CN112157544B - 玻璃制作方法、玻璃及电子设备 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供了一种玻璃制作方法、玻璃及电子设备。该方法包括：提供砂带和玻璃基板；通过砂带研磨玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃，目标纹理包括若干凹槽，每个凹槽的高度范围为0.03‑0.1毫米，每个凹槽的宽度范围为0.05‑0.15毫米。使得玻璃基板上形成的目标纹理不易变形，并且具有较好的质感和触感。

Description

玻璃制作方法、玻璃及电子设备

技术领域

本申请涉及通信技术领域，具体涉及一种玻璃制作方法、玻璃及电子设备。

背景技术

玻璃材料具有良好的透视、透光性能等，作为电子设备的外观材料等，应用广泛。

目前，在玻璃基板上表面蚀刻或激光镭雕目标纹理，得到具有目标纹理的玻璃，以提供不同于光面的质感和触感。

在实现本申请过程中，发明人发现相关技术中至少存在如下问题：上述目标纹理容易扭曲变形，使得最终成型的玻璃上的目标纹理质感和触感变差。

申请内容

本申请实施例提供了一种玻璃制作方法，以解决相关技术中目标纹理容易扭曲变形，使得最终成型的玻璃上的目标纹理质感和触感变差的问题。

为了解决上述技术问题，本申请是这样实现的：

第一方面，本申请实施例提供了一种玻璃制作方法，所述方法包括：

提供砂带和玻璃基板；

通过所述砂带研磨所述玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃，所述目标纹理包括若干凹槽，每个所述凹槽的高度范围为0.03-0.1毫米，每个所述凹槽的宽度范围为0.05-0.15毫米。

第二方面，本申请实施例提供了一种玻璃，所述玻璃通过上述第一方面中所述的玻璃制作方法制成，且所述玻璃的至少一个表面具有目标纹理，所述目标纹理包括若干凹槽，所述凹槽的高度范围为0.03-0.1毫米，每个所述凹槽的宽度范围为0.05-0.15毫米。

第三方面，本申请实施例提供了一种电子设备，所述电子设备包括是上述第二方面中所述的玻璃。

在本申请实施例中，通过提供砂带和玻璃基板；通过砂带研磨玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃，目标纹理包括若干凹槽，每个凹槽的高度范围为0.03-0.1毫米，每个凹槽的宽度范围为0.05-0.15毫米。使得玻璃基板上形成的目标纹理不易变形，并且具有较好的质感和触感。

附图说明

图1表示本申请实施例提供的一种玻璃制作方法的流程图；

图2表示本申请实施例提供的一种玻璃基板的示意图；

图3表示本申请实施例提供的一种砂带和玻璃基板固定在第一转盘和第二转盘的示意图之一；

图4表示本申请实施例提供的一种砂带和玻璃基板固定在第一转盘和第二转盘的示意图之二；

图5表示本申请实施例提供的一种砂带和玻璃基板固定在第一转盘和第二转盘的示意图之三；

图6表示本申请实施例提供的一种玻璃的示意图；

图7表示本申请实施例提供的另一种玻璃的示意图；

图8表示本申请实施例提供的另一种玻璃的示意图；

图9表示本申请实施例提供的一种砂带与玻璃基板之间存在间距的示意图之一；

图10表示本申请实施例提供的一种砂带与玻璃基板之间存在间距的示意图之二；

图11本申请实施例提供的一种砂带研磨之后玻璃基板上形成纹理的示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

应理解，说明书通篇中提到的“一个实施例”或“一实施例”意味着与实施例有关的特定特征、结构或特性包括在本申请的至少一个实施例中。因此，在整个说明书各处出现的“在一个实施例中”或“在一实施例中”未必一定指相同的实施例。此外，这些特定的特征、结构或特性可以任意适合的方式结合在一个或多个实施例中。

参照图1，示出了本申请实施例提供的一种玻璃制作方法的流程图。如图1所示，该方法包括：

步骤101：提供砂带和玻璃基板。

由于砂带的目数不同，砂带上砂子的粗细程度不同，即砂带的目数表示砂带上砂子的粗细程度。在通过砂带研磨玻璃基板时，砂带的目数过大，会对玻璃基板造成损伤，砂带的目数太小，砂带研磨玻璃基板之后，在玻璃基板上形成的纹理不明显，因此，在通过砂带研磨玻璃基板之前，先要选择合适的砂带。

其中，在本申请实施例中，砂带可以为1000-2000目的砂带。例如，可以使用1500目的砂带。

另外，玻璃基板可以为未进行强化的玻璃基板。由于强化之后的玻璃基板表面存在强化层，使得对玻璃基板进行加工的难度较大，因此，需要选择未进行强化的玻璃基板。

步骤102：通过砂带研磨玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃。

其中，目标纹理包括若干凹槽，每个凹槽的高度范围为0.03-0.1毫米，每个凹槽的宽度范围为0.05-0.15毫米。

在相关技术中，通过表面蚀刻或者镭雕在玻璃基板上形成纹理，表面蚀刻是通过在玻璃基板的表面放置化学药品，通过化学药品将玻璃基板腐蚀，进行形成纹理。镭雕是通过激光照射在玻璃基板的表面，从而形成纹理。无论表面蚀刻还是镭雕时，均容易对玻璃造成额外损伤，并且纹理的深度和高度不容易控制，形成的纹理容易变形。而在本申请实施例中，在砂带的目数确定之后，砂带上砂子的粒径便确定了，在通过砂带研磨玻璃基板时，砂带上的砂子与玻璃基板的表面接触，并且砂子对玻璃基板的表面研磨。由于砂子的粒径确定，因此，研磨之后形成的凹槽的高度和深度容易控制，并且形成的凹槽的高度范围可以为0.03-1毫米，宽度范围可以为0.05-0.15毫米，使得目标纹理不易变形。

需要说明的是，凹槽的高度指的凹槽沿玻璃基板的厚度方向延伸时，凹槽的底部与顶部之间的距离。凹槽的宽度指的是凹槽在玻璃基板的表面上两个侧壁之间的距离。例如，参照图2，示出了本申请实施例提供的一种玻璃基板的示意图，如图2所示，凹槽的高度为A，凹槽的宽度为B。

另外，在一些实施例中，步骤102的实现方式可以为：将砂带固定在机械设备的第一转盘的第一表面。将玻璃基板固定在机械设备的第二转盘的第二表面，第一转盘和第二转盘位置相对，第一表面与第二表面相邻。旋转第一转盘和第二转盘中的至少一个，以使砂带研磨玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃。

其中，将玻璃基板固定在机械设备的第二转盘的第二表面的固定方式可以为：第二转盘的第二表面可以设置有酚醛塑料形成的保护盒，保护盒的尺寸与玻璃基板的尺寸相同，将玻璃基板放置在保护盒中。由于保护盒可以固定在第二表面，在将玻璃基板放置在保护盒中，可以使得保护盒对玻璃基板起到固定作用，使得玻璃基板固定在第二转盘的第二表面。另外，保护盒还可以对玻璃基板起到保护作用，使得玻璃基板不容易破碎。需要说明的是，酚醛塑料还可以称为电木。

另外，在将砂带固定在第一转盘转盘的第一表面，将玻璃基板固定在第二转盘的第二表面时，为了使得砂带研磨玻璃基板时，形成不同方向的纹理，砂带可以沿第一方向固定在第一转盘的第一表面，玻璃基板可以沿第二方向固定在第一转盘的第一表面，其中，第一方向和第二方向之间存在夹角。夹角的范围为0-180度。

例如，参照图3，示出了本申请实施例提供的一种砂带和玻璃基板固定在第一转盘和第二转盘的示意图之一。参照图4，示出了本申请实施例提供的一种砂带和玻璃基板固定在第一转盘和第二转盘的示意图之二。参照图5，示出了本申请实施例提供的一种砂带和玻璃基板固定在第一转盘和第二转盘的示意图之三。如图3所示，将砂带沿第一方向X固定在机械设备的第一转盘的第一表面，将玻璃基板沿第二方向Y固定在第二转盘的第二表面。第一方向X与第二方向Y之间的夹角为180度，砂带在玻璃基板上形成的纹理可以沿着玻璃基板的长边方向Z延伸。如图4所示，将砂带沿第一方向X固定在机械设备的第一转盘的第一表面，将玻璃基板沿第二方向Y固定在第二转盘的第二表面。第一方向X与第二方向Y之间的夹角为90度，砂带在玻璃基板上形成的纹理可以垂直于玻璃基板的长边方向Z。如图5所示，将砂带沿第一方向X固定在机械设备的第一转盘的第一表面，将玻璃基板沿第二方向Y固定在第二转盘的第二表面。第一方向X与第二方向Y之间的夹角为30度，砂带在玻璃基板上形成的纹理的延伸方向可以与玻璃基板的长边方向Z之间存在30度的夹角。

需要说明的是，参照图6，示出了本申请实施例提供的一种玻璃的示意图，参照图7，示出了本申请实施例提供的另一种玻璃的示意图，参照图8，示出了本申请实施例提供的另一种玻璃的示意图。如图6、图7和图8所示，第一方向与第二方向之间的夹角可以根据需要形成的纹理的方向调整，即当第一方向，即砂带的固定方向确定之后，可以调整第二方向，即玻璃基板的固定方向，使得第一方向与第二方向之间的夹角变化，进而使得玻璃基板上的纹理的延伸方向与玻璃基板的长边方向之间的夹角变化，使得形成多方向的纹理，使得加工的玻璃的美观性更好。

还需说明的是，在第一转盘的第一表面固定砂带时，砂带可以沿着第一转盘的圆周方向固定在第一表面。

另外，在本申请实施例中，玻璃基板可以包括相对的第一面和第二面，在将玻璃基板固定在第二转盘的第二表面时，可以使得第二面朝向第二转盘的第二表面，第一面朝向第一转盘的第一表面，从而可以在第一面形成纹理。当需要在玻璃基板的第一面和第二面上均形成纹理时，在第一面形成纹理之后，可以重新在第二转盘的第二表面固定玻璃基板，使得玻璃基板的第二面朝向第一转盘的第一表面，玻璃基板的第一面朝向第二转盘的第二表面。

另外，在一些实施例中，旋转第一转盘和第二转盘中的一个，以使砂带研磨玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃的实现方式可以为：调整第一转盘与第二转盘的间距，以使砂带以及玻璃基板的厚度之和，与间距之间的差值处于差值范围内，向第一转盘和第二转盘中的至少一个施加预设压力，旋转第一转盘和第二转盘中的至少一个，以使砂带研磨玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃。

其中，第一转盘和第二转盘的间距指的是第一转盘的第一表面与第二转盘的表面之间的距离。当调整第一转盘和第二转盘的间距，且砂带以及玻璃基板的厚度之和，与间距之间的差值处于差值范围内时，在第一转盘，和/或，第二转盘旋转的过程中，砂带可以与玻璃基板的表面接触，从而使得砂带可以在玻璃基板的表面研磨，使得玻璃基板的表面形成纹理。

另外，砂带以及玻璃基板的厚度之和，与间距之间的差值指的是砂带以及玻璃基板的厚度之和减去间距的差值。此时，表明砂带以及玻璃基板的厚度之和大于间距。

需要说明的是，差值范围可以根据实际需要确定，例如，差值范围可以为0.01-0.1毫米。

例如，参照图9，示出了本申请实施例提供的一种砂带与玻璃基板之间存在间距的示意图之一，参照图10，示出了本申请实施例提供的一种砂带与玻璃基板之间存在间距的示意图之二，参照图11，示出了本申请实施例提供的一种砂带研磨之后玻璃基板上形成纹理的示意图。如图9、图10和图11所示，在调整第一转盘和第二转盘的间距之后，砂带10可以与玻璃基板20的表面接触，从而在第一转盘，和/或，第二转盘旋转之后，砂带10能够研磨玻璃基板20，在玻璃基板20上形成纹理。

另外，可以向第一转盘和第二转盘中的至少一个施加预设压力，使得第一转盘和第二转盘中的至少一个在旋转的过程中，第一转盘和第二转盘中的至少一个可以带压旋转，便于砂带在玻璃基板上研磨使得玻璃基板上形成纹理。

其中，可以向第一转盘施加预设压力，不对第二转盘施加预设压力，此时，第一转盘可以带压旋转。还可以向第二转盘施加预设压力，不对第一转盘施加预设压力，此时，第二转盘可以带压旋转。还可以向第一转盘和第二转盘均施加预设压力，使得第一转盘和第二转盘均带压旋转。

需要说明的是，预设压力可以根据实际需要确定，并且，预设压力还可以根据机械设备的规格确定。此时，可以按照机械设备与预设压力之间的对应关系确定预设压力值。

机械设备与预设压力之间的对应关系可以为：一个机械设备的规格对应一个预设压力值。例如，当机械设备的规格为第一规格时，对应的预设压力值为9兆帕，当机械设备的规格为第二规格时，对应的预设压力值为15兆帕。

另外，在旋转第一转盘和第二转盘中的至少一个，以使砂带研磨玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃时，可以旋转第一转盘，第二转盘静止，还可以旋转第二转盘，第一转盘静止，还可以同时旋转第一转盘和第二转盘，使得第一转盘和第二转盘均旋转。当同时旋转第一转盘和第二转盘时，为了使得砂带可以更好的研磨玻璃基板，第一转盘的旋转方向可以与第二转盘的旋转方向相反。当然，第一转盘的旋转方向还可以与第二转盘的第二转盘的旋转方向相同，本申请实施例在此不做限定。

其中，当旋转第一转盘，第二转盘静止时，此时，相当于玻璃基板处于静止状态，砂带处于旋转运动状态，旋转的砂带可以玻璃基板上研磨，使得玻璃基板上形成纹理。当旋转第二转盘，第一转盘静止时，此时，相当于砂带处于静止状态，玻璃基板处于旋转运动状态，旋转的玻璃基板可以被砂带研磨，使得玻璃基板上形成纹理。当同时旋转第一转盘和第二转盘，且第一转盘和第二转盘的旋转方向相反时，此时，相当于砂带和玻璃基板同时处于旋转运动状态，更加便于在砂带研磨玻璃基板，使得玻璃基板上形成纹理。

另外，当旋转一转盘和第二转盘中的至少一个，以使砂带研磨玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃时，可以使得第一转盘和第二转盘中的至少一个的转速处于预设转速范围内。其中，预设转速范围可以根据实际需要确定，例如，预设转速范围可以为30-100转/分钟。

当第一转盘和第二转盘中的至少一个的转速过大时，砂带在玻璃基板上研磨时，砂带与玻璃基板的接触时间较短，形成的纹理的深度可能较小，不利于在玻璃基板上形成目标纹理。当第一转盘和第二转盘中的至少一个的转速过小时，砂带在玻璃基板上研磨时，由于转速较小，使得砂带难以研磨玻璃基板，并且在研磨的过程中，砂带与玻璃基板的基础时间较长，容易对玻璃基板造成损伤。因此，在本申请实施例中，第一转盘和第二转盘中的至少一个的转速处于预设转速范围内。

在本申请实施例中，通过调整第一转盘与第二转盘的间距，以使砂带以及玻璃基板的厚度之和，与间距之间的差值处于差值范围内，向第一转盘和第二转盘中的至少一个施加预设压力，旋转第一转盘和第二转盘中的至少一个，以使砂带研磨玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃，可以便于砂带研磨玻璃基板的表面，并且可以使得砂带能够更好的研磨玻璃基板，使得可以在玻璃基板的表面形成目标纹理，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃，

另外，在本申请实施例中，为了提高玻璃的加工效率，还可以设定预设时间范围，即第一转盘和第二转盘中的至少一个的旋转时间均处于预设时间范围，从而可以使得在预设时间范围内，砂带便可以在玻璃基板上研磨处目标纹理。其中，预设时间范围可以根据实验确定，还可以根据实际需求确定。例如，预设时间范围可以为20-50秒。当然，预设时间范围还可以为其它数值范围，本申请实施例在此不做限定。

另外，在本申请实施例中，为了便于砂带研磨玻璃基板，在一些实施例中，在旋转第一转盘和第二转盘中的至少一个，以使砂带研磨玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃之前，本申请实施例提供的玻璃制作方法还可以包括：向玻璃基板上喷洒研磨剂。

此时，在通过砂带研磨玻璃基板时，向玻璃基板上喷洒研磨剂，研磨剂可以有助于砂带研磨玻璃基板，便于玻璃基板上形成纹理。并且，在玻璃基板上喷洒研磨剂，还可以使得在砂带研磨玻璃基板的过程中，研磨起到冲刷作用，使得砂带研磨玻璃基板之后形成的残渣被研磨剂冲走，便于砂带研磨玻璃基板。另外，在研磨的过程中，砂带上还可能产生热量，此时，喷洒研磨剂，还可以有助于砂带降温。

需要说明的是，研磨剂可以为含氧化铈的研磨剂。当然，研磨剂还可以为其它类型的研磨剂，本申请实施例在此不做限定。另外，研磨剂可以为液态研磨剂。

另外，在本申请实施例中，在步骤102之后，本申请实施例提供的玻璃加工方法还可以包括：对玻璃进行清洗。

由于在通过砂带研磨玻璃基板之后，玻璃基板上可能由于研磨形成细小的残渣，并且，还可能存在其他杂质，这些杂质可能位于目标纹理中，对目标纹理造成影响，因此，需要对玻璃进行清洗。

在一些实施例中，对玻璃进行清洗的实现方式可以为：将玻璃放置在清洗槽内，按照预设顺序，向清洗槽内添加清洗剂，清洗玻璃，清洗剂包括：酸性清洗剂、碱性清洗剂、中性清洗剂以及清水。

需要说明的是，预设顺序可以为添加清洗剂的顺序。由于不同的清洗剂，对玻璃上的杂质清洗效果不同，因此，在对玻璃清洗时，需要按照预设顺序添加清洗剂。

另外，在清洗剂包括酸性清洗剂、碱性清洗剂、中性清洗剂以及清水的情况下，预设顺序可以为酸性清洗剂、碱性清洗剂、中性清洗剂、清水，预设顺序还可以为碱性清洗剂、酸性清洗剂、中性清洗剂、清水，当然，预设顺序还可以为中性清洗剂、酸性清洗剂、碱性清洗剂、中性清洗剂、清水。本申请实施例在此不做限定。

由于玻璃中可能含有碱性杂质和酸性杂质，因此，需要酸性清洗剂和碱性清洗剂对玻璃进行清洗。

需要说明的是，酸性清洗剂的PH可以为5，当然，酸性清洗剂的PH还可以为其它数值，比如6，本申请实施例在此不做限定。另外，碱性清洗剂的PH可以为9，当然，碱性清洗剂的PH还可以为其它数值，比如8，本申请实施例在此不做限定。另外，在本申请实施例中，酸性清洗剂可以为柠檬酸。

另外，在本申请实施例中，为了使得清洗的效果较好，按照预设顺序向清洗槽内添加清洗剂时，每种类型的清洗剂可以按照预设时间对玻璃进行清洗。需要说明的是，预设时间可以按照实际需要确定，例如，预设时间可以为90秒。当然，每种类型的清洗剂的清洗时间可以不同。例如，酸性清洗剂的清洗时间可以为第一时间，碱性清洗剂的清洗时间可以为第二时间，第一时间与第二时间不同。

例如，当添加酸性清洗剂时，酸性清洗剂的清洗时间可以为90秒。之后，在添加碱性清洗剂时，碱性清洗剂的清洗时间为90秒。当添加酸性清洗剂时，酸性清洗剂的清洗时间可以为90秒，之后，添加碱性清洗剂时，碱性清洗剂的清洗时间为80秒。

另外，在本申请实施例中，步骤102之后，本申请实施例提供的玻璃加工方法还可以包括：对玻璃进行强化处理。

当对玻璃进行强化处理时，可以提高玻璃的强度，避免玻璃容易破碎的问题出现。

在一些实施例中，对玻璃进行强化处理的实现方式可以为：将高温熔盐液加温至预设温度，得到强化液，预设温度为700-800摄氏度，高温熔盐液为包含钾离子的熔盐液；将玻璃在强化液中浸泡预设时间，对玻璃进行强化处理，预设时间为8小时。

通常玻璃中含有钠离子，在将玻璃在强化液中浸泡预设时间时，由于高温熔盐液的温度为预设温度，因此，玻璃中的钠离子与高温熔盐液中的钾离能够在高温熔盐液中扩散。由于钠离子与钾离子相互扩散，使得玻璃表面形成“挤塞”现象，即钠离子从玻璃表面离开，钾离子进入玻璃表面，此时，玻璃表面会产生压缩应力，从而可以提高玻璃的强度。

需要说明的是，高温熔盐液可以为硝酸钾，当然，高温熔盐液还可以为其它包含钾离子的熔盐液，例如，氯化钾，本申请实施例在此不做限定。

另外，在本申请实施例中，在通过砂带研磨玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃之后，可以先执行对玻璃进行清洗的步骤，再执行对玻璃进行强化的步骤。当然，还可以先执行对玻璃进行强化的步骤，再执行对玻璃进行清洗的步骤。本申请实施例在此不做限定。

在本申请实施例中，通过提供砂带和玻璃基板；通过砂带研磨玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃，目标纹理包括若干凹槽，每个凹槽的高度范围为0.03-0.1毫米，每个凹槽的宽度范围为0.05-0.15毫米。使得玻璃基板上形成的目标纹理不易变形，并且具有较好的质感和触感。

需要说明的是，本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。

尽管已描述了本申请实施例的可选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例做出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括可选实施例以及落入本申请实施例范围的所有变更和修改。

最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体与另一个实体区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的物品或者终端设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种物品或者终端设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括要素的物品或者终端设备中还存在另外的相同要素。

以上对本申请所提供的技术方案进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，同时，对于本领域的一般技术人员，依据本申请的原理及实现方式，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上，本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims (9)

1.一种玻璃制作方法，其特征在于，所述方法包括：

提供砂带和玻璃基板；

通过所述砂带研磨所述玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃，所述目标纹理包括若干凹槽，每个所述凹槽的高度范围为0.03-0.1毫米，每个所述凹槽的宽度范围为0.05-0.15毫米；

所述通过所述砂带研磨所述玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃，包括：

将所述砂带沿着第一方向固定在机械设备的第一转盘的第一表面；

将所述玻璃基板沿着第二方向固定在所述机械设备的第二转盘的第二表面，所述第一转盘和所述第二转盘位置相对，所述第一表面与所述第二表面相邻；

旋转所述第一转盘和所述第二转盘中的至少一个，以使所述砂带研磨所述玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃；

其中，所述第一方向和第二方向之间存在夹角；第一方向与第二方向之间的夹角根据需要形成的纹理的方向调整，使得玻璃基板上的纹理的延伸方向与玻璃基板的长边方向之间的夹角变化，使得形成多方向的纹理。

2.根据权利要求1所述的玻璃制作方法，其特征在于，所述旋转所述第一转盘和所述第二转盘中的至少一个，以使所述砂带研磨所述玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃，包括：

调整所述第一转盘与所述第二转盘的间距，以使所述砂带以及所述玻璃基板的厚度之和，与所述间距之间的差值处于差值范围内；

向所述第一转盘和所述第二转盘中的至少一个施加预设压力；

旋转所述第一转盘和所述第二转盘中的至少一个，以使所述砂带研磨所述玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃。

3.根据权利要求1所述的玻璃制作方法，其特征在于，在所述旋转所述第一转盘和所述第二转盘中的至少一个，以使所述砂带研磨所述玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃之前，所述方法还包括：

向所述玻璃基板上喷洒研磨剂。

4.根据权利要求1所述的玻璃制作方法，其特征在于，在所述通过所述砂带研磨所述玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃之后，所述方法还包括：

对所述玻璃进行清洗。

5.根据权利要求4所述的玻璃制作方法，其特征在于，所述对所述玻璃进行清洗，包括：

将所述玻璃放置在清洗槽内；

按照预设顺序，向所述清洗槽内添加清洗剂，清洗所述玻璃，所述清洗剂包括：酸性清洗剂、碱性清洗剂、中性清洗剂以及清水。

6.根据权利要求1所述的玻璃制作方法，其特征在于，在所述通过所述砂带研磨所述玻璃基板，得到至少一个表面具有目标纹理的玻璃之后，所述方法还包括：

对所述玻璃进行强化处理。

7.根据权利要求6所述的玻璃制作方法，其特征在于，所述对所述玻璃进行强化处理，包括：

将高温熔盐液加温至预设温度，得到强化液，所述预设温度为700-800摄氏度，所述高温熔盐液为包含钾离子的熔盐液；

将所述玻璃在所述强化液中浸泡预设时间，对所述玻璃进行强化处理，所述预设时间为8小时。

8.一种玻璃，其特征在于，所述玻璃通过根据权利要求1-7中任一项所述的玻璃制作方法制成，且所述玻璃的至少一个表面具有目标纹理，所述目标纹理包括若干凹槽，所述凹槽的高度范围为0.03-0.1毫米，每个所述凹槽的宽度范围为0.05-0.15毫米。

9.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括权利要求8所述的玻璃。

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