CN113394362A - 显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

显示面板及其制作方法、显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN113394362A
CN113394362A CN202110680917.0A CN202110680917A CN113394362A CN 113394362 A CN113394362 A CN 113394362A CN 202110680917 A CN202110680917 A CN 202110680917A CN 113394362 A CN113394362 A CN 113394362A
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
substrate
photoresist
pixel defining
photoresist pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202110680917.0A
Other languages
English (en)
Inventor
曹席磊
袁长龙
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Chengdu BOE Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN202110680917.0A priority Critical patent/CN113394362A/zh
Publication of CN113394362A publication Critical patent/CN113394362A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/84—Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K50/844—Encapsulations
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/1201—Manufacture or treatment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

本发明公开一种显示面板及其制作方法、显示装置，显示面板包括基板，在基板的一侧且远离基板的方向上依次设有背板层、阳极、像素界定层和支撑层，显示面板还包括保护层；保护层位于像素界定层远离基板的一侧，像素界定层具有露出部分阳极的第一开口，保护层完全覆盖像素界定层并至少露出部分第一开口；或者，保护层位于支撑层远离基板的一侧，像素界定层具有露出部分阳极的第一开口，保护层完全覆盖支撑层和像素界定层并至少露出部分第一开口；或者，保护层位于背板层和像素界定层之间，保护层具有露出部分阳极的第二开口，保护层在基板上的正投影覆盖像素界定层在基板上的正投影。本发明通过保护层防止水氧进入像素发光区域，确保显示效果。

Description

显示面板及其制作方法、显示装置
技术领域
本发明一般涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。
背景技术
近年来，有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，简称为OLED)以其轻薄、高对比度、广色域、显示效果优异等一系列优点受到人们的广泛关注，特别是有源矩阵有机发光二极管(Active-matrixOrganic Light Emitting Diode，简称为AMOLED)因具有高亮度、全视角、响应速度快以及可柔性显示等优点，在显示领域得到广泛应用。
随着AMOLED应用的多样性，AMOLED逐渐应用于车载屏。由于车载屏长期受到外部光照的影响，导致显示面板内的有机层易分解，从而释放出水氧，进而通过像素界定层(PDL)进入发光材料，造成像素的收缩，发光器件被破坏，影响显示效果。
发明内容
鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种显示面板及其制作方法、显示装置。
第一方面，本发明提供一种显示面板的制作方法，包括：
提供基板；
在所述基板的一侧且远离所述基板的方向上依次形成背板层、阳极、像素界定层和保护层，其中，
所述像素界定层具有暴露部分所述阳极的第一开口，所述保护层至少露出部分所述第一开口。
优选的，形成所述保护层包括：
在所述像素界定层远离所述基板的一侧涂覆负性光刻胶，对所述负性光刻胶进行曝光、显影和刻蚀处理形成第一光刻胶层，所述第一光刻胶层至少包括正对所述阳极的第一光刻胶图案，所述第一光刻胶图案平行于第一平面的截面呈倒梯形，所述第一平面垂直于所述基板且平行于所述基板的横向；
在所述第一光刻胶层远离所述基板的一侧涂覆保护材料，所述保护材料覆盖所述像素界定层；
对所述第一光刻胶图案剥离处理，形成所述保护层。
进一步地，所述第一光刻胶层还包括位于所述像素界定层远离所述基板一侧的第二光刻胶图案，所述第二光刻胶图案平行于所述第一平面的截面呈倒梯形；
所述保护层包覆所述第二光刻胶图案。
进一步地，在所述形成第一光刻胶层之后，且在所述涂覆保护材料之前，所述方法还包括：在所述第一光刻胶图案远离所述基板的一侧涂覆正性光刻胶，经曝光、显影、刻蚀处理至少形成正对所述第一光刻胶图案的第二光刻胶层，所述第二光刻胶层平行于所述第一平面的截面呈正梯形，所述第一光刻胶图案在所述基板上的正投影覆盖所述第二光刻胶层在所述基板上的正投影；
所述保护材料覆盖所述第二光刻胶层。
进一步地，在形成所述像素界定层之后，在形成所述保护层之前，所述方法还包括：在所述像素界定层远离所述基板的一侧形成支撑层；
所述保护层还包覆所述支撑层。
进一步地，在形成像素界定层的同时形成支撑层，所述支撑层位于所述像素界定层远离所述基板的一侧，所述第一光刻胶层还包括正对所述支撑层的第三光刻胶图案，且所述保护材料覆盖所述第三光刻胶图案；
在对所述第一光刻胶图案剥离处理的同时，对所述第三光刻胶图案剥离处理。
第二方面，本发明提供一种显示面板的制作方法，包括：
提供基板；
在所述基板的一侧且远离所述基板的方向上依次形成背板层、阳极、保护层和像素界定层，其中，
所述保护层具有暴露部分所述阳极的第二开口所述像素界定层露出所述第二开口。
优选的，形成所述保护层包括：
在所述阳极远离所述基板的一侧涂覆负性光刻胶，对所述负性光刻胶进行曝光、显影和刻蚀处理形成第三光刻胶层，所述第三光刻胶层至少包括正对所述阳极的第四光刻胶图案，所述第四光刻胶图案平行于第二平面的截面呈倒梯形，所述第二平面垂直于所述基板且平行于所述基板的横向；
在所述第三光刻胶层远离所述基板的一侧涂覆保护材料，所述保护材料覆盖所述背板层且部分覆盖所述阳极；
对所述第四光刻胶图案剥离处理，形成所述保护层。
进一步地，所述第三光刻胶层还包括位于所述背板层远离所述基板一侧的第五光刻胶图案，所述第五光刻胶图案平行于所述第二平面的截面呈倒梯形；
所述保护层包覆所述第五光刻胶图案。
进一步地，在所述形成第三光刻胶层之后，且在所述涂覆保护材料之前，所述制作方法还包括：在所述第四光刻胶图案远离所述基板的一侧涂覆正性光刻胶，对所述正性光刻胶进行曝光、显影和刻蚀处理形成第四光刻胶层，所述第四光刻胶层平行于所述第二平面的截面呈正梯形；
所述保护材料包覆所述第四光刻胶层。
第三方面，本发明提供一种显示面板，包括基板，在所述基板的一侧且远离所述基板的方向上依次设有背板层、阳极、像素界定层和支撑层，所述显示面板还包括保护层；
所述保护层位于所述像素界定层远离所述基板的一侧，所述像素界定层具有露出部分所述阳极的第一开口，所述保护层完全覆盖所述像素界定层并至少露出部分所述第一开口；或者，
所述保护层位于所述支撑层远离所述基板的一侧，所述像素界定层具有露出部分所述阳极的第一开口，所述保护层完全覆盖所述支撑层和所述像素界定层并至少露出部分所述第一开口；或者，
所述保护层位于所述背板层和所述像素界定层之间，所述保护层具有露出部分所述阳极的第二开口，所述保护层在所述基板上的正投影覆盖所述像素界定层在基板上的正投影。
第四方面，本发明提供一种显示装置，包括上述显示面板。
本发明的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：
本发明实施例提供的显示面板及其制作方法、显示装置，通过形成覆盖像素界定层的保护层或者在阳极与像素界定层之间形成保护层，有效防止水氧进入像素发光区域，保证发光器件的良好性能，确保显示装置具有良好的显示效果。
附图说明
通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
图1为本发明第一实施例提供的显示面板的结构示意图；
图2至图7为本发明第一实施例提供的制作显示面板的工艺结构流程图；
图8为本发明第二实施例提供的显示面板的结构示意图；
图9至图11为本发明第二实施例提供的制作显示面板的工艺结构流程图；
图12为本发明第三实施例提供的显示面板的结构示意图；
图13至图14为本发明第三实施例提供的制作显示面板的工艺结构流程图；
图15为本发明第四实施例提供的显示面板的结构示意图；
图16至图19为本发明第四实施例提供的制作显示面板的工艺结构流程图；
图20为本发明第五实施例提供的显示面板的结构示意图；
图21至图22为本发明第五实施例提供的制作显示面板的工艺结构流程图；
图23为本发明第六实施例提供的显示面板的结构示意图；
图24为本发明第七实施例提供的显示面板的结构示意图；
图25至图27为本发明第七实施例提供的制作显示面板的工艺结构流程图；
图28为本发明第八实施例提供的显示面板的结构示意图；
图29至图31为本发明第八实施例提供的制作显示面板的工艺结构流程图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明，而非对该发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与发明相关的部分。
需要说明的是，在不冲突的情况下，本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。
图1为本发明第一实施例提供的显示面板的结构示意图。
如图1所示，本发明第一实施例提供的一种显示面板，包括：基板10，在基板10的一侧且远离基板10的方向上依次设有背板层20、阳极30、像素界定层(PDL)41和支撑层50，像素界定层41具有露出部分阳极30的第一开口411，在像素界定层41远离基板10的一侧还设有保护层61，保护层61完全覆盖像素界定层41，保护层61全部或者部分露出第一开口411，在阳极30远离基板10的方向上且在第一开口411内设有发光层(图未示)，在发光层远离基板10的一侧形成阴极(图未示)，阴极位于保护层61远离基板10的一侧。
其中背板层20包括远离基板10方向上依次层叠设置的有源层、栅绝缘层、栅极层、层间介质层、源漏金属层和平坦层。
该实施例在像素界定层41远离基板10的一侧形成保护层61，像素界定层41具有露出部分阳极30的第一开口411，则像素界定层41覆盖阳极30的其余部分；而保护层61完全覆盖像素界定层41，且保护层61全部或者部分露出第一开口411，如此保护层61不仅覆盖像素界定层41，还良好地覆盖像素界定层41与阳极30的连接处，有效阻隔水氧通过PDL进入发光层，避免水氧入侵像素发光区域，确保显示面板能正常显示。
图2至图7为本发明第一实施例提供的制作显示面板的工艺流程图。
如图2至图7所示，图1所示意的显示面板的制作方法包括：
提供基板10；
在基板10的一侧且远离基板10的方向上依次形成背板层20、阳极30、像素界定层41和保护层61，其中，
像素界定层41具有暴露部分阳极30的第一开口411，保护层61完全覆盖像素界定层41并至少露出部分第一开口411。
进一步地，形成保护层61包括：
参照图2至图4，在像素界定层41远离基板10的一侧涂覆负性光刻胶70，对负性光刻胶70进行曝光、显影和刻蚀处理形成第一光刻胶层，第一光刻胶层包括正对阳极30的第一光刻胶图案71，第一光刻胶图案71平行于第一平面的截面呈倒梯形，第一平面垂直于基板10且平行于基板10的横向；
参照图5，在第一光刻胶层远离基板10的一侧涂覆保护材料72，保护材料72覆盖像素界定层41；
参照图6，对第一光刻胶图案71剥离处理，形成保护层61。
接着，参照图7，在保护层61远离基板10的一侧形成支撑层50，在阳极30远离基板10的一侧且在第一开口411内形成发光层(图未示)，在发光层远离基板10的一侧形成阴极(图未示)，阴极覆盖保护层61和支撑层50。
其中，第一光刻胶图案71的截面呈倒梯形，第一光刻胶图案71的截面侧面的倾斜角度为α1，经前述曝光、显影、刻蚀步骤可使得α1符合需求，从而保护材料72在第一光刻胶图案71处断开，保护材料72不会涂覆第一光刻胶的侧面，避免保护材料72在第一开口411内出现爬坡现象，此处的爬坡现象指保护材料72不能完全覆盖第一开口411的侧壁。
该实施例提供的显示面板在制作过程中，在形成图4所示的结构后(即在形成第一光刻胶层之后)，在涂覆保护材料之前，图1所示的显示面板的制作方法还包括：
在第一光刻胶图案远离基板的一侧涂覆正性光刻胶，经曝光、显影、刻蚀处理形成正对第一光刻胶图案的第二光刻胶层，第二光刻胶层平行于第一平面的截面呈正梯形；后续涂覆的保护材料覆盖第二光刻胶层。
其中，第一光刻胶图案在基板上的正投影覆盖第二光刻胶层在基板上的正投影，能够有效避免保护材料在第一开口内出现前述爬坡现象；同时通过设计第二光刻胶层，方便剥离第一光刻胶图案对应的保护材料。
该实施例中，负性光刻胶可以选用氟基聚合物，这类聚合物的氟含量约为40％～70％，必须用全氟溶剂才能溶解这类聚合物。而像素界定层的材料一般选用诸如光致抗蚀剂、聚酰亚胺(PI)树脂、丙烯酸树脂、硅化合物或聚丙烯酸树脂的材料，遇到低氟溶剂才会溶解，而上述氟基聚合物不溶于低氟溶剂。故可溶解负性光刻胶的全氟溶剂不会溶解像素界定层。
在涂覆负性光刻胶之后，利用光照掩膜(mask)对负性光刻胶图案化，形成倒梯形结构，例如第一光刻胶图案，该倒梯形结构还可以包括在后续实施例中提及的第二光刻胶图案。
图8为本发明第二实施例提供的显示面板的结构示意图。
在第一实施例的基础上，如图8所示，该第二实施例提供的显示面板中，保护层61还包覆第二光刻胶图案73。
其中，第一光刻胶层不仅包括正对阳极30的第一光刻胶图案71，还包括位于像素界定层41远离基板10一侧的第二光刻胶图案73，第二光刻胶图案73平行于第一平面的截面呈倒梯形第二光刻胶图案73的截面侧面的倾斜角度为α2，通过曝光、显影和刻蚀步骤中使得α2大于α1，保护层61可完全覆盖第二光刻胶图案73的侧面。该实施例中，通过在像素界定层41远离基板10一侧设置第二光刻胶图案73，保护层61覆盖像素界定层41和第二光刻胶图案73，有效增大保护层61在显示面板内的接触面积，对保护层61起到防剥离的效果，并且第二光刻胶图案73能有效提高显示面板的抗拉抗压效果。
第二实施例中，在基板10的一侧依次形成背板层20、阳极30和像素界定层41，像素界定层41具有露出部分阳极30的第一开口411；
参照图9，在像素界定层41远离基板10的一侧形成第一光刻胶层，第一光刻胶层包括第一光刻胶图案71和第二光刻胶图案73；
参照图10，涂覆保护材料72；
参照图11，剥离第一光刻胶图案71，形成保护层61；接着在保护层61远离基板10的一侧形成支撑层50。
其中在平行于基板10的平面内，支撑层50和第二光刻胶图案73错开分布。
该实施例提供的显示面板在制作过程中，在形成图9所示的结构后(即在形成第一光刻胶层之后)，在涂覆保护材料72之前，图8所示的显示面板的制作方法还包括：
在第一光刻胶图案远离基板的一侧涂覆正性光刻胶，经曝光、显影、刻蚀处理形成正对第一光刻胶图案的第二光刻胶层，第二光刻胶层平行于第一平面的截面呈正梯形；后续涂覆的保护材料覆盖第二光刻胶层。
其中，第一光刻胶图案在基板上的正投影覆盖第二光刻胶层在基板上的正投影，能够有效避免保护材料在第一开口内出现前述爬坡现象。
图12为本发明第三实施例提供的显示面板的结构示意图。
如图12所示，第三实施例提供的显示面板与图1所示的显示面板的区别在于：保护层61还包覆支撑层50。
参照图12，保护层61设于支撑层50远离基板10的一侧，保护层61完全覆盖支撑层50和像素界定层41，且保护层61全部或者部分露出第一开口411。
该实施例中保护层61阻隔水氧通过PDL进入发光层，避免水氧入侵像素发光区域，确保显示面板能正常显示。
第三实施例中，先在基板10的一侧依次形成背板层20、阳极30、像素界定层41和支撑层50；
参照图13，接着形成前述第一光刻胶图案71，然后涂覆保护材料72；
参照图14，剥离第一光刻胶图案71，得到保护层61覆盖像素界定层41和支撑层50，且保护层61至多露出部分第一开口411，即保护层61可以覆盖部分第一开口，如此良好地阻隔水氧进入发光层。
该实施例中，像素界定层和支撑层50可通过一道mask工艺制成。
图15为本发明第四实施例提供的显示面板的结构示意图。
如图15所示，第四实施例提供的显示面板与图8所示的显示面板的区别在于：保护层61还包覆支撑层50。
第四实施例中，在基板10的一侧依次形成背板层20、阳极30和像素界定层41，像素界定层41具有露出阳极30的第一开口411；
参照图16，在像素界定层远离基板10的一侧形成第一光刻胶层，第一光刻胶层包括位于第一开口411内的第一光刻胶图案71和位于像素界定层远离基板10一侧的第二光刻胶图案73；
参照图17，接着在第一光刻胶图案71远离基板10的一侧涂覆正性光刻胶，经曝光、显影、刻蚀处理至少形成正对第一光刻胶图案71的第二光刻胶层74，第二光刻胶层74平行于第一平面的截面呈正梯形，第一光刻胶图案71在基板10上的正投影覆盖第二光刻胶层74在基板10上的正投影；
利用所涂覆的正性光刻胶，在形成第二光刻胶层74的同时在像素界定层41远离基板10的一侧形成支撑层50，保护层61包覆第二光刻胶层74和支撑层50；
参照图18，在第二光刻胶层74远离基板10的一侧涂覆保护材料72；
参照图19，对第一光刻胶图案71剥离处理，所形成的保护层61覆盖第二光刻胶图案73、支撑层50和像素界定层41，保护层61至少露出部分第一开口411。
其中，可通过同材料、同工艺步骤在同层形成第二光刻胶层74和支撑层50；
第一光刻胶图案71在基板10上的正投影覆盖第二光刻胶层74在基板10上的正投影，通过合理设计第一光刻胶图案71的截面侧面的倾斜角度α1，可避免保护材料72在第一开口411内出现前述爬坡现象；
或者，第四实施例中支撑层50的形成可参照第三实施例，通过一道mask工艺制成像素界定层41和支撑层50。
图20为本发明第五实施例提供的显示面板的结构示意图。
如图20所示，第五实施例提供的显示面板与图1所示的显示面板的区别在于：保护层61和支撑层50均位于像素界定层41远离基板10的一侧，而保护层61在支撑层50处断开。
第五实施例中，在基板10的一侧依次形成背板层20、阳极30、像素界定层41和支撑层50，像素界定层41具有露出阳极30的第一开口411，其中像素界定层和支撑层50可通过一道mask工艺制成；
参照图21，在像素界定层41远离基板10的一侧涂覆负性光刻胶，对负性光刻胶进行曝光、显影和刻蚀处理形成第一光刻胶层，第一光刻胶层包括正对阳极30的第一光刻胶图案71和正对支撑层50的第三光刻胶图案75，涂覆保护材料72，保护材料72在第一光刻胶图案71和第三光刻胶图案75处断开，其中第一光刻胶图案71的截面和第三光刻胶图案75的截面均呈倒梯形，第一光刻胶图案71的截面侧面的倾斜角度为α1，第三光刻胶图案75的截面侧面的倾斜角度为α3；
参照图22，对第一光刻胶图案71和第三光刻胶图案75剥离处理，所形成的保护层61覆盖像素界定层41并露出第一开口411和支撑层50。
通过设置合适的α1避免保护层61在第一开口411内爬坡；
通过设置合适的α3确保保护层61至少与支撑层50的底部相连，或者保护层61可部分覆盖支撑层50的侧面，或者保护层61可全覆盖支撑层50的侧面，或者保护层61可全覆盖支撑层50的侧面并部分覆盖支撑层50的顶面，支撑层50远离基板10的一侧为支撑层50的顶面。
图23为本发明第六实施例提供的显示面板的结构示意图。
如图23所示，第六实施例提供的显示面板与图8所示的显示面板的区别在于：保护层61和支撑层50均位于像素界定层41远离基板10的一侧，而保护层61在支撑层50处断开。
第六实施例中，在基板10的一侧依次形成背板层20、阳极30、像素界定层41和支撑层50，像素界定层41具有露出阳极30的第一开口411，其中像素界定层41和支撑层50可通过一道mask工艺制成；
接着，在像素界定层41远离基板10的一侧涂覆负性光刻胶，对负性光刻胶进行曝光、显影和刻蚀处理形成第一光刻胶层，第一光刻胶层包括正对阳极30的第一光刻胶图案、位于像素界定层41远离基板10一侧的第二光刻胶图案73和正对支撑层50的第三光刻胶图案，第一光刻胶图案的截面和第三光刻胶图案的截面均呈倒梯形，第一光刻胶图案的截面侧面的倾斜角度为α1，第二光刻胶图案的截面侧面的倾斜角度为α2，第三光刻胶图案75的截面侧面的倾斜角度为α3；
接着，涂覆保护材料，保护材料在第一光刻胶图案和第三光刻胶图案处断开，保护材料包覆第二光刻胶图案73；
然后，对第一光刻胶图案和第三光刻胶图案剥离处理，所形成的保护层61覆盖第二光刻胶图案73和像素界定层41，并露出第一开口411和支撑层50。
通过设置合适的α1避免保护层61在第一开口411内爬坡；
通过设置合适的α1使得保护层61包覆第二光刻胶图案73
通过设置合适的α3确保保护层61至少与支撑层50的底部相连，或者保护层61可部分覆盖支撑层50的侧面，或者保护层61可全覆盖支撑层50的侧面，或者保护层61可全覆盖支撑层50的侧面并部分覆盖支撑层50的顶面，支撑层50远离基板10的一侧为支撑层50的顶面。
上述本发明提供的第一实施例至第六实施例中，保护层均位于像素界定层远离基板的一侧。
接下来介绍本发明提供的第七实施例和第八实施例，区别于第一至第六实施例中保护层的位置，在第七实施例和第八实施例中，保护层在阳极和像素界定层之间。第七和第八实施例中保护层的附图标记不同于第一至第六实施例中保护层的附图标记，第七和第八实施例中像素界定层的附图标记不同于第一至第六实施例中像素界定层的附图标记。
图24为本发明第七实施例提供的显示面板的结构示意图。
如图24所示，本发明第七实施例提供的显示面板包括：基板10，在基板10一侧且远离基板10的方向上依次设有背板层20、阳极30、保护层62、像素界定层42和支撑层50，保护层62覆盖部分阳极30并具有露出阳极30的第二开口621，像素界定层42完全暴露第二开口621；
在阳极30远离基板10的方向上且在第二开口621内设有发光层(图未示)，在发光层远离基板10的一侧形成阴极(图未示)。
其中背板层20包括远离基板10方向上依次层叠设置的有源层、栅绝缘层、栅极层、层间介质层、源漏金属层和平坦层。
该实施例在阳极30远离基板10的一侧形成保护层62，保护层62覆盖部分阳极30并具有露出阳极30的第二开口621，发光层位于第二开口621内，而像素界定层42完全暴露第二开口621，如此设置通过保护层62有效阻隔水氧通过PDL进入发光层，避免水氧入侵像素发光区域，确保显示面板能正常显示。
该实施例中，先在在基板10的一侧且远离基板10的方向上依次形成背板层20和阳极30；
接着，在阳极30远离基板10的一侧涂覆负性光刻胶，对负性光刻胶进行曝光、显影和刻蚀处理形成第三光刻胶层，第三光刻胶层至少包括正对阳极30的第四光刻胶图案76，在第三光刻胶层远离基板10的一侧涂覆保护材料72，保护材料72覆盖背板层20且部分覆盖阳极30，其中第四光刻胶图案76平行于第二平面的截面呈倒梯形，第二平面垂直于基板10且平行于基板10的横向，该实施例中第三光刻胶层还包括位于背板层20远离基板10一侧的第五光刻胶图案77，第五光刻胶图案77平行于第二平面的截面呈倒梯形，参照图25；
然后，参照图26，对第四光刻胶图案76剥离处理，同时对第五光刻胶图案77剥离处理，形成保护层62，保护层62具有露出部分阳极30的第二开口621；
参照图27，在保护层62远离基板10的一侧依次形成像素界定层42和支撑层50，像素界定层42完全露出第二开口621。
该实施例中在对第四光刻胶图案76剥离处理时，可以对第五光刻胶图案77保留处理；另外该实施例引入的第二平面同第一至第六实施例中的第一平面。
图28为本发明第八实施例提供的显示面板的结构示意图。
在第七实施例的基础上，如图28所示，该第八实施例提供的显示面板中，保护层62不仅覆盖背板层20和部分阳极30，还包覆第五光刻胶图案77。
即第三光刻胶层不仅包括正对阳极30的第四光刻胶图案76，还包括位于背板层20远离基板10一侧的第五光刻胶图案77，第五光刻胶图案77平行于第二平面的截面呈倒梯形；
保护层62还包覆第五光刻胶图案77。
该实施例中，先在在基板10的一侧且远离基板10的方向上依次形成背板层20和阳极30；
接着，在阳极30远离基板10的一侧涂覆负性光刻胶，对负性光刻胶进行曝光、显影和刻蚀处理形成第三光刻胶层，第三光刻胶层至少包括正对阳极30的第四光刻胶图案76，其中第四光刻胶图案76平行于第二平面的截面呈倒梯形，第二平面垂直于基板10且平行于基板10的横向，该实施例中第三光刻胶层还包括位于背板层20远离基板10一侧的第五光刻胶图案77，第五光刻胶图案77平行于第二平面的截面呈倒梯形，参照图29；
参照图30，在第四光刻胶图案76远离基板10的一侧涂覆正性光刻胶，对正性光刻胶进行曝光、显影和刻蚀处理形成第四光刻胶层78，第四光刻胶层78平行于第二平面的截面呈正梯形；
在第四光刻胶层78远离基板10的一侧涂覆保护材料72，保护材料72覆盖背板层20且部分覆盖阳极30；
参照图31，对第四光刻胶图案76剥离处理，形成保护层62，保护层62具有露出部分阳极30的第二开口621；
在保护层62远离基板10的一侧依次形成像素界定层和支撑层，像素界定层完全露出第二开口621。
本发明的一实施例还提供一种显示装置，包括上述任一实施例提供的显示面板。上述显示装置可以为手机、平板电脑、显示器、笔记本电脑、头戴式显示器件等具有显示功能的产品或部件。
以上描述仅为本发明的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本发明中所涉及的发明范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离发明构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本发明中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。

Claims (13)

1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
提供基板；
在所述基板的一侧且远离所述基板的方向上依次形成背板层、阳极、像素界定层和保护层，其中，
所述像素界定层具有暴露部分所述阳极的第一开口，所述保护层完全覆盖所述像素界定层并至少露出部分所述第一开口。
2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，形成所述保护层包括：
在所述像素界定层远离所述基板的一侧涂覆负性光刻胶，对所述负性光刻胶进行曝光、显影和刻蚀处理形成第一光刻胶层，所述第一光刻胶层至少包括正对所述阳极的第一光刻胶图案，所述第一光刻胶图案平行于第一平面的截面呈倒梯形，所述第一平面垂直于所述基板且平行于所述基板的横向；
在所述第一光刻胶层远离所述基板的一侧涂覆保护材料，所述保护材料覆盖所述像素界定层；
对所述第一光刻胶图案剥离处理，形成所述保护层。
3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述第一光刻胶层还包括位于所述像素界定层远离所述基板一侧的第二光刻胶图案，所述第二光刻胶图案平行于所述第一平面的截面呈倒梯形；
所述保护层包覆所述第二光刻胶图案。
4.根据权利要求2或3所述的制作方法，其特征在于，在形成像素界定层的同时形成支撑层，所述支撑层位于所述像素界定层远离所述基板的一侧，所述保护层还包覆所述支撑层。
5.根据权利要求2或3所述的制作方法，其特征在于，在形成像素界定层的同时形成支撑层，所述支撑层位于所述像素界定层远离所述基板的一侧，所述第一光刻胶层还包括正对所述支撑层的第三光刻胶图案，且所述保护材料覆盖所述第三光刻胶图案，所述第三光刻胶图案平行于所述第一平面的截面呈倒梯形；
在对所述第一光刻胶图案剥离处理的同时，对所述第三光刻胶图案剥离处理。
6.根据权利要求2或3所述的制作方法，其特征在于，在所述形成第一光刻胶层之后，且在所述涂覆保护材料之前，所述制作方法还包括：
在所述第一光刻胶图案远离所述基板的一侧涂覆正性光刻胶，经曝光、显影、刻蚀处理至少形成正对所述第一光刻胶图案的第二光刻胶层，所述第二光刻胶层平行于所述第一平面的截面呈正梯形，所述第一光刻胶图案在所述基板上的正投影覆盖所述第二光刻胶层在所述基板上的正投影；
所述保护材料覆盖所述第二光刻胶层。
7.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，在形成所述第二光刻胶层的同时在像素界定层远离基板的一侧形成支撑层，所述保护层还包覆所述支撑层。
8.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
提供基板；
在所述基板的一侧且远离所述基板的方向上依次形成背板层、阳极、保护层和像素界定层，其中，
所述保护层具有暴露部分所述阳极的第二开口所述像素界定层露出所述第二开口。
9.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，形成所述保护层包括：
在所述阳极远离所述基板的一侧涂覆负性光刻胶，对所述负性光刻胶进行曝光、显影和刻蚀处理形成第三光刻胶层，所述第三光刻胶层至少包括正对所述阳极的第四光刻胶图案，所述第四光刻胶图案平行于第二平面的截面呈倒梯形，所述第二平面垂直于所述基板且平行于所述基板的横向；
在所述第三光刻胶层远离所述基板的一侧涂覆保护材料，所述保护材料覆盖所述背板层且部分覆盖所述阳极；
对所述第四光刻胶图案剥离处理，形成所述保护层。
10.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，所述第三光刻胶层还包括位于所述背板层远离所述基板一侧的第五光刻胶图案，所述第五光刻胶图案平行于所述第二平面的截面呈倒梯形；
所述保护层包覆所述第五光刻胶图案。
11.根据权利要求9或10所述的制作方法，其特征在于，在所述形成第三光刻胶层之后，且在所述涂覆保护材料之前，所述制作方法还包括：在所述第四光刻胶图案远离所述基板的一侧涂覆正性光刻胶，对所述正性光刻胶进行曝光、显影和刻蚀处理形成第四光刻胶层，所述第四光刻胶层平行于所述第二平面的截面呈正梯形；
所述保护材料包覆所述第四光刻胶层。
12.一种显示面板，包括基板，在所述基板的一侧且远离所述基板的方向上依次设有背板层、阳极、像素界定层和支撑层，其特征在于，所述显示面板还包括保护层；
所述保护层位于所述像素界定层远离所述基板的一侧，所述像素界定层具有露出部分所述阳极的第一开口，所述保护层完全覆盖所述像素界定层并至少露出部分所述第一开口；或者，
所述保护层位于所述支撑层远离所述基板的一侧，所述像素界定层具有露出部分所述阳极的第一开口，所述保护层完全覆盖所述支撑层和所述像素界定层并至少露出部分所述第一开口；或者，
所述保护层位于所述背板层和所述像素界定层之间，所述保护层具有露出部分所述阳极的第二开口，所述保护层在所述基板上的正投影覆盖所述像素界定层在基板上的正投影。
13.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求12所述的显示面板。
CN202110680917.0A 2021-06-18 2021-06-18 显示面板及其制作方法、显示装置 Pending CN113394362A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110680917.0A CN113394362A (zh) 2021-06-18 2021-06-18 显示面板及其制作方法、显示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110680917.0A CN113394362A (zh) 2021-06-18 2021-06-18 显示面板及其制作方法、显示装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN113394362A true CN113394362A (zh) 2021-09-14

Family

ID=77623018

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110680917.0A Pending CN113394362A (zh) 2021-06-18 2021-06-18 显示面板及其制作方法、显示装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN113394362A (zh)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109560112A (zh) * 2018-11-30 2019-04-02 云谷（固安）科技有限公司 显示面板、显示装置及显示面板制备方法
CN109817826A (zh) * 2019-01-22 2019-05-28 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种oled显示面板的制作方法
CN109860239A (zh) * 2018-12-13 2019-06-07 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 阵列基板及其制作方法、显示装置
CN111952341A (zh) * 2020-08-20 2020-11-17 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板及其制作方法、显示面板及显示装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109560112A (zh) * 2018-11-30 2019-04-02 云谷（固安）科技有限公司 显示面板、显示装置及显示面板制备方法
CN109860239A (zh) * 2018-12-13 2019-06-07 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 阵列基板及其制作方法、显示装置
CN109817826A (zh) * 2019-01-22 2019-05-28 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种oled显示面板的制作方法
CN111952341A (zh) * 2020-08-20 2020-11-17 京东方科技集团股份有限公司 一种显示基板及其制作方法、显示面板及显示装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11825700B2 (en) Array substrate and fabricating method thereof, display panel, and display apparatus
US11316137B2 (en) Flexible display panel, method for fabricating the same and display device
US11335747B2 (en) Display device and method of manufacturing the same
US10134991B2 (en) Organic light-emitting display apparatus and method of manufacturing the same
US10930886B2 (en) Method for manufacturing OLED display screen and OLED display screen
CN111864067B (zh) 可拉伸显示面板及其制造方法、显示装置
US10804344B2 (en) Display substrate and method for fabricating the same, and display apparatus
JP6910958B2 (ja) 表示基板および表示基板の製造方法
US11469374B2 (en) Organic light-emitting display apparatus and method of manufacturing the same
US11335870B2 (en) Display substrate and preparation method thereof, and display device
KR20180014895A (ko) 유기 발광 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치의 제조 방법
US10930875B2 (en) Organic light-emitting display apparatus and method of manufacturing the same
WO2017147952A1 (zh) 一种基于喷墨打印技术的有机发光显示装置及其制造方法
CN108807470B (zh) 触控显示屏的制作方法
CN111682052B (zh) 显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置
JPH11339958A (ja) 電界発光素子の製造方法
CN111326675A (zh) 一种显示面板及其制备方法、显示装置
CN107546246B (zh) 柔性oled显示器件及制作方法
WO2019041829A1 (zh) 薄膜晶体管及制作方法、显示基板及制作方法、显示装置
CN108574056A (zh) 有机发光显示装置及其制造方法
CN111799398A (zh) 有机发光显示面板及其制作方法、显示装置
CN110797303B (zh) 一种基板及其制备方法、显示装置
CN110289285B (zh) 显示用基板及其制备方法、显示面板
US20220336552A1 (en) Display substrates and methods of manufacturing the same, display panels, and display apparatuses
CN111509140B (zh) 显示用基板及其制备方法、显示装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20210914

RJ01 Rejection of invention patent application after publication