CN111952341A - 一种显示基板及其制作方法、显示面板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种显示基板及其制作方法、显示面板及显示装置，涉及显示技术领域。本发明通过在背板上依次形成层叠的平坦层和像素界定层，像素界定层具有多个像素开口；在像素界定层上和像素开口内的平坦层上形成阳极层，阳极层通过贯穿平坦层和像素界定层的第一过孔与背板中的源漏电极层连接；形成无机保护层，无机保护层覆盖像素界定层，无机保护层还部分覆盖阳极层，且未被无机保护层覆盖的阳极层位于像素开口内。通在阳极层和无机保护层两层结构阻止像素界定层与像素开口内的发光层的直接接触，避免了像素界定层和平坦层老化分解产生的小分子进入像素开口内的发光层中造成发光材料失效的问题，从而提高了发光层的发光效果。

Description

一种显示基板及其制作方法、显示面板及显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示基板及其制作方法、显示面板及显示装置。

背景技术

目前，OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示面板已经广泛的应用于显示行业，如已经广泛应用于手机、平板、电脑、电视等产品中。

现有技术中，如图1所示，显示面板中的显示基板包括背板100、位于背板100上的平坦层110和位于平坦层110上的阳极层120，阳极层120通过贯穿平坦层110的过孔与背板100中的源漏电极层1001连接，阳极层120上还设置有像素界定层130，像素界定层130具有多个像素开口1301，通常像素界定层130和平坦层110的材料均为有机材料。

在显示面板的使用过程中，当显示面板经过长时间的太阳光照射时，像素界定层130和平坦层110中的材料会受到太阳光中的紫外光的照射而发生老化分解，从而产生一些小分子，这些小分子会扩散进入像素开口1301内的发光层中，使得发光层中的发光材料失效，从而影响发光层的发光效果以及显示面板的使用寿命。

发明内容

本发明提供一种显示基板及其制作方法、显示面板及显示装置，以解决现有的像素界定层和平坦层经过太阳光中紫外光的照射后产生的小分子进入像素开口内的发光层，使发光材料失效，从而影响发光层发光效果以及显示面板寿命的问题。

为了解决上述问题，本发明公开了一种显示基板的制作方法，包括：

在背板上依次形成层叠的平坦层和像素界定层；所述像素界定层具有多个像素开口；

在所述像素界定层上和所述像素开口内的平坦层上形成阳极层；所述阳极层通过贯穿所述平坦层和所述像素界定层的第一过孔与所述背板中的源漏电极层连接；

形成无机保护层；所述无机保护层覆盖所述像素界定层，所述无机保护层还部分覆盖所述阳极层，且未被所述无机保护层覆盖的所述阳极层位于所述像素开口内。

可选的，在所述像素开口内，与所述像素界定层接触的所述阳极层被所述无机保护层部分或全部覆盖。

可选的，针对同一子像素区域，在所述像素开口远离所述第一过孔的一侧，所述无机保护层与所述像素界定层直接接触。

可选的，所述无机保护层具有放气孔，所述放气孔贯穿所述无机保护层，并暴露出所述像素界定层的表面。

可选的，在所述形成无机保护层的步骤之后，还包括：

在所述无机保护层上形成隔垫物，并在所述第一过孔内形成填充物；

其中，所述填充物与所述第一过孔内的所述无机保护层接触。

可选的，在所述形成无机保护层的步骤之前，还包括：

在所述像素界定层上形成隔垫物，并在所述第一过孔内形成填充物；

其中，所述填充物与所述第一过孔内的所述阳极层接触；所述无机保护层还覆盖所述隔垫物。

可选的，所述无机保护层的材料为低透过率材料。

可选的，所述在背板上依次形成层叠的平坦层和像素界定层的步骤，包括：

在所述背板上依次形成层叠的平坦层薄膜和像素界定层薄膜；

采用半色调掩膜板对所述平坦层薄膜和所述像素界定层薄膜进行一次图案化处理，以在所述背板上依次形成层叠的平坦层和像素界定层。

为了解决上述问题，本发明还公开了一种显示基板，包括：

背板；

层叠设置在所述背板上的平坦层和像素界定层；所述像素界定层具有多个像素开口；

设置在所述像素界定层上和所述像素开口内的平坦层上的阳极层；所述阳极层通过贯穿所述平坦层和所述像素界定层的第一过孔与所述背板中的源漏电极层连接；

无机保护层，所述无机保护层覆盖所述像素界定层，所述无机保护层还部分覆盖所述阳极层，且未被所述无机保护层覆盖的所述阳极层位于所述像素开口内。

可选的，所述显示基板还包括：设置在所述无机保护层上的隔垫物，以及设置在所述第一过孔内的填充物；

其中，所述填充物与所述第一过孔内的所述无机保护层接触。

可选的，所述显示基板还包括：设置在所述像素界定层上的隔垫物，以及设置在所述第一过孔内的填充物；

其中，所述填充物与所述第一过孔内的所述阳极层接触；所述无机保护层还覆盖所述隔垫物。

为了解决上述问题，本发明还公开了一种显示面板，包括上述的显示基板。

为了解决上述问题，本发明还公开了一种显示装置，包括上述的显示面板。

与现有技术相比，本发明包括以下优点：

在本发明实施例中，在背板上依次形成层叠的平坦层和像素界定层，像素界定层具有多个像素开口；在像素界定层上和像素开口内的平坦层上形成阳极层，阳极层通过贯穿平坦层和像素界定层的第一过孔与背板中的源漏电极层连接；形成无机保护层，无机保护层覆盖像素界定层，无机保护层还部分覆盖阳极层，且未被无机保护层覆盖的阳极层位于像素开口内。通在形成像素界定层之后再形成阳极层，在像素开口内，阳极层会至少覆盖部分像素界定层，从而减少了像素界定层与后续形成的发光层的接触面积，减少了显示基板在太阳光中的紫外光的照射下，像素界定层和平坦层发生老化分解后产生的小分子进入像素开口内的发光层中的几率，减少了发光材料失效的几率，另外，再通过采用无机保护层覆盖像素界定层，从而使显示基板在太阳光中的紫外光的照射下，像素界定层和平坦层发生老化分解后产生的小分子，不能穿过无机保护层进入像素开口内的发光层中，进一步避免了老化分解产生的小分子进入发光层导致发光材料失效的问题，从而提高了发光层的发光效果和显示面板的使用寿命。

附图说明

图1示出了现有技术中一种显示基板的剖视图；

图2示出了本发明施例的一种显示基板的制作方法的流程图；

图3示出了本发明施例的形成平坦层和像素界定层后的剖视图；

图4示出了本发明施例的形成阳极层后的剖视图；

图5示出了本发明实施例的形成无机保护层后的剖视图；

图6示出了本发明实施例的形成隔垫物后的剖视图；

图7示出了本发明实施例的另一种显示基板的剖视图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。

实施例一

参照图2，示出了本发明实施例的一种显示基板的制作方法的流程图，具体可以包括以下步骤：

步骤210，在背板上依次形成层叠的平坦层和像素界定层；所述像素界定层具有多个像素开口。

在本发明实施例中，如图3所示，在背板300上依次形成平坦层310和像素界定层320，像素界定层320上具有多个像素开口3201，在平坦层310和像素界定层320中还具有贯穿平坦层310和像素界定层320的第一过孔3202，其中，第一过孔3202的形成有利于后续形成的阳极层与背板300中的源漏电极层3008进行连接，在像素界定层320中形成像素开口3201，用于对后续发光层提供形成区域。

在本发明一种可选的实施例中，步骤210具体可以包括：在背板上依次形成层叠的平坦层薄膜和像素界定层薄膜；采用半色调掩膜板对平坦层薄膜和像素界定层薄膜进行一次图案化处理，以在背板上依次形成层叠的平坦层和像素界定层。

具体的，先在背板300上形成平坦层薄膜，再在平坦层薄膜上形成像素界定层薄膜，然后，采用半色调掩膜板对像素界定层薄膜和平坦层薄膜进行曝光，其中，在半色调掩膜板中，第一过孔3202对应的区域处的光线透光率为100％，像素开口3201对应的区域处的光线透过率小于第一过孔3202对应的区域处的光线透光率，例如，像素开口3201对应的区域处的光线透过率为50％，而除了第一过孔3202和像素开口3201外的其他区域处的光线透过率为0，最后，对曝光后的像素界定层薄膜和平坦层薄膜进行显影，使得像素开口3201对应的区域处的像素界定层薄膜被去除，形成像素开口3201，同时，使得第一过孔3202对应的区域处的像素界定层薄膜和平坦层薄膜被去除，形成第一过孔3202。

在本发明实施例中，采用半色调掩膜板对平坦层薄膜和像素界定层薄膜仅需要通过一次图案化处理就可得到平坦层310和像素界定层320，该工艺过程减少了掩膜板的使用数量，节省了成本。

在本发明另一可选的实施例中，步骤210具体可以包括：先在背板300上形成平坦层薄膜，对平坦层薄膜进行曝光和显影，形成平坦层310，平坦层310上具有贯穿的第一通孔，然后再在平坦层310上形成像素界定层薄膜，对像素界定层薄膜进行曝光和显影，将第一通孔位置对应的像素界定层薄膜显影掉，形成第二通孔，第一通孔和第二通孔形成了贯穿平坦层310和像素界定层320的第一过孔3202，同时，在对像素界定层薄膜显影后，也形成了像素开口3201。

其中，背板300中包括有TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)结构，该TFT结构可以为LTPS(Low Temperature Poly-silicon，低温多晶硅)TFT结构或LTPO(LowTemperature Poly-silicon，低温多晶氧化物)TFT结构。具体的，背板300包括有衬底基板3001、第一栅极3002、第一栅极绝缘层3003、有源层3004、第二栅极绝缘层3005、第二栅极层3006、层间介质层3007和源漏电极层3008等，本发明实施例中的背板300不限于上述结构，还可以为其它背板结构。

在本发明实施例中，像素界定层320和平坦层310均为有机膜层，该有机膜层的材料为聚酰亚胺类树脂、丙烯酸树脂、硅氧烷类树脂中的任意一种。

步骤220，在所述像素界定层上和所述像素开口内的平坦层上形成阳极层；所述阳极层通过贯穿所述平坦层和所述像素界定层的第一过孔与所述背板中的源漏电极层连接。

在本发明实施例中，在形成平坦层310和像素界定层320之后，形成阳极薄膜，对阳极薄膜进行图案化处理，形成阳极层330，如图4所示，阳极层330位于像素界定层320上和像素开口3201内的平坦层310上，在像素开口3201内，阳极层330还与像素开口3201内的像素界定层320接触。

通在形成像素界定层320之后再形成阳极层330，在像素开口3201内，阳极层330会至少覆盖部分像素界定层320，从而减少了像素界定层320与后续形成的发光层的接触面积，减少了显示基板在太阳光中的紫外光的照射下，像素界定层320和平坦层310发生老化分解后产生的小分子进入像素开口3201内的发光层中的几率，减少了发光材料失效的几率。

在本发明实施例中，阳极层330还通过贯穿平坦层310和像素界定层320的第一过孔3202与背板300中的源漏电极层3008连接，用于传输背板300中驱动元件的驱动信号。

步骤230，形成无机保护层；所述无机保护层覆盖所述像素界定层，所述无机保护层还部分覆盖所述阳极层，且未被所述无机保护层覆盖的所述阳极层位于所述像素开口内。

在本发明实施例中，在像素界定层320上和像素开口3201内的平坦层310上形成阳极层330之后，在阳极层330和像素界定层320上形成无机保护层薄膜，对无机保护层薄膜进行图案化处理，形成无机保护层340，如图5所示，该无机保护层340将裸露出来的像素界定层320全部覆盖，并且该无机保护340层还部分覆盖阳极层330，阳极层330中未被无机保护层340覆盖的区域位于像素开口3201内，从而可使后续形成在像素开口3201内的发光层能够与未被无机保护层340覆盖的阳极层330接触，进而可以通过阳极层330将电信号传输至像素开口3201内的发光层中。

在本发明实施例中，由于形成像素界定层320和平坦层310的有机材料在长时间太阳光中紫外光的照射下易发生老化分解，产生的小分子进入发光层后会使发光材料失效，进而影响发光层的发光效果以及显示面板的寿命，而当采用无机保护层340覆盖像素界定层320后，可以阻止像素界定层320与后续形成的发光层直接接触，因此，也就阻止了像素界定层320和平坦层310中由于老化分解产生的小分子进入发光层中，避免了造成发光材料失效的问题，从而提升了发光层的发光效果和显示面板的寿命；另外，无机保护层340还部分覆盖阳极层330，在阳极层330被无机保护层340覆盖的区域，无机保护层340和阳极层330可以共同起到阻挡像素界定层320和平坦层310中老化分解产生的小分子进入发光层中，加强了对发光层的保护，进一步提升了发光层的发光效果和显示面板的寿命。

在本发明一种可选的实施例中，在步骤230之后，还包括：在无机保护层上形成隔垫物，并在第一过孔内形成填充物；其中，填充物与第一过孔内的无机保护层接触。

具体的，在本发明实施例中，在形成无机保护层340之后，在无机保护层340上形成隔垫物薄膜，对隔垫物薄膜进行图案化处理，在无机保护层340上形成隔垫物3501，如图6所示，在形成隔垫物薄膜时，形成隔垫物薄膜的材料会填充至第一过孔3202内，以在第一过孔3202内形成填充物3502，该填充物3502与第一过孔3202内的无机保护层340接触，由于该填充物3502对第一过孔3202进行了填充，消除了第一过孔3202形成的段差，避免了后续膜层在第一过孔3202处形成时，由于过高的段差而出现膜层断裂的问题。

在本发明另一种可选的实施例中，在步骤230之前还包括，在像素界定层上形成隔垫物，并在第一过孔内形成填充物；其中，填充物与第一过孔内的阳极层接触；无机保护层还覆盖隔垫物。

在本发明实施例中，在形成无机保护层340之前，以及在形成阳极层330之后，形成覆盖阳极层330和像素界定层320的隔垫物薄膜，对该隔垫物薄膜进行图案化处理，在像素界定层320上形成隔垫物3501，如图7所示，由于第一过孔3202贯穿平坦层310和像素界定层320，因此，在形成隔垫物薄膜时，隔垫物薄膜的材料会填充至第一过孔3202内，以在第一过孔3202内形成填充物3502，该填充物3502与第一过孔3202内的阳极层330接触，该填充物3502避免了后续形成的无机保护层340在第一过孔3202处由于较高的段差出现无机保护层340断裂的问题。

后续形成的无机保护层340也会覆盖形成在像素界定层320上的隔垫物3501以及形成在第一过孔3202内的填充物3502。像素界定层320上的隔垫物3501在背板300上的正投影与阳极层330在背板300上的正投影不存在重合区域。

在本发明实施例中，针对同一子像素区域，在像素开口3201远离第一过孔3202的一侧，无机保护层340与像素界定层320直接接触。

具体的，在本发明实施例中，在同一子像素区域中，在像素开口3201远离第一过孔3202的一侧，如图5中的A区域所示，无机保护层340与像素界定层320直接接触，即在像素开口3201远离第一过孔3202的一侧，不存在阳极层330，由于在制作过程中，发光层也可能会形成在像素开口3201以外的区域，通过将像素开口3201远离第一过孔3202一侧的阳极层330设置成未延伸至像素开口3201以外的像素界定层320上，以避免阳极层330延伸至像素开口3201远离第一过孔3202一侧的像素界定层320上，会导致像素开口3201远离第一过孔3202一侧的区域出现发光的现象，如果在像素开口3201以外的区域出现发光的现象，则会使不同子像素区域中原本定义的发光区的发光面积发生变化，进而使显示面板出现亮度不均或色偏的现象，因此，在同一子像素区域中，在像素开口3201远离第一过孔3202的一侧，使无机保护层340与像素界定层320直接接触，可以避免在像素开口3201远离第一过孔3202的一侧出现发光现象，从而可以保证每个子像素区域中发光面积的大小，进而可以确保显示面板亮度的均匀性，并且可以避免色偏的现象出现。

在本发明实施例中，在像素开口3201内，与像素界定层320接触的阳极层330被无机保护层340部分或全部覆盖。

具体的，在本发明实施例中，在像素开口3201内，阳极层330与像素开口3201内的像素界定层320存在接触区域，在形成无机保护层340时，使得在像素开口3201内，与像素界定层320接触的阳极层330被无机保护层340部分或全部覆盖。

在像素开口3201内，当无机保护层340不覆盖阳极层330时，即无机保护层340与阳极层330不存在重叠区域时，此时，存在阳极层330与无机保护层340均与像素界定层320接触的现象，则阳极层330与无机保护340层同层设置，当阳极层330与无机保护层340刚好对接在一起时，阳极层330与无机保护层340之间会存在缝隙，当阳极层330与无机保护层340不相互对接时，阳极层330与无机保护层340之间会存在露出像素界定层320的开口区，不管阳极层330与无机保护层340之间是存在缝隙还是存在开口区，都会使平坦层310和像素界定层320中由于老化分解产生的小分子会通过该缝隙或开口区进入像素开口3201中的发光层中，使发光材料失效，从而影响显发光层的发光效果。

而当在像素开口3201内，无机保护层340部分覆盖或全部覆盖与像素界定层320接触的阳极层330时，无机保护层340与阳极层330重合的区域不仅可以对像素开口3201内的发光层起到双重保护的作用，并且，也可以避免无机保护层340与阳极层330之间存在缝隙或开口区，导致像素界定层320和平坦层310中由于老化分解产生的小分子进入发光层，使发光材料失效，影响发光层发光效果的问题。

在本发明实施例中，无机保护层340具有放气孔3401，放气孔3401贯穿无机保护层340，并暴露出像素界定层320的表面。

在本发明实施例中，与像素界定层320接触的无机保护层340具有放气孔3401，该放气孔3401可以设置在像素开口3201远离第一过孔3202一侧，放气孔3401的数量可以根据实际需要进行设定，本发明对此不做限定。

该放气孔3401贯穿无机保护层340，使得位于无机保护层340下面的像素界定层320露出，放气孔3401的设置可以使像素界定层320和平坦层310由于老化分解时产生的小分子残留被排出，避免了像素界定层320和平坦层310由于老化分解产生的小分子不能被排出时，使平坦层310和像素界定层320的膜层出现膨胀，从而影响膜厚的均一性，并且影响膜层之间的粘附性的问题。因此，通过设置贯穿无机保护层340的放气孔3401，可以避免平坦层310和像素界定层320的膜层出现膨胀，提高膜厚的均一性，提高膜层之间的粘附性。

在本发明实施例中，无机保护层340的材料为低透过率材料，当外界光线照射到无机保护层340上时，低透过率的无机保护层340可以降低外界光线的透过率，即可以减少穿过无机保护层340照射到像素界定层320和平坦层310中的外界光线，因此，可以降低像素界定层320和平坦层310由于太阳光中紫外光的照射而产生的小分子的数量。

该低透过率材料可以为氮化硅材料，由于氮化硅材料具有高的消光系数，因此，其与一般的氧化硅材料相比具有低的透过率，采用氮化硅材料形成无机保护层340时，无机保护层340的厚度为100nm～500nm，对应的透过率为70％；该低透过率材料也可以为添加有散射粒子的氮化硅材料，散射粒子的添加可以增加氮化硅膜层对光线的散射效果，从而减小光线的透过率，采用添加散射粒子的氮化硅材料形成无机保护层340时，无机保护层340的厚度为100nm～500nm，对应的透过率为30％～50％；该低透过率材料还可以为黑色遮光材料，黑色遮光材料可以对光线进行吸收，从而减少光线的透过率，黑色遮光材料可以为氧化钼等金属氧化物，采用黑色遮光材料形成无机保护层340时，无机保护层340的厚度可以设置为10nm～100nm，对应的透过率为30％。

在本发明实施例中，通在形成像素界定层之后再形成阳极层，在像素开口内，阳极层会至少覆盖部分像素界定层，从而减少了像素界定层与后续形成的发光层的接触面积，减少了显示基板在太阳光中的紫外光的照射下，像素界定层和平坦层发生老化分解后产生的小分子进入像素开口内的发光层中的几率，减少了发光材料失效的几率，另外，再通过采用无机保护层覆盖像素界定层，从而使显示基板在太阳光中的紫外光的照射下，像素界定层和平坦层发生老化分解后产生的小分子，不能穿过无机保护层进入像素开口内的发光层中，进一步避免了老化分解产生的小分子进入发光层导致发光材料失效的问题，从而提高了发光层的发光效果和显示面板的使用寿命。

实施例二

本发明实施例提供了一种显示基板，该显示基板采用上述显示基板的制作方法制作得到。

在本发明实施例中，该显示基板包括背板300；层叠设置在背板300上的平坦层310和像素界定层320；像素界定层320具有多个像素开口3201；设置在像素界定层320上和像素开口3201内的平坦层310上的阳极层330；阳极层330通过贯穿平坦层310和像素界定层320的第一过孔3202与背板300中的源漏电极层3008连接；无机保护层340，无机保护层340覆盖像素界定层320，无机保护层340还部分覆盖阳极层330，且未被无机保护层340覆盖的阳极层330位于像素开口3201内。

在本发明实施例中，无机保护层340具有放气孔3401，放气孔3401贯穿无机保护层340，并暴露出像素界定层320的表面，放气孔3401的设置可以使像素界定层320和平坦层310由于老化分解时产生的小分子残留被排出，避免了像素界定层320和平坦层310由于老化分解产生的小分子不能被排出时使平坦层310和像素界定层320的膜层出现膨胀，从而影响膜厚的均一性，并且影响膜层之间的粘附性的问题。

在本发明实施例中，背板300中包括有TFT结构，该TFT结构可以为用LTPS TFT结构或LTPO TFT结构。

在本发明一种可选的实施例中，显示基板还包括：设置在无机保护层340上的隔垫物3501，以及设置在第一过孔内3202的填充物3502；其中，填充物3502与第一过孔3202内的无机保护层340接触。

在本发明实施例中，填充物3502对第一过孔3202进行了填充，消除了第一过孔3202形成的段差，避免了后续膜层在第一过孔3202处形成时，由于过高的段差而出现膜层断裂的问题。

在本发明另一种可选的实施例中，显示基板还包括：设置在像素界定层320上的隔垫物3501，以及设置在第一过孔3202内的填充物3502；其中，填充物3502与第一过孔3202内的阳极层330接触；无机保护层340还覆盖隔垫物3501。

在本发明实施例中，填充物3502对第一过孔3202进行了填充，避免了后续形成的无机保护层340在第一过孔3202处由于较高的段差出现无机保护层340断裂的问题。

在本发明实施例中，通在形成像素界定层之后再形成阳极层，在像素开口内，阳极层会至少覆盖部分像素界定层，从而减少了像素界定层与后续形成的发光层的接触面积，减少了显示基板在太阳光中的紫外光的照射下，像素界定层和平坦层发生老化分解后产生的小分子进入像素开口内的发光层中的几率，减少了发光材料失效的几率，另外，再通过采用无机保护层覆盖像素界定层，从而使显示基板在太阳光中的紫外光的照射下，像素界定层和平坦层发生老化分解后产生的小分子，不能穿过无机保护层进入像素开口内的发光层中，进一步避免了老化分解产生的小分子进入发光层导致发光材料失效的问题，从而提高了发光层的发光效果和显示面板的使用寿命。

实施例三

本发明实施例三提供了一种显示面板，该显示面板包括实施例二所述的显示基板。

在本发明实施例中，该显示面板还包括发光层、阴极和封装层，发光层形成在像素开口3201内。

本发明实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括上述的显示面板。

此外，显示装置还包括驱动芯片、TCON(Timer Control Register，时序控制器)等器件。

在实际应用中，该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

在本发明实施例中，通在形成像素界定层之后再形成阳极层，在像素开口内，阳极层会至少覆盖部分像素界定层，从而减少了像素界定层与后续形成的发光层的接触面积，减少了显示基板在太阳光中的紫外光的照射下，像素界定层和平坦层发生老化分解后产生的小分子进入像素开口内的发光层中的几率，减少了发光材料失效的几率，另外，再通过采用无机保护层覆盖像素界定层，从而使显示基板在太阳光中的紫外光的照射下，像素界定层和平坦层发生老化分解后产生的小分子，不能穿过无机保护层进入像素开口内的发光层中，进一步避免了老化分解产生的小分子进入发光层导致发光材料失效的问题，从而提高了发光层的发光效果和显示面板的使用寿命。

对于前述的各方法实施例，为了简单描述，故将其都表述为一系列的动作组合，但是本领域技术人员应该知悉，本发明并不受所描述的动作顺序的限制，因为依据本发明，某些步骤可以采用其他顺序或者同时进行。其次，本领域技术人员也应该知悉，说明书中所描述的实施例均属于优选实施例，所涉及的动作和模块并不一定是本发明所必须的。

本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。

最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、商品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、商品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、商品或者设备中还存在另外的相同要素。

以上对本发明所提供的一种显示基板及其制作方法、显示面板及显示装置，进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (13)

1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：

在背板上依次形成层叠的平坦层和像素界定层；所述像素界定层具有多个像素开口；

在所述像素界定层上和所述像素开口内的平坦层上形成阳极层；所述阳极层通过贯穿所述平坦层和所述像素界定层的第一过孔与所述背板中的源漏电极层连接；

形成无机保护层；所述无机保护层覆盖所述像素界定层，所述无机保护层还部分覆盖所述阳极层，且未被所述无机保护层覆盖的所述阳极层位于所述像素开口内。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述像素开口内，与所述像素界定层接触的所述阳极层被所述无机保护层部分或全部覆盖。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，针对同一子像素区域，在所述像素开口远离所述第一过孔的一侧，所述无机保护层与所述像素界定层直接接触。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述无机保护层具有放气孔，所述放气孔贯穿所述无机保护层，并暴露出所述像素界定层的表面。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述形成无机保护层的步骤之后，还包括：

在所述无机保护层上形成隔垫物，并在所述第一过孔内形成填充物；

其中，所述填充物与所述第一过孔内的所述无机保护层接触。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述形成无机保护层的步骤之前，还包括：

在所述像素界定层上形成隔垫物，并在所述第一过孔内形成填充物；

其中，所述填充物与所述第一过孔内的所述阳极层接触；所述无机保护层还覆盖所述隔垫物。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述无机保护层的材料为低透过率材料。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在背板上依次形成层叠的平坦层和像素界定层的步骤，包括：

在所述背板上依次形成层叠的平坦层薄膜和像素界定层薄膜；

采用半色调掩膜板对所述平坦层薄膜和所述像素界定层薄膜进行一次图案化处理，以在所述背板上依次形成层叠的平坦层和像素界定层。

9.一种显示基板，其特征在于，包括：

背板；

层叠设置在所述背板上的平坦层和像素界定层；所述像素界定层具有多个像素开口；

设置在所述像素界定层上和所述像素开口内的平坦层上的阳极层；所述阳极层通过贯穿所述平坦层和所述像素界定层的第一过孔与所述背板中的源漏电极层连接；

无机保护层，所述无机保护层覆盖所述像素界定层，所述无机保护层还部分覆盖所述阳极层，且未被所述无机保护层覆盖的所述阳极层位于所述像素开口内。

10.根据权利要求9所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：设置在所述无机保护层上的隔垫物，以及设置在所述第一过孔内的填充物；

其中，所述填充物与所述第一过孔内的所述无机保护层接触。

11.根据权利要求9所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：设置在所述像素界定层上的隔垫物，以及设置在所述第一过孔内的填充物；

其中，所述填充物与所述第一过孔内的所述阳极层接触；所述无机保护层还覆盖所述隔垫物。

12.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求9至11中任一项所述的显示基板。

13.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求12所述的显示面板。

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