CN111755235A - R-t-b系永久磁铁的制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种R‑T‑B系永久磁铁的制造方法,其包括:包覆工序,用包含重稀土元素和粘合剂的扩散材料片材(4)覆盖磁铁基材(2)的表面的至少一部分;加热工序,通过对覆盖磁铁基材(2)的表面的至少一部分的扩散材料片材(4)进行加热,使粘合剂软化;冷却工序,在加热工序后,通过冷却扩散材料片材(4),使粘合剂固化;和扩散工序,在冷却工序后,通过对扩散材料片材(4)和磁铁基材(2)进行加热,使重稀土元素向磁铁基材(2)内扩散,磁铁基材(2)包含稀土元素R、过渡金属元素T和硼,至少一部分的稀土元素R为钕,至少一部分的过渡金属元素T为铁。
Description
技术领域
本发明涉及R-T-B系永久磁铁的制造方法。
背景技术
含有稀土元素R(钕等)、过渡金属元素T(铁等)和硼B的R-T-B系永久磁铁具有优异的磁特性。作为表示R-T-B系永久磁铁的磁特性的指标,通常使用剩余磁通密度Br(剩余磁化)和矫顽力HcJ。
R-T-B系永久磁铁是新型永久磁铁。通过向新型永久磁铁施加与磁化方向相反的磁场,在构成永久磁铁的多个结晶颗粒(主相颗粒)的晶界附近容易产生磁化反转的核。永久磁铁的矫顽力会因该磁化反转的核而减小。另外,R-T-B系永久磁铁的矫顽力会随着温度的上升而减小。对于电动机或发电机等所使用的R-T-B系永久磁铁,要求即使在高温环境下也具有高的矫顽力。
为了提高R-T-B系永久磁铁的矫顽力,可向R-T-B系永久磁铁中添加镝等重稀土元素。通过添加重稀土元素,各向异性磁场提高,磁化反转核难以产生,因此,矫顽力增加。近年来,为了以更少量的重稀土元素得到高的矫顽力,利用了晶界扩散法。在晶界扩散法中,通过使重稀土元素从磁铁表面沿着晶界扩散,各向异性磁场在晶界附近容易局部增大,在晶界附近难以产生磁化反转的核,矫顽力增加。
例如,在国际公开第2016/093173号小册子所记载的R-T-B系永久磁铁的制造方法中,使用包含重稀土元素的化合物(氟化物和/或氟氧化物)和树脂成分的片材(成形体)。在国际公开第2016/093174号小册子所记载的R-T-B系永久磁铁的制造方法中,使用包含重稀土元素的氧化物和树脂成分的片材(成形体)。通过在片材配置在磁铁基材的表面的状态下,以烧结温度以下的温度对磁铁基材进行加热,片材中的重稀土元素会向烧结体内扩散。
发明内容
在包含重稀土元素的片材被配置在磁铁基材的表面的情况下,片材无法与磁铁基材的表面充分密合,在片材与磁铁基材的表面之间容易形成间隙。另外,伴随着重叠有片材的磁铁基材的处理,片材的位置会从规定的位置偏移、或片材会从磁铁基材的表面剥离。由于这些问题,片材中的重稀土元素难以均匀地向磁铁基材的表面扩散。其结果,R-T-B系永久磁铁的组成和磁特性会产生偏差,R-T-B系永久磁铁的矫顽力无法充分提高。上述问题在磁铁基材的表面为曲面的情况下尤为显著。
本发明是鉴于上述情况而做出的,其目的在于提供能够使重稀土元素均匀地向磁铁基材的内部扩散的R-T-B系永久磁铁的制造方法。
本发明的一个方面提供一种R-T-B系永久磁铁的制造方法,其包括:包覆工序,用包含重稀土元素和粘合剂的扩散材料片材覆盖磁铁基材的表面的至少一部分;加热工序,通过对覆盖磁铁基材的表面的至少一部分的扩散材料片材进行加热,使粘合剂软化;冷却工序,在加热工序后,通过冷却扩散材料片材,使粘合剂固化;和扩散工序,在冷却工序后,通过对扩散材料片材和磁铁基材进行加热,使重稀土元素向磁铁基材内扩散,磁铁基材包含稀土元素R、过渡金属元素T和硼,至少一部分的稀土元素R为钕,至少一部分的过渡金属元素T为铁。
也可以是,R-T-B系永久磁铁的制造方法还包括输送工序,在冷却工序后,将扩散材料片材和磁铁基材向加热炉内输送,在加热炉内实施扩散工序。
也可以是,在冷却工序中,一边冷却扩散材料片材,一边将扩散材料片材和磁铁基材向加热炉内输送,在加热炉内实施扩散工序。
也可以是,在加热工序中,通过对扩散材料片材和磁铁基材中的至少一者进行加压,使扩散材料片材和磁铁基材彼此密合。
也可以是,在冷却工序中,通过对扩散材料片材和磁铁基材中的至少一者进行加压,使扩散材料片材和磁铁基材彼此密合。
也可以是,使用包括膜和与膜重叠的扩散材料片材的层叠体,在包覆工序中,以扩散材料片材与磁铁基材的表面接触的方式,用层叠体覆盖磁铁基材的表面的至少一部分,在磁铁基材的表面的至少一部分被层叠体覆盖的状态下,实施加热工序和冷却工序。
也可以是,在冷却工序后,将膜从扩散材料片材剥离和除去,在除去膜后,实施扩散工序。
也可以是,在磁铁基材的表面的至少一部分被层叠体覆盖的状态下,进一步实施扩散工序。
也可以是,使用包括膜和与膜重叠的扩散材料片材的层叠体,扩散材料片材的第一表面是层叠体中不与膜接触的表面,扩散材料片材的第二表面是层叠体中与膜接触的表面,在包覆工序前,将膜从扩散材料片材剥离和除去,在包覆工序中,以第二表面与磁铁基材的表面接触的方式,用扩散材料片材覆盖磁铁基材的表面的至少一部分。
也可以是,使用包括膜和与膜重叠的扩散材料片材的层叠体,扩散材料片材的第一表面是层叠体中不与膜接触的表面,扩散材料片材的第二表面是层叠体中与膜接触的表面,在包覆工序前,将膜从扩散材料片材剥离和除去,在包覆工序中,以第一表面与磁铁基材的表面接触的方式,用扩散材料片材覆盖磁铁基材的表面的至少一部分。
采用本发明,能够提供能够使重稀土元素均匀地向磁铁基材的内部扩散的R-T-B系永久磁铁的制造方法。
附图说明
图1A、图1B和图1C表示本实施方式的R-T-B系永久磁铁的制造方法中的包覆工序、加热工序和冷却工序的概要。
图2A、图2B和图2C表示本实施方式的R-T-B系永久磁铁的制造方法中的包覆工序、加热工序和冷却工序的概要。
附图标记说明
2……磁铁基材,4……扩散材料片材,4a……扩散材料片材的第一表面,4b……扩散材料片材的第二表面,6……膜,8……层叠体。
具体实施方式
下面,参照附图对本发明的优选实施方式进行说明。在附图中,对相同的构成要素标注相同的附图标记。本发明并不限定于下述实施方式。下面所说的“永久磁铁”均指“R-T-B系永久磁铁”。
[原料合金的制备工序]
在原料合金的制备工序中,由包含构成永久磁铁的各元素的金属原料制作合金材。原料合金可以利用薄带连铸法、书型铸模法或离心铸造法制作。金属原料例如可以为稀土元素的单质(金属单质)、包含稀土元素的合金、纯铁、硼铁或包含它们的合金。称量这些金属原料,使得它们与想要的磁铁基材的组成一致。作为原料合金,可以制作组成不同的两种以上的合金。
原料合金至少包含稀土元素R、过渡金属元素T和硼(B)。
原料合金中包含的至少一部分的R为钕(Nd)。永久磁铁中,作为其它的R,还可以包含选自钪(Sc)、钇(Y)、镧(La)、铈(Ce)、镨(Pr)、钷(Pm)、钐(Sm)、铕(Eu)、钆(Gd)、铽(Tb)、镝(Dy)、钬(Ho)、铒(Er)、铥(Tm)、镱(Yb)和镥(Lu)中的至少一种。上述稀土元素中,钆(Gd)、铽(Tb)、镝(Dy)、钬(Ho)、铒(Er)、铥(Tm)、镱(Yb)和镥(Lu)为重稀土元素。上述稀土元素中,除重稀土元素以外的元素为轻稀土元素。原料合金可以包含Pr。原料合金也可以不包含Pr。原料合金可以包含Tb和Dy中的一者或两者。原料合金也可以不包含Tb和Dy中的一者或两者。
原料合金中包含的至少一部分的过渡金属元素T为铁(Fe)。T可以为Fe和钴(Co)。也可以是全部的T为Fe。也可以是全部的T为Fe和Co。原料合金还可以包含除Fe和Co以外的其它过渡金属元素。下面所说的T是指仅是Fe、或者Fe和Co。
原料合金可以除了包含R、T和B以外还包含其它元素。例如,原料合金中,作为其它元素,可以包含选自铜(Cu)、镓(Ga)、铝(Al)、锆(Zr)、锰(Mn)、碳(C)、氮(N)、氧(O)、钙(Ca)、镍(Ni)、硅(Si)、氯(Cl)、硫(S)和氟(F)中的至少一种。
[粉碎工序]
在粉碎工序中,可以通过在非氧化气氛中粉碎上述原料合金,来制备合金粉末。原料合金可以通过粗粉碎工序(coarse pulverizationstep)和微粉碎工序(finepulverization step)这两个阶段来粉碎。在粗粉碎工序中,可以使用例如捣碎机、颚式破碎机或布朗研磨机等粉碎方法。粗粉碎工序可以在不活泼气体气氛中进行。也可以是在使原料合金吸收氢后,将原料合金粉碎。即,作为粗粉碎工序,也可以进行氢吸收粉碎。在粗粉碎工序中,可以将原料合金粉碎至粒径为几百μm左右。在紧接着粗粉碎工序的微粉碎工序中,可以进一步将经过粗粉碎工序的原料合金粉碎至平均粒径为几μm。在微粉碎工序中,可以使用例如喷射粉碎机。也可以是仅通过一阶段的粉碎工序将原料合金粉碎。例如,也可以是仅进行微粉碎工序。在使用多种原料合金的情况下,可以在将各原料合金分别粉碎后,将各原料合金混合。合金粉末可以包含选自脂肪酸、脂肪酸酯和脂肪酸的金属盐(金属皂)中的至少一种润滑剂(粉碎助剂)。换言之,可以将原料合金与粉碎助剂一起粉碎。
[成形工序]
在成形工序中,可以通过将上述合金粉末在磁场中成形,得到包含沿着磁场取向的合金粉末的成形体。例如,可以通过一边对模具内的合金粉末施加磁场,一边利用模具对合金粉末进行加压,得到成形体。模具对合金粉末施加的压力可以为20MPa以上300MPa以下。对合金粉末施加的磁场的强度可以为950kA/m以上1600kA/m以下。
[烧结工序]
在烧结工序(sintering step)中,可以通过在真空或不活泼气体气氛中对上述成形体进行烧结,得到烧结体。烧结条件可以根据作为目标的永久磁铁的组成、原料合金的粉碎方法和粒度等适当地设定。烧结温度例如可以为1000℃以上1200℃以下。烧结时间可以为1小时以上20小时以下。
[时效处理工序]
在时效处理工序(aging step)中,可以在比烧结温度低的温度对烧结体进行加热。在时效处理工序中,可以在真空或不活泼气体气氛中对烧结体进行加热。也可以是后述的扩散工序兼作时效处理工序。在该情况下,可以不在扩散工序以外另外实施时效处理工序。时效处理工序可以包括第一时效处理和紧接着第一时效处理的第二时效处理。第一时效处理中,可以在700℃以上900℃以下的温度对烧结体进行加热。第一时效处理的时间可以为1小时以上10小时以下。第二时效处理中,可以在500℃以上700℃以下的温度对烧结体进行加热。第二时效处理的时间可以为1小时以上10小时以下。
通过上述工序,能够得到烧结体。烧结体是在后述的包覆工序、加热工序、冷却工序和扩散工序中使用的磁铁基材。磁铁基材包括彼此烧结的多个主相颗粒。主相颗粒至少包含Nd、Fe和B。主相颗粒可以包含R2T14B的结晶,至少一部分的R可以为Nd,至少一部分的T可以为Fe。也可以是主相颗粒的一部分或整体仅由R2T14B的结晶(单晶或多晶)构成。R2T14B例如可以为Nd2Fe14B。Nd2Fe14B中的Nd的一部分可以由Pr、Tb和Dy中的至少一种置换。Nd2Fe14B中的Fe的一部分可以由Co置换。主相颗粒可以除了包含R、T和B以外还包含上述元素(原料合金中可包含的元素)。磁铁基材包括形成在主相颗粒之间的晶界。磁铁基材包括多个晶界三重点作为晶界。晶界三重点是被至少三个主相颗粒包围的晶界。磁铁基材也包括多个二颗粒晶界作为晶界。二颗粒晶界是位于相邻的两个主相颗粒之间的晶界。晶界可以至少包含Nd,晶界中的Nd的含量可以大于主相颗粒中的Nd的含量。即,晶界可以包含富Nd相。晶界可以除了包含Nd以外还包含Fe和B中的至少一种。
主相颗粒的平均粒径没有特别限定,例如可以为1.0μm以上10.0μm以下。磁铁基材中的主相颗粒的体积的比例的合计值没有特别限定,例如可以为75体积%以上小于100体积%。
在下述工序之前,可以将磁铁基材加工成规定的尺寸和形状。另外,可以以清洗磁铁基材的表面为目的,进行酸清洗等磁铁基材的前处理。
[包覆工序、加热工序、冷却工序和扩散工序]
本实施方式的R-T-B系永久磁铁的制造方法,除了包括上述工序以外,还包括包覆工序、加热工序、冷却工序和扩散工序。下面,参照附图对各工序进行说明。图1A和图2A表示扩散材料片材4和膜6各自的截面,这些截面垂直于扩散材料片材4和膜6各自的表面。图1B和图1C表示扩散材料片材4、膜6和磁铁基材2各自的截面,这些截面垂直于扩散材料片材4、膜6和磁铁基材2各自的表面。图2B和图2C表示扩散材料片材4和磁铁基材2各自的截面,这些截面垂直于扩散材料片材4和磁铁基材2各自的表面。
在包覆工序中,用扩散材料片材4覆盖磁铁基材2的表面的至少一部分。扩散材料片材4至少包含重稀土元素和粘合剂。重稀土元素例如可以为Tb和Dy中的至少一种元素。如上所述,磁铁基材2包含稀土元素R、过渡金属元素T和硼。至少一部分的稀土元素R为钕,至少一部分的过渡金属元素T为铁。
可以是用扩散材料片材4仅覆盖磁铁基材2的表面的一部分。也可以是用扩散材料片材4覆盖磁铁基材2的表面整体。在磁铁基材2具有多个面的情况下,可以是用扩散材料片材4仅覆盖磁铁基材2的一个面。在磁铁基材2具有多个面的情况下,也可以是用扩散材料片材4覆盖磁铁基材2的多个面。例如,可以是用扩散材料片材4覆盖磁铁基材2的主面和主面的背面这两个面。在磁铁基材2具有多个面的情况下,也可以是用扩散材料片材4覆盖磁铁基材2的所有面。
根据磁铁的形状或用途的不同,有时需要特意地使重稀土元素不均匀地向磁铁基材2内扩散。这是因为,根据磁铁的形状或用途的不同,磁铁的磁化容易在局部反转,在磁化容易反转的部位需要比其它部位高的矫顽力,磁化容易反转的部位需要包含大量的重稀土元素。例如,在磁化方向上的厚度比其它部位小的部位,有反磁场在局部强的趋势。其结果,在磁化方向上的厚度小的部位,容易发生磁化反转。另外,根据磁铁的用途的不同,会因外部磁场的变化而在磁铁内产生涡电流。由于与涡电流相伴的焦耳热所引起的温度上升,存在磁铁的矫顽力在局部降低的情况。根据上述理由,可以使重稀土元素可靠地向磁化容易反转的部位扩散,控制磁铁中的重稀土元素的浓度分布。因此,在包覆工序中,可以使扩散材料片材4仅附着在磁铁基材2的表面中的特定部分。其结果,在扩散工序中,能够使重稀土元素可靠地向容易发生磁化反转的部位(容易发生退磁的部位)扩散。
可以使包覆磁铁基材2的表面中需要高矫顽力的部分的扩散材料片材4的厚度比包覆其它部分的扩散材料片材4的厚度更厚。可以通过反复进行包覆工序、加热工序和冷却工序,使多个扩散材料片材4在需要高矫顽力的部分重叠。即,可以使磁铁基材2的表面中需要高矫顽力的部分的重稀土元素的附着量比其以外的部分的重稀土元素的附着量更多。
在加热工序中,通过对覆盖磁铁基材2的表面的扩散材料片材4进行加热,使粘合剂软化。由于粘合剂的软化,扩散材料片材4沿着磁铁基材2的表面的凹部和凸部发生变形,扩散材料片材4与磁铁基材2的表面密合。即,由于粘合剂的软化,扩散材料片材4与磁铁基材2的表面之间的间隙减小。在加热工序中,可以是对磁铁基材2和扩散材料片材4两者进行加热。也可以是仅对磁铁基材2和扩散材料片材4中的一者进行加热。加热方法可以是任意的。在加热工序中的扩散材料片材4的温度过高的情况下,扩散材料片材4的形状保持力不足,而且冷却工序的效率降低。因此,最好扩散材料片材4的温度不过高,存在扩散材料片材4的最佳温度。即,可以根据粘合剂的组成和软化温度以及扩散材料片材4的形状保持力,来调整加热工序中的扩散材料片材4的温度。加热工序中的扩散材料片材4的温度例如可以为60℃以上250℃以下。
在加热工序中,可以通过对扩散材料片材4和磁铁基材2中的至少一者进行加压,使扩散材料片材4和磁铁基材2彼此密合。即,可以与扩散材料片材4的加热并行地对扩散材料片材4和磁铁基材2中的至少一者进行加压。通过加压,扩散材料片材4与磁铁基材2的表面进一步密合。可以是仅对扩散材料片材4进行加压。也可以是仅对磁铁基材2进行加压。还可以是通过利用加压单元夹持扩散材料片材4和磁铁基材2,对扩散材料片材4和磁铁基材2两者进行加压。也可以是在将扩散材料片材4设置在平面上之后,将磁铁基材2向扩散材料片材4按压。在加热工序中对扩散材料片材4施加的压力例如可以为0.05MPa以上10MPa以下。
在冷却工序中,通过对经过加热工序的扩散材料片材4进行冷却,使粘合剂固化。由于粘合剂的固化,在扩散材料片材4与磁铁基材2的表面密合的状态下,扩散材料片材4凝固。即,通过冷却工序,使扩散材料片材4粘接在磁铁基材2的表面,使扩散材料片材4和磁铁基材2一体化。其结果,扩散材料片材4被固定在磁铁基材2的表面,在冷却工序以后能够抑制扩散材料片材4从磁铁基材2的表面剥离。而且在冷却工序以后能够抑制磁铁基材2的表面的扩散材料片材4的位置偏移。在冷却工序中,可以在室温下冷却扩散材料片材4。
在冷却工序中,可以通过对扩散材料片材4和磁铁基材2中的至少一者进行加压,使扩散材料片材4和磁铁基材2彼此密合。即,可以与扩散材料片材4的冷却并行地对扩散材料片材4和磁铁基材2中的至少一者进行加压。通过加压,扩散材料片材4与磁铁基材2的表面进一步密合。可以是仅对扩散材料片材4进行加压。也可以是仅对磁铁基材2进行加压。还可以是通过利用加压单元夹持扩散材料片材4和磁铁基材2,对扩散材料片材4和磁铁基材2两者进行加压。也可以是在将扩散材料片材4设置在平面上之后,将磁铁基材2向扩散材料片材4按压。
可以是仅在加热工序和冷却工序中的任一个工序中,实施上述的加压。也可以是在加热工序和冷却工序这两个工序中,实施上述的加压。
在上述的包覆工序中用扩散材料片材4覆盖磁铁基材2的一面,但也可以是用扩散材料片材4覆盖磁铁基材2的两面。例如,可以是用扩散材料片材4覆盖磁铁基材2的相对的两面。可以是在用扩散材料片材4覆盖磁铁基材2的不同的两面之后,实施上述的加热工序和冷却工序。也可以是在磁铁基材2的一面被扩散材料片材4覆盖的状态下实施加热工序和冷却工序之后,进一步用扩散材料片材4覆盖磁铁基材2的另一面。可以在用扩散材料片材4覆盖磁铁基材2的另一面之后,再次实施加热工序和冷却工序。在用扩散材料片材4覆盖磁铁基材2的多个面的情况下,可以是对磁铁基材2的每一面实施包覆工序、加热工序和冷却工序。也可以是在用扩散材料片材4同时覆盖磁铁基材2的两个以上的面之后,实施加热工序和冷却工序。
在扩散工序中,通过对经过冷却工序的扩散材料片材4和磁铁基材2进行加热,使重稀土元素向磁铁基材2内扩散。通过对扩散材料片材4和磁铁基材2进行加热,扩散材料中的重稀土元素从磁铁基材2的表面向磁铁基材2的内部扩散。在磁铁基材2的内部,重稀土元素经由晶界向主相颗粒的表面附近扩散。在主相颗粒的表面附近,一部分的轻稀土元素(Nd等)被重稀土元素置换。重稀土元素局部存在于主相颗粒的表面附近和晶界,从而,各向异性磁场在晶界附近局部地增大,在晶界附近难以产生磁化反转的核。其结果,永久磁铁的矫顽力增加。
假如不实施上述的加热工序,则扩散材料片材4难以与磁铁基材2的表面密合。即,容易形成扩散材料片材4与磁铁基材2的表面之间的间隙。因此,在不经过加热工序而实施扩散工序的情况下,扩散材料片材4中的重稀土元素难以均匀地向磁铁基材2的表面扩散。即,在扩散材料片材4的表面中不与磁铁基材2的表面接触的部分,重稀土元素难以从扩散材料片材4向磁铁基材2扩散。其结果,重稀土元素无法充分地向磁铁基材2的内部扩散,R-T-B系永久磁铁的组成和磁特性产生偏差,R-T-B系永久磁铁的矫顽力无法充分提高。而在本实施方式中实施加热工序,因此,扩散材料片材4与磁铁基材2的表面均匀地密合。因此,在扩散工序中,扩散材料片材4中的重稀土元素容易均匀地向磁铁基材2的表面扩散。其结果,重稀土元素充分地向磁铁基材2的主相颗粒的表面附近和晶界扩散,能够抑制R-T-B系永久磁铁的组成和磁特性的偏差,R-T-B系永久磁铁的矫顽力充分地增加。
假如在加热工序后不实施冷却工序,则扩散材料片材4无法被固定在磁铁基材2的表面。其结果,伴随着加热工序后的扩散材料片材4和磁铁基材2的处理,扩散材料片材4的位置会从规定的位置偏移、或扩散材料片材4会从磁铁基材2的表面剥离。由于这些问题,在扩散工序中,扩散材料片材4中的重稀土元素难以均匀地向磁铁基材2的表面扩散。其结果,R-T-B系永久磁铁的组成和磁特性产生偏差,R-T-B系永久磁铁的矫顽力无法充分提高。而在本实施方式中实施冷却工序,因此,在扩散材料片材4与磁铁基材2的表面密合的状态下,扩散材料片材4被固定在磁铁基材2的表面。因此,能够抑制冷却工序以后的扩散材料片材4的位置偏移和剥离。即,即使在扩散工序中扩散材料片材4也在规定的位置与磁铁基材2的表面均匀地密合。其结果,扩散材料片材4中的重稀土元素容易均匀地向磁铁基材2的表面扩散,能够抑制R-T-B系永久磁铁的组成和磁特性的偏差,R-T-B系永久磁铁的矫顽力充分地增加。
如上所述,在不实施加热工序的情况下,扩散材料片材4根本无法与磁铁基材2无间隙地一体化,因此无法表现出冷却工序的效果。通过在利用加热工序使扩散材料片材4与磁铁基材2之间的间隙减小之后进行冷却工序,能够将扩散材料片材4无间隙地固定在磁铁基材2的表面。即,通过加热工序与冷却工序的相互作用,才能够将扩散材料片材4无间隙地固定在磁铁基材2的表面。但是,只要能得到本发明的效果,也可以是扩散材料片材4不与磁铁基材2的表面完全密合。也就是说,只要能得到本发明的效果,也可以是在扩散材料片材4与磁铁基材2的表面之间形成微小的间隙。
在扩散工序中,可以在加热炉内对扩散材料片材4和磁铁基材2进行加热。为了抑制扩散工序中的磁铁基材2的氧化,在将粘接有扩散材料片材4的磁铁基材2设置在加热炉内之后,在加热之前,加热炉内的气氛成为真空或氩(Ar)等不活泼气体。由于与加热炉内的气氛的控制相伴的排气和/或不活泼气体的导入,加热炉内的气压发生变化。伴随着气压的变化,加热炉内产生气流。假如不实施上述的加热工序和冷却工序,则由于加热炉内产生的气流的影响,扩散材料片材4容易从磁铁基材2的表面剥离。但是,在本实施方式中在扩散工序前实施加热工序和冷却工序,因此,扩散材料片材4均匀地粘接在磁铁基材2的表面。其结果,能够抑制与气流的产生相伴的扩散材料片材4的剥离,扩散材料片材4中的重稀土元素容易均匀地向磁铁基材2的表面扩散。
扩散工序中的加热炉内的气氛的温度例如可以为800℃以上950℃以下。在上述温度下对扩散材料片材4和磁铁基材2进行加热的时间可以为1小时以上50小时以下。可以在上述温度下对扩散材料片材和磁铁基材进行加热之前,在比上述温度低的温度对扩散材料片材4进行加热,烧掉扩散材料片材4中的粘合剂。即,作为扩散工序的前一阶段,可以进行脱粘合剂处理。
永久磁铁的制造方法可以还包括输送工序,在冷却工序后,将粘接有扩散材料片材4的磁铁基材2向加热炉内输送。在输送的过程中,可以将粘接有扩散材料片材4的磁铁基材2暂时保管在仓库内。在输送工序中有可能由于扩散材料片材4与其它物体接触而导致力作用于扩散材料片材4。另外,也有可能由于输送时的振动和/或加速而导致力作用于扩散材料片材4。假如不实施冷却工序,则由于在输送工序的中途力作用于扩散材料片材4,扩散材料片材4的位置会从规定的位置偏移、或扩散材料片材4会从磁铁基材2的表面剥离。但是,通过在输送工序前实施加热工序和冷却工序,能够抑制输送工序中的扩散材料片材4的位置偏移和剥离。基于同样的理由,在冷却工序中,可以一边冷却扩散材料片材4,一边将扩散材料片材4和磁铁基材2向加热炉内输送。即,可以是输送工序兼作冷却工序。
扩散材料片材4可以通过如下方法制作。下面记载的扩散材料为至少包含重稀土元素的化学物质。扩散材料可以为颗粒或粉末。扩散材料的粒径可以通过与上述的粗粉碎工序和微粉碎工序同样的手段进行调整。扩散材料的中位径D50例如可以为3μm以上15μm以下。
通过将粘合剂和有机溶剂以规定比例搅拌和混合,将粘合剂溶解,来制备漆。粘合剂可以为热塑性树脂。粘合剂例如可以为选自乙基纤维素树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚乙烯醇缩乙醛树脂和丙烯酸树脂中的至少一种化合物。可以使用多种粘合剂。有机溶剂只要是能够溶解粘合剂的液体就没有限定。有机溶剂例如可以为选自乙醇、丁醇、辛醇、甲乙酮、二甲苯、丁基卡必醇、松油醇和二氢松油醇中的一种化合物。可以使用多种有机溶剂。在将扩散材料添加在漆中之后,将它们混合。根据需要,可以进一步向漆中添加增塑剂和分散剂中的一者或两者。接着,进行扩散材料和漆的混合物的分散处理。分散处理的手段可以为自转公转搅拌机、三辊机、高压均质机或超声波均质机。可以使用多种手段进行分散处理。
扩散材料例如可以为重稀土元素的单质、包含重稀土元素的合金或包含重稀土元素的化合物。包含重稀土元素的化合物例如可以为选自氢化物、氟化物和氧化物中的至少一种。重稀土元素的单质可以为Tb的单质和Dy的单质中的一者或两者。包含重稀土元素的合金可以为选自由Tb和Fe构成的合金、由Dy和Fe构成的合金、以及由Tb、Dy和Fe构成的合金中的至少一种。重稀土元素的氢化物例如可以为选自TbH2、TbH3、由Tb和Fe构成的合金的氢化物、DyH2、DyH3、由Dy和Fe构成的合金的氢化物、以及由Tb、Dy和Fe构成的合金的氢化物中的至少一种。扩散材料可以还包含选自Nd、Pr和Cu中的至少一种元素。例如,扩散材料可以还包含选自Nd的单质、Pr的单质、包含Nd和Pr的合金、NdH2、NdH3、PrH2、PrH3、包含Nd和Pr的合金的氢化物、Cu的单质、包含Cu的合金、CuH、Cu2O和CuO中的至少一种。
通过上述方法,制备出包含扩散材料、粘合剂和有机溶剂的膏。膏中的扩散材料的含量可以考虑磁铁基材2的厚度、永久磁铁的设计上的组成和膏的涂敷性而适当地调整。膏中的粘合剂的含量可以考虑膏的涂敷性和扩散材料片材4与磁铁基材2的密合性和/或粘接性而适当地调整。可以通过对膏进行过滤,将粗大粒和凝聚物从膏中除去。膏中的扩散材料的含量例如可以为40质量%以上85质量%以下。膏中的粘合剂的含量例如可以为1质量%以上15质量%以下。膏中的有机溶剂的含量例如可以为10质量%以上59质量%以下。
通过将膏涂敷在膜6的表面,在膜6的表面形成涂膜。优选涂膜的厚度一定。膜6例如可以由聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚四氟乙烯(PTFE)或石墨构成。膜6的涂敷膏的表面可以预先用脱模剂(release agent)覆盖。膏的涂敷方法可以为将涂膜的厚度控制为任意值且将涂膜的厚度控制为一定的方法。膏的涂敷方法例如可以为涂敷机、刮刀、刮条涂敷机、喷墨涂敷机、辊涂机或模涂机。
通过对上述涂膜进行干燥将有机溶剂从涂膜除去,可得到图1A所示的扩散材料片材4。即,可得到包括膜6和与膜6重叠的扩散材料片材4的层叠体8。扩散材料片材4的第一表面4a是层叠体8中不与膜6接触的表面。扩散材料片材4的第二表面4b是层叠体8中与膜6接触的表面。涂膜的干燥方法例如可以为红外线加热、热风干燥或减压干燥。干燥条件可以根据涂膜中包含的有机溶剂的蒸气压来设定。有机溶剂可以残留在扩散材料片材4中。扩散材料片材4的厚度例如可以为5μm以上200μm以下。磁铁基材2的厚度远远大于扩散材料片材4的厚度。磁铁基材2的厚度例如可以为0.5mm以上25mm以下。
可以在包覆工序中使用层叠体8。可以如图1B所示的那样,在包覆工序中,以扩散材料片材4与磁铁基材2的表面接触的方式,用层叠体8覆盖磁铁基材2的表面的至少一部分。也可以是用层叠体8覆盖磁铁基材2的表面整体。可以在磁铁基材2的表面被层叠体8覆盖的状态下,实施加热工序和冷却工序。即,可以通过使用层叠体8的加热工序和冷却工序,将扩散材料片材4从膜6转印到磁铁基材2的表面。当在包覆工序中使用层叠体8时,可以在加热工序和冷却工序中的至少任一工序中隔着膜6对扩散材料片材4进行加压。在磁铁基材2具有多个面的情况下,可以是用层叠体8仅覆盖磁铁基材2的一个面。在磁铁基材2具有多个面的情况下,也可以是用层叠体8覆盖磁铁基材2的多个面。例如,可以是用层叠体8覆盖磁铁基材2的主面和主面的背面这两个面。在磁铁基材2具有多个面的情况下,也可以是用层叠体8覆盖磁铁基材2的所有面。
可以如图1C所示的那样,在冷却工序后,将膜6从扩散材料片材4剥离和除去。在冷却工序后,扩散材料片材4被粘接在磁铁基材2的表面,扩散材料片材4和磁铁基材2一体化。因此,通过在冷却工序后将膜6从扩散材料片材4剥离,难以发生扩散材料片材4的一部分残留在被剥离的膜6的表面的情况。即,能够抑制与膜6的剥离相伴的扩散材料片材4的损坏。而且,通过在冷却工序后将膜6从扩散材料片材4剥离,能够抑制扩散材料片材4与膜6一起从磁铁基材2的表面剥离。
在上述的包覆工序中用层叠体8覆盖磁铁基材2的一面,但也可以是用层叠体8覆盖磁铁基材2的两面。例如,可以是用层叠体8覆盖磁铁基材2的相对的两面。可以是在用层叠体8覆盖磁铁基材2的不同的两面之后,实施上述的加热工序和冷却工序。也可以是在磁铁基材2的一面被层叠体8覆盖的状态下实施加热工序和冷却工序之后,进一步用层叠体8覆盖磁铁基材2的另一面。可以在用层叠体8覆盖磁铁基材2的另一面之后,再次实施加热工序和冷却工序。在用层叠体8覆盖磁铁基材2的多个面的情况下,可以是对磁铁基材2的每一面实施包覆工序、加热工序和冷却工序。也可以是在用层叠体8同时覆盖磁铁基材2的两个以上的面之后,实施加热工序和冷却工序。
可以在除去膜6之后实施扩散工序。通过在扩散工序前除去膜6,在扩散工序中不会在磁铁基材2的表面形成膜6的碳化物。其结果,源自膜6的碳化物不会与扩散材料反应,重稀土元素的扩散不会被阻碍,因此,永久磁铁的矫顽力能够充分地提高。而且,源自膜6的碳不会在扩散工序中侵入到磁铁基材2内,能够抑制由含有过量的碳导致的永久磁铁的磁特性的劣化。但是,也可以是在磁铁基材2的表面的至少一部分被层叠体8覆盖的状态下,实施扩散工序。即,也可以不除去膜6而实施扩散工序。例如,在膜6由石墨构成的情况下,石墨容易因扩散工序中的加热而烧掉,因此可以不除去膜6而实施扩散工序。
在包覆工序中使用层叠体8的情况下,可以在包覆工序前,将层叠体8的尺寸和形状调整成与磁铁基材2的表面的尺寸和形状一致。也可以是在包覆工序后(加热工序前),将层叠体8的尺寸和形状调整成与磁铁基材2的表面的尺寸和形状一致。可以是在用一个层叠体8覆盖多个磁铁基材2的表面之后,将层叠体8分割。也可以是通过层叠体8的切断加工来调整层叠体8的尺寸和形状。
可以如图2A所示的那样,在包覆工序前,将膜6从扩散材料片材4剥离和除去。可以如图2B所示的那样,在包覆工序中,以扩散材料片材4的第二表面4b与磁铁基材2的表面接触的方式,用扩散材料片材4覆盖磁铁基材2的表面的至少一部分。在由膏形成涂膜的过程中,存在扩散材料因自重而向膜6的表面沉降的趋势。其结果,扩散材料片材4中的扩散材料容易偏置存在于与膜6接触的第二表面4b侧。与膜6接触的第二表面4b比第一表面4a平坦。因此,通过将扩散材料片材4的第二表面4b与磁铁基材2的表面重叠,容易使扩散材料片材4中的扩散材料沿着磁铁基材2的表面均匀地配置,扩散材料片材4容易与磁铁基材2的表面均匀地密合。其结果,在扩散工序中,扩散材料容易均匀地向磁铁基材2的表面扩散。也可以如图2C所示的那样,在包覆工序中,以第一表面4a与磁铁基材2的表面接触的方式,用扩散材料片材4覆盖磁铁基材2的表面的至少一部分。
在包覆工序前将膜6从扩散材料片材4剥离和除去的情况下,可以是在将层叠体8的尺寸和形状调整成与磁铁基材2的表面的尺寸和形状一致后,将膜6从扩散材料片材4剥离和除去。也可以是在将扩散材料片材4的尺寸和形状调整成与磁铁基材2的表面的尺寸和形状一致后,将扩散材料片材4从膜6剥离。可以是在将膜6从扩散材料片材4剥离和除去后,将扩散材料片材4的尺寸和形状调整成与磁铁基材2的表面的尺寸和形状一致。也可以是在包覆工序后(加热工序前),将扩散材料片材4的尺寸和形状调整成与磁铁基材2的表面的尺寸和形状一致。可以是在用一个扩散材料片材4覆盖多个磁铁基材2的表面之后,将扩散材料片材4分割。也可以是通过扩散材料片材4的切断加工来调整扩散材料片材4的尺寸和形状。
在层叠体8或扩散材料片材4的处理中,可以使用通过吸引或磁力使层叠体8或扩散材料片材4吸附/解吸的手段。根据需要,也可以是将扩散材料片材4从膜6转印到另一膜上。
可以用包含扩散材料的涂膜覆盖磁铁基材2的所有面。例如,通过将磁铁基材2整体浸渍在上述膏中,能够将磁铁基材2的所有面用涂膜覆盖。但是,通过浸渍形成的涂膜受到重力的影响等,因此,涂膜的厚度难以变得均匀。另外,在将磁铁基材2浸渍在膏中的情况下,难以用涂膜仅覆盖磁铁基材2的表面的一部分。为了解决这些问题,扩散材料片材4是有用的。例如,可以在以扩散材料片材4的形状与磁铁基材2的表面的任意部分的形状一致的方式对扩散材料片材4进行加工后,用扩散材料片材4覆盖磁铁基材2的表面的任意部分,从而用厚度均匀的扩散材料片材4仅覆盖磁铁基材2的需要的部分。
磁铁基材2的被扩散材料片材4覆盖的表面可以为曲面。在以往的永久磁铁的制造方法中,扩散材料片材4难以与曲面均匀地密合,在曲面上扩散材料片材4的位置容易偏移,扩散材料片材4容易从曲面剥离。而在本实施方式中实施加热工序和冷却工序,因此,扩散材料片材4容易与曲面均匀地密合,容易抑制曲面上的扩散材料片材4的位置偏移,容易抑制扩散材料片材4从曲面剥离。
[热处理工序]
经过扩散工序的磁铁基材2可以作为永久磁铁的完成品使用。也可以在扩散工序后,进行热处理工序。在热处理工序中,可以在真空或不活泼气体气氛中对磁铁基材2进行加热。在热处理工序中,可以在450℃以上600℃以下的温度对磁铁基材2进行加热。在热处理工序中,可以在上述温度对磁铁基材2加热1小时以上10小时以下。通过热处理工序,永久磁铁的磁特性(特别是矫顽力)容易提高。
可以在扩散工序或热处理工序后,通过切削和研磨等加工方法来调整磁铁基材2的尺寸和形状。
通过上述方法,永久磁铁完成。
磁铁基材和永久磁铁各自的组成例如可以通过能量散射型X射线光谱(EDS)法、X射线荧光(XRF)分析法、高频电感耦合等离子体(ICP)发射光谱分析法、惰性气体熔融-非分散型红外线吸收法、氧气流中燃烧-红外吸收法和惰性气体熔融-导热系数法等分析方法来确定。
永久磁铁的尺寸和形状根据永久磁铁的用途而有多种,没有特别限定。永久磁铁的形状例如可以为长方体、立方体、矩形(板)、多角柱、弧段、扇、环状扇形(annularsector)、球、圆板、圆柱、环或胶囊。永久磁铁的截面的形状例如可以为多边形、圆弧(圆弦)、弓状、拱或圆。磁铁基材2的尺寸和形状与永久磁铁同样也可以有多种。
永久磁铁可以用于混合动力汽车、电动汽车、硬盘驱动器、磁共振成像设备(MRI)、智能手机、数码相机、平板TV、扫描仪、空调、热泵、冰箱、吸尘器、洗衣烘干机、电梯和风力发电机等各种领域。永久磁铁可以用作构成电动机、发电机或致动器的材料。
本发明并不限于上述实施方式。例如,扩散工序中使用的磁铁基材可以不是烧结体而是热加工磁铁。热加工磁铁可以通过如下的制法制作。
热加工磁铁的原料可以为与用于制作烧结体的原料合金相同的合金。通过将该合金熔融,进而快速冷却,可得到由合金构成的薄带。通过将薄带粉碎,可得到片状的合金粉末。通过对合金粉末进行冷压(室温下的成形),可得到成形体。在对成形体进行预热后,通过对成形体进行热压,可得到各向同性磁铁。通过对各向同性磁铁进行热塑性加工,可得到各向异性磁铁。通过对各向异性磁铁进行时效处理,可得到由热加工磁铁构成的磁铁基材。由热加工磁铁构成的磁铁基材与上述烧结体同样,包含相互粘结的多个主相颗粒。
产业上的可利用性
根据本发明的R-T-B永久磁铁的制造方法,能够得到可应用于混合动力汽车或电动汽车中搭载的电动机或发电机的R-T-B永久磁铁。
Claims (10)
1.一种R-T-B系永久磁铁的制造方法,其特征在于,包括:
包覆工序,用包含重稀土元素和粘合剂的扩散材料片材覆盖磁铁基材的表面的至少一部分;
加热工序,通过对覆盖所述磁铁基材的表面的至少一部分的所述扩散材料片材进行加热,使所述粘合剂软化;
冷却工序,在所述加热工序后,通过冷却所述扩散材料片材,使所述粘合剂固化;和
扩散工序,在所述冷却工序后,通过对所述扩散材料片材和所述磁铁基材进行加热,使所述重稀土元素向所述磁铁基材内扩散,
所述磁铁基材包含稀土元素R、过渡金属元素T和硼,
至少一部分的所述稀土元素R为钕,
至少一部分的所述过渡金属元素T为铁。
2.根据权利要求1所述的R-T-B系永久磁铁的制造方法,其特征在于:
还包括输送工序,在所述冷却工序后,将所述扩散材料片材和所述磁铁基材向加热炉内输送,
在所述加热炉内实施所述扩散工序。
3.根据权利要求1所述的R-T-B系永久磁铁的制造方法,其特征在于:
在所述冷却工序中,一边冷却所述扩散材料片材,一边将所述扩散材料片材和所述磁铁基材向加热炉内输送,
在所述加热炉内实施所述扩散工序。
4.根据权利要求1所述的R-T-B系永久磁铁的制造方法,其特征在于:
在所述加热工序中,通过对所述扩散材料片材和所述磁铁基材中的至少一者进行加压,使所述扩散材料片材和所述磁铁基材彼此密合。
5.根据权利要求1所述的R-T-B系永久磁铁的制造方法,其特征在于:
在所述冷却工序中,通过对所述扩散材料片材和所述磁铁基材中的至少一者进行加压,使所述扩散材料片材和所述磁铁基材彼此密合。
6.根据权利要求1所述的R-T-B系永久磁铁的制造方法,其特征在于:
使用包括膜和与所述膜重叠的所述扩散材料片材的层叠体,
在所述包覆工序中,以所述扩散材料片材与所述磁铁基材的表面接触的方式,用所述层叠体覆盖所述磁铁基材的表面的至少一部分,
在所述磁铁基材的表面的至少一部分被所述层叠体覆盖的状态下,实施所述加热工序和所述冷却工序。
7.根据权利要求6所述的R-T-B系永久磁铁的制造方法,其特征在于:
在所述冷却工序后,将所述膜从所述扩散材料片材剥离和除去,
在除去所述膜后,实施所述扩散工序。
8.根据权利要求6所述的R-T-B系永久磁铁的制造方法,其特征在于:
在所述磁铁基材的表面的至少一部分被所述层叠体覆盖的状态下,进一步实施所述扩散工序。
9.根据权利要求1所述的R-T-B系永久磁铁的制造方法,其特征在于:
使用包括膜和与所述膜重叠的所述扩散材料片材的层叠体,
所述扩散材料片材的第一表面是所述层叠体中不与所述膜接触的表面,
所述扩散材料片材的第二表面是所述层叠体中与所述膜接触的表面,
在所述包覆工序前,将所述膜从所述扩散材料片材剥离和除去,
在所述包覆工序中,以所述第二表面与所述磁铁基材的表面接触的方式,用所述扩散材料片材覆盖所述磁铁基材的表面的至少一部分。
10.根据权利要求1所述的R-T-B系永久磁铁的制造方法,其特征在于:
使用包括膜和与所述膜重叠的所述扩散材料片材的层叠体,
所述扩散材料片材的第一表面是所述层叠体中不与所述膜接触的表面,
所述扩散材料片材的第二表面是所述层叠体中与所述膜接触的表面,
在所述包覆工序前,将所述膜从所述扩散材料片材剥离和除去,
在所述包覆工序中,以所述第一表面与所述磁铁基材的表面接触的方式,用所述扩散材料片材覆盖所述磁铁基材的表面的至少一部分。
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Legal Events
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
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Application publication date: 20201009 |