中特别有用。
在上述的第一构成例及各变形例中，将支承凹部41作为如图9的(A)所示的轴向剖面为V字状的槽进行了说明，但不限于此。如图9的(B)所示，支承凹部41的轴向剖面也可以是矩形状的槽41A。在该情况下，槽41A的槽宽Pc比玻璃基板21的厚度t大，优选为厚度t的1.5倍以上且3倍以下。
图10是表示一对第二支承部件39与玻璃基板21的尺寸关系的主要部分俯视图。
在第二支承部件39的支承凹部41为V字状的槽的情况下，各支承凹部41的槽内表面支承玻璃基板21的Y方向的两端部(侧边)。此时，支承凹部41的槽内表面与玻璃基板21的Y方向两端部中的一对边缘接触的状态成为一对第二支承部件39彼此之间的最小的轴间距离Lsa。
但是，当在盒主体等各部分产生温度变化时，在与线性膨张系数特别小的玻璃基板21之间产生热膨张(收缩)差。因此，优选一对第二支承部件39将轴线Oa的位置变更为轴线Ob并以比最小的轴间距离Lsa大的轴间距离Lsb进行配置。由此，能够避免因盒主体27、第二支承部件39等的热膨张而对玻璃基板21施加应力。
＜第二构成例＞
以上，说明了对玻璃基板进行化学处理的情况。接下来，说明对玻璃基板进行药液处理的情况。
使用第二构成例的盒进行液体处理的工序是化学强化处理后的药液处理工序，包括酸处理工序15、酸处理工序后的碱处理工序17及清洗工序19。
在药液处理工序中，存在以下的特有的课题。
由于对处理液赋予流动，因此与静水状态相比需要由引导部件产生的玻璃基板的保持力。还需要防止玻璃基板的主面的损伤、污渍的附着。
但是，在药液处理工序中，对于第一支承部件47、第二支承部件49及引导部件51，耐药性(耐酸性、耐碱性)、耐热性的有无不是特别的问题。因此，作为第一支承部件47、第二支承部件49及引导部件51的材料，可以使用含氟树脂(PFA(全氟烷氧基烷烃)、PTFE(聚四氟乙烯)等)、PP(聚丙烯)、PE(聚乙烯)等树脂材料。此外，在减小接触面压力的观点上，优选与化学强化工序的情况相反地使玻璃基板与引导部件的接触长度(或接触点数量、接触点的配置密度)增大。
(盒)
图11是示意性地示出在玻璃基板的药液处理工序中使用的第二构成例的盒45的概略立体图。在图11中，为了简化盒45的说明而示意性地示出了盒45，玻璃基板21的收容张数、各部分的尺寸不限于此而是任意的。
盒45具有同时保持多张玻璃基板的玻璃收容部29。玻璃收容部29具备玻璃支承部31和引导部件51。
玻璃支承部31具有第一支承部件47及第二支承部件49，其中，第一支承部件47卡定玻璃基板21的铅垂方向下方的下边33，第二支承部件49卡定比玻璃基板21的下边33靠铅垂方向上方的侧边38。
另外，第一支承部件47和第二支承部件49也可以分别配置三列以上。此外，也可以是第一支承部件47仅配置了一列的结构。
与第一构成例同样地，第一支承部件47和第二支承部件49在形成为框状或箱状的盒主体53以从一方的端部架设到另一方的端部的状态固定长边方向的两端。
本结构的盒45为了在药液处理工序中使用，设置于盒45的玻璃支承部31及引导部件51与在化学强化工序的盒25中使用的不同。
(引导部件)
设置于本结构的盒主体53的引导部件51通过将不锈钢的线材弯曲来形成在俯视观察时为大致半圆的环状，在该线材的外表面覆盖有上述的树脂材料的管。
图12是第二构成例的引导部件51的轴线正交方向的剖视图。
引导部件51利用含氟树脂等树脂材料57覆盖线材即芯材55的表面。
此外，图11所示的作为玻璃支承部31的第一支承部件47及第二支承部件49由上述的含氟树脂等树脂材料形成。
图13是第二构成例的盒45的概略俯视图。在图13中，省略了盒45下侧的第一支承部件47。
在第二支承部件49以槽宽Pb形成有多个支承凹部41。此外在第二支承部件49配置有多个引导部件51。优选各引导部件51沿玻璃基板21的厚度方向(X方向)以恒定的配置间隔Pd设置。引导部件51的配置间隔Pd比第一构成例的引导部件23的配置间隔Pa(参照图3)短。即，引导部件51与第一构成例的情况相比配置于玻璃基板21的附近。
优选引导部件51的配置间隔Pd为玻璃基板21的厚度t的5000倍以下，更优选为4000倍以下，进一步优选为2500倍以下。此外，优选配置间隔Pd为支承凹部41的槽宽Pb以上。
图14是从X方向观察第二构成例的盒45的概略主视图。
引导部件51配置在与玻璃基板21的主面平行的假想面内。引导部件51在俯视观察时具有D字形的形状，该D字形的形状具有上侧的直线部51a和从直线部51a的两端朝向下方突出的曲线部51b。该引导部件51在曲线部51b的与直线部51a的两端的连接位置处被第二支承部件49支承。
引导部件51即使在如酸处理工序、碱处理工序、清洗工序等药液处理工序那样玻璃基板21承受由液体流动产生的外力的情况下，也需要可靠地保持产生了挠曲的玻璃基板。因此，优选使引导部件51与玻璃基板21的主面大范围地接触。
因而，如下设定引导部件51的形状。
将引导部件51从被第一支承部件47和第二支承部件49支承的玻璃基板21的板厚方向(X方向)向玻璃基板21的主面投影。图15是示意性地示出用阴影S表示引导部件51与玻璃基板21的主面重合的区域的二维的投影图像61的说明图。
将投影图像61的阴影S沿玻璃基板21的水平方向(Y方向)向玻璃基板21的铅垂边63投影(Pj_y)来求出一维的阴影垂直分布。在图15中，将阴影S投影得到的结果作为阴影存在区域65来表示。该阴影垂直分布中的阴影存在区域65的合计宽度Gh可以优选为玻璃基板11的铅垂方向的宽度H的50％以上，更优选为60％以上，进一步优选为70％以上。
另外同样地，将投影图像61的阴影S沿玻璃基板21的铅垂方向(Z方向)向玻璃基板21的水平边67投影(Pj_z)来求出一维的阴影水平分布。该阴影水平分布中的阴影存在区域69的合计宽度Gw可以优选为玻璃基板21的水平方向的宽度W的50％以上，更优选为60％以上，进一步优选为70％以上。
另外，图示虽然省略，但在引导部件51设置于与玻璃基板21的主面对向的多个位置的情况下，上述的阴影S在投影图像61的多个位置分散而存在。在上述情况下，使将多个阴影S分别向水平方向投影而得到的多个或互相重合的单一的阴影存在区域65的合计宽度为上述的阴影存在区域的合计宽度Gh。同样地，使将多个阴影S向铅垂方向投影而得到的多个或互相重合的单一的阴影存在区域69的合计宽度为上述的阴影存在区域的合计宽度Gw。
优选阴影垂直分布的阴影存在区域65及阴影水平分布中的阴影存在区域69包含玻璃基板21的重心位置，即主面中央O。在该情况下，由于引导部件51与包含玻璃基板21的主面中央O的区域接触，因此玻璃基板21以更稳定的形态被引导部件51支承。
引导部件51的形状不限于上述的D字形，而在玻璃基板21挠曲时不妨碍处理液的流动的范围内使与玻璃基板21的接触长度、接触点数量越大则越优选。由此，能够将接触压力抑制得小并稳定地支承挠曲了的玻璃基板21。
(作用的说明)
接下来，对上述的结构的作用进行说明。
在该玻璃基板的处理方法中，在将玻璃基板21配置于液体流动中的药液处理工序中，盒45通过玻璃支承部31及引导部件51来保持玻璃基板21。并且，通过使引导部件51的与玻璃基板21的接触长度、接触点数量增加来进一步提高玻璃基板21的保持能力。由此，即使在液体处理中对玻璃基板21作用由液体流动产生的外力，盒45也不会损伤玻璃基板21而以使其立起的状态持续进行保持。其结果，能够在玻璃基板21稳定的状态下进行处理。
第一支承部件47、第二支承部件49及引导部件51由含氟树脂等树脂材料57覆盖表面。因此，即使在存在液体流动的药液处理工序中玻璃基板21与第一支承部件47、第二支承部件49及引导部件51接触，玻璃基板21也不会损伤。进而在树脂材料57为含氟树脂的情况下，污渍难以附着，从而能够抑制污渍向玻璃基板21的附着。
引导部件51的配置间隔Pd设定为比化学强化工序中的引导部件的配置间隔Pa(参照图3)短的前述的范围的间隔。因此，因液体流动而在玻璃基板21产生的挠曲被抑制得小。
优选在盒45的盒主体53设置前述的图8所示的限位部件43。由此，更可靠地抑制了玻璃基板21的浮游。
＜其他的适用例＞
玻璃基板的处理方法适用于图1所示的化学强化工序11、作为药液处理工序的酸处理工序15、碱处理工序17及清洗工序19，但除此之外，也能够适用于化学强化工序11后的清洗工序13。上述情况的盒在不对液体进行搅拌的清洗工序13中为与第一构成例的化学强化工序相同的结构。
因此，根据该玻璃基板的处理方法，通过按照液体处理内容根据不同的制约而分别地使用适合的结构的盒，能够适当地进行在各液体处理中的玻璃基板的支承。其结果，不会对玻璃的品质产生影响，能够维持将玻璃板在板面内稳定保持的状态并实施各种的处理工序。因此，能够稳定地制造成品率高且抑制了处理后的玻璃的变形的玻璃基板21。
这样，本发明不受上述的实施方式限定，将实施方式的各结构相互组合或本领域技术人员基于说明书的记载及周知的技术进行变更、应用也是本发明的预定之处，并包含于要求保护的范围。
在上述的实施方式中例示了支承薄板玻璃的结构，但不限于此。根据本发明的玻璃基板的处理方法，对于厚度相对于主面的面积充分小的大尺寸的玻璃板也能够同样地稳定支承。例如，在大型的液晶显示器、建造物的窗等所使用的一边例如超过1000mm的大型的玻璃板中，在重力作用下玻璃板容易从平坦状发生变形。在对这样的玻璃板进行液体处理时，能够与薄玻璃板的情况同样地稳定保持。
＜化学强化玻璃基板＞
使用以上的夹具实施了化学强化处理的化学强化玻璃基板抑制了裂纹、翘曲。即，本发明的化学强化玻璃基板的特征在于，具有互相对向的一对主面，主面的面积A与一对主面彼此之间的厚度t的比A/t为25000以上，一对主面中的一方的主面的压缩应力值与另一方的主面的压缩应力值的差为10MPa以下。
主面的面积A与一对主面彼此之间的厚度t的比A/t优选为100000以上，更优选为125000以上，进一步优选为180000以上。另外，一对主面彼此之间的厚度t优选为0.2mm以下。
一对主面中的一方的主面的压缩应力值与另一方的主面的压缩应力值的差优选为8MPa以下，更优选为6MPa以下，进一步优选为4MPa以下，更进一步优选为2MPa以下时，能够抑制玻璃基板的翘曲。
此时，当化学强化玻璃基板的一对主面的压缩应力分别优选为600MPa以上，更优选为700MPa以上，进一步优选为800MPa以上时能够得到充分的强度。
进一步地，当上述一对主面中的一方的主面的压缩应力层的深度与另一方的主面的压缩应力层的深度的差优选为0.1μm以下，更优选为0.07μm以下、进一步优选为0.05μm以下时，能够抑制翘曲。
此时，化学强化玻璃基板的一对主面的压缩应力层的深度分别优选为3μm以上，更优选为5μm以上。另一方面，压缩应力层的深度优选为30μm以下。
【实施例】
在此，比较了在使用图2所示的盒实施了化学强化处理工序后使用图11所示的盒实施了药液处理工序的玻璃基板(实验例1～4)与使用使玻璃基板弯曲变形并进行支承的盒实施了化学强化处理工序及药液处理工序的玻璃基板(实验例5～7)。在表1示出各玻璃基板的处理条件及处理结果。玻璃基板在实验例1和实验例5中使用了0.13mm的厚度，在实验例2和实验例6中使用了0.10mm的厚度，在实验例3和实验例7中使用了0.07mm的厚度，在实验例4中使用了0.05mm的厚度。此外，各玻璃基板使用了化学强化用特殊玻璃(注册商标：Dragontrail(龙迹)Pro)作为其基材。
【表1】
Figure BDA0002655424150000261
在表2、表3中示出在化学强化处理工序中使用的引导部件及第二支承部件和在药液处理工序中使用的引导部件的各尺寸。在实验例1～4的化学强化处理工序中使用了类型1的引导部件及第二支承部件。
【表2】
表2化学强化处理工序
类型1 类型2 类型3
引导部件的伸出长度Da 31 50 90
第二支承部件的支承凹部的槽深Db 6 6 6
引导部件的配置间隔Pa 26 30 30
第二支承部件的支承凹部的槽宽Pb 6 6 6
引导部件的向玻璃基板的伸出长度La 25 44 84
引导部件的距玻璃基板的下边的高度Ha 120 120 120
单位：mm
【表3】
表3药液处理工序
水平方向合计宽度Gw 155
铅垂方向合计宽度Gh 145
单位：mm
实验例1～4的化学强化处理工序在平坦地保持玻璃基板而不弯曲的状态下实施，实验例5～7的化学强化处理工序与以往相同地维持对玻璃基板施加外力而使其弯曲并保持的状态下实施。
其结果，在实验例5～7中，玻璃基板的一对主面(第一面、第二面)中的压缩应力值CS的差除以第一面压缩应力值得到的值(压缩应力差比率ΔCS)为1.1～2.4％，压缩应力层的深度DOL的差除以第一面压缩应力层的深度得到的值(压缩应力层深度比率ΔDOL)为1.6～3.9％。无破损的玻璃基板的收率(无破损收率)为79～95％，在玻璃基板确认了变形。
另一方面，在实验例1～4中，压缩应力差比率ΔCS为0.2～0.6％，比实验例5～7小，压缩应力层深度比率ΔDOL为0.1～1.1％，比实验例5～7小。此外，无破损收率在实验例1、2、4中为99％以上，最低也为96％，基本没有确认到玻璃基板的变形。认为这些结果是因为未使玻璃基板弯曲。
如以上那样，对于压缩应力差比率ΔCS、压缩应力层的深度比率ΔDOL，作为实施例的实验例1～4的值比作为比较例的实验例5～7小，可以说在实验例1～4中能够实现比实验例5～7稳定的化学强化处理。另外，对于变形程度，将在玻璃基板的全体上几乎未确认到变形的情况评价为“○”，将在一部分确认到变形的情况评价为“△”，将确认到在实际使用中带来阻碍的较大的变形的情况评价为“×”。
另外，在化学强化处理工序中使用了类型2、类型3的引导部件的情况也与使用了类型1的情况同样地得到了与实验例5～7相比，压缩应力差比率、压缩应力层深度比率、无破损收率、基板的变形程度均为良好的结果。
如上所述，在本说明书中公开了如下事项。
(1)一种玻璃基板的处理方法，具备如下工序：
准备具有互相对向的一对主面且上述主面的面积A与上述一对主面彼此之间的厚度t的比A/t为25000以上的玻璃基板；
使上述玻璃基板以上述主面与铅垂方向大致平行的朝向保持于玻璃收容部；及
使上述玻璃基板保持于上述玻璃收容部的状态不变，对上述玻璃基板进行液体处理，其中，
上述玻璃收容部具备：
玻璃支承部，利用第一支承部件及第二支承部件支承上述玻璃基板，该第一支承部件卡定上述玻璃基板的铅垂方向下方的下侧周缘部，该第二支承部件卡定比上述玻璃基板的上述下侧周缘部靠铅垂方向上方的上侧周缘部；及
引导部件，分别设置于被上述玻璃支承部支承的上述玻璃基板的厚度方向上的一侧和另一侧，
在上述玻璃基板呈平坦状的情况下，上述引导部件从上述玻璃基板的上述主面分离，
在上述玻璃基板挠曲的情况下，在上述玻璃基板与上述第一支承部件和上述第二支承部件中的至少任一个的卡定解除之前，上述引导部件与上述玻璃基板的凸侧的上述主面接触，从而抑制上述玻璃基板的挠曲。
根据该玻璃基板的处理方法，玻璃基板利用第一支承部件支承自重、利用第二支承部件来限制向任一个主面侧的倾倒，以立起姿势被保持。即，玻璃基板不施加外力而仅以自重进行保持。在玻璃收容部具备引导部件。引导部件在玻璃基板与第一支承部件和第二支承部件中的至少任一个的卡定解除之前，与玻璃基板的凸侧的主面接触，从而抑制玻璃基板的挠曲。由引导部件抑制挠曲并支承的玻璃基板能够可靠地防止因从玻璃收容部的脱落造成的破损(裂纹)。此外，由于不会发生玻璃表面大幅度挠曲而推抵于周围的部件，因此不易产生玻璃基板的损伤。
(2)根据(1)所记载的玻璃基板的处理方法，上述玻璃基板的厚度为0.2mm以下。
根据该玻璃基板的处理方法，即使是厚度为0.2mm以下的薄板玻璃也能够通过玻璃支承部及引导部件稳定地保持于玻璃收容部。
(3)根据(1)或(2)所记载的玻璃基板的处理方法，上述引导部件通过对线材进行弯曲加工而形成。
根据该玻璃基板的处理方法，由于引导部件由线材形成，因此不易产生液体流动的妨碍，能够无碰撞地实施玻璃基板的液体处理。
(4)根据(1)～(3)中任一项所记载的玻璃基板的处理方法。上述第一支承部件和上述第二支承部件形成有槽宽比上述玻璃基板的上述厚度大的支承凹部，在上述支承凹部插入上述玻璃基板的周缘部而支承上述玻璃基板。
根据该玻璃基板的处理方法，在玻璃基板的周缘部插入支承凹部的状态下稳定地支承玻璃基板。此外，通过第一支承部件和第二支承部件的各支承凹部能够将玻璃基板任意地定位，并能够设定支承姿势。
(5)根据(4)所记载的玻璃基板的处理方法，上述引导部件从上述玻璃基板的周缘部朝向上述主面的中央以比上述支承凹部的槽深长的方式伸出。
根据该玻璃基板的处理方法，在玻璃基板挠曲了的情况下，通过使伸出了的引导部件与玻璃基板的凸侧的主面的中央部分接触，能够稳定地限制玻璃基板的挠曲。
(6)根据(4)或(5)所记载的玻璃基板的处理方法，上述第一支承部件和上述第二支承部件沿各自的长边方向形成多个上述支承凹部，
上述玻璃收容部在形成为框状或箱状的盒主体分别沿一个方向架设有上述第一支承部件和上述第二支承部件，
使多个上述玻璃基板卡定于上述第一支承部件的上述支承凹部和上述第二支承部件的上述支承凹部而互相分离地进行支承。
根据该玻璃基板的处理方法，在玻璃基板中，第一支承部件和第二支承部件的各自的支承凹部在第一支承部件和第二支承部件的长边方向上形成有多个，因此能够平行地支承多个玻璃基板。即，盒主体能够使多张玻璃基板互相分离而一并支承。
(7)根据(6)所记载的玻璃基板的处理方法，在上述盒主体的上述多个玻璃基板的上方设置有防止上述玻璃基板的上浮的限位部件。
根据该玻璃基板的处理方法，即使盒主体配置于液体中而在各自的玻璃基板产生浮力，通过玻璃基板的上边的周缘部与在盒主体的上方设置的限位部件接触，也能够限制玻璃部件的上浮。由此，在液体中也能够进行稳定的玻璃基板的保持。
(8)根据(4)～(7)中任一项所记载的玻璃基板的处理方法，上述支承凹部的沿上述玻璃基板的厚度方向的槽宽是上述玻璃基板的厚度的1.5倍以上且3倍以下。
根据该玻璃基板的处理方法，能够在支承凹部的槽内表面与玻璃基板之间确保适当的间隙，从而稳定地支承玻璃基板。
(9)根据(4)～(8)中任一项所记载的玻璃基板的处理方法，上述玻璃基板的沿该玻璃基板的厚度方向的配置间隔为上述玻璃基板的主面的面积A除以一对主面彼此之间的厚度t所得到的值A/t的0.00006～0.0006倍的范围。
根据该玻璃基板的处理方法，能够将玻璃基板的配置间隔设定为与玻璃基板的厚度和主面的面积相应的适当的长度，能够稳定地支承玻璃基板。
(10)根据(4)～(9)中任一项所记载的玻璃基板的处理方法，上述引导部件沿上述玻璃基板的厚度方向配置的配置间隔比上述支承凹部的槽宽大且为上述玻璃基板的厚度的5000倍以下。
根据该玻璃基板的处理方法，通过以比支承凹部的配置间隔大的间隔配置引导部件，能够在相邻的引导部件彼此之间支承玻璃基板。
(11)根据(4)～(10)中任一项所记载的玻璃基板的处理方法，上述引导部件的在铅垂方向上的配置位置处于从上述玻璃基板的下边起上述玻璃基板的铅垂方向上的宽度的45％的高度以上且上述玻璃基板的铅垂方向上的宽度的95％的高度以下的范围。
根据该玻璃基板的处理方法，由于在玻璃基板的铅垂方向上侧配置有引导部件，因此能够有效地限制玻璃基板的挠曲，能够减小对玻璃基板的接触面压力。
(12)根据(4)～(11)中任一项所记载的玻璃基板的处理方法，上述引导部件从上述玻璃基板的一方的侧边朝向另一方的侧边伸出的伸出量为上述玻璃基板的水平方向的宽度的20％以上。
根据该玻璃基板的处理方法，由于在玻璃基板的铅垂方向上侧配置有引导部件，因此能够有效地限制玻璃基板的挠曲，能够减小对玻璃基板的接触面压力。
(13)根据(11)或(12)所记载的玻璃基板的处理方法，设置有从上述玻璃基板的一方的侧边和另一方的侧边分别朝向上述玻璃基板的主面中央伸出的一对上述引导部件。
根据该玻璃基板的处理方法，由于引导部件分别从玻璃基板的一方的侧边和另一方的侧边双方伸出而配置，因此能够平衡地支承挠曲了的玻璃基板。
(14)根据(1)～(13)中任一项所记载的玻璃基板的处理方法，进行上述液体处理的工序是对上述玻璃基板进行化学强化处理的工序。
根据该玻璃基板的处理方法，在高温的熔融盐中配置玻璃基板的化学强化处理中，通过玻璃支承部及引导部件能够以利用自重使玻璃基板立起的状态来保持玻璃基板。在该保持状态下，由于玻璃基板不会因外力而强制地变形，因此通过化学强化处理不会在玻璃基板的表里产生应力差，抑制了化学强化处理后的玻璃基板的变形。
(15)根据(14)所记载的玻璃基板的处理方法，上述第一支承部件、上述第二支承部件以及上述引导部件由不锈钢材料构成。
根据该玻璃基板的处理方法，即使通过化学强化处理而暴露在400℃附近的高温的处理温度，也能够防止第一支承部件、第二支承部件及引导部件的热变形、劣化。此外，由于刚性高，因此能够稳定地支承玻璃基板。
(16)根据(14)或(15)所记载的玻璃基板的处理方法，在从上述玻璃基板的下边起小于上述玻璃基板的铅垂方向的宽度的45％的高度的范围内，还设置有配置于比上述引导部件靠下方处的下方引导部件。
根据该玻璃基板的处理方法，在玻璃基板挠曲时，通过玻璃基板的上边侧和下边侧一起与引导部件接触，能够更加稳定地支承玻璃基板。
(17)根据(1)～(13)中任一项所记载的玻璃基板的处理方法，进行上述液体处理的工序是在化学强化处理后实施的伴随液体流动的药液处理工序及在上述药液处理工序中实施的清洗工序。
根据该玻璃基板的处理方法，在液体流动中配置玻璃基板的药液处理工序、此时的清洗工序中，即使由液体流动产生的外力作用于玻璃基板，玻璃基板也能够由玻璃支承部及引导部件可靠地保持。
(18)根据(17)所记载的玻璃基板的处理方法，上述第一支承部件、上述第二支承部件以及上述引导部件至少表面由树脂材料构成。
根据该玻璃基板的处理方法，由于玻璃基板经由树脂材料与第一支承部件、第二支承部件及引导部件接触，因此能够防止玻璃基板的损伤。
(19)根据(18)所记载的玻璃基板的处理方法，上述树脂材料为含氟树脂。
根据该玻璃基板的处理方法，由于利用含氟树脂覆盖第一支承部件、第二支承部件及引导部件，因此污渍、异物难以附着，从而难以向玻璃基板转印污渍、异物。
(20)根据(17)～(19)中任一项所记载的玻璃基板的处理方法，在将上述引导部件从被上述玻璃支承部支承的玻璃基板的板厚方向投影到上述玻璃基板的主面，并用阴影来表示上述引导部件与上述玻璃基板的主面重合的区域的二维的投影图像中，
将上述投影图像的阴影沿上述玻璃基板的水平方向投影到上述玻璃基板的铅垂边而成的一维的阴影垂直分布中的阴影存在区域的合计宽度为上述玻璃基板的铅垂方向的宽度的50％以上，
将上述投影图像的阴影沿上述玻璃基板的铅垂方向投影到上述玻璃基板的水平边而成的一维的阴影水平分布中的阴影存在区域的合计宽度为上述玻璃基板的水平方向的宽度的50％以上。
根据该玻璃基板的处理方法，通过使引导部件与玻璃基板的主面重叠的区域为玻璃基板的铅垂方向的宽度和水平方向的宽度各自的50％以上，由于主面的一半以上的区域与引导部件抵接，因此能够更加稳定地支承玻璃基板。此外，通过增加接触区域，能够抑制对玻璃基板带来损伤。因此，与接近静水状态的化学强化处理不同，在玻璃基板承受由液体流动产生的外力的药液处理工序及清洗工序中，使玻璃基板与引导部件的接触增加，从而不会损伤产生了挠曲的玻璃基板而能够可靠地进行保持。
(21)根据(20)所记载的玻璃基板的处理方法，上述阴影垂直分布及上述阴影水平分布中的上述阴影存在区域包含上述玻璃基板的主面中央。
根据该玻璃基板的处理方法，通过使引导部件与包含玻璃基板的主面中央的区域接触，从而玻璃基板被引导部件以更加稳定的形态支承。
(22)一种化学强化玻璃基板，
具有互相对向的一对主面，
上述主面的面积A与上述一对主面彼此之间的厚度t的比A/t为25000以上，
上述一对主面中的一方的主面的压缩应力值与另一方的主面的压缩应力值的差为10MPa以下。
根据该化学强化玻璃基板，能够得到抑制了裂纹、翘曲的化学强化玻璃基板。
(23)根据(22)所记载的化学强化玻璃基板，上述主面的面积A与上述一对主面彼此之间的厚度t的比A/t为100000以上。
根据该化学强化玻璃基板，能够得到抑制了裂纹、翘曲的化学强化玻璃基板。
(24)根据(22)或(23)所记载的化学强化玻璃基板，所述一对主面中的一方的主面的压缩应力层的深度与另一方的主面的压缩应力层的深度的差为0.1μm以下。
根据该化学强化玻璃基板，能够得到抑制了裂纹、翘曲的化学强化玻璃基板。
(25)根据(22)～(24)中任一项所记载的化学强化玻璃基板，上述一对主面彼此之间的厚度t为0.2mm以下。
根据该化学强化玻璃基板，能够得到抑制了裂纹、翘曲的化学强化玻璃基板。
(26)根据(22)～(25)中任一项所记载的化学强化玻璃基板，上述一对主面的压缩应力值分别为600MPa以上，上述一对主面的压缩应力层的深度分别为3μm以上且30μm以下。
根据该化学强化玻璃基板，能够得到抑制了裂纹、翘曲并具有充分的强度的化学强化玻璃基板。
本申请基于2019年8月29日提出申请的日本国专利申请2019-157195，其内容在此作为参照引入。

Claims (26)

1.一种玻璃基板的处理方法，具备如下工序：
准备具有互相对向的一对主面且所述主面的面积A与所述一对主面彼此之间的厚度t的比A/t为25000以上的玻璃基板；
使所述玻璃基板以所述主面与铅垂方向大致平行的朝向保持于玻璃收容部；及
使所述玻璃基板保持于所述玻璃收容部的状态不变，对所述玻璃基板进行液体处理，其中，
所述玻璃收容部具备：
玻璃支承部，利用第一支承部件及第二支承部件支承所述玻璃基板，该第一支承部件卡定所述玻璃基板的铅垂方向下方的下侧周缘部，该第二支承部件卡定比所述玻璃基板的所述下侧周缘部靠铅垂方向上方的上侧周缘部；及
引导部件，分别设置于被所述玻璃支承部支承的所述玻璃基板的厚度方向上的一侧和另一侧，
在所述玻璃基板呈平坦状的情况下，所述引导部件从所述玻璃基板的所述主面分离，
在所述玻璃基板挠曲的情况下，在所述玻璃基板与所述第一支承部件和所述第二支承部件中的至少任一个的卡定解除之前，所述引导部件与所述玻璃基板的凸侧的所述主面接触，从而抑制所述玻璃基板的挠曲。
2.根据权利要求1所述的玻璃基板的处理方法，其中，
所述玻璃基板的厚度为0.2mm以下。
3.根据权利要求1或2所述的玻璃基板的处理方法，其中，
所述引导部件通过对线材进行弯曲加工而形成。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的玻璃基板的处理方法，其中，
所述第一支承部件和所述第二支承部件形成有槽宽比所述玻璃基板的所述厚度大的支承凹部，在所述支承凹部插入所述玻璃基板的周缘部而支承所述玻璃基板。
5.根据权利要求4所述的玻璃基板的处理方法，其中，
所述引导部件从所述玻璃基板的周缘部朝向所述主面的中央以比所述支承凹部的槽深长的方式伸出。
6.根据权利要求4或5所述的玻璃基板的处理方法，其中，
所述第一支承部件和所述第二支承部件沿各自的长边方向形成多个所述支承凹部，
所述玻璃收容部在形成为框状或箱状的盒主体分别沿一个方向架设有所述第一支承部件和所述第二支承部件，
使多个所述玻璃基板卡定于所述第一支承部件的所述支承凹部和所述第二支承部件的所述支承凹部而互相分离地进行支承。
7.根据权利要求6所述的玻璃基板的处理方法，其中，
在所述盒主体的所述多个玻璃基板的上方设置有防止所述玻璃基板的上浮的限位部件。
8.根据权利要求4～7中任一项所述的玻璃基板的处理方法，其中，
所述支承凹部的沿所述玻璃基板的厚度方向的槽宽是所述玻璃基板的厚度的1.5倍以上且3倍以下。
9.根据权利要求4～8中任一项所述的玻璃基板的处理方法，其中，
所述玻璃基板的沿该玻璃基板的厚度方向的配置间隔为所述玻璃基板的主面的面积A除以一对主面彼此之间的厚度t所得到的值A/t的0.00006～0.0006倍的范围。
10.根据权利要求4～9中任一项所述的玻璃基板的处理方法，其中，
所述引导部件沿所述玻璃基板的厚度方向配置的配置间隔比所述支承凹部的槽宽大且为所述玻璃基板的厚度的5000倍以下。
11.根据权利要求4～10中任一项所述的玻璃基板的处理方法，其中，
所述引导部件的在铅垂方向上的配置位置处于从所述玻璃基板的下边起所述玻璃基板的铅垂方向上的宽度的45％的高度以上且所述玻璃基板的铅垂方向上的宽度的95％的高度以下的范围。
12.根据权利要求4～11中任一项所述的玻璃基板的处理方法，其中，
所述引导部件从所述玻璃基板的一方的侧边朝向另一方的侧边伸出的伸出量为所述玻璃基板的水平方向的宽度的20％以上。
13.根据权利要求11或12所述的玻璃基板的处理方法，其中，
设置有从所述玻璃基板的一方的侧边和另一方的侧边分别朝向所述玻璃基板的主面中央伸出的一对所述引导部件。
14.根据权利要求1～13中任一项所述的玻璃基板的处理方法，其中，
进行所述液体处理的工序是对所述玻璃基板进行化学强化处理的工序。
15.根据权利要求14所述的玻璃基板的处理方法，其中，
所述第一支承部件和所述第二支承部件以及所述引导部件由不锈钢材料构成。
16.根据权利要求14或15所述的玻璃基板的处理方法，其中，
在从所述玻璃基板的下边起小于所述玻璃基板的铅垂方向的宽度的45％的高度的范围内，还设置有配置于比所述引导部件靠下方处的下方引导部件。
17.根据权利要求1～13中任一项所述的玻璃基板的处理方法，其中，
进行所述液体处理的工序是在化学强化处理后实施的伴随液体流动的药液处理工序及在所述药液处理工序中实施的清洗工序。
18.根据权利要求17所述的玻璃基板的处理方法，其中，
所述第一支承部件、所述第二支承部件以及所述引导部件至少表面由树脂材料构成。
19.根据权利要求18所述的玻璃基板的处理方法，其中，
所述树脂材料为含氟树脂。
20.根据权利要求17～19中任一项所述的玻璃基板的处理方法，其中，
在将所述引导部件从被所述玻璃支承部支承的玻璃基板的板厚方向投影到所述玻璃基板的主面，并用阴影来表示所述引导部件与所述玻璃基板的主面重合的区域的二维的投影图像中，
将所述投影图像的阴影沿所述玻璃基板的水平方向投影到所述玻璃基板的铅垂边而成的一维的阴影垂直分布中的阴影存在区域的合计宽度为所述玻璃基板的铅垂方向的宽度的50％以上，
将所述投影图像的阴影沿所述玻璃基板的铅垂方向投影到所述玻璃基板的水平边而成的一维的阴影水平分布中的阴影存在区域的合计宽度为所述玻璃基板的水平方向的宽度的50％以上。
21.根据权利要求20所述的玻璃基板的处理方法，其中，
所述阴影垂直分布及所述阴影水平分布中的所述阴影存在区域包含所述玻璃基板的主面中央。
22.一种化学强化玻璃基板，
具有互相对向的一对主面，
所述主面的面积A与所述一对主面彼此之间的厚度t的比A/t为25000以上，
所述一对主面中的一方的主面的压缩应力值与另一方的主面的压缩应力值的差为10MPa以下。
23.根据权利要求22所述的化学强化玻璃基板，其中，
所述主面的面积A与所述一对主面彼此之间的厚度t的比A/t为100000以上。
24.根据权利要求22或23所述的化学强化玻璃基板，其中，
所述一对主面中的一方的主面的压缩应力层的深度与另一方的主面的压缩应力层的深度的差为0.1μm以下。
25.根据权利要求22～24中任一项所述的化学强化玻璃基板，其中，
所述一对主面彼此之间的厚度t为0.2mm以下。
26.根据权利要求22～25中任一项所述的化学强化玻璃基板，其中，
所述一对主面的压缩应力值分别为600MPa以上，所述一对主面的压缩应力层的深度分别为3μm以上且30μm以下。
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