TW202216432A - 電磁波透過性金屬光澤構件、及加飾構件 - Google Patents

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中井孝洋
米澤秀行
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Abstract

本發明係關於一種電磁波透過性金屬光澤構件，其具備基體、及形成於上述基體上之金屬光澤層，且上述金屬光澤層包含於至少一部分中處於相互不連續之狀態之複數個部分，上述金屬光澤層之膜厚為10 nm以下，CIE-XYZ表色系統之SCI測定中之波長380 nm～700 nm之光的透過Y值為25%～50%。

Description

電磁波透過性金屬光澤構件、及加飾構件
本發明係關於一種電磁波透過性金屬光澤構件、及加飾構件。
先前，具有電磁波透過性及金屬光澤之構件由於兼具來自其金屬光澤之外觀之高級感、及電磁波透過性，故適宜地用於收發電磁波之裝置。 於金屬光澤風格之構件中使用金屬之情形時，電磁波收發實質上無法進行或受到干擾。因此，為了不干擾電磁波收發，且不損害設計性，需要兼具金屬光澤與電磁波透過性兩者之電磁波透過性金屬光澤構件。
此種電磁波透過性金屬光澤構件被期待作為收發電磁波之裝置而應用於需要進行通信之各種機器，例如設有智慧型鑰匙之汽車之門把手、車輛通信機器、行動電話、個人電腦等電子機器等。進而，近年來，隨著IoT(Internet of Things，物聯網)技術之發展，亦被期待應用於先前未進行通信等之冰箱等家電製品、生活機器等廣泛之領域。
關於電磁波透過性金屬光澤構件，專利文獻1中揭示有如下樹脂製品，其包含含有鉻(Cr)或銦(In)之金屬覆膜。該樹脂製品包含：樹脂基材；包含無機化合物之無機質基底膜，其成膜於該樹脂基材上；及包含鉻(Cr)或銦(In)之金屬覆膜，其藉由物理蒸鍍法成膜於該無機質基底膜上，且具有光亮性及不連續構造。作為無機質基底膜，專利文獻1中使用有如下膜：(a)金屬化合物之薄膜，例如氧化鈦(TiO、TiO 2、Ti 3O 5等)等鈦化合物，氧化矽(SiO、SiO 2等)、氮化矽(Si 3N 4等)等矽化合物，氧化鋁(Al 2O 3)等鋁化合物，氧化鐵(Fe 2O 3)等鐵化合物，氧化硒(CeO)等硒化合物，氧化鋯英石(ZrO)等鋯英石化合物，硫化鋅(ZnS)等鋅化合物等；(b)無機塗料之塗膜，例如以矽、非晶TiO z等(其他上述所例示之金屬化合物)作為主成分之無機塗料之塗膜。 [先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：日本專利特開2007-144988號公報
[發明所欲解決之問題]
先前技術中之金屬光澤構件通常係於平滑面形成有金屬光澤層者。關於先前之金屬光澤構件，就設計性之觀點而言，業界正研究具有光澤度較高之金屬光澤者。 又，對於金屬光澤構件之設計之需求日益多樣化，於將金屬光澤構件貼附於被黏著構件製成加飾構件時，亦期待如下金屬光澤構件，其具備可介隔金屬光澤構件視認被黏著構件之微細之表面形狀或顏色的較高之透明性。然而，若提高金屬光澤構件之透明性，則於將金屬光澤構件貼附於被黏著構件製成加飾構件時，有無法獲得充分之金屬光澤等課題。 本案發明係鑒於上述而成者，其目的在於提供一種電磁波透過性金屬光澤構件、及加飾構件，該電磁波透過性金屬光澤構件具有電磁波透過性，且兼具金屬光澤與所需之透明性。 [解決問題之技術手段]
本發明人等為了解決上述課題而反覆進行努力研究，結果發現藉由使金屬光澤層之膜厚成為特定範圍，且使CIE(International Commission on illumination，國際照明委員會)-XYZ表色系統之SCI(Specular Component Included，包含鏡面反射光)測定中之波長380 nm～700 nm之光的透過Y值成為特定範圍內，可獲得具有優異之電磁波透過性，且兼具金屬光澤與所需之透明性之電磁波透過性金屬光澤構件，從而完成本發明。
即，本發明如下所述。 [1] 一種電磁波透過性金屬光澤構件，其具備基體、及形成於上述基體上之金屬光澤層，且 上述金屬光澤層包含於至少一部分中處於相互不連續之狀態之複數個部分， 上述金屬光澤層之膜厚為10 nm以下， CIE-XYZ表色系統之SCI測定中之波長380 nm～700 nm之光的透過Y值為25%～50%。 [2] 如[1]中所記載之電磁波透過性金屬光澤構件，其中於使波長380 nm～700 nm之光自上述電磁波透過性金屬光澤構件中之上述金屬光澤層側入射時，透過光之CIE-L*a*b*表色系統中之a*值為0.0～3.0，b*值為-3.0～15.0。 [3] 如[1]或[2]中所記載之電磁波透過性金屬光澤構件，其中上述金屬光澤層含有鋁或鋁合金。 [4] 如[1]至[3]中任一項所記載之電磁波透過性金屬光澤構件，其於上述基體與上述金屬光澤層之間進而具備含無機氧化物層。 [5] 如[4]中所記載之電磁波透過性金屬光澤構件，其中上述含無機氧化物層為含氧化銦層。 [6] 如[5]中所記載之電磁波透過性金屬光澤構件，其中上述含氧化銦層包含氧化銦(In 2O 3)、氧化銦錫(ITO)、或氧化銦鋅(IZO)中之任一種。 [7] 如[4]至[6]中任一項所記載之電磁波透過性金屬光澤構件，其中上述含無機氧化物層係以連續狀態設置。 [8] 如[4]至[7]中任一項所記載之電磁波透過性金屬光澤構件，其中上述含無機氧化物層之厚度為1 nm～1000 nm。 [9] 如[1]至[8]中任一項所記載之電磁波透過性金屬光澤構件，其薄片電阻為100 Ω/□以上。 [10] 如[1]至[9]中任一項所記載之電磁波透過性金屬光澤構件，其中上述複數個部分形成為島狀。 [11] 如[1]至[10]中任一項所記載之電磁波透過性金屬光澤構件，其中上述基體為基材膜、樹脂成型物基材、玻璃基材、或應賦予金屬光澤之物品中之任一種。 [12] 如[1]至[11]中任一項所記載之電磁波透過性金屬光澤構件，其進而具備包含透明黏著劑之黏著劑層。 [13] 一種加飾構件，其具備被黏著構件、及如[12]中所記載之電磁波透過性金屬光澤構件，且經由上述黏著劑層將上述電磁波透過性金屬光澤構件貼附於上述被黏著構件。 [發明之效果]
根據本發明，可提供一種電磁波透過性金屬光澤構件、及加飾構件，該電磁波透過性金屬光澤構件具有優異之電磁波透過性，且兼具金屬光澤與所需之透明性。
以下，一面參照隨附圖式一面對本發明之一適宜之實施方式進行說明。以下，為了便於說明，僅示出本發明之適宜之實施方式，當然，並不欲藉此限定本發明。
＜1.基本構成＞ 本發明之實施方式之電磁波透過性金屬光澤構件具備基體、及形成於上述基體上之金屬光澤層，且 上述金屬光澤層包含於至少一部分中處於相互不連續之狀態之複數個部分，上述金屬光澤層之膜厚為10 nm以下，CIE-XYZ表色系統之SCI測定中之波長380 nm～700 nm之光的透過Y值為25%～50%。
圖1示出本發明之一實施方式之電磁波透過性金屬光澤構件1之概略剖視圖。又，圖2示出本發明之一實施方式之電磁波透過性金屬光澤構件1表面之電子顯微鏡照片(SEM圖像)的一例。
如圖1所示，電磁波透過性金屬光澤構件1包含基體10、及形成於基體10上之金屬光澤層12。電磁波透過性金屬光澤構件1可於基體10與金屬光澤層12之間進而具備含無機氧化物層，含無機氧化物層11可為含氧化銦層。金屬光澤層12較佳為形成於含氧化銦層上。
含無機氧化物層11係設置於基體10之面。含無機氧化物層11可直接設置於基體10之面，亦可經由設置於基體10之面之保護層等間接地設置。含無機氧化物層11較佳為以連續狀態，換言之，無間隙地設置於基體10之面。藉由以連續狀態設置，可提高含無機氧化物層11、進而電磁波透過性金屬光澤構件1之平滑性或耐蝕性，又，亦容易使含無機氧化物層11於面內均勻地成膜。
金屬光澤層12積層於含無機氧化物層11上。金屬光澤層12包含複數個部分12a。藉由積層於含無機氧化物層11上，該等部分12a係於至少一部分中相互不連續之狀態，換言之，於至少一部分中被間隙12b隔開。由於被間隙12b隔開，故該等部分12a之薄片電阻增大，與電波之相互作用降低，故能夠使電波透過。該等各部分12a為藉由將金屬蒸鍍、濺鍍等所形成之濺鍍粒子集合體。當濺鍍粒子於基體10等基體上形成薄膜時，基體上之粒子之表面擴散性會對薄膜之形狀造成影響。
再者，本說明書中所述之「不連續狀態」係指被間隙12b相互隔開，結果相互電性絕緣之狀態。藉由電性絕緣，薄片電阻增大，從而獲得所需之電磁波透過性。不連續之形態並無特別限定，例如包含島狀、裂縫等。
此處，所謂「島狀」意指如下構造：如圖2之電磁波透過性金屬光澤構件之金屬光澤層表面之電子顯微鏡照片(SEM圖像)所示，作為濺鍍粒子集合體之粒子彼此分別獨立，將該等粒子於相互略微分隔或一部分接觸之狀態下鋪滿而成。
又，所謂裂縫構造意指金屬薄膜被裂縫分割而成之構造。 裂縫構造之金屬光澤層12例如可藉由如下方法形成：於形成於基體上之含無機氧化物層上設置金屬薄膜層，彎曲延伸而於金屬薄膜層產生裂縫。此時，藉由在含無機氧化物層與金屬薄膜層之間設置脆性層，可容易地形成裂縫構造之金屬光澤層12，該脆性層包含缺乏伸縮性，即藉由延伸容易生成裂縫之素材。
如上所述，金屬光澤層12變得不連續之態樣並無特別限定，就生產性之觀點而言，較佳為設為「島狀」。
關於本發明之實施方式之電磁波透過性金屬光澤構件，金屬光澤層之膜厚為10 nm以下，CIE-XYZ表色系統之SCI測定中之波長380 nm～700 nm之光的透過Y值為25%～50%。
本發明之實施方式之電磁波透過性金屬光澤構件1之透過Y值可使用村上色彩股份有限公司製造之DOT3，並依據JIS7361-1加以測定。具體而言，可藉由實施例之欄中所記載之方法進行測定。 本發明人發現：藉由將電磁波透過性金屬光澤構件之透過Y值設為特定範圍，具有優異之電磁波透過性，可獲得充分之金屬光澤，且可獲得所需之透明性。藉此，於將電磁波透過性金屬光澤構件貼附於被黏著構件而製成加飾構件時，可獲得光亮性，且即便介隔電磁波透過性金屬光澤構件，亦可於不損害被黏著構件之表面形狀之情況下進行視認。
透過Y值(視感透過率)係使波長380 nm～700 nm之光入射至電磁波透過性金屬光澤構件之金屬光澤層側之面(金屬光澤層之與具有基體之側為相反側之面)而進行測定，且以CIE-XYZ表色系統之SCI測定中之視感度及光源之光強度加權而成的平均透過率。 為了獲得充分之透明度，透過Y值必須為25%以上，較佳為30%以上，更佳為35%以上。又，就獲得金屬光澤之觀點而言，必須為50%以下，較佳為45%以下，更佳為40%以下。 電磁波透過性金屬光澤構件1之透過Y值可利用金屬光澤層之膜厚及成膜溫度等加以調整。
關於本實施方式之電磁波透過性金屬光澤構件1，較佳為使波長380 nm～700 nm之光自金屬光澤層側入射時，透過光之CIE-L*a*b*表色系統中之a*值為0.0～3.0，b*值為-3.0～15.0。 a*值更佳為2.5以下，進而較佳為1.5以下，更進而較佳為1.0以下。 b*值更佳為13.5以下，進而較佳為12.0以下，更進而較佳為10.0以下。 又，a*值及b*值之平方和之平方根C*較佳為15.3以下。藉由將a*值及b*值之平方和之平方根C*設為15.3以下，可抑制透過時之著色。a*值及b*值之平方和之平方根C*之上限值並無特別限制，更佳為13.7以下，進而較佳為12.1以下，更進而較佳為10.0以下。
關於CIE-L*a*b*表色系統，於CIE(國際照明委員會)1976年推薦之表色系統中，L*表示亮度，0至100中數值越大則越明亮。色度係由a*、b*表示，a*係表示色調自紅至綠之程度之指數，若a*之值於正方向較大則呈現紅色色調。進而，b*係表示色調自黃至藍之程度之指數，若b*之值於負方向較大則呈現黃色色調。於a*值、b*值均為0之情形時呈現無彩色。
又，電磁波透過性金屬光澤構件1之電磁波透過性與薄片電阻具有相關性。 就電磁波透過性之觀點而言，電磁波透過性金屬光澤構件之薄片電阻較佳為100 Ω/□以上。於該情形時，電波透過衰減量於5 GHz之波長時成為10～0.01[-dB]左右。 就電磁波透過性之觀點而言，薄片電阻更佳為200 Ω/□以上，進而較佳為600 Ω/□以上，更進而較佳為1000 Ω/□以上。 電磁波透過性金屬光澤構件1之電磁波透過性金屬光澤構件之薄片電阻較佳為2.50E＋8 Ω/□以上。於該情形時，微波頻帶(5 GHz)之電波透過衰減量成為未達0.1[-dB]左右。 微波頻帶(5 GHz)之電波透過衰減量較佳為未達10[-dB]，更佳為未達5[-dB]，進而較佳為未達2[-dB]。若微波頻帶(5 GHz)之電波透過衰減量為10[-dB]以上，則有90%以上之電波被阻隔之問題。 電磁波透過性金屬光澤構件1之薄片電阻可依據JIS-Z2316-1：2014，藉由渦電流測定法進行測定。
電磁波透過性金屬光澤構件1之電波透過衰減量及薄片電阻會根據含無機氧化物層11或金屬光澤層12之材質或厚度等而受到影響。
＜2.基體＞ 於本實施方式之電磁波透過性金屬光澤構件中，作為基體10，就電磁波透過性之觀點而言，可例舉：樹脂、玻璃、陶瓷等。 基體10可為基材膜、樹脂成型物基材、玻璃基材、或應賦予金屬光澤之物品中之任一種。 更具體而言，作為基材膜，例如可使用如下透明膜，該透明膜包含：聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN)、聚對苯二甲酸丁二酯、聚醯胺、聚氯乙烯、聚碳酸酯(PC)、環烯烴聚合物(COP)、聚苯乙烯、聚丙烯(PP)、聚乙烯、聚環烯烴、聚胺基甲酸酯、丙烯酸(PMMA)、ABS(Acrylonitrile-Butadiene-Styrene，丙烯腈-丁二烯-苯乙烯)等均聚物或共聚物。
根據該等構件，亦不會對光亮性或電磁波透過性帶來影響。其中，從其後形成含無機氧化物層11或金屬光澤層12之觀點考慮，較佳為能耐蒸鍍或濺鍍等之高溫者，因此，上述材料之中，例如較佳為聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、丙烯酸、聚碳酸酯、環烯烴聚合物、ABS、聚丙烯、聚胺基甲酸酯。其中，從耐熱性與成本之平衡性良好方面考慮，較佳為聚對苯二甲酸乙二酯或環烯烴聚合物、聚碳酸酯、丙烯酸。
基材膜可為單層膜，亦可為積層膜。從加工容易程度等考慮，厚度例如較佳為6 μm～250 μm左右。為了增強與含無機氧化物層11或金屬光澤層12之附著力，亦可實施電漿處理或易接著處理等。 於基體10為基材膜之情形時，金屬光澤層12只要設置於基材膜上之至少一部分即可，可僅設置於基材膜之單面，亦可設置於雙面。
基材膜視需要亦可形成平滑性、或防眩性硬塗層。藉由設置硬塗層，可提高金屬薄膜之耐擦傷性。藉由設置平滑性硬塗層，金屬光澤感增加，反之利用防眩性硬塗層可防止眩光。硬塗層可藉由塗佈含有硬化性樹脂之溶液而形成。
作為硬化性樹脂，可例舉：熱硬化型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子束硬化型樹脂等。作為硬化性樹脂之種類，可例舉：聚酯系、丙烯酸系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、醯胺系、聚矽氧系、矽酸鹽系、環氧系、三聚氰胺系、氧雜環丁烷系、丙烯酸胺基甲酸酯系等各種樹脂。該等硬化性樹脂可適當地選擇一種或兩種以上使用。該等之中，從硬度較高，能夠進行紫外線硬化且生產性優異方面考慮，較佳為丙烯酸系樹脂、丙烯酸胺基甲酸酯系樹脂、及環氧系樹脂。
此處，應注意如下方面：基材膜僅為可於其表面上形成金屬光澤層12之對象(基體10)之一例。如上所述，除了基材膜以外，基體10亦包含樹脂成型物基材、玻璃基材、應賦予金屬光澤之物品其本身。作為樹脂成型物基材、及應賦予金屬光澤之物品，例如可例舉：車輛用構造零件、車載用品、電子機器之殼體、家電機器之殼體、構造用零件、機械零件、各種汽車用零件、電子機器用零件、針對傢俱、廚房用品等家居用品之用途、醫療機器、建築材料之零件、其他構造用零件或外裝用零件等。
金屬光澤層12可形成於該等全部基體上，可形成於基體表面之一部分，亦可形成於基體之整個表面。於該情形時，應賦予金屬光澤層12之基體10較佳為滿足與上述基材膜同樣之材質、條件。
＜3.含無機氧化物層＞ 又，如圖1所示，一實施方式之電磁波透過性金屬光澤構件1亦可於基體10與金屬光澤層12之間進而具備含無機氧化物層11。含無機氧化物層11可直接設置於基體10之面，亦可介隔設置於基體10之面之保護膜等間接地設置。含無機氧化物層11較佳為以連續狀態，換言之，無間隙地設置於應賦予金屬光澤之基體10之面。藉由以連續狀態設置，可提高含無機氧化物層11、進而金屬光澤層12或電磁波透過性金屬光澤構件1之平滑性或耐蝕性，又，亦容易使含無機氧化物層11於面內均勻地成膜。
如此，藉由在基體10與金屬光澤層12之間進而具備含無機氧化物層11，即，於基體10上形成含無機氧化物層11，且於其上形成金屬光澤層12，容易以不連續狀態形成金屬光澤層12，故較佳。其機制之詳細情況未必明確，但認為當由金屬之蒸鍍或濺鍍所形成之濺鍍粒子於基體上形成薄膜時，基體上之粒子之表面擴散性對薄膜形狀帶來影響，基體之溫度較高、金屬光澤層對於基體之潤濕性較小、且金屬光澤層之材料之熔點較低者容易形成不連續構造。並且，認為藉由在基體上設置含無機氧化物層，其表面上之金屬粒子之表面擴散性得以促進，容易使金屬光澤層以不連續狀態生長。
作為含無機氧化物層11，較佳為含氧化銦層。 作為含氧化銦層，可使用氧化銦(In 2O 3)本身，亦可使用例如氧化銦錫(ITO)、或氧化銦鋅(IZO)之類的金屬含有物。含氧化銦層較佳為包含氧化銦(In 2O 3)、氧化銦錫(ITO)、或氧化銦鋅(IZO)中之任一種。其中，含有第二金屬之ITO或IZO於濺鍍步驟中之放電穩定性較高，於該方面更佳。藉由使用該等含無機氧化物層11，亦可沿著基體之面形成連續狀態之膜，又，於該情形時，容易使積層於含無機氧化物層上之金屬光澤層成為例如島狀之不連續構造，故較佳。進而，如下所述，於該情形時，於金屬光澤層中，不僅包含鉻(Cr)或銦(In)，還容易包含通常不易成為不連續構造、且不易應用於本用途之鋁或鋁合金。
ITO中所含之氧化錫(SnO 2)之質量比率即含有率(含有率＝(SnO 2/(In 2O 3＋SnO 2))×100)並無特別限定，例如為2.5質量%～30質量%，更佳為3質量%～10質量%。又，IZO中所含之氧化鋅(ZnO)之質量比率即含有率(含有率＝(ZnO/(In 2O 3＋ZnO))×100)例如為2質量%～20質量%。 就薄片電阻或電磁波透過性、生產性之觀點而言，含無機氧化物層11之厚度通常較佳為1000 nm以下，更佳為50 nm以下，進而較佳為20 nm以下。另一方面，為了容易地使積層之金屬光澤層12成為不連續狀態，較佳為1 nm以上，為了容易確實地成為不連續狀態，更佳為2 nm以上，進而較佳為5 nm以上。
＜4.金屬光澤層＞ 金屬光澤層12形成於基體上，必須包含於至少一部分中處於相互不連續之狀態之複數個部分，且膜厚為10 nm以下。 當金屬光澤層12於基體上為連續狀態之情形時，雖然獲得充分之光亮性，但電波透過衰減量變得非常大，因此無法確保電磁波透過性。
金屬光澤層12於基體上呈現不連續狀態之機制之詳細情況未必明確，但推測大致如下。即，為如下情況：於金屬光澤層12之薄膜形成過程中，不連續構造之形成容易度與被賦予金屬光澤層12之基體上之表面擴散存在關聯性，基體之溫度較高、金屬光澤層對於基體之潤濕性較小、且金屬光澤層之材料之熔點較低者容易形成不連續構造。
此處，所謂複數個部分12a之平均粒徑係指複數個部分12a之圓相當徑之平均值。所謂部分12a之圓相當徑為相當於部分12a之面積之真圓之直徑。 金屬光澤層12之部分12a之圓相當徑並無特別限定，通常為10～1000 nm左右。又，各部分12a彼此之距離並無特別限定，通常為10～1000 nm左右。
藉由將金屬光澤層所包含之處於相互不連續之狀態之複數個部分12a的平均粒徑設為上述範圍，光亮性可於維持較高之電磁波透過性之狀態下進一步提高。
金屬光澤層12較佳為當然能夠發揮充分之光亮性及良好之所需之透明性，且熔點相對較低者。其原因在於，金屬光澤層12較佳為藉由利用濺鍍之薄膜生長而形成。 基於此種原因，作為金屬光澤層12，較適宜為熔點為約1000℃以下之金屬，且較佳為含有鋁或鋁合金。 又，如上所述，本發明之實施方式之電磁波透過性金屬光澤構件1必須將透過Y值設為上述範圍，且將金屬光澤層之膜厚設為10 nm以下。金屬光澤層之膜厚薄於先前者，故根據金屬光澤層之形成中所使用之金屬之種類，有時會呈現著色。就設計性之觀點而言，於要求抑制了著色之金屬光澤之情形時，若金屬光澤層之形成使用鋁或鋁合金，則即便為將透過Y值設為特定範圍之電磁波透過性金屬光澤構件，亦可獲得抑制了著色之金屬光澤。 作為金屬光澤層12，尤其是基於光亮性或透明性、價格等原因，較佳為Al及鋁合金。又，於使用鋁合金之情形時，較佳為將鋁含量設為50質量%以上。
為了將透過Y值設為特定範圍，發揮良好之所需之透明性，金屬光澤層12之厚度必須為10 nm以下，更佳為8 nm以下，進而較佳為6.5 nm以下。又，為了獲得充分之金屬光澤，較佳為4.5 nm以上，更佳為5.0 nm以上，進而較佳為5.5 nm以上。 該厚度亦適於高生產性地形成均勻之膜，又，作為最終製品之加飾構件或樹脂成形品之外觀亦良好。再者，金屬光澤層12之厚度可藉由實施例之欄中所記載之方法進行測定。
金屬光澤層之薄片電阻較佳為100 Ω/□以上。於該情形時，電磁波透過性於5 GHz之波長時成為10～0.01[-dB]左右。進而較佳為1000 Ω/□以上。
於進而設置含無機氧化物層之情形時，就電磁波透過性之觀點而言，電磁波透過性金屬光澤構件之薄片電阻較佳為100 Ω/□Å以上。於該情形時，電磁波透過性於5 GHz之波長時成為10～0.01[-dB]左右。 就電磁波透過性之觀點而言，薄片電阻更佳為200 Ω/□以上，進而較佳為600 Ω/□以上，更進而較佳為1000 Ω/□以上。該薄片電阻之值當然受到金屬光澤層之材質或厚度之較大影響，還會受到作為基底層之含無機氧化物層之材質或厚度之較大影響。因此，於設置含無機氧化物層之情形時，必須亦考慮與含無機氧化物層之關係後設定。
只要發揮出本發明之效果，則於本實施方式之電磁波透過性金屬光澤構件中，除了上述金屬光澤層、含無機氧化物層以外，還可根據用途設置其他層。作為其他層，可例舉：黏著劑層、用以調整色調等外觀之高折射材料等光學調整層(色調調整層)、用以提高耐濕性或耐擦傷性等耐久性之保護層(耐擦傷性層)、阻隔層(防腐蝕層)、易接著層、光學調整層、硬塗層、抗反射層、光提取層、防眩層等。
＜5.黏著劑層＞ 黏著劑層係包含透明黏著劑之層。本實施方式之電磁波透過性金屬光澤構件較佳為進而具備包含透明黏著劑之黏著劑層，亦可經由黏著劑層貼附於被黏著構件而使用。例如，於基體為基材膜或玻璃基材之情形時，藉由經由黏著劑層貼附於透明之被黏著構件，可自內側裝飾被黏著構件。
形成黏著劑層之黏著劑只要為透明黏著劑，則並無特別限定，例如可單獨使用丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、聚酯系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、環氧系黏著劑、及聚醚系黏著劑中之任一種，或組合兩種以上使用。就透明性、加工性及耐久性等觀點而言，較佳為使用丙烯酸系黏著劑。
黏著劑層之厚度並無特別限定，藉由減薄，可提高可見光透過性或膜厚精度、平坦性，故較佳為100 μm以下，更佳為75 μm以下，進而較佳為50 μm以下。
黏著劑層整體之全光線透過率並無特別限定，以依據JIS K7361測定之任意之可見光波長時之值計較佳為10%以上，更佳為30%以上，進而較佳為50%以上。黏著劑層之全光線透過率越高則越佳。
又，構成黏著劑層之透明黏著劑亦可經著色。 於該情形時，例如，於圖3中所示之電磁波透過性金屬光澤構件之構成中，介隔具有良好之所需之透明性之金屬光澤層視認到著色後之黏著劑層，故電磁波透過性金屬光澤構件1可於不改變黏著劑層之色調之情況下顯示著色後之金屬光澤。
將透明黏著劑著色之方法並無特別限定，例如可藉由微量添加色素進行著色。
為了至貼附於被黏著構件時為止保護黏著劑層，於黏著劑層上亦可設置剝離襯墊。
＜6.阻隔層＞ 本實施方式之電磁波透過性金屬光澤構件亦可於金屬光澤層12之與基體10為相反側之面具備阻隔層。 阻隔層係用以抑制金屬光澤層12之氧化(腐蝕)之層。阻隔層較佳為包含選自由所金屬及半金屬之至少1種氧化物、氮化物、碳化物、氮氧化物、碳氧化物、碳氮化物及氮碳氧化物組成之群中之至少1種。作為金屬，例如可使用鋁、鈦、銦、鎂等，作為金屬半金屬，例如可使用矽、鉍、鍺等。 具體而言，例如可使用ZnO＋Al 2O 3(AZO)、氧化銦鋅(IZO)、氧化銦錫(ITO)、氮碳氧化矽膜(SiOCN)、氮氧化矽膜(SiON)、氮化矽膜(SiN)、SiO X、AlO X、AlON、TiO X等。
又，為了提高阻隔性，阻隔層較佳為不易使水蒸氣透過。阻隔層之水蒸氣之透過程度可藉由各種方法進行評價，例如可使用水蒸氣透過量進行評價。為了提高阻隔性，該水蒸氣透過量較佳為3 g/m 2・day以下，更佳為1 g/m 2・day以下，進而較佳為0.5 g/m 2・day以下。 阻隔層之水蒸氣透過量例如可使用MOCON公司製造之水蒸氣透過度測定裝置PERMATRAN-W Model3/33而加以測定。
阻隔層之厚度並無特別限定，為了提高阻隔性，較佳為5 nm以上，更佳為10 nm以上，進而較佳為20 nm以上。又，為了提高電磁波透過性或外觀之金屬光澤感，較佳為100 nm以下，更佳為70 nm以下，進而較佳為50 nm以下。
＜7.電磁波透過性金屬光澤構件之製造＞ 對電磁波透過性金屬光澤構件之製造方法之一例進行說明。雖然並未特別說明，但於使用基材膜以外之基體之情形時亦可藉由同樣之方法製造。
當於基體10上形成金屬光澤層12時，例如可使用真空蒸鍍、濺鍍等方法。
又，當於基體10上形成含無機氧化物層11之情形時，於形成金屬光澤層12前，藉由真空蒸鍍、濺鍍、離子鍍覆等形成含無機氧化物層11。其中，從即便為大面積亦可嚴密地控制厚度方面考慮，較佳為濺鍍。
於設置黏著劑層之情形時，可藉由在設置黏著劑層之面塗佈黏著劑組合物等而形成。 黏著劑組合物之塗佈可使用慣用之塗佈機例如凹版輥式塗佈機、逆向輥式塗佈機、接觸輥式塗佈機、浸漬輥式塗佈機、棒式塗佈機、刮刀塗佈機、噴霧塗佈機等而進行。乾燥溫度可適宜地採用，但較佳為40℃～200℃，進而較佳為50℃～180℃，尤佳為70℃～120℃。乾燥時間可適當採用適宜之時間。上述乾燥時間較佳為5秒鐘～20分鐘，進而較佳為5秒鐘～10分鐘，尤佳為10秒鐘～5分鐘。
再者，當於基體10與金屬光澤層12之間設置含無機氧化物層11之情形時，較佳為於含無機氧化物層11與金屬光澤層12之間不介存其他層而直接接觸。
＜8.加飾構件＞ 本實施方式之加飾構件具備被黏著構件、及上述電磁波透過性金屬光澤構件，且經由上述黏著劑層將上述電磁波透過性金屬光澤構件(電磁波透過性金屬光澤構件1)貼附於上述被黏著構件。 本實施方式之加飾構件較佳為具備：被黏著構件；及上述電磁波透過性金屬光澤構件，其具備包含透明黏著劑之黏著劑層；且經由上述黏著劑層將上述電磁波透過性金屬光澤構件貼附於上述被黏著構件。
圖3示出本發明之一實施方式之加飾構件2之概略剖視圖。為本發明之一實施方式之加飾構件2將電磁波透過性金屬光澤構件1貼附於被黏著構件15之狀態的概略剖視圖。本實施方式之加飾構件2將電磁波透過性金屬光澤構件1貼附於被黏著構件15，該電磁波透過性金屬光澤構件1具備金屬光澤層12、含無機氧化物層11、基體10(基材膜)、及黏著劑層14。 關於本實施方式之電磁波透過性金屬光澤構件1，電磁波透過性金屬光澤構件1具有抑制了黃色等著色之金屬光澤，視認性優異，故可獲得如下加飾構件2，其直接利用設置於被黏著構件15之表面之設計、顏色及質感，並且對被黏著構件15進行了裝飾。
電磁波透過性金屬光澤構件1亦可貼附於透明之被黏著構件15之內側之面使用。作為透明之被黏著構件15，例如亦可使用包含玻璃或塑膠之構件，但並不限定於此。
將電磁波透過性金屬光澤構件1貼附於被黏著構件15之方法並無特別限定，例如可藉由真空成形進行貼附。所謂真空成形為如下方法：一面將電磁波透過性金屬光澤構件1加熱軟化一面平展，將電磁波透過性金屬光澤構件1之被黏著構件側之空間減壓，並視需要將相反側之空間加壓，藉此一面將電磁波透過性金屬光澤構件1沿著被黏著構件表面之三維立體形狀成形，一面進行貼附積層。 作為電磁波透過性金屬光澤構件1，可直接引用上述說明。
＜9.電磁波透過性金屬光澤構件及加飾構件之用途＞ 本實施方式之電磁波透過性金屬光澤構件及加飾構件具有電磁波透過性，故較佳為用於收發電磁波之裝置或物品及其零件等。例如亦可用於車輛用構造零件、車載用品、電子機器之殼體、家電機器之殼體、構造用零件、機械零件、各種汽車用零件、電子機器用零件、針對傢俱、廚房用品等家居用品之用途、醫療機器、建築材料之零件、其他構造用零件或外裝用零件等。 更具體而言，關於車輛關係，可例舉：儀錶板、控制台盒、門把手、門飾板、變速桿、踏板類、手套箱、保險桿、引擎蓋、擋泥板、行李箱、門、天窗、支柱、座椅、方向盤、ECU(Electronic Control Unit，電子控制單元)盒、電氣零件、發動機周邊零件、驅動系統、齒輪周邊零件、吸氣、排氣系統零件、冷卻系統零件等。 作為電子機器及家電機器，更具體而言，可例舉：冰箱、洗衣機、吸塵器、微波爐、空調、照明機器、電熱水器、電視、時鐘、排氣扇、投影儀、揚聲器等家電製品類；個人電腦、行動電話、智慧型手機、數位相機、平板型PC(Personal Computer，個人電腦)、隨身聽、攜帶型遊戲機、充電器、電池等電子資訊機器等。 [實施例]
以下，例舉實施例及比較例更具體地說明本發明。製作電磁波透過性金屬光澤構件並進行評價。再者，使用基材膜作為基體10。
評價方法之詳細情況如下所述。 ＜透過率測定＞ 對透過率測定樣品(電磁波透過性金屬光澤構件)，利用標準光源D65使波長380 nm～700 nm之範圍之可見光入射至金屬光澤層側之面(金屬光澤層之與具有基體之側為相反側之面)，利用積分球式分光透過率測定器DOT-3C(村上色彩技術研究所股份有限公司製造)進行透過率測定，獲得透過特性(透過Y值、a*值及b*值)。將所獲得之透過Y值、a*值及b*值記載於表1中。
＜膜厚＞ 考慮金屬光澤層之不均，更詳細而言，圖2所示之部分12a之厚度之不均，將部分12a之厚度之平均值作為金屬光澤層之厚度(Al膜厚(nm))。再者，各部分12a之厚度係設為於垂直方向距基體10最厚處之厚度。以下，為了便於說明，將該平均值稱為「最大厚度」。圖5示出電磁波透過性金屬光澤構件剖面之電子顯微鏡照片(TEM圖像)之例。 於求出最大厚度時，首先，於顯示於如圖5所示之電磁波透過性金屬光澤構件表面之金屬光澤層中，適當地抽選如圖4所示之一邊5 cm之正方形區域3，分別將該正方形區域3之縱邊及橫邊各自之中心線A、B四等分，藉此獲得計5處之點「a」～「e」，並選擇上述點作為測定部位。 繼而，於所選擇之測定部位各自之如圖5所示之剖視圖像中，抽選包含約5個部分12a之視角區域。求出該等計5處之測定部位各自之約5個部分12a，即，25個(5個×5處)部分12a之各自之厚度(nm)，將該等之平均值作為「最大厚度」。
＜透過色相＞ 基於藉由透過率測定所獲得之a*值及b*值來評價色相。 ○：為a*值為0.0～3.0且b*值為-3.0～15.0之範圍。 ×：a*值或b*值為上述以外。
＜反射率測定＞ 使用分光光度計(日立高新技術公司製造，商品名「U-4100」)，測定評價樣品之分光反射率(波長：380～780 nm、入射角：5°)，該評價樣品係將實施例及比較例中所獲得之電磁波透過性金屬光澤構件切割為50 mm見方之尺寸，經由黏著劑CS9861UAS(日東電工股份有限公司製造)，將所切割之電磁波透過性金屬光澤構件之基體側之面貼附於黑色丙烯酸系樹脂板而成。利用上述中所測定之波長380～780 nm之分光反射率、及CIE標準光源D65之相對分光分佈，計算JIS Z8701中所規定之XYZ表色系統中之由反射所引起之物體色的視感度反射率Y(三刺激值Y)。
＜島狀＞ 使用Napson公司製造之非接觸電阻測定裝置NC-80MAP，依據JIS-Z2316，藉由渦電流測定法測定電磁波透過性金屬光澤構件之薄片電阻，實施島狀判斷(金屬光澤層連續或不連續之判斷)。 ○(良好)：由於金屬光澤層為不連續之狀態，故薄片電阻為100 Ω/□以上。 ×(不良)：由於金屬光澤層為連續之狀態，故薄片電阻未達100 Ω/□。
＜視認性＞ (具備設計層之膜之製作及外觀之評價) 於所獲得之電磁波透過性金屬光澤構件之基材膜之與金屬光澤層為相反側之面積層設計層，獲得具備設計層之膜。再者，設計層使用利用雷射印表機於3M公司製造之OHP(Overhead Projector，高架式投影機)膜TY-771上進行設計印刷而成者。 將如下樣品作為評價樣品，該樣品係經由黏著劑層CS9861UAS(日東電工股份有限公司製造)，將所獲得之具備設計層之膜的設計層側之面貼附於黑色丙烯酸系樹脂板而成。自垂直方向觀察評價樣品，並藉由下述評價基準評價視認性。 ○(良好)：可視認設計，且可視認具有金屬光澤之反射。 ×(不良)：無法視認設計，或者雖然可視認設計，但反射率低於12%，無法視認具有金屬光澤之反射。
[實施例1] 使用HC-PET(於東麗股份有限公司製造之PET膜50-U483(厚度50 μm)上形成有厚度2 μm之紫外線硬化樹脂層(硬塗層)之膜)作為基材膜。 首先，於DC(Direct Current，直流)磁控濺鍍裝置上安裝ITO靶材，一面導入Ar氣，一面進行濺鍍，藉此沿著基材膜之面，於紫外線硬化樹脂層上直接形成厚度5 nm之ITO層。形成ITO層時之基材膜之溫度(成膜溫度)設定為20℃。ITO中所含之氧化錫(SnO 2)之含有率(含有率＝(SnO 2/(In 2O 3＋SnO 2))×100)為10質量%。
於DC磁控濺鍍裝置上安裝鋁(Al)靶材，一面導入Ar氣，一面進行濺鍍，藉此於ITO層上形成4.5 nm之Al層作為金屬光澤層。形成Al層時之基材膜之溫度設定為20℃。繼而，於MF-AC(Medium Frequency-Alternating Current，中頻-交流)磁控濺鍍裝置上安裝鋁(Al)靶材，一面導入Ar氣及O 2氣，一面藉由反應性濺鍍形成20 nm之AlOx層，獲得實施例1之積層體。所獲得之Al層為不連續層。
藉由以上獲得實施例1之電磁波透過性金屬光澤構件，該電磁波透過性金屬光澤構件為基體(基材膜、及硬塗層)、含氧化銦層、金屬光澤層、及阻隔層之積層體。藉由上述方法測定所獲得之電磁波透過性金屬光澤構件之透過特性，並記載於表1。 使用對表面實施設計後之厚度0.7 mm之玻璃作為被黏著構件，使用黏著劑CS9861UAS(日東電工股份有限公司製造)將上述中所獲得之電磁波透過性金屬光澤構件貼附於被黏著構件，獲得如下加飾構件，其係經由黏著劑將電磁波透過性金屬光澤構件之基材膜側之面與被黏著構件貼合而成。
[實施例2～9、比較例2～8] 將實施例1中之基材、金屬光澤層之厚度(nm)、及ITO層及Al層之成膜溫度變更為如表1中所記載，獲得電磁波透過性金屬光澤構件、及加飾構件。 於實施例6及比較例2中使用PET膜(東麗股份有限公司製造之PET膜50-U483(厚度50 μm))作為基材。
[實施例10～12、比較例9] 於實施例1中之形成Al層時之放電時，將Ar流量與O 2流量之比即O 2/Ar流量變更為如表1中所記載，進而，將ITO層、Al層之成膜溫度變更為如表1中所記載，獲得電磁波透過性金屬構件、及加飾構件。
[比較例1] 將實施例1中之基材、ITO層之成膜溫度、及金屬光澤層之厚度(nm)變更為如表1中所記載，獲得比較例1之積層體。比較例1之積層體中之金屬光澤層(Al層)為連續層。 使用比較例1之積層體代替實施例1之電磁波透過性金屬光澤構件，獲得比較例1之加飾構件。
以下之表1中示出評價結果。表1中，O 2/Ar流量比表示體積流量比，Al膜厚(金屬光澤層之膜厚)之單位為「nm」，透過Y值、反射Y值之單位為「%」。
[表1] 表1
   No. 基材 成膜溫度 O 2/Ar流量比 Al膜厚 透過Y值 透過a* 透過b* 反射Y 島狀 色相 視認性
實施例 1 HC-PET 20℃ 0.000 4.5 49.4 1.4 9.5 13.0 ○ ○ ○
2 HC-PET 20℃ 0.000 5.6 41.1 0.6 5.6 14.0 ○ ○ ○
3 HC-PET 20℃ 0.000 6.4 33.3 0.6 4.3 16.9 ○ ○ ○
4 HC-PET 40℃ 0.000 7.7 28.5 1.1 7.1 21.8 ○ ○ ○
5 HC-PET 40℃ 0.000 4.4 47.1 2.4 11.9 14.9 ○ ○ ○
6 PET 40℃ 0.000 5.7 36.6 2.8 12.5 17.4 ○ ○ ○
7 HC-PET 50℃ 0.000 7.7 27.2 1.9 11.2 25.0 ○ ○ ○
8 HC-PET 50℃ 0.000 4.6 46.8 2.9 12.7 15.5 ○ ○ ○
9 HC-PET 90℃ 0.000 6.3 43.9 2.9 13.6 15.7 ○ ○ ○
10 HC-PET 50℃ 0.014 5.7 36.9 1.9 0.2 14.4 ○ ○ ○
11 HC-PET 50℃ 0.028 5.5 38.4 2.3 1.7 14.5 ○ ○ ○
12 HC-PET 50℃ 0.056 5.5 42.9 0.9 -2.5 12.0 ○ ○ ○
比較例 1 HC-PET -8℃ 0.000 4.5 51.9 0.4 4.3 10.1 × ○ ×
2 PET 40℃ 0.000 3.9 60.1 1.6 14.3 10.3 ○ ○ ×
3 HC-PET 70℃ 0.000 9.8 19.5 2.7 12.2 34.1 ○ ○ ×
4 HC-PET 90℃ 0.000 4.6 60.6 1.6 10.4 9.5 ○ ○ ×
5 HC-PET 90℃ 0.000 9.7 20.7 3.1 13.8 34.5 ○ × ×
6 HC-PET 90℃ 0.000 10.3 25.7 3.2 15.4 30.3 ○ × ○
7 HC-PET 90℃ 0.000 11.3 16.5 3.1 12.8 39.0 ○ × ×
8 HC-PET 90℃ 0.000 32.4 4.4 1.7 4.8 58.6 ○ ○ ×
9 HC-PET 50℃ 0.111 4.5 64.2 0.0 -0.2 6.7 ○ ○ ×
由表1可明確，實施例1～12之電磁波透過性金屬光澤構件之金屬光澤層之膜厚(Al膜厚)為10 nm以下，透過Y值為25%～50%，故具有優異之電磁波透過性，顯示出較高之透過性與金屬光澤，可製造能夠視認積層於基材膜之設計層之加飾構件。又，實施例1～12之電磁波透過性金屬光澤構件之a*值為0.0～3.0，b*值為-3.0～15.0，故著色得以抑制，色相優異。 另一方面，比較例1之電磁波透過性金屬光澤構件之金屬光澤層為連續層，未顯示電磁波透過性。比較例3、5、7及8之電磁波透過性金屬光澤構件之透過Y值未達25%，透明性較差，所獲得之加飾構件無法視認設計層。比較例5、7之電磁波透過性金屬光澤構件於色相方面亦較差。又，比較例1、2、4及9之電磁波透過性金屬光澤構件之反射率較低而未達12%，無法獲得金屬風格之外觀。 比較例6之電磁波透過性金屬光澤構件之透過Y值為25%～50%之範圍內，但金屬光澤層之膜厚為10 nm以上，與實施例之電磁波透過性金屬光澤構件相比色相較差。
本發明並不限定於上述實施例，亦可於不脫離發明主旨之範圍內適當進行變更而具體化。 [產業上之可利用性]
本發明之電磁波透過性金屬光澤構件可用於收發電磁波之裝置或物品及其零件等。例如亦可用於車輛用構造零件、車載用品、電子機器之殼體、家電機器之殼體、構造用零件、機械零件、各種汽車用零件、電子機器用零件、針對傢俱、廚房用品等家居用品之用途、醫療機器、建築材料之零件、其他構造用零件或外裝用零件等要求設計性與電磁波透過性兩者之各種用途。
以上詳細且參照特定實施態樣對本發明進行了說明，但業者明了可於不脫離本發明之精神與範圍之情況下加以各種變更或修正。 本申請案基於2020年6月30日提出申請之日本專利申請(特願2020-112899)，且以參照之形式將其內容編入至本文中。
1:電磁波透過性金屬光澤構件 2:加飾構件 10:基體 11:含無機氧化物層 12:金屬光澤層 12a:部分 12b:間隙 14:黏著劑層 15:被黏著構件
圖1為本發明之一實施方式之電磁波透過性金屬光澤構件之概略剖視圖。 圖2係表示本發明之一實施方式之電磁波透過性金屬光澤構件表面之電子顯微鏡照片(SEM(Scanning Electron Microscope，掃描式電子顯微鏡)圖像)的圖。 圖3為本發明之一實施方式之加飾構件之概略剖視圖。 圖4係用以說明本發明之一實施方式之電磁波透過性金屬光澤構件之金屬光澤層之厚度的測定方法之圖。 圖5係表示本發明之一實施方式之電磁波透過性金屬光澤構件剖面之電子顯微鏡照片(TEM(Transmission Electron Microscope，穿透式電子顯微鏡)圖像)的圖。
1:電磁波透過性金屬光澤構件
10:基體
11:含無機氧化物層
12:金屬光澤層
12a:部分
12b:間隙

Claims (13)

  1. 一種電磁波透過性金屬光澤構件，其具備基體、及形成於上述基體上之金屬光澤層，且 上述金屬光澤層包含於至少一部分中處於相互不連續之狀態之複數個部分， 上述金屬光澤層之膜厚為10 nm以下， CIE-XYZ表色系統之SCI測定中之波長380 nm～700 nm之光的透過Y值為25%～50%。
  2. 如請求項1之電磁波透過性金屬光澤構件，其中於使波長380 nm～700 nm之光自上述電磁波透過性金屬光澤構件中之上述金屬光澤層側入射時，透過光之CIE-L*a*b*表色系統中之a*值為0.0～3.0，b*值為-3.0～15.0。
  3. 如請求項1或2之電磁波透過性金屬光澤構件，其中上述金屬光澤層含有鋁或鋁合金。
  4. 如請求項1至3中任一項之電磁波透過性金屬光澤構件，其於上述基體與上述金屬光澤層之間進而具備含無機氧化物層。
  5. 如請求項4之電磁波透過性金屬光澤構件，其中上述含無機氧化物層為含氧化銦層。
  6. 如請求項5之電磁波透過性金屬光澤構件，其中上述含氧化銦層包含氧化銦(In 2O 3)、氧化銦錫(ITO)、或氧化銦鋅(IZO)中之任一種。
  7. 如請求項4至6中任一項之電磁波透過性金屬光澤構件，其中上述含無機氧化物層係以連續狀態設置。
  8. 如請求項4至7中任一項之電磁波透過性金屬光澤構件，其中上述含無機氧化物層之厚度為1 nm～1000 nm。
  9. 如請求項1至8中任一項之電磁波透過性金屬光澤構件，其薄片電阻為100 Ω/□以上。
  10. 如請求項1至9中任一項之電磁波透過性金屬光澤構件，其中上述複數個部分形成為島狀。
  11. 如請求項1至10中任一項之電磁波透過性金屬光澤構件，其中上述基體為基材膜、樹脂成型物基材、玻璃基材、或應賦予金屬光澤之物品中之任一種。
  12. 如請求項1至11中任一項之電磁波透過性金屬光澤構件，其進而具備包含透明黏著劑之黏著劑層。
  13. 一種加飾構件，其具備被黏著構件、及如請求項12之電磁波透過性金屬光澤構件，且經由上述黏著劑層將上述電磁波透過性金屬光澤構件貼附於上述被黏著構件。
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