CN112251715A - 掩膜板的修复方法 - Google Patents
掩膜板的修复方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN112251715A CN112251715A CN202011133646.9A CN202011133646A CN112251715A CN 112251715 A CN112251715 A CN 112251715A CN 202011133646 A CN202011133646 A CN 202011133646A CN 112251715 A CN112251715 A CN 112251715A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- mask
- strip
- shielding
- strips
- deformation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/14—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using spraying techniques to apply the conductive material, e.g. vapour evaporation
- H05K3/143—Masks therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
本申请实施例提供一种掩膜板的修复方法,该掩膜板包括具有开口的框式框架、多个第一遮挡条和多个掩膜条,框式框架包括在第一方向上相对的左边框和右边框,以及在第二方向上相对的上边框和下边框,第一遮挡条及掩膜条固定于上边框和下边框。该修复方法包括:识别掩膜条变形区,掩膜板中具有沿第二方向上外扩变形的掩膜条的区域识别为掩膜条变形区;替换遮挡条,对第二遮挡条进行张网处理,用第二遮挡条替换掩膜条变形区中的至少部分第一遮挡条并连接至上边框和下边框,使外扩变形掩膜条沿第二方向向内回缩。本申请旨在降低掩膜板修复过程的成本以及缩短修复时间,从而提高显示面板生产效率,降低生产成本。
Description
技术领域
本发明掩膜板设备技术领域,尤其涉及一种掩膜板的修复方法。
背景技术
通常制备有机发光二极管(OLED,Organic Light-Emitting Diode)显示面板过程中蒸镀工艺为制备OLED显示面板的核心工艺之一。掩膜板的蒸镀过程中蒸镀材料蒸镀到蒸镀基板上的待蒸镀区的蒸镀精度对蒸镀效果有重要影响。蒸镀过程中蒸镀材料蒸镀到蒸镀基板的待蒸镀区时蒸镀精度低会导致在待蒸镀区上出现蒸镀材料镀偏的现象,造成OLED显示面板的混色问题,进而影响显示面板的显示效果。
在蒸镀过程中,掩膜板上的掩膜条发生变形从而使得掩膜条上的多个图案蒸镀区发生变形影响蒸镀精度,一般采用替换变形的掩膜条的方法提高蒸镀精度。但是掩膜条价格较高,替换掩膜条所需时间长,造成显示面板成本高且生产效率低。
因此急需一种新型的掩膜板的修复方法。
发明内容
本申请实施例提供一种掩膜板的修复方法,旨在降低掩膜板修复过程的成本以及缩短修复时间,从而提高显示面板生产的效率,降低显示面板生成成本。
本申请实施例提供一种掩膜板的修复方法,包括:
掩膜板包括具有开口的框式框架、多个第一遮挡条和多个掩膜条,框式框架包括在第一方向上相对的左边框和右边框,以及在第二方向上相对的上边框和下边框,第一遮挡条及掩膜条固定于上边框和下边框;
识别掩膜条变形区,掩膜板中具有沿第二方向上外扩变形的掩膜条的区域识别为掩膜条变形区;
替换遮挡条,对第二遮挡条进行张网处理,用第二遮挡条替换掩膜条变形区中的至少部分第一遮挡条,并连接至上边框和下边框,使外扩变形掩膜条沿第二方向向内回缩。
根据本申请实施例的前述任一实施方式,替换遮挡条的步骤中:
第二遮挡条以掩膜条变形区在第一方向上的中心线为对称轴对称分布。第二遮挡条为掩膜板的上边框以及下边框提供以掩膜条变形区在第一方向上的中心线为对称轴,对称分布于掩膜条变形区的拉力,保证掩膜条变形区中所有沿第二方向上外扩变形的掩膜条均沿第二方向向内回缩。
根据本申请实施例的前述任一实施方式,替换遮挡条的步骤中:
第二遮挡条位于掩膜条变形区在第一方向上的中心部位。第二遮挡条对位于掩膜条变形区中心部位的上边框和下边框提供相对靠拢的拉力,则位于掩膜条变形区左、右两侧的外扩变形掩膜条均可沿第二方向向内回缩。
根据本申请实施例的前述任一实施方式,替换遮挡条的步骤中:
至少两条第二遮挡条位于中心部位且在第一方向上连续间隙分布。
根据本申请实施例的前述任一实施方式,替换遮挡条的步骤中:
使至少一条替换的掩膜条替换至少一条位于中心部位的掩膜条,且替换的掩膜条设置于中心部位处的相邻第二遮挡条之间。可以在合理控制成本的情况下,提高掩膜板修复过程的效率。
根据本申请实施例的前述任一实施方式,包括:建立数据库,数据库包括掩膜条变形区中沿第二方向外扩变形的掩膜条的外扩变形量、第二遮挡条张网处理过程中对第二遮挡条施加的沿第二方向的拉力值和第二遮挡条的数量这三者之间的三维曲线。
根据本申请实施例的前述任一实施方式,替换遮挡条的步骤中:
根据掩膜条变形区中沿第二方向外扩变形的掩膜条的外扩变形量通过数据库确定第二遮挡条的数量。实现对沿第二方向外扩变形的掩膜条更准确的向内回缩修复,使沿第二方向外扩变形的掩膜条在第二方向修复到不具有形变的状态。
根据本申请实施例的前述任一实施方式,替换遮挡条的步骤中:
根据掩膜条变形区中沿第二方向外扩变形的掩膜条的外扩变形量确定第二遮挡条张网处理过程中对第二遮挡条施加的沿第二方向的拉力值。实现对沿第二方向外扩变形的掩膜条更准确的向内回缩修复,使沿第二方向外扩变形的掩膜条在第二方向修复到不具有形变的状态。
根据本申请实施例的前述任一实施方式,替换遮挡条的步骤中,
在第二遮挡条张网处理过程中控制对第二遮挡条施加的沿第二方向的拉力,
使第二遮挡条连接于上边框和下边框时,外扩变形的掩膜条沿第二方向向内回缩至在第二方向上不具有形变的状态。
根据本申请实施例的前述任一实施方式,替换遮挡条的步骤中,
在第二遮挡条张网处理过程中控制对第二遮挡条施加的沿第二方向的拉力,使第二遮挡条连接于上边框和下边框时,
外扩变形的掩膜条沿第二方向向内回缩至在第二方向上不具有形变的状态,
且在掩膜条变形区中,从第二遮挡条向左边框方向间隙分布的掩膜条与从第二遮挡条向右边框方向间隙分布的掩膜条相向外凸变形。从而掩膜条在第一方向具有外扩预变形,对在实际的蒸镀过程中因为掩膜版下垂造成的掩膜条在第一方向具有的内凹变形进行补偿,提高蒸镀精度。
本申请实施例提供掩膜板的修复方法,包括识别掩膜条变形区以及替换遮挡条的步骤。在替换遮挡条的步骤中,通过第二遮挡条对掩膜板的上边框和下边框提供相互靠拢的拉力,使得沿第二方向外扩形变掩膜条沿第二方向向内回缩,从而使得沿第二方向具有外扩形变的掩膜条至少恢复到沿第二方向不具有形变尤其是不具有外扩形变的状态,从而使得掩膜条上的图案蒸镀区恢复到沿第二方向不具有形变尤其是不具有外扩形变的状态,经过本申请实施例提供的掩膜板修复方法修复的掩膜板,掩膜板中的掩膜条沿第二方向不具有外扩形变,提高了蒸镀过程的蒸镀精度,避免蒸镀材料蒸镀到蒸镀基板上时出现蒸镀材料镀偏的现象,从而避免显示面板出现混色等问题,优化显示面板的显示效果。同时,在本申请中只是通过第二遮挡条而非直接替换具有沿第二方向外扩形变的掩膜条对掩膜板实现修复,由于遮挡条的价格远低于掩膜条的价格,因此采用本申请实施例提供的掩膜板的修复方法可以大大节约掩膜板修复过程的材料成本。且在掩膜板变形区中可以通过替换部分的遮挡条就可以实现对掩膜板的修复,无需替换所有的遮挡条。本申请实施例中掩膜板的修复方法相比普通的替换所有具有沿第二方向外扩形变的掩膜条的掩膜板修复方法所需的时间更短,一方面是由于无需替换所有的遮挡条,另一方面是由于替换遮挡条相比替换掩膜条所需的张网处理对位时间更短,遮挡条张网处理对位过程更简单,使得掩膜板整体修复的时间成本降低。从而在整体上缩短掩膜板在多次使用过程中的修复时间,提高掩膜板的修复效率进而提高制备生产多个显示面板的效率,提升显示面板的产能。
附图说明
通过阅读以下参照附图对非限制性实施例所作的详细描述,本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显,其中,相同或相似的附图标记表示相同或相似的特征,附图并未按照实际的比例绘制。
图1是本申请实施例中一种掩膜板的修复方法的流程示意图;
图2是采用本申请实施例中的一种掩膜版的修复方法修复得到的掩膜板结构示意图;
图3是采用本申请实施例中的另一种掩膜板的修复方法修复得到的掩膜板的结构示意图;
图4是一个示例中未进行修复的掩膜板的结构示意图。
图中:
掩膜板-1;框式框架-11;左边框-111;右边框-112;上边框-113;下边框-114;掩膜条-12;沿第二方向Y外扩变形的掩膜条-13;第一遮挡条-14;图案蒸镀区-15;第二遮挡条-16;
第一方向-X;第二方向-Y;掩膜条变形区-A。
具体实施方式
下面将详细描述本发明的各个方面的特征和示例性实施例。在下面的详细描述中,提出了许多具体细节,以便提供对本发明的全面理解。但是,对于本领域技术人员来说很明显的是,本发明可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本发明的示例来提供对本发明的更好的理解。在附图和下面的描述中,至少部分的公知结构和技术没有被示出,以便避免对本发明造成不必要的模糊;并且,为了清晰,可能夸大了部分结构的尺寸。此外,下文中所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。
下述描述中出现的方位词均为图中示出的方向,并不是对本发明的实施例的具体结构进行限定。在本发明的描述中,还需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是直接相连,也可以间接相连。对于本领域的普通技术人员而言,可视具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
依照本申请如上文所述的实施例,这些实施例并没有详尽叙述所有的细节,也不限制该申请仅为所述的具体实施例。显然,根据以上描述,可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例,是为了更好地解释本申请的原理和实际应用,从而使所属技术领域技术人员能很好地利用本申请以及在本申请基础上的修改使用。本申请仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。
发明人在长期研究过程中发现,在蒸镀过程中,温度变化引起掩膜条外扩变形;掩膜板制作时,对掩膜条张网处理施力存在偏差也会引起掩膜条外扩变形。其中,在蒸镀过程中,掩膜板上的掩膜条沿张网处理拉伸方向的外扩变形较常见。当掩膜条在使用过程中发生上述沿拉伸方向的外扩变形时,掩膜板上的图案蒸镀区外扩偏位,导致掩膜板与蒸镀基板对位不准,使蒸镀精度低,容易出现蒸镀材料镀偏的问题。因此为防止蒸镀效果不佳,一般需要对上述外扩变形的掩膜条进行拆卸,用新的掩膜条替换上述外扩变形的掩膜条以实现对掩膜板的修复。即一般需要对沿第二方向Y(具体可参见图2)外扩变形的掩膜条进行拆卸,替换新的掩膜条以实现对掩膜板的修复。但是掩膜条价格高,且重新将替换掩膜条张网处理对位设置在掩膜板的框架上所需时间长,替换多条变形的掩膜板会极大增大蒸镀过程的时间成本以及材料费用,从而增大显示面板的生产成本,降低显示面板的生产效率。
鉴于此,发明人提出本申请,下面结合图1至图4,对本申请实施例中掩膜板1的修复方法进行详细展开说明。
请参见图1,本申请实施例提供掩膜板1的修复方法,包括:
S110:识别掩膜条变形区A,掩膜板1中具有沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13的区域识别为掩膜条变形区A。
具体的,掩膜板1包括具有开口的框式框架11、多个第一遮挡条14、多个掩膜条12,框式框架11包括在第一方向X上相对的左边框111和右边框112,以及在第二方向Y上相对的上边框113和下边框114,多个第一遮挡条14及多个掩膜条12固定于上边框113和下边框114。
S120:替换遮挡条,对第二遮挡条16张网处理,用第二遮挡条16替换掩膜条变形区A中的至少部分第一遮挡条14,第二遮挡条16连接于上边框113和下边框114,使沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13沿第二方向Y向内回缩。
具体的,在本申请实施例的掩膜板1中,第一遮挡条14沿第一方向X间隙分布,且第一遮挡条14连接设置于上边框113和下边框114;掩膜条12对应设置在相邻两个第一遮挡条14形成的间隙处,且掩膜条12也连接设置于上边框113和下边框114。掩膜条12上设置有多个沿第二方向Y分布的图案蒸镀区15,图案蒸镀区15上设置有多个像素开口,其中图中未示出多个像素开口。
需要说明的是,图2以及图4仅作为示例示出一种掩膜条变形区的情况。可以理解的是,在一些实施例中掩膜条变形区A位于掩膜板1的任意位置,例如位于掩膜板1的中心部位,或位于掩膜板1在第一方向X上的左侧部位,或位于掩膜板1在第一方向X上的右侧部位。在另一些实施例中,掩膜条变形区A中包括沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13以及沿第二方向Y不具有外扩变形的掩膜条。在还一些实施例中,掩膜板中包括一个或者多个掩膜条变形区A。
可以理解的是,本申请替换遮挡条的S110步骤中,首先对第二遮挡条16进行张网处理,即第二遮挡条16会产生沿第二方向Y向外拉伸的力;再当第二遮挡条16替换掩膜条变形区A中的至少部分第一遮挡条14且连接于上边框113和下边框114上时,第二遮挡条16会产生沿第二方向Y向内回缩的力,从而带动上边框113和下边框114产生沿第二方向Y向内回缩的力,进一步使沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13沿第二方向Y向内回缩。
本申请实施例提供掩膜板1的修复方法,包括识别掩膜条变形区A的S110步骤以及替换遮挡条的S120步骤。通过第二遮挡条16对掩膜板1的上边框113和下边框114提供相互靠拢的拉力,使得沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13沿第二方向Y向内回缩,从而使得沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13至少恢复到沿第二方向Y不具有形变尤其是不具有外扩形变的状态,从而使得掩膜条12上的图案蒸镀区15恢复到沿第二方向Y不具有形变尤其是不具有外扩形变的状态,经过该修复方法修复的掩膜板1中的掩膜条12沿第二方向Y不具有外扩形变,提高蒸镀过程的蒸镀精度,避免蒸镀材料蒸镀到蒸镀基板上时出现蒸镀材料镀偏的现象从而避免显示面板出现混色等问题,优化显示面板的显示效果。通过用第二遮挡条16替换第一遮挡条14而非直接替换沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13对掩膜板1实现修复,由于第二遮挡条16的价格远低于掩膜条12的价格,因此采用本申请实施例提供的掩膜板1的修复方法可以大大节约掩膜板1修复过程的材料成本。且在掩膜条变形区A中可以通过替换部分的第一遮挡条14就可以实现对掩膜板1的修复,无需替换所有的第一遮挡条14,即在本申请实施例中掩膜板1的修复过程相比普通的替换所有沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13的掩膜板1修复过程所需的张网处理对位时间更短,第二遮挡条16张网处理对位过程更简单,掩膜板1整体修复时间成本降低,从而缩短掩膜板1在多次使用过程中的修复时间,提高掩膜板1的修复效率,进而提高制备多个显示面板的效率,提升显示面板的产能。
在一些可选的实施例中,识别掩膜条变形区A的S110步骤中,
掩膜条变形区A包括在第一方向X上连续间隙分布的n条第一遮挡条14以及对应设置于间隙的n-1条沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13,其中n大于或等于2。在这些实施例中,将掩膜板1中沿第一方向X上连续间隙分布的具有沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13以及设置在每条沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13左右两侧的第一遮挡条14识别为一个掩膜条变形区A。在该掩膜条变形区A中用第二遮挡条16对至少部分的第一遮挡条14进行替换,使得第二遮挡条16向上边框113和下边框114提供相对靠拢的拉力,继而上边框113和下边框114沿第二方向Y进行向内的相对靠拢过程中,直接带动连续间隙分布的沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13沿第二方向Y朝向开口内回缩,可以更快速准确地调节沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13的变形状态。
在一些可选的实施例中,替换遮挡条的S120步骤中:
第二遮挡条16以掩膜条变形区A在第一方向X上的中心线为对称轴对称分布。
在这些实施例中,第二遮挡条16设置在掩膜板1上时以掩膜条变形区A在第一方向X上的中心线为对称轴,对称分布于掩膜条变形区A中,第二遮挡条16为掩膜板1的上边框113以及下边框114提供以掩膜条变形区A在第一方向X上的中心线为对称轴,对称分布于掩膜条变形区A的拉力;从而在各第二遮挡条16向上边框113和下边框114提供相对靠拢的拉力基本相同的情况下,上边框113和下边框114在掩膜条变形区A中的部分在第二遮挡条16施力作用下,上边框113和下边框114均发生朝向开口内的位移,从而带动掩膜条变形区A中沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13均沿第二方向Y朝向开口内进行回缩复位,以改善沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13原有的外扩形变带来的图案蒸镀区15外扩偏位,掩膜板1与蒸镀基板对位不准,蒸镀过程中蒸镀精度低的问题。可以理解的是,由于第二遮挡条16是对称分布于掩膜条变形区A中,使得在掩膜条变形区A内第二遮挡条16对上边框113和下边框114提供的作用力以掩膜条变形区A在第一方向X上的中心线为对称轴左右对称,从而更有利于带动掩膜条变形区A中沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13均沿第二方向Y朝向开口内进行回缩复位。
在一些可选的实施例中,替换遮挡条的S120步骤中:
第二遮挡条16位于掩膜条变形区A在第一方向X上的中心部位。第二遮挡条16对位于掩膜条变形区A中心部位的上边框113和下边框114提供相对靠拢的拉力,则位于掩膜条变形区A左、右两侧的外扩变形掩膜条13均可沿第二方向Y向内回缩。
在一些可选的实施例中,替换遮挡条的S120步骤中:
至少两条第二遮挡条16位于中心部位且在第一方向X上连续间隙分布。由于第二遮挡条16位于中心部位且间隔分布,此种设置方式有利于对上边框113和下边框114提供相对靠拢的拉力,能轻松带动外扩变形掩膜条13均可沿第二方向Y向内回缩。
在一些可选的实施例中,替换遮挡条的S120步骤中:
使至少一条替换的掩膜条12替换至少一条位于中心部位的掩膜条,且替换的掩膜条12设置于中心部位处的相邻第二遮挡条16之间。可以在合理控制成本的情况下,提高掩膜板修复过程的效率。在一些示例中,位于中心部位的掩膜条为沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13。
需要说明的是,在这些实施例的一些示例中,替换遮挡条的S120步骤中:
首先,在掩膜条变形区A在第一方向X上的中心部位处撕离至少一条沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13;
继而,撕离位于上述沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13左右两侧相邻设置的第一遮挡条14;
再者,将第二遮挡条16张网处理对位连接设置于上边框113和下边框114,且第二遮挡条16在掩膜板1上设置的位置与上述已经撕离的第一遮挡条14在掩膜板1上设置的位置相同;
最后,先将替换的掩膜条12张网处理对位连接设置于上边框113和下边框114,且替换的掩膜条12在掩膜板1上设置的位置与上述已经撕离的掩膜条在掩膜板1上设置的位置相同,在替换掩膜条的过程中对掩膜板1的框式框架11施加对抗作用力,使得替换的掩膜条12连接设置于上边框113和下边框114时掩膜条12因张网处理过程产生的拉应力被对抗作用力抵消,最终替换的掩膜条12固定设置于上边框113和下边框114时不对框式框架11施加沿第二方向Y的作用力,即替换的掩膜条12不使框架在第二方向Y具有形变。
因为在这些示例中,第一遮挡条14位于掩膜条12的下方,直接撕离第一遮挡条14的难度较大,因此可以在该些示例中选择先撕离少量例如一条沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13再撕离第一遮挡条14的方式提高替换遮挡条的S120步骤的效率。
在一些可选的实施例中,该修复方法还包括建立数据库,数据库包括掩膜条变形区A中沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13的外扩变形量、第二遮挡条16张网处理过程中对第二遮挡条16施加的沿第二方向Y的拉力值和第二遮挡条16的数量这三者之间的三维曲线。
可以理解的是,替换每一第一遮挡条14对第二遮挡条16进行张网处理对位过程时,对第二遮挡条16施加的沿第二方向Y的拉伸作用力基本一致时,则在掩膜条变形区A中替换遮挡条后第二遮挡条16的数量与全体第二遮挡条16向上边框113和下边框114提供相对靠拢的拉力呈正相关,从而第二遮挡条16的数量与沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13沿第二方向Y向内回缩的回缩形变量呈正相关。而沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13的外扩变形量与沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13沿第二方向Y需要向内回缩的回缩形变量呈正相关。
可以理解的是,当第二遮挡条16的数量不变时,第二遮挡条16张网处理过程中对第二遮挡条16施加的沿第二方向Y的拉力值与沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13沿第二方向Y向内回缩的回缩形变量呈正相关。而沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13的外扩变形量与沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13沿第二方向Y需要向内回缩的回缩形变量呈正相关。
可以理解的是,建立数据库的步骤可以在识别掩膜条变形区A的S110步骤之前进行,并且该数据库是反复实验所得,具有准确性和参考性,实验条件和参数与对掩膜板进行修复时的条件和参数相同或大致相似。
在一些可选的实施例中,替换遮挡条的S120步骤中:
根据掩膜条变形区A中沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13的外扩变形量通过数据库确定替换设置于掩膜条变形区A中的第一遮挡条14的数量。在本实施例中,确定掩膜条变形区A中沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13的外扩变形量后,通过在数据库中查找数据,从而确定需要被替换的设置于掩膜条变形区A中的第一遮挡条14的数量,以控制沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13沿第二方向Y向内回缩至掩膜条在第二方向Y上不具有形变的状态。
在一些可选的实施例中,替换遮挡条的S120步骤中:
根据掩膜条变形区A中沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13的外扩变形量通过数据库确定第二遮挡条16张网处理过程中对第二遮挡条16施加的沿第二方向Y的拉力值。在本实施例中,确定掩膜条变形区A中沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13的外扩变形量后,通过在数据库中查找数据,从而确定第二遮挡条16张网处理过程中对第二遮挡条16施加的沿第二方向Y的拉力值,以控制沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13沿第二方向Y向内回缩至掩膜条在第二方向Y上不具有形变的状态。
在一些可选的实施例中,请参见图2,替换遮挡条的S120步骤中,
在第二遮挡条16张网处理过程中控制对第二遮挡条16施加的沿第二方向Y的拉力,
使第二遮挡条16连接于上边框113和下边框114时,沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13沿第二方向Y向内回缩至掩膜条在第二方向Y上不具有形变的状态。
在这些实施例中,掩膜板1经本申请实施例提供的掩膜板的修复方法,通过控制对第二遮挡条16施加的沿第二方向Y的拉力,从而控制第二遮挡条16连接设置于上边框113和下边框114时向上边框113和下边框114提供相对靠拢的拉力,从而控制上边框113和下边框114相对靠拢过程中朝向框式框架11开口内的位移量,继而控制沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13沿第二方向Y向内回缩的回缩变形量。
在一些可选的实施例中,请参见图3,替换遮挡条的S120步骤中,
在第二遮挡条16张网处理过程中控制对第二遮挡条16施加的沿第二方向Y的拉力,使第二遮挡条16连接于上边框113和下边框114时,
沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13沿第二方向Y向内回缩至在第二方向Y上不具有形变的状态,
且在掩膜条变形区A中,从第二遮挡条16向左边框111方向间隙分布的掩膜条12与从第二遮挡条16向右边框112方向间隙分布的掩膜条12相向外凸变形。
在这些实施例中,发明人进一步研究发现,在蒸镀过程中,蒸镀装置中的冷却板会下压蒸镀基板,蒸镀基板以及掩膜板1都受到冷却板的压力且在蒸镀过程中由于蒸镀基板和掩膜板1受自身重力作用,使得掩膜板1以及与之对位贴合的蒸镀基板都具有下垂的现象。由于掩膜板1和蒸镀基板对位贴合接触设置,蒸镀基板位于掩膜板1的上侧,因此当掩膜板1和蒸镀基板均下垂时,蒸镀基板对掩膜板1施加在第一方向X上方向相反的挤压作用力以及在第一方向X上方向相反的摩擦力。在上述摩擦力以及挤压作用力的作用下,掩膜板1自身在第一方向X上产生对应方向相反的挤压应力和摩擦应力,又在该挤压应力以及摩擦应力的作用下掩膜板1上的掩膜条12发生相对形变,即以掩膜板1于第一方向X上的中心线为对称轴对称分布的掩膜条12发生朝向掩膜板1于第一方向X上的中心线的内凹形变,蒸镀材料蒸镀到蒸镀基板上的待蒸镀区时出现镀偏现象,即蒸镀后蒸镀材料镀膜精度低,使OLED显示面板显示过程中呈现混色等不良显示效果。
因此,在这些实施例中,在替换遮挡条的步骤中控制对第二遮挡条16施加的沿第二方向Y的拉力,使第二遮挡条16连接于上边框113和下边框114时,外扩变形的掩膜条即沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13沿第二方向Y向内回缩至在第二方向Y上不具有形变的状态,且在掩膜条变形区A中,从第二遮挡条16向左边框111方向间隙分布的掩膜条12与从第二遮挡条16向右边框112方向间隙分布的掩膜条12相向外凸变形。则使得掩膜板1上的掩膜条12具有沿第一方向X的补偿预变形,该补偿预变形与蒸镀过程中因掩膜板1下垂造成沿第一方向X的变形相抵,从而避免掩膜板1在蒸镀过程中因为具有沿第一方向X的变形而出现蒸镀偏位,蒸镀过程蒸镀精度低,显示面板显示出现混色等问题。
作为一个示例,请参见图4,图4示出了在该示例中一种未进行修复的掩膜板的结构示意图,在该示例中掩膜板1的修复方法包括:
S110:识别掩膜条变形区A,掩膜板1包括具有开口的框式框架11、多个第一遮挡条14、多个掩膜条12,框式框架11包括在第一方向X上相对的左边框111和右边框112,以及在第二方向Y上相对的上边框113和下边框114,多个第一遮挡条14及多个掩膜条12固定于上边框113和下边框114,掩膜板1中3条沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13的区域识别为掩膜条变形区A;
示例性的,本实施例以掩膜条变形区A中有3条沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13为例。
S120:替换遮挡条,对第二遮挡条16进行张网处理,使2条第二遮挡条16替换掩膜条变形区A中的2条第一遮挡条14,第二遮挡条16连接于上边框113和下边框114设置,且向上边框113和下边框114提供相对靠拢的拉力,使3条沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13沿第二方向Y向内回缩;在该示例中,选择替换掉位于掩膜条变形区A在第一方向X上的中心部位的两条第一遮挡条14。
示例性的,本实施例以用第二遮挡条16替换掩膜条变形区A中的2条第一遮挡条14为例进行阐述。
在这一示例的一个具体例子中,请一并参见图2,在替换遮挡条的S120步骤中,在第二遮挡条16张网处理过程中控制对上述2条第二遮挡条16施加的沿第二方向Y的拉力,使第二遮挡条16连接于上边框113和下边框114时,沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13沿第二方向Y向内回缩至在第二方向Y上不具有形变的状态,即从沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13变为在第二方向Y上不具有形变的掩膜条12。
在这一示例中的一个具体例子中,请一并参见图3,替换遮挡条的S120步骤中,在第二遮挡条16张网处理过程中控制对上述2条第二遮挡条16施加的沿第二方向Y的拉力,使第二遮挡条16连接于上边框113和下边框114时,沿第二方向Y外扩变形的掩膜条13沿第二方向Y向内回缩至在第二方向Y上不具有形变的状态,且在掩膜条变形区A中,从第二遮挡条16向左边框111方向间隙分布的掩膜条12与从第二遮挡条16向右边框112方向间隙分布的掩膜条12在第一方向X上相向外凸变形。
本发明可以以其他的具体形式实现,而不脱离其精神和本质特征。例如,特定实施例中所描述的算法可以被修改,而系统体系结构并不脱离本发明的基本精神。因此,当前的实施例在所有方面都被看作是示例性的而非限定性的,本发明的范围由所附权利要求而非上述描述定义,并且,落入权利要求的含义和等同物的范围内的全部改变从而都被包括在本发明的范围之中。
Claims (10)
1.一种掩膜板的修复方法,所述掩膜板包括具有开口的框式框架、多个第一遮挡条和多个掩膜条,所述框式框架包括在第一方向上相对的左边框和右边框,以及在第二方向上相对的上边框和下边框,所述第一遮挡条及所述掩膜条固定于所述上边框和下边框,其特征在于,包括:
识别掩膜条变形区,将所述掩膜板中具有沿所述第二方向上外扩变形的掩膜条的区域识别为所述掩膜条变形区;
替换遮挡条,对第二遮挡条进行张网处理,用所述第二遮挡条替换所述掩膜条变形区中的至少部分所述第一遮挡条,并连接至所述上边框和所述下边框,使所述外扩变形掩膜条沿所述第二方向向内回缩。
2.根据权利要求1所述的修复方法,其特征在于,所述替换遮挡条的步骤中:
所述第二遮挡条以所述掩膜条变形区在所述第一方向上的中心线为对称轴对称分布。
3.根据权利要求1所述的修复方法,其特征在于,所述替换遮挡条的步骤中:
所述第二遮挡条位于所述掩膜条变形区在所述第一方向上的中心部位。
4.根据权利要求3所述的修复方法,其特征在于,所述替换遮挡条的步骤中:
至少两条所述第二遮挡条位于所述中心部位且在所述第一方向上连续间隙分布。
5.根据权利要求4所述的修复方法,其特征在于,所述替换遮挡条的步骤中:
使至少一条替换的掩膜条替换至少一条位于所述中心部位的所述掩膜条,且所述替换的掩膜条设置于所述中心部位处的相邻所述第二遮挡条之间。
6.根据权利要求1所述的修复方法,其特征在于,包括:
建立数据库,所述数据库包括所述掩膜条变形区中沿所述第二方向外扩变形的掩膜条的外扩变形量、所述第二遮挡条张网处理过程中对所述第二遮挡条施加的沿所述第二方向的拉力值和所述第二遮挡条的数量这三者之间的三维曲线。
7.根据权利要求6所述的修复方法,其特征在于,所述替换遮挡条的步骤中:
根据所述掩膜条变形区中沿所述第二方向外扩变形的掩膜条的外扩变形量通过所述数据库确定所述第二遮挡条的数量。
8.根据权利要求6所述的修复方法,其特征在于,所述替换遮挡条的步骤中:
根据所述掩膜条变形区中沿所述第二方向外扩变形的掩膜条的外扩变形量通过所述数据库确定所述第二遮挡条张网处理过程中对所述第二遮挡条施加的沿所述第二方向的拉力值。
9.根据权利要求1所述的修复方法,其特征在于,所述替换遮挡条的步骤中,
在所述第二遮挡条张网处理过程中控制对所述第二遮挡条施加的沿所述第二方向的拉力,
使所述第二遮挡条连接于所述上边框和所述下边框时,所述外扩变形的掩膜条沿所述第二方向向内回缩至在所述第二方向上不具有形变的状态。
10.根据权利要求1所述的修复方法,其特征在于,所述替换遮挡条的步骤中,
在所述第二遮挡条张网处理过程中控制对所述第二遮挡条施加的沿所述第二方向的拉力,使所述第二遮挡条连接于所述上边框和所述下边框时,
所述外扩变形的掩膜条沿所述第二方向向内回缩至在所述第二方向上不具有形变的状态,
且在所述掩膜条变形区中,从所述第二遮挡条向所述左边框方向间隙分布的所述掩膜条与从所述第二遮挡条向所述右边框方向间隙分布的所述掩膜条相向外凸变形。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011133646.9A CN112251715B (zh) | 2020-10-21 | 2020-10-21 | 掩膜板的修复方法 |
PCT/CN2021/109402 WO2022083209A1 (zh) | 2020-10-21 | 2021-07-29 | 掩膜板的修复方法 |
US18/152,285 US20230160053A1 (en) | 2020-10-21 | 2023-01-10 | Method for repairing mask plate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202011133646.9A CN112251715B (zh) | 2020-10-21 | 2020-10-21 | 掩膜板的修复方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN112251715A true CN112251715A (zh) | 2021-01-22 |
CN112251715B CN112251715B (zh) | 2022-06-24 |
Family
ID=74263261
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202011133646.9A Active CN112251715B (zh) | 2020-10-21 | 2020-10-21 | 掩膜板的修复方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230160053A1 (zh) |
CN (1) | CN112251715B (zh) |
WO (1) | WO2022083209A1 (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113206138A (zh) * | 2021-04-30 | 2021-08-03 | 上海天马有机发光显示技术有限公司 | 一种有机发光显示面板及装置、精密掩膜版及其制备方法 |
WO2022083209A1 (zh) * | 2020-10-21 | 2022-04-28 | 云谷(固安)科技有限公司 | 掩膜板的修复方法 |
CN114934254A (zh) * | 2022-05-24 | 2022-08-23 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版组件、掩膜版组件的制作方法及显示面板 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN206858643U (zh) * | 2017-06-13 | 2018-01-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸镀用掩膜板组件 |
CN207109081U (zh) * | 2017-08-31 | 2018-03-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩模板 |
US20180239241A1 (en) * | 2016-07-22 | 2018-08-23 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Mask and fabrication method thereof |
CN208632626U (zh) * | 2018-08-22 | 2019-03-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜板组件 |
US20190177831A1 (en) * | 2017-05-12 | 2019-06-13 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Fine mask support frame, fine mask, and method for fabricating the same |
CN109913809A (zh) * | 2019-04-30 | 2019-06-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜装置及一种蒸镀方法 |
CN110592529A (zh) * | 2019-10-30 | 2019-12-20 | 昆山国显光电有限公司 | 一种掩膜版框架 |
CN111733380A (zh) * | 2020-06-28 | 2020-10-02 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种掩膜版组件、张网方法及蒸镀装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7095226B2 (ja) * | 2017-03-31 | 2022-07-05 | 大日本印刷株式会社 | フレーム付き蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、および有機elディスプレイの製造方法 |
CN111270201B (zh) * | 2020-02-19 | 2022-06-17 | 昆山国显光电有限公司 | 掩膜版 |
CN112251715B (zh) * | 2020-10-21 | 2022-06-24 | 云谷(固安)科技有限公司 | 掩膜板的修复方法 |
-
2020
- 2020-10-21 CN CN202011133646.9A patent/CN112251715B/zh active Active
-
2021
- 2021-07-29 WO PCT/CN2021/109402 patent/WO2022083209A1/zh active Application Filing
-
2023
- 2023-01-10 US US18/152,285 patent/US20230160053A1/en active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20180239241A1 (en) * | 2016-07-22 | 2018-08-23 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Mask and fabrication method thereof |
US20190177831A1 (en) * | 2017-05-12 | 2019-06-13 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Fine mask support frame, fine mask, and method for fabricating the same |
CN206858643U (zh) * | 2017-06-13 | 2018-01-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸镀用掩膜板组件 |
CN207109081U (zh) * | 2017-08-31 | 2018-03-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩模板 |
CN208632626U (zh) * | 2018-08-22 | 2019-03-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜板组件 |
CN109913809A (zh) * | 2019-04-30 | 2019-06-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种掩膜装置及一种蒸镀方法 |
CN110592529A (zh) * | 2019-10-30 | 2019-12-20 | 昆山国显光电有限公司 | 一种掩膜版框架 |
CN111733380A (zh) * | 2020-06-28 | 2020-10-02 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种掩膜版组件、张网方法及蒸镀装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022083209A1 (zh) * | 2020-10-21 | 2022-04-28 | 云谷(固安)科技有限公司 | 掩膜板的修复方法 |
CN113206138A (zh) * | 2021-04-30 | 2021-08-03 | 上海天马有机发光显示技术有限公司 | 一种有机发光显示面板及装置、精密掩膜版及其制备方法 |
CN113206138B (zh) * | 2021-04-30 | 2024-04-12 | 武汉天马微电子有限公司 | 一种有机发光显示面板及装置、精密掩膜版及其制备方法 |
CN114934254A (zh) * | 2022-05-24 | 2022-08-23 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版组件、掩膜版组件的制作方法及显示面板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2022083209A1 (zh) | 2022-04-28 |
US20230160053A1 (en) | 2023-05-25 |
CN112251715B (zh) | 2022-06-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN112251715B (zh) | 掩膜板的修复方法 | |
CN106480404B (zh) | 一种掩膜集成框架及蒸镀装置 | |
US9605336B2 (en) | Mask, method for manufacturing the same and process device | |
CN205576262U (zh) | 一种掩膜板 | |
CN110396660B (zh) | 掩膜板及掩膜板制备方法 | |
CN107058946A (zh) | 精细掩膜板支撑框架、精细掩膜板及其制备方法 | |
KR20200011047A (ko) | 디스플레이 패널 및 이를 제조하기 위한 마스크 | |
CN112996944B (zh) | 掩模板及其制作方法、显示基板的制作方法 | |
CN204825028U (zh) | 掩膜板和显示基板蒸镀系统 | |
CN205556762U (zh) | 掩膜板、母板、掩膜板制造设备和显示基板蒸镀系统 | |
CN206279261U (zh) | 一种掩膜集成框架及蒸镀装置 | |
KR20220028173A (ko) | 증착 마스크의 제조 방법 및 긴 금속판 | |
CN104611669A (zh) | 一种掩膜板的制作方法 | |
CN110629156B (zh) | 一种掩膜板及其制备方法 | |
CN104561894A (zh) | 一种掩膜板的制造方法 | |
CN114032499A (zh) | 精密掩膜板和掩膜板 | |
CN112251716B (zh) | 掩膜板的制备方法及掩膜板 | |
WO2020077887A1 (zh) | 用于在基板上制作像素单元的掩膜结构以及掩膜制作方法 | |
CN109943805B (zh) | 掩膜组件组装方法及由该方法组装的掩膜组件 | |
CN113046686A (zh) | 掩膜板组件及蒸镀设备 | |
JP2020527748A (ja) | マスク及び表示パネル | |
CN111304585B (zh) | 掩膜版 | |
CN111593299A (zh) | 掩膜板及其制造方法 | |
CN108486528B (zh) | 一种掩膜板及其制作方法 | |
CN106019463A (zh) | 复合网点导光板及其制作方法、背光模块和液晶显示器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |