KR101942826B1 - 새도우 마스크 제조 방법 및 이를 이용한 oled 소자 제조 방법 - Google Patents

새도우 마스크 제조 방법 및 이를 이용한 oled 소자 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 새도우 마스크 제조 방법 및 이를 이용한 OLED 소자 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 마스크 시트의 상측에서 기판과 접촉하는 부분이 하측에 식각된 부분을 기준으로 비교했을 때 외각에 형성되도록 새도우 마스크를 형성하고, 이러한 새도우 마스크를 이용하여 OLED 소자를 제조함으로써, 유기물이 증착되는 부분에 대한 새도우 마스크에 의한 기판의 긁힘 현상이 방지될 수 있는 새도우 마스크 제조 방법 및 이를 이용한 OLED 소자 제조 방법에 관한 것이다.

Description

새도우 마스크 제조 방법 및 이를 이용한 OLED 소자 제조 방법{Method for manufacturing shadow mask and method for manufacturing OLED device using the same}
본 발명은 새도우 마스크 제조 방법 및 이를 이용한 OLED 소자 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 마스크 시트의 상측에서 기판과 접촉하는 부분이 하측에 식각된 부분을 기준으로 비교했을 때 외각에 형성되도록 새도우 마스크를 형성하고, 이러한 새도우 마스크를 이용하여 OLED 소자를 제조함으로써, 유기물이 증착되는 부분에 대한 새도우 마스크에 의한 기판의 긁힘 현상이 방지될 수 있는 새도우 마스크 제조 방법 및 이를 이용한 OLED 소자 제조 방법에 관한 것이다.
OLED(Organic Light Emitting Diodes) 소자는 감성화면구현, 고속응답속도, 자체발광, 박형제작, 저전력, 넓은시야각 등의 특성을 지닐 뿐만 아니라 플렉시블(Flexible)한 기판을 사용할 수 있으므로 디스플레이 분야 및 조명 분야에서 크게 각광 받고 있다.
OLED 소자는 유기물을 발광층으로 사용하며, 하부 전극과 상부 전극 사이에 여러 층의 유기물층을 성막하고, 하부 전극과 상부 전극 사이에 전압을 인가하면 전자와 정공이 음극과 양극으로부터 주입되어 유기물층에서 재결합하여 빛을 발생시키는 원리를 이용한다.
OLED 소자의 제조를 위해 투명 절연성 기판 상에 유기물 다층막을 증착할 때, 상기 기판의 소자 형성 영역 상에만 유기물 다층막을 증착하고, 기판의 나머지 영역 상에 다층막을 증착하지 않도록 하기 위해, 새도우 마스크(Shadow mask)를 사용하는 것이 일반적이다.
이러한 새도우 마스크는 OLED 소자의 품위와 전체 수율에 상당히 큰 영향을 미치므로 새도우 마스크의 중요성이 더욱 높아지고 있다.
그러나, 최근 개발된 새도우 마스크를 이용하여 제작된 OLED 소자는 기판 상에 유기물을 증착시 새도우 마스크로 인해 기판의 긁힘 현상이 발생하는 문제점이 있다. 또한 이러한 긁힘과 같은 기판 손상에 의해 셀 수축에 의한 불량이 발생한다는 문제점도 발생하게 된다.
한국공개특허 제2006-0001472호
본 발명은 상술된 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은, 기판 상에 유기물을 증착시 새도우 마스크로 인한 기판의 긁힘 현상이 유기물이 증착되는 영역과 이격된 부분에 형성되어, 새도우 마스크에 의한 기판의 긁힘 현상이 방지될 수 있는 새도우 마스크 제조 방법 및 이를 이용한 OLED 소자 제조 방법을 제공하고자 하는 것이다.
특히, 본 발명의 목적은 새도우 마스크 제조 방법 및 이를 이용한 OLED 소자 제조 방법 에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 마스크 시트의 상측에서 기판과 접촉하는 부분이 하측에 식각된 부분을 기준으로 비교했을 때 외각에 형성되도록 새도우 마스크를 형성하고, 이러한 새도우 마스크를 이용하여 OLED 소자를 제조함으로써, 유기물이 증착되는 부분에 대한 새도우 마스크에 의한 기판의 긁힘 현상이 방지될 수 있는 새도우 마스크 제조 방법 및 이를 이용한 OLED 소자 제조 방법을 제공하고자 하는 것이다.
구체적으로 본 발명의 목적은, 마스크 시트의 상측 및 하측을 각각 식각하여, 제1 엣지면과 제2 엣지면을 포함하거나 또는 제1 디딤면과 제2 디딤면을 포함하는 새도우 마스크가 형성됨으로써 기판 상에 유기물을 증착시 새도우 마스크로 인한 기판의 긁힘 현상이 유기물이 증착되는 영역과 이격된 부분에 형성되어, 이로 인해 OLED 소자 불량률을 감소시키는 새도우 마스크 제조 방법 및 이를 이용한 OLED 소자 제조 방법을 제공하고자 하는 것이다.
본 발명은 (a) 마스크 시트의 상측 및 하측에 각각 포토레지스트 막이 형성되는 단계; (b) 상기 포토레지스트 막이 형성되지 않은 상기 마스크 시트의 상측 및 하측을 각각 식각하는 단계; (c) 식각된 마스크 시트의 상측부에 수지가 도포되고, 식각된 마스크 시트의 하측을 식각하는 단계; 및 (d) 새도우 마스크가 형성되는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 (c) 단계는, (c1) 식각된 마스크 시트의 상측부에 수지가 도포되는 단계; (c2) 도포된 상기 수지가 건조되는 단계; 및 (c3) 식각된 마스크 시트의 하측을 식각하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 (d) 단계는, (d1) 상기 수지가 제거되는 단계; 및 (d2) 상측 및 하측에 각각 포토레지스트 막이 제거되는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 새도우 마스크의 재질은 금속인 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 새도우 마스크는, 상기 새도우 마스크의 상단측에 위치하며, 기판과 접촉되는 경계에 존재하는 한쌍의 제1 엣지면; 상기 한쌍의 제1 엣지면으로부터 각각 내측 방향으로 연장 형성된 한쌍의 제2 엣지면;을 포함하는 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 새도우 마스크는, 제1 엣지면과 제2 엣지면 사이의 두께가 40㎛ 내지 60㎛ 인 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 새도우 마스크는, 한쌍의 제1 챌면, 한쌍의 제2 챌면, 한쌍의 제1 디딤면 및 한쌍의 제2 디딤면을 구비한 계단 구조인 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 새도우 마스크는, 제1 디딤면과 제2 디딤면 사이의 두께가 40㎛ 내지 60㎛ 인 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 새도우 마스크 제조 방법에 의해 제조된 새도우 마스크를 이용한 OLED 소자 제조 방법에 있어서 상기 새도우 마스크를 이용하여 기판 상에 유기물을 증착시 상기 새도우 마스크로 인한 기판의 긁힘 현상이 유기물이 증착되는 영역과 이격된 부분에 형성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 새도우 마스크 제조 방법에 따르면, 기판 상에 유기물을 증착시 새도우 마스크로 인한 기판의 긁힘 현상이 유기물이 증착되는 영역과 이격된 부분에 형성되어, 새도우 마스크에 의한 기판의 긁힘 현상이 방지됨으로써 OLED 소자 불량률을 감소시키는 효과가 발생한다.
또한 본 발명의 새도우 마스크 제조 방법에 따르면, 새도우 마스크를 이용하여 기판 상에 결함 없이 간단하게 증착 패턴을 형성시킬 수 있으며, 공정이 보다 간단해짐으로써 생산성을 향상시키는 효과가 발생한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 새도우 마스크 제조 단계를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 2(a) 내지 도 2(e)는 본 발명의 일 실시예에 따른 새도우 마스크 제조 단계에 따라 제조된 새도우 마스크의 일례를 도시한 도면이다.
도 3(a)는 종래기술에 따라 제조된 새도우 마스크가 기판에 접촉된 상태를 도시한 도면이고, 도 3(b)는 본 발명의 일 실시예에 따라 제조된 새도우 마스크가 기판에 접촉된 상태를 도시한 도면이다.
본 발명을 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다. 여기서, 반복되는 설명, 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있는 공지 기능, 및 구성에 대한 상세한 설명은 생략한다. 본 발명의 실시형태는 당 업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소들의 형상 및 크기 등은 보다 명확한 설명을 위해 과장될 수 있다. 명세서 전체에서, 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 새도우 마스크 제조 단계를 개략적으로 도시한 도면이고, 도 2(a) 내지 도 2(e)는 본 발명의 일 실시예에 따른 새도우 마스크 제조 단계에 따라 제조된 새도우 마스크의 일례를 도시한 도면이며, 도 3(a)는 종래기술에 따라 제조된 새도우 마스크가 기판에 접촉된 상태를 도시한 도면이며, 도 3(b)는 본 발명의 일 실시예에 따라 제조된 새도우 마스크가 기판에 접촉된 상태를 도시한 도면이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 새도우 마스크 제조 방법은 (a) 마스크 시트의 상측 및 하측에 각각 포토레지스트 막이 형성되는 단계; (b) 상기 포토레지스트 막이 형성되지 않은 상기 마스크 시트의 상측 및 하측을 각각 식각하는 단계; (c) 식각된 마스크 시트의 상측부에 수지가 도포되고, 식각된 마스크 시트의 하측을 식각하는 단계; 및 (d) 새도우 마스크가 형성되는 단계;를 포함한다.
본 발명의 새도우 마스크 제조 방법에 따라 제조된 새도우 마스크 제조 방법을 각 단계별로 살펴보도록 한다.
(a) 마스크 시트의 상측 및 하측에 각각 포토레지스트 막이 형성되는 단계
상기 (a) 단계는 후술되는 (b) 단계의 포토레지스트 막이 형성되지 않은 상기 마스크 시트의 상측 및 하측을 각각 식각하는 단계 전, 마스크 시트(10)의 상측 및 하측에 각각 포토레지스트 막(20)을 형성하는 단계이다. 이러한 (a) 단계를 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
먼저, 마스크 시트(10)를 준비한다.
여기서, 마스크 시트(10)는 후술되는 새도우 마스크(100)가 제조되기 위한 원재료 역할을 수행한다.
이때, 마스크 시트(10)의 형태는 특별히 한정하지 않으나, 마스크 시트(10)의 상측이 평탄한 형태인 것이 바람직하다.
이러한 이유는 마스크 시트(10)의 상측은 후술되는 기판(S)의 하측과 최대한 밀착이 되어야 하기 때문이다.
다음으로, 마스크 시트(10)의 상측 및 하측에 각각 포토레지스트 막(20)이 형성된다.
상기의 단계에 의해서 형성된 상측 및 하측의 포토레지스트 막(20)은 각각 마스크 시트(10)의 적어도 일부에 포토레지스트 막(20)이 형성되지 않는 개구부(30)가 존재하는 것이 바람직하다.
이는 후술되는 공정으로 포토레지스트 막(20)이 형성되지 않은 마스크 시트(10)의 상측 및 하측을 각각 식각하기 위함으로 유의한다.
또한, 마스크 시트(10)의 상측 및 하측에 존재하는 개구부(30)의 크기는 특별히 한정하지 않으나, 후술되는 새도우 마스크(100)의 형태에 따라 상측 및 하측의 개구부(30)의 크기는 조절이 가능함을 유의한다.
특히, 본 발명에서는 마스크 시트(10)의 하측에 위치하는 개구부가 상측에 위치하는 개구부보다 크게 형성되는 것이 보다 바람직하다.
여기서, 마스크 시트(10)의 상측 및 하측에 각각 형성된 포토레지스트 막(20)의 두께는 한정하지 않으나, 두께가 얇으면, 후술되는 공정인 식각 공정(40)으로부터 마스크 시트(10)를 보호할 수 없으며, 두께가 두꺼우면, 후술되는 공정으로 포토레지스트 막(20)이 제거될 때 많은 시간이 소요되므로 유의한다.
(b) 상기 포토레지스트 막이 형성되지 않은 상기 마스크 시트의 상측 및 하측을 각각 식각하는 단계
상기 (b) 단계는 상기 (a) 단계에서 마스크 시트의 상측 및 하측에 각각 포토레지스트 막이 형성된 후, 상기 포토레지스트 막이 형성되지 않은 상기 마스크 시트의 상측 및 하측을 각각 식각하는 단계이다. 이러한 (b) 단계를 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
먼저, 포토레지스트 막(20)이 형성되지 않은 마스크 시트(10)의 상측 및 하측(즉, 개구부(30))에 각각 식각 공정(40)이 진행된다.
여기서, 포토레지스트 막(20)은 후술되는 새도우 마스크(100)의 형상을 제어하기 위한 것으로서, 식각 공정(40)으로부터 마스크 시트(10)의 적어도 일부를 보호하는 역할을 수행한다.
이때, 포토레지스트 막(20)이 형성되지 않은 마스크 시트(10)의 상측 및 하측에 각각 식각 공정(40)을 진행시 마스크 시트(10)가 완전히 제거되지 않도록 유의한다.
또한, 포토레지스트 막(20)이 형성되지 않은 마스크 시트(10)의 상측 및 하측에 각각 식각 공정(40)을 진행시 식각량은 특별히 한정하지 않으나, 후술되는 새도우 마스크(100)의 형태에 따라 상측 및 하측의 식각량은 조절이 가능함을 유의한다.
특히, 본 발명에서는 마스크 시트(10)의 하측에 위치하는 개구부가 상측에 위치하는 개구부보다 크게 형성됨으로써 마스크 시트(10)의 하측부가 상측부보다 상대적으로 많이 식각되는 것이 바람직하다.
(c) 식각된 마스크 시트의 상측부에 수지가 도포되고, 식각된 마스크 시트의 하측을 식각하는 단계
본 발명의 일 실시예에 따른 새도우 마스크 제조 방법에 있어서 상기 (c) 단계는, (c1) 식각된 마스크 시트의 상측부에 수지가 도포되는 단계; (c2) 도포된 상기 수지가 건조되는 단계; (c3) 식각된 마스크 시트의 하측을 식각하는 단계;를 포함할 수 있다.
상기 (c) 단계는 상기 (b) 단계에서 상기 포토레지스트 막이 형성되지 않은 상기 마스크 시트의 상측 및 하측을 각각 식각한 후, 식각된 마스크 시트의 상측부에만 수지가 도포되고, 식각된 마스크 시트의 하측을 식각하는 단계이다. 이러한 (c) 단계를 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
먼저, 식각된 마스크 시트(10)의 상측부에 수지(50)가 도포된다.
여기서 수지(50)는 식각된 마스크 시트(10)의 상측부를 밀폐하는 역할을 수행한다.
이때, 식각된 마스크 시트(10)의 상측부에 도포되는 수지(50)의 종류는 특별히 한정하지 않으나, 마스크 시트(10)와 반응을 일으키지 않으며, 후술되는 공정인 식각 공정(40)으로부터 수지(50)의 형상이 유지될 수 있는 물질을 사용하는 것이 바람직하다.
다음으로, 마스크 시트(10)의 상측부에 도포된 수지(50)가 건조 공정(60)을 통해 건조된다.
마스크 시트(10)의 상측부에 도포된 수지(50)의 건조 온도 및 건조 시간은 특별히 한정하지 않으나, 수지(50)가 단단하게 굳어지는 것이 바람직하다.
다음으로, 식각된 마스크 시트(10)의 하측을 식각한다.
이때, 식각된 마스크 시트(10)의 하측을 식각시 마스크 시트(10)의 상측부에 도포된 수지(50)가 마스크 시트(10)의 하측 외부로 노출될 때까지 식각 공정(40)을 진행하는 것이 바람직하다.
이러한 공정으로 인해, 마스크 시트(10)의 상측에서 기판과 접촉하는 부분은, 하측에 식각된 부분을 기준으로 비교했을 때, 외각에 형성되도록 새도우 마스크를 형성되게 된다.
(d) 새도우 마스크가 형성되는 단계
본 발명의 일 실시예에 따른 새도우 마스크 제조 방법에 있어서 상기 (d) 단계는, (d1) 상기 수지가 제거되는 단계; 및 (d2) 상측 및 하측에 각각 포토레지스트 막이 제거되는 단계;를 포함할 수 있다.
상기 (d) 단계는 상기 (c) 단계에서 식각된 마스크 시트의 상측부에 수지가 도포되고, 식각된 마스크 시트의 하측을 식각한 후, 새도우 마스크가 형성되는 단계이다. 이러한 (d) 단계를 구체적으로 설명하면 다음과 같다.
먼저, 식각된 마스크 시트(10)의 상측부에 도포된 수지(50)가 제거된다.
여기서, 수지(50)를 제거하는 방법은 마스크 시트(10)의 형상이 유지되는 한 특별히 한정하지 않는다.
다음으로, 마스크 시트(10)의 상측 및 하측에 각각 형성된 포토레지스트 막(20)이 제거된다.
이때, 포토레지스트 막(20)을 제거하는 방법은 마스크 시트(10)의 형상이 유지되는 한 특별히 한정하지 않는다.
다음으로, 새도우 마스크(100)가 형성 된다.
상기의 단계에 의해서 제조된 새도우 마스크(100)는 기판(S) 상에 유기물을 증착하여 증착 패턴을 형성하는 역할을 수행한다.
여기서, 증착 패턴은 OLED 소자의 풀컬러(Full color)를 위해 기판(S) 상에 증착 패턴이 형성되어야 하며, 이때 증착 패턴을 형성시키기 위해 새도우 마스크(100)의 재질은 금속인 것이 바람직하다.
또한, 풀컬러를 구현하기 위해서 복수의 유기물 층 (보통, 적색(R;red), 녹색(G;green), 청색(B;blue)의 3가지 색)이 새도우 마스크(100)를 이용하여 OLED 소자의 소정 영역에 선택적으로 형성될 수 있다.
이하, 상기 단계에 의해서 형성된 새도우 마스크(100)를 도 2(a) 내지 도 2(e)를 참조하여 설명하면 다음과 같다.
본 발명의 일 실시예로, 도 2(a)를 참조하면, 새도우 마스크(100)는 새도우 마스크(100)의 상단측에 위치하며, 기판(S)과 접촉되는 경계에 존재하는 한쌍의 제1 엣지면(101)과 한쌍의 제1 엣지면(101)으로부터 각각 내측 방향으로 연장 형성된 한쌍의 제2 엣지면(102)을 포함할 수 있다.
여기서, 새도우 마스크(100)는 제1 엣지면(101)과 제2 엣지면(102) 사이의 두께가 40㎛ 내지 60㎛ 인 것이 바람직하다.
또한 본 발명의 일 실시예로, 도 2(b) 내지 도 2(e)를 참조하면, 새도우 마스크(100)는 한쌍의 제1 챌면(103), 한쌍의 제2 챌면(105), 한쌍의 제1 디딤면(104) 및 한쌍의 제2 디딤면(106)을 구비한 계단 구조인 것이 바람직하다.
이때, 도 2(b)를 참조하면, 새도우 마스크(100)는 한쌍의 제1 챌면(103), 한쌍의 제2 챌면(105), 한쌍의 제1 디딤면(104) 및 한쌍의 제2 디딤면(106)이 직선 형태일 수 있다.
또한, 도 2(c)를 참조하면, 한쌍의 제2 챌면(105), 한쌍의 제1 디딤면(104) 및 한쌍의 제2 디딤면(106)은 직선 형태이며, 한쌍의 제1 챌면(103)만 사선 형태일 수 있고, 도 2(d)를 참조하면, 한쌍의 제2 챌면(105) 및 한쌍의 제2 디딤면(106)은 직선 형태이며, 한쌍의 제1 챌면(103) 및 한쌍의 제1 디딤면(104)만 사선 형태일 수 있으며, 도 2(e)를 참조하면, 한쌍의 제1 챌면(103), 한쌍의 제1 디딤면(104) 및 한쌍의 제2 디딤면(106)은 직선 형태 이며, 한쌍의 제2 챌면(105)만 사선 형태일 수 있다.
여기서, 새도우 마스크(100)는 제1 디딤면(104)과 제2 디딤면(106) 사이의 두께가 40㎛ 내지 60㎛ 인것이 바람직하다.
즉, 제1 엣지면(101)과 제2 엣지면(102) 사이의 두께와 제1 디딤면(104)과 제2 디딤면(106) 사이의 두께가 40㎛ 내지 60㎛을 유지해야 하는데, 40㎛ 이하일 경우, 기판(S) 상에 유기물을 증착시 새도우 마스크(100)로 인한 기판(S)의 긁힘 현상이 발생할 가능성이 높아지며, 60㎛ 이상일 경우, 기판(S)과 새도우 마스크(100)의 사이로 유기물이 스며들어 증착 패턴이 번지는 새도잉(shadowing) 현상이 발생하게 되므로 유의한다.
도 2(a) 내지 도 2(e)에 도시되어 있는 새도우 마스크(100)의 형태 이외에 상기의 구성 및 역할을 수행하는 한 새도우 마스크(100)의 형태가 더 추가될 수 있음을 유의한다.
도 3 (a)에 도시된 바와 같이 종래에는 기판(S) 상에 유기물을 증착시 새도우 마스크(100)로 인한 기판(S)의 긁힘 현상이 유기물이 증착된 부분에 형성되어, 유기물 층에 기판(S)의 긁힘 현상에 의해 셀(Cell)이 수축되어 불량률이 증가하게 되었다.
그러나, 도 3 (b)에 도시된 바와 같이 본 발명의 일 실시예에 따라 제조된 새도우 마스크(100)는 새도우 마스크(100)를 이용하여 기판(S) 상에 유기물을 증착시 새도우 마스크(100)로 인한 기판(S)의 긁힘 현상이 유기물이 증착되는 영역과 이격된 부분에 형성되어, 새도우 마스크(100)에 의한 기판(S)의 긁힘 현상이 방지되고, 이 유기물 층을 이용하여 OLED 소자를 구동시 고휘도 및 장수명을 가지는 OLED 소자를 생산할 수 있게 된다.
이러한 구성으로 인해, 본 발명의 일 실시예에 따르면 마스크 시트(10)의 상측 및 하측에 각각 포토레지스트 막(20)이 형성되고, 포토레지스트 막(20)이 형성되지 않은 마스크 시트(10)의 상측 및 하측을 각각 식각한 후에, 식각된 마스크 시트(10)의 상측부에 수지(50)가 도포되고, 식각된 마스크 시트(10)의 하측을 식각하여, 새도우 마스크(100)가 형성됨으로써, 새도우 마스크(100)를 이용하여 기판(S) 상에 유기물을 증착시 새도우 마스크(100)로 인한 기판(S)의 긁힘 현상이 유기물이 증착되는 영역과 이격된 부분에 형성되고, 새도우 마스크(100)에 기판(S)의 긁힘 현상이 방지되어 OLED 소자 불량률을 감소시키는 효과가 발생한다.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
10 : 마스크 시트
20 : 포토레지스트 막
30 : 개구부
40 : 식각 공정
50 : 수지
60 : 건조 공정
100 : 새도우 마스크
101 : 제1 엣지면
102 : 제2 엣지면
103 : 제1 챌면
104 : 제1 디딤면
105 : 제2 챌면
106 : 제2 디딤면

Claims (9)

  1. (a) 마스크 시트의 상측 및 하측에 각각 포토레지스트 막이 형성되는 단계;
    (b) 상기 포토레지스트 막이 형성되지 않은 상기 마스크 시트의 상측 및 하측을 각각 식각하는 단계;
    (c) 식각된 마스크 시트의 상측부에 수지가 도포되고, 식각된 마스크 시트의 하측을 식각하는 단계; 및
    (d) 새도우 마스크가 형성되는 단계;를 포함하되,
    상기 새도우 마스크는,
    상기 새도우 마스크의 상단측에 위치하며, 기판과 접촉되는 경계에 존재하는 한쌍의 제1 엣지면;
    상기 한쌍의 제1 엣지면으로부터 각각 내측 방향으로 연장 형성된 한쌍의 제2 엣지면;을 포함하며,
    제1 엣지면과 제2 엣지면 사이의 두께가 40㎛ 내지 60㎛ 인 것을 특징으로 하는,
    새도우 마스크 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 (c) 단계는,
    (c1) 식각된 마스크 시트의 상측부에 수지가 도포되는 단계;
    (c2) 도포된 상기 수지가 건조되는 단계; 및
    (c3) 식각된 마스크 시트의 하측을 식각하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는,
    새도우 마스크 제조 방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 (d) 단계는,
    (d1) 상기 수지가 제거되는 단계; 및
    (d2) 상측 및 하측에 각각 포토레지스트 막이 제거되는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는,
    새도우 마스크 제조 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 새도우 마스크의 재질은 금속인 것을 특징으로 하는,
    새도우 마스크 제조 방법.
  5. (a) 마스크 시트의 상측 및 하측에 각각 포토레지스트 막이 형성되는 단계;
    (b) 상기 포토레지스트 막이 형성되지 않은 상기 마스크 시트의 상측 및 하측을 각각 식각하는 단계;
    (c) 식각된 마스크 시트의 상측부에 수지가 도포되고, 식각된 마스크 시트의 하측을 식각하는 단계; 및
    (d) 새도우 마스크가 형성되는 단계;를 포함하되,
    상기 새도우 마스크는,
    한쌍의 제1 챌면, 한쌍의 제2 챌면, 한쌍의 제1 디딤면 및 한쌍의 제2 디딤면을 구비한 계단 구조이며,
    상기 제1 디딤면과 상기 제2 디딤면 사이의 두께가 40㎛ 내지 60㎛ 인 것을 특징으로 하는,
    새도우 마스크 제조 방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 (c) 단계는,
    (c1) 식각된 마스크 시트의 상측부에 수지가 도포되는 단계;
    (c2) 도포된 상기 수지가 건조되는 단계; 및
    (c3) 식각된 마스크 시트의 하측을 식각하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는,
    새도우 마스크 제조 방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 (d) 단계는,
    (d1) 상기 수지가 제거되는 단계; 및
    (d2) 상측 및 하측에 각각 포토레지스트 막이 제거되는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는,
    새도우 마스크 제조 방법.
  8. 제5항에 있어서,
    상기 새도우 마스크의 재질은 금속인 것을 특징으로 하는,
    새도우 마스크 제조 방법.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 따른 새도우 마스크 제조 방법에 의해 제조된 새도우 마스크를 이용한 OLED 소자 제조 방법에 있어서,
    상기 새도우 마스크를 이용하여 기판 상에 유기물을 증착시 상기 새도우 마스크로 인한 기판의 긁힘 현상이 유기물이 증착되는 영역과 이격된 부분에 형성되는 것을 특징으로 하는,
    새도우 마스크를 이용한 OLED 소자 제조 방법.
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