JP7259651B2 - 希土類系永久磁石の製造方法、及び希土類系永久磁石の製造装置 - Google Patents

Description

本発明は、希土類系永久磁石の製造方法、及び希土類系永久磁石の製造装置に関する。

希土類元素Ｒ（ネオジム等）と、遷移金属元素Ｔ（鉄等）と、ホウ素Ｂとを含有するＲ‐Ｔ‐Ｂ系永久磁石は、優れた磁気特性を有する。Ｒ‐Ｔ‐Ｂ系永久磁石の磁気特性を表す指標としては、一般的に、残留磁束密度Ｂｒ（残留磁化）及び保磁力ＨｃＪが用いられる。

Ｒ‐Ｔ‐Ｂ系永久磁石は、ニュークリエーション型の永久磁石である。磁化方向と反対の磁場がニュークリエーション型の永久磁石へ印加されることにより、永久磁石を構成する多数の結晶粒子（主相粒子）の粒界近傍において磁化反転の核が発生し易い。この磁化反転の核により、永久磁石の保磁力が減少する。またＲ‐Ｔ‐Ｂ系永久磁石の保磁力は、温度の上昇に伴って減少する。モータ又は発電機等に使用されるＲ‐Ｔ‐Ｂ系永久磁石には、高温の環境下においても高い保磁力を有することが要求される。

Ｒ‐Ｔ‐Ｂ系永久磁石の保磁力を向上させるために、ジスプロシウム等の重希土類元素がＲ‐Ｔ‐Ｂ系永久磁石へ添加される。重希土類元素の添加により異方性磁界が向上し、磁化反転核が発生し難くなるので、保磁力が増加する。近年では、より少ない量の重希土類元素で高い保磁力を得るために、粒界拡散法が利用されている。粒界拡散法では、磁石表面から、重希土類元素を粒界に沿って拡散させる。その結果、異方性磁界が粒界近傍において局所的に大きくなり易く、磁化反転の核が粒界近傍において発生し難くなり、保磁力が増加する。

例えば、下記特許文献１に記載のＲ‐Ｔ‐Ｂ系永久磁石の製造方法では、重希土類元素及び有機溶剤を含む塗料が、インクジェット法によって磁石の表面へ供給される。塗料が付着した磁石の加熱により、塗料中の重希土類元素が磁石内へ拡散する。

特開２０１５－６５２１８号公報

磁石の組成及び磁気特性のばらつきを抑制するためには、塗料中の重希土類元素を磁石内へ均一に拡散させる必要がある。しかし、重希土類元素を含む塗料が磁石の表面へ均一に付着していない場合、塗料中の重希土類元素が磁石内へ均一に拡散し難い。その結果、磁石の組成及び磁気特性がばらつき、磁石の保磁力が十分に向上しない。ただし、磁石の形状又は用途によっては、敢えて重希土類元素を磁石内へ不均一に拡散させる必要がある。なぜなら、磁石の形状又は用途によっては、磁石の磁化が局所的に反転し易く、磁化が反転し易い部位は他の部位よりも多量の重希土類元素を含む必要があるからである。例えば、磁化方向における厚みが他の部位よりも小さい部位では、反磁界が局所的に強い傾向がある。その結果、磁化方向における厚みが小さい部位では、磁化反転が起き易い。また、磁石の用途によっては、外部磁場の変化に因り、渦電流が磁石内で発生する。渦電流に伴うジュール熱に因る温度上昇のため、磁石の保磁力が局所的に低下することがある。磁石の形状に応じて、重希土類元素を、磁化が反転し易い部位へ確実に拡散させ、磁石における重希土類元素の濃度分布を制御するためには、磁石において塗料が付着する位置を調整し、磁石の表面における塗料の厚みを磁石の部位毎に調整する必要がある。上記の問題は、塗料が付着する磁石の表面が曲面である場合に起き易い。ただし、磁石の表面が曲面及び平面のいずれであるかに関わらず、上記の問題は解決されなければならない。

本発明の目的は、重希土類元素を含む塗料を磁石の表面に付着させる工程において、磁石の表面において塗料が付着する位置、及び磁石の表面における塗料の厚みを容易に調整することができる希土類系永久磁石の製造方法、及び希土類系永久磁石の製造装置を提供することである。

本発明の一側面に係る希土類系永久磁石の製造方法は、重希土類元素を磁石の表面に付着させる付着工程と、重希土類元素が付着した磁石を加熱することにより、重希土類元素を磁石内へ拡散させる拡散工程と、を備え、付着工程が、重希土類元素を含む塗料からなる所定のパターンを、版の表面に形成するパターン形成工程と、弾性を有する転写部材を版に接触させることにより、パターンを版から転写部材の表面へ転写する第一転写工程と、パターンが転写された転写部材を磁石に接触させることにより、パターンを転写部材から磁石の表面へ転写する第二転写工程と、を含む。

本発明の一側面に係る希土類系永久磁石の製造方法においては、パターンが転写される磁石の表面の少なくとも一部が、曲面であってよい。

本発明の一側面に係る希土類系永久磁石の製造方法においては、版が、凹版、凸版、又は平版であってよい。

本発明の一側面に係る希土類系永久磁石の製造方法においては、パターンが転写される転写部材の表面が、凸状の曲面であってよい。

パターン形成工程、第一転写工程、及び第二転写工程を繰り返すことにより、互いに異なる少なくとも二つのパターンが磁石の表面へ転写されてよい。

本発明の一側面に係る希土類系永久磁石の製造装置は、版と、弾性を有する転写部材と、磁石を保持する保持手段と、重希土類元素を含む塗料からなる所定のパターンを、版の表面に形成するパターン形成手段と、を備え、版の表面に形成されたパターンが、転写部材の表面へ転写され、転写部材の表面へ転写されたパターンが、磁石の表面へ転写される。

本発明の一側面に係る希土類系永久磁石の製造装置においては、パターンが転写される磁石の表面の少なくとも一部が、曲面であってよい。

本発明の一側面に係る希土類系永久磁石の製造装置においては、版が、凹版、凸版、又は平版であってよい。

本発明の一側面に係る希土類系永久磁石の製造装置においては、パターンが転写される転写部材の表面が、凸状の曲面であってよい。

本発明によれば、重希土類元素を含む塗料を磁石の表面に付着させる工程において、磁石の表面において塗料が付着する位置、及び磁石の表面における塗料の厚みを容易に調整することができる希土類系永久磁石の製造方法、及び希土類系永久磁石の製造装置が提供される。

図１中の（ａ）は、パターンが転写される前の磁石の斜視図であり、図１中の（ｂ）は、図１中の（ａ）中に示される磁石の断面図である。 図２中の（ａ）、図２中の（ｂ）、図２中の（ｃ）及び図２中の（ｄ）は、パターン形成工程の概要を示す。 図３中の（ａ）、図３中の（ｂ）及び図３中の（ｃ）は、第一転写工程の概要を示す。 図４中の（ａ）、図４中の（ｂ）及び図４中の（ｃ）は、第二転写工程の概要を示す。 図５中の（ａ）は、パターン４Ａが形成された版６Ａの上面図であり、図５中の（ｂ）は、パターン４Ａが転写された磁石の斜視図であり、図５中の（ｃ）は、パターン４Ｂが形成された版６Ｂの上面図であり、図５中の（ｄ）は、パターン４Ｂが転写された磁石の斜視図であり、図５中の（ｅ）は、パターン４Ａ及びパターン４Ｂが転写された磁石の斜視図である。 図６中の（ａ）は、パターン４Ｃが形成された版６Ｃの上面図であり、図６中の（ｂ）は、パターン４Ｃが転写された磁石の斜視図である。

以下、図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態が説明される。図面において、同等の構成要素には同等の符号が付される。本発明は下記実施形態に限定されるものではない。以下に記載の「永久磁石」は、「希土類系永久磁石」の一種であるＲ‐Ｔ‐Ｂ系永久磁石を意味する。

［原料合金の調製工程］
原料合金の調製工程では、永久磁石を構成する各元素を含む金属原料から、合金材が作製される。原料合金は、ストリップキャスティング法、ブックモールド法、又は遠心鋳造法によって作製されてよい。金属原料は、例えば、希土類元素の単体（金属単体）、希土類元素を含む合金、純鉄、フェロボロン、又はこれらを含む合金であってよい。これらの金属原料は、所望の永久磁石の組成に略一致するように秤量される。原料合金として、組成が異なる二種以上の合金が作製されてもよい。

原料合金は、少なくとも希土類元素Ｒ、遷移金属元素Ｔ、及びホウ素（Ｂ）を含む。

原料合金に含まれる少なくとも一部のＲは、ネオジム（Ｎｄ）である。原料合金は、他のＲとして、スカンジウム（Ｓｃ）、イットリウム（Ｙ）、ランタン（Ｌａ）、セリウム（Ｃｅ）、プラセオジム（Ｐｒ）、プロメチウム（Ｐｍ）、サマリウム（Ｓｍ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、テルビウム（Ｔｂ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ホルミウム（Ｈｏ）、エルビウム（Ｅｒ）、ツリウム（Ｔｍ）、イッテルビウム（Ｙｂ）、及びルテチウム（Ｌｕ）からなる群より選ばれる少なくとも一種を更に含んでよい。上記の希土類元素のうち、ガドリニウム（Ｇｄ）、テルビウム（Ｔｂ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ホルミウム（Ｈｏ）、エルビウム（Ｅｒ）、ツリウム（Ｔｍ）、イッテルビウム（Ｙｂ）、及びルテチウム（Ｌｕ）は、重希土類元素である。上記の希土類元素のうち重希土類元素を除く元素は、軽希土類元素である。原料合金はＰｒを含んでよい。原料合金はＰｒを含まなくてもよい。原料合金はＴｂ及びＤｙのうち一方又は両方を含んでよい。原料合金はＴｂ及びＤｙのうち一方又は両方を含まなくてもよい。

原料合金に含まれる少なくとも一部の遷移金属元素Ｔは、鉄（Ｆｅ）である。Ｔは、Ｆｅ及びコバルト（Ｃｏ）であってもよい。全てのＴがＦｅであってよい。全てのＴが、Ｆｅ及びＣｏであってよい。原料合金は、Ｆｅ及びＣｏ以外の他の遷移金属元素を更に含んでよい。以下に記載のＴは、Ｆｅのみ、又はＦｅ及びＣｏを意味する。

原料合金は、Ｒ、Ｔ及びＢに加えて他の元素を更に含んでよい。例えば、原料合金は、他の元素として、銅（Ｃｕ）、ガリウム（Ｇａ）、アルミニウム（Ａｌ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、マンガン（Ｍｎ）、炭素（Ｃ）、窒素（Ｎ）、酸素（Ｏ）、カルシウム（Ｃａ）、ニッケル（Ｎｉ）、ケイ素（Ｓｉ）、塩素（Ｃｌ）、硫黄（Ｓ）及びフッ素（Ｆ）からなる群より選ばれる少なくとも一種を含んでもよい。

［粉砕工程］
粉砕工程では、上記の原料合金を非酸化的雰囲気中で粉砕することにより、合金粉末が調製されてよい。原料合金は、粗粉砕工程及び微粉砕工程の二段階で粉砕されてよい。粗粉砕工程では、例えば、スタンプミル、ジョークラッシャー、又はブラウンミル等の粉砕方法が用いられてよい。粗粉砕工程は、不活性ガス雰囲気中で行われてよい。水素を原料合金へ吸蔵させた後、原料合金が粉砕されてよい。つまり、粗粉砕工程として水素吸蔵粉砕が行われてもよい。粗粉砕工程においては、原料合金は、その粒径が数百μｍ程度となるまで粉砕されてよい。粗粉砕工程に続く微粉砕工程では、粗粉砕工程を経た原料合金は、その平均粒径が数μｍとなるまで更に粉砕されてよい。微粉砕工程では、例えば、ジェットミルが用いられてよい。原料合金は、一段階の粉砕工程のみによって粉砕されてもよい。例えば、微粉砕工程のみが行われてもよい。複数種の原料合金が用いられる場合、各原料合金が別々に粉砕された後、各原料合金が混合されてもよい。合金粉末は、脂肪酸、脂肪酸エステル及び脂肪酸の金属塩（金属石鹸）からなる群より選ばれる少なくとも一種の潤滑剤（粉砕助剤）を含んでいてよい。換言すれば、原料合金は粉砕助剤と共に粉砕されてよい。

［成形工程］
成形工程では、上記の合金粉末を磁場中で成形することにより、磁場に沿って配向した合金粉末を含む成形体が得られてよい。例えば、金型内の合金粉末に磁場を印加しながら、合金粉末を金型で加圧することにより、成形体が得られてよい。金型が合金粉末に及ぼす圧力は、２０ＭＰａ以上３００ＭＰａ以下であってよい。合金粉末に印加される磁場の強さは、９５０ｋＡ／ｍ以上１６００ｋＡ／ｍ以下であってよい。

［焼結工程］
焼結工程では、上述の成形体を真空又は不活性ガス雰囲気中で焼結することにより、焼結体が得られてよい。焼結条件は、目的とする永久磁石の組成、原料合金の粉砕方法及び粒度等に応じて、適宜設定されてよい。焼結温度は、例えば、１０００℃以上１２００℃以下であってよい。焼結時間は、１時間以上２０時間以下であってよい。

［時効処理工程］
時効処理工程では、焼結体が焼結温度よりも低温で加熱されてよい。時効処理工程では、焼結体が真空又は不活性ガス雰囲気中で加熱されてよい。後述される拡散工程が時効処理工程を兼ねていてよい。その場合、拡散工程とは別の時効処理工程は実施されなくてよい。時効処理工程は、第一時効処理と、第一時効処理に続く第二時効処理とから構成されていてよい。第一時効処理は、焼結体が７００℃以上９００℃以下の温度で加熱されてよい。第一時効処理の時間は、１時間以上１０時間以下であってよい。第二時効処理では、焼結体が５００℃以上７００℃以下の温度で加熱されてよい。第二時効処理の時間は、１時間以上１０時間以下であってよい。

以上の工程により、焼結体が得られる。焼結体は、後述される付着工程及び拡散工程に用いられる磁石である。以下では、永久磁石の完成品との区別のために、付着工程及び拡散工程に用いられる磁石（焼結体）が、「磁石基材」と表記される。磁石基材は、互いに焼結された複数の主相粒子を備える。主相粒子は、少なくともＮｄ、Ｆｅ及びＢを含む。主相粒子は、Ｒ_２Ｔ_１４Ｂの結晶を含んでよく、少なくとも一部のＲがＮｄであってよく、少なくとも一部のＴがＦｅであってよい。主相粒子の一部又は全体は、Ｒ_２Ｔ_１４Ｂの結晶（単結晶又は多結晶）のみからなっていてよい。Ｒ_２Ｔ_１４Ｂは、例えば、Ｎｄ_２Ｆｅ_１４Ｂであってよい。Ｎｄ_２Ｆｅ_１４Ｂ中のＮｄの一部が、Ｐｒ、Ｔｂ及びＤｙのうち少なくとも一種で置換されていてよい。Ｎｄ_２Ｆｅ_１４Ｂ中のＦｅの一部が、Ｃｏで置換されていてよい。主相粒子は、Ｒ、Ｔ及びＢに加えて上記の元素（原料合金に含まれ得る元素）を含んでもよい。磁石基材は、主相粒子の間に形成された粒界を備える。磁石基材は、粒界として複数の粒界三重点を備える。粒界三重点とは、少なくとも三つの主相粒子に囲まれた粒界である。磁石基材は、粒界として複数の二粒子粒界も備える。二粒子粒界は、隣り合う二つの主相粒子の間に位置する粒界である。粒界は、少なくともＮｄを含んでよく、粒界中のＮｄの含有量は主相粒子中のＮｄの含有量よりも大きくてよい。つまり粒界はＮｄ‐ｒｉｃｈ相を含んでよい。粒界は、Ｎｄに加えて、Ｆｅ及びＢのうち少なくとも一種を含んでよい。

主相粒子の平均粒子径は、特に限定されないが、例えば、１．０μｍ以上１０．０μｍ以下であってよい。磁石基材における主相粒子の体積の割合の合計値は、特に限定されないが、例えば、７５体積％以上１００体積％未満であってよい。

拡散工程に用いられる磁石基材は予め所定の寸法及び形状に加工されてよい。また、磁石基材の表面の清浄化を目的として、酸洗浄等の前処理が行われてよい。

［付着工程］
本実施形態に係る永久磁石の製造方法は、上記の工程に加えて、少なくとも付着工程及び拡散工程を備える。付着工程では、重希土類元素を磁石基材の表面に付着させる。重希土類元素は、例えば、Ｔｂ及びＤｙのうち少なくとも一つの元素であってよい。拡散工程では、重希土類元素が付着した磁石を加熱することにより、重希土類元素を磁石基材内へ拡散させる。拡散工程の詳細は、後述される。

付着工程は、パターン形成工程、第一転写工程及び第二転写工程を含む。パターン形成工程では、重希土類元素を含む塗料からなる所定のパターンが、版の表面に形成される。所定のパターンとは、磁石（磁石基材）の表面のうち重希土類元素が付着する必要がある領域と略一致する形状を有する塗膜と言い換えられてよい。塗料は、重希土類元素、バインダ及び溶剤を含むペーストであってよい。塗料の組成の詳細は後述される。第一転写工程では、弾性を有する転写部材を版に接触させることにより、パターンが、版から転写部材の表面へ転写される。第二転写工程では、パターンが転写された転写部材を磁石基材に接触させることにより、パターンが、転写部材から磁石の表面へ転写される。

付着工程に用いられる希土類系永久磁石の製造装置は、版と、弾性を有する転写部材と、磁石を保持する保持手段と、重希土類元素を含む塗料からなる所定のパターンを、版の表面に形成するパターン形成手段と、を備える。

各図面を参照しながら、付着工程の詳細が以下に説明される。

図１中の（ａ）に示されるように、磁石基材２の形状は、アークセグメントである。つまり、磁石基材２は、一定の方向において湾曲した矩形の板である。第二転写工程においてパターンが転写される磁石基材２の表面２ｓの全体は、凸状の曲面である。図１中の（ｂ）に示される磁石基材２の断面は、磁石基材２が湾曲する方向に平行であり、且つ磁石基材２の表面２ｓに垂直である。ｒ_оは、表面２ｓの曲率半径である。Ｌ_оは、曲率半径ｒ_оに対応する弧の長さである。Ｌ_оは、磁石基材２が湾曲する方向における表面２ｓの幅と言い換えられてよい。θ_оは、表面２ｓの開き角であり、Ｌ_о／ｒ_о（単位：ｒａｄｉａｎ）と定義される。ｒ_ｉは、表面２ｓの裏面（凹状の曲面）の曲率半径である。Ｌ_ｉは、曲率半径ｒ_ｉに対応する弧の長さである。Ｌ_ｉは、磁石基材２が湾曲する方向における表面２ｓの裏面の幅と言い換えられてよい。θ_ｉは、表面２ｓの裏面の開き角であり、Ｌ_ｉ／ｒ_ｉ（単位：ｒａｄｉａｎ）と定義される。図１中の（ｂ）では、θ_о及びθ_ｉが一致しているが、θ_о及びθ_ｉは一致しなくてよい。換言すれば、曲率半径ｒ_оに対応する円の中心は、曲率半径ｒ_ｉに対応する円の中心と一致しなくてよい。第二転写工程においてパターンが転写される磁石基材２の表面の数、位置及び形状は、限定されない。例えば、付着工程を繰り返すことに因り、パターンが、磁石基材２の凸状の表面２ｓだけではなく、磁石基材２の凹状の裏面にも転写されてよい。

磁石基材２の形状は、アークセグメントに限定されない。磁石基材２の表面２ｓは、曲面に限定されない。例えば、磁石基材２の表面２ｓは、平面であってもよい。磁石基材２の表面２ｓの一部のみが曲面であってもよい。磁石基材２の表面２ｓの一部分が曲面であり、他の部分が平面であってもよい、磁石基材２の表面２ｓが、凹部及び凸部のうち少なくともいずれかの形状を有していてもよい。

図２中の（ａ）、図２中の（ｂ）、図２中の（ｃ）及び図２中の（ｄ）は、パターン形成工程の概要を示す。版６としては、凹版が用いられる。版６の表面６ｓには、所定のパターンを有する凹部６ａが形成されている。凹部６ａが有するパターンの寸法及び形状は、磁石基材２の表面２ｓへ転写されるべきパターンの寸法及び形状に基づいて、予め設計及び決定される。凹部６ａが有するパターンの寸法及び形状は、磁石基材２の表面２ｓへ転写されるパターンの寸法及び形状と略同じであってよい。凹部６ａが有するパターンの寸法及び形状は、磁石基材２の表面２ｓへ転写されるパターンの寸法及び形状と若干異なってもよい。つまり、第一転写工程及び第二転写工程において、パターンの寸法及び形状が若干変化してもよい。付着工程に用いられる製造装置は、パターン形成手段として、インキプレート３及びブレード５を備える。ただし、パターン形成手段は、インキプレート３及びブレード５に限定されない。図２中の（ａ）及び図２中の（ｂ）に示されるように、インキプレート３を版６の表面６ｓに沿って移動させることにより、塗料４ａが版６の凹部６ａ内へ充填される。図２中の（ｃ）及び図２中の（ｄ）に示されるように、塗料４ａが版６の凹部６ａ内へ充填された後、版６の表面６ｓのうち凹部６ａ以外の部分に付着した塗料４ａが、ブレード５によって除去される。その結果、塗料４ａからなる所定のパターン４が、凹部６ａ内に形成される。つまり、塗料４ａからなる所定のパターン４は、凹部６ａと同様の形状を有している。パターン４は、塗料４ａからなるシート又は膜と言い換えられてよい。

ブレード５によって版６の表面６ｓから回収された塗料４ａは、パターン４の形成に再利用されてよい。塗料４ａは高価な重希土類元素を含むので、パターン形成工程において余分な塗料４ａを回収及び再利用することにより、永久磁石の製造コストが低減される。インクジェット法又はスプレー法によって塗料が磁石基材２の表面２ｓへ直接供給される場合、磁石基材２の表面２ｓに付着しなかった塗料を回収して再利用することは困難である。

版６は、鋼等の金属から形成されていてよい。ただし、版６の材質は限定されない。版６の表面６ｓに形成された凹部６ａの深さは一定であってよい。凹部６ａの深さは一定でなくてもよい。凹部６ａの深さの調整によって、磁石基材２の表面２ｓへ転写されるパターン４の厚みが調整されてよい。凹部６ａの深さは、磁石基材２の表面２ｓへ転写されるパターン４の厚みと略同じであってよい。凹部６ａの深さは、磁石基材２の表面２ｓへ転写されるパターン４の厚みと異なってもよい。パターン形成工程において版６の表面６ｓへ供給される塗料４ａの量は、凹部６ａの深さ及び面積に応じて調整されてよい。

図３中の（ａ）、図３中の（ｂ）及び図３中の（ｃ）は、第一転写工程の概要を示す。図３中の（ａ）に示されるように、第一転写工程では、転写部材８が、版６の表面６ｓに形成されたパターン４に対面するように、転写部材８及び版６其々の位置が調整される。図３中の（ｂ）に示されるように、第一転写工程では、転写部材８を、パターン４が形成された版６の表面６ｓに押し当てる。転写部材８のうち版６の表面６ｓに接触する部分は、第二転写工程においてパターン４を介して磁石基材２の表面２ｓに接触する部分である。転写部材８のうち少なくとも版６の表面６ｓに接触する部分は、弾性を有する材料からなる。したがって、転写部材８は、版６の表面６ｓの形状に応じて変形し、版６の表面６ｓに密着し、版６の表面６ｓに形成されたパターン４は、転写部材８の表面８ｓに密着する。そして、図３中の（ｃ）に示されるように、版６の表面６ｓに密着した転写部材８を版６の表面６ｓから離すことにより、パターン４が版６の表面６ｓから転写部材８の表面８ｓへ転写される。

パターン４が転写される転写部材８の表面８ｓは、凸状の曲面であってよい。転写部材８の表面８ｓが凸状の曲面であることにより、版６の表面６ｓに密着した転写部材８が版６の表面６ｓから剥がれ易く、転写部材８へのパターン４の転写に伴うパターン４の破損が抑制され易い。ただし、厚みが均一又は一定であるパターン４が再現される限りにおいて、パターン４の転写部材８への転写後、塗料４ａ（パターン４の一部）が、版６の凹部６ａ内に残存してもよい。

転写部材８の表面８ｓへ転写されるパターン４の厚みは、転写部材８が版６の表面６ｓに及ぼす圧力、版６から離れる転写部材８の上昇速度、塗料４ａの温度、及び塗料４ａの粘度等に基づき、制御されてよい。塗料４ａの粘度は、塗料４ａの組成（例えば、塗料４ａ中の重希土類元素、バインダ及び溶剤其々の含有量）に基づき、制御されてよい。

第一転写工程では、版６が固定され、転写部材８が自在に移動してよい。または、転写部材８が固定され、版６が自在に移動してもよい。版６及び転写部材８の両方が自在に移動してもよい。

図４中の（ａ）、図４中の（ｂ）及び図４中の（ｃ）は、第二転写工程の概要を示す。図４中の（ａ）に示されるように、磁石基材２は、固定具（保持手段７）に形成された溝７ａへ嵌合され、磁石基材２の位置が固定される。磁石基材２の表面２ｓが、転写部材８の表面８ｓに転写されたパターン４に対面するように、磁石基材２及び転写部材８其々の配置が調整される。ただし、第二転写工程では、転写部材８が固定され、保持手段７が自在に移動してもよい。保持手段７が固定され、転写部材８が自在に移動してもよい。転写部材８及び保持手段７の両方が自在に移動してもよい。磁石基材２を保持することができる限り、保持手段７の具体的構造は限定されない。

図４中の（ｂ）に示されるように、第二転写工程では、パターン４が転写された転写部材８の表面８ｓを、磁石基材２の表面２ｓに押し当てる。その結果、転写部材８及びパターン４が磁石基材２の表面２ｓの形状に応じて変形し、パターン４が磁石基材２の表面２ｓに密着する。図４中の（ｃ）に示されるように、転写部材８を磁石基材２の表面２ｓから離すことにより、パターン４が転写部材８の表面８ｓから磁石基材２の表面２ｓへ転写される。

第一転写工程と第二転写工程との間において、パターン４を形成する塗料４ａから溶剤が部分的に除去されてよい。例えば、溶剤を転写部材８で吸収することにより、溶剤が塗料４ａから除去されてよい。溶剤の揮発により、溶剤が塗料４ａから除去されてよい。溶剤を揮発させるために、塗料４ａの加熱により塗料４ａの温度が制御されてよい。塗料４ａから部分的に溶剤が除去されることにより、パターン４が磁石基材２に転写され易くなるとともに、パターン４の形状が保持され易くなる。

磁石基材２の表面２ｓへ転写されるパターン４の厚みは、第一転写工程で転写部材８の表面８ｓへ転写されたパターン４の厚みに基づいて制御されてよい。第二転写工程では、パターン４を構成する塗料４ａの略全てが磁石基材２の表面２ｓへ転写されてよい。パターン４を構成する塗料４ａの略全てが磁石基材２の表面２ｓへ転写されることにより、一連の付着工程を繰り返しても、最終的に磁石基材２へ転写されるパターン４の厚みがばらつき難くなる。第二転写工程で塗料４ａの略全てを磁石基材２へ転写するために、転写部材８が磁石基材２の表面２ｓに及ぼす圧力、磁石基材２から離れる転写部材８の上昇速度、塗料４ａの温度、及び塗料４ａの粘度等が制御されてよい。塗料４ａの粘度は、塗料４ａの組成に基づき、制御されてよい。磁石基材２の表面２ｓへ転写されるパターン４の厚みは、例えば、１μｍ以上２００μｍ以下であってよい。磁石基材２の厚みは、パターン４の厚みよりもはるかに大きい。磁石基材２の厚みは、例えば、０．５ｍｍ以上２５ｍｍ以下であってよい。

転写部材８は、例えば、エラストマーから形成されていてよい。エラストマーは、例えば、熱硬化性エラストマーであってよい。例えば、転写部材８は、熱硬化性エラストマーの一種であるシリコーン（ｓｉｌｉｃｏｎｅ）ゴムから形成されていてよい。転写部材８がシリコーンゴムから形成されている場合、第二転写工程において、パターン４が転写部材８の表面８ｓから剥がれ易く、パターン４の全部が磁石基材２の表面２ｓへ転写され易い。つまり、パターン４が磁石基材２の表面２ｓへ転写された後、塗料４ａ（パターン４の一部）が転写部材８の表面８ｓに残存し難い。ただし、転写部材８が弾性を有する限り、転写部材８の材質は、シリコーンゴムに限定されない。転写部材８の材質は、以下の事項に基づいて、適宜選定されてよい。
磁石基材２の形状。
版６から転写部材８へのパターン４の転写の容易性。
転写部材８から磁石基材２へのパターン４の転写の容易性。
転写部材８の耐久性。
例えば、磁石基材２の表面２ｓの曲率半径ｒ_оが小さい場合、又は磁石基材２の表面２ｓの開き角θ_оが大きい場合、転写部材８が磁石基材２の表面２ｓに応じて変形し易いように、比較的軟らかい弾性体から転写部材８が形成されてよい。転写部材８から磁石基材２へパターン４が転写され易いことから、転写部材８は、塗料４ａ中の溶剤を吸収する性質を有することが好ましい。転写部材８から磁石基材２へのパターン４の転写の容易性は、塗料４ａ中の溶剤と転写部材８の表面８ｓとの親和性に依って変化するため、塗料４ａの性状に合わせて、転写部材８の材質が選定されてよい。

パターン４が転写される転写部材８の表面８ｓは、凸状の曲面に限定されない。上述のように、磁石基材２の表面２ｓが凸面である場合、転写部材８の表面８ｓの形状は、磁石基材２の寸法、磁石基材２の表面２ｓの曲率半径ｒ_о及び開き角θ_о、並びにパターン４の形状等に応じて、適宜調整されてよい。パターン４が転写される転写部材８の表面８ｓは、平面であってもよい。パターン４が転写される転写部材８の表面８ｓは、凹状の曲面であってもよい。磁石基材２の表面２ｓは、平面又は凹面（凹状の曲面）であってもよい。磁石基材２の表面２ｓが平面又は凹面である場合も、転写部材８の表面８ｓの形状は、磁石基材２の寸法、磁石基材２の表面２ｓの曲率半径及び開き角、及びパターン４の形状等に応じて、適宜調整されてよい。

版６は、凹版に限定されない。版は、凸版又は平版であってもよい。版が凸版である場合、版の表面に形成された凸部が所定のパターンを有してよい。塗料４ａを版の凸部の表面に付着させることにより、塗料４ａからなるパターン４が形成されてよい。例えば、パターン形成工程において、塗料４ａが版６の凸部の表面に塗布されてよい。または、版６の凸部の表面を、液溜めに容れられた塗料４ａへ接触させてもよい。版６が平版である場合、塗料４ａのスクリーン印刷により、塗料４ａからなるパターン４が版の表面に形成されてよい。つまり、スクリーン印刷に用いるスクリーンマスクが、所定のパターンを有していてよい。

塗料４ａからなるパターン４の形状は、限定されない。塗料４ａからなるパターン４の形状は、磁石基材の寸法及び形状に応じて設計及び決定される。例えば、図５中の（a）に示されるように、パターン形成工程では、矩形のパターン４Ａが版６Ａの表面に形成されてよく、図５中の（ｂ）に示されるように、第二転写工程では、矩形のパターン４Ａが磁石基材２の表面全体へ転写されてよい。図５中の（ｃ）に示されるように、パターン形成工程では、一対の矩形のパターン４Ｂが版６Ｂの表面に形成されてよく、図５中の（ｄ）に示されるように、第二転写工程では、一対のパターン４Ｂが磁石基材２の表面のうち一対の平坦な端部に転写されてよい。図６中の（a）に示されるように、パターン形成工程では、枠状のパターン４Ｃが版６Ｃの表面に形成されてよく、図６中の（ｂ）に示されるように、第二転写工程では、枠状のパターン４Ｃが磁石基材２の表面２ｓのうち外縁部へ転写されてよい。磁石基材２の表面２ｓのうち枠状のパターン４Ｃで囲まれた部分は、露出していてよい。

パターン形成工程、第一転写工程、及び第二転写工程を繰り返すことにより、互いに形状が異なる少なくとも二つのパターンが磁石の表面へ転写されてよい。換言すれば、複数種の版又はスクリーンマスクを用いて複数種のパターンが形成され、複数種のパターンが磁石の表面へ転写されてよい。例えば、図５中の（ｅ）に示されるように、第二転写工程では、矩形のパターン４Ａが磁石基材２の表面２ｓ全体へ転写された後、一対のパターン４Ｂがパターン４Ａの両端へ更に転写されてよい。つまり、形状の異なるパターン４Ａ及びパターン４Ｂが磁石基材２の表面２ｓにおいて重ねられてよい。異なる二つ以上のパターンを磁石基材２の表面２ｓにおいて重ねることにより、磁石基材２の表面２ｓにおけるパターン４（塗料４ａ）の総厚みを、磁石基材２の部位毎に制御することができる。また、同一のパターン４が、磁石基材２の同一の表面２ｓへ二回以上繰り返し転写されてもよい。同一のパターン４を繰り返し転写することで、パターン４を厚くすることができる。換言すれば、同一のパターン４を繰り返し転写することで、一回の転写では達成困難な厚みを有するパターン４を形成することができる。

上述された付着工程によれば、磁石基材２の表面２ｓにおいて塗料４ａが付着する位置、及び磁石基材２の表面２ｓにおける塗料４ａ（パターン４）の厚みを容易に調整することができる。例えば、磁石基材２の表面２ｓの全体を、厚みが均一であるパターン４で覆うことができる。その結果、拡散工程において塗料４ａ中の重希土類元素が磁石基材２内へ均一に拡散し、永久磁石の組成及び磁気特性のばらつきが抑制され、永久磁石の保磁力が増加する。また磁石基材２の表面２ｓにおける塗料４ａ（パターン４）の総厚みを磁石基材２の部位毎に変えることもできる。その結果、永久磁石の形状に応じて永久磁石における重希土類元素の濃度分布が制御される。例えば、拡散工程において、重希土類元素を、磁化反転が起き易い部位（換言すれば、減磁が起き易い部位）へ確実に拡散させることができる。

仮にインクジェット法によって塗料が磁石基材２の表面２ｓへ直接供給される場合、塗料が表面２ｓにおいて流動することがある。インクジェット法ではノズル詰まりを防止するために比較的粘度の低い塗料が用いられるため、特に表面２ｓが曲面である場合、塗料は重力に因り表面２ｓにおいて流動し易い。その結果、表面２ｓにおける塗料の厚みが変化して不均一になり易く、表面２ｓにおける塗料の位置及び形状も変化し易い。磁石基材２の表面２ｓに付着した塗料が加熱により乾燥される場合、温度上昇に伴って塗料の粘度が低下し易く、乾燥中に塗料が流動することがある。これらの理由により、塗料が磁石基材２の表面２ｓへ直接供給される場合、磁石基材２の表面２ｓにおける塗料の厚み、位置及び形状を正確に制御し難い。スプレー法によって塗料が磁石基材２の表面２ｓへ直接噴霧される場合も、塗料が磁石基材２の表面２ｓにおいて流動し易いため、磁石基材２の表面２ｓにおける塗料の厚み、位置及び形状を正確に制御し難い。磁石基材２の表面２ｓが塗料中へ浸漬される場合も、塗料が磁石基材２の表面２ｓにおいて流動し易いため、磁石基材２の表面２ｓにおける塗料の厚み、位置及び形状を正確に制御し難い。一方、本実施形態では、予め形成されたパターン４が、転写部材８から磁石基材２の表面２ｓへ転写されるので、磁石基材２の表面２ｓにおけるパターン４の厚み、位置及び形状が変化し難く、磁石基材２の表面２ｓにおけるパターン４の厚み、位置及び形状を正確に制御し易い。本実施形態によれば、付着工程中に一定量の溶剤を塗料４ａから除去することにより、塗料４ａの粘度を高めて、塗料４ａの流動を抑制することもできる。その結果、磁石基材２の表面２ｓにおけるパターン４の厚み、位置及び形状が変化し難く、磁石基材２の表面２ｓにおけるパターン４の厚み、位置及び形状を正確に制御し易い。また本実施形態によれば、磁石基材２の表面２ｓが曲面である場合であっても、厚みが均一であるパターン４を磁石基材２の表面２ｓ全体に転写することができる。

インクジェット法では、吐出素子（空気式アクチュエータ又は電磁ソレノイド式アクチュエータ）を用いた非接触式ノズルによって、塗料からなる微細な液滴が磁石基材の表面へ直接供給される。単位時間あたりにノズルから吐出される塗料は少ないため、塗料からなるパターンの形成に時間を要する。つまり、インクジェット法における塗料の塗布速度は遅い。特にパターンが厚いほど、パターンの形成に時間を要する。一方、本実施形態では、第二転写工程においてパターンが転写部材８から磁石基材２へ瞬時に転写される。その結果、永久磁石の製造時間が短縮される。同様の目的のために、複数の版６及び転写部材８を用いて、パターン形成工程、第一転写工程及び第二転写工程が同時に並行して実施されてよい。

インクジェット法では、塗料の吐出量及びノズルの位置の制御のために複雑な制御機構が必要である。したがって、インクジェット法に用いる製造装置は高価である。インクジェット法のような複雑な制御機構は、本実施形態に係る永久磁石の製造装置では要求されない。したがって、本実施形態に係る永久磁石の製造装置は、インクジェット法に用いる製造装置に比べて安価である。

上述の通り、塗料４ａは、重希土類元素、バインダ及び溶剤を含むペーストであってよい。以下に記載の「拡散材」とは、少なくとも重希土類元素を含む化学物質を意味する。拡散材は、粒子又は粉末であってよい。拡散材の粒径は、上述された粗粉砕工程及び微粉砕工程と同様の手段によって調整されてよい。拡散材のメジアン径Ｄ５０は、例えば０．５μｍ以上１５μｍ以下であってよい。塗料４ａは、以下の方法によって調製されてよい。

バインダ及び溶剤を所定の比率で攪拌及び混合し、バインダを溶解することにより、ラッカーが調製される。バインダは、熱可塑性樹脂であってよい。バインダは、例えば、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂及びアクリル樹脂からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物であってよい。複数種のバインダが用いられてよい。溶剤は、バインダが溶解する液体である限り限定されない。溶剤は有機溶剤であってよい。溶剤は、例えば、エタノール、ブタノール、オクタノール、メチルエチルケトン、キシレン、ブチルカルビトール、ターピネオール、及びジヒドロターピネオールならなる一種の化合物であってよい。複数種の溶剤が用いられてよい。拡散材をラッカーへ添加した後、これらが混合される。必要に応じて、可塑剤及び分散剤の一方又は両方がラッカーへ更に添加されてよい。続いて拡散材及びラッカーの混合物の分散処理が行われる。分散処理の手段は、自転公転ミキサー、三本ロール、高圧ホモジナイザー、又は超音波ホモジナイザーであってよい。複数の手段を用いて、分散処理が行われてよい。

拡散材は、例えば、重希土類元素の単体、重希土類元素を含む合金、又は重希土類元素を含む化合物であってよい。重希土類元素を含む化合物は、例えば、水素化物、フッ化物及び酸化物からなる群より選ばれる少なくとも一種であってよい。重希土類元素の単体は、Ｔｂの単体、及びＤｙの単体のうち一方又は両方であってよい。重希土類元素を含む合金は、Ｔｂ及びＦｅからなる合金、Ｄｙ及びＦｅからなる合金、及び、ＴｂとＤｙとＦｅとからなる合金からなる群より選ばれる少なくとも一種であってよい。重希土類元素の水素化物は、例えば、ＴｂＨ_２、ＴｂＨ_３、Ｔｂ及びＦｅからなる合金の水素化物、ＤｙＨ_２、ＤｙＨ_３、Ｄｙ及びＦｅからなる合金の水素化物、及び、ＴｂとＤｙとＦｅとからなる合金の水素化物からなる群より選ばれる少なくとも一種であってよい。拡散材は、Ｎｄ、Ｐｒ及びＣｕからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素を更に含んでよい。例えば、拡散材は、Ｎｄの単体、Ｐｒの単体、Ｎｄ及びＰｒを含む合金、ＮｄＨ_２、ＮｄＨ_３、ＰｒＨ_２、ＰｒＨ_３、Ｎｄ及びＰｒを含む合金の水素化物、Ｃｕの単体、Ｃｕを含む合金、ＣｕＨ、Ｃｕ_２Ｏ及びＣｕＯからなる群より選ばれる少なくとも一種を更に含んでよい。

以上の方法により、拡散材、バインダ及び溶剤を含む塗料４ａが調製される。塗料４ａ中の拡散材の含有量は、磁石基材２の厚み、永久磁石の設計上の組成、及び塗料４ａの転写性を考慮して、適宜調整されてよい。塗料４ａ中のバインダの含有量は、塗料４ａの転写性及びパターン４の強度及び接着性を考慮して、適宜調整されてよい。塗料４ａの濾過により、粗大粒及び凝集物が塗料４ａから除去されてよい。塗料４ａ中の拡散材の含有量は、例えば、４０質量％以上８５質量％以下であってよい。塗料４ａ中のバインダの含有量は、例えば、１質量％以上１５質量％以下であってよい。塗料４ａ中の溶剤の含有量は、例えば、１０質量％以上５９質量％以下であってよい。

永久磁石の製造方法は、付着工程の後、拡散工程の前に、磁石基材２に転写されたパターン４（塗料４ａ）に含まれる溶剤の少なくとも一部を除去するための乾燥工程を更に備えてよい。複数回の付着工程が繰り返される場合、一回の付着工程毎に乾燥工程が行われてよい。複数回の付着工程の後に一回の乾燥工程が行われてもよい。

［拡散工程］
拡散工程では、重希土類元素（拡散材）を含むパターン４が転写された磁石基材２が加熱される。拡散工程におけるパターン４及び磁石基材２の加熱により、パターン４中の重希土類元素が磁石基材２の表面から磁石基材２の内部へ拡散する。磁石基材２の内部では、重希土類元素が、粒界を介して主相粒子の表面近傍へ拡散する。主相粒子の表面近傍において、一部の軽希土類元素（Ｎｄ等）が重希土類元素で置換される。重希土類元素が主相粒子の表面近傍及び粒界に局在することにより、異方性磁界が粒界の近傍において局所的に大きくなり、磁化反転の核が粒界の近傍において発生し難くなる。その結果、永久磁石の保磁力が増加する。

拡散工程では、パターン４及び磁石基材２が、真空中又は不活性ガス中で加熱されてよい。不活性ガスは、アルゴン（Ａｒ）等の希ガスであってよい。拡散工程では、８００℃以上９５０℃以下である温度（拡散温度）で、パターン４及び磁石基材２が加熱されてよい。パターン４及び磁石基材２が上記拡散温度で加熱される時間は、１時間以上５０時間以下であってよい。上記拡散温度においてパターン４及び磁石基材２を加熱する前に、拡散温度よりも低温でパターン４を加熱することにより、パターン４中のバインダを焼失させてよい。つまり拡散工程の前段階として、脱バインダ処理が行われてよい。

［熱処理工程］
拡散工程を経た磁石基材２は、永久磁石の完成品として用いられてよい。拡散工程の後、熱処理工程が行われてもよい。熱処理工程では、磁石基材２が４５０℃以上６００℃以下で加熱されてよい。熱処理工程では、１時間以上１０時間以下の間、磁石基材２が上記の温度で加熱されてよい。熱処理工程により、永久磁石の磁気特性（特に保磁力）が向上し易い。

拡散工程又は熱処理工程の後、切削及び研磨等の加工方法により磁石基材２の寸法及び形状が調整されてよい。

以上の方法により、永久磁石が完成される。

磁石基材及び永久磁石其々の組成は、例えば、エネルギー分散型Ｘ線分光（ＥＤＳ）法、蛍光Ｘ線（ＸＲＦ）分析法、高周波誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）発光分析法、不活性ガス融解‐非分散型赤外線吸収法、酸素気流中燃焼‐赤外吸収法及び不活性ガス融解‐熱伝導度法等の分析方法によって特定されてよい。

永久磁石の寸法及び形状は、永久磁石の用途に応じて様々であり、特に限定されない。永久磁石の形状は、例えば、直方体、立方体、矩形（板）、多角柱、扇、環状扇形（ａｎｎｕｌａｒ ｓｅｃｔｏｒ）、球、円板、円柱、リング、又はカプセルであってよい。永久磁石の断面の形状は、例えば、多角形、円弧（円弦）、弓状、アーチ、又は円であってよい。磁石基材２の寸法及び形状も、永久磁石と同様であってよい。

永久磁石は、ハイブリッド自動車、電気自動車、ハードディスクドライブ、磁気共鳴画像装置（ＭＲＩ）、スマートフォン、デジタルカメラ、薄型ＴＶ、スキャナー、エアコン、ヒートポンプ、冷蔵庫、掃除機、洗濯乾燥機、エレベーター及び風力発電機等の様々な分野で利用されてよい。永久磁石は、モータ、発電機又はアクチュエータを構成する材料として用いられてよい。

本発明は上記の実施形態に限定されるものではない。例えば、付着工程及び拡散工程に用いられる磁石基材は、焼結体ではなく、熱間加工磁石であってよい。熱間加工磁石は、以下のような製法によって作製されてよい。

熱間加工磁石の原料は、焼結体の作製に用いられる原料合金と同様の合金であってよい。この合金を溶融し、更に急冷することにより、合金からなる薄帯が得られる。薄帯の粉砕により、フレーク状の合金粉末が得られる。合金粉末の冷間プレス（室温での成形）により、成形体が得られる。成形体の予熱後、成形体の熱間プレスにより、等方性磁石が得られる。等方性磁石の熱間塑性加工により、異方性磁石が得られる。異方性磁石の時効処理により、熱間加工磁石からなる磁石基材が得られる。熱間加工磁石からなる磁石基材は、上記の焼結体と同様に、互いに結着された多数の主相粒子を含む。

希土類系永久磁石は、Ｒ‐Ｔ‐Ｂ系永久磁石に限定されない。希土類系永久磁石（又は磁石基材）は、例えば、サマリウムコバルト磁石、又はプラセオジム磁石であってもよい。希土類系永久磁石（又は磁石基材）の主相は、例えば、ＳｍＣｏ_５，Ｓｍ_２Ｃｏ_１７，又はＰｒＣｏ_５であってよい。

本発明に係る希土類系永久磁石の製造方法によれば、例えば、ハイブリッド車又は電気自動車に搭載されるモータ又は発電機へ適用される希土類系永久磁石が得られる。

２…磁石（磁石基材）、３ インキプレート、４，４Ａ，４Ｂ，４Ｃ…塗料からなるパターン、４ａ…塗料、５…ブレード、６，６Ａ，６Ｂ，６Ｃ…版、７…保持手段、８…転写部材。

Claims (9)

1. 重希土類元素を磁石の表面に付着させる付着工程と、
   前記重希土類元素が付着した前記磁石を加熱することにより、前記重希土類元素を前記磁石内へ拡散させる拡散工程と、
   を備え、
   前記付着工程が、
   前記重希土類元素を含む塗料からなる所定のパターンを、版の表面に形成するパターン形成工程と、
   弾性を有する転写部材を前記版に接触させることにより、前記パターンを前記版から前記転写部材の表面へ転写する第一転写工程と、
   前記パターンが転写された前記転写部材を前記磁石に接触させることにより、前記パターンを前記転写部材から前記磁石の表面へ転写する第二転写工程と、
   を含む、
   希土類系永久磁石の製造方法。
2. 前記パターンが転写される前記磁石の表面の少なくとも一部が、曲面である、
   請求項１に記載の希土類系永久磁石の製造方法。
3. 前記版が、凹版、凸版、又は平版である、
   請求項１又は２に記載の希土類系永久磁石の製造方法。
4. 前記パターンが転写される前記転写部材の表面が、凸状の曲面である、
   請求項１～３のいずれか一項に記載の希土類系永久磁石の製造方法。
5. 前記パターン形成工程、前記第一転写工程、及び前記第二転写工程を繰り返すことにより、互いに異なる少なくとも二つの前記パターンが前記磁石の表面へ転写される、
   請求項１～４のいずれか一項に記載の希土類系永久磁石の製造方法。
6. 版と、
   弾性を有する転写部材と、
   磁石を保持する保持手段と、
   重希土類元素を含む塗料からなる所定のパターンを、前記版の表面に形成するパターン形成手段と、
   を備え、
   前記版の表面に形成された前記パターンが、前記転写部材の表面へ転写され、
   前記転写部材の表面へ転写された前記パターンが、前記磁石の表面へ転写される、
   希土類系永久磁石の製造装置。
7. 前記パターンが転写される前記磁石の表面の少なくとも一部が、曲面である、
   請求項６に記載の希土類系永久磁石の製造装置。
8. 前記版が、凹版、凸版、又は平版である、
   請求項６又は７に記載の希土類系永久磁石の製造装置。
9. 前記パターンが転写される前記転写部材の表面が、凸状の曲面である、
   請求項６～８のいずれか一項に記載の希土類系永久磁石の製造装置。
   
   

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