CN112020422A - 电磁波透过性金属光泽物品、及装饰构件 - Google Patents

Abstract

本发明涉及电磁波透过性金属光泽物品(1)以及装饰构件，所述电磁波透过性金属光泽物品(1)具备：基体(10)、在前述基体(10)上形成的金属层(12)、和光学调整层(13)，前述金属层(12)包含多个部分(12a)，所述多个部分(12a)中，至少一部分处于彼此不连续的状态，前述光学调整层(13)包含至少1层折射率为1.75以上的高折射率层，所述装饰构件具备被粘构件和电磁波透过性金属光泽物品，前述电磁波透过性金属光泽物品借助由透明粘合剂形成的粘合剂层贴附于前述被粘构件。

Description

电磁波透过性金属光泽物品、及装饰构件

技术领域

本发明涉及电磁波透过性金属光泽物品、及装饰构件。

背景技术

以往，具有电磁波透过性及金属光泽的构件由于兼具源自其金属光泽的外观的高级感和电磁波透过性，因此适合用于发送/接收电磁波的装置。

例如，正在寻求对前格栅、车标等搭载于汽车的前身部分的毫米波雷达的罩构件实施了装饰的、兼具光亮性和电磁波透过性这两者的金属光泽物品。

毫米波雷达通过向汽车的前方发送毫米波段的电磁波(频率约77GHz、波长约4mm)、接收来自目标物的反射波并对反射波进行测定、分析，能够测量与目标物的距离、目标物的方向、尺寸。

测量结果可以用于车辆间距离测量、速度自动调整、制动自动调整等。

配置这样的毫米波雷达的汽车的前身部分可以说是汽车的脸，是会对用户带来很大冲击力的部分，因此优选通过金属光泽样的前身装饰来展示出高级感。但是，在汽车的前身部分使用金属的情况下，基于毫米波雷达的电磁波的发送/接收实质上是不可能的、或会受到妨碍。因此，为了不妨碍毫米波雷达的功能、不损害汽车的外观性，需要兼具光亮性和电磁波透过性这两者的金属光泽物品。

这种金属光泽物品不仅可以期待在毫米波雷达中的应用，还可期待在需要通信的各种设备、例如设置智能钥匙的汽车的门把手、车载通信设备、手机、个人电脑等电子设备等中的应用。进而，近年来，随着IoT技术的发展，也期待在以往未进行通信等的冰箱等家电制品、生活设备等广阔的领域中的应用。

关于金属光泽构件，日本特开2007-144988号公报(专利文献1)中公开了包含由铬(Cr)或铟(In)形成的金属覆膜的树脂制品。该树脂制品包含：树脂基材、在该树脂基材上成膜的包含无机化合物的无机质基底膜、和通过物理蒸镀法在该无机质基底膜上成膜的光亮性及不连续结构的由铬(Cr)或铟(In)形成的金属覆膜。作为无机质基底膜，专利文献1中使用了如下涂膜：(a)金属化合物的薄膜，例如钛氧化物(TiO、TiO₂、Ti₃O₅等)等钛化合物；硅氧化物(SiO、SiO₂等)、氮化硅(Si₃N₄等)等硅化合物；铝氧化物(Al₂O₃)等铝化合物；铁氧化物(Fe₂O₃)等铁化合物；硒氧化物(CeO)等硒化合物；锆氧化物(ZrO)等锆化合物；硫化锌(ZnS)等锌化合物等；(b)无机涂料的涂膜，例如由以硅、无定形TiO_z等(以及上述例示的金属化合物)为主成分的无机涂料得到的涂膜。

另一方面，日本特开2009-298006号公报(专利文献2)中公开了一种电磁波透过性光亮树脂制品，其不仅可以使铬(Cr)或铟(In)形成为金属膜、还可以使铝(Al)、银(Ag)、镍(Ni)形成为金属膜。

日本特开2010-5999号公报(专利文献3)中记载了下述方法：在母材片上形成金属膜层，对母材片负载张力并且进行加热处理，由此制造具有裂缝的电磁波透过性的金属膜装饰片。

日本特许第4601262号公报(专利文献4)中记载了一种覆盖板，其在透明树脂成形品上层叠有装饰层，所述装饰层具有由不连续的膜结构的金属薄膜层带来的金属显色部分。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007-144988号公报

专利文献2：日本特开2009-298006号公报

专利文献3：日本特开2010-5999号公报

专利文献4：日本特许第4601262号公报

发明内容

发明要解决的问题

现有技术中的金属光泽物品通常在平滑面形成金属层。但是，对金属光泽物品的外观的需求正在多样化，例如也期望经着色的金属光泽物品。

本申请发明是鉴于上述而作出的，其目的在于，提供兼顾电磁波透过性和高的光亮性的、经着色的电磁波透过性金属光泽物品。

用于解决问题的方案

本发明人等为了解决上述问题而反复进行了深入研究，结果发现，通过使通常不易形成不连续结构的、例如由铝(Al)等其他金属形成的金属层形成不连续结构，并且具备包含至少1层折射率为1.75以上的高折射率层的光学调整层，会兼顾电磁波透过性和高的光亮性、得到经着色的金属外观，从而完成了本发明。

本发明的一个方式涉及电磁波透过性金属光泽物品，其具备：基体、在前述基体上形成的金属层、和至少1层光学调整层，前述金属层包含多个部分，所述多个部分中，至少一部分处于彼此不连续的状态，前述光学调整层包含至少1层折射率为1.75以上的高折射率层。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的一个方式中，光学调整层的厚度可以为10nm～1000nm。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的一个方式中，前述设置光学调整层的一侧在波长380nm～780nm的范围中的反射率的最大值与最小值之差可以为30％以上。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的一个方式中，优选在前述基体与前述金属层之间还具备含有铟氧化物的层。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的一个方式中，优选前述含有铟氧化物的层以连续状态设置。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的一个方式中，优选前述含有铟氧化物的层包含氧化铟(In₂O₃)、铟锡氧化物(ITO)、或铟锌氧化物(IZO)中的任意者。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的一个方式中，优选前述含有铟氧化物的层的厚度为1nm～1000nm。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的一个方式中，优选前述金属层的厚度为20nm～100nm。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的一个方式中，前述金属层的厚度与前述含有铟氧化物的层的厚度之比(前述金属层的厚度/前述含有铟氧化物的层的厚度)可以为0.02～100。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的一个方式中，前述多个部分可以形成为岛状。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的一个方式中，优选薄层电阻为100Ω/□以上。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的一个方式中，优选前述金属层为铝(Al)、锌(Zn)、铅(Pb)、铜(Cu)、银(Ag)、或它们的合金中的任意者。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的一个方式中，优选前述基体为基材薄膜、树脂成型物基材、玻璃基材、或应赋予金属光泽的物品中的任意者。

本发明的电磁波透过性金属光泽物品的一个方式中，优选还具备由透明粘合剂形成的粘合剂层。

本发明的一个方式涉及一种装饰构件，其具备被粘构件和前述电磁波透过性金属光泽物品，前述电磁波透过性金属光泽物品借助前述粘合剂层贴附于前述被粘构件。

本发明的装饰构件的一个方式中，优选前述被粘构件侧的反射光的CIE-Lab颜色空间中，a^*值及b^*值的平方之和的平方根为5.0以上。

本发明的装饰构件的一个方式中，优选前述被粘构件侧在波长380nm～780nm的范围中的反射率的最大值与最小值之差为20％以上。

发明的效果

根据本发明，能够提供兼顾电磁波透过性和高的光亮性的、具有经着色的金属外观的电磁波透过性金属光泽物品及金属薄膜。

附图说明

图1为本发明的一个实施方式的电磁波透过性金属光泽物品的截面示意图。

图2为本发明的一个实施方式的电磁波透过性金属光泽物品的截面示意图。

图3为示出本发明的一个实施方式的电磁波透过性金属光泽物品的表面的电子显微镜照片的图。

图4为本发明的一个实施方式的装饰构件的截面示意图。

图5为本发明的一个实施方式的装饰构件的截面示意图。

图6为示出实施例5和比较例1的装饰构件的波长380nm～780nm的范围中的可见光线的波长与反射率(％)的关系的图。

图7为示出实施例1～7、比较例1和2的装饰构件的a^*值与b^*值的关系的图。

图8为用于说明本发明的一个实施方式的电磁波透过性金属光泽物品的金属层的膜厚的测定方法的图。

图9为示出本发明的一个实施方式中的金属层的截面的透射型电子显微镜照片(TEM图像)的图。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的一个适宜的实施方式进行说明。以下，为了便于说明而仅示出本发明的适宜的实施方式，但当然不是意在由其限定本发明。

<1.基本构成>

图1中示出本发明的一个实施方式的电磁波透过性金属光泽物品(以下，称为“金属光泽物品”。)1的截面示意图，图3中示出本发明的一个实施方式的金属光泽物品1的表面的电子显微镜照片(SEM图像)。另外，图9中示出本发明的一个实施方式中的岛状结构的金属层12的截面图的透射型电子显微镜照片(TEM图像)。

金属光泽物品1包含：基体10、在基体10上形成的金属层12和光学调整层13。

金属层12形成于基体10上。金属层12包含多个部分12a。金属层12中的这些部分12a的至少一部分处于彼此不连续的状态，换言之，至少一部分被间隙12b隔开。由于被间隙12b隔开，因此金属光泽物品的薄层电阻变大，与电波的相互作用降低，因此能够使电波透过。所述各部分12a可以为通过使金属蒸镀、溅射等而形成的溅射颗粒的集合体。

需要说明的是，本说明书中所说的“不连续的状态”是指彼此被间隙12b隔开，其结果彼此电绝缘的状态。通过进行电绝缘，从而使得薄层电阻变大，得到期望的电磁波透过性。即，利用以不连续的状态形成的金属层12，容易得到充分的光亮性，也能够确保电磁波透过性。不连续的形态没有特别限定，例如，包含岛状结构、裂缝结构等。此处“岛状结构”如图3所示，是指金属颗粒彼此各自独立、这些颗粒以彼此稍微分开或彼此一部分接触的状态铺满而成的结构。

裂缝结构是指金属薄膜被裂缝分割开的结构。

裂缝结构的金属层12例如可以通过在基材薄膜上设置金属薄膜层、进行弯曲拉伸从而使金属薄膜层产生裂缝来形成。此时，通过在基材薄膜与金属薄膜层之间设置由缺乏伸缩性、换言之容易通过拉伸而生成裂缝的原材料形成的脆性层，能够容易地形成裂缝结构的金属层12。

如上所述，金属层12呈不连续的形态没有特别限定，从生产率的观点出发，优选采用岛状结构。

金属光泽物品1的电磁波透过性例如可以通过电波透过衰减量进行评价。

需要说明的是，微波频带(5GHz)下的电波透过衰减量与毫米波雷达的频带(76～80GHz)下的电波透过衰减量之间具有相关性，显示出比较接近的值，因此微波频带下的电磁波透过性优异的金属光泽物品在毫米波雷达的频带下的电磁波透过性也优异。

微波频带(5GHz)下的电波透过衰减量优选为10[-dB]以下、更优选为5[-dB]以下、进一步优选为2[-dB]以下。大于10[-dB]时，有90％以上的电波被阻断的问题。

金属光泽物品1的薄层电阻也与电磁波透过性有相关性。

金属光泽物品1的薄层电阻优选为100Ω/□以上，该情况下微波频带(5GHz)下的电波透过衰减量为10～0.01[-dB]左右。

金属光泽物品1的薄层电阻进一步优选为200Ω/□以上、更进一步优选为600Ω/□以上。

另外，特别优选为1000Ω/□以上。

金属光泽物品1的薄层电阻可以依据JIS-Z2316-1：2014通过涡电流测定法来测定。

金属光泽物品的电波透过衰减量及薄层电阻受金属层12的材质、厚度等的影响。

另外，在金属光泽物品1具备含有铟氧化物的层11的情况下，也受含有铟氧化物的层11的材质、厚度等的影响。

本实施方式的电磁波透过性金属光泽物品中，优选设置光学调整层的一侧在波长380nm～780nm的范围中的反射率的最大值与最小值之差为30％以上。反射率的最大值与最小值之差为30％以上时，能够使金属外观的着色深。从着色的深浅的观点出发，更优选为35％以上、进一步优选为40％以上。需要说明的是，反射率的最大值与最小值之差的上限没有特别限制。反射率可以通过实施例中记载的方法进行测定。

<2.基体>

本实施方式中的电磁波透过性金属光泽物品中，作为基体10，从电磁波透过性的观点出发，可举出树脂、玻璃、陶瓷等。

基体10可以为基材薄膜、树脂成型物基材、玻璃基材、或应赋予金属光泽的物品中的任意者。

更具体而言，作为基材薄膜，例如，可以使用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚酰胺、聚氯乙烯、聚碳酸酯(PC)、环烯烃聚合物(COP)、聚苯乙烯、聚丙烯(PP)、聚乙烯、聚环烯烃、聚氨酯、亚克力(PMMA)、ABS等均聚物、共聚物形成的透明薄膜。

利用这些构件时，也不会影响光亮性、电磁波透过性。但是，从之后形成含有铟氧化物的层11、金属层12的观点出发，优选为可耐受蒸镀、溅射等的高温的材料，因此，上述材料中，例如，优选聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、亚克力、聚碳酸酯、环烯烃聚合物、ABS、聚丙烯、聚氨酯。其中，从耐热性与成本的平衡良好的方面出发，优选聚对苯二甲酸乙二醇酯、环烯烃聚合物、聚碳酸酯、亚克力。

基材薄膜可以为单层薄膜，也可以为层叠薄膜。从加工的容易性等方面出发，厚度例如优选为6μm～250μm左右。为了增强与含有铟氧化物的层11、金属层12的附着力，也可以实施等离子体处理、易粘接处理等。

基体10为基材薄膜的情况下，金属层12只要设置在基材薄膜上的至少一部分即可，可以仅设置于基材薄膜的单面，也可以设置于两面。

基材薄膜可以根据需要形成有平滑性、或防眩性硬涂层。通过设置硬涂层，能够提高金属薄膜的耐擦伤性。通过设置平滑性硬涂层，金属光泽感增加，反之利用防眩性硬涂层能够防止眩光。硬涂层可以通过涂布含有固化性树脂的溶液来形成。

作为固化性树脂，可举出热固化型树脂、紫外线固化型树脂、电子束固化型树脂等。作为固化性树脂的种类，可举出聚酯系、丙烯酸系、氨基甲酸酯系、丙烯酸类氨基甲酸酯系、酰胺系、有机硅系、硅酸盐系、环氧系、三聚氰胺系、氧杂环丁烷系、丙烯酸类氨基甲酸酯系等各种树脂。这些固化性树脂可以适宜选择一种或两种以上而使用。这些之中，从硬度高、可实现紫外线固化、生产率优异的方面出发，优选丙烯酸系树脂、丙烯酸类氨基甲酸酯系树脂、及环氧系树脂。

此处，应该注意的点是，基材薄膜不过是能够在其表面上形成金属层12的对象(基体10)的一例。基体10如上所述除了基材薄膜以外，还包含树脂成型物基材、玻璃基材、应赋予金属光泽的物品其本身。作为树脂成型物基材及应赋予金属光泽的物品，例如，可举出车辆用结构部件、车辆搭载用品、电子设备的壳体、家电设备的壳体、结构用部件、机械部件、各种汽车用部件、电子设备用部件、家具、厨房用品等家居用用途、医疗设备、建筑材料的部件、其他结构用部件、外装用部件等。

金属层12可以形成于所述全部的基体上，可以在基体的一部分表面上形成，也可以在基体的整个表面形成。该情况下，应赋予金属层12的基体10优选满足与上述的基材薄膜同样的材质、条件。

<3.含有铟氧化物的层>

另外，一个实施方式的金属光泽物品1如图2所示，可以在基体10与金属层12之间进一步具备含有铟氧化物的层11。含有铟氧化物的层11可以直接设置在基体10的面上，也可以隔着设置于基体10的面上的保护膜等间接地来设置。含有铟氧化物的层11优选在应赋予金属光泽的基体10的面上以连续状态、换言之没有间隙地设置。通过以连续状态设置，能够提高含有铟氧化物的层11、进而金属层12、金属光泽物品1的平滑性、耐腐蚀性，另外，也容易没有面内偏差地将含有铟氧化物的层11成膜。

如果像这样在基体10与金属层12之间进一步具备含有铟氧化物的层11，即在基体10上形成含有铟氧化物的层11并在其上形成金属层12，则变得容易以不连续的状态形成金属层12，因此优选。其机理的详情尚不明确，认为通过金属的蒸镀、溅射而得到的溅射颗粒在基体上形成薄膜时，基体上的颗粒的表面扩散性会影响薄膜的形状，在基体的温度高、金属层对基体的润湿性小、金属层的材料的熔点低时，容易形成不连续结构。并且，通过在基体上设置含有铟氧化物的层，能够促进其表面上的金属颗粒的表面扩散性，变得容易使金属层以不连续的状态生长。

作为含有铟氧化物的层11，可以使用氧化铟(In₂O₃)其本身，也可以使用例如铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)这样的含金属的物质。其中，含有第二金属的ITO、IZO从溅射工序中的放电稳定性高的方面出发是更优选的。通过使用这些含有铟氧化物的层11，也能够沿基体的面形成连续状态的膜，另外，该情况下，层叠于含有铟氧化物的层上的金属层例如容易形成岛状的不连续结构，因此优选。进而，如后所述，在该情况下，金属层不仅包含铬(Cr)或铟(In)，而且容易包含通常不易形成不连续结构的、在本用途中难以应用的铝等各种金属。

ITO中包含的氧化锡(SnО₂)的质量比率即含有率(含有率＝(SnO₂/(In₂O₃+SnO₂))×100)没有特别限定，例如，为2.5wt％～30wt％，更优选为3wt％～10wt％。另外，IZO中包含的氧化锌(ZnO)的质量比率即含有率(含有率＝(ZnO/(In₂O₃+ZnO))×100)例如为2wt％～20wt％。

对于含有铟氧化物的层11的厚度，从薄层电阻、电磁波透过性、生产率的观点出发，通常优选为1000nm以下、更优选为50nm以下、进一步优选为20nm以下。另一方面，为了使层叠的金属层12容易形成不连续状态，优选为1nm以上，为了容易可靠地形成不连续状态，更优选为2nm以上、进一步优选为5nm以上。

<4.金属层>

金属层12形成于基体上，包含至少一部分处于彼此不连续的状态的多个部分。

金属层12在基体上为连续状态的情况下，虽然可得到充分的光亮性，但电波透过衰减量变得非常大，因此，不能确保电磁波透过性。

金属层12在基体上呈不连续状态的机理的详情尚不明确，但大致推测为如下。即，在金属层12的薄膜形成工艺中，不连续结构的形成容易性与所要赋予金属层12的基体上的表面扩散具有关联性，基体的温度高、金属层对基体的润湿性小、金属层的材料的熔点低时容易形成不连续结构。因此认为，对于除以下的实施例中特别使用的铝(Al)以外的金属，锌(Zn)、铅(Pb)、铜(Cu)、银(Ag)等熔点较低的金属也可以通过同样的方法形成不连续结构。

此处，多个部分12a的平均粒径是指多个部分12a的圆当量直径的平均值。部分12a的圆当量直径是指与部分12a的面积相当的正圆的直径。多个部分12a的平均粒径可以通过实施例栏中记载的方法来测定。

金属层12的部分12a的圆当量直径没有特别限定，通常为10～1000nm左右。另外，各部分12a彼此的距离没有特别限定，通常为10～1000nm左右。

通过使金属层所包含的彼此处于不连续的状态的多个部分12a的平均粒径为上述的范围，能够在维持高的电磁波透过性的状态下进一步提高光亮性。

对于金属层12，期望可发挥充分的光亮性自不必说，还期望熔点较低。这是因为金属层12优选通过使用溅射的薄膜生长来形成。基于这样的理由，作为金属层12，熔点为约1000℃以下的金属是适宜的，例如，优选包含选自铝(Al)、锌(Zn)、铅(Pb)、铜(Cu)、银(Ag)中的至少一种金属、及以该金属为主成分的合金中的任意者。特别是基于物质的光亮性、稳定性、价格等理由，优选Al及它们的合金。另外，使用铝合金的情况下，优选将铝含量设为50质量％以上。

对于金属层12的厚度，为了发挥充分的光亮性，通常优选为20nm以上、另一方面，从薄层电阻、电磁波透过性的观点出发，通常优选为100nm以下。例如，优选为20nm～100nm、更优选为30nm～70nm。该厚度适于生产率良好地形成均匀的膜，另外，作为最终制品的树脂成形品的外观也良好。需要说明的是，金属层12的厚度可以通过实施例栏中记载的方法来测定。

另外，基于同样的理由，金属层的厚度与含有铟氧化物的层的厚度之比(金属层的厚度/含有铟氧化物的层的厚度)优选为0.1～100的范围、更优选为0.3～35的范围。

金属层的薄层电阻优选为100Ω/□以上。该情况下，电磁波透过性在5GHz的波长下为10～0.01[-dB]左右。进一步优选为1000Ω/□以上。

在进一步设置含有铟氧化物的层的情况下，作为金属层与含有铟氧化物的层的层叠体的薄层电阻，优选为100Ω/□以上。该情况下，电磁波透过性在5GHz的波长下为10～0.01[-dB]左右。进一步优选为1000Ω/□以上。该薄层电阻的值受金属层的材质、厚度的影响自不必说，还很大程度上受到作为基底层的含有铟氧化物的层的材质、厚度的影响。因此，设置含有铟氧化物的层的情况下，必须在还考虑与含有铟氧化物的层的关系的基础上进行设定。

<5.光学调整层>

光学调整层包含至少1层折射率为1.75以上的高折射率层。

光学调整层优选设置在视觉辨识金属层12的一侧，可以直接设置在金属层12上，也可以隔着其他层而设置。例如，一个实施方式的金属光泽物品1中，可以如图1所示那样设置在金属层12的与基体10侧相反的面上，也可以如图2那样设置在金属层12与基体10之间。需要说明的是，将光学调整层13直接设置在金属层12上的情况下，光学调整层13只要层叠于金属层12上即可，不必完全填埋间隙12b。

高折射率层的折射率为1.75以上时，可得到经着色的金属外观，可以制成外观性优异的金属光泽物品。为了得到色调更深的金属外观，高折射率层的折射率优选为1.8以上、更优选为1.9以上。另外，从厚度控制性的观点出发，优选为3.5以下、更优选为3.0以下。

光学调整层可以为至少1层的折射率不同的层的层叠体。

作为高折射率层的材料，例如，优选CeO₂(2.30)、Nd₂O₃(2.15)、Nb₂O₅(2.20)、SiN(2.03)、Sb₂O₃(2.10)、TiO₂(2.35)、Ta₂O₅(2.10)、ZrO₂(2.05)、ZnO(2.10)、ZnS(2.30)等无机物〔上述各材料的括号内的数值为折射率〕、其混合物，优选氧化铌(Nb₂O₅)或SiN(2.03)。

光学调整层的厚度优选为10nm～1000nm。从成本的观点出发，更优选为800nm以下、进一步优选为500nm以下。另外，从色调的观点出发，优选为15nm以上、更优选为20nm以上、进一步优选为30nm以上。

<6.粘合剂层>

粘合剂层14为由透明粘合剂形成的层。本实施方式的金属光泽物品1可以借助粘合剂层14贴附于被粘构件15来使用。例如，在基体10为基材薄膜、玻璃基材的情况下，通过借助粘合剂层14贴附于透明的被粘构件15，能够从内侧对被粘构件15进行装饰。

形成粘合剂层14的粘合剂只要为透明粘合剂，就没有特别限定，例如可以将丙烯酸系粘合剂、橡胶系粘合剂、有机硅系粘合剂、聚酯系粘合剂、氨基甲酸酯系粘合剂、环氧系粘合剂、及聚醚系粘合剂中的任意者单独使用、或组合使用2种以上。从透明性、加工性及耐久性等的观点出发，优选使用丙烯酸系粘合剂。

粘合剂层14的厚度没有特别限定，通过减薄能够提高可见光透过性、膜厚精度、平坦性，因此优选为100μm以下、更优选为75μm以下、进一步优选为50μm以下。

粘合剂层14整体的总透光率没有特别限定，以依据JIS K7361测定的任意的可见光波长下的值计优选为10％以上、更优选为30％以上、进一步优选为50％以上。粘合剂层14的总透光率越高越优选。

另外，构成粘合剂层14的透明粘合剂可以被着色。

该情况下，金属层12透过经着色的粘合剂层14而被视觉辨识，因此能够表现出经着色的金属光泽。

对透明粘合剂进行着色的方法没有特别限定，例如可以通过微量添加色素来进行着色。

为了在直到贴附于被粘构件15之前为止保护粘合剂层14，可以在粘合剂层14上设置剥离衬垫。

只要发挥本发明的效果，本实施方式的金属光泽物品中除了上述的金属层12、含有铟氧化物的层11、光学调整层13、粘合剂层14以外，还可以根据用途设置其他层。作为其他层，可举出用于调整色调等外观的高折射材料等光学调整层(色调调整层)、用于提高耐湿性、耐擦伤性等耐久性的保护层(耐擦伤性层)、阻隔层(防腐蚀层)、易粘接层、硬涂层、防反射层、光取出层、防眩层等。

<7.金属光泽物品的制造>

对金属光泽物品1的制造方法的一例进行说明。虽然没有特别说明，但对于使用了除基材薄膜以外的基体的情况也可以通过同样的方法来制造。

在基体10上形成金属层12时，例如，可以使用真空蒸镀、溅射等方法。

作为光学调整层13的形成方法，例如，可举出真空蒸镀法、溅射法、离子镀法、涂覆法等，可以根据材料的种类及所需的膜厚来采用适宜的方法。

另外，在基体10上形成含有铟氧化物的层11的情况下，在金属层12的形成之前，通过真空蒸镀、溅射、离子镀等形成含有铟氧化物的层11。其中，从即使为大面积也能够严格地控制厚度的方面出发，优选溅射。

设置粘合剂层14的情况下，可以通过在设置粘合剂层14的面上涂布粘合剂组合物等来形成。

粘合剂组合物的涂布可以使用惯用的涂布机、例如凹版辊涂布机、逆转辊涂布机、辊舐涂布机、浸渍辊涂布机、棒涂机、刀涂机、喷涂机等来进行。对于干燥温度，可以适宜采用，优选为40℃～200℃、进一步优选为50℃～180℃、特别优选为70℃～120℃。对于干燥时间，可以适宜地采用适当的时间。上述干燥时间优选为5秒～20分钟、进一步优选为5秒～10分钟、特别优选为10秒～5分钟。

需要说明的是，在基体10与金属层12之间设置含有铟氧化物的层11的情况下，优选使含有铟氧化物的层11与金属层12之间直接接触而不夹设其他层。

<8.装饰构件>

本实施方式的装饰构件具备被粘构件和上述的电磁波透过性金属光泽物品，前述电磁波透过性金属光泽物品(金属光泽物品1)借助前述粘合剂层贴附于前述被粘构件。

金属光泽物品1可以贴附于透明的被粘构件2的内侧的面来使用。作为透明的被粘构件15，例如，可以使用由玻璃、塑料形成的构件，但不限定于这些。

图4中示出本发明的一个实施方式的装饰构件2的截面示意图。是本发明的一个实施方式的装饰构件2的金属光泽物品1贴附于被粘构件15的状态的截面示意图。本实施方式的装饰构件2的金属光泽物品1贴附于被粘构件15，所述金属光泽物品1具备：金属层12、含有铟氧化物的层11、光学调整层13、基体10(基材薄膜)、及粘合剂层14。

图5为本发明的一个实施方式的装饰构件的截面示意图。装饰构件2的图5所示的结构的金属光泽物品1贴附于被粘构件15。在图5中，借助粘合剂层14，对透明的被粘构件15的与被视觉辨识的一侧(以下，也称为外侧)的面2a处于相反侧(以下，也称为内侧)的面2b贴附金属光泽物品1，透过被粘构件15和粘合剂层14视觉辨识光学调整层13和金属层12。即，本实施方式的金属光泽物品1可以从内侧装饰透明的被粘构件15。

本实施方式的装饰构件2是将金属光泽物品1贴附于被粘构件15的内侧而得到的，因此可得到不易损伤、且经着色的金属外观。另外，可以直接利用被粘构件15的质感并且装饰被粘构件15。

将金属光泽物品1贴附于被粘构件2的方法没有特别限定，例如可以通过真空成形进行贴附。真空成形是指如下方法：将金属光泽物品1加热软化并展开，对金属光泽物品1的被粘构件侧的空间进行减压，根据需要对相反侧的空间进行加压，由此将金属光泽物品1沿被粘构件的表面的三维立体形状成形并贴附层叠。

作为金属光泽物品1，可以直接援引上述的说明。

本实施方式的装饰构件优选在被粘构件侧的反射光的CIE-L^*a^*b^*颜色空间中a^*值和b^*值的平方之和的平方根为5.0以上。这是因为a^*值和b^*值的平方之和的平方根为5.0以上时，着色变得充分。a^*值和b^*值的平方之和的平方根更优选为10以上、进一步优选为15以上。a^*值及b^*值的平方之和的平方根的上限值没有特别限制，优选为70以下、更优选为65以下、进一步优选为60以下。

CIE-L^*a^*b^*颜色空间为CIE(国际照明委员会)在1976年推荐的颜色空间，L^*表示亮度，从0到100中数值越大越明亮。色度用a^*、b^*来表示，a^*为表示色调从红到绿的程度的指数，若a^*的值在正方向大时，则变为红色的色调。进而，b^*为表示色调从黄到蓝的程度的指数。a^*、b^*均为0的情况下，为无彩色。

本实施方式的装饰构件2优选被粘构件侧在波长380nm～780nm的范围中的反射率的最大值与最小值之差为20％以上。从着色的深浅的观点出发，更优选为35％以上、进一步优选为40％以上。

反射率的最大值与最小值之差的上限值没有特别限制，优选为90％以下、更优选为85％以下、进一步优选为80％以下。

<9.金属光泽物品及装饰构件的用途>

本实施方式的金属光泽物品及金属薄膜具有电磁波透过性，因此优选用于发送/接收电磁波的装置、物品及其部件等。例如，可举出车辆用结构部件、车辆搭载用品、电子设备的壳体、家电设备的壳体、结构用部件、机械部件、各种汽车用部件、电子设备用部件、家具、厨房用品等家具用用途、医疗设备、建筑材料的部件、其他结构用部件、外装用部件等。

更具体而言，车辆相关的可举出仪表板、中控台盒、门把、门饰板(door trim)、变速杆、踏板类、手套箱、保险杠、发动机罩、挡泥板(fender)、后备箱(trunk)、门、顶盖、柱(pillar)、座椅、方向盘、ECU盒、电装部件、引擎周边部件、驱动系统·齿轮周边部件、吸气·排气系统部件、冷却系统部件等。

作为电子设备及家电设备，更具体而言，可举出冰箱、洗衣机、吸尘器、微波炉、空调、照明设备、电热水器、电视、钟、换气扇、投影仪、扬声器等家电制品类、个人电脑、手机、智能电话、数码相机、平板型PC、便携式音乐播放器、便携式游戏机、充电器、电池等电子信息设备等。

实施例

以下，举出实施例和比较例来更具体地对本发明进行说明。准备金属光泽物品，对反射率、CIE-L^*a^*b^*颜色空间中的a^*值、及b^*值、电波透过衰减量(-dB)、薄层电阻进行评价。需要说明的是，作为基体10，使用基材薄膜。

电波透过衰减量为涉及电磁波透过性的评价。优选电波透过衰减量的值较小。

评价方法的详情如下。

(1)光谱反射率

使用Hitachi High-Technologies Corporation制的分光光度计U-4100，对波长380nm～780nm的范围的可见光线，测定以5nm间隔对金属光泽物品的一个面照射并反射的光的光谱反射率。

需要说明的是，进行测定时，对被粘构件表面入射上述可见光线，在表1中记载为反射率(有胶粘)。另外，表1中示出波长380nm～780nm的范围的光谱反射率(％)的最大值(max)、最小值(min)、及最大值(max)与最小值(min)之差。

(2)CIE-L^*a^*b^*颜色空间中的a^*值和b^*值

利用上述通过分光光度计U-4100测定的波长380～780nm的光谱反射率和CIE标准光源D65的相对分光分布，计算CIE-L^*a^*b^*颜色空间中的a^*值和b^*值。将a^*值、b^*值以及a^*值与b^*值的平方之和的平方根示于表1。

(3)电波透过衰减量

用方形波导管测定评价夹具WR-187夹住样品，用ANRITSU CORPORATION制造的矢量网络分析仪MS4644B测定5GHz下的电波透过衰减量。

(4)薄层电阻

使用NAPSON CORPORATION制造的非接触式电阻测定装置NC-80MAP，依据JIS-Z2316、通过涡电流测定法测定作为金属层与含有铟氧化物的层的层叠体的薄层电阻。

该薄层电阻优选为100Ω/□以上、更优选为200Ω/□以上、进而进一步优选为600Ω/□以上。小于100Ω/□时，有得不到充分的电磁波透过性的问题。

(5)膜厚的评价方法

首先，从金属光泽物品适当地抽出如图8所示的边长为5cm的正方形区域3，选择通过将该正方形区域3的长边和宽边各自的中心线A、B分别4等分而得到的合计5个部位的点“a”～“e”作为测定部位。

接着，测定所选择的各个测定部位中的如图9所示那样的截面图像(透射型电子显微镜照片(TEM图像))，从得到的TEM图像中提取出包含5个以上的金属的部分12a的视角区域。

将在5个部位的测定部位各自中提取出的视角区域中的金属层的总截面积除以视角区域的横向宽度，将所得的值作为各视角区域的金属层的膜厚，将5个部位的测定部位各自中的、各视角区域的金属层的膜厚的平均值作为金属光泽层的厚度(nm)。

[实施例1]

作为基材薄膜，使用在三菱树脂株式会社制PET薄膜(厚度50μm)的一个面形成有厚度2000μm的热固化树脂的薄膜。

首先，将ITO靶安装于DC磁控溅射装置，边导入Ar气和O₂气边进行溅射，由此沿基材薄膜的面直接形成5nm的厚度的ITO层。形成ITO层时的基材薄膜的温度设定为130℃。ITO中包含的氧化锡(SnО₂)的含有率(含有率＝(SnO₂/(In₂O₃+SnO₂))×100)为10wt％。

将铝(Al)靶安装于交流溅射装置(AC：40kHz)，边导入Ar气边进行溅射，由此在ITO层上形成35nm的厚度的Al层(金属层)。得到的Al层为不连续层。形成Al层时的基材薄膜的温度设定为130℃。

(光学调整层的形成)

接着，将Nb靶(AC：40kHz)安装于交流溅射装置，边导入Ar气和O₂气边进行溅射，由此在Al层上形成110nm的Nb₂O₅层作为光学调整层。

根据以上，得到基材薄膜、含有铟氧化物的层、金属层、光学调整层的层叠体(以下，层叠体)。通过上述的方法对得到的层叠体(金属光泽物品)的反射率进行测定，在表1中记载为反射率(无胶粘)。

<粘合剂组合物的制造>

另一方面，在具备冷凝管、氮导入管、温度计及搅拌装置的反应容器中投入含有丙烯酸丁酯100质量份、丙烯酸2-羟基乙酯0.01质量份以及丙烯酸5质量份的单体混合物。进而，相对于前述单体混合物100质量份，将作为聚合引发剂的2,2’-偶氮双异丁腈0.1质量份与乙酸乙酯100质量份一起投入，一边缓慢地搅拌一边导入氮气而进行氮置换后，将反应容器内的液温保持在55℃附近，进行8小时聚合反应，制备重均分子量(Mw)180万、Mw/Mn＝4.1的丙烯酸系聚合物的溶液(固体成分浓度30质量％)。

对得到的丙烯酸系聚合物溶液的固体成分100质量份配混过氧化苯甲酰(日本油脂株式会社制、Nyper BMT)0.3质量份、异氰酸酯系交联剂(东曹株式会社制、CORONATE L)1质量份，从而得到粘合剂组合物。

<金属光泽物品的制造>

用手压辊对上述中得到的层叠体的金属层侧的面涂布上述中得到的粘合剂组合物，形成粘合剂层，由此得到具有经着色的金属光泽的金属光泽物品。

<装饰构件的制造>

作为被粘构件，使用厚度1.2mm的玻璃。

将上述中得到的金属光泽物品的粘合剂层侧贴附于被粘构件，得到装饰构件。

[实施例2～5]

将实施例1中的光学调整层的厚度(nm)变更为如表1中记载那样，得到装饰构件。

[实施例6和7]

在实施例1中的光学调整层的形成时，将Si靶安装于交流溅射装置，边导入Ar气和N₂气边进行溅射，由此在Al层上以表1中记载的膜厚将SiN(光学调整层)成膜，除此以外，与实施例1同样地操作，得到装饰构件。

[比较例1]

不设置实施例1中的光学调整层，除此以外，与实施例1同样地操作，得到装饰构件。

[比较例2]

对于实施例1中的光学调整层，由氧化铌(Nb₂O₅)变更为氧化锌(ZnO)、硅氧化物(SiOx)及氧化铝(Al₂O₃)的混合物(以质量比计为：氧化锌：硅氧化物：氧化铝＝77：20：3)的烧结体，将溅射装置变更为DC溅射装置，除此以外，与实施例1同样地操作，得到装饰构件。

以下的表1中示出评价结果。另外，图6中示出实施例5和比较例1的装饰构件的波长380nm～780nm的范围中的可见光线的波长与反射率(％)的关系。另外，图7中示出实施例1～7、比较例1和2的装饰构件的a^*值与b^*值的关系。

[表1]

根据表1可明确，实施例1～7中，由于包含折射率为1.75以上的高折射率层，因此其CIE-Lab颜色空间中的a^*值和b^*值的平方之和的平方根为13～30，得到了经着色的金属光泽物品及装饰构件。另外，由于铝层包含以不连续状态形成的多个部分12a，因此关于电磁波透过性得到了良好的结果。

另一方面，比较例1和2的金属光泽物品及装饰构件的反射率之差小。另外，a^*值和b^*值的平方之和的平方根也小，着色不充分。

需要说明的是，关于除以上的实施例中特别使用的铝(Al)以外的金属，认为对于锌(Zn)、铅(Pb)、铜(Cu)、银(Ag)等熔点较低的金属也可通过同样的方法形成不连续结构。

本发明不限定于前述实施例，可以在不脱离发明的主旨的范围内适宜变更并具体化。

以上，对本发明的优选的实施方式进行了说明，但本发明不限制于上述的实施方式，可以在不脱离本发明范围的范围内对上述的实施方式加以各种变形及置换。

需要说明的是，本申请基于2018年4月23日申请的日本专利申请(日本特愿2018-082656)及2019年4月22日申请的日本专利申请(日本特愿2019-080625)，其内容作为参照被援引至本申请中。

产业上的可利用性

本发明的金属光泽物品可以用于发送/接收电磁波的装置、物品及其部件等。例如，也可以用于车辆用结构部件、车辆搭载用品、电子设备的壳体、家电设备的壳体、结构用部件、机械部件、各种汽车用部件、电子设备用部件、家具、厨房用品等家居用用途、医疗设备、建筑材料的部件、其他结构用部件、外装用部件等要求外观性和电磁波透过性这两者的各种用途。

附图标记说明

1 金属光泽物品

2 装饰构件

10 基体

11 含有铟氧化物的层

12 金属层

12a 部分

12b 间隙

13 光学调整层

14 粘合剂层

15 被粘构件

Claims (17)

1.一种电磁波透过性金属光泽物品，其具备：基体、在所述基体上形成的金属层、和至少1层光学调整层，

所述金属层包含多个部分，所述多个部分中，至少一部分处于彼此不连续的状态，

所述光学调整层包含折射率为1.75以上的高折射率层。

2.根据权利要求1所述的电磁波透过性金属光泽物品，其中，所述光学调整层的厚度为10nm～1000nm。

3.根据权利要求1或2所述的电磁波透过性金属光泽物品，其中，设置所述光学调整层的一侧在波长380nm～780nm的范围中的反射率的最大值与最小值之差为30％以上。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品，其中，在所述基体与所述金属层之间还具备含有铟氧化物的层。

5.根据权利要求4所述的电磁波透过性金属光泽物品，其中，所述含有铟氧化物的层以连续状态设置。

6.根据权利要求4或5所述的电磁波透过性金属光泽物品，其中，所述含有铟氧化物的层包含氧化铟(In₂O₃)、铟锡氧化物(ITO)、或铟锌氧化物(IZO)中的任意者。

7.根据权利要求4～6中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品，其中，所述含有铟氧化物的层的厚度为1nm～1000nm。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品，其中，所述金属层的厚度为20nm～100nm。

9.根据权利要求4～7中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品，其中，所述金属层的厚度与所述含有铟氧化物的层的厚度之比即所述金属层的厚度/所述含有铟氧化物的层的厚度为0.02～100。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品，其薄层电阻为100Ω/□以上。

11.根据权利要求1～10中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品，其中，所述多个部分形成为岛状。

12.根据权利要求1～11中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品，其中，所述金属层为铝(Al)、锌(Zn)、铅(Pb)、铜(Cu)、银(Ag)、或它们的合金中的任意者。

13.根据权利要求1～12中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品，其中，所述基体为基材薄膜、树脂成型物基材、玻璃基材、或应赋予金属光泽的物品中的任意者。

14.根据权利要求1～13中任一项所述的电磁波透过性金属光泽物品，其还具备由透明粘合剂形成的粘合剂层。

15.一种装饰构件，其具备：被粘构件和权利要求14所述的电磁波透过性金属光泽物品，所述电磁波透过性金属光泽物品借助所述粘合剂层贴附于所述被粘构件。

16.根据权利要求15所述的装饰构件，其中，所述被粘构件侧的反射光的CIE-Lab颜色空间中，a^*值及b^*值的平方之和的平方根为5.0以上。

17.根据权利要求16所述的装饰构件，其中，所述被粘构件侧在波长380nm～780nm的范围中的反射率的最大值与最小值之差为20％以上。

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