CN111910190A

CN111910190A - 铝材的除垢处理剂

Info

Publication number: CN111910190A
Application number: CN202010380705.6A
Authority: CN
Inventors: �原健二; 森口朋; 平井建太郎; 奥村元
Original assignee: Okuno Chemical Industries Co Ltd
Current assignee: Okuno Chemical Industries Co Ltd
Priority date: 2019-05-08
Filing date: 2020-05-08
Publication date: 2020-11-10
Also published as: JP7313037B2; JP2020183566A

Abstract

本发明的课题在于：提供在不使用硝酸或硝酸的使用量明显少的除垢处理中，能够抑制孔蚀的发生的技术。解决方案在于：提供一种铝材的除垢处理剂，该除垢处理剂含有：(A)硫酸；以及(B)选自水溶性高分子和两性金属中的至少1种。

Description

铝材的除垢处理剂

技术领域

本发明涉及铝材的除垢处理剂等。

背景技术

在铝材的表面处理中，有时在表面生成不溶性残渣(污垢(smut))。例如在对铝进行阳极氧化处理或镀敷处理、涂装等之前，为了使表面清洁化而进行碱性蚀刻处理等，但通过该处理，会在铝材的表面生成白色或灰色的污垢。因此，进行除去污垢的处理(除垢处理)。

例如，在专利文献1中，报道了通过在硝酸等无机酸中添加钒化合物，能够在较短时间除去污垢的除垢处理剂。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平6－057461号公报

发明内容

发明所要解决的课题

本发明的发明人着眼于近年来的环境意识的提高、环境标准的严格化等，进行了不使用会导致环境污染的硝酸的除垢处理剂的开发。然而已知在除垢处理时不使用硝酸的情况下，如果在氯化物离子(50mg/L)的存在下进行除垢处理，则会产生大量的孔蚀(铝材表面的无数的微小孔)。在作为用于制备除垢处理水溶液的水主要使用的自来水中不可避免地含有氯化物离子，另外，在除垢处理中作为无机酸使用的硫酸中也会作为杂质含有氯化物离子，因此，上述问题是不使用硝酸或者硝酸的使用量明显少的除垢处理(无硝酸除垢处理)中一般性的课题。

因此，本发明的课题在于：提供在不使用硝酸或者硝酸的使用量明显少的除垢处理中能够抑制孔蚀的发生的技术。

用于解决课题的方案

本发明的发明人鉴于上述课题进行了深入研究，结果发现如果是含有(A)硫酸以及(B)选自水溶性高分子和两性金属中的至少1种的铝材的除垢处理剂，就能够抑制孔蚀的发生并且能够除去污垢。基于该发现进一步进行研究的结果，完成了本发明。即，本发明包括下述方式。

项1.一种铝材的除垢处理剂，其含有：(A)硫酸；以及(B)选自水溶性高分子和两性金属中的至少1种。

项2.如项1所述的除垢处理剂，其实质上不含硝酸。

项3.如项1或2所述的除垢处理剂，上述水溶性高分子包含聚亚烷基二醇或聚氧化烯烷基醚。

项4.如项1～3中任一项所述的除垢处理剂，其中，上述水溶性高分子的平均分子量为200～20000。

项5.如项1～4中任一项所述的除垢处理剂，其中，上述两性金属包含选自锌、铝、锡和铅中的至少1种。

项6.如项1～5中任一项所述的除垢处理剂，其中，上述两性金属包含选自锌和铝中的至少1种。

项7.如项1～6中任一项所述的除垢处理剂，其还含有镁。

项8.如项1～7中任一项所述的除垢处理剂，其含有上述水溶性高分子和上述两性金属两者。

项9.如项1～8中任一项所述的除垢处理剂，其用于除去通过化学法表面处理产生的污垢。

项10.一种铝材的除垢处理剂用添加剂，其含有选自水溶性高分子和两性金属中的至少1种。

项11.一种铝材的除垢处理方法，其包括：利用项1～9中任一项所述的除垢处理剂对表面具有污垢的铝材进行处理的工序。

发明的效果

根据本发明，能够提供在不使用硝酸或者硝酸的使用量明显少的除垢处理中能够抑制孔蚀的发生的技术。具体而言，本发明能够提供铝材的除垢处理剂、铝材的除垢处理剂用添加剂、铝材的除垢处理方法等。

具体实施方式

在本说明书中，“含有”和“包含”的表述包括“含有”、“包含”、“实质上由……构成”和“仅由……构成”的概念。

在本说明书中，“实质上不含”是指排除了作为杂质不可避免地混入的成分的意思。即“实质上不含X成分”是指不包括X成分作为杂质不可避免地混入的情况。

1.除垢处理剂

本发明在其一个方式中，涉及一种铝材的除垢处理剂(在本说明书中，有时表示为“本发明的除垢处理剂”。)，其含有：(A)硫酸；以及(B)选自水溶性高分子和两性金属中的至少1种。以下，对此进行说明。

本发明的除垢处理剂作为无机酸含有硫酸。无机酸是为了将污垢溶解并除去而添加的。本发明的除垢处理剂中的硫酸浓度只要为能够实现该目的的浓度即可，没有特别限制。该浓度例如为0.5～50质量％，优选为2～30质量％，更优选为4～20质量％。

本发明的除垢处理剂也可以含有硫酸以外的无机酸。作为无机酸，例如可以列举磷酸、氢氟酸等。

产生氯化物离子的无机酸(盐酸等)会成为产生孔蚀的原因，因此希望不使用。本发明的除垢处理剂中的该无机酸的浓度优选为0质量％。

由于硝酸会导致环境污染，所以希望其添加量尽可能少或不使用。本发明涉及不使用硝酸或者硝酸的使用量明显少的除垢处理(无硝酸除垢处理)。本发明的除垢处理剂中的硝酸的浓度例如为0.1质量％以下，优选为0.03质量％以下，更优选为0.01质量％以下，更加优选为0.001质量％以下。本发明的除垢处理剂优选实质上不含硝酸。本发明的除垢处理剂中的硝酸的浓度优选为0质量％。

在使用硫酸以外的无机酸的情况下，该无机酸可以仅使用1种，或者也可以组合使用2种以上。

硫酸的含量相对于本发明的除垢处理剂中的无机酸100质量％，例如为70质量％以上，优选为80质量％以上，更优选为90质量％以上，更加优选为95质量％以上，更进一步优选为99质量％以上。

本发明的除垢处理剂含有选自水溶性高分子和两性金属中的至少1种。从孔蚀抑制作用的观点出发，本发明的除垢处理剂特别优选含有水溶性高分子和两性金属两者。

本发明的除垢处理剂在其一个方式中，含有水溶性高分子。利用水溶性高分子，能够抑制孔蚀的发生。并不希望是限定性的解释，但作为水溶性高分子发挥孔蚀抑制作用的一个原因，认为是捕集成为孔蚀的原因的氯化物离子。水溶性高分子只要能够发挥这样的功能即可，没有特别限制。作为水溶性高分子，可以列举例如聚亚烷基二醇(例如聚乙二醇、聚丙二醇)、聚乙烯醇、聚环氧乙烷、聚乙烯吡咯烷酮、聚酰胺、聚酰亚胺、聚氧乙烯烷基醚、聚氧化烯烷基醚、聚氧乙烯烷基二醇、聚氧丙烯烷基二醇、聚氧乙烯氧丙烯烷基二醇、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸、聚丙烯酰胺、聚(2－羟基－2－氧－1,3,2－二氧磷杂戊环烷)(PHP)、聚甲基丙烯酰氧基乙基磷酰胆碱等的合成高分子；蛋白质、多糖(葡聚糖、淀粉、纤维素、纤维素衍生物等)等的天然或半合成高分子等。这些之中，优选列举合成高分子，更优选列举聚亚烷基二醇、聚氧化烯烷基醚、聚乙烯醇等，更加优选列举聚亚烷基二醇，更加优选列举聚乙二醇。

水溶性高分子也能够设为由2种以上的结构单元形成的共聚物。在这种情况下，例如可以列举无规共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等。

作为水溶性高分子的平均分子量，优选为200～20000，更优选为600～5000，更加优选为600～2000。这里的平均分子量可以是数均分子量或重均分子量的任意一种，这些平均分子量能够利用凝胶浸透色谱(GPC)等来测定。

水溶性高分子可以仅使用1种，或者也可以组合使用2种以上。

在本发明的除垢处理剂含有水溶性高分子的情况下，本发明的除垢处理剂中的水溶性高分子的浓度没有特别限制，例如为1～500g/L，优选为5～100g/L，更优选为10～50g/L。

本发明的除垢处理剂在其一个方式中，含有两性金属。在该情况下，两性金属通常以离子的形态存在。利用两性金属，能够抑制孔蚀的发生。并不希望是限定性的解释，但作为两性金属发挥孔蚀抑制作用的一个原因，可以认为溶液中的两性金属与铝发生置换而抑制孔蚀发生。可以认为特别是关于铝，减小孔蚀发生的电位差而抑制了溶解速度。作为两性金属，没有特别限制，例如可以列举锌、铝、锡、铅等。这些之中，优选列举锌、铝等，更优选列举锌。

两性金属可以仅使用1种，或者也可以组合使用2种以上。通过组合两性金属彼此(含有2种以上的两性金属)，能够进一步提高孔蚀抑制作用。特别是在含有锌和铝两者的情况下，能够特别显著地提高孔蚀抑制作用。

在本发明的除垢处理剂中配合两性金属的情况下，通常添加两性金属化合物(优选为两性金属盐)。作为两性金属化合物，没有特别限制，例如可以列举硫酸盐、磷酸盐、氢氧化物、硅酸盐、碳酸盐、有机酸盐、氧化物盐等。产生氯化物离子的两性金属化合物(氯化锌等)会成为发生孔蚀的原因，因此希望其添加量尽可能少，或者不使用。另外，产生硝酸离子的两性金属化合物(硝酸锌等)由于会导致环境污染，所以希望其添加量尽可能少，或者不使用。两性金属化合物可以仅使用1种，或者也可以组合使用2种以上。

在本发明的除垢处理剂含有两性金属的情况下，本发明的除垢处理剂中的两性金属的浓度没有特别限制，例如为0.05～50g/L，优选为0.1～20g/L，更优选为0.3～12g/L。

本发明的除垢处理剂优选还含有镁。在该情况下，镁通常以离子的形态存在。利用镁，能够抑制孔蚀的发生。特别是通过组合镁和两性金属，能够进一步提高孔蚀抑制作用。

在本发明的除垢处理剂中配合镁的情况下，通常添加镁化合物(优选为镁盐)。作为镁化合物，没有特别限制，例如可以列举硫酸盐、磷酸盐、氢氧化物、硅酸盐、碳酸盐、有机酸盐等。产生氯化物离子的镁化合物(氯化镁等)会成为发生孔蚀的原因，因此希望其添加量尽可能少，或者不使用。另外，产生硝酸离子的镁化合物(硝酸镁等)会导致环境污染，因此希望其添加量尽可能少，或者不使用。镁化合物可以仅使用1种，或者也可以组合使用2种以上。

在本发明的除垢处理剂含有镁的情况下，本发明的除垢处理剂中的镁的浓度没有特别限制，例如为0.05～50g/L，优选为0.2～12g/L，更优选为0.5～8g/L。

本发明的除垢处理剂中，只要不明显损害本发明的效果，也可以含有上述以外的其他成分。作为其他成分，例如可以列举氧化剂(过氧化氢、过硫酸盐、高锰酸盐或三价铁(III)盐等具有氧化能力的金属盐及其化合物等)、活化剂等。氧化剂能够提高除垢能力，将有害的氯作为氯气去除。

其他成分的含量相对于本发明的除垢处理剂100质量％，例如为0～50质量％，优选为0～20质量％，更优选为0～10质量％，更加优选为0～1质量％，更进一步优选为0～0.1质量％。

从环境污染的观点出发，希望本发明的除垢处理剂中的硝酸离子的量尽可能少。本发明的除垢处理剂中的硝酸离子的浓度例如为0.1质量％以下，优选为0.03质量％以下，更优选为0.01质量％以下，更加优选为0.001质量％以下。本发明的除垢处理剂优选实质上不含硝酸离子。本发明的除垢处理剂中的硝酸离子的浓度优选为0质量％。

如上所述，由于在硫酸或自来水中作为杂质不可避免地含有氯化物离子，所以在本发明的除垢处理剂中不可避免地含有这样的氯化物离子。本发明的除垢处理剂中的氯化物离子的浓度的下限例如为0.1mg/L、1mg/L、10mg/L、20mg/L、50mg/L、100mg/L、120mg/L、130mg/L、140mg/L、150mg/L。该浓度的上限例如为300mg/L、270mg/L、250mg/L、240mg/L、230mg/L、220mg/L、210mg/L、200mg/L、190mg/L、180mg/L、170mg/L、160mg/L、155mg/L。

本发明的除垢处理剂含有水作为溶剂。本发明的除垢处理剂能够通过使用水(通常为自来水)，适当混合各成分来制造。作为溶剂，不仅为水，只要不明显损害本发明的效果，也可以在水中加入其他溶剂。

本发明的除垢处理剂由于含有硫酸，所以是酸性的，其pH例如为3以下，优选为2以下，更优选为1以下。

本发明的除垢处理剂用于除去铝材表面的污垢。换言之，本发明的除垢处理剂的处理对象为在表面保持污垢的铝材。该铝材优选为用于供于镀敷处理、更优选供于阳极氧化处理的铝材。

作为铝材，只要是成为处理对象的表面部分由铝或铝合金形成的物品，就没有特别限制。例如，除了以铝或铝合金为材质的各种物品以外，还可以使用在钢板等的各种基材上形成了镀铝或镀铝合金的覆膜的物品、铸造物、压铸件等。作为铝合金没有特别限定，能够使用以铝为主要金属成分的各种合金。例如能够以A1000系的纯铝、A2000系的包含铜和锰的铝合金、A3000系的铝－锰合金、A4000系的铝－硅合金、A5000系的铝－镁合金、A6000系的铝－镁－硅合金、A7000系的铝－锌－镁合金、A8000系的铝－锂系合金等为适用对象。

本发明的除垢处理剂能够用于除去优选为通过化学法表面处理产生的污垢、更优选为通过化学蚀刻处理产生的污垢、更加优选为通过碱性蚀刻产生的污垢。

利用本发明的除垢处理剂，能够在氯化物离子存在下的无硝酸除垢处理中，抑制孔蚀的发生，并且除去铝材的污垢。在优选的方式中，在氯化物离子浓度较高的条件下，也能够更有效地抑制孔蚀的发生。

2.除垢处理剂用添加剂

本发明在其一个方式中，涉及一种铝材的除垢处理剂用添加剂(在本说明书中，有时表示为“本发明的添加剂”。)，其含有选自水溶性高分子和两性金属中的至少1种。以下对此进行说明。

关于本发明的添加剂，除了pH、水溶性高分子的浓度和两性金属的浓度以外，与本发明的除垢处理剂相同。

在本发明的添加剂含有水溶性高分子的情况下，其浓度只要为能够在添加到除垢处理剂时将其浓度调整为上述本发明的除垢处理剂中的浓度的程度的浓度即可，没有特别限制。本发明的添加剂中的水溶性高分子的浓度例如为1～500g/L，优选为5～100g/L，更优选为10～50g/L。

在本发明的添加剂含有两性金属的情况下，其浓度只要为能够在添加到除垢处理剂时将其浓度调整为上述本发明的除垢处理剂中的浓度的程度的浓度即可，没有特别限制。本发明的添加剂中的两性金属的浓度例如为0.5～500g/L。

在本发明的添加剂含有镁的情况下，其浓度只要为能够在添加到除垢处理剂时将其浓度调整为上述本发明的除垢处理剂中的浓度的程度的浓度即可，没有特别限制。本发明的添加剂中的镁的浓度例如为0.5～500g/L。

3.除垢处理方法

本发明在其一个方式中，涉及一种铝材的除垢处理方法(在本说明书，有时也表示为“本发明的除垢处理方法”。)，其包括利用本发明的除垢处理剂对在表面保持污垢的铝材进行处理的工序。以下，对此进行说明。

处理的方式只要是本发明的除垢处理剂能够接触铝材的表面上的方式即可，没有特别限制。作为该接触方法，例如能够采用浸渍、涂布、喷雾等方法。另外，作为设备工序，可以并用超声波或微气泡进行除垢处理。

处理时的温度没有特别限制，例如为10～50℃，优选为15～40℃，更优选为20～35℃。

处理时间根据处理温度的不同而异，例如为10秒～30分钟，优选为20秒～15分钟，更优选为30秒～5分钟。

在本发明的一个方式中，在上述处理后，进一步进行阳极氧化处理。作为阳极氧化处理，例如可以列举使用硫酸浓度为100g/L～400g/L左右的水溶液，将液温设为－10～30℃左右，以0.5～4A/dm2左右的阳极电流密度进行电解的方法。

实施例

以下，基于实施例详细说明本发明，但本发明不受这些实施例限定。

试验例1.孔蚀抑制试验1(单独使用水溶性高分子的孔蚀抑制)

＜试验例1－1.试验片的制作＞

将铝材(铝合金：JIS A6063板)浸渍于脱脂处理水溶液(组成：98％硫酸70ml/L、Top ADD－100(奥野制药工业株式会社制)100ml/L、水)，以55℃处理2分钟，由此进行脱脂。然后，水洗1分钟后，将铝材浸渍于蚀刻处理水溶液(组成：氢氧化钠100g/L、Arsatin SK(奥野制药工业株式会社制)2ml/L、水)，以55℃处理1分钟，由此进行碱性蚀刻。水洗1分钟，将所得到的铝材作为孔蚀抑制试验的试验片使用。试验片的表面被白色或灰色的污垢覆盖。

＜试验例1－2.除垢处理＞

使用硫酸、水溶性高分子和氯化钠，制备除垢处理水溶液(组成：62.5％硫酸100ml/L、水溶性高分子5～50g/L、氯化物离子150mg/L、钠离子、水)。在所得到的除垢处理水溶液中浸渍试验片，在35℃进行10分钟处理，由此进行除垢处理。作为水溶性高分子，使用聚乙烯醇(平均分子量600)5g/L、聚乙二醇(平均分子量1000)50g/L、聚氧乙烯壬基苯基醚(平均分子量2000)10g/L、聚氧乙烯聚氧丙烯丁基醚(平均分子量1500)7g/L。另一方面，作为比较制作添加乙二醇50g/L的除垢处理水溶液和不添加水溶性高分子的除垢处理水溶液。使用除了水溶性高分子以外同样制备的除垢处理水溶液，同样进行除垢处理。观察除垢处理后的试验片的表面，评价孔蚀的有无和孔蚀的程度。

评价基准如下。

○：无孔蚀。

△：孔蚀量少。(在1～5％的面积发生孔蚀)

×：孔蚀量多。(在5～30％以上的面积发生孔蚀)

＜试验例1－3.结果＞

将结果表示于表1。其中，在除垢处理后的试验片表面没有残留污垢。

表1

可知：如本试验例，在除垢处理时不使用硝酸的情况下，如果在氯化物离子的存在下进行除垢处理，会产生大量孔蚀。在作为用于制备除垢处理水溶液的水主要使用的自来水中不可避免地含有氯化物离子，而且在除垢处理中作为无机酸使用的硫酸中也作为杂质含有氯化物离子，因此，上述问题是不使用硝酸或者硝酸的使用量明显少的除垢处理(无硝酸除垢处理)中的一般问题。

如表1所示，利用作为水溶性高分子的聚乙烯醇、聚乙二醇、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚氧乙烯聚氧丙烯丁基醚，孔蚀得到抑制。由此可知利用水溶性高分子能够消除上述问题。

试验例2.孔蚀抑制试验2(单独使用两性金属的孔蚀抑制)

使用硫酸、硫酸锌和氯化钠，制备除垢处理水溶液(组成：62.5％硫酸100ml/L、硫酸锌22g/L(锌5g/L)、氯化物离子150mg/L、钠离子、水)。在所得到的除垢处理水溶液中浸渍试验片，在35℃进行10分钟处理，由此进行除垢处理。另一方面，使用除了不添加锌源(硫酸锌)以外同样制备的除垢处理水溶液，同样地进行除垢处理。对除垢处理后的试验片，与试验例1－2同样评价孔蚀的有无和程度。

将结果表示于表2。其中，在除垢处理后的试验片表面没有残留污垢。

表2

如表2所示，利用作为两性金属的锌，孔蚀得到抑制。由此可知利用两性金属能够消除上述试验例1－3的问题(无硝酸除垢处理中的孔蚀发生的问题)。

试验例3.孔蚀抑制试验3(并用水溶性高分子和两性金属的孔蚀抑制)

使用硫酸、聚乙烯醇(平均分子量600)、硫酸锌和氯化钠，制备除垢处理水溶液(组成：62.5％硫酸100ml/L、聚乙烯醇5g/L、硫酸锌22g/L(锌5g/L)、氯化物离子200mg/L、钠离子、水)。在所得到的除垢处理水溶液中浸渍试验片，在35℃进行10分钟处理，由此进行除垢处理。对除垢处理后的试验片，与试验例1－2同样评价孔蚀的有无和程度。

将结果表示于表3。其中，在除垢处理后的试验片表面没有残留污垢。

表3

	PVA(+)Zn(+)	PVA(+)
			孔蚀评价	○	×

如表3所示，可知通过组合水溶性高分子和两性金属，即使在如本试验例这样较高的氯化物离子浓度(200mg/L)的情况下，也能够抑制孔蚀。

试验例4.孔蚀抑制试验4(利用两性金属的组合的孔蚀抑制)

使用硫酸、硫酸锌、硫酸铝和氯化钠，制备除垢处理水溶液(组成：62.5％硫酸100ml/L、硫酸锌22g/L(锌5g/L)、硫酸铝4.1g/L(铝0.65g/L)、氯化物离子200mg/L、钠离子、水)。在所得到的除垢处理水溶液中浸渍试验片，在35℃进行10分钟处理，由此进行除垢。对除垢处理后的试验片，与试验例1－2同样，评价孔蚀的有无和程度。

将结果表示于表4。其中，在除垢处理后的试验片表面没有残留污垢。

表4

	Zn(+)Al(+)	Zn(+)
			孔蚀评价	○	×

如表4所示可知：通过组合两性金属彼此，即使在如本试验例这样较高的氯化物离子浓度(200mg/L)的情况下，也能够抑制孔蚀。

试验例5.孔蚀抑制试验5(利用金属的组合的孔蚀抑制1)

使用硫酸、聚乙二醇(平均分子量1000)、硫酸锌、硫酸铝、硫酸镁和氯化钠，制备除垢处理水溶液(组成：62.5％硫酸100ml/L、聚乙二醇50g/L、2种或3种金属盐、氯化物离子250mg/L、钠离子、水)。其中，对于各金属盐，使用时的浓度如下：硫酸锌22g/L(锌5g/L)、硫酸铝4.1g/L(铝0.65g/L)、硫酸镁4.5g/L(镁0.9g/L)。

在所得到的除垢处理水溶液中浸渍试验片，在35℃进行10分钟处理，由此进行除垢处理。对除垢处理后的试验片，与试验例1－2同样，评价孔蚀的有无和程度。

将试验的金属的组合和结果表示于表5。其中，在除垢处理后的试验片表面没有残留污垢。

表5

金属的组合	孔蚀评价
		Al	×
Mg	×
		Zn	×
Al、Mg	○
		Al、Zn	○
Mg、Zn	○
		Al、Mg、Zn	○

如表5所示可知：通过组合两性金属彼此或者组合两性金属和镁，即使在如本试验例这样较高的氯化物离子浓度(250mg/L)的情况下，也能够抑制孔蚀。

Claims

1.一种铝材的除垢处理剂，其特征在于，含有：

(A)硫酸；以及

(B)选自水溶性高分子和两性金属中的至少1种。

2.如权利要求1所述的除垢处理剂，其特征在于：

实质上不含硝酸。

3.如权利要求1或2所述的除垢处理剂，其特征在于：

所述水溶性高分子包含聚亚烷基二醇或聚氧化烯烷基醚。

4.如权利要求1～3中任一项所述的除垢处理剂，其特征在于：

所述水溶性高分子的平均分子量为200～20000。

5.如权利要求1～4中任一项所述的除垢处理剂，其特征在于：

所述两性金属包含选自锌、铝、锡和铅中的至少1种。

6.如权利要求1～5中任一项所述的除垢处理剂，其特征在于：

所述两性金属包含选自锌和铝中的至少1种。

7.如权利要求1～6中任一项所述的除垢处理剂，其特征在于：

还含有镁。

8.如权利要求1～7中任一项所述的除垢处理剂，其特征在于：

含有所述水溶性高分子和所述两性金属两者。

9.如权利要求1～8中任一项所述的除垢处理剂，其特征在于：

用于除去通过化学法表面处理产生的污垢。

10.一种铝材的除垢处理剂用添加剂，其特征在于：

含有选自水溶性高分子和两性金属中的至少1种。

11.一种铝材的除垢处理方法，其特征在于：

包括：利用权利要求1～9中任一项所述的除垢处理剂对表面具有污垢的铝材进行处理的工序。