CN110357432B - 在平面坯体上制造具有凹凸模具效果的陶瓷薄板的方法 - Google Patents

在平面坯体上制造具有凹凸模具效果的陶瓷薄板的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN110357432B
CN110357432B CN201910641835.8A CN201910641835A CN110357432B CN 110357432 B CN110357432 B CN 110357432B CN 201910641835 A CN201910641835 A CN 201910641835A CN 110357432 B CN110357432 B CN 110357432B
Authority
CN
China
Prior art keywords
parts
glaze
blank
concave
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201910641835.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN110357432A (zh
Inventor
肖惠银
王瑞峰
古战文
王永强
邓江文
潘超宪
罗荣飞
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Chongqing Wonderful Ceramics Co ltd
Guangdong Jia Mei Ceramic Co
Dongguan City Wonderful Ceramics Industrial Park Co Ltd
Jiangxi Hemei Ceramics Co Ltd
Jiangxi Wonderful Ceramics Co Ltd
Original Assignee
Chongqing Wonderful Ceramics Co ltd
Guangdong Jia Mei Ceramic Co
Dongguan City Wonderful Ceramics Industrial Park Co Ltd
Jiangxi Hemei Ceramics Co Ltd
Jiangxi Wonderful Ceramics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Chongqing Wonderful Ceramics Co ltd, Guangdong Jia Mei Ceramic Co, Dongguan City Wonderful Ceramics Industrial Park Co Ltd, Jiangxi Hemei Ceramics Co Ltd, Jiangxi Wonderful Ceramics Co Ltd filed Critical Chongqing Wonderful Ceramics Co ltd
Priority to CN201910641835.8A priority Critical patent/CN110357432B/zh
Publication of CN110357432A publication Critical patent/CN110357432A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN110357432B publication Critical patent/CN110357432B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
    • C03C8/04—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing zinc
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/14—Glass frit mixtures having non-frit additions, e.g. opacifiers, colorants, mill-additions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/53—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone involving the removal of at least part of the materials of the treated article, e.g. etching, drying of hardened concrete
    • C04B41/5338—Etching
    • C04B41/5353—Wet etching, e.g. with etchants dissolved in organic solvents
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
    • C04B41/81—Coating or impregnation
    • C04B41/89—Coating or impregnation for obtaining at least two superposed coatings having different compositions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
    • C04B41/91—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics involving the removal of part of the materials of the treated articles, e.g. etching
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/60—Production of ceramic materials or ceramic elements, e.g. substitution of clay or shale by alternative raw materials, e.g. ashes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

本发明涉及在平面坯体上制造具有凹凸模具效果的陶瓷薄板的方法，包括：⑴压制平面坯体，干燥，干燥温度140～170℃，干燥时间70～120分钟；⑵在坯体表面喷雕刻墨水，雕刻墨水的图案即为模具图案，坯体表面温度控制在40～50℃；⑶在喷有雕刻墨水的砖坯上分别经过施底釉、图案装饰、施面釉，得到半成品；⑷将半成品经高温烧成，得到具有凹凸模具效果的陶瓷薄板，烧成温度1163～1187℃，烧成时间78～95分钟；⑸将烧成的薄板砖坯经过抛釉、磨边工序得到成品。

Description

在平面坯体上制造具有凹凸模具效果的陶瓷薄板的方法
技术领域
本发明涉及陶瓷生产技术领域，特别涉及一种在平面坯体上制造具有凹凸模具效果的陶瓷薄板的方法。
背景技术
陶瓷地砖种类繁多，其中按照石材、木材的表面效果来设计、生产的产品在市场上更受欢迎。这些仿石材、木材效果的陶瓷地砖，配合石材、木材类的模具，效果几乎可以做到以假乱真。而在国家大力强调节能减排的当下，随着技术的进步和消费者认知的提高，陶瓷薄板因其比传统瓷砖薄1/3，耗材少，成为陶瓷行业走向低碳的突破口，推动着陶瓷行业轻薄化发展。同样的，跟随着科技的发展，陶瓷薄板与陶瓷地砖装饰效果一样惟妙惟肖。
但是，要做到逼真的产品效果，则需要针对每一款产品设计对应的坯体模具，并在生产此款产品时更换模具来达到产品的设计效果。 CN201510038964.X公开了一种具有立体装饰效果的陶瓷薄板的制造方法, 它的目的是提供一种解决现有技术中通过常规喷墨打印形成的印花装饰层不耐磨损、立体感差等问题提出一种具有立体装饰效果的陶瓷薄板的制造方法。该技术方案:所述制造方法，包括如下步骤：A、具有凹凸纹理的泥坯通常是采用具有凹凸纹理的模具进行冲压成型而获得；将表面具有凹凸纹理，厚度≤6.5mm的泥坯在600-1050℃下进行第一次烧成；B、在第一次烧成后的坯体上布施有机渗透釉墨水和有机助渗剂墨水；在坯体表面上布施一装饰保护层的步骤和干燥步骤：干燥的温度为50-200℃，干燥10分钟以上；C、在1150-1250℃下进行第二次烧成；D、进行抛光和/或磨边加工获得陶瓷薄板产品。
但是，上述生产方法是建陶生产企业已使用多年的方法，存在许多不足。一是要频繁更换模具，增加员工工作强度和生产难度；二是模具坯体会出现坯体崩裂现象，凹凸变化越大的模具问题越明显；三是坯体模具和表面图案的纹理有时会出现偏差，使产品档次大幅下降；四是随着生产过程中模具的损耗，首次使用模具生产的产品和模具使用一段时间后生产的产品存在很大的差异，无法保证产品模具效果的稳定性。
发明内容
本发明的目的是提供一种使生产不同模具的产品时不需要更换模具，统一使用平面坯体，大幅减少了员工的劳动强度和生产难度，在通用的平面坯体上制造具有凹凸模具效果的陶瓷薄板的方法。
本发明的技术解决方案是所述在平面坯体上制造具有凹凸模具效果的陶瓷薄板的方法，其特殊之处在于，包括以下步骤：
⑴压制平面坯体，干燥，干燥温度140～170℃，干燥时间70～120分钟；
⑵在坯体表面喷雕刻墨水，雕刻墨水的图案即为模具图案，坯体表面温度控制在40～50℃；
⑶在喷有雕刻墨水的砖坯上分别经过施底釉、图案装饰、施面釉，得到半成品；
⑷将半成品经高温烧成，得到具有凹凸模具效果的陶瓷薄板，烧成温度1163～1187℃，烧成时间78～95分钟；
⑸将烧成的薄板砖坯经过抛釉、磨边工序得到成品。
作为优选：步骤⑵中所述的雕刻墨水，按重量份由以下组分组成：雕刻剂30～50份，油性憎水剂30～45份，脂类3～8份，分散剂5～9份，防沉剂0.05～0.3份，消泡剂0.05～0.2份。
作为优选：所述雕刻墨水的恩氏粘度13～19s，用量80～120g/m2。
作为优选：所述雕刻墨水的图案由线条状图案和点状图案组成，线条的宽度和点的直径在0.3～3mm。
作为优选：所述步骤⑶中，所施底釉择一选用抛釉薄板的化妆土或亚光釉，所施面釉择一选用抛釉或干粒，所述化妆土的施釉参数为：比重 1.82±0.02g/cm3，釉量500～700g/m2，恩氏粘度28～33s；所述亚光釉的施釉参数为：比重1.80±0.02，釉量550～800g/m2，恩氏粘度28～32s；所述抛釉的施釉参数：比重1.75±0.02g/cm3，釉量350～500g/m2，恩氏粘度25～30s；所述施干粒的方法是干法或者湿法工艺。
作为优选：所述底釉择一选用以下的一种方案：
所述化妆土，按重量份由以下组分组成：
Figure BDA0002132134360000021
所述亚光釉按重量份由以下组分组成：
Figure BDA0002132134360000031
作为优选：所述底釉选择化妆土中的亚光乳浊熔块的方案：
所述亚光乳浊熔块的原料，按重量份由以下组分组成：
Figure BDA0002132134360000032
所述底釉选择亚光釉中的亚光透明熔块的方案：
所述亚光透明熔块的原料按重量份由以下组分组成：
Figure BDA0002132134360000033
作为优选：抛釉的重量份由以下组分组成：
Figure BDA0002132134360000034
作为优选：所述亚光透明熔块原料按重量份由以下组分组成：
Figure BDA0002132134360000035
所述亮光透明熔块的原料按重量份由以下组分组成：
Figure BDA0002132134360000036
作为优选：所述施干粒的方法择一地选用以下的一种方案：
所述干法施干粒的制备步骤如下：
a)在装饰层表面喷一层胶水，胶水量50～80g/m2；
b)用干粒机在胶水层表面布置一层干粒层，干粒用量400～600g/m2；
c)在干粒层表面再喷一层胶水，胶水量70～100g/m2；
d)经过干燥设备，干燥温度150℃，干燥时间1分钟；
所述湿法施干粒制备步骤如下：
a)将悬浮液和干粒按质量比6：4混合均匀，形成干粒浆；
b)用钟罩在装饰层表面布置一层干粒层，干粒浆用量350～500g/m2；
c)经过干燥设备，干燥温度150℃，干燥时间1分钟。
与现有技术相比，本发明的有益效果:
⑴本发明采用的雕刻墨水中含有雕刻剂，在烧成过程中会对雕刻墨水下方的坯体产生一定的腐蚀作用，使有雕刻墨水的坯体位置产生向下凹陷的效果，从而产生凹凸模具效果；
⑵本发明采用的雕刻墨水中含有油性憎水剂，在后续施釉工序中，因釉浆为水性，可以使有雕刻墨水的位置上的釉流到旁边没有雕刻墨水的地方，从而使模具效果更加立体；
⑶本发明采用雕刻墨水使平面坯体拥有凹凸模具的效果，使具有模具效果的薄板产品的设计更加简单快捷，变化也更加丰富。
⑷本发明使用的平面坯体，在更换不同模具效果时只需要更换雕刻墨水文件，而不需要更换模具，降低生产难度，减低工人劳动强度。
⑸本发明制备的产品符合瓷质砖标准，其性能完全符合陶瓷砖国家标准GB/T4100-2015。
具体实施方式
本发明下面将结合实施例作进一步详述：
实施例一：
所述在平面坯体上制造具有凹凸模具效果的陶瓷薄板的方法，包括以下步骤：
1)压制平面坯体，干燥，干燥温度1650℃，干燥时间107分钟；
2)在坯体表面喷雕刻墨水，雕刻墨水的图案即为模具图案，坯体表面温度控制在40～50℃；
3)在喷有雕刻墨水的砖坯上分别经过施底釉、图案装饰、施面釉工艺，得到半成品；
4)将半成品经高温烧成，得到具有凹凸模具效果的陶瓷薄板，烧成温度1182℃，烧成时间91分钟；
5)将烧成的薄板砖坯经过抛釉、磨边工序得到成品。
所述步骤2)中的雕刻墨水按重量份由以下组分组成：雕刻剂43份，油性憎水剂42份，脂类7份，分散剂8份，防沉剂0.15份，消泡剂0.1 份；
所述雕刻墨水的恩氏粘度13～19s，用量88g/m2；
所述雕刻墨水的图案由线条状木纹图案组成，线条的宽度和在0.5～ 2.5mm；
所述步骤3)中，所施底釉为抛釉薄板的化妆土，后续还要经过图案装饰、施抛釉工艺后烧成，烧成后需经过抛光、磨边工序得到成品。
所述化妆土按重量份由以下组分组成：
Figure BDA0002132134360000051
化妆土所用亚光乳浊熔块的原料按重量份由以下组分组成：
Figure BDA0002132134360000052
所述化妆土的施釉参数为：比重1.82±0.02g/cm3，釉量620g/m2，恩氏粘度28～33s。
所述抛釉按重量份由以下组分组成：
Figure BDA0002132134360000053
抛釉所用亚光透明熔块的原料按重量份由以下组分组成：
Figure BDA0002132134360000054
抛釉所述亮光透明熔块的原料按重量份由以下组分组成：
Figure BDA0002132134360000055
所述抛釉的施釉参数为：比重1.75±0.02g/cm3，釉量430g/m2，恩氏粘度25～30s。
实施例二：
所述在平面坯体上制造具有凹凸模具效果的陶瓷薄板的方法，包括以下步骤：
1)压制平面坯体，干燥，干燥温度148℃，干燥时间82分钟；
2)在坯体表面喷雕刻墨水，雕刻墨水的图案即为模具图案，坯体表面温度控制在40～50℃；
3)在喷有雕刻墨水的砖坯上分别经过施底釉、图案装饰工艺，得到半成品；
4)将半成品经高温烧成，得到具有凹凸模具效果的陶瓷薄板，烧成温度1171℃，烧成时间82分钟；
5)将烧成的薄板砖坯经过抛釉、磨边工序得到成品。
所述步骤2)中的雕刻墨水按重量份由以下组分组成：雕刻剂43份，油性憎水剂42份，脂类7份，分散剂8份，防沉剂0.15份，消泡剂0.1 份。
所述雕刻墨水的恩氏粘度13～19s，用量105g/m2。
所述雕刻墨水的图案由线条状图案和点状图案组成的石材纹理，线条的宽度在0.5～2mm，点的直径在1～3mm。
所述步骤3)中，所施底釉为亚光釉，后续经过图案装饰后烧成，烧成后经过磨边工序得到成品。
所述亚光釉按重量份由以下组分组成：
Figure BDA0002132134360000061
亚光釉所用亚光透明熔块的原料按重量份由以下组分组成：
Figure BDA0002132134360000062
所述亚光釉的施釉参数为：比重1.80±0.02，釉量780g/m2，恩氏粘度28～32s。
实施例三：
所述在平面坯体上制造具有凹凸模具效果的陶瓷薄板的方法，包括以下步骤：
1)压制平面坯体，干燥，干燥温度1650℃，干燥时间107分钟；
2)在坯体表面喷雕刻墨水，雕刻墨水的图案即为模具图案，坯体表面温度控制在40～50℃；
3)在喷有雕刻墨水的砖坯上分别经过施底釉、图案装饰、施面釉工艺，得到半成品；
4)将半成品经高温烧成，得到具有凹凸模具效果的陶瓷薄板，烧成温度1178℃，烧成时间93分钟；
5)将烧成的薄板砖坯经过抛釉、磨边工序得到成品。
所述步骤2)中的雕刻墨水按重量份由以下组分组成：雕刻剂43份，油性憎水剂42份，脂类7份，分散剂8份，防沉剂0.15份，消泡剂0.1 份。
所述雕刻墨水的恩氏粘度13～19s，用量88g/m2。
所述雕刻墨水的图案由线条状木纹图案组成，线条的宽度和在0.5～ 2.5mm。
所述步骤3)中，所施底釉为抛釉薄板的化妆土，所施面釉是干粒，施干粒的方法是干法工艺，施干粒后的砖坯经烧成、抛光、磨边工序得到成品。
所述化妆土按重量份由以下组分组成：
Figure BDA0002132134360000071
化妆土所用亚光乳浊熔块的原料按重量份由以下组分组成：
Figure BDA0002132134360000072
所述化妆土的施釉参数为：比重1.82±0.02g/cm3，釉量620g/m2，恩氏粘度28～33s。
所述干法施干粒工艺步骤如下：
a)在装饰层表面喷一层胶水，胶水量60g/m2；
b)用干粒机在胶水层表面布置一层干粒层，干粒用量500g/m2；
c)在干粒层表面再喷一层胶水，胶水量80g/m2；
d)经过干燥设备，干燥温度150℃，干燥时间1分钟。
所述步骤3)中，图案装饰为喷墨打印。
实施例四：
所述在平面坯体上制造具有凹凸模具效果的陶瓷薄板的方法，包括以下步骤：
1)压制平面坯体，干燥，干燥温度1650℃，干燥时间107分钟；
2)在坯体表面喷雕刻墨水，雕刻墨水的图案即为模具图案，坯体表面温度控制在40～50℃；
3)在喷有雕刻墨水的砖坯上分别经过施底釉、图案装饰、施面釉工艺，得到半成品；
4)将半成品经高温烧成，得到具有凹凸模具效果的陶瓷薄板，烧成温度1178℃，烧成时间93分钟；
5)将烧成的薄板砖坯经过抛釉、磨边工序得到成品。
所述步骤2)中的雕刻墨水按重量份由以下组分组成：雕刻剂43份，油性憎水剂42份，脂类7份，分散剂8份，防沉剂0.15份，消泡剂0.1 份。
所述雕刻墨水的恩氏粘度13～19s，用量88g/m2。
所述雕刻墨水的图案由线条状木纹图案组成，线条的宽度和在0.5～ 2.5mm。
所述步骤3)中，所施底釉为抛釉薄板的化妆土，所施面釉是干粒，施干粒的方法是湿法工艺，施干粒后的砖坯经烧成、抛光、磨边工序得到成品。
所述化妆土按重量份由以下组分组成：
Figure BDA0002132134360000081
化妆土所用亚光乳浊熔块的原料按重量份由以下组分组成：
Figure BDA0002132134360000082
所述化妆土的施釉参数为：比重1.82±0.02g/cm3，釉量620g/m2，恩氏粘度28～33s。
所述湿法施干粒工艺步骤如下：
a)将悬浮液和干粒按质量比6：4混合均匀，形成干粒浆；
b)用钟罩在装饰层表面布置一层干粒层，干粒浆用量400g/m2；
c)经过干燥设备，干燥温度150℃，干燥时间1分钟。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，凡依本发明权利要求范围所做的均等变化与修饰，皆应属本发明权利要求的涵盖范围。

Claims (5)

1.一种在平面坯体上制造具有凹凸模具效果的陶瓷薄板的方法，其特征在于，包括以下步骤：
⑴压制平面坯体，干燥，干燥温度140～170℃，干燥时间70～120分钟；
⑵在坯体表面喷雕刻墨水，雕刻墨水的图案即为模具图案，坯体表面温度控制在40～50℃；所述的雕刻墨水，按重量份由以下组分组成：雕刻剂30～50份，油性憎水剂30～45份，脂类3～8份，分散剂5～9份，防沉剂0.05～0.3份，消泡剂0.05～0.2份；
⑶在喷有雕刻墨水的砖坯上分别经过施底釉、图案装饰、施面釉，得到半成品；所施底釉择一选用抛釉薄板的化妆土或亚光釉，所施面釉择一选用抛釉或干粒，所述化妆土的施釉参数为：比重1.82±0.02g/cm3，釉量500～700g/m2，恩氏粘度28～33s；所述亚光釉的施釉参数为：比重1.80±0.02，釉量550～800g/m2，恩氏粘度28～32s；所述抛釉的施釉参数：比重1.75±0.02g/cm3，釉量350～500g/m2，恩氏粘度25～30s；所述施干粒的方法是干法或者湿法工艺；
⑷将半成品经高温烧成，得到具有凹凸模具效果的陶瓷薄板，烧成温度1163～1187℃，烧成时间78～95分钟；
⑸将烧成的薄板砖坯经过抛釉、磨边工序得到成品。
2.根据权利要求1所述在平面坯体上制造具有凹凸模具效果的陶瓷薄板的方法，其特征在于，所述雕刻墨水的恩氏粘度13～19s，用量80～120g/m2。
3.根据权利要求1所述在平面坯体上制造具有凹凸模具效果的陶瓷薄板的方法，其特征在于，所述雕刻墨水的图案由线条状图案和点状图案组成，线条的宽度和点的直径在0.3～3mm。
4.根据权利要求1所述在平面坯体上制造具有凹凸模具效果的陶瓷薄板的方法，其特征在于，所述底釉择一选用以下的一种方案：
所述化妆土，按重量份由以下组分组成：
石英3～10份、钠长石8～12份、钾长石5～15份、烧滑石3～5份、硅酸锆5～15份、高岭土8～12份、煅烧高岭土2～5份、氧化铝0～4份、亚光乳浊熔块30～50份、羧甲基纤维素0.2～0.4份、三聚磷酸钠0.3～0.5份；
所述亚光乳浊熔块的原料，按重量份由以下组分组成：
长石15～30份、霞石35～55份、石英8～15份、方解石5～8份、碳酸钡3～5份、硅酸锆3～6份、铝矾土8～12份、硼酸2～5份；
所述亚光釉按重量份由以下组分组成：
烧氧化锌1～3份、钠长石10～15份、钾长石12～20份、霞石12～25份、高岭土8～12份、烧滑石5～8份、煅烧高岭土3～10份、白云石2～4份、方解石2～5份、亚光透明熔块10～20份、羧甲基纤维素0.2～0.4份、三聚磷酸钠0.3～0.5份；
所述亚光透明熔块的原料按重量份由以下组分组成：
长石20～40份、霞石25～40份、白云石8～12份、方解石5～10份、碳酸钡3～8份、氧化锌3～5份、硼酸2～5份。
5.根据权利要求1所述在平面坯体上制造具有凹凸模具效果的陶瓷薄板的方法，其特征在于，所述施干粒的方法择一地选用以下的一种方案：
所述干法施干粒的制备步骤如下：
a)在装饰层表面喷一层胶水，胶水量50～80g/m2；
b)用干粒机在胶水层表面布置一层干粒层，干粒用量400～600g/m2；
c)在干粒层表面再喷一层胶水，胶水量70～100g/m2；
d)经过干燥设备，干燥温度150℃，干燥时间1分钟；
所述湿法施干粒制备步骤如下：
a)将悬浮液和干粒按质量比6：4混合均匀，形成干粒浆；
b)用钟罩在装饰层表面布置一层干粒层，干粒浆用量350～500g/m2；
c)经过干燥设备，干燥温度150℃，干燥时间1分钟。
CN201910641835.8A 2019-07-16 2019-07-16 在平面坯体上制造具有凹凸模具效果的陶瓷薄板的方法 Active CN110357432B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910641835.8A CN110357432B (zh) 2019-07-16 2019-07-16 在平面坯体上制造具有凹凸模具效果的陶瓷薄板的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910641835.8A CN110357432B (zh) 2019-07-16 2019-07-16 在平面坯体上制造具有凹凸模具效果的陶瓷薄板的方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN110357432A CN110357432A (zh) 2019-10-22
CN110357432B true CN110357432B (zh) 2022-08-19

Family

ID=68220151

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910641835.8A Active CN110357432B (zh) 2019-07-16 2019-07-16 在平面坯体上制造具有凹凸模具效果的陶瓷薄板的方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110357432B (zh)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110746203A (zh) * 2019-10-24 2020-02-04 广东萨米特陶瓷有限公司 一种数码工艺制作模具效果纹理的陶瓷制品及其制作方法
CN111470856B (zh) * 2020-04-09 2022-05-24 江西和美陶瓷有限公司 薄型陶瓷岩板及其制备方法
CN112297191A (zh) * 2020-09-21 2021-02-02 佛山市恒虹陶瓷有限公司 一种镂空、异形陶瓷岩板的一次成型方法
CN112358326B (zh) * 2021-01-14 2021-04-02 佛山市三水区康立泰无机合成材料有限公司 一种哑光深度雕刻效果的陶瓷砖的制备方法及陶瓷砖
CN112830774A (zh) * 2021-01-26 2021-05-25 佛山市三水新明珠建陶工业有限公司 一种数码釉瓷砖及其生产方法
CN112759358A (zh) * 2021-01-26 2021-05-07 佛山市高明贝斯特陶瓷有限公司 一种具有雕刻纹理的岩板及其制备方法
CN113233921B (zh) * 2021-05-18 2022-11-29 广东宏海陶瓷实业发展有限公司 一种模具纹理瓷砖的制备方法及陶瓷砖
CN113321536A (zh) * 2021-07-07 2021-08-31 肇庆市将军陶瓷有限公司 一种岩板仿精雕模具效果的制备工艺
CN113563115B (zh) * 2021-07-09 2022-08-05 蒙娜丽莎集团股份有限公司 全数码模具薄型陶瓷板及其制备方法
CN113651639A (zh) * 2021-08-17 2021-11-16 广东兴辉陶瓷集团有限公司 用于岩板表面装饰的新型叠加工艺及岩板
CN113651534A (zh) * 2021-08-17 2021-11-16 广东省新岩素智能家居科技有限公司 用于动态成型工艺的锆白釉料及其应用
CN115403410B (zh) * 2022-11-02 2023-03-24 新明珠集团股份有限公司 一种具有模具立体效果的数码打印釉面砖及其制备方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103224726A (zh) * 2013-04-08 2013-07-31 佛山市道氏科技有限公司 一种陶瓷喷墨打印用皮纹效果釉料墨水及其制备方法
CN105418162A (zh) * 2015-12-14 2016-03-23 东莞市唯美陶瓷工业园有限公司 一种具有立体石纹纹理的通体抛釉瓷质砖及其制造方法
CN105837172A (zh) * 2016-03-23 2016-08-10 广东宏陶陶瓷有限公司 表面具有防滑效果的资源节约型有釉陶瓷砖及其制备方法
CN105907178A (zh) * 2015-12-24 2016-08-31 广东道氏技术股份有限公司 一种陶瓷喷墨打印用拨开釉墨水
CN109384476A (zh) * 2018-11-05 2019-02-26 广东金意陶陶瓷集团有限公司 一种防滑耐磨负离子陶瓷砖及其制备方法
CN109574711A (zh) * 2019-01-23 2019-04-05 信益陶瓷(中国)有限公司 一种表面具精细凹凸纹理的瓷质砖及其制造方法
CN109849163A (zh) * 2019-03-28 2019-06-07 江西和美陶瓷有限公司 一种利用刮边废料制得的立体釉饰砖及其制造方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104591805B (zh) * 2015-01-26 2017-02-01 佛山市东鹏陶瓷有限公司 一种防污效果好的陶瓷薄板的制造方法
CN104591786B (zh) * 2015-01-26 2017-02-01 佛山市东鹏陶瓷有限公司 一种具有渗透层的陶瓷薄板的制造方法
CN104830156B (zh) * 2015-05-04 2017-08-04 蒙娜丽莎集团股份有限公司 一种能产生拨釉效果的墨水
CN109293397A (zh) * 2018-10-09 2019-02-01 肇庆乐华陶瓷洁具有限公司 一种具有3d浮雕的仿古砖及其制备方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103224726A (zh) * 2013-04-08 2013-07-31 佛山市道氏科技有限公司 一种陶瓷喷墨打印用皮纹效果釉料墨水及其制备方法
CN105418162A (zh) * 2015-12-14 2016-03-23 东莞市唯美陶瓷工业园有限公司 一种具有立体石纹纹理的通体抛釉瓷质砖及其制造方法
CN105907178A (zh) * 2015-12-24 2016-08-31 广东道氏技术股份有限公司 一种陶瓷喷墨打印用拨开釉墨水
CN105837172A (zh) * 2016-03-23 2016-08-10 广东宏陶陶瓷有限公司 表面具有防滑效果的资源节约型有釉陶瓷砖及其制备方法
CN109384476A (zh) * 2018-11-05 2019-02-26 广东金意陶陶瓷集团有限公司 一种防滑耐磨负离子陶瓷砖及其制备方法
CN109574711A (zh) * 2019-01-23 2019-04-05 信益陶瓷(中国)有限公司 一种表面具精细凹凸纹理的瓷质砖及其制造方法
CN109849163A (zh) * 2019-03-28 2019-06-07 江西和美陶瓷有限公司 一种利用刮边废料制得的立体釉饰砖及其制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN110357432A (zh) 2019-10-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110357432B (zh) 在平面坯体上制造具有凹凸模具效果的陶瓷薄板的方法
CN108727037B (zh) 一种无光釉面的立体高仿真陶瓷砖及其制备方法
CN112358326B (zh) 一种哑光深度雕刻效果的陶瓷砖的制备方法及陶瓷砖
CN110759751B (zh) 一种精雕纹理砖的制备方法及制备的精雕纹理砖
CN107756608B (zh) 一种干粒釉布料仿石砖及其制备方法
CN113666772B (zh) 一种具有深刻凹凸纹理的陶瓷岩板及其制备方法
CN107685383B (zh) 一种仿古砖陶瓷的生产工艺
CN110746203A (zh) 一种数码工艺制作模具效果纹理的陶瓷制品及其制作方法
CN108582416B (zh) 一种大中型陶瓷器制造方法
CN108715516B (zh) 白色釉、含有白色釉的通体无界线陶瓷砖及其制备方法
CN113716967A (zh) 一种具有闪光效果的陶瓷砖及其制备方法
CN109279919A (zh) 一种水磨精石砖及其制备方法
CN106007800B (zh) 一种背景墙砖的制备方法及背景墙的制备方法
CN107344814B (zh) 一种柔光砖面釉及柔光砖
CN111168815B (zh) 一种具有防污防滑功能的全数字化装饰瓷抛砖及其生产方法
CN106915197B (zh) 一种堆雕陶瓷板装饰画的制备方法
CN107200554A (zh) 一种防污柔光大理石瓷砖的制备工艺
CN113563115B (zh) 全数码模具薄型陶瓷板及其制备方法
CN113183292B (zh) 数控模具效果陶瓷砖的制备方法
CN112408962A (zh) 一次烧成立体抗菌陶瓷板画及其制备方法
CN110577415A (zh) 一种具有仿古面石材肌理效果的瓷砖及其制作工艺
CN107902900B (zh) 包裹形干粒釉、包裹形干粒釉布料仿石砖及其制备方法
CN113582731A (zh) 一种哑光带立体感的数码干粒陶瓷砖及其制备方法
CN110156495B (zh) 一种3d釉面的施釉工艺方法
CN111499396A (zh) 一种突出亮/哑对比的金属质感瓷质板材及其制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant