WO2022004671A1 - 電磁波透過性金属光沢部材、及び加飾部材 - Google Patents

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WO2022004671A1
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metallic luster
electromagnetic wave
layer
substrate
transmitting
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遼太郎 横井
孝洋 中井
秀行 米澤
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日東電工株式会社
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    • B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B15/08—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
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    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material

Definitions

  • the present invention relates to an electromagnetic wave transmitting metallic luster member and a decorative member.
  • a member having electromagnetic wave transmission and metallic luster has both a high-class appearance derived from the metallic luster and electromagnetic wave transmission, and is therefore suitably used for an apparatus for transmitting and receiving electromagnetic waves.
  • metal is used for the metallic luster member, it is practically impossible or disturbed to transmit and receive electromagnetic waves. Therefore, an electromagnetic wave-transmitting metallic luster member having both metallic luster and electromagnetic wave transmission is required in order not to interfere with the transmission and reception of electromagnetic waves and not to impair the design.
  • Such an electromagnetic wave transmissive metal gloss member is used as a device for transmitting and receiving electromagnetic waves, and is used for various devices that require communication, for example, electronic devices such as door handles of automobiles provided with smart keys, in-vehicle communication devices, mobile phones, and personal computers. It is expected to be applied to devices and the like. Furthermore, in recent years, with the development of IoT technology, it is expected to be applied in a wide range of fields such as home appliances such as refrigerators and household appliances, which have not been conventionally used for communication and the like.
  • Patent Document 1 discloses a resin product containing a metal film made of chromium (Cr) or indium (In).
  • This resin product has a resin base material, an inorganic base film containing an inorganic compound formed on the resin base material, and a brilliant and discontinuous film formed on the inorganic base film by a physical vapor deposition method. It contains a metal film made of chromium (Cr) or indium (In) of the structure.
  • Patent Document 1 As the inorganic base film, in Patent Document 1, (a) a thin film of a metal compound, for example, a titanium compound such as titanium oxide (TIO, TiO 2 , Ti 3 O 5, etc.); silicon oxide (SiO, SiO 2, etc.), nitrided.
  • a metal compound for example, a titanium compound such as titanium oxide (TIO, TiO 2 , Ti 3 O 5, etc.); silicon oxide (SiO, SiO 2, etc.), nitrided.
  • Silicon compounds such as silicon (Si 3 N 4 etc.); Aluminum compounds such as aluminum oxide (Al 2 O 3 ); Iron compounds such as iron oxide (Fe 2 O 3 ); Selene compounds such as selenium oxide (CeO); Oxidation A zircon compound such as zircon (ZrO); a zinc compound such as zinc sulfide (ZnS), etc., (b) a coating film of an inorganic paint, for example, silicon, amorphous TIO z, etc. (other, the above-exemplified metal compound) as a main component. A coating film made of an inorganic paint is used.
  • the metallic luster member in the prior art generally has a metallic luster layer formed on a smooth surface.
  • a member having a metallic luster with a high glossiness has been studied from the viewpoint of designability.
  • the needs for the design of metallic luster members are diversifying, and when a metallic luster member is attached to an adherend member to form a decorative member, the fine surface shape and color of the adherent member are transmitted through the metallic luster member.
  • a metallic luster member having high transparency that can be visually recognized is also desired.
  • the transparency of the metallic luster member is increased, there is a problem that sufficient metallic luster cannot be obtained when the metallic luster member is attached to the adherend member to form a decorative member.
  • the present invention has been made in view of the above, and an object of the present invention is to provide an electromagnetic wave-transmitting metallic luster member having electromagnetic wave permeability and having both metallic luster and desired transparency, and a decorative member. do.
  • the present inventors have set the thickness of the metallic luster layer within a specific range, and used light having a wavelength of 380 nm to 700 nm in SCI measurement of the CIE-XYZ color system.
  • the present invention has been completed by finding that an electromagnetic wave-transmitting metallic luster member having excellent electromagnetic wave transparency and having both metallic luster and desired transparency can be obtained by setting the transmission Y value of the above within a specific range. I came to do it.
  • the present invention is as follows. [1] A substrate and a metallic luster layer formed on the substrate are provided.
  • the metallic luster layer contains a plurality of portions that are discontinuous with each other at least in part.
  • the film thickness of the metallic luster layer is 10 nm or less, and the film thickness is 10 nm or less.
  • An electromagnetic wave-transmitting metallic luster member having a transmission Y value of 25% to 50% for light having a wavelength of 380 nm to 700 nm in the SCI measurement of the CIE-XYZ color system.
  • the CIE-L * a * b * a * value of the transmitted light when light having a wavelength of 380 nm to 700 nm is incident from the metallic luster layer side of the electromagnetic wave transmitting metallic luster member is 0.0. ⁇ 3.0, b * The electromagnetic wave-transmitting metallic luster member according to [1], which has a value of ⁇ 3.0 to 15.0.
  • the electromagnetic wave-transmitting metallic luster member according to any one of [4] to [7], wherein the thickness of the inorganic oxide-containing layer is 1 nm to 1000 nm.
  • Metallic luster member [12] The electromagnetic wave-transmitting metallic luster member according to any one of [1] to [11], further comprising a pressure-sensitive adhesive layer made of a transparent pressure-sensitive adhesive. [13] A decorative member comprising an adherend member and the electromagnetic wave-permeable metallic luster member according to [12], wherein the electromagnetic wave-permeable metallic luster member is attached to the adherend member via the pressure-sensitive adhesive layer.
  • an electromagnetic wave-transmitting metallic luster member having excellent electromagnetic wave transparency and having both metallic luster and desired transparency, and a decorative member.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an electromagnetic wave transmitting metallic luster member according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a diagram showing an electron micrograph (SEM image) of the surface of an electromagnetic wave transmitting metallic luster member according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a decorative member according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is a diagram for explaining a method for measuring the thickness of the metallic luster layer of the electromagnetic wave transmitting metallic luster member according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 5 is a diagram showing an electron micrograph (TEM image) of a cross section of an electromagnetic wave transmitting metallic luster member according to an embodiment of the present invention.
  • TEM image electron micrograph
  • the electromagnetic wave-transmitting metallic luster member according to the embodiment of the present invention includes a substrate and a metallic luster layer formed on the substrate.
  • the metallic luster layer includes a plurality of portions that are discontinuous with each other at least in part, and the film thickness of the metallic luster layer is 10 nm or less, and the wavelength is 380 nm to that in the SCI measurement of the CIE-XYZ color system.
  • the transmitted Y value of 700 nm light is 25% to 50%.
  • FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of an electromagnetic wave transmitting metallic luster member 1 according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 shows an example of an electron micrograph (SEM image) of the surface of the electromagnetic wave transmitting metallic luster member 1 according to the embodiment of the present invention.
  • the electromagnetic wave transmitting metallic luster member 1 includes a substrate 10 and a metallic luster layer 12 formed on the substrate 10.
  • the electromagnetic wave transmitting metallic luster member 1 may further include an inorganic oxide-containing layer between the substrate 10 and the metallic luster layer 12, and the inorganic oxide-containing layer 11 may be an indium oxide-containing layer.
  • the metallic luster layer 12 is preferably formed on the indium oxide-containing layer.
  • the inorganic oxide-containing layer 11 is provided on the surface of the substrate 10.
  • the inorganic oxide-containing layer 11 may be provided directly on the surface of the substrate 10, or may be indirectly provided via a protective layer or the like provided on the surface of the substrate 10. It is preferable that the inorganic oxide-containing layer 11 is provided on the surface of the substrate 10 in a continuous state, in other words, without any gaps.
  • the smoothness and corrosion resistance of the electromagnetic wave-transmitting metallic luster member 1 can be improved, and the inorganic oxide-containing layer 11 is formed without variation in the plane. It also becomes easy to film.
  • the metallic luster layer 12 is laminated on the inorganic oxide-containing layer 11.
  • the metallic luster layer 12 includes a plurality of portions 12a. By being laminated on the inorganic oxide-containing layer 11, these portions 12a are separated from each other by a gap 12b at least in a discontinuous state, that is, in at least a part. Since they are separated by the gap 12b, the sheet resistance of these portions 12a becomes large and the interaction with the radio wave decreases, so that the radio wave can be transmitted.
  • Each of these portions 12a is an aggregate of sputtered particles formed by vapor deposition, sputtering, or the like of a metal. When the sputtered particles form a thin film on a substrate such as the substrate 10, the surface diffusivity of the particles on the substrate affects the shape of the thin film.
  • discontinuous state means a state in which they are separated from each other by a gap 12b, and as a result, they are electrically isolated from each other. By being electrically insulated, the sheet resistance becomes large, and the desired electromagnetic wave transmission can be obtained.
  • the discontinuous form is not particularly limited, and includes, for example, islands, cracks, and the like.
  • the "island-like” means particles that are aggregates of spattered particles, as shown in an electron micrograph (SEM image) of the surface of the metal gloss layer of the electromagnetic wave transmitting metal gloss member in FIG.
  • SEM image electron micrograph
  • the crack structure is a structure in which a metal thin film is divided by cracks.
  • the metallic luster layer 12 having a crack structure can be formed, for example, by providing a metal thin film layer on an inorganic oxide-containing layer formed on a substrate and bending and stretching the metal thin film layer to cause cracks in the metal thin film layer.
  • the metallic luster layer 12 having a crack structure is easily formed by providing a brittle layer made of a material having poor elasticity, that is, easily forming cracks by stretching, between the inorganic oxide-containing layer and the metal thin film layer. be able to.
  • the mode in which the metallic luster layer 12 is discontinuous is not particularly limited, but from the viewpoint of productivity, it is preferably "island-shaped".
  • the electromagnetic wave-transmitting metallic luster member according to the embodiment of the present invention has a metallic luster layer having a thickness of 10 nm or less, and a transmitted Y value of light having a wavelength of 380 nm to 700 nm in SCI measurement of the CIE-XYZ color system is 25. % To 50%.
  • the transmission Y value of the electromagnetic wave transmitting metallic luster member 1 according to the embodiment of the present invention can be measured according to JIS7361-1 using DOT3 manufactured by Murakami Color Co., Ltd. Specifically, it can be measured by the method described in the column of Examples. It has been found that by setting the transmission Y value in the electromagnetic wave-transmitting metallic luster member to a specific range, it has excellent electromagnetic wave transmission, sufficient metallic luster can be obtained, and desired transparency can be obtained. As a result, when the electromagnetic wave-transmitting metallic luster member is attached to the adherend member to form a decorative member, brilliance is obtained and the surface shape of the adherend member is changed even through the electromagnetic wave-transmitting metallic luster member. It can be visually recognized without damage.
  • the transmitted Y value (visual transmittance) is such that light having a wavelength of 380 nm to 700 nm is incident on the surface of the electromagnetic wave transmitting metal gloss member on the metal gloss layer side (the surface opposite to the side having the substrate of the metal gloss layer). It is the average transmittance loaded with the visual sensitivity and the light intensity of the light source in the SCI measurement of the CIE-XYZ color system measured in the above.
  • the transmission Y value needs to be 25% or more, preferably 30% or more, and more preferably 35% or more in order to obtain sufficient transparency. Further, from the viewpoint of obtaining metallic luster, it needs to be 50% or less, preferably 45% or less, and more preferably 40% or less.
  • the transmission Y value of the electromagnetic wave-transmitting metallic luster member 1 can be adjusted by adjusting the film thickness of the metallic luster layer, the film formation temperature, and the like.
  • the electromagnetic wave transmissive metallic luster member 1 has a CIE-L * a * b * color system of transmitted light when light having a wavelength of 380 nm to 700 nm is incident from the metallic luster layer side .
  • the value is preferably 0.0 to 3.0, and the b * value is preferably ⁇ 3.0 to 15.0.
  • the a * value is more preferably 2.5 or less, further preferably 1.5 or less, and even more preferably 1.0 or less.
  • the b * value is more preferably 13.5 or less, further preferably 12.0 or less, and even more preferably 10.0 or less.
  • the square root C * of the sum of squares of the a * value and the b * value is preferably 15.3 or less.
  • the upper limit of the square root C * of the sum of squares of the a * value and the b * value is not particularly limited, but is more preferably 13.7 or less, further preferably 12.1 or less, and 10.0 or less. Is even more preferable.
  • the CIE-L * a * b * color system is the color system recommended by the CIE (International Commission on Illumination) in 1976.
  • L * indicates the brightness, and the larger the value from 0 to 100, the brighter the color system.
  • the chromaticity is represented by a * and b * , and a * is an index indicating the degree of red to green in the color tone, and when the value of a * is large in the positive direction, the color tone becomes red.
  • b * is an index indicating the degree of yellow to blue of the color tone, and when the value of b * is large in the positive direction, the color tone becomes yellow.
  • both a * value and b * value are 0, the color is achromatic.
  • the electromagnetic wave transmittance of the electromagnetic wave transmitting metallic luster member 1 has a correlation with the sheet resistance.
  • the sheet resistance of the electromagnetic wave transmitting metallic luster member is preferably 100 ⁇ / ⁇ or more from the viewpoint of electromagnetic wave transmission. In this case, the amount of radio wave transmission attenuation is about 10 to 0.01 [ ⁇ dB] at a wavelength of 5 GHz. From the viewpoint of electromagnetic wave transmission, the sheet resistance is more preferably 200 ⁇ / ⁇ or more, further preferably 600 ⁇ / ⁇ or more, still more preferably 1000 ⁇ / ⁇ or more.
  • the sheet resistance of the electromagnetic wave transmitting metallic luster member 1 is preferably 2.50E + 8 ⁇ / ⁇ or more.
  • the amount of radio wave transmission attenuation in the microwave band (5 GHz) is less than 0.1 [ ⁇ dB].
  • the amount of radio wave transmission attenuation in the microwave band (5 GHz) is preferably less than 10 [ ⁇ dB], more preferably less than 5 [ ⁇ dB], and even more preferably less than 2 [ ⁇ dB]. ..
  • the amount of radio wave transmission attenuation in the microwave band (5 GHz) is 10 [ ⁇ dB] or more, there is a problem that 90% or more of the radio waves are blocked.
  • the sheet resistance of the electromagnetic wave transmitting metallic luster member 1 can be measured by an eddy current measuring method according to JIS-Z2316-1: 2014.
  • the amount of radio wave transmission attenuation and sheet resistance of the electromagnetic wave transmissive metallic luster member 1 are affected by the material and thickness of the inorganic oxide-containing layer 11 and the metallic luster layer 12.
  • examples of the substrate 10 include resin, glass, ceramics, and the like from the viewpoint of electromagnetic wave transmission.
  • the substrate 10 may be a substrate film, a resin molded substrate, a glass substrate, or an article to which metallic luster should be imparted.
  • examples of the base film include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polybutylene terephthalate, polyamide, polyvinyl chloride, polycarbonate (PC), cycloolefin polymer (COP), and polystyrene.
  • PET polyethylene terephthalate
  • PEN polyethylene naphthalate
  • PEN polybutylene terephthalate
  • polyamide polyvinyl chloride
  • PC polycarbonate
  • COP cycloolefin polymer
  • polystyrene Polypropylene
  • PP Polypropylene
  • the material can withstand high temperatures such as vapor deposition and spatter. Therefore, among the above materials, for example, polyethylene terephthalate and polyethylene na. Phthalates, acrylics, polycarbonates, cycloolefin polymers, ABS, polypropylene and polyurethane are preferred. Of these, polyethylene terephthalate, cycloolefin polymer, polycarbonate, and acrylic are preferable because they have a good balance between heat resistance and cost.
  • the base film may be a single-layer film or a laminated film. From the viewpoint of ease of processing and the like, the thickness is preferably, for example, about 6 ⁇ m to 250 ⁇ m. Plasma treatment or easy-adhesion treatment may be performed in order to strengthen the adhesive force with the inorganic oxide-containing layer 11 and the metallic luster layer 12.
  • the metallic luster layer 12 may be provided on at least a part of the base film, may be provided on only one side of the base film, or may be provided on both sides.
  • the base film may be formed with a smooth or antiglare hard coat layer, if necessary.
  • the hard coat layer By providing the hard coat layer, the scratch resistance of the metal thin film can be improved.
  • the smooth hard coat layer By providing the smooth hard coat layer, the metallic luster is increased, and conversely, the anti-glare hard coat layer can prevent glare.
  • the hard coat layer can be formed by applying a solution containing a curable resin.
  • the curable resin examples include thermosetting resins, ultraviolet curable resins, and electron beam curable resins.
  • the curable resin examples include various resins such as polyester-based, acrylic-based, urethane-based, acrylic-urethane-based, amide-based, silicone-based, silicate-based, epoxy-based, melamine-based, oxetane-based, and acrylic urethane-based resins.
  • these curable resins one kind or two or more kinds can be appropriately selected and used.
  • acrylic resins, acrylic urethane resins, and epoxy resins are preferable because they have high hardness, can be cured by ultraviolet rays, and are excellent in productivity.
  • the base film is only an example of an object (base 10) on which the metallic luster layer 12 can be formed.
  • the substrate 10 includes a resin molded substrate, a glass substrate, and the article itself to which metallic luster should be imparted, in addition to the substrate film as described above.
  • the resin molded base material and the articles to be imparted with metallic luster include structural parts for vehicles, vehicle-mounted products, housings for electronic devices, housings for home appliances, structural parts, mechanical parts, and various automobiles. Examples include parts for household appliances such as parts for electronic equipment, furniture, kitchen goods, medical equipment, parts for building materials, other structural parts and exterior parts.
  • the metallic luster layer 12 can be formed on all of these substrates, and may be formed on a part of the surface of the substrate or on the entire surface of the substrate.
  • the substrate 10 to which the metallic luster layer 12 is to be provided preferably satisfies the same materials and conditions as the above-mentioned substrate film.
  • the electromagnetic wave-transmitting metallic luster member 1 may further include an inorganic oxide-containing layer 11 between the substrate 10 and the metallic luster layer 12.
  • the inorganic oxide-containing layer 11 may be provided directly on the surface of the substrate 10, or may be indirectly provided via a protective film or the like provided on the surface of the substrate 10.
  • the inorganic oxide-containing layer 11 is preferably provided continuously on the surface of the substrate 10 to be imparted metallic luster, in other words, without gaps.
  • the smoothness and corrosion resistance of the inorganic oxide-containing layer 11, the metallic luster layer 12, and the electromagnetic wave-permeable metallic luster member 1 can be improved, and the inorganic oxide-containing layer 11 can be provided. It also facilitates film formation without in-plane variation.
  • the inorganic oxide-containing layer 11 is further provided between the substrate 10 and the metallic luster layer 12, that is, the inorganic oxide-containing layer 11 is formed on the substrate 10, and the metallic luster layer 12 is formed on the inorganic oxide-containing layer 11.
  • the inorganic oxide-containing layer 11 is formed on the substrate 10
  • the metallic luster layer 12 is formed on the inorganic oxide-containing layer 11. Is preferable because it facilitates the formation of the metallic luster layer 12 in a discontinuous state.
  • the details of the mechanism are not always clear, but when sputtered particles due to metal deposition or sputtering form a thin film on the substrate, the surface diffusivity of the particles on the substrate affects the shape of the thin film, and the substrate.
  • the inorganic oxide-containing layer 11 is preferably an indium oxide-containing layer.
  • indium oxide-containing layer indium oxide (In 2 O 3 ) itself can be used, or a metal-containing substance such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO) is used. You can also do it.
  • the indium oxide-containing layer preferably contains either indium oxide (In 2 O 3 ), indium tin oxide (ITO), or indium zinc oxide (IZO).
  • ITO and IZO containing a second metal are more preferable because they have high discharge stability in the sputtering process.
  • a continuous film can be formed along the surface of the substrate, and in this case, the metallic luster laminated on the inorganic oxide-containing layer. It is preferable because the layer tends to have an island-like discontinuous structure, for example. Further, as will be described later, in this case, not only chromium (Cr) or indium (In) but also aluminum or aluminum or aluminum or indium (In), which is usually difficult to have a discontinuous structure, is difficult to be applied to the metallic luster layer. It becomes easier to include aluminum alloy.
  • the thickness of the inorganic oxide-containing layer 11 is usually preferably 1000 nm or less, more preferably 50 nm or less, still more preferably 20 nm or less, from the viewpoint of sheet resistance, electromagnetic wave transmission, and productivity.
  • it is preferably 1 nm or more, and in order to ensure the discontinuous state, it is more preferably 2 nm or more. The above is more preferable.
  • the metallic luster layer 12 is formed on the substrate, contains a plurality of portions that are discontinuous with each other at least in part, and needs to have a film thickness of 10 nm or less. When the metallic luster layer 12 is in a continuous state on the substrate, sufficient brilliance can be obtained, but the amount of radio wave transmission attenuation becomes very large, and therefore electromagnetic wave transmission cannot be ensured.
  • the details of the mechanism by which the metallic luster layer 12 becomes discontinuous on the substrate are not always clear, but it is presumed to be roughly as follows. That is, in the process of forming the thin film of the metallic luster layer 12, the ease of forming the discontinuous structure is related to the surface diffusion on the substrate to which the metallic luster layer 12 is applied, and the temperature of the substrate is high, so that the substrate has a high temperature. The smaller the wettability of the metallic luster layer and the lower the melting point of the material of the metallic luster layer, the easier it is to form a discontinuous structure.
  • the average particle size of the plurality of portions 12a means the average value of the equivalent circle diameters of the plurality of portions 12a.
  • the circle-equivalent diameter of the portion 12a is the diameter of a perfect circle corresponding to the area of the portion 12a.
  • the equivalent circle diameter of the portion 12a of the metallic luster layer 12 is not particularly limited, but is usually about 10 to 1000 nm.
  • the distance between the portions 12a is not particularly limited, but is usually about 10 to 1000 nm.
  • the brilliance can be further improved while maintaining high electromagnetic wave transmission.
  • the metallic luster layer 12 has a relatively low melting point as well as being able to exhibit sufficient brilliance and good desired transparency. This is because the metallic luster layer 12 is preferably formed by thin film growth using sputtering. For this reason, the metallic luster layer 12 is suitable for a metal having a melting point of about 1000 ° C. or lower, and preferably contains aluminum or an aluminum alloy. Further, as described above, the electromagnetic wave transmissive metallic luster member 1 according to the embodiment of the present invention needs to have the transmission Y value in the above range and the thickness of the metallic luster layer to be 10 nm or less.
  • the film thickness of the metallic luster layer is thinner than that of the conventional one, it may be colored depending on the type of metal used to form the metallic luster layer.
  • metallic luster with suppressed coloring is required from the viewpoint of design, if aluminum or an aluminum alloy is used to form the metallic luster layer, it is an electromagnetic wave-transmitting metallic luster member having a transmission Y value in a specific range. A metallic luster with suppressed coloring can be obtained.
  • the metallic luster layer 12 is particularly preferably Al or an aluminum alloy for reasons of brilliance, transparency, price and the like. When an aluminum alloy is used, the aluminum content is preferably 50% by mass or more.
  • the thickness of the metallic luster layer 12 needs to be 10 nm or less, more preferably 8 nm or less, and 6.5 nm or less in order to have a transmission Y value in a predetermined range and exhibit good desired transparency. Is more preferable. Further, in order to obtain a sufficient metallic luster, it is preferably 4.5 nm or more, more preferably 5.0 nm or more, and further preferably 5.5 nm or more. This thickness is also suitable for forming a uniform film with good productivity, and the appearance of the final product, such as a decorative member or a resin molded product, is also good. The thickness of the metallic luster layer 12 can be measured by the method described in the column of Examples.
  • the sheet resistance of the metallic luster layer is preferably 100 ⁇ / ⁇ or more.
  • the electromagnetic wave transmission property is about 10 to 0.01 [ ⁇ dB] at a wavelength of 5 GHz. More preferably, it is 1000 ⁇ / ⁇ or more.
  • the sheet resistance of the electromagnetic wave transmitting metallic luster member is preferably 100 ⁇ / ⁇ or more from the viewpoint of electromagnetic wave transmission.
  • the electromagnetic wave transmission property is about 10 to 0.01 [ ⁇ dB] at a wavelength of 5 GHz.
  • the sheet resistance is more preferably 200 ⁇ / ⁇ or more, further preferably 600 ⁇ / ⁇ or more, still more preferably 1000 ⁇ / ⁇ or more.
  • the value of this sheet resistance is greatly influenced not only by the material and thickness of the metallic luster layer but also by the material and thickness of the inorganic oxide-containing layer which is the base layer. Therefore, when the inorganic oxide-containing layer is provided, it is necessary to consider the relationship with the inorganic oxide-containing layer.
  • the electromagnetic wave-permeable metallic luster member of the present embodiment may be provided with other layers depending on the intended use, in addition to the above-mentioned metallic luster layer and inorganic oxide-containing layer, as long as the effects of the present invention are exhibited.
  • Other layers include an adhesive layer, an optical adjustment layer (color adjustment layer) such as a high-refractive-reflection material for adjusting the appearance such as color, and durability such as moisture resistance and scratch resistance.
  • an optical adjustment layer color adjustment layer
  • a protective layer scratch resistant layer
  • barrier layer corrosion prevention layer
  • an easy-adhesion layer an optical adjustment layer
  • a hard coat layer an antireflection layer
  • a light extraction layer an antiglare layer and the like.
  • the pressure-sensitive adhesive layer is a layer made of a transparent pressure-sensitive adhesive.
  • the electromagnetic wave-permeable metallic luster member of the present embodiment preferably further includes a pressure-sensitive adhesive layer made of a transparent pressure-sensitive adhesive, and may be used by being attached to an adherend member via the pressure-sensitive adhesive layer.
  • the adherend can be decorated from the inside by attaching the substrate to the transparent adherend via the pressure-sensitive adhesive layer.
  • the pressure-sensitive adhesive forming the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited as long as it is a transparent pressure-sensitive adhesive.
  • either of the polyether adhesives can be used alone or in combination of two or more. From the viewpoint of transparency, processability, durability and the like, it is preferable to use an acrylic pressure-sensitive adhesive.
  • the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, but it is preferably 100 ⁇ m or less, more preferably 75 ⁇ m or less, because it is possible to improve visible light transmission, film thickness accuracy, and flatness by making it thinner. , 50 ⁇ m or less is more preferable.
  • the total light transmittance of the entire pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, but the value at any visible light wavelength measured according to JIS K7361 is preferably 10% or more, more preferably 30% or more, and 50%. The above is more preferable. The higher the total light transmittance of the pressure-sensitive adhesive layer, the more preferable.
  • the transparent adhesive constituting the adhesive layer may be colored.
  • the colored pressure-sensitive adhesive layer is visually recognized via the metallic luster layer having good desired transparency.
  • the electromagnetically transmissive metallic luster member 1 can exhibit a colored metallic luster without changing the color tone of the pressure-sensitive adhesive layer.
  • the method of coloring the transparent adhesive is not particularly limited, but it can be colored by adding a small amount of a dye, for example.
  • a release liner may be provided on the pressure-sensitive adhesive layer in order to protect the pressure-sensitive adhesive layer until it is attached to the adherend member.
  • the electromagnetic wave-transmitting metallic luster member of the present embodiment may have a barrier layer on the surface of the metallic luster layer 12 on the side opposite to the substrate 10.
  • the barrier layer is a layer for suppressing oxidation (corrosion) of the metallic luster layer 12.
  • the barrier layer preferably contains at least one selected from the group consisting of at least one oxide of metal and metalloid, nitrides, carbides, nitrides oxide, carbides of oxides, carbides of nitrides and carbides of oxides.
  • the metal for example, aluminum, titanium, indium, magnesium and the like can be used, and as the metalloid, for example, silicon, bismuth, germanium and the like can be used.
  • ZnO + Al 2 O 3 AZO
  • indium tin oxide IZO
  • indium tin oxide ITO
  • silicon nitride silicon nitride film SiOCN
  • silicon nitride film SiON
  • SiN silicon nitride film
  • the barrier layer does not easily allow water vapor to permeate.
  • the degree of water vapor permeation in the barrier layer can be evaluated by various methods, and for example, the degree of water vapor permeation can be used for evaluation.
  • the water vapor permeation amount is less than 3g / m 2 ⁇ day, more preferably at most 1g / m 2 ⁇ day, 0.5g / m 2 ⁇ day or less Is more preferable.
  • the water vapor permeation amount of the barrier layer can be measured using, for example, a water vapor permeability measuring device PERMATRAN-W Model 3/33 manufactured by MOCON.
  • the thickness of the barrier layer is not particularly limited, but is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more, and even more preferably 20 nm or more in order to improve the barrier property. Further, in order to improve the electromagnetic wave permeability and the metallic luster of the appearance, 100 nm or less is preferable, 70 nm or less is more preferable, and 50 nm or less is further preferable.
  • a method such as vacuum vapor deposition or sputtering can be used.
  • the inorganic oxide-containing layer 11 is formed on the substrate 10, the inorganic oxide-containing layer 11 is formed by vacuum deposition, sputtering, ion plating, or the like prior to the formation of the metallic luster layer 12.
  • sputtering is preferable because the thickness can be strictly controlled even in a large area.
  • the pressure-sensitive adhesive layer When the pressure-sensitive adhesive layer is provided, it can be formed by applying a pressure-sensitive adhesive composition or the like to the surface on which the pressure-sensitive adhesive layer is provided.
  • the pressure-sensitive adhesive composition can be applied using a conventional coater, for example, a gravure roll coater, a reverse roll coater, a kiss roll coater, a dip roll coater, a bar coater, a knife coater, a spray coater, or the like.
  • the drying temperature can be appropriately adopted, but is preferably 40 ° C. to 200 ° C., more preferably 50 ° C. to 180 ° C., and particularly preferably 70 ° C. to 120 ° C.
  • an appropriate time may be adopted as appropriate.
  • the drying time is preferably 5 seconds to 20 minutes, more preferably 5 seconds to 10 minutes, and particularly preferably 10 seconds to 5 minutes.
  • the inorganic oxide-containing layer 11 When the inorganic oxide-containing layer 11 is provided between the substrate 10 and the metallic luster layer 12, the inorganic oxide-containing layer 11 and the metallic luster layer 12 are brought into direct contact with each other without interposing another layer. Is preferable.
  • the decorative member according to the present embodiment includes an adherend member and the above-mentioned electromagnetic wave-transmitting metallic luster member, and the electromagnetic wave-transmitting metallic luster member (electromagnetic wave-transmitting metallic luster member 1) is interposed via the pressure-sensitive adhesive layer. It is attached to the adherend member.
  • the decorative member according to the present embodiment includes an adherend member and the above-mentioned electromagnetic wave-permeable metallic luster member including a pressure-sensitive adhesive layer made of a transparent adhesive, and the electromagnetic wave-transmitting metallic luster member provides the pressure-sensitive adhesive layer. It is preferable that the material is attached to the adherend member via the material.
  • FIG. 3 shows a schematic cross-sectional view of the decorative member 2 according to the embodiment of the present invention.
  • the decorative member 2 according to the embodiment of the present invention is a schematic cross-sectional view of a state in which the electromagnetic wave transmitting metallic luster member 1 is attached to the adherend member 15.
  • the electromagnetic wave-transmitting metallic luster member 1 provided with the metallic luster layer 12, the inorganic oxide-containing layer 11, the substrate 10 (base film), and the pressure-sensitive adhesive layer 14 is the adherend member 15. It is affixed to.
  • the electromagnetic wave-transmitting metallic luster member 1 of the present embodiment is provided on the surface of the adherend member 15 because the electromagnetic wave-transmitting metallic luster member 1 has a metallic luster with suppressed coloring such as yellowish color and has excellent visibility. It is possible to obtain a decorative member 2 in which the adherend member 15 is decorated while making the best use of the design, color and texture as it is.
  • the electromagnetic wave transmitting metallic luster member 1 may be used by being attached to the inner surface of the transparent adherend member 15.
  • the transparent adherend member 15 for example, a member made of glass or plastic can be used, but the transparent adherend member 15 is not limited to this.
  • the method of attaching the electromagnetic wave-transmitting metallic luster member 1 to the adherend member 15 is not particularly limited, but it can be attached by, for example, vacuum forming.
  • Vacuum forming means that the electromagnetic wave-permeable metallic luster member 1 is stretched while being heated and softened, the space on the adherend side of the electromagnetic wave-transmitting metallic luster member 1 is depressurized, and the space on the opposite side is pressurized as necessary.
  • This is a method of pasting and laminating an electromagnetic wave-transmitting metallic luster member 1 while forming it along a three-dimensional three-dimensional shape of the surface of an adherend member.
  • the electromagnetic wave transmitting metallic luster member 1 the above description can be used as it is.
  • electromagnetic wave-permeable metallic luster members and decorative members Since the electromagnetic wave-transmitting metallic luster member and the decorative member of the present embodiment have electromagnetic wave transmission properties, they are preferably used for devices and articles that transmit and receive electromagnetic waves and their parts. For example, applications for household goods such as structural parts for vehicles, vehicle-mounted products, housings for electronic devices, housings for home appliances, structural parts, mechanical parts, various automobile parts, electronic device parts, furniture, kitchen supplies, etc. , Medical equipment, building material parts, other structural parts, exterior parts, etc.
  • ECU box electrical parts, engine peripheral parts, drive system / gear peripheral parts, intake / exhaust system parts, cooling system parts and the like.
  • home appliances such as refrigerators, washing machines, vacuum cleaners, microwave ovens, air conditioners, lighting equipment, electric water heaters, TVs, watches, ventilation fans, projectors, speakers, personal computers, mobile phones , Smartphones, digital cameras, tablet PCs, portable music players, portable game machines, chargers, electronic information devices such as batteries, and the like.
  • An electromagnetic wave-transmitting metallic luster member was prepared and evaluated.
  • the details of the evaluation method are as follows. ⁇ Measurement of transmittance>
  • the transmittance measurement sample (electromagnetic wave transmissive metal gloss member) is visible in the wavelength range of 380 nm to 700 nm by the standard light source D65 with the integrating sphere type spectroscopic transmittance measuring device DOT-3C (manufactured by Murakami Color Technology Research Institute Co., Ltd.).
  • a light beam is incident on the surface of the metallic gloss layer (the surface opposite to the surface of the metallic gloss layer having the substrate) to measure the transmittance, and the transmittance characteristics (transmission Y value, a * value and b * value) are determined. Obtained.
  • the obtained transmission Y values, a * values and b * values are shown in Table 1.
  • FIG. 5 shows an example of an electron micrograph (TEM image) of a cross section of an electromagnetic wave transmitting metallic luster member. In obtaining the maximum thickness, first, in the metallic luster layer appearing on the surface of the electromagnetic wave transmitting metallic luster member as shown in FIG.
  • a square region 3 having a side of 5 cm as shown in FIG. 4 is appropriately extracted.
  • a total of five points "a” to "e” obtained by dividing the center lines A and B of the vertical side and the horizontal side of the square region 3 into four equal parts were selected as measurement points.
  • a viewing angle region including approximately five portions 12a was extracted. Approximately 5 portions 12a at each of these 5 measurement points, that is, the individual thicknesses (nm) of 25 (5 ⁇ 5) portions 12a were obtained, and the average value thereof was set to “maximum”. "Thickness".
  • ⁇ Transparent hue> The hue was evaluated based on the a * and b * values obtained by the transmittance measurement.
  • ⁇ a * value is in the range of 0.0 to 3.0 and b * value is in the range of ⁇ 3.0 to 15.0.
  • X The a * value or b * value is other than the above.
  • the electromagnetic wave-transmitting metal gloss member obtained in Examples and Comparative Examples was cut into a 50 mm square size, and the surface of the cut-out electromagnetic wave-transmitting metal gloss member on the substrate side was passed through the pressure-sensitive adhesive CS9861UAS (manufactured by Nitto Denko Co., Ltd.).
  • the spectral reflectance (wavelength: 380 to 780 nm, incident angle: 5 °) of the evaluation sample attached to the black acrylic plate was measured using a spectrophotometer (manufactured by Hitachi High Technology, trade name “U-4100”). It was measured.
  • the luminosity factor reflectance Y of the object color due to reflection in the XYZ color system defined by JIS Z8701 was calculated.
  • the sheet resistance of the electromagnetic wave transmissive metal gloss member is measured by the eddy current measurement method in accordance with JIS-Z2316, and the island-like judgment (whether the metal gloss layer is continuous or not) is made. Judgment as to whether it is continuous) was carried out.
  • ⁇ (Good) The sheet resistance is 100 ⁇ / ⁇ or more because the metallic gloss layer is in a discontinuous state.
  • ⁇ (defective) The sheet resistance is less than 100 ⁇ / ⁇ due to the continuous state of the metallic luster layer.
  • ⁇ Visibility> (Making a film with a design layer and evaluating its appearance)
  • a design layer was laminated on the surface of the obtained base film of the electromagnetic wave transmissive metallic luster member opposite to the metallic luster layer to obtain a film having the design layer.
  • As the design layer an OHP film TY-771 manufactured by 3M Co., Ltd. was used for design printing using a laser printer.
  • HC-PET a film in which a UV curable resin layer (hard coat layer) having a thickness of 2 ⁇ m was formed on PET film 50-U483 (thickness 50 ⁇ m) manufactured by Toray Industries, Inc.
  • an ITO target was attached to a DC magnetron sputtering device, and by sputtering while introducing Ar gas, an ITO layer having a thickness of 5 nm was directly formed on the ultraviolet curable resin layer along the surface of the base film. ..
  • the temperature (deposition temperature) of the base film when forming the ITO layer was set to 20 ° C.
  • An aluminum (Al) target was attached to a DC magnetron sputtering apparatus, and an Al layer was formed as a metallic luster layer on the ITO layer by 4.5 nm by sputtering while introducing Ar gas.
  • the temperature of the base film when forming the Al layer was set to 20 ° C.
  • an aluminum (Al) target was attached to the MF-AC magnetron sputtering apparatus, and an AlOx layer of 20 nm was formed by reactive sputtering while introducing Ar gas and O 2 gas to obtain a laminate of Example 1.
  • the obtained Al layer was a discontinuous layer.
  • an electromagnetic wave-transmitting metallic luster member of Example 1 which is a laminate of a substrate (base film and hard coat layer), an indium oxide-containing layer, a metallic luster layer, and a barrier layer, was obtained.
  • the transmission characteristics of the obtained electromagnetic wave-transmitting metallic luster member were measured by the above method and are shown in Table 1.
  • the adherend member a glass having a thickness of 0.7 mm having a design on the surface is used, and the electromagnetic wave-permeable metallic luster member obtained above is used as an adherend member using the adhesive CS9861UAS (manufactured by Nitto Denko Co., Ltd.).
  • a decorative member was obtained in which the surface of the electromagnetic wave-permeable metallic luster member on the base film side and the adherend member were bonded to each other via an adhesive.
  • Example 2 to 9 Comparative Examples 2 to 8
  • the substrate, the thickness (nm) of the metallic luster layer, and the film formation temperatures of the ITO layer and the Al layer in Example 1 were changed as shown in Table 1 to obtain an electromagnetic wave transmitting metallic luster member and a decorative member. rice field.
  • a PET film PET film 50-U483 (thickness 50 ⁇ m) manufactured by Toray Industries, Inc.
  • Examples 10 to 12, Comparative Example 9 At the time of discharge when forming the Al layer in Example 1, the ratio of the Ar flow rate and the O 2 flow rate was changed to the O 2 / Ar flow rate ratio as shown in Table 1, and the film formation temperature of the ITO layer and the Al layer was further changed. Was changed as shown in Table 1 to obtain an electromagnetic wave transmitting metal member and a decorative member.
  • Comparative Example 1 The substrate, the film formation temperature of the ITO layer, and the thickness (nm) of the metallic luster layer in Example 1 were changed as shown in Table 1 to obtain a laminate of Comparative Example 1.
  • the metallic luster layer (Al layer) in the laminated body of Comparative Example 1 was a continuous layer.
  • the decorative member of Comparative Example 1 was obtained by using the laminated body of Comparative Example 1 instead of the electromagnetic wave transmitting metallic luster member of Example 1.
  • the O 2 / Ar flow rate ratio represents the volume flow rate ratio
  • the unit of Al film thickness (thickness of metallic luster layer) is "nm”
  • the unit of transmission Y value and reflection Y value is "%”. ..
  • the thickness of the metallic luster layer (Al film thickness) is 10 nm or less, and the transmission Y value is 25% to 50%. Therefore, it was possible to manufacture a decorative member having excellent electromagnetic wave transparency, showing high transparency and metallic luster, and having a visible design layer laminated on the base film. Further, since the electromagnetic wave-transmitting metallic luster members of Examples 1 to 12 have a * values of 0.0 to 3.0 and b * values of ⁇ 3.0 to 15.0, coloring is suppressed and the hue is excellent. rice field.
  • the metallic luster layer was a continuous layer and did not show electromagnetic wave permeability.
  • the electromagnetic wave-transmitting metallic luster members of Comparative Examples 3, 5, 7 and 8 had a transmission Y value of less than 25% and were inferior in transparency, and the design layer of the obtained decorative member could not be visually recognized.
  • the electromagnetic wave-transmitting metallic luster members of Comparative Examples 5 and 7 were also inferior in hue. Further, the electromagnetic wave-transmitting metallic luster members of Comparative Examples 1, 2, 4 and 9 had a low reflectance of less than 12%, and a metallic appearance could not be obtained.
  • the electromagnetic wave-transmitting metallic luster member of Comparative Example 6 has a transmission Y value in the range of 25% to 50%, but the film thickness of the metallic luster layer is 10 nm or more, which is compared with the electromagnetic wave-transmitting metallic luster member of the example. Inferior in hue.
  • the electromagnetic wave-permeable metallic luster member according to the present invention can be used for devices and articles that transmit and receive electromagnetic waves, and parts thereof.
  • applications for household goods such as structural parts for vehicles, vehicle-mounted products, housings for electronic devices, housings for home appliances, structural parts, mechanical parts, various automobile parts, electronic device parts, furniture, kitchen supplies, etc. It can also be used for various applications that require both design and electromagnetic wave transmission, such as medical equipment, building material parts, other structural parts and exterior parts.
  • Electromagnetic wave transmissive metallic luster member 2 Decorative member 10 Base material 11 Inorganic oxide-containing layer 12 Metallic luster layer 12a Part 12b Gap 14 Adhesive layer 15 Adhesive member

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Abstract

本発明は、基体と、前記基体上に形成された金属光沢層とを備え、前記金属光沢層は、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含み、前記金属光沢層の膜厚が１０ｎｍ以下であり、ＣＩＥ－ＸＹＺ表色系のＳＣＩ測定における、波長３８０ｎｍ～７００ｎｍの光の透過Ｙ値が２５％～５０％である、電磁波透過性金属光沢部材に関する。

Description

電磁波透過性金属光沢部材、及び加飾部材
　本発明は、電磁波透過性金属光沢部材、及び加飾部材に関する。
　従来、電磁波透過性及び金属光沢を有する部材が、その金属光沢に由来する外観の高級感と、電磁波透過性とを兼ね備えることから、電磁波を送受信する装置に好適に用いられている。
　金属光沢調の部材に金属を使用した場合には、電磁波の送受信が実質的に不可能、或いは、妨害されてしまう。したがって、電磁波の送受信を妨げることなく、意匠性を損なわせないために、金属光沢と電磁波透過性の双方を兼ね備えた電磁波透過性金属光沢部材が必要とされている。
　このような電磁波透過性金属光沢部材は、電磁波を送受信する装置として、通信を必要とする様々な機器、例えば、スマートキーを設けた自動車のドアハンドル、車載通信機器、携帯電話、パソコン等の電子機器等への応用が期待されている。更に、近年では、ＩｏＴ技術の発達に伴い、従来は通信等行われることがなかった、冷蔵庫等の家電製品、生活機器等、幅広い分野での応用も期待されている。
　電磁波透過性金属光沢部材に関して、特許文献１には、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）より成る金属被膜を含む樹脂製品が開示されている。この樹脂製品は、樹脂基材と、当該樹脂基材の上に成膜された無機化合物を含む無機質下地膜と、当該無機質下地膜の上に物理蒸着法により成膜された光輝性及び不連続構造のクロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）よりなる金属被膜を含む。無機質下地膜として、特許文献１では、（ａ）金属化合物の薄膜、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ、ＴｉＯ２、Ｔｉ３Ｏ５等）等のチタン化合物；酸化ケイ素（ＳｉＯ、ＳｉＯ２等）、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４等）等のケイ素化合物；酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）等のアルミニウム化合物；酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３）等の鉄化合物；酸化セレン（ＣｅＯ）等のセレン化合物；酸化ジルコン（ＺｒＯ）等のジルコン化合物；硫化亜鉛（ＺｎＳ）等の亜鉛化合物等、（ｂ）無機塗料の塗膜、例えば、シリコン、アモルファスＴｉＯｚ等（その他、上記例示の金属化合物）を主成分とする無機塗料による塗膜が使用されている。
日本国特開２００７－１４４９８８号公報
　従来技術における金属光沢部材は、一般的には平滑面に金属光沢層を形成したものである。従来の金属光沢部材は、意匠性の観点から、光沢度の高い金属光沢を有するものが検討されている。
　また、金属光沢部材の意匠に対するニーズは多様化しており、金属光沢部材を被着部材に貼付し加飾部材とした際に、被着部材の微細な表面形状や色を金属光沢部材を介して視認し得る、高い透明性を備えた金属光沢部材も望まれている。しかしながら、金属光沢部材の透明性を高めると、金属光沢部材を被着部材に貼付し加飾部材とした際に、十分な金属光沢が得られない等の課題があった。
　本願発明は、上記に鑑みてなされたものであり、電磁波透過性を有し、金属光沢と所望の透明性とを兼ね備えた電磁波透過性金属光沢部材、及び加飾部材を提供することを目的とする。
　本発明者等は、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、金属光沢層の膜厚を特定の範囲とし、かつＣＩＥ－ＸＹＺ表色系のＳＣＩ測定における、波長３８０ｎｍ～７００ｎｍの光の透過Ｙ値を特定の範囲内とすることにより、優れた電磁波透過性を有し、金属光沢と所望の透明性を兼ね備えた電磁波透過性金属光沢部材が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
　すなわち、本発明は以下のとおりである。
〔１〕
　基体と、前記基体上に形成された金属光沢層とを備え、
前記金属光沢層は、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含み、
前記金属光沢層の膜厚が１０ｎｍ以下であり、
ＣＩＥ－ＸＹＺ表色系のＳＣＩ測定における、波長３８０ｎｍ～７００ｎｍの光の透過Ｙ値が２５％～５０％である、電磁波透過性金属光沢部材。
〔２〕
　前記電磁波透過性金属光沢部材における前記金属光沢層側から、波長３８０ｎｍ～７００ｎｍの光を入射させた際の、透過光のＣＩＥ－Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるａ＊値が０．０～３．０、ｂ＊値が－３．０～１５．０である〔１〕に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
〔３〕
　前記金属光沢層はアルミニウム又はアルミニウム合金を含有する、〔１〕又は〔２〕に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
〔４〕
　前記基体と前記金属光沢層との間に無機酸化物含有層をさらに備える、〔１〕～〔３〕のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
〔５〕
　前記無機酸化物含有層が酸化インジウム含有層である、〔４〕に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
〔６〕
　前記酸化インジウム含有層は、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、又はインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のいずれかを含む、〔５〕に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
〔７〕
　前記無機酸化物含有層は連続状態で設けられている、〔４〕～〔６〕のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
〔８〕
　前記無機酸化物含有層の厚さは、１ｎｍ～１０００ｎｍである、〔４〕～〔７〕のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
〔９〕
　シート抵抗が、１００Ω／□以上である、〔１〕～〔８〕のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
〔１０〕
　前記複数の部分は島状に形成されている、〔１〕～〔９〕のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
〔１１〕
　前記基体は、基材フィルム、樹脂成型物基材、ガラス基材、又は金属光沢を付与すべき物品のいずれかである、〔１〕～〔１０〕のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
〔１２〕
　透明粘着剤からなる粘着剤層をさらに備える、〔１〕～〔１１〕のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
〔１３〕
　被着部材と、〔１２〕に記載の電磁波透過性金属光沢部材とを備え、前記電磁波透過性金属光沢部材が前記粘着剤層を介して前記被着部材に貼付されている、加飾部材。
　本発明によれば、優れた電磁波透過性を有し、金属光沢と所望の透明性とを兼ね備えた電磁波透過性金属光沢部材、及び加飾部材を提供することができる。
図１は、本発明の一実施形態による電磁波透過性金属光沢部材の概略断面図である。 図２は、本発明の一実施形態に係る電磁波透過性金属光沢部材の表面の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ画像）を示す図である。 図３は、本発明の一実施形態による加飾部材の概略断面図である。 図４は、本発明の一実施形態に係る電磁波透過性金属光沢部材の金属光沢層の厚さの測定方法を説明するための図である。 図５は、本発明の一実施形態に係る電磁波透過性金属光沢部材の断面の電子顕微鏡写真（ＴＥＭ画像）を示す図である。
　以下、添付図面を参照しつつ、本発明の一つの好適な実施形態について説明する。以下においては、説明の便宜のために本発明の好適な実施形態のみを示すが、勿論、これによって本発明を限定しようとするものではない。
＜１．基本構成＞
　本発明の実施形態にかかる電磁波透過性金属光沢部材は、基体と、前記基体上に形成された金属光沢層とを備え、
　前記金属光沢層は、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含み、前記金属光沢層の膜厚が１０ｎｍ以下であり、ＣＩＥ－ＸＹＺ表色系のＳＣＩ測定における、波長３８０ｎｍ～７００ｎｍの光の透過Ｙ値が２５％～５０％である。
　図１に、本発明の一実施形態による電磁波透過性金属光沢部材１の概略断面図を示す。また、図２に、本発明の一実施形態による電磁波透過性金属光沢部材１の表面の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ画像）の一例を示す。
　図１に示すように、電磁波透過性金属光沢部材１は、基体１０と、基体１０の上に形成された、金属光沢層１２とを含む。電磁波透過性金属光沢部材１は、基体１０と金属光沢層１２との間に無機酸化物含有層をさらに備えていてもよく、無機酸化物含有層１１は酸化インジウム含有層であってもよい。金属光沢層１２は酸化インジウム含有層の上に形成されることが好ましい。
　無機酸化物含有層１１は、基体１０の面に設けられている。無機酸化物含有層１１は、基体１０の面に直接設けられていてもよいし、基体１０の面に設けた保護層等を介して間接的に設けられてもよい。無機酸化物含有層１１は、基体１０の面に連続状態で、言い換えれば、隙間なく、設けるのが好ましい。連続状態で設けることにより、無機酸化物含有層１１、ひいては、電磁波透過性金属光沢部材１の平滑性や耐食性を向上させることができ、また、無機酸化物含有層１１を面内にばらつきなく成膜することも容易となる。
　金属光沢層１２は無機酸化物含有層１１に積層される。金属光沢層１２は複数の部分１２ａを含む。無機酸化物含有層１１に積層されることにより、これらの部分１２ａは、少なくとも一部において互いに不連続の状態、言い換えれば、少なくとも一部において隙間１２ｂによって隔てられる。隙間１２ｂによって隔てられるため、これらの部分１２ａのシート抵抗は大きくなり、電波との相互作用が低下するため、電波を透過させることができる。これらの各部分１２ａは金属を蒸着、スパッタ等することによって形成されたスパッタ粒子の集合体である。スパッタ粒子が基体１０等の基体上で薄膜を形成する際には、基体上での粒子の表面拡散性が薄膜の形状に影響を及ぼす。
　なお、本明細書でいう「不連続の状態」とは、隙間１２ｂによって互いに隔てられており、この結果、互いに電気的に絶縁されている状態を意味する。電気的に絶縁されることにより、シート抵抗が大きくなり、所望とする電磁波透過性が得られることになる。不連続の形態は、特に限定されるものではなく、例えば、島状、クラック等が含まれる。
　ここで「島状」とは、図２の電磁波透過性金属光沢部材の金属光沢層の表面の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ画像）に示されているように、スパッタ粒子の集合体である粒子同士が各々独立しており、それらの粒子が、互いに僅かに離間し又は一部接触した状態で敷き詰められてなる構造を意味する。
　また、クラック構造とは、金属薄膜がクラックにより分断された構造である。
　クラック構造の金属光沢層１２は、例えば基体上に形成した無機酸化物含有層上に、金属薄膜層を設け、屈曲延伸して金属薄膜層にクラックを生じさせることにより形成することができる。この際、無機酸化物含有層と金属薄膜層の間に伸縮性に乏しい、即ち延伸によりクラックを生成しやすい素材からなる脆性層を設けることにより、容易にクラック構造の金属光沢層１２を形成することができる。
　上述のとおり金属光沢層１２が不連続となる態様は特に限定されないが、生産性の観点からは「島状」とすることが好ましい。
　本発明の実施形態にかかる電磁波透過性金属光沢部材は、金属光沢層の膜厚が１０ｎｍ以下であり、ＣＩＥ－ＸＹＺ表色系のＳＣＩ測定における、波長３８０ｎｍ～７００ｎｍの光の透過Ｙ値が２５％～５０％である。
　本発明の実施形態にかかる電磁波透過性金属光沢部材１の透過Ｙ値は、村上色彩株式会社製　ＤＯＴ３を用いて、ＪＩＳ７３６１－１に準じて測定できる。具体的には、実施例の欄に記載の方法で測定できる。
　電磁波透過性金属光沢部材における透過Ｙ値を特定の範囲とすることにより、優れた電磁波透過性を有し、十分な金属光沢が得られ、かつ、所望の透明性が得られることを見出した。これにより、電磁波透過性金属光沢部材を被着部材に貼付して加飾部材とした際に、光輝性が得られ、かつ、電磁波透過性金属光沢部材を介しても被着部材の表面形状を損なうことなく視認し得る。
　透過Ｙ値（視感透過率）は、波長３８０ｎｍ～７００ｎｍの光を電磁波透過性金属光沢部材における金属光沢層側の面（金属光沢層の基体を有する側とは反対側の面）に入射して測定した、ＣＩＥ－ＸＹＺ表色系のＳＣＩ測定における視感度および光源の光強度で荷重した平均透過率である。
　透過Ｙ値は、十分な透明度を得るためには２５％以上である必要があり、３０％以上であることが好ましく、３５％以上であることがより好ましい。また、金属光沢を得る観点から５０％以下である必要があり、４５％以下であることが好ましく、４０％以下であることがより好ましい。
　電磁波透過性金属光沢部材１の透過Ｙ値は、金属光沢層の膜厚及び成膜温度等により調整することができる。
　本実施形態に係る電磁波透過性金属光沢部材１は、金属光沢層側から、波長３８０ｎｍ～７００ｎｍの光を入射させた際の、透過光のＣＩＥ－Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるａ＊値が０．０～３．０であり、ｂ＊値が－３．０～１５．０であることが好ましい。
　ａ＊値は、２．５以下であることがより好ましく、１．５以下であることが更に好ましく、１．０以下であることがより更に好ましい。
　ｂ＊値は、１３．５以下であることがより好ましく、１２．０以下であることが更に好ましく、１０．０以下であることがより更に好ましい。
　また、ａ＊値及びｂ＊値の二乗和の平方根Ｃ＊は、１５．３以下であることが好ましい。ａ＊値及びｂ＊値の二乗和の平方根Ｃ＊を１５．３以下とすることで透過時の色づきを抑制することができる。ａ＊値及びｂ＊値の二乗和の平方根Ｃ＊の上限値に特に制限はないが、１３．７以下であることがより好ましく、１２．１以下であることが更に好ましく、１０．０以下であることがより更に好ましい。
　ＣＩＥ－Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系は、ＣＩＥ（国際照明委員会）が１９７６年に推奨した表色系で、Ｌ＊は明度を表わし、０から１００までで数値が大きいほど明るくなる。色度はａ＊、ｂ＊で表わし、ａ＊は色調の赤から緑の度合いを示す指数であり、ａ＊の値がプラス方向に大きいと赤色の色調になる。さらに、ｂ＊は色調の黄から青の度合いを示す指数であり、ｂ＊の値がプラス方向に大きいと黄色の色調になる。ａ＊値、ｂ＊値ともに０の場合には無彩色となる。
　また、電磁波透過性金属光沢部材１の電磁波透過性は、シート抵抗と相関を有する。
　電磁波透過性金属光沢部材のシート抵抗は、電磁波透過性の観点から、１００Ω／□以上であるのが好ましい。この場合、電波透過減衰量は、５ＧＨｚの波長において、１０～０．０１［－ｄＢ］程度となる。
　シート抵抗は、電磁波透過性の観点から、２００Ω／□以上であるのがより好ましく、６００Ω／□以上であることが更に好ましく、より更に好ましくは、１０００Ω／□以上である。
　電磁波透過性金属光沢部材１の電磁波透過性金属光沢部材のシート抵抗は２．５０Ｅ＋８Ω／□以上であることが好ましい。この場合、マイクロ波帯域（５ＧＨｚ）における電波透過減衰量は、０．１［－ｄＢ］未満程度となる。
　マイクロ波帯域（５ＧＨｚ）における電波透過減衰量は、１０［－ｄＢ］未満であることが好ましく、５［－ｄＢ］未満であることがより好ましく、２［－ｄＢ］未満であることが更に好ましい。マイクロ波帯域（５ＧＨｚ）における電波透過減衰量が１０［－ｄＢ］以上であると、９０％以上の電波が遮断されるという問題がある。
　電磁波透過性金属光沢部材１のシート抵抗は、ＪＩＳ－Ｚ２３１６－１：２０１４に従って渦電流測定法により測定することができる。
　電磁波透過性金属光沢部材１の電波透過減衰量及びシート抵抗は、無機酸化物含有層１１や金属光沢層１２の材質や厚さ等により影響を受ける。
＜２．基体＞
　本実施形態にかかる電磁波透過性金属光沢部材において、基体１０としては、電磁波透過性の観点から、樹脂、ガラス、セラミックス等が挙げられる。
　基体１０は、基材フィルム、樹脂成型物基材、ガラス基材、又は金属光沢を付与すべき物品のいずれかであってもよい。
　より具体的には、基材フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリスチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン、ポリシクロオレフィン、ポリウレタン、アクリル（ＰＭＭＡ）、ＡＢＳなどの単独重合体や共重合体からなる透明フィルムを用いることができる。
　これらの部材によれば、光輝性や電磁波透過性に影響を与えることもない。但し、無機酸化物含有層１１や金属光沢層１２を後に形成する観点から、蒸着やスパッタ等の高温に耐え得るものであることが好ましく、従って、上記材料の中でも、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ＡＢＳ、ポリプロピレン、ポリウレタンが好ましい。なかでも、耐熱性とコストとのバランスがよいことからポリエチレンテレフタレートやシクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、アクリルが好ましい。
　基材フィルムは、単層フィルムでもよいし積層フィルムでもよい。加工のし易さ等から、厚さは、例えば、６μｍ～２５０μｍ程度が好ましい。無機酸化物含有層１１や金属光沢層１２との付着力を強くするために、プラズマ処理や易接着処理などが施されてもよい。
　基体１０が基材フィルムの場合、金属光沢層１２は基材フィルム上の少なくとも一部に設ければよく、基材フィルムの片面のみに設けてもよく、両面に設けてもよい。
　基材フィルムは、必要に応じて平滑性、或いは防眩性ハードコート層が形成されていてもよい。ハードコート層が設けられることにより、金属薄膜の耐擦傷性を向上させる事ができる。平滑性ハードコート層が設けられることにより、金属光沢感が増し、逆に防眩性ハードコート層によりギラツキを防止する事ができる。ハードコート層は、硬化性樹脂を含有する溶液を塗布することにより形成できる。
　硬化性樹脂としては、熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂等が挙げられる。硬化性樹脂の種類としてはポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、アミド系、シリコーン系、シリケート系、エポキシ系、メラミン系、オキセタン系、アクリルウレタン系等の各種の樹脂があげられる。これら硬化性樹脂は、一種または二種以上を、適宜に選択して使用できる。これらの中でも、硬度が高く、紫外線硬化が可能で生産性に優れることから、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、およびエポキシ系樹脂が好ましい。
　ここで、基材フィルムは、その表面上に金属光沢層１２を形成することができる対象（基体１０）の一例にすぎない点に注意すべきである。基体１０には、上記のとおり基材フィルムの他、樹脂成型物基材、ガラス基材、金属光沢を付与すべき物品それ自体も含まれる。樹脂成型物基材、及び金属光沢を付与すべき物品としては、例えば、車両用構造部品、車両搭載用品、電子機器の筐体、家電機器の筐体、構造用部品、機械部品、種々の自動車用部品、電子機器用部品、家具、台所用品等の家財向け用途、医療機器、建築資材の部品、その他の構造用部品や外装用部品等が挙げられる。
　金属光沢層１２は、これら全ての基体上に形成することができ、基体の表面の一部に形成してもよく、基体の表面の全てに形成してもよい。この場合、金属光沢層１２を付与すべき基体１０は、上記の基材フィルムと同様の材質、条件を満たしていることが好ましい。
＜３．無機酸化物含有層＞
　また、一実施形態に係る電磁波透過性金属光沢部材１は、図１に示されるように、基体１０と金属光沢層１２の間に、無機酸化物含有層１１をさらに備えてもよい。無機酸化物含有層１１は、基体１０の面に直接設けられていてもよいし、基体１０の面に設けられた保護膜等を介して間接的に設けられてもよい。無機酸化物含有層１１は、金属光沢を付与すべき基体１０の面に連続状態で、言い換えれば、隙間なく、設けられるのが好ましい。連続状態で設けられることにより、無機酸化物含有層１１、ひいては、金属光沢層１２や電磁波透過性金属光沢部材１の平滑性や耐食性を向上させることができ、また、無機酸化物含有層１１を面内ばらつきなく成膜することも容易となる。
　このように、基体１０と金属光沢層１２の間に、無機酸化物含有層１１をさらに備えること、すなわち、基体１０の上に無機酸化物含有層１１を形成し、その上に金属光沢層１２を形成することによれば、金属光沢層１２を不連続の状態で形成しやすくなるため好ましい。そのメカニズムの詳細は必ずしも明らかではないが、金属の蒸着やスパッタによるスパッタ粒子が基体上で薄膜を形成する際には、基体上での粒子の表面拡散性が薄膜の形状に影響を及ぼし、基体の温度が高く、基体に対する金属光沢層の濡れ性が小さく、金属光沢層の材料の融点が低い方が不連続構造を形成しやすいと考えられる。そして、基体上に無機酸化物含有層を設けることにより、その表面上の金属粒子の表面拡散性が促進されて、金属光沢層を不連続の状態で成長させやすくなると考えられる。
　無機酸化物含有層１１としては、酸化インジウム含有層であることが好ましい。
　酸化インジウム含有層として、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）そのものを使用することもできるし、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）や、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のような金属含有物を使用することもできる。酸化インジウム含有層は、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、又はインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のいずれかを含むことが好ましい。但し、第二の金属を含有したＩＴＯやＩＺＯの方が、スパッタリング工程での放電安定性が高い点で、より好ましい。これらの無機酸化物含有層１１を用いることにより、基体の面に沿って連続状態の膜を形成することもでき、また、この場合には、無機酸化物含有層の上に積層される金属光沢層を、例えば、島状の不連続構造としやすくなるため、好ましい。更に、後述するように、この場合には、金属光沢層に、クロム（Ｃｒ）又はインジウム（Ｉｎ）だけでなく、通常は不連続構造になり難く、本用途には適用が難しかった、アルミニウム又はアルミニウム合金を含めやすくなる。
　ＩＴＯに含まれる酸化錫（ＳｎО２）の質量比率である含有率（含有率＝（ＳｎＯ２／（Ｉｎ２Ｏ３＋ＳｎＯ２））×１００）は特に限定されるものではないが、例えば、２．５質量％～３０質量％、より好ましくは、３質量％～１０質量％である。また、ＩＺＯに含まれる酸化亜鉛（ＺｎＯ）の質量比率である含有率（含有率＝（ＺｎＯ／（Ｉｎ２Ｏ３＋ＺｎＯ））×１００）は、例えば、２質量％～２０質量％である。
　無機酸化物含有層１１の厚さは、シート抵抗や電磁波透過性、生産性の観点から、通常１０００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下が更に好ましい。一方、積層される金属光沢層１２を不連続状態としやすくするためには、１ｎｍ以上であることが好ましく、確実に不連続状態にしやすくするためには、２ｎｍ以上であることがより好ましく、５ｎｍ以上であることが更に好ましい。
＜４．金属光沢層＞
　金属光沢層１２は基体上に形成され、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含み、膜厚が１０ｎｍ以下である必要がある。
　金属光沢層１２が基体上で連続状態である場合、十分な光輝性は得られるものの、電波透過減衰量が非常に大きくなり、従って、電磁波透過性を確保することはできない。
　金属光沢層１２が基体上で不連続状態となるメカニズムの詳細は必ずしも明らかではないが、おおよそ、次のようなものであると推測される。即ち、金属光沢層１２の薄膜形成プロセスにおいて、不連続構造の形成しやすさは、金属光沢層１２が付与される基体上での表面拡散と関連性があり、基体の温度が高く、基体に対する金属光沢層の濡れ性が小さく、金属光沢層の材料の融点が低い方が不連続構造を形成しやすい、というものである。
　ここで、複数の部分１２ａの平均粒径とは、複数の部分１２ａの円相当径の平均値を意味する。部分１２ａの円相当径とは、部分１２ａの面積に相当する真円の直径のことである。
　金属光沢層１２の部分１２ａの円相当径は特に限定されないが、通常１０～１０００ｎｍ程度である。また、各部分１２ａ同士の距離は特に限定されないが、通常は１０～１０００ｎｍ程度である。
　金属光沢層が含む互いに不連続の状態にある複数の部分１２ａの平均粒径を上記の範囲とすることにより、高い電磁波透過性を維持したまま、光輝性がより向上できる。
　金属光沢層１２は、十分な光輝性及び良好な所望の透明性を発揮し得ることは勿論、融点が比較的低いものであることが好ましい。金属光沢層１２は、スパッタリングを用いた薄膜成長によって形成するのが好ましいためである。
　このような理由から、金属光沢層１２としては、融点が約１０００℃以下の金属が適しており、アルミニウム又はアルミニウム合金を含有することが好ましい。
　また、上述の通り本発明の実施形態に係る電磁波透過性金属光沢部材１は、透過Ｙ値を上記の範囲とし、金属光沢層の膜厚を１０ｎｍ以下とする必要がある。金属光沢層の膜厚が従来のものに比べ薄いため、金属光沢層の形成に用いる金属の種類によっては、着色を呈する場合がある。意匠性の観点から着色を抑えた金属光沢が求められる場合には、金属光沢層の形成にアルミニウム又はアルミニウム合金を用いると、透過Ｙ値を特定の範囲とした電磁波透過性金属光沢部材であっても着色を抑えた金属光沢が得られる。
　金属光沢層１２としては、特に、光輝性や透明性、価格等の理由からＡｌ及びアルミニウム合金であることが好ましい。また、アルミニウム合金を用いる場合には、アルミニウム含有量を５０質量％以上とすることが好ましい。
　金属光沢層１２の厚さは、透過Ｙ値を所定の範囲とし、良好な所望の透明性を発揮するには１０ｎｍ以下である必要があり、８ｎｍ以下であることがより好ましく、６．５ｎｍ以下であることがさらに好ましい。また、十分な金属光沢を得るには４．５ｎｍ以上であることが好ましく、５．０ｎｍ以上であることがより好ましく、５．５ｎｍ以上であることがさらに好ましい。
　この厚さは、均一な膜を生産性良く形成するのにも適しており、また、最終製品である加飾部材や樹脂成形品の見栄えも良い。なお、金属光沢層１２の厚さは実施例の欄に記載の方法で測定できる。
　金属光沢層のシート抵抗は、１００Ω／□以上であるのが好ましい。この場合、電磁波透過性は、５ＧＨｚの波長において、１０～０．０１［－ｄＢ］程度となる。更に好ましくは、１０００Ω／□以上である。
　無機酸化物含有層を更に設ける場合、電磁波透過性金属光沢部材のシート抵抗は、電磁波透過性の観点から、１００Ω／□以上であるのが好ましい。この場合、電磁波透過性は、５ＧＨｚの波長において、１０～０．０１［－ｄＢ］程度となる。
　シート抵抗は、電磁波透過性の観点から、２００Ω／□以上であるのがより好ましく、６００Ω／□以上であることが更に好ましく、より更に好ましくは、１０００Ω／□以上である。このシート抵抗の値は、金属光沢層の材質や厚さは勿論のこと、下地層である無機酸化物含有層の材質や厚さからも大きな影響を受ける。よって、無機酸化物含有層を設ける場合は、無機酸化物含有層との関係も考慮したうえで設定する必要がある。
　本実施形態の電磁波透過性金属光沢部材には、本発明の効果を奏する限りにおいて上述の金属光沢層、無機酸化物含有層の他に、用途に応じてその他の層を設けてもよい。その他の層としては、粘着剤層、色味等の外観を調整するための高屈折材料等の光学調整層（色味調整層）、耐湿性や耐擦傷性等の耐久性を向上させるための保護層（耐擦傷性層）、バリア層（腐食防止層）、易接着層、光学調整層、ハードコート層、反射防止層、光取出し層、アンチグレア層等が挙げられる。
＜５．粘着剤層＞
　粘着剤層は、透明粘着剤からなる層である。本実施形態の電磁波透過性金属光沢部材は、透明粘着剤からなる粘着剤層をさらに備えることが好ましく、粘着剤層を介して被着部材に貼付されて用いられてもよい。例えば、基体が基材フィルムやガラス基材の場合、粘着剤層を介して透明な被着部材に貼付することで被着部材を内側から装飾することができる。
　粘着剤層を形成する粘着剤は透明粘着剤であれば特に限定されず、例えばアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、エポキシ系粘着剤、及びポリエーテル系粘着剤のいずれかを単独で、或いは、２種類以上を組み合わせて使用することができる。透明性、加工性及び耐久性などの観点から、アクリル系粘着剤を用いることが好ましい。
　粘着剤層の厚みは特に限定されないが、薄くすることで可視光透過性や膜厚精度、平坦性を向上させることができるため、１００μｍ以下であることが好ましく、７５μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以下であることがさらに好ましい。
　粘着剤層全体の全光線透過率は特に限定はされないが、ＪＩＳ　Ｋ７３６１に従って測定した任意の可視光波長における値で１０％以上であることが好ましく、３０％以上であることがより好ましく、５０％以上であることがさらに好ましい。粘着剤層の全光線透過率は、高いほど好ましい。
　また、粘着剤層を構成する透明粘着剤は着色されていてもよい。
　この場合、例えば、図３中に示す電磁波透過性金属光沢部材の構成においては、良好な所望の透明性を有する金属光沢層を介して着色された粘着剤層が視認されることとなるので、電磁波透過性金属光沢部材１は粘着剤層の色調を変えることなく着色された金属光沢を発現することができる。
　透明粘着剤を着色する方法は特に限定されないが、例えば色素を微量添加することにより着色することができる。
　粘着剤層の上には、被着部材に貼付する際まで粘着剤層を保護するために、剥離ライナーを設けてもよい。
＜６．バリア層＞
　本実施形態の電磁波透過性金属光沢部材は、金属光沢層１２の基体１０とは反対側の面にバリア層を備えていてもよい。
　バリア層は、金属光沢層１２の酸化（腐食）を抑制するための層である。バリア層は、金属および半金属の少なくとも１種の酸化物、窒化物、炭化物、酸化窒化物、酸化炭化物、窒化炭化物および酸化窒化炭化物からなる群より選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましい。金属としては、例えば、アルミニウム、チタン、インジウム、マグネシウムなどを用いることができ、半金属としては、例えば、ケイ素、ビスマス、ゲルマニウムなどを用いることができる。
　具体的には、例えばＺｎＯ＋Ａｌ２Ｏ３（ＡＺＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化炭化窒化ケイ素膜（ＳｉＯＣＮ）、酸化窒化ケイ素膜（ＳｉＯＮ）、窒化ケイ素膜（ＳｉＮ）、ＳｉＯＸ、ＡｌＯＸ、ＡｌＯＮ、ＴｉＯＸ等を用いることができる。
　また、バリア性の向上のためには、バリア層は水蒸気を透過しにくいことが好ましい。バリア層の水蒸気の透過の度合いは種々の方法により評価できるが、例えば、水蒸気透過量を用いて評価することができる。バリア性の向上のためには、当該水蒸気透過量が３ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが好ましく、１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることがより好ましく、０．５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが更に好ましい。
　バリア層の水蒸気透過量は、例えば、ＭＯＣＯＮ社製水蒸気透過度測定装置ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ－Ｗ　Ｍｏｄｅｌ３／３３を用いて測定することができる。
　バリア層の厚みは特に限定はされないが、バリア性を向上させるためには５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましく、２０ｎｍ以上が更に好ましい。また、電磁波透過性や外観の金属光沢感を向上させるためには１００ｎｍ以下が好ましく、７０ｎｍ以下がより好ましく、５０ｎｍ以下が更に好ましい。
＜７．電磁波透過性金属光沢部材の製造＞
　電磁波透過性金属光沢部材の製造方法の一例について、説明する。特に説明しないが、基材フィルム以外の基体を用いた場合についても同様の方法で製造することができる。
　基体１０上に金属光沢層１２を形成するにあたっては、例えば、真空蒸着、スパッタリング等の方法を用いることができる。
　また、基体１０上に無機酸化物含有層１１を形成する場合には、金属光沢層１２の形成に先立ち、無機酸化物含有層１１を、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等によって形成する。但し、大面積でも厚さを厳密に制御できる点から、スパッタリングが好ましい。
　粘着剤層を設ける場合には、粘着剤層を設ける面に粘着剤組成物を塗布等することにより形成できる。
　粘着剤組成物の塗布は、慣用のコーター、例えば、グラビヤロールコーター、リバースロールコーター、キスロールコーター、ディップロールコーター、バーコーター、ナイフコーター、スプレーコーターなどを用いて行うことができる。乾燥温度は、適宜採用可能であるが、好ましくは４０℃～２００℃であり、さらに好ましくは、５０℃～１８０℃であり、特に好ましくは７０℃～１２０℃である。乾燥時間は、適宜、適切な時間が採用され得る。上記乾燥時間は、好ましくは５秒～２０分、さらに好ましくは５秒～１０分、特に好ましくは、１０秒～５分である。
　尚、基体１０と金属光沢層１２の間に無機酸化物含有層１１を設ける場合、無機酸化物含有層１１と金属光沢層１２の間には、他の層を介在させずに直接接触させるのが好ましい。
＜８．加飾部材＞
　本実施形態に係る加飾部材は、被着部材と、上述の電磁波透過性金属光沢部材とを備え、前記電磁波透過性金属光沢部材（電磁波透過性金属光沢部材１）が前記粘着剤層を介して前記被着部材に貼付されている。
　本実施形態に係る加飾部材は、被着部材と、透明粘着剤からなる粘着剤層を備える上述の電磁波透過性金属光沢部材とを備え、前記電磁波透過性金属光沢部材が前記粘着剤層を介して前記被着部材に貼付されていることが好ましい。
　図３に、本発明の一実施形態による加飾部材２の概略断面図を示す。本発明の一実施形態による加飾部材２は、電磁波透過性金属光沢部材１が被着部材１５に貼付された状態の概略断面図である。本実施形態の加飾部材２は、金属光沢層１２、無機酸化物含有層１１、基体１０（基材フィルム）、及び粘着剤層１４を備えた電磁波透過性金属光沢部材１が被着部材１５に貼付されている。
　本実施形態の電磁波透過性金属光沢部材１は、電磁波透過性金属光沢部材１が黄色味等の着色を抑えた金属光沢を有し、視認性に優れるため、被着部材１５の表面に設けた意匠、色及び質感をそのまま活かしつつ被着部材１５を装飾した加飾部材２を得ることができる。
　電磁波透過性金属光沢部材１は、透明な被着部材１５の内側の面に貼付して用いてもよい。透明な被着部材１５としては、例えば、ガラスやプラスチックからなる部材を使用することもできるが、これに限定されるものではない。
　電磁波透過性金属光沢部材１を被着部材１５に貼付する方法は特に限定されないが、例えば真空成形により貼付することができる。真空成形とは、電磁波透過性金属光沢部材１を加熱軟化しつつ展張し、電磁波透過性金属光沢部材１の被着部材側の空間を減圧し、必要に応じ反対側の空間を加圧することにより、電磁波透過性金属光沢部材１を被着部材の表面の三次元立体形状に沿って成形しつつ貼付積層する方法である。
　電磁波透過性金属光沢部材１としては、上述の説明をそのまま援用し得る。
＜９．電磁波透過性金属光沢部材及び加飾部材の用途＞
　本実施形態の電磁波透過性金属光沢部材及び加飾部材は、電磁波透過性を有することから電磁波を送受信する装置や物品及びその部品等に使用することが好ましい。例えば、車両用構造部品、車両搭載用品、電子機器の筐体、家電機器の筐体、構造用部品、機械部品、種々の自動車用部品、電子機器用部品、家具、台所用品等の家財向け用途、医療機器、建築資材の部品、その他の構造用部品や外装用部品等が挙げられる。
　より具体的には、車両関係では、インスツルメントパネル、コンソールボックス、ドアノブ、ドアトリム、シフトレバー、ペダル類、グローブボックス、バンパー、ボンネット、フェンダー、トランク、ドア、ルーフ、ピラー、座席シート、ステアリングホイール、ＥＣＵボックス、電装部品、エンジン周辺部品、駆動系・ギア周辺部品、吸気・排気系部品、冷却系部品等が挙げられる。
　電子機器および家電機器としてより具体的には、冷蔵庫、洗濯機、掃除機、電子レンジ、エアコン、照明機器、電気湯沸かし器、テレビ、時計、換気扇、プロジェクター、スピーカー等の家電製品類、パソコン、携帯電話、スマートフォン、デジタルカメラ、タブレット型ＰＣ、携帯音楽プレーヤー、携帯ゲーム機、充電器、電池等電子情報機器等が挙げられる。
　以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明する。電磁波透過性金属光沢部材を作製し評価を行った。なお、基体１０としては、基材フィルムを用いた。
　評価方法の詳細は以下のとおりである。
＜透過率測定＞
　透過率測定サンプル（電磁波透過性金属光沢部材）を、積分球式分光透過率測定器　ＤＯＴ－３Ｃ（（株）村上色彩技術研究所製）で、標準光源Ｄ６５により波長３８０ｎｍ～７００ｎｍの範囲の可視光線を金属光沢層側の面（金属光沢層の基体を有する側とは反対側の面）に入射して透過率測定を行い、透過特性（透過Ｙ値、ａ＊値及びｂ＊値）を得た。得られた透過Ｙ値、ａ＊値及びｂ＊値を表１に記載した。
＜膜厚＞
　金属光沢層におけるバラツキ、更に詳細には、図２に示す部分１２ａの厚さにおけるバラツキを考慮して、部分１２ａの厚さの平均値を金属光沢層の厚さ（Ａｌ膜厚（ｎｍ））とした。なお、個々の部分１２ａの厚さは、基体１０から垂直方向に最も厚いところの厚さとした。以下、この平均値を、便宜上、「最大の厚さ」と呼ぶ。図５に、電磁波透過性金属光沢部材の断面の電子顕微鏡写真（ＴＥＭ画像）の例を示す。
　最大の厚さを求めるに際し、まず、図５に示すような電磁波透過性金属光沢部材の表面に現れた金属光沢層において、図４に示すような一辺５ｃｍの正方形領域３を適当に抽出し、該正方形領域３の縦辺及び横辺それぞれの中心線Ａ、Ｂをそれぞれ４等分することによって得られる計５箇所の点「ａ」～「ｅ」を測定箇所として選択した。
　次いで、選択した測定箇所それぞれにおける、図５に示すような断面画像において、おおよそ５個の部分１２ａが含まれる視野角領域を抽出した。これら計５箇所の測定箇所それぞれにおける、おおよそ５個の部分１２ａ、即ち、２５個（５個×５箇所）の部分１２ａの個々の厚さ（ｎｍ）を求め、それらの平均値を「最大の厚さ」とした。
＜透過色相＞
　透過率測定により得られたａ＊値及びｂ＊値を基に色相を評価した。
　〇：ａ＊値が０．０～３．０かつｂ＊値が－３．０～１５．０の範囲である。
　×：ａ＊値又はｂ＊値が上記以外である。
＜反射率測定＞
　実施例および比較例で得られた電磁波透過性金属光沢部材を５０ｍｍ角サイズに切り出し、切り出した電磁波透過性金属光沢部材の基体側の面を粘着剤ＣＳ９８６１ＵＡＳ（日東電工（株）製）を介して黒アクリル板に貼り付けた評価サンプルの分光反射率（波長：３８０～７８０ｎｍ、入射角：５°）を、分光光度計（日立ハイテクノロジー社製、商品名「Ｕ－４１００」）を用いて、測定した。上記で測定した波長３８０～７８０ｎｍの分光反射率と、ＣＩＥ標準イルミナントＤ６５の相対分光分布を用いて、ＪＩＳ　Ｚ８７０１で規定されているＸＹＺ表色系における、反射による物体色の視感度反射率Ｙ（三刺激値Ｙ）を計算した。
＜島状＞
　ナプソン社製非接触抵抗測定装置ＮＣ―８０ＭＡＰを用い、ＪＩＳ－Ｚ２３１６に準拠し、渦電流測定法により電磁波透過性金属光沢部材のシート抵抗を測定し、島状判断（金属光沢層が連続か不連続かの判断）を実施した
　〇（良好）：金属光沢層が不連続の状態のため、シート抵抗が１００Ω／□以上である。
　×（不良）：金属光沢層が連続した状態のため、シート抵抗が１００Ω／□未満である。
＜視認性＞
　（デザイン層を備えるフィルムの作製及び外観の評価）
　得られた電磁波透過性金属光沢部材の基材フィルムにおける金属光沢層とは反対側の面にデザイン層を積層し、デザイン層を備えるフィルムを得た。なお、デザイン層は３Ｍ社製ＯＨＰフィルムＴＹー７７１にレーザープリンタを用いてデザイン印刷を行ったものを用いた。
　得られたデザイン層を備えるフィルムのデザイン層側の面を、粘着剤層ＣＳ９８６１ＵＡＳ（日東電工（株）製）を介して黒アクリル板に張り付けたサンプルを評価サンプルとした。評価サンプルを垂直方向から観察し、下記の評価基準により視認性を評価した。
　〇（良好）：デザインが視認でき、かつ金属光沢のある反射が視認できる。
　×（不良）：デザインが視認できない、もしくはデザインは視認できるが、反射率が１２％よりも低く、金属光沢のある反射が視認できない。
［実施例１］
　基材フィルムとして、ＨＣ－ＰＥＴ（東レ株式会社製ＰＥＴフィルム５０－Ｕ４８３（厚さ５０μｍ）に厚み２μｍの紫外線硬化樹脂層（ハードコート層）を形成したフィルム）を用いた。
　先ず、ＤＣマグネトロンスパッタリング装置にＩＴＯターゲットを取り付け、Ａｒガスを導入しながらスパッタリングをする事で基材フィルムの面に沿って、５ｎｍの厚さのＩＴＯ層を紫外線硬化樹脂層の上に直接形成した。ＩＴＯ層を形成する際の基材フィルムの温度（成膜温度）は、２０℃に設定した。ＩＴＯに含まれる酸化錫（ＳｎО２）の含有率（含有率＝（ＳｎＯ２／（Ｉｎ２Ｏ３＋ＳｎＯ２））×１００）は１０質量％である。
　ＤＣマグネトロンスパッタリング装置にアルミニウム（Ａｌ）ターゲットを取り付け、Ａｒガスを導入しながらスパッタリングする事でＩＴＯ層の上に金属光沢層としてＡｌ層を４．５ｎｍ形成した。Ａｌ層を形成する際の基材フィルムの温度は、２０℃に設定した。次いで、ＭＦ－ＡＣマグネトロンスパッタリング装置にアルミニウム（Ａｌ）ターゲットを取り付け、ＡｒガスおよびＯ２ガスを導入しながら反応性スパッタリングにてＡｌＯｘ層を２０ｎｍ形成し、実施例１の積層体を得た。得られたＡｌ層は不連続層であった。
　以上により基体（基材フィルム、及びハードコート層）、酸化インジウム含有層、金属光沢層、及びバリア層の積層体である実施例１の電磁波透過性金属光沢部材を得た。得られた電磁波透過性金属光沢部材の透過特性を上記の方法により測定し、表１に記載した。
　被着部材として、表面に意匠を施した厚み０．７ｍｍのガラスを用い、上記で得られた電磁波透過性金属光沢部材を、粘着剤ＣＳ９８６１ＵＡＳ（日東電工（株）製）を用いて被着部材に貼付し、電磁波透過性金属光沢部材の基材フィルム側の面と被着部材とが粘着剤を介して貼り合わされた加飾部材を得た。
［実施例２～９、比較例２～８］
　実施例１における基材、金属光沢層の厚み（ｎｍ）、及びＩＴＯ層およびＡｌ層の成膜温度を表１に記載のとおりに変更し、電磁波透過性金属光沢部材、及び加飾部材を得た。
　実施例６及び比較例２ではＰＥＴフィルム（東レ株式会社製ＰＥＴフィルム５０－Ｕ４８３（厚さ５０μｍ））を基材として用いた。
［実施例１０～１２、比較例９］
　実施例１におけるＡｌ層を形成する際の放電時にＡｒ流量とＯ２流量の比をＯ２／Ａｒ流量比を表１に記載のとおりに変更し、さらに、ＩＴＯ層、Ａｌ層の成膜温度を表１に記載の通りに変更し、電磁波透過性金属部材、及び加飾部材を得た。
［比較例１］
　実施例１における基材、ＩＴＯ層の成膜温度、及び金属光沢層の厚み（ｎｍ）を表１に記載のとおりに変更し、比較例１の積層体を得た。比較例１の積層体における金属光沢層（Ａｌ層）は連続層であった。
　実施例１の電磁波透過性金属光沢部材の代わりに比較例１の積層体を用いて比較例１の加飾部材を得た。
　以下の表１に、評価結果を示す。表１中、Ｏ２／Ａｒ流量比は体積流量比を表し、Ａｌ膜厚（金属光沢層の膜厚）の単位は「ｎｍ」、透過Ｙ値、反射Ｙ値の単位は「％」である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１から明らかなように、実施例１～１２の電磁波透過性金属光沢部材は、金属光沢層の膜厚（Ａｌ膜厚）が１０ｎｍ以下であり、透過Ｙ値が２５％～５０％であることから、優れた電磁波透過性を有し、高い透過性と金属光沢を示し、基材フィルムに積層したデザイン層が視認可能な加飾部材が製造可能であった。また、実施例１～１２の電磁波透過性金属光沢部材はａ＊値が０．０～３．０、ｂ＊値が－３．０～１５．０であるため、着色が抑えられ色相に優れた。
　一方、比較例１の電磁波透過性金属光沢部材は金属光沢層が連続層であり、電磁波透過性を示さなかった。比較例３、５、７及び８の電磁波透過性金属光沢部材は透過Ｙ値が２５％未満であり、透明性に劣り、得られた加飾部材はデザイン層が視認できなかった。比較例５、７の電磁波透過性金属光沢部材は色相にも劣った。また、比較例１、２、４及び９の電磁波透過性金属光沢部材は反射率が１２％未満と低く、金属調の外観が得られなかった。
　比較例６の電磁波透過性金属光沢部材は、透過Ｙ値が２５％～５０％の範囲内であるが金属光沢層の膜厚が１０ｎｍ以上であり、実施例の電磁波透過性金属光沢部材に比べ色相に劣った。
　本発明は前記実施例に限定されるものではなく、発明の趣旨から逸脱しない範囲で適宜変更して具体化することもできる。
　本発明に係る電磁波透過性金属光沢部材は、電磁波を送受信する装置や物品及びその部品等に使用することができる。例えば、車両用構造部品、車両搭載用品、電子機器の筐体、家電機器の筐体、構造用部品、機械部品、種々の自動車用部品、電子機器用部品、家具、台所用品等の家財向け用途、医療機器、建築資材の部品、その他の構造用部品や外装用部品等、意匠性と電磁波透過性の双方が要求される様々な用途にも利用できる。
　本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
　本出願は、２０２０年６月３０日出願の日本特許出願（特願２０２０－１１２８９９）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
１　電磁波透過性金属光沢部材
２　加飾部材
１０　基体
１１　無機酸化物含有層
１２　金属光沢層
１２ａ　部分
１２ｂ　隙間
１４　粘着剤層
１５　被着部材

Claims (13)

  1. 　基体と、前記基体上に形成された金属光沢層とを備え、
    　前記金属光沢層は、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含み、
    　前記金属光沢層の膜厚が１０ｎｍ以下であり、
    　ＣＩＥ－ＸＹＺ表色系のＳＣＩ測定における、波長３８０ｎｍ～７００ｎｍの光の透過Ｙ値が２５％～５０％である、電磁波透過性金属光沢部材。
  2. 　前記電磁波透過性金属光沢部材における前記金属光沢層側から、波長３８０ｎｍ～７００ｎｍの光を入射させた際の、透過光のＣＩＥ－Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるａ＊値が０．０～３．０、ｂ＊値が－３．０～１５．０である、請求項１に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
  3. 　前記金属光沢層はアルミニウム又はアルミニウム合金を含有する、請求項１又は２に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
  4. 　前記基体と前記金属光沢層との間に無機酸化物含有層をさらに備える、請求項１～３のいずれか一項に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
  5. 　前記無機酸化物含有層が酸化インジウム含有層である、請求項４に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
  6. 　前記酸化インジウム含有層は、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、又はインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のいずれかを含む、請求項５に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
  7. 　前記無機酸化物含有層は連続状態で設けられている、請求項４～６のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
  8. 　前記無機酸化物含有層の厚さは、１ｎｍ～１０００ｎｍである、請求項４～７のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
  9. 　シート抵抗が、１００Ω／□以上である、請求項１～８のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
  10. 　前記複数の部分は島状に形成されている、請求項１～９のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
  11. 　前記基体は、基材フィルム、樹脂成型物基材、ガラス基材、又は金属光沢を付与すべき物品のいずれかである、請求項１～１０のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
  12. 　透明粘着剤からなる粘着剤層をさらに備える、請求項１～１１のいずれか１項に記載の電磁波透過性金属光沢部材。
  13. 　被着部材と、請求項１２に記載の電磁波透過性金属光沢部材とを備え、前記電磁波透過性金属光沢部材が前記粘着剤層を介して前記被着部材に貼付されている、加飾部材。
     
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