CN111733380A - 一种掩膜版组件、张网方法及蒸镀装置 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种掩膜版组件、张网方法及蒸镀装置。该掩膜版组件包括框架，支撑网，至少两块掩膜版，以及至少一个遮掩条，遮掩条的两端以一定的拉力固定连接在框架上，用于使框架产生预定的弹性形变，遮掩条设在两块相邻掩膜版之间的间隙处。本申请增加了至少一条遮掩条，只需要调整遮掩条的拉力就可以改善镀膜像素位置精度拉伸向整体尺寸精度，节约了掩膜版组件的制作成本。

Description

一种掩膜版组件、张网方法及蒸镀装置

技术领域

本申请涉及蒸镀技术领域，尤其涉及金属掩膜技术领域，具体涉及一种掩膜版组件、张网方法及蒸镀装置。

背景技术

真空蒸镀，是指在真空条件下采用加热蒸发的方式蒸发有机材料并使之气化，并在玻璃基板表面凝聚成膜的工艺方法。蒸镀使用的掩膜版组件(Mask Frame Assembly，MFA)必须要有非常高的像素位置精度(PPA)才能使镀膜结果准确。MFA的制作过程称之为张网，是将精细金属掩膜版(Fine Metal Mask，FMM)在框架上进行定位并将其固定在框架上的过程。张网时，由于张网机预先对框架施加的作用力与掩膜版对框架的拉力(TensionForce)不匹配的原因，会导致精细金属掩膜版(Fine Metal Mask，FMM)拉伸向整体尺寸精度(Total Pitch，TP)会变差，而镀膜的PPA像素位置精度结果也往往会与张网的PPA像素位置精度存在一定的偏差，拉伸向的内缩或者外扩是其中的一种常见形式。通过精细金属掩膜版的再加工(Rework)来改善镀膜像素位置精度(Depo PPA)拉伸向的内缩或者外扩，成本很高。

发明内容

有鉴于此，本申请提供了一种掩膜版组件、张网方法及蒸镀装置，以解决现有技术通过再加工精细金属掩膜版来改善镀膜像素位置精度拉伸向的内缩或者外扩成本很高的问题，本申请无需通过掩膜版的再加工来改善镀膜像素位置精度拉伸向的内缩或者外扩，只需要通过调整遮掩条的拉力(如替换成不同拉力的遮掩条)来调整框架所产生的预定弹性形变量，进而使框架对掩膜版的拉力与掩膜版对框架的拉力相匹配，从而改善镀膜像素位置精度拉伸向整体尺寸精度，使镀膜结果更加准确。

本申请提供一种掩膜版组件，包括：

框架；

支撑网，具有网格镂空结构，所述支撑网固定连接在所述框架上；

至少两块掩膜版，由所述支撑网支撑并固定连接在所述框架上；以及

至少一个遮掩条，所述遮掩条的两端以一定的拉力固定连接在所述框架上，用于使所述框架产生预定的弹性形变；

其中，所述遮掩条设在两块相邻所述掩膜版之间的间隙处；至少两块所述掩膜版之间的至少一个间隙是由所述支撑网与所述遮掩条共同遮挡。

在一些实施例中，当所述掩膜版数量为两块时，两块所述掩膜版之间的间隙由所述遮掩条和所述支撑网共同遮挡；当所述掩膜版数量多于两块时，所述遮掩条所在的间隙处由所述遮掩条和所述支撑网共同遮挡，其它相邻两块所述掩膜版之间的间隙由所述支撑网进行遮挡。

在一些实施例中，所述框架呈中空的方形环结构。

在一些实施例中，所述框架上设有凹槽，用于将所述支撑网嵌入固定连接在所述框架上。

在一些实施例中，所述支撑网一体成型。

在一些实施例中，所述支撑网包括多个第一支撑条和多个第二支撑条；所述第一支撑条和所述第二支撑条相互垂直固定连接成网格状镂空结构；所述第一支撑条用于遮挡两块相邻所述掩膜版之间的间隙；所述第二支撑条用于支撑所述掩膜版。

在一些实施例中，所述遮掩条的数量为三个。

本申请还提供了一种上述掩膜版组件的张网方法，包括以下步骤：

(1)将所述支撑网固定连接在所述框架上；

(2)将所述遮掩条的两端以一定的拉力固定连接在所述框架上，使所述框架产生预定的弹性形变；

(3)将所述掩膜版置于所述支撑网的上方使所述支撑网支撑所述掩膜版，并使所述遮掩条位于两块相邻的所述掩膜版之间的间隙处，定位好位置后将所述掩膜版的两端固定连接在所述框架上，并使至少两块所述掩膜版之间的至少一个间隙是由所述支撑网与所述遮掩条共同遮挡，获得预处理掩膜版组件；

(4)对所述预处理掩膜版组件进行镀膜像素位置精度的检测；以及

(5)根据检测结果调整所述遮掩条的拉力使框架的预定的弹性形变量，获得具有较高镀膜像素位置精度的掩膜版组件。

在一些实施例中，在步骤(5)中，所述调整的方式为将原拉力大小的遮掩条替换成另一拉力大小的遮掩条。

本申请还提供了一种蒸镀装置，该蒸镀装置包括上述掩膜版组件。

与现有技术相比，本申请增加了至少一条遮掩条，并使遮掩条的两端以一定的拉力固定连接在框架上来使框架产生预定的弹性形变，这样在调整掩膜版组件的镀膜像素位置精度时，无需通过掩膜版的再加工来改善镀膜像素位置精度拉伸向的内缩或者外扩，只需要调整遮掩条的拉力(如替换成不同拉力的遮掩条)就可以调整框架的预定弹性形变量，进而调整框架对掩膜版的拉力，使其与掩膜版对框架的拉力相匹配，从而实现了改善镀膜像素位置精度拉伸向整体尺寸精度，使镀膜结果更加准确，提升了镀膜的良率，并大大节省了精细金属掩膜版的消耗，降低了掩膜版组件的制作成本。

附图说明

下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。

图1为本申请实施例提供的掩膜版组件的俯视结构示意图。

图2为沿图1中A-A’方向的剖面示意图(省略框架)。

图3为本申请实施例中框架产生预定的弹性形变的示意图。

图4为本申请实施例中框架的结构示意图。

图5为本申请实施例中支撑网的结构示意图。

图6为本申请实施例中支撑网的另一结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本申请的不同结构。为了简化本申请的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本申请。此外，本申请可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本申请提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。

具体的，请参阅图1至图6，本申请实施例提供一种掩膜版组件，包括：

框架1；

支撑网2，具有网格镂空结构，所述支撑网2固定连接在所述框架1上；

至少两块掩膜版4，由所述支撑网2支撑并固定连接在所述框架1上；以及

至少一个遮掩条3，所述遮掩条3的两端以一定的拉力固定连接在所述框架1上，用于使所述框架1产生预定的弹性形变；

其中所述遮掩条3设在两块相邻所述掩膜版4之间的间隙处；至少两块所述掩膜版4之间的至少一个间隙是由所述支撑网2与所述遮掩条3共同遮挡。

本申请增加了至少一条遮掩条3，并使遮掩条3的两端以一定的拉力固定连接在框架1上来使框架1产生预定的弹性形变，这样在调整掩膜版组件的镀膜像素位置精度时，无需通过掩膜版4的再加工来改善镀膜像素位置精度拉伸向的内缩或者外扩，只需要调整遮掩条3的拉力(如替换成不同拉力的遮掩条3)就可以调整框架1的预定弹性形变量，进而调整框架1对掩膜版4的拉力，使其与掩膜版4对框架1的拉力相匹配，从而实现了改善镀膜像素位置精度拉伸向整体尺寸精度，使镀膜结果更加准确，提升了镀膜的良率，并大大节省了精细金属掩膜版4的消耗，降低了掩膜版组件的制作成本。

为降低蒸镀过程中掩膜版组件的热膨胀效应，所述框架1、所述支撑网2、所述掩膜版4以及所述遮掩条3倾向于选用热膨胀系数较小的材料，比如常用的INVAR36，称为不变钢。

本申请实施例中所述遮掩条3的数量至少为一条，例如可以为：一条、两条、三条、四条、五条、六条、七条、八条或更多，可以根据实际应用情况具体选择。出于使所述遮掩条3的更换调整操作更加方便的考虑，所述遮掩条3的数量可以选择一条至三条，可以在满足在能够使得所述框架1产生弹性形变的情况下尽量减少调整更换操作的工作量，其中所述遮掩条3的数量选择两条或三条可以相比于一条可以更容易使所述框架1产生并维持预定的弹性形变。

本申请实施例中所述掩膜版4的数量至少为两块，例如：两块、三块、四块、五块、六块或更多，可以根据实际应用情况具体选择。

请参考图1和图2所示，图1中以所述遮掩条3数量为三条、所述掩膜版4的数量为八块为例进行举例说明，需要说明的是，本实施例并非用以限制本申请，在实际应用过程中可以根据实际情况进行调整数量，另外，图1中未体现出所述框架1的预定的弹性形变，所述框架1的预定的弹性形变具体请参考图3所示，图2中省略所述框架1部分，仅为举例所述遮掩条3与所述掩膜版4及所述支撑网2的第一支撑条21之间的位置关系。图1中三条所述遮掩条3的两端固定连接在所述框架1上，固定连接的方式可以选择如焊接。所述掩膜版4的两端固定连接在所述框架1上，固定连接的方式可以选择如焊接，所述掩膜版4上具有与待镀膜的膜层图案相对应的图案。如图1和图2所示，所述遮掩条3设置在两块相邻所述掩膜版4之间的间隙处，每条所述遮掩条3所在的间隙处由所述遮掩条3和所述支撑网2的第一支撑条21共同遮挡，其他相邻两块所述掩膜版4之间的间隙由所述支撑网2的第一支撑条21进行遮挡。图1中所述遮掩条3与所述支撑网2的第一支撑条21采用间隔设置的方式，其并非用以限制所述遮掩条3的具体排布方式仅作举例说明，在实际应用过程中可以根据具体情况进行调整。

请参考图3所示，在本申请实施例中所述遮掩条3的两端固定连接在所述框架1上，固定连接方式可以选择如焊接。并且所述遮掩条3的两端在固定连接时对所述框架1施加一定的拉力，拉力方向如图3中箭头所示，进而使所述框架1产生如图3中箭头所示方向的预定的弹性形变。

请参考图5所示，所述支撑网2包括第一支撑条21和第二支撑条22，所述第一支撑条21和所述第二支撑条22相互交叉设置构成网格状镂空结构。其中交叉设置优选为垂直交叉。图中所述第二支撑条22用于支撑所述掩膜版4，所述第一支撑条21用于遮挡两块相邻所述掩膜版4之间的间隙。请结合图1所示，所述第二支撑条22的位置选择设置在所述掩膜版4的无效掩膜区，可以防止影响有效掩膜区的蒸镀。所述支撑网2在每个所述遮掩条3的下方设置两条所述第一支撑条21，用于与所述遮掩条3共同遮挡相邻所述掩膜版4之间的间隙。采用在所述遮掩条3的下方设置两条所述第一支撑条21、并使它们的宽度小于其它没有设置所述遮掩条3处的所述第一支撑条21的宽度，这样可以更加方便和利于所述遮掩条3固定连接在所述框架1上。

本申请实施例中所述遮掩条3的作用有三方面：一方面为了使所述框架1产生预定的弹性形变，使得掩膜版组件的镀膜位置精度更加准确；另一方面是为了在对掩膜版组件进行张网的过程中，方便通过调整所述遮掩条3对所述框架1施加的拉力，进而方便调整掩膜版组件的镀膜位置精度，使制作成本更低；第三方面是也起到了一定的遮挡作用，与所述支撑网2的第一支撑条21一起配合遮挡所述掩膜版4之间的间隙，以避免在蒸镀过程中，蒸镀材料会透过相邻的所述掩膜版4之间的缝隙蒸镀至背板上。

请参考图1和图2，在本申请的一些实施例中，当所述掩膜版4数量多于两块时，所述遮掩条3所在的间隙处由所述遮掩条3和所述支撑网2(第一支撑条21)共同遮挡，其它相邻两块所述掩膜版4之间的间隙由所述支撑网2(第一支撑条21)进行遮挡；当所述掩膜版4数量为两块时，两块所述掩膜版4之间的间隙由所述遮掩条3和所述支撑网2(第一支撑条21)共同遮挡。

请参考图4所示，在本申请的一些实施例中，所述框架1呈中空的方形环结构。中部设置成中空以方便镀膜，在实际应用过程中也可以根据具体情况对所述框架1的形状进行调整。

请参考图4所示，在本申请的一些实施例中，所述框架1上设有凹槽11，用于将所述支撑网2嵌入固定连接在所述框架1上。所述凹槽11的数量和形状需要根据所采用的所述支撑网2的具体结构进行设置。如图4所示所述凹槽11为长方体形，图4中所述凹槽11的数量和形状仅作示意，未与其他附图中所述支撑网2的第一支撑条21和第二支撑条22的数量相对应。所述凹槽11的形状还可以为如圆柱形凹槽。

请参考图6所示，在本申请的一些实施例中，所述支撑网2一体成型，例如由整张金属板(如INVAR合金)一体制作成型的网格镂空结构，一体成型的所述支撑网2上的网格大小可以根据实际应用情况进行设置，使其与固定在所述框架1上的所述掩膜版4以及所述遮掩条3位置相对应即可。

在本申请的一些实施例中，所述遮掩条3可以选择均匀的排布在所述框架1上。当所述遮掩条3的数量为一条时，可以设置在所述框架1的中部。当所述遮掩条3的数量为两条时，两条所述遮掩条3可以分别设置在所述框架1的边框的三分之一处和三分之二处。当所述遮掩条3的数量为三条时，可以分别设置在所述框架1的边框的四分之一处、四分之二处和四分之三处。更多数量的情况依次类推，此处不作赘述。

本申请实施例还提供了一种所述掩膜版组件的张网方法，包括以下步骤：

(1)将所述支撑网2固定连接在所述框架1上；

(2)将所述遮掩条3的两端以一定的拉力固定连接在所述框架1上，使所述框架1产生预定的弹性形变；

(3)将所述掩膜版4置于所述支撑网2的上方使所述支撑网2支撑所述掩膜版4，并使所述遮掩条3位于两块相邻的所述掩膜版4之间的间隙处，定位好位置后将所述掩膜版4的两端固定连接在所述框架1上，并使至少两块所述掩膜版4之间的至少一个间隙是由所述支撑网2与所述遮掩条3共同遮挡，获得预处理掩膜版组件；

(4)对所述预处理掩膜版组件进行镀膜像素位置精度的检测；

(5)根据检测结果调整所述遮掩条3的拉力使框架1的预定的弹性形变量，获得具有较高镀膜像素位置精度的掩膜版组件。

在本申请的一些实施例中，在步骤(5)中，所述调整的方式为将原拉力大小的遮掩条3替换成另一拉力大小的遮掩条3。

在本申请的一些实施例中，在步骤(3)中，当所述掩膜版4数量多于两块时，所述遮掩条3所在的间隙处由所述遮掩条3和所述支撑网2(第一支撑条21)共同遮挡，其它相邻两块所述掩膜版4之间的间隙由所述支撑网2(第一支撑条21)进行遮挡；当所述掩膜版4数量为两块时，两块所述掩膜版4之间的间隙由所述遮掩条3和所述支撑网2(第一支撑条21)共同遮挡。

在本申请的一些实施例中，在步骤(1)至步骤(3)中，所述固定连接的方式可以为焊接。

本申请实施例中还提供了一种蒸镀装置，该蒸镀装置包括上述任意一种所述掩膜版组件。需要说明的是，该蒸镀装置实施例中仅描述了上述结构，有些必要的现有技术结构未进行详细描述，可以理解的是，除了上述结构之外，本发明实施例蒸镀装置中，还可以根据需要包括任何其他的结构。

在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

以上对本申请实施例进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。

Claims (10)

1.一种掩膜版组件，其特征在于，所述掩膜版组件包括：

框架；

支撑网，具有网格镂空结构，所述支撑网固定连接在所述框架上；

至少两块掩膜版，由所述支撑网支撑并固定连接在所述框架上；以及

至少一个遮掩条，所述遮掩条的两端以一定的拉力固定连接在所述框架上，用于使所述框架产生预定的弹性形变；

其中，所述遮掩条设在两块相邻所述掩膜版之间的间隙处；至少两块所述掩膜版之间的至少一个间隙是由所述支撑网与所述遮掩条共同遮挡。

2.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，当所述掩膜版数量为两块时，两块所述掩膜版之间的间隙由所述遮掩条和所述支撑网共同遮挡；当所述掩膜版数量多于两块时，所述遮掩条所在的间隙处由所述遮掩条和所述支撑网共同遮挡，其它相邻两块所述掩膜版之间的间隙由所述支撑网进行遮挡。

3.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述框架呈中空的方形环结构。

4.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述框架上设有凹槽，用于将所述支撑网嵌入固定连接在所述框架上。

5.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述支撑网一体成型。

6.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述支撑网包括多个第一支撑条和多个第二支撑条；所述第一支撑条和所述第二支撑条相互垂直固定连接成网格状镂空结构；所述第一支撑条用于遮挡两块相邻所述掩膜版之间的间隙；所述第二支撑条用于支撑所述掩膜版。

7.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述遮掩条的数量为三个。

8.一种权利要求1所述掩膜版组件的张网方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将所述支撑网固定连接在所述框架上；

(2)将所述遮掩条的两端以一定的拉力固定连接在所述框架上，使所述框架产生预定的弹性形变；

(3)将所述掩膜版置于所述支撑网的上方使所述支撑网支撑所述掩膜版，并使所述遮掩条位于两块相邻的所述掩膜版之间的间隙处，定位好位置后将所述掩膜版的两端固定连接在所述框架上，并使至少两块所述掩膜版之间的至少一个间隙是由所述支撑网与所述遮掩条共同遮挡，获得预处理掩膜版组件；

(4)对所述预处理掩膜版组件进行镀膜像素位置精度的检测；以及

(5)根据检测结果调整所述遮掩条的拉力使框架的预定的弹性形变量，获得具有较高镀膜像素位置精度的掩膜版组件。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在步骤(5)中，所述调整的方式为将原拉力大小的遮掩条替换成另一拉力大小的遮掩条。

10.一种蒸镀装置，其特征在于，包括权利要求1所述掩膜版组件。

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