JP2022102748A - 積層体及び加飾部材 - Google Patents

Abstract

【課題】良好な金属光沢を有し、かつ透明性にも優れ、金属光沢層を有する面の反対側の面における反射率が高い積層体及び加飾部材を提供する。【解決手段】本発明は、基体と、前記基体上に形成された金属光沢層と、光学調整層とを備えた積層体であって、前記積層体における基体側の面は、波長３６５ｎｍの光の反射率が２０％以上であり、前記積層体における基体の金属光沢層を形成した側の面に、波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光を入射させた際の、透過光のＣＩＥ－ＸＹＺ表色系におけるＹ値である透過Ｙ値が２０％以上である積層体に関する。【選択図】図１

Description

本発明は、積層体及び加飾部材に関する。

従来、電磁波透過性及び金属光沢を有する装飾部材としては、基材に例えばインジウム等の金属を真空蒸着して得られる、島状構造を有する金属層を形成した部材が知られている。

このような部材は、その金属光沢に由来する外観の高級感と、電磁波透過性とを兼ね備えることから、電磁波を送受信する装置の装飾に好適に用いられている。例えば、携帯電話機やスマートフォン、コンピューター等の筐体や、自動車のフロント部分の装飾等に使用されている。さらに、近年ではＩｏＴ技術の発達に伴い、家電製品や生活機器等にも通信機能が備えられ、より幅広い分野での応用も期待される。

積層体に関して、特許文献１には、透明基材フィルムと、前記透明基材フィルムの片面上に形成された金属層とを備え、金属層は、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる不連続な層であって、可視光を透過する層であり、光源は前記透明基材フィルムの金属層側とは反対側に配置され、光源とともに用いられる電磁波透過性ハーフミラー調フィルムが開示されている。

特開２０１９－１２３２２４号公報

電磁波透過性ハーフミラー調フィルムには、更に樹脂層等の他の層を積層させる場合があり、各層の形成に時間を要するため生産効率の改善が望まれている。
しかしながら、従来の技術においては、ハーフミラー調フィルムに他の層を積層する場合の生産効率について着目した検討はなされていない。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、良好な金属光沢を有し、かつ透明性にも優れ、金属光沢層を有する面の反対側の面における反射率が高い積層体及び加飾部材を提供することを目的とする。

本発明者等は、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、基体と、前記基体上に形成された金属光沢層と、光学調整層とを備え、積層体における基体側の面を、波長３６５ｎｍの光の反射率が２０％以上とし、積層体における基体の金属光沢層を形成した側の面に、波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光を入射させた際の、透過光のＣＩＥ－ＸＹＺ表色系におけるＹ値である透過Ｙ値が２０％以上である積層体とすることにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は以下のとおりである。
〔１〕
基体と、前記基体上に形成された金属光沢層と、光学調整層とを備えた積層体であって、
前記積層体における基体側の面は、波長３６５ｎｍの光の反射率が２０％以上であり、
前記積層体における基体の金属光沢層を形成した側の面に、波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光を入射させた際の、透過光のＣＩＥ－ＸＹＺ表色系におけるＹ値である透過Ｙ値が２０％以上である積層体。
〔２〕
前記光学調整層は、屈折率が１．７５以上の高屈折率層を含む、〔１〕に記載の積層体。
〔３〕
前記金属光沢層は、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含む、〔１〕又は〔２〕に記載の積層体。
〔４〕
前記複数の部分は島状に形成されている、〔３〕に記載の積層体。
〔５〕
前記金属光沢層はアルミニウム又はアルミニウム合金を含有する、〔１〕～〔４〕のいずれか１項に記載の積層体。
〔６〕
前記基体と前記金属光沢層との間に無機酸化物含有層をさらに備える、〔１〕～〔３〕のいずれか１項に記載の積層体。
〔７〕
前記無機酸化物含有層が酸化インジウム含有層である、〔６〕に記載の積層体。
〔８〕
前記光学調整層が低屈折率層を更に含む、〔１〕～〔７〕のいずれか１項に記載の積層体。
〔９〕
前記金属光沢層の厚さは、３ｎｍ～１０ｎｍである、〔１〕～〔８〕のいずれか１項に記載の積層体。
〔１０〕
前記基体は、基材フィルム、樹脂成型物基材、ガラス基材、または金属光沢を付与すべき物品のいずれかである、〔１〕～〔９〕のいずれか１項に記載の積層体。
〔１１〕
透明粘着剤からなる粘着剤層をさらに備える、〔１〕～〔１０〕のいずれか１項に記載の積層体。
〔１２〕
被着部材と、〔１１〕に記載の積層体とを備え、前記積層体が前記粘着剤層を介して前記被着部材に貼付されている、加飾部材。

本発明によれば、良好な金属光沢を有し、かつ透明性にも優れ、金属光沢層を有する面の反対側の面における反射率が高い積層体及び加飾部材を提供することができる。

図１は、本発明の一実施形態に係る積層体の概略断面図である。 図２は、本発明の一実施形態に係る積層体の金属光沢層表面の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ画像）を示す図である。 図３は、本発明の一実施形態に係る積層体の概略断面図である。 図４は、本発明の一実施形態に係る積層体の概略断面図である。 図５は、本発明の一実施形態に係る積層体の金属光沢層の厚さの測定方法を説明するための図である。 図６は、本発明の一実施形態に係る積層体の断面の電子顕微鏡写真（ＴＥＭ画像）を示す図である。 図７は、実施例１～５及び比較例１の積層体について、波長３００ｎｍ～５００ｎｍの可視光線を積層体の基体側の面に入射した場合の入射光の波長と反射率との関係を示す図である。

以下、添付図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について説明する。以下においては、説明の便宜のために本発明の好適な実施形態のみを示すが、勿論、これによって本発明を限定しようとするものではない。

＜基本構成＞
本発明の実施形態にかかる積層体は、基体と、前記基体上に形成された金属光沢層と、光学調整層とを備えた積層体であって、
前記積層体における基体側の面は、波長３６５ｎｍの光の反射率が２０％以上であり、
前記積層体における基体の金属光沢層を形成した側の面に、波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光を入射させた際の、透過光のＣＩＥ－ＸＹＺ表色系におけるＹ値である透過Ｙ値が２０％以上である。

図１に、本発明の一実施形態による積層体１００の概略断面図を示す。また、図２に、本発明の一実施形態による積層体１００の金属光沢層表面の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ画像）の一例を示す。

図１に示すように、積層体１００は、基体１０と、基体１０の上に形成された、金属光沢層１２と、光学調整層１３とを備える。積層体１００は、基体１０と金属光沢層１２との間に無機酸化物含有層１１を更に備えていてもよい。金属光沢層１２は無機酸化物含有層１１の上に形成されることが好ましい。なお、本発明の実施形態に係る積層体１００において、基体１０と金属光沢層１２との間に必要に応じて設けられる層は無機酸化物含有層１１に限定されず、その他の層であることもできる。

無機酸化物含有層１１は、その下の面上に連続状態で、言い換えれば、隙間なく、設けるのが好ましい。

図１に示す形態では、金属光沢層１２は無機酸化物含有層１１上に積層されている。金属光沢層１２は複数の部分１２ａを含む。無機酸化物含有層１１上に積層されることにより、これらの部分１２ａは、少なくとも一部において互いに不連続の状態、言い換えれば、少なくとも一部において隙間１２ｂによって隔てられる。隙間１２ｂによって隔てられるため、これらの部分１２ａのシート抵抗は大きくなり、電波との相互作用が低下するため、電波を透過させることができる。これらの各部分１２ａは金属を蒸着、スパッタ等することによって形成されたスパッタ粒子の集合体である。スパッタ粒子が基体１０等の基体上で薄膜を形成する際には、基体上での粒子の表面拡散性が薄膜の形状に影響を及ぼす。

なお、本明細書でいう「不連続の状態」とは、隙間１２ｂによって互いに隔てられており、この結果、互いに電気的に絶縁されている状態を意味する。電気的に絶縁されることにより、シート抵抗が大きくなり、所望とする電磁波透過性が得られることになる。不連続の形態は、特に限定されるものではなく、例えば、島状、クラック等が含まれる。

ここで「島状」とは、図２の積層体の金属光沢層の表面の電子顕微鏡写真（ＳＥＭ画像）に示されているように、スパッタ粒子の集合体である粒子同士が各々独立しており、それらの粒子が、互いに僅かに離間し、または一部接触した状態で敷き詰められてなる構造を意味する。

また、クラック構造とは、金属薄膜がクラックにより分断された構造である。
クラック構造の金属光沢層１２は、例えば基体上に形成した無機酸化物含有層１１上に、金属薄膜層を設け、屈曲延伸して金属薄膜層にクラックを生じさせることにより形成することができる。この際、無機酸化物含有層１１と金属薄膜層の間に伸縮性に乏しい、即ち延伸によりクラックを生成しやすい素材からなる脆性層を設けることにより、容易にクラック構造の金属光沢層１２を形成することができる。

上述のとおり金属光沢層１２が不連続となる態様は特に限定されないが、生産性の観点からは「島状」とすることが好ましい。

本発明の実施形態にかかる積層体は、積層体における基体側の面は、波長３６５ｎｍの光の反射率が２０％以上であり、積層体における基体の金属光沢層を形成した側の面に、波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光を入射させた際の、透過光のＣＩＥ－ＸＹＺ表色系におけるＹ値である透過Ｙ値が２０％以上である。

本発明の実施形態にかかる積層体における、上記反射率は、積層体１００における基体１０側の面に波長３６５ｎｍの光を入射した際の反射光の反射率を測定した値である。

本発明の実施形態にかかる積層体１００は様々な用途に用いることができ、他の層を積層して用いることも可能であり、例えば、基体１０側の面にＵＶ硬化樹脂を含む樹脂層を設ける場合がある。その際、基体１０側の面にＵＶ硬化樹脂組成物を塗布し、波長２００ｎｍ～４００ｎｍの光を照射して硬化することにより樹脂層を形成することができる。そして、生産効率の観点から硬化に要する時間の短縮が求められていた。
本発明の実施形態にかかる積層体は、基体１０側の面における、波長３６５ｎｍの光の反射率を２０％以上とすることにより、基体１０側の面にＵＶ硬化樹脂組成物を塗布して硬化させる場合、照射した光だけでなく、ＵＶ硬化樹脂組成物及び基体１０を透過して金属光沢層及び光学調整層により反射した反射光によっても硬化させることが可能となる。それにより、硬化に要する時間を大幅に短縮することができる。

本発明の実施形態にかかる積層体の基材側の面における波長３６５ｎｍの光の反射率は、生産性向上の観点から３０％以上であることが好ましい。

本発明の実施形態にかかる積層体の反射率は、分光光度計Ｕ４１００（（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用いて測定できる。
そして、積層体の反射率は、金属光沢層１２の膜厚、及び光学調整層１３の膜厚構成により調整できる。

本発明の実施形態にかかる積層体における、上記透過Ｙ値（視感透過率）は、積層体１００における金属光沢層１２側の面に入射して測定した測定波長の範囲の視感度及び光源の光強度で荷重した平均透過率である。
透過Ｙ値は、透過によるデザインの視認性の観点から３０％以上であることが好ましい。また、金属光沢外観の観点から６５％以下であることが好ましい。

積層体における透過Ｙ値を特定の範囲とすることにより、優れた電磁波透過性を有し、着色を抑えた金属光沢が得られ、かつ、良好な透明性が得られる。これにより、積層体を被着部材に貼付して加飾部材とした際に、積層体を介しても被着部材の表面形状や色を損なうことなく視認し得る。

また、積層体の電磁波透過性は、シート抵抗と相関を有する。
マイクロ波帯域（２８ＧＨｚ）における電波透過減衰量は、１０［－ｄＢ］未満であることが好ましく、５［－ｄＢ］未満であることがより好ましく、２［－ｄＢ］未満であることが更に好ましい。マイクロ波帯域（２８ＧＨｚ）における電波透過減衰量が１０［－ｄＢ］以上であると、９０％以上の電波が遮断されるという問題がある。

積層体の電波透過減衰量及びシート抵抗は、無機酸化物含有層１１や金属光沢層１２の材質や厚さ等により影響を受ける。

＜基体＞
本実施形態にかかる積層体において、基体１０としては、基体側の面の反射率を上記の範囲とする観点から、例えば、樹脂、ガラス、セラミックス等が挙げられる。
基体１０は、基材フィルム、樹脂成型物基材、ガラス基材、または金属光沢を付与すべき物品のいずれかであってもよい。
より具体的には、基材フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリスチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン、ポリシクロオレフィン、ポリウレタン、アクリル系樹脂（ＰＭＭＡ）、ＡＢＳなどの単独重合体や共重合体からなる透明フィルムを用いることができる。

これらの部材によれば、反射率や、光輝性、電磁波透過性に影響を与えることもない。但し、無機酸化物含有層１１や金属光沢層１２を後に形成する観点から、蒸着やスパッタ等の高温に耐え得るものであることが好ましく、従って、上記材料の中でも、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アクリル、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ＡＢＳ、ポリプロピレン、ポリウレタンが好ましい。なかでも、耐熱性とコストとのバランスがよいことからポリエチレンテレフタレートやシクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、アクリル系樹脂が好ましい。

基材フィルムは、単層フィルムでもよいし積層フィルムでもよい。加工のし易さ等から、厚さは、例えば、６μｍ～２５０μｍ程度が好ましい。無機酸化物含有層１１や金属光沢層１２との付着力を強くするために、プラズマ処理や易接着処理などが施されてもよい。
基体１０が基材フィルムの場合、金属光沢層１２は基材フィルム上の少なくとも一部に設ければよく、基材フィルムの片面のみに設けてもよく、両面に設けてもよい。

基材フィルムは、必要に応じて平滑性、あるいは防眩性ハードコート層が形成されていてもよい。ハードコート層が設けられることにより、金属薄膜の擦傷性を向上させる事ができる。平滑性ハードコート層が設けられることにより、金属光沢感が増し、逆に防眩性ハードコート層によりギラツキを防止する事ができる。ハードコート層は、硬化性樹脂を含有する溶液を塗布する事により形成できる。

硬化性樹脂としては、熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂等が挙げられる。硬化性樹脂の種類としてはポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、アミド系、シリコーン系、シリケート系、エポキシ系、メラミン系、オキセタン系、アクリルウレタン系等の各種の樹脂があげられる。これら硬化性樹脂は、一種または二種以上を、適宜に選択して使用できる。これらの中でも、硬度が高く、紫外線硬化が可能で生産性に優れることから、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、及びエポキシ系樹脂が好ましい。

ここで、基材フィルムは、その表面上に金属光沢層１２を形成することができる対象（基体１０）の一例にすぎない点に注意すべきである。基体１０には、上記のとおり基材フィルムの他、樹脂成型物基材、ガラス基材、金属光沢を付与すべき物品それ自体も含まれる。樹脂成型物基材、及び金属光沢を付与すべき物品としては、例えば、車両用構造部品、車両搭載用品、電子機器の筐体、家電機器の筐体、構造用部品、機械部品、種々の自動車用部品、電子機器用部品、家具、台所用品等の家財向け用途、医療機器、建築資材の部品、その他の構造用部品や外装用部品等が挙げられる。

金属光沢層１２は、これら全ての基体上に形成することができ、基体の表面の一部に形成してもよく、基体の表面の全てに形成してもよい。この場合、金属光沢層１２を付与すべき基体１０は、上記の基材フィルムと同様の材質、条件を満たしていることが好ましい。

＜無機酸化物含有層＞
また、一実施形態に係る積層体１００は、図１に示されるように、基体１０と金属光沢層１２の間に、無機酸化物含有層１１をさらに備えてもよい。無機酸化物含有層１１は、連続状態で、言い換えれば、隙間なく、設けられるのが好ましい。連続状態で設けられることにより、無機酸化物含有層１１、ひいては、金属光沢層１２や積層体１００の平滑性や耐食性を向上させることができ、また、無機酸化物含有層１１を面内ばらつきなく成膜することも容易となる。

このように、基体１０と金属光沢層１２の間に、無機酸化物含有層１１をさらに備えること、すなわち、基体１０の上に無機酸化物含有層１１を形成し、その上に金属光沢層１２を形成することによれば、金属光沢層１２を不連続の状態で形成しやすくなるため好ましい。そのメカニズムの詳細は必ずしも明らかではないが、金属の蒸着やスパッタによるスパッタ粒子が基体上で薄膜を形成する際には、基体上での粒子の表面拡散性が薄膜の形状に影響を及ぼし、基体の温度が高く、基体に対する金属光沢層の濡れ性が小さく、金属光沢層の材料の融点が低い方が不連続構造を形成しやすいと考えられる。そして、基体１０上に無機酸化物含有層１１を設けることにより、その表面上の金属粒子の表面拡散性が促進されて、金属光沢層１２を不連続の状態で成長させやすくなると考えられる。

無機酸化物含有層１１としては、酸化インジウム含有層であることが好ましく、酸化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）そのものを使用することもできるし、例えば、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）や、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のような金属含有物を使用することもできる。但し、第二の金属を含有したＩＴＯやＩＺＯの方が、スパッタリング工程での放電安定性が高い点で、より好ましい。これら無機酸化物含有層１１を用いることにより、基体の面に沿って連続状態の膜を形成することもでき、また、この場合には、無機酸化物含有層１１の上に積層される金属光沢層１２を、例えば、島状の不連続構造としやすくなるため、好ましい。更に、後述するように、この場合には、金属光沢層１２に、クロム（Ｃｒ）またはインジウム（Ｉｎ）だけでなく、通常は不連続構造になり難く、本用途には適用が難しかった、アルミニウムまたはアルミニウム合金を含めやすくなる。

ＩＴＯに含まれる酸化錫（ＳｎО_２）の質量比率である含有率（含有率＝（ＳｎＯ_２／（Ｉｎ_２Ｏ_３＋ＳｎＯ_２））×１００）は特に限定されるものではないが、例えば、２．５質量％～３０質量％、より好ましくは、３質量％～１０質量％である。また、ＩＺＯに含まれる酸化亜鉛（ＺｎＯ）の質量比率である含有率（含有率＝（ＺｎＯ／（Ｉｎ_２Ｏ_３＋ＺｎＯ））×１００）は、例えば、２質量％～２０質量％である。
無機酸化物含有層１１の厚さは、シート抵抗や電磁波透過性、生産性の観点から、通常１００ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下が更に好ましい。一方、積層される金属光沢層１２を不連続状態としやすくするためには、１ｎｍ以上であることが好ましく、確実に不連続状態にしやすくするためには、３ｎｍ以上であることがより好ましく、５ｎｍ以上であることが更に好ましい。

＜金属光沢層＞
金属光沢層１２は基体上に形成される。金属光沢層１２は、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含むことが好ましい。金属光沢層１２に含まれる金属は、アルミニウムまたはアルミニウム合金が好ましい。
金属光沢層１２が基体上で連続状態である場合、電波透過減衰量が非常に大きくなり、従って、電磁波透過性を確保することはできない。

金属光沢層１２が基体上で不連続状態となるメカニズムの詳細は必ずしも明らかではないが、おおよそ、次のようなものであると推測される。即ち、金属光沢層１２の薄膜形成プロセスにおいて、不連続構造の形成しやすさは、金属光沢層１２が付与される基体上での表面拡散と関連性があり、基体の温度が高く、基体に対する金属光沢層の濡れ性が小さく、金属光沢層の材料の融点が低い方が不連続構造を形成しやすい、というものである。

ここで、複数の部分１２ａの平均粒径とは、複数の部分１２ａの円相当径の平均値を意味する。部分１２ａの円相当径とは、部分１２ａの面積に相当する真円の直径のことである。
金属光沢層１２の部分１２ａの円相当径は特に限定されないが、通常１０～１０００ｎｍ程度である。また、各部分１２ａ同士の距離は特に限定されないが、通常は１０～１０００ｎｍ程度である。

金属光沢層が含む互いに不連続の状態にある複数の部分１２ａの平均粒径を上記の範囲とすることにより、高い電磁波透過性を維持したまま、光輝性がより向上できる。

金属光沢層１２は、十分な光輝性及び良好な透明性を発揮し得ることは勿論、融点が比較的低いものであることが好ましい。金属光沢層１２は、スパッタリングを用いた薄膜成長によって形成するのが好ましいためである。
このような理由から、金属光沢層１２としては、融点が約１０００℃以下の金属が適しており、アルミニウムまたはアルミニウム合金を含有するのが好ましい。
金属光沢層１２としては、特に、光輝性や透明性、価格等の理由からＡｌ及びそれらの合金であることが好ましい。また、アルミニウム合金を用いる場合には、アルミニウム含有量を５０質量％以上とすることが好ましい。

金属光沢層１２の厚さは、十分な反射率、光輝性及び良好な透明性を発揮するには３ｎｍ以上であることが好ましく、５ｎｍ以上であることがより好ましく、７ｎｍ以上であることがさらに好ましい。また、透過Ｙ値を所定の範囲としやすくする観点から１５ｎｍ以下であることが好ましく、１２ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
この厚さは、均一な膜を生産性良く形成するのにも適しており、また、最終製品である加飾部材や樹脂成形品の見栄えも良い。

金属光沢層のシート抵抗は、１００Ω／□以上であるのが好ましい。この場合、電磁波透過性は、５ＧＨｚの波長において、１０［－ｄＢ］未満となる。更に好ましくは、１０００Ω／□以上である。

積層体１００のシート抵抗も、１００Ω／□以上であるのが好ましい。
シート抵抗は、電磁波透過性の観点から、２００Ω／□以上であるのがより好ましく、６００Ω／□以上であることが更に好ましく、より更に好ましくは、１０００Ω／□以上である。このシート抵抗の値は、金属光沢層１２の材質や厚さは勿論のこと、無機酸化物含有層１１の材質や厚さからも大きな影響を受ける。

＜光学調整層＞
本発明の実施形態に係る積層体は、上述のように、基体と、前記基体上に形成された金属光沢層と、光学調整層とを備える。
本発明の実施形態に係る積層体は、図３に示すように基体１０上に、金属光沢層１２、光学調整層１３をこの順に備えるものであってもよく、図４に示すように基体１０上に、光学調整層１３、金属光沢層１２をこの順に備えるものであってもよい。
光学調整層は、屈折率が１．７５以上の高屈折率層を含むことが好ましい。本発明の実施形態に係る積層体は、屈折率が１．７５以上の高屈折率層を含む光学調整層１３を備えることにより光の波長による反射スペクトルを調整しやすくなる。

光学調整層１３は、金属酸化物及び／又は金属窒化物からなる層であることが好ましい。なお、ここでいう金属酸化物、金属窒化物に含有される金属元素には、Ｓｉ等の半金属元素が包含される。また、金属酸化物及び／又は金属窒化物には、金属酸窒化物が包含される。また、金属酸化物は、単独の金属元素の酸化物（単独酸化物）であってもよく、複数の金属元素の酸化物（複合酸化物）であってもよい。同様に、金属窒化物は、単独の金属元素の窒化物（単独窒化物）であってもよく、複数の金属元素の窒化物（複合窒化物）であってもよい。
金属元素としては、例えば、Ｃｅ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｚｎなどが挙げられる。

光学調整層１３の材料として、より具体的には、例えば、ＣｅＯ_２（２．３０）、ＮｂＯ（２．３３）、Ｎｂ_２Ｏ_３（２．１５）、Ｎｂ_２Ｏ_５（２．２０）、ＳｉＯ_２（１．４６）、ＳｉＮ（２．０３）、Ｓｂ_２Ｏ_３（２．１０）、ＴｉＯ_２（２．３５）、Ｔａ_２Ｏ_５（２．１０）、ＺｒＯ_２（２．０５）、ＺｎＯ（２．１０）、ＺｎＳ（２．３０）などが挙げられる（上記各材料の括弧内の数値は屈折率である）。
特に、光学調整層１３は、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｔｉより選択される少なくとも一種を含むことが好ましく、例えばＮｂＯ、ＳｉＯ_２、ＴｉＯ_２より選択される少なくとも一種を含むことが好ましい。

光学調整層１３の厚みは、１０ｎｍ～５００ｎｍであることが好ましい。コストの観点から、３００ｎｍ以下であることがより好ましく、２００ｎｍ以下であることが更に好ましい。また、１５ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましく、３０ｎｍ以上であることが更に好ましい。
光学調整層１３の厚みは、例えば、表面に垂直方向（厚み方向）の断面を露出させたうえ、透過型電子顕微鏡を用いて測定することができる。

光学調整層１３の屈折率は、１．８以上が好ましく、２．０以上がより好ましい。

また、光学調整層１３は屈折率の異なる層の積層体であってもよく、低屈折率層と高屈折率層とを備えていてもよい。
屈折率１．３５～１．５５程度の低屈折率層を形成する低屈折率材料としては、例えば、酸化珪素、フッ化マグネシウム等が挙げられ、酸化珪素が好ましい。また、屈折率１．８０～２．４０程度の高屈折率層を形成する高屈折率材料として、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）等が挙げられ、酸化ニオブが好ましい。
また、低屈折率層と高屈折率層に加えて、屈折率１．５０～１．８５程度の中屈折率層として、例えば、酸化チタンや、上記低屈折率材料と高屈折率材料の混合物（酸化チタンと酸化珪素との混合物等）からなる薄膜を形成してもよい。

本発明の実施形態に係る積層体は、光学調整層が、低屈折率層、及び高屈折率層を含むことが好ましい。

例えば、図３及び図４に示すように、積層体１０１及び積層体１０２は、基体１０と、金属光沢層１２と、光学調整層１３とを備え、光学調整層１３は低屈折率層１３ｂと、高屈折率層１３ａとの積層体であってもよい。また、積層体１０１及び積層体１０２は、更に後述のバリア層や無機酸化物含有層１１を有していても良い。

例えば、図３に示すように、積層体１０１は、基体１０と、金属光沢層１２と、光学調整層１３とをこの順に備え、基体１０と金属光沢層１２との間に第一のバリア層１４及び無機酸化物含有層１１を有していてもよい。更に、光学調整層１３の金属光沢層１２とは反対側の面に第二のバリア層１５を有していてもよい。

また、図４に示すように、積層体１０２は、基体１０と、光学調整層１３と、金属光沢層１２とをこの順に備え、基体１０と光学調整層１３との間に第一のバリア層１４を有していてもよい。更に、光学調整層１３と金属光沢層１２との間に無機酸化物含有層１１を有していてもよい。更に金属光沢層１２の光学調整層１３とは反対側の面に第二のバリア層１５を有していてもよい。

低屈折率層の厚みは、反射率、及び透過Ｙ値を所望の範囲に調整する観点から１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましく、３０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。また、反射率、及び透過Ｙ値を所望の範囲に調整する観点から２００ｎｍ以下であることが好ましく、１５０ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。
高屈折率層の厚みは、反射率、及び透過Ｙ値を所望の範囲に調整する観点から１０ｎｍ以上であることが好ましく、２０ｎｍ以上であることがより好ましく、３０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。また、反射率、及び透過Ｙ値を所望の範囲に調整する観点から２００ｎｍ以下であることが好ましく、１５０ｎｍ以下であることがより好ましく、１００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。

また、光学調整層１３の積層構成としては、基体１０側から、膜厚２４０ｎｍ～２６０ｎｍの高屈折率層と、膜厚１２０ｎｍ～１４０ｎｍの低屈折率層との２層構成；膜厚１７０ｎｍ～１８０ｎｍの中屈折率層と、膜厚６０ｎｍ～７０ｎｍ程度の高屈折率層と、膜厚１３５ｎｍ～１４５ｎｍ程の低屈折率層との３層構成；膜厚２５ｎｍ～５５ｎｍの高屈折率層と、膜厚３５ｎｍ～５５ｎｍの低屈折率層と、膜厚８０ｎｍ～２４０ｎｍの高屈折率層と、膜厚１２０ｎｍ～１５０ｎｍの低屈折率層との４層構成；膜厚１５ｎｍ～３０ｎｍの低屈折率層と、膜厚２０ｎｍ～４０ｎｍの高屈折率層と、膜厚２０ｎｍ～４０ｎｍの低屈折率層と、膜厚２４０ｎｍ～２９０ｎｍの高屈折率層と、膜厚１００ｎｍ～２００ｎｍの低屈折率層との５層構成等が挙げられる。光学調整層１３を構成する薄膜の屈折率や膜厚の範囲は上記例示に限定されない。また、光学調整層１３は、６層以上の薄膜の積層体でもよい。

なお、積層体１００は光学調整層１３を複数層備えてもよい。
例えば、酸化物によっては、酸化ニオブのように、粘着剤と積層された状態で紫外光を受けると還元される物質もあり、還元作用を防ぐために、更に保護層として酸化珪素からなる層を積層していても良い。

本発明の実施形態に係る積層体は、基体１０、金属光沢層１２、及び光学調整層１３の他に、用途に応じてその他の層を備えていてもよい。
その他の層としては、例えば、ハードコート層、バリア層、易接着層、反射防止層、光取出し層、アンチグレア層等が挙げられる。

＜バリア層＞
本実施形態の積層体は、バリア層を備えていてもよい。バリア層は複数設けることができる。
上述のように、例えば、図３に示す積層体１０１は、基体１０と金属光沢層１２との間に第一のバリア層１４及び無機酸化物含有層１１を有していてもよい。更に、光学調整層１３の金属光沢層１２とは反対側の面に第二のバリア層１５を有していてもよい。

第一のバリア層１４及び第二のバリア層１５について説明する。第一のバリア層１４及び第二のバリア層１５は、それぞれ同じ材質であっても、異なる材質であってもよい。またその他の条件についても第一のバリア層１４及び第二のバリア層１５はそれぞれ独立して設定することができる。

第一のバリア層１４及び第二のバリア層１５は、基体１０側及びその反対側（金属光沢層側）からのＨ_２ＯやＯ_２の侵入を防ぎ、金属光沢層１２の酸化を抑え、経時での信頼性、とくに高温雰囲気下での信頼性を高めることができる。

第一のバリア層１４及び第二のバリア層１５は、金属及び半金属の少なくとも１種の酸化物、窒化物、炭化物、酸化窒化物、酸化炭化物、窒化炭化物及び酸化窒化炭化物からなる群より選ばれる少なくとも１種を含む。金属としては、例えば、アルミニウム、チタン、インジウム、マグネシウムなどを用いることができ、半金属としては、例えば、ケイ素、ビスマス、ゲルマニウムなどを用いることができる。

具体的には、例えばＺｎＯ＋Ａｌ_２Ｏ_３（ＡＺＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化炭化窒化ケイ素膜（ＳｉＯＣＮ）、酸化窒化ケイ素膜（ＳｉＯＮ）、窒化ケイ素膜（ＳｉＮ）、ＳｉＯ_Ｘ、ＡｌＯ_Ｘ、ＡｌＯＮ、ＴｉＯ_Ｘ等を用いることができる。中でも、ＡＺＯ、ＩＴＯ、ＡｌＯ_Ｘ及びＳｉＯ_２からなる群より選ばれる少なくとも一種を用いることが好ましい。

第一のバリア層１４及び第二のバリア層１５が金属光沢層１２の酸化（腐食）を抑制する性能（以下「バリア性」ともいう）の向上のためには、バリア層内におけるネットワーク構造（網目状の構造）を緻密にするような炭素、窒素を含むことが好ましい。さらに透明性を向上させるためには、酸素を含有していることが好ましい。すなわち、バリア層は、金属及び半金属の少なくとも１種の酸化窒化炭化物を含むことが好ましい。

また、バリア性の向上のためには、第一のバリア層１４及び第二のバリア層１５は水蒸気を透過しにくいことが好ましい。第一のバリア層１４及び第二のバリア層１５の水蒸気透過率は、５ｇ／（ｍ^２・ｄａｙ）以下であることが好ましく、３ｇ／（ｍ^２・ｄａｙ）以下であることがより好ましく、２ｇ／（ｍ^２・ｄａｙ）以下であることが更に好ましい。

第一のバリア層１４及び第二のバリア層１５の厚みは特に限定はされないが、バリア性を向上させるためには１ｎｍ以上が好ましく、５ｎｍ以上がより好ましく、１０ｎｍ以上が更に好ましい。また、電磁波透過性や外観の金属光沢感を向上させるためには１００ｎｍ以下が好ましく、８０ｎｍ以下がより好ましく、６０ｎｍ以下が更に好ましい。バリア層の厚みは、実施例に記載の方法により測定される。
なお、第二のバリア層１５が金属光沢層１２上に積層されている場合、必ずしも隙間１２ｂを完全に埋めていなくてもよい。

本実施形態の積層体には、本発明の効果を奏する限りにおいて上述の金属光沢層１２、及び光学調整層１３の他に、用途に応じてその他の層を設けてもよい。その他の層としては、粘着剤層等の樹脂層、耐湿性や耐擦傷性等の耐久性を向上させるための保護層（耐擦傷性層）等が挙げられる。

＜樹脂層＞
本実施形態の積層体は、更に樹脂層を備えていてもよい。樹脂層は、金属光沢層１２の基体１０側の面と反対側の面に備えていてもよく金属光沢層上に形成してもよい。また、樹脂層は、積層体の基体１０側の面に形成してもよい。

樹脂層は、粘着剤層、下地または上地との密着性を改良する密着層、耐湿性や耐擦傷性等の耐久性を向上させるための保護層（耐擦傷性層）、易接着層、上述したハードコート層、反射防止層、光取出し層、アンチグレア層等であってもよい。
樹脂層は複数設けることができる。

樹脂層はＵＶ硬化樹脂を含むＵＶ硬化型の層であってもよい。ＵＶ硬化樹脂を含む樹脂層は、基体１０側の面にＵＶ硬化樹脂組成物を塗布し、波長２００ｎｍ～４００ｎｍの光を照射して硬化することにより樹脂層を形成することができる。
本発明の実施形態にかかる積層体は、基体１０側の面における、波長３６５ｎｍの光の反射率を２０％以上とすることにより、基体１０側の面にＵＶ硬化樹脂組成物を塗布して硬化させる場合、照射した光だけでなく、樹脂組成物及び基体１０を透過して金属光沢層及び光学調整層により反射した反射光によっても硬化させることが可能となる。それにより、硬化に要する時間を大幅に短縮することができる。

本実施形態の積層体は、粘着剤層を介して被着部材に貼付されて用いられてもよい。例えば、積層体を、粘着剤層を介して透明な被着部材に貼付することで被着部材を内側から装飾することができる。

積層体が透明な被着部材の視認される側（以下、外側ともいう）の面とは反対側（以下、内側ともいう）の面に対して粘着剤層を介して貼付された場合、被着部材を通して粘着剤層と、金属光沢層が視認される。透明な被着部材としては、例えば、ガラスやプラスチックからなる部材を使用することができるが、これに限定されるものではない。

粘着剤層は、透明粘着剤からなる層であることが好ましい。本実施形態の積層体は、粘着剤層を介して被着部材に貼付されて用いられてもよい。

粘着剤層を形成する粘着剤は透明粘着剤であれば特に限定されず、例えばアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、エポキシ系粘着剤、及びポリエーテル系粘着剤のいずれかを単独で、あるいは、２種類以上を組み合わせて使用することができる。透明性、加工性及び耐久性などの観点から、アクリル系粘着剤を用いることが好ましい。

粘着剤層の厚みは特に限定されないが、薄くすることで最終製品構成の薄型化への寄与や可視光透過性や膜厚精度、平坦性を向上させることができるため、１００μｍ以下であることが好ましく、７５μｍ以下であることがより好ましく、５０μｍ以下であることがさらに好ましい。

粘着剤層全体の透過Ｙ値は特に限定はされないが、ＪＩＳ Ｋ７３６１に従って測定した任意の可視光波長における値で１０％以上であることが好ましく、３０％以上であることがより好ましく、５０％以上であることがさらに好ましい。粘着剤層の透過Ｙ値は、高いほど好ましい。

また、粘着剤層を構成する透明粘着剤は着色されていてもよい。
この場合、良好な透明性を有する金属光沢層を介して着色された粘着剤層が視認されることとなるので、積層体１は粘着剤層の色調を変えることなく着色された金属光沢を発現することができる。

透明粘着剤を着色する方法は特に限定されないが、例えば色素を微量添加することにより着色することができる。

粘着剤層の上には、被着部材に貼付する際まで粘着剤層を保護するために、剥離ライナーを設けてもよい。

密着層としては、下地または上地との密着性を改良する層であれば、特に制限されないが、例えば透明であるＳｉＯｘからなる層をスパッタリング等によって設けることもできる。

＜積層体の製造＞
積層体の製造方法の一例について、説明する。特に説明しないが、基材フィルム以外の基体を用いた場合についても同様の方法で製造することができる。

金属光沢層１２及び光学調整層１３を形成するにあたっては、例えば、真空蒸着、スパッタリング等の方法を用いることができる。

また、第一のバリア層１４及び第二のバリア層１５を形成するにあたっては、例えば、真空蒸着、スパッタリング等の方法を用いることができる。

また、無機酸化物含有層１１として酸化インジウム含有層を形成する場合には、金属光沢層１２の形成に先立ち、酸化インジウム含有層を、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等によって形成する。但し、大面積でも厚さを厳密に制御できる点から、スパッタリングが好ましい。

＜加飾部材＞
本実施形態に係る加飾部材は、被着部材と、上述の積層体とを備え、前記積層体が前記粘着剤層を介して前記被着部材に貼付されている。

本実施形態の加飾部材は、積層体が、粘着剤層を介して、被着部材に貼付されている。
本実施形態の積層体は、光学的損失を抑制するため、金属光沢及び視認性に優れるため、被着部材の表面に設けた意匠、色及び質感をそのまま活かしつつ被着部材を装飾した加飾部材を得ることができる。

積層体は、透明な被着部材の内側の面に貼付して用いてもよい。透明な被着部材としては、例えば、ガラスやプラスチックからなる部材を使用することもできるが、これに限定されるものではない。

積層体に粘着剤層を設ける場合、粘着剤層は、粘着剤層を設ける面に粘着剤組成物を塗布等することや離型フィルムに形成した粘着剤層を転写することにより形成できる。
粘着剤組成物の塗布は、慣用のコーター、例えば、グラビヤロールコーター、リバースロールコーター、キスロールコーター、ディップロールコーター、バーコーター、ナイフコーター、スプレーコーターなどを用いて行うことができる。乾燥温度は、適宜採用可能であるが、好ましくは４０℃～２００℃であり、さらに好ましくは、５０℃～１８０℃であり、特に好ましくは７０℃～１２０℃である。乾燥時間は、適宜、適切な時間が採用され得る。上記乾燥時間は、好ましくは５秒～２０分、さらに好ましくは５秒～１０分、特に好ましくは、１０秒～５分である。

積層体を被着部材に貼付する方法は特に限定されないが、例えば真空成形により貼付することができる。真空成形とは、積層体を加熱軟化しつつ展張し、積層体の被着部材側の空間を減圧し、必要に応じ反対側の空間を加圧することにより、積層体を被着部材の表面の三次元立体形状に沿って成形しつつ貼付積層する方法である。
積層体としては、上述の説明をそのまま援用し得る。

＜積層体及び加飾部材の用途＞
本実施形態の積層体及び加飾部材は、電磁波を送受信する装置や物品及びその部品等に使用することが好ましい。例えば、車両用構造部品、車両搭載用品、電子機器の筐体、家電機器の筐体、構造用部品、機械部品、種々の自動車用部品、電子機器用部品、家具、台所用品等の家財向け用途、医療機器、建築資材の部品、その他の構造用部品や外装用部品等が挙げられる。

より具体的には、車両関係では、インスツルメントパネル、コンソールボックス、ドアノブ、ドアトリム、シフトレバー、ペダル類、グローブボックス、バンパー、ボンネット、フェンダー、トランク、ドア、ルーフ、ピラー、座席シート、ステアリングホイール、ＥＣＵボックス、電装部品、エンジン周辺部品、駆動系・ギア周辺部品、吸気・排気系部品、冷却系部品等が挙げられる。

電子機器及び家電機器としてより具体的には、冷蔵庫、洗濯機、掃除機、電子レンジ、エアコン、照明機器、電気湯沸かし器、テレビ、時計、換気扇、プロジェクター、スピーカー等の家電製品類、パソコン、携帯電話、スマートフォン、デジタルカメラ、タブレット型ＰＣ、携帯音楽プレーヤー、携帯ゲーム機、充電器、電池等電子情報機器等が挙げられる。

以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明をより具体的に説明する。積層体を作製し評価を行った。なお、基体１０としては、基材フィルムを用いた。

評価方法の詳細は以下のとおりである。
＜透過特性＞
分光光度計Ｕ４１００（（株）日立ハイテクノロジーズ製）で、標準光源Ｄ６５により波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの範囲の可視光線を積層体の金属光沢層側の面に入射して透過率測定を行い、透過特性（透過Ｙ値）を得た。得られた透過Ｙ値を表１に記載した。

＜反射特性＞
分光光度計Ｕ４１００（（株）日立ハイテクノロジーズ製）で、標準光源Ｄ６５により波長３６５ｎｍの可視光線を積層体の基体側の面に入射して反射率測定を行った。得られた反射率（％）を表１に記載した。
また、実施例１～５及び比較例１の積層体について、波長３００ｎｍ～５００ｎｍの可視光線を積層体の基体側の面に入射して反射率測定を行った。入射光の波長と反射率との関係を図７に示す。

＜金属光沢層の厚み＞
金属光沢層におけるバラツキ、更に詳細には、図２に示す部分１２ａの厚さにおけるバラツキを考慮して、部分１２ａの厚さの平均値を金属光沢層の厚みとした。
なお、個々の部分１２ａの厚さは、基体１０から垂直方向に最も厚いところの厚さとした。以下、この平均値を、便宜上、「最大の厚さ」と呼ぶ。図６に、積層体の一部断面の電子顕微鏡写真（ＴＥＭ画像）の例を示す。
最大の厚さを求めるに際し、まず、図６に示すような積層体の表面に現れた金属光沢層において、図５に示すような一辺５ｃｍの正方形領域３を適当に抽出し、該正方形領域３の縦辺及び横辺それぞれの中心線Ａ、Ｂをそれぞれ４等分することによって得られる計５箇所の点「ａ」～「ｅ」を測定箇所として選択した。
次いで、選択した測定箇所それぞれにおける、図６に示すような断面画像において、おおよそ５個の部分１２ａが含まれる視野角領域を抽出した。これら計５箇所の測定箇所それぞれにおける、おおよそ５個の部分１２ａ、即ち、２５個（５個×５箇所）の部分１２ａの個々の厚さ（ｎｍ）を求め、それらの平均値を「最大の厚さ」とした。

＜第一のバリア層および第二のバリア層の膜厚＞
第一のバリア層および第二のバリア層の膜厚は、前記金属光沢層の膜厚を求めるのに用いた２５個の各最大高さを示した点を測定箇所とし、断面ＴＥＭ画像を用いて下記のように算出した。
断面ＴＥＭ画像において、基体１０から部分１２ａに向かって垂直な線を引いた際の第一のバリア層の上面との交点を交点１、第一のバリア層の下面との交点を交点２とした場合における交点１と交点２との距離を算出し、２５個の平均値を第一のバリア層の厚みとした。
前記金属光沢層の膜厚を求めるのに用いた２５個の各最大高さを示した点と、その点から基体１０に対し垂直方向に伸ばした直線を引いた際の第二のバリア層の上面との交点を交点３、第二のバリア層の下面との交点を交点４とした場合における交点３と交点４との距離を算出し、２５個の平均値を第二のバリア層の膜厚とした。
金属光沢層上に直接第二のバリア層を設けた場合は、金属光沢層の厚みを求めるのに用いた２５個の各最大高さを示した点と、その点を基体１０に対し垂直方向に伸ばした直線と第二のバリア層表面との交点との距離の、２５個の平均値を第二のバリア層の膜厚とした。

［実施例１］
基体として、東レ株式会社製ＰＥＴフィルム５０－Ｕ４８３（厚さ５０μｍ）に厚み１．５μｍの紫外線硬化樹脂層（ハードコート層）を形成し、紫外線硬化樹脂層付き基材フィルムを得た。
先ず、マグネトロンスパッタリング装置にＳｉターゲットを取り付け、Ａｒガスと酸素ガスの混合ガスを導入しながらスパッタリングをすることで、紫外線硬化樹脂層上に第一のバリア層としてのＳｉＯ_２層を厚さ２０ｎｍで形成した。
次に、マグネトロンスパッタリング装置にＮｂターゲットを取り付け、Ａｒガスと酸素ガスの混合ガスを導入しながらスパッタリングをすることで、ＳｉＯ_２層上に高屈折率層としてＮｂＯｘ層（屈折率２．３３）を厚さ４０ｎｍで形成し、次いで、マグネトロンスパッタリング装置にＳｉターゲットを取り付け、Ａｒガスと酸素ガスの混合ガスを導入しながらスパッタリングをすることで、ＮｂＯｘ層上に低屈折率層としてＳｉＯ_２層（屈折率１．４６）を厚さ２０ｎｍで形成し光学調整層とした。
次いで、マグネトロンスパッタリング装置にＩＴＯターゲットを取り付け、Ａｒガスを導入しながらスパッタリングをすることで、無機酸化物含有層としてのＩＴＯ層を厚さ５ｎｍで光学調整層の上に形成した。
次に、マグネトロンスパッタリング装置にアルミニウム（Ａｌ）ターゲットを取り付け、Ａｒガスを導入しながらスパッタリングすることでＩＴＯ層の上に金属光沢層としてのＡｌ層を厚さ６ｎｍで形成した。得られたＡｌ層は図２で示すような不連続層であった。

続いて、マグネトロンスパッタリング装置にアルミニウム（Ａｌ）ターゲットを取り付け、Ａｒガスと酸素ガスの混合ガスを導入しながらスパッタリングすることでＡｌ層の上に第二のバリア層としてのＡｌＯｘ層を厚さ２０ｎｍで形成し、積層体を得た。

以上により基体、紫外線硬化樹脂層、第一のバリア層、光学調整層、無機酸化物含有層、金属光沢層、第二のバリア層の積層体である実施例１の積層体を得た。

＜加飾部材の製造＞
被着部材として、表面に意匠を施した厚み０．７ｍｍのガラスを用いた。
上記で得られた積層体を、粘着剤ＣＳ９８６１ＵＡＳ（日東電工（株）製）を用いて被着部材に貼付し、加飾部材を得た。

［実施例２］
実施例１と同様にして紫外線硬化樹脂層付き基材フィルムを得て紫外線硬化樹脂層上に第一のバリア層としてのＳｉＯ_２層を厚さ２０ｎｍで形成した。
次いで、マグネトロンスパッタリング装置にＩＴＯターゲットを取り付け、Ａｒガスを導入しながらスパッタリングをすることで基体フィルムの面に沿って、無機酸化物含有層としてのＩＴＯ層を厚さ５ｎｍでＳｉＯ_２層の上に形成した。
次に、マグネトロンスパッタリング装置にアルミニウム（Ａｌ）ターゲットを取り付け、Ａｒガスを導入しながらスパッタリングすることでＩＴＯ層の上に金属光沢層としてのＡｌ層を厚さ６ｎｍで形成した。得られたＡｌ層は図２で示すような不連続層であった。

次に、マグネトロンスパッタリング装置にＮｂターゲットを取り付け、Ａｒガスと酸素ガスの混合ガスを導入しながらスパッタリングをすることで、Ａｌ層上に光学調整層としてＮｂＯｘ層（屈折率２．３３の高屈折率層）を厚さ１８０ｎｍで形成した。

続いて、マグネトロンスパッタリング装置にアルミニウム（Ａｌ）ターゲットを取り付け、Ａｒガスと酸素ガスの混合ガスを導入しながらスパッタリングすることでＮｂＯｘ層の上に第二のバリア層としてのＡｌＯｘ層を厚さ２０ｎｍで形成し、積層体を得た。

以上により基材フィルム、紫外線硬化樹脂層、第一のバリア層、無機酸化物含有層、金属光沢層、光学調整層、第二のバリア層の積層体である実施例２の積層体を得た。得られた積層体の特性を上記の方法により測定し、表１に記載した。

［実施例３及び４］
実施例２における光学調整層の形成の際に、ＮｂＯｘ層の厚みを４０ｎｍ、１００ｎｍにそれぞれ変更したこと以外は、実施例２と同様にして実施例３及び４の積層体を得た。

［実施例５］
実施例２における光学調整層の形成の際に、マグネトロンスパッタリング装置にＳｉターゲットを取り付け、Ａｒガスと酸素ガスの混合ガスを導入しながらスパッタリングをすることで、Ａｌ層上に低屈折率層としてＳｉＯ_２層（屈折率１．４６）を厚さ２０ｎｍで形成し、次いで、マグネトロンスパッタリング装置にＮｂターゲットを取り付け、Ａｒガスと酸素ガスの混合ガスを導入しながらスパッタリングをすることで、ＳｉＯ_２層上に高屈折率層としてＮｂＯｘ層（屈折率２．３３）を厚さ２０ｎｍで形成し、光学調整層の材料及び厚みを変更したこと以外は、実施例２と同様にして実施例５の積層体を得た。

［比較例１］
実施例１において、光学調整層を形成しなかったこと以外は、実施例１と同様にして比較例１の積層体を得た。

［比較例２］
実施例１において、第一のバリア層及び光学調整層を形成しなかったこと以外は、実施例１と同様にして比較例２の積層体を得た。

得られた積層体の特性を上記の方法により測定し、表１に記載した。なお、表１中の括弧内は膜厚（ｎｍ）を示す。

表１から明らかなように、実施例１～５の積層体は、基体と、基体上に形成された金属光沢層と、光学調整層とを備え積層体における基体側の面は、波長３６５ｎｍの光の反射率が２０％以上であり、基体の金属光沢層を形成した側の面に、波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光を入射させた際の、透過Ｙ値が２０％以上であるので、比較例と比べ透過Ｙ値が高かった。また、図７から明らかなように３６５ｎｍにおける光の反射率が高く優れた反射率を示した。

本発明は前記実施例に限定されるものではなく、発明の趣旨から逸脱しない範囲で適宜変更して具体化することもできる。

本発明に係る積層体は、電磁波を送受信する装置や物品及びその部品等に使用することができる。例えば、車両用構造部品、車両搭載用品、電子機器の筐体、家電機器の筐体、構造用部品、機械部品、種々の自動車用部品、電子機器用部品、家具、台所用品等の家財向け用途、医療機器、建築資材の部品、その他の構造用部品や外装用部品等、意匠性と電磁波透過性の双方が要求される様々な用途にも利用できる。

１００、１０１、１０２ 積層体
１０ 基体
１１ 無機酸化物含有層
１２ 金属光沢層
１２ａ 部分
１２ｂ 隙間
１３ 光学調整層
１３ａ 高屈折率層
１３ｂ 低屈折率層
１４ 第一のバリア層
１５ 第二のバリア層

Claims (12)

1. 基体と、前記基体上に形成された金属光沢層と、光学調整層とを備えた積層体であって、
   前記積層体における基体側の面は、波長３６５ｎｍの光の反射率が２０％以上であり、
   前記積層体における基体の金属光沢層を形成した側の面に、波長３８０ｎｍ～７８０ｎｍの光を入射させた際の、透過光のＣＩＥ－ＸＹＺ表色系におけるＹ値である透過Ｙ値が２０％以上である積層体。
2. 前記光学調整層は、屈折率が１．７５以上の高屈折率層を含む、請求項１に記載の積層体。
3. 前記金属光沢層は、少なくとも一部において互いに不連続の状態にある複数の部分を含む、請求項１又は２に記載の積層体。
4. 前記複数の部分は島状に形成されている、請求項３に記載の積層体。
5. 前記金属光沢層はアルミニウム又はアルミニウム合金を含有する、請求項１～４のいずれか１項に記載の積層体。
6. 前記基体と前記金属光沢層との間に無機酸化物含有層をさらに備える、請求項１～３のいずれか一項に記載の積層体。
7. 前記無機酸化物含有層が酸化インジウム含有層である、請求項６に記載の積層体。
8. 前記光学調整層が低屈折率層を更に含む、請求項１～７のいずれか１項に記載の積層体。
9. 前記金属光沢層の厚さは、３ｎｍ～１０ｎｍである、請求項１～８のいずれか１項に記載の積層体。
10. 前記基体は、基材フィルム、樹脂成型物基材、ガラス基材、または金属光沢を付与すべき物品のいずれかである、請求項１～９のいずれか１項に記載の積層体。
11. 透明粘着剤からなる粘着剤層をさらに備える、請求項１～１０のいずれか１項に記載の積層体。
12. 被着部材と、請求項１１に記載の積層体とを備え、前記積層体が前記粘着剤層を介して前記被着部材に貼付されている、加飾部材。

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