CN111799398A - 有机发光显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了有机发光显示面板及制作方法、显示装置。方法包括：在基板上形成阳极材料层，在阳极材料层远离基板的一侧形成掩膜，基于掩膜对阳极材料层进行图案化处理，形成多个阳极；形成覆盖掩膜和基板的像素界定层，像素界定层在多个阳极之间具有凹槽，对像素界定层和掩膜同步进行图案化处理，形成多个像素界定结构，像素界定结构覆盖基板位于相邻两个阳极之间的部分，并覆盖阳极的部分表面，构成掩膜的材料与构成像素界定层的材料相同，像素界定结构包括由掩膜构成的第一部，和由像素界定层构成的第二部，凹槽位于第二部中。由此，可缓解阳极边缘缺失或翘起的缺陷，提升有机发光显示面板的显示质量，并且缩短生产周期，提升产能，降低成本。

Description

有机发光显示面板及其制作方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体地，涉及有机发光显示面板及其制作方法、显示装置。

背景技术

有机发光显示面板(OLED)是利用有机发光二极管制成的显示面板，具有自发光、对比度高、厚度薄、视角广、反应速度快、可用于挠曲性面板等优点。其中，有机发光二极管包括依次层叠设置的阳极、有机发光层和阴极，在给有机发光二极管通电后，可使有机发光二极管发光。

然而，目前的有机发光显示面板及其制作方法、显示装置仍有待改进。

发明内容

本发明是基于发明人对于以下事实和问题的发现和认识作出的：

发明人发现，目前的有机发光显示面板存在显示质量差以及生产周期长的问题。这主要是由于目前制作有机发光显示面板的方法存在缺陷导致的。具体的，目前在制作有机发光显示面板的过程中，对阳极材料层进行刻蚀之后，需要剥离阳极材料层上的光刻胶掩膜，以获得阳极，然而，在剥离光刻胶掩膜的过程中阳极会裸露出来，且会用到高压水冲洗，容易引起阳极边缘位置的缺失或者阳极边缘被吹起而出现卷曲，并且在剥离光刻胶掩膜后，设置像素界定层之前，还会进行高压水冲洗，此时，阳极的边缘更容易出现翘起或缺失。由于有机发光层的厚度较薄，阳极边缘翘起后，翘起的部分很容易穿透有机发光层与阴极直接接触而发生短路，引起暗点不良，阳极边缘缺失后，会造成像素显示亮度不够，从而影响有机发光显示面板的显示质量，且上述过程工序较多，生产周期较长，影响产能。

本发明旨在至少一定程度上缓解或解决上述提及问题中至少一个。

在本发明的一个方面，本发明提出了一种制作有机发光显示面板的方法。所述方法包括：在基板上形成阳极材料层，在所述阳极材料层远离所述基板的一侧形成掩膜，基于所述掩膜对所述阳极材料层进行图案化处理，形成多个阳极；形成覆盖所述掩膜和所述基板的像素界定层，所述像素界定层在多个所述阳极之间具有凹槽，对所述像素界定层和所述掩膜同步进行图案化处理，形成多个像素界定结构，所述像素界定结构覆盖所述基板位于相邻两个所述阳极之间的部分，并覆盖所述阳极的部分表面，其中，构成所述掩膜的材料与构成所述像素界定层的材料相同，所述像素界定结构包括由所述掩膜构成的第一部，以及由所述像素界定层构成的第二部，所述凹槽位于所述第二部中。由此，可省去剥离掩膜的工序以及省去剥离掩膜过程中高压水冲洗的工序，缓解阳极边缘缺失或翘起的缺陷，提升有机发光显示面板的显示质量，并且缩短生产周期，提升产能，降低成本。

根据本发明的实施例，形成所述阳极包括：在所述阳极材料层远离所述基板的一侧形成掩膜材料层，对所述掩膜材料层进行曝光显影形成所述掩膜；基于所述掩膜对所述阳极材料层进行刻蚀，形成所述阳极。由此，可采用现有的产线和设备制作掩膜，无需增加新的产线和设备，且可以省去剥离掩膜的工序以及省去剥离掩膜过程中高压水冲洗的工序，缩短生产周期，降低成本。

根据本发明的实施例，形成所述像素界定结构包括：对所述像素界定层和所述掩膜进行曝光显影，以形成所述像素界定结构。由此，可利用现有制作像素界定结构的产线和设备进行制作，工艺简单且能实现对掩膜和像素界定层的同步图案化。

根据本发明的实施例，所述掩膜的厚度为

由此，掩膜具有合适的厚度，在后续形成像素界定层之前进行高压水冲洗时，具有上述厚度的掩膜可以对阳极起到良好的保护作用，以缓解阳极边缘在高压水冲洗过程中发生缺失或者翘起，由于掩膜和像素界定层图案化之后剩余的部分共同构成像素界定结构，具有上述厚度的掩膜不会显著增加整个有机发光显示面板的厚度。

根据本发明的实施例，所述基板包括衬底以及设置在衬底上的像素电路层，所述阳极材料层设置在所述像素电路层远离所述衬底的一侧。由此，像素电路层可用于控制后续形成的有机发光二极管发光以及对有机发光二极管进行亮度补偿。

在本发明的另一方面，本发明提出了一种有机发光显示面板。所述有机发光显示面板包括：基板；多个阳极，所述阳极设置在所述基板上；像素界定结构，所述像素界定结构包括第一部和第二部，所述第一部覆盖所述阳极的部分表面，所述第二部覆盖所述第一部以及所述基板位于相邻两个所述阳极之间的部分，构成所述第一部的材料和构成所述第二部的材料相同。由此，在制作有机发光显示面板的过程中，可省去剥离掩膜的工序以及省去剥离掩膜过程中高压水冲洗的工序，缩短生产周期，提升产能，降低成本，同时获得平整且完整的阳极，以改善有机发光显示面板出现暗点或者亮度不够等不良，提升有机发光显示面板的显示质量。

根据本发明的实施例，所述第一部的厚度为

即在制作有机发光显示面板的过程中，掩膜的厚度为

由此，在形成像素界定层之前进行高压水冲洗时，具有上述厚度的掩膜可对阳极起到良好的保护作用，缓解阳极边缘缺失或者翘起，提高有机发光显示面板的显示质量。

根据本发明的实施例，所述第二部覆盖所述第一部的部分，与所述第二部覆盖所述基板的部分构成凹槽，所述凹槽的深度大于

由于在制作有机发光显示面板的过程中，未剥离掩膜，且该掩膜与后续的像素界定层同步图案化后共同构成像素界定结构，从而使得像素界定结构由两部分构成，且第一部的厚度较厚，使得第二部形成凹槽。

根据本发明的实施例，所述基板包括衬底以及设置在衬底上的像素电路层，所述阳极设置在所述像素电路层远离所述衬底的一侧。由此，像素电路层可用于控制有机发光二极管发光以及对有机发光二极管进行亮度补偿。

在本发明的另一方面，本发明提出了一种显示装置。所述显示装置包括前面所述的有机发光显示面板。由此，该显示装置具有前面所述的有机发光显示面板的全部特征以及优点，在此不再赘述。总的来说，该显示装置具有显示质量高、生产周期短、产能高、成本低等优点。

附图说明

本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1显示了根据本发明一个实施例的制作有机发光显示面板的方法的流程示意图；

图2显示了传统制作有机发光显示面板的方法的流程示意图；

图3显示了根据本发明一个实施例的制作有机发光显示面板的方法的流程示意图；

图4显示了根据本发明一个实施例的有机发光显示面板的结构示意图。

附图标记说明：

100：基板；200：阳极；210：阳极材料层；300：光刻胶掩膜；400：像素界定结构；410：像素界定层；500：掩膜；10：第一部；20：第二部；30：凹槽。

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。

本发明是基于发明人的以下发现而完成的：

目前制作有机发光显示面板的方法如下：参考图2，首先，在基板100上形成阳极材料层210(参考图2中的(a))。随后，在阳极材料层210远离基板100的一侧形成光刻胶掩膜300，多个光刻胶掩膜300间隔设置(参考图2中的(b))。随后，基于光刻胶掩膜300对阳极材料层210进行刻蚀，去掉阳极材料层210未被光刻胶掩膜300覆盖的部分，剥离光刻胶掩膜300，并进行高压水冲洗，以获得阳极200(参考图2中的(c))。随后，继续进行高压水冲洗，然后在基板100上形成像素界定结构400，像素界定结构400位于相邻两个阳极200之间，并覆盖阳极200的一部分(参考图2中的(d))。随后，在阳极200远离基板100的一侧依次形成有机发光层和阴极(图中未示出)。

在剥离光刻胶掩膜300的过程中，阳极200会不断裸露出来，裸露出来的阳极200经高压水冲洗后，边缘位置容易出现缺失或者翘起(参考图2中的(c))，在设置像素界定结构400之前，继续进行高压水冲洗，会进一步引起阳极200边缘的缺失或者翘起，后续在该阳极上设置有机发光层和阴极后，阳极边缘翘起的部分会穿透有机发光层而与阴极发生短路，导致出现暗点不良，阳极边缘缺失，会引起像素显示亮度不够，影响有机发光显示面板的显示质量，且上述过程需要进行光刻胶掩膜的剥离，以及需要进行多次高压水冲洗，工序较多、周期较长，影响产能。

鉴于此，在本发明的一个方面，本发明提出了一种制作有机发光显示面板的方法。

根据本发明的实施例，本发明对有机发光显示面板的制作工艺进行优化，具体的，通过设置与像素界定层材料相同的掩膜进行阳极的制作，由于掩膜的材料与像素界定层的材料相同，因此，在形成阳极后，可以保留阳极上的掩膜，后续形成像素界定层之后，可对掩膜和像素界定层同步进行图案化处理，获得像素界定结构，即掩膜和像素界定层图案化之后剩余的部分共同构成像素界定结构，且掩膜除去用于形成像素界定结构的部分，可通过与像素界定层同步图案化而去除。由此，本发明在制作有机发光显示面板的过程中，不需要剥离掩膜，从而可省去掩膜剥离的工序以及省去掩膜剥离过程中高压水冲洗的工序，从而缓解阳极边缘缺失或者翘起，改善有机发光显示面板出现暗点或者亮度不够等不良，提升有机发光显示面板的显示质量，且减少制作工序，缩短生产周期，显著提升产能。此外，由于不剥离掩膜，因此，后续在形成像素界定层之前，即便进行高压水冲洗，阳极上的掩膜可对阳极起到保护作用，进一步缓解阳极边缘的缺失或者翘起，进一步提升有机发光显示面板的显示质量。

下面根据本发明的具体实施例，对该方法的各个步骤进行详细说明：

根据本发明的实施例，参考图1，该方法包括：

S100：在基板上形成多个阳极

根据本发明的实施例，在该步骤中，在基板上形成多个阳极。具体的，首先，在基板100上形成阳极材料层210(参考图3中的(a))。随后，在阳极材料层210远离基板100的一侧形成掩膜500(参考图3中的(b))。随后，基于掩膜500对阳极材料层210进行图案化处理，形成多个阳极200(参考图3中的(c))。其中，掩膜500的材料与后续形成的像素界定层的材料相同。由此，在该步骤中，可以保留阳极上的掩膜，且阳极上的掩膜可以在后续形成像素界定层之后，与像素界定层同步图案化，形成像素界定结构，即掩膜和像素界定层图案化之后剩余的部分共同构成像素界定结构，从而该方法可省去剥离掩膜的工序以及省去剥离掩膜过程中高压水冲洗的工序，缓解阳极边缘缺失或翘起，提升有机发光显示面板的显示质量，以及缩短生产周期，提升产能。

根据本发明的实施例，在形成阳极的过程中，首先，在阳极材料层远离基板的一侧形成一层掩膜材料层，随后对掩膜材料层进行曝光显影，以形成多个掩膜，最后基于上述掩膜对阳极材料层进行刻蚀，以形成多个阳极。本领域技术人员能够理解的是，在对阳极材料层进行刻蚀时，刻蚀掉阳极材料层未被掩膜覆盖的部分，阳极材料层被掩膜覆盖的部分即为获得的阳极。由此，可采用现有的产线和设备制作掩膜，无需增加新的产线和设备，且可以省去掩膜剥离的工序以及省去掩膜剥离过程中高压水冲洗的工序，显著降低成本，缩短生产周期。关于掩膜材料层的形成方法不受特别限制，例如，可以在阳极材料层远离基板的一侧涂覆一层掩膜材料层。

根据本发明的实施例，掩膜的厚度可以为

如

由此，掩膜具有合适的厚度，在后续形成像素界定层之前进行高压水冲洗时，具有上述厚度的掩膜可以对阳极起到良好的保护作用，以缓解高压水冲洗过程中阳极边缘发生缺失或者翘起，由于掩膜和像素界定层图案化之后剩余的部分共同构成像素界定结构，具有上述厚度的掩膜不会显著增加整个有机发光显示面板的厚度。

关于构成掩膜的具体材料不受特别限制，本领域技术人员可以根据像素界定层的常用材料进行设计。

根据本发明的实施例，基板包括衬底和设置在衬底上的像素电路层，阳极材料层设置在像素电路层远离衬底的一侧，像素电路层用于控制有机发光二极管发光以及对有机发光二极管进行亮度补偿。关于像素电路层的具体结构以及形成方法不受特别限制，本领域技术人员可以根据有机发光显示面板中常用的像素电路结构进行设计。

S200：对像素界定层和掩膜同步进行图案化处理，形成多个像素界定结构

根据本发明的实施例，在该步骤中，对像素界定层和掩膜同步进行图案化处理，形成多个像素界定结构。具体的，首先，形成覆盖掩膜500和基板100的像素界定层410(参考图3中的(d))，由于阳极上覆盖有掩膜500，因此，像素界定层410在多个阳极200之间形成凹槽。随后，对像素界定层410和掩膜500同步进行图案化处理，形成多个像素界定结构400，像素界定结构400覆盖基板100位于相邻两个阳极200之间的部分，并覆盖阳极200的部分表面(参考图3中的(e))。由此，S100中形成的掩膜，可在该步骤中，与像素界定层同步图案化，掩膜和像素界定层图案化之后剩余的部分共同构成像素界定结构，该像素界定结构包括由掩膜形成的第一部，以及由像素界定层形成的第二部，前面描述的凹槽位于第二部中。

根据本发明的实施例，在对掩膜和像素界定层进行曝光显影后，对掩膜和像素界定层剩余的部分进行固化，以形成像素界定结构。像素界定结构可防止相邻两个有机发光二极管之间发生串色。

根据本发明的实施例，在形成像素界定层之前，继续进行高压水冲洗，此时，由于阳极上有掩膜覆盖，因此，可有效缓解阳极边缘在高压水冲洗过程中发生缺失或者翘起等缺陷，获得平整且完整的阳极，改善有机发光显示面板出现暗点或者亮度不够等不良，提升有机发光显示面板的显示质量。需要说明的是，关于高压水冲洗过程中的具体水压，可采用传统有机发光显示面板制作过程中高压水冲洗过程中的水压。

根据本发明的实施例，对掩膜和像素界定层进行图案化处理可以是对掩膜和像素界定层进行曝光显影，以获得像素界定结构。由此，可利用现有制作像素界定结构的产线和设备进行制作，工艺简单且能实现对掩膜和像素界定层的同步图案化。

根据本发明的实施例，掩膜和像素界定层图案化之后共同构成像素界定结构，由于像素界定层覆盖掩膜的部分，和覆盖基板的部分厚度一致，且掩膜的厚度较厚，因此，图案化后的像素界定层覆盖掩膜的部分，和覆盖基板的部分会构成深度较深的凹槽(参考图3中的(e))，且凹槽的深度(如图3中的(e)中所示出的H)大于

而传统的像素界定结构直接覆盖在阳极上，且阳极的厚度较薄，一般在几百

像素界定结构覆盖阳极的部分，和覆盖基板的部分构成的凹槽不明显，换句话说，凹槽深度较浅。

根据本发明的实施例，该方法还包括：在阳极远离基板的一侧依次形成有机发光层和阴极，由此，形成有机发光二极管。关于有机发光层和阴极的具体制作过程不受特别限制，本领域技术人员可以根据有机发光层和阴极的常规工艺进行设计。

根据本发明的实施例，该方法还包括：在像素界定结构远离基板的一侧形成支撑结构，支撑结构可支撑后续设置的其他基板，以避免其他基板受挤压而影响有机发光二极管的性能。关于支撑结构的具体制作过程不受特别限制，本领域技术人员可以根据支撑结构的常规工艺进行设计。例如，首先在像素界定结构远离基板的一侧形成支撑层，然后对支撑层进行图案化处理，以及对图案化之后剩余的部分进行固化，以获得支撑结构。

在本发明的另一方面，本发明提出了一种有机发光显示面板。根据本发明的实施例，该有机发光显示面板可以是利用前面描述的方法制作的有机发光显示面板，由此，该有机发光显示面板具有与前面描述的方法制作的有机发光显示面板相同的特征以及优点，在此不再赘述。

根据本发明的实施例，参考图4，该有机发光显示面板包括：基板100、多个阳极200和像素界定结构400，其中，阳极200设置在基板100上，像素界定结构400包括第一部10和第二部20，第一部10覆盖阳极200的部分表面，第二部20覆盖第一部10以及基板100位于相邻两个阳极200之间的部分，且构成第一部10的材料与构成第二部20的材料相同。由此，在制作有机发光显示面板的过程中，可省去掩膜剥离的工序以及省去掩膜剥离过程中高压水冲洗的工序，缩短生产周期，提升产能，降低成本，同时获得平整且完整的阳极，以改善有机发光显示面板出现暗点或者亮度不够等不良，提升有机发光显示面板的显示质量。

需要说明的是，如前所述，在制作有机发光显示面板的过程中，在阳极材料层远离基板的一侧形成掩膜，基于上述掩膜对阳极材料层进行刻蚀，形成多个阳极，并保留阳极上的掩膜，后续形成覆盖掩膜和基板的像素界定层，最后对掩膜和像素界定层同步进行图案化处理，掩膜经图案化处理后形成第一部，像素界定层经图案化处理后形成第二部，第一部和第二部构成像素界定结构，即掩膜和像素界定层经图案化处理后剩余的部分共同构成像素界定结构。

根据本发明的实施例，第一部10的厚度可以为

也即是说，在制作有机发光显示面板的过程中，掩膜的厚度为

由此，在形成像素界定层之前进行高压水冲洗时，具有上述厚度的掩膜可对阳极起到良好的保护作用，缓解阳极边缘缺失或者翘起，提高有机发光显示面板的显示质量。

根据本发明的实施例，由于第一部10的厚度相对较厚，因此，第二部20覆盖第一部10的部分，与第二部20覆盖基板100的部分构成凹槽30，且凹槽30的深度(如图4中所示出的H)大于

由于在制作有机发光显示面板的过程中，未剥离掩膜，且该掩膜与后续的像素界定层同步图案化后共同构成像素界定结构，从而使得像素界定结构由两部分构成，且第一部的厚度较厚，第二部各个部分的厚度一致，从而使得第二部覆盖第一部的部分和覆盖基板的部分构成凹槽。

根据本发明的实施例，基板100包括衬底以及设置在衬底上的像素电路层(图中未示出)，阳极200设置在像素电路层远离衬底的一侧。由此，像素电路层可用于控制有机发光二极管发光以及对有机发光二极管进行亮度补偿。关于像素电路层的具体结构不受特别限制，本领域技术人员可以根据实际情况进行设计。

在本发明的另一方面，本发明提出了一种显示装置。根据本发明的实施例，该显示装置包括前面描述的有机发光显示面板，由此，该显示装置具有前面描述的有机发光显示面板的全部特征以及优点，在此不再赘述。总的来说，该显示装置具有显示质量高、生产周期短、产能高、成本低等优点。

在本发明的描述中，术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明而不是要求本发明必须以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“另一个实施例”等的描述意指结合该实施例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。另外，需要说明的是，本说明书中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。

尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (10)

1.一种制作有机发光显示面板的方法，其特征在于，包括：

在基板上形成阳极材料层，在所述阳极材料层远离所述基板的一侧形成掩膜，基于所述掩膜对所述阳极材料层进行图案化处理，形成多个阳极；

形成覆盖所述掩膜和所述基板的像素界定层，所述像素界定层在多个所述阳极之间具有凹槽，对所述像素界定层和所述掩膜同步进行图案化处理，形成多个像素界定结构，所述像素界定结构覆盖所述基板位于相邻两个所述阳极之间的部分，并覆盖所述阳极的部分表面，

其中，构成所述掩膜的材料与构成所述像素界定层的材料相同，所述像素界定结构包括由所述掩膜构成的第一部，以及由所述像素界定层构成的第二部，所述凹槽位于所述第二部中。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，形成所述阳极包括：

在所述阳极材料层远离所述基板的一侧形成掩膜材料层，对所述掩膜材料层进行曝光显影形成所述掩膜；

基于所述掩膜对所述阳极材料层进行刻蚀，形成所述阳极。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，形成所述像素界定结构包括：

对所述像素界定层和所述掩膜进行曝光显影，以形成所述像素界定结构。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述掩膜的厚度为

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基板包括衬底以及设置在衬底上的像素电路层，所述阳极材料层设置在所述像素电路层远离所述衬底的一侧。

6.一种有机发光显示面板，其特征在于，包括：

基板；

多个阳极，所述阳极设置在所述基板上；

像素界定结构，所述像素界定结构包括第一部和第二部，所述第一部覆盖所述阳极的部分表面，所述第二部覆盖所述第一部以及所述基板位于相邻两个所述阳极之间的部分，构成所述第一部的材料和构成所述第二部的材料相同。

7.根据权利要求6所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述第一部的厚度为

8.根据权利要求7所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述第二部覆盖所述第一部的部分，与所述第二部覆盖所述基板的部分构成凹槽，所述凹槽的深度大于

9.根据权利要求6所述的有机发光显示面板，其特征在于，所述基板包括衬底以及设置在衬底上的像素电路层，所述阳极设置在所述像素电路层远离所述衬底的一侧。

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求6-9任一项所述的有机发光显示面板。

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