CN111646521A - 一种高分散性高镍三元前驱体材料制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种高分散性高镍三元前驱体材料制备方法,包括:步骤1、配置含有镍离子、钴离子和锰离子混合盐溶液;步骤2、先在反应釜中配置含有工业液碱和氨水的底液,并在搅拌器下方通入氮气,再将混合盐溶液、工业液碱和氨水加入到上述反应釜中,搅拌并进行共沉淀反应,得到粒径为目标粒径D50的1/5~1/2的晶种小颗粒;步骤3、继续通入氮气,其气流量小于步骤2中的氮气气流量,进一步生长到目标粒径D50,得到球形镍钴锰前驱体,并进行处理后,得到球形镍钴锰三元前驱体成品材料。本发明从晶种期、生长期改善小颗粒镍钴锰三元前驱体分散性和球形度,提高了振实密度,有助于提高正极材料能量密度。

Description

一种高分散性高镍三元前驱体材料制备方法
技术领域
本发明适用于无机化合物、有机化合物及有机高分子化合物技术领域,也适用于药物化合物领域,具体涉及一种高分散性高镍三元前驱体材料制备方法。
背景技术
锂离子电池凭借电压稳定、容量高、能量密度大、自放电少、循环稳定、消耗低、环境友好等优势逐渐替代铅酸电池,广泛应用于电动车、电动工具、手机、笔记本电脑等领域,随着科技发展,电池的能量密度和安全性要求越来越高,三元系材料具有高的可逆比容量,可以更好的满足电子产品日益小型化和多功能化的要求,三元前驱体的形貌、粒度、比表面积、振实密度、主含量和杂质含量等理化指标很大程度上决定了三元正极材料的性能。
目前锂电行业推动锂离子电池向着比容量更高的高镍方向发展,采用价格较为低廉的锰和镍取代资源缺乏和价格较高的钴,在降低成本的同时,更好的满足电子产品日益小型化和多功能化的要求。当前产业化的三元前驱体制备多采用共沉淀方法,可溶性镍盐、钴盐、锰盐、碱金属氢氧化物与氨水混合,进入带有底液和保护气体的反应釜中进行恒温共沉淀,反应后对溢出料进行固液分离、陈化、离心、干燥得到球形三元前驱体材料,但是随着镍含量增加,小颗粒镍钴锰氢氧化物的团聚性变得严重,形貌均一性变差,影响材料的振实密度和理化性能。
专利号为CN110040790A的中国发明申请公开了一种高球形度镍钴锰三元前驱体及其制备方法,在共沉淀反应体系中添加硬质微球,并在强烈搅拌作用下,来增加镍钴锰三元前驱体产品在生长过程中的碰撞频率和碰撞次数,来促使小颗粒镍钴锰三元前驱体在较短的生长时间内,就成型有较高的球形度,反应结束后利用自然沉降,将所述硬质微球悬浊液与浆料分离,以此得到高球形度镍钴锰三元前驱体。此法工序复杂,生产成本高,且容易引入杂质,不易于大规模生产。
发明内容
一般共沉淀法制备三元前驱体材料时,通入保护气只起到保护气氛作用,随着镍含量增加,小颗粒分散性和球形度较差;通过加入硬质微球的制备方法工序复杂、成本高,不利于大规模生产。针对上述已有技术存在的不足,本发明提供一种高分散性高镍三元前驱体材料制备方法。
本发明是通过以下技术方案实现的。
一种高分散性高镍三元前驱体材料制备方法,包括以下步骤:
步骤1、配置含有镍离子、钴离子和锰离子混合盐溶液,所述混合盐溶液为硫酸盐、硝酸盐、草酸盐或氯化物中的一种;
步骤2、先在反应釜中配置含有工业液碱和氨水的底液,并在反应釜中的搅拌器下方通入氮气,再将混合盐溶液、工业液碱和氨水加入到上述反应釜中,搅拌并进行共沉淀反应,得到粒径为目标粒径D50的1/5~1/2的晶种小颗粒;
步骤3、持续通入氮气,且气流量小于步骤2中的氮气气流量,通入混合盐溶液、工业液碱和氨水继续共沉淀反应,直至晶种小颗粒进一步生长到目标粒径D50,得到球形镍钴锰前驱体,并进行离心、洗涤、干燥、除磁性异物处理后,得到球形镍钴锰三元前驱体成品材料。
本发明中,步骤1中含有镍离子、钴离子和锰离子混合盐溶液,其总金属离子浓度范围为(1-3mol/L),其中镍离子、钴离子和锰离子的摩尔比为Ni:Co:Mn=x:y:(100-x-y),其中80≤x≤98,1≤y≤10。
本发明中,步骤2中的工业液碱浓度范围为(8-12mol/L),氨水的浓度范围为(0.5-2mol/L)。步骤2中的底液,其PH值范围在10-13,其中氨水浓度6-24g/L,底液温度在40~80℃。
本发明中,步骤2中氮气为弥散分布的小气泡,直径小于等于2mm,小气泡向四周呈发散状鼓入反应釜。通入氮气采用的通气设备如图6所示,包括L型气管通道(1)和喷头(2),所述喷头的孔径小于等于1mm。
本发明中,步骤2中的再将混合盐溶液、工业液碱和氨水加入到上述反应釜中,三种溶液的流量范围为混合盐溶液200-500L/h,工业液碱40-100L/h,氨水流量10-40L/h)。
本发明中,步骤2中氮气每小时通入流量Q=(0.1~20)V,V表示反应釜容积,搅拌转速在300~600rpm。
本发明中,步骤3中氮气每小时通入流量Q=(0.1~10)V,V表示反应釜容积,且步骤3中氮气气流量小于步骤2中的氮气气流量。
本发明中,步骤3中,控制反应釜中PH范围10-12.5;氨水浓度6-30g/L;温度40-80℃;转速250-500rpm;加料速度为混合盐溶液200-600L/h,工业液碱40-120L/h,氨水流量10-50L/h)。
本发明中,所述目标粒径为2-5μm,目标粒径为中值粒径D50。
本发明通过控制保护气的通气位置,即在反应釜中的搅拌器下方的不参与搅拌循环的区域“死区”通入保护气,形成微气泡群,并在搅拌器作用下形成弥散分布的气泡,抑制前驱体颗粒的碰撞团聚,从晶种期改善颗粒分散性和球形度;且气泡群能起到湍流扩散作用,降低死区区域,进一步解决颗粒团聚问题,提高颗粒分散性和球形度。
本发明在生长期继续通入保护气降低流量是考虑到晶种期颗粒的分散性和球形度基本定型,而生长期主要是抑制团聚而不是促进分散,修饰颗粒形貌。
本发明的有益技术效果:
本发明利用气泡抑制前驱体颗粒的碰撞团聚,增大循环死区的湍流扩散,并且在生长期继续通入保护气,从晶种期、生长期改善小颗粒镍钴锰三元前驱体分散性和球形度,提高了振实密度,有助于提高正极材料能量密度。
附图说明
图1为对比例1制备的镍钴锰三元前驱体材料;
图2为实施例1制备的镍钴锰三元前驱体材料;
图3为实施例2制备的镍钴锰三元前驱体材料;
图4为实施例3制备的镍钴锰三元前驱体材料;
图5为实施例4制备的镍钴锰三元前驱体材料;
图6为本发明中通气装置的结构示意图。
具体实施方式
下面结合具体实施方式对本发明进行详细说明。
对比例1:
步骤1、配置含有镍离子、钴离子和锰离子且总离子浓度2mol/L硫酸盐溶液A,其中镍离子、钴离子和锰离子的摩尔比为98:1:1,采用浓度10mol/L的工业液碱作为沉淀剂溶液B,采用1mol/L的氨水作为络合剂溶液C;
步骤2、在反应釜中配置含有一定沉淀剂溶液和络合剂溶液的底液D,D的pH控制在11.6-12.2,D的氨水浓度14-18g/L,D的温度为40-45℃;并通入流量Q=(1-2)V(V表示反应釜容积)的氮气作为保护气,将混合盐溶液A、沉淀剂溶液B和络合剂溶液C按照混合盐溶液500L/h,工业液碱100L/h,氨水流量40L/h加入上述反应釜中,搅拌转速在400-420rpm下进行共沉淀反应;
步骤3、控制反应一定的PH为(11.6-12.2)、氨水浓度为(14-18)g/L、保护气流量为Q=(1-2)V、温度为(40-45)℃、转速为(360-420)rpm和加料速度:混合盐溶液(500-600)L/h,工业液碱(100-120)L/h,氨水流量(40-50)L/h,颗粒生长到目标粒径3μm,得到球形镍钴锰前驱体,并进行离心、洗涤、干燥、除磁性异物等处理后,得到球形镍钴锰三元前驱体成品材料,计对比例1。
实施例1:
步骤1、配置含有镍离子、钴离子和锰离子且总离子浓度2mol/L硫酸盐溶液A,其中镍离子、钴离子和锰离子的摩尔比为98:1:1,采用浓度10mol/L的工业液碱作为沉淀剂溶液B,采用1mol/L的氨水作为络合剂溶液C;
步骤2、在反应釜中配置含有一定沉淀剂溶液和络合剂溶液的底液D,D的pH控制在12-12.2,D的氨水浓度14-16g/L,D的温度为40-42℃;并在反应釜搅拌器下方每小时通入流量Q=(1-2)V(V表示反应釜容积)的氮气作为保护气,通入氮气,氮气为弥散分布的小气泡,其直径小于等于2mm,将混合盐溶液A、沉淀剂溶液B和络合剂溶液C按照混合盐溶液500L/h,工业液碱100L/h,氨水流量40L/h加入上述反应釜中,搅拌转速在400-420rpm下进行共沉淀反应,得到粒径为目标粒径D50的1.2-1.5μm的晶种小颗粒;
步骤3、控制反应一定的PH为11.6-12、氨水浓度为14-18g/L、保护气流量为Q=(0.5-1)V、温度为43-45℃、转速为360-380rpm和加料速度:混合盐溶液600L/h,工业液碱120L/h,氨水流量50L/h,进一步生长到目标粒径3μm,得到球形镍钴锰前驱体,并进行离心、洗涤、干燥、除磁性异物等处理后,得到球形镍钴锰三元前驱体成品材料。
实施例2:
步骤1、配置含有镍离子、钴离子和锰离子且总离子浓度2mol/L硫酸盐溶液A,其中镍离子、钴离子和锰离子的摩尔比为96:2:2,采用浓度10mol/L的工业液碱作为沉淀剂溶液B,采用1mol/L的氨水作为络合剂溶液C;
步骤2、在反应釜中配置含有一定沉淀剂溶液和络合剂溶液的底液D,D的pH控制在11.9-12.1,D的氨水浓度13-15g/L,D的温度为45-47℃;并在反应釜搅拌器下方每小时通入流量Q=(2-3)V(V表示反应釜容积)的氮气作为保护气,通入氮气,氮气为弥散分布的小气泡,其直径小于等于2mm,将混合盐溶液A、沉淀剂溶液B和络合剂溶液C按照混合盐溶液400L/h,工业液碱80L/h,氨水流量30L/h加入上述反应釜中,搅拌转速在380-400rpm下进行共沉淀反应,得到粒径为目标粒径D50的1.2-1.5μm的晶种小颗粒;
步骤3、控制反应一定的PH为11.5-11.9、氨水浓度为13-17g/L、保护气流量为Q=(1-2)V、温度为47-50℃、转速为340-360rpm和加料速度:混合盐溶液500L/h,工业液碱100L/h,氨水流量40L/h,进一步生长到目标粒径3μm,得到球形镍钴锰前驱体,并进行离心、洗涤、干燥、除磁性异物等处理后,得到球形镍钴锰三元前驱体成品材料。
实施例3:
步骤1、配置含有镍离子、钴离子和锰离子且总离子浓度2mol/L硫酸盐溶液A,其中镍离子、钴离子和锰离子的摩尔比为90:5:5,采用浓度10mol/L的工业液碱作为沉淀剂溶液B,采用1mol/L的氨水作为络合剂溶液C;
步骤2、在反应釜中配置含有一定沉淀剂溶液和络合剂溶液的底液D,D的pH控制在11.8-12,D的氨水浓度12-14g/L,D的温度为50-52℃;并在反应釜搅拌器下方每小时通入流量Q=(3-4)V(V表示反应釜容积)的氮气作为保护气,通入氮气,氮气为弥散分布的小气泡,其直径小于等于2mm,将混合盐溶液A、沉淀剂溶液B和络合剂溶液C按照混合盐溶液300L/h,工业液碱60L/h,氨水流量20L/h加入上述反应釜中,搅拌转速在360-380rpm下进行共沉淀反应,得到粒径为目标粒径D50的1.2-1.5μm的晶种小颗粒;
步骤3、控制反应一定的PH为11.4-11.8、氨水浓度为14-16g/L、保护气流量为Q=(2-3)V、温度为53-55℃、转速为320-340rpm和加料速度:混合盐溶液400L/h,工业液碱80L/h,氨水流量30L/h,进一步生长到目标粒径3μm,得到球形镍钴锰前驱体,并进行离心、洗涤、干燥、除磁性异物等处理后,得到球形镍钴锰三元前驱体成品材料。
实施例4:
步骤1、配置含有镍离子、钴离子和锰离子且总离子浓度2mol/L硫酸盐溶液A,其中镍离子、钴离子和锰离子的摩尔比为88:6:6,采用浓度10mol/L的工业液碱作为沉淀剂溶液B,采用1mol/L的氨水作为络合剂溶液C;
步骤2、在反应釜中配置含有一定沉淀剂溶液和络合剂溶液的底液D,D的pH控制在11.7-11.9,D的氨水浓度11-13g/L,D的温度为55-57℃;并在反应釜搅拌器下方每小时通入流量Q=(4-5)V(V表示反应釜容积)的氮气作为保护气,通入氮气,氮气为弥散分布的小气泡,其直径小于等于2mm,将混合盐溶液A、沉淀剂溶液B和络合剂溶液C按照混合盐溶液200L/h,工业液碱40L/h,氨水流量10L/h加入上述反应釜中,搅拌转速在340-360rpm下进行共沉淀反应,得到粒径为目标粒径D50的1.2-1.5μm的晶种小颗粒;
步骤3、控制反应一定的PH为11.3-11.7、氨水浓度为11-15g/L、保护气流量为Q=(3-4)V、温度为57-60℃、转速为300-320rpm和加料速度:混合盐溶液200L/h,工业液碱40L/h,氨水流量10L/h,进一步生长到目标粒径3μm,得到球形镍钴锰前驱体,并进行离心、洗涤、干燥、除磁性异物等处理后,得到球形镍钴锰三元前驱体成品材料。
表1对比例及实施例成分比例及通气量
Figure BDA0002519899200000081
由表1结合附图1-5,对比例采用常规通气,实施例采用在反应釜搅拌器的下方通入气体,且通入气体为弥散分布的小气泡,气泡直径小于等于2mm,抑制前驱体颗粒的碰撞团聚,从反应前期(晶种期)解决三元前驱体小颗粒的分散性和球形度的问题。实施例在生长期继续通入保护气且流量降低,抑制团聚,修饰颗粒形貌。
以上所述的仅是本发明的较佳实施例,并不局限发明。应当指出对于本领域的普通技术人员来说,在本发明所提供的技术启示下,还可以做出其它等同改进,均可以实现本发明的目的,都应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种高分散性高镍三元前驱体材料制备方法,其特征在于包括以下步骤:
步骤1、配置含有镍离子、钴离子和锰离子混合盐溶液,所述混合盐溶液为硫酸盐、硝酸盐、草酸盐或氯化物中的一种;
步骤2、先在反应釜中配置含有工业液碱和氨水的底液,并在反应釜中的搅拌器下方通入氮气,再将混合盐溶液、工业液碱和氨水加入到上述反应釜中,搅拌并进行共沉淀反应,得到粒径为目标粒径的1/5~1/2的晶种小颗粒;
步骤3、持续通入氮气,且气流量小于步骤2中的氮气气流量,通入混合盐溶液、工业液碱和氨水继续共沉淀反应,晶种小颗粒进一步生长到目标粒径,得到球形镍钴锰前驱体,并进行离心、洗涤、干燥、除磁性异物处理后,得到球形镍钴锰三元前驱体成品材料。
2.根据权利要求1所述的高分散性高镍三元前驱体材料制备方法,其特征在于,所述步骤1中含有镍离子、钴离子和锰离子混合盐溶液,其总金属离子浓度范围为1-3mol/L,其中镍离子、钴离子和锰离子的摩尔比为Ni:Co:Mn=x:y:(100-x-y),其中80≤x≤98,1≤y≤10。
3.根据权利要求1所述的高分散性高镍三元前驱体材料制备方法,其特征在于,所述步骤2中的工业液碱浓度范围为8-12mol/L,氨水的浓度范围为0.5-2mol/L。
4.根据权利要求1所述的高分散性高镍三元前驱体材料制备方法,其特征在于,所述步骤2中,氮气为弥散分布的小气泡,直径小于等于2mm。
5.根据权利要求1所述的高分散性高镍三元前驱体材料制备方法,其特征在于,所述步骤2中,通入氮气采用的通气设备包括气管通道和喷头,所述喷头的孔径小于等于1mm。
6.根据权利要求1所述的高分散性高镍三元前驱体材料制备方法,其特征在于,所述步骤2的底液,其PH值范围在10-13,其中氨水浓度6-24g/L,底液温度在40~80℃。
7.根据权利要求1所述的高分散性高镍三元前驱体材料制备方法,其特征在于,所述步骤2,其中再将混合盐溶液、工业液碱和氨水加入到上述反应釜中,三种溶液的流量范围为混合盐溶液200-500L/h,工业液碱40-100L/h,氨水流量10-40L/h。
8.根据权利要求1所述的高分散性高镍三元前驱体材料制备方法,其特征在于,步骤2中氮气每小时通入流量Q=(0.1~20)V,V表示反应釜容积,搅拌转速在300~600rpm。
9.根据权利要求1所述的高分散性高镍三元前驱体材料制备方法,其特征在于,步骤3中氮气每小时通入流量Q=保护气流量Q=(0.1~10)V,V表示反应釜容积,且步骤3中氮气气流量小于步骤2中的氮气气流量。
10.根据权利要求1所述的高分散性高镍三元前驱体材料制备方法,其特征在于,步骤3中,控制反应釜中PH值为10-12.5;氨水浓度6-30g/L;温度40-80℃;转速250-500rpm;加料速度为混合盐溶液200-600L/h,工业液碱40-120L/h,氨水流量10-50L/h。
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