CN112830774A - 一种数码釉瓷砖及其生产方法 - Google Patents
一种数码釉瓷砖及其生产方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN112830774A CN112830774A CN202110102399.4A CN202110102399A CN112830774A CN 112830774 A CN112830774 A CN 112830774A CN 202110102399 A CN202110102399 A CN 202110102399A CN 112830774 A CN112830774 A CN 112830774A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- glaze
- digital
- oxide
- percent
- green brick
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 42
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 36
- 239000011449 brick Substances 0.000 claims abstract description 65
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 31
- 239000002689 soil Substances 0.000 claims abstract description 30
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 25
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 claims abstract description 18
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims abstract description 15
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 claims abstract description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 45
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 28
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 27
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 24
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 24
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- AYJRCSIUFZENHW-UHFFFAOYSA-L barium carbonate Chemical compound [Ba+2].[O-]C([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 20
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims description 18
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 16
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 15
- CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N potassium oxide Chemical compound [O-2].[K+].[K+] CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910001950 potassium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 15
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N sodium oxide Chemical compound [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 15
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 14
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 claims description 13
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 claims description 13
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 13
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 12
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 claims description 11
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 claims description 11
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000004927 clay Substances 0.000 claims description 11
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims description 11
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 10
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims description 9
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 7
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 claims description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 7
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims description 7
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 7
- 239000000375 suspending agent Substances 0.000 claims description 7
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 5
- 229910052665 sodalite Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000004576 sand Substances 0.000 claims 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 235000015895 biscuits Nutrition 0.000 description 10
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000010433 feldspar Substances 0.000 description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 239000011435 rock Substances 0.000 description 6
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 230000009471 action Effects 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 3
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 3
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 3
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 3
- 229920002503 polyoxyethylene-polyoxypropylene Polymers 0.000 description 3
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 3
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 3
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 3
- HSFQBFMEWSTNOW-UHFFFAOYSA-N sodium;carbanide Chemical group [CH3-].[Na+] HSFQBFMEWSTNOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000014692 zinc oxide Nutrition 0.000 description 3
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007723 die pressing method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 description 1
- 230000001953 sensory effect Effects 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/14—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/89—Coating or impregnation for obtaining at least two superposed coatings having different compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3201—Alkali metal oxides or oxide-forming salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3205—Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
- C04B2235/3206—Magnesium oxides or oxide-forming salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3205—Alkaline earth oxides or oxide forming salts thereof, e.g. beryllium oxide
- C04B2235/3208—Calcium oxide or oxide-forming salts thereof, e.g. lime
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
- C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
- C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
- C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
- C04B2235/3217—Aluminum oxide or oxide forming salts thereof, e.g. bauxite, alpha-alumina
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/60—Production of ceramic materials or ceramic elements, e.g. substitution of clay or shale by alternative raw materials, e.g. ashes
Abstract
本发明提供了一种数码釉瓷砖的生产方法，包括以下步骤:制备砖坯并干燥备用；在砖坯上施一层化妆土并干燥备用；施完化妆土并干燥后的砖坯进行数码釉纹理图案打印；在打印好数码釉纹理图案的砖坯上施淋面釉并干燥备用；施完面釉并干燥后的砖坯进行颜色喷墨打印；打印好图案的砖坯进行数码保护釉打印；砖坯进入辊道窑炉进行烧成后即可得到数码釉瓷砖成品砖；本发明提供一种效果更精细，表面肌理更细腻，且凹凸细节丰富的数码釉瓷砖的生产方法，产品凹凸效果好，凹凸面过渡自然，可以方便地进行个性化定制生产，更能满足消费者的需求，具有广阔的市场前景。
Description
技术领域
本发明属于陶瓷建筑装饰材料领域，具体涉及一种数码釉瓷砖及其生产方法。
背景技术
瓷砖是一种常见的建筑装饰材料，瓷砖釉面是与人可以感观接触的部分，其表面的美观度在很大程度上决定了消费者购买欲望的大小，随着工业4.0的发展，近年来科技在瓷砖生产上的运用也越来越凸显，在追求瓷砖表面质感细腻，肌理精细的道路上陶瓷研究人员从没停步。
表面具有细致纹理产品越来越受欢迎，此类产品生产工艺搭配砖坯模具效果，及多种工艺的结合，使产品表面更丰富，更接近于原素材。但传统砖坯模具由于凹凸效果是雕刻在压机模芯上，纹路比较固定单一。随着瓷砖喷墨打印的发展，图案越来越丰富，消费者也追求每片产品纹路多样化，这样一来单一的砖坯模具效果很难和多样化的花纹纹路相匹配，在陶瓷产品追求更细致、更逼真于原素材的道路上，利用压机模芯产生的凹凸效果已经滞后。
在此背景下，研发一种效果更精细，表面肌理更细腻，且凹凸细节丰富的瓷砖生产方法十分有必要。
发明内容
本发明的目的在于提供一种表面效果更精细，表面肌理更细腻，且凹凸细节丰富的数码釉瓷砖的生产方法。
本发明的技术方案如下所述。
一种数码釉瓷砖的生产方法，包括以下步骤:
步骤A、制备砖坯并干燥备用；
步骤B、在砖坯上施一层化妆土釉浆并干燥备用；
步骤C、将施完化妆土釉浆并干燥后的砖坯进入第一喷墨机进行数码釉纹理图案打印；
步骤D、在打印好数码釉纹理图案的砖坯上施淋面釉并干燥备用；
步骤E、将施完面釉并干燥后的砖坯进入第二喷墨机进行颜色喷墨打印；
步骤F、将打印好图案的砖坯进入第三喷墨机进行数码保护釉打印；
步骤G、砖坯进入辊道窑炉进行烧成后即可得到数码釉瓷砖成品砖。
本生产方法的原理具体为：由于数码釉是以酯类作为溶剂所加工而得，此墨水是属于疏水物，此过程所施面釉为水性釉料，属于亲水性物质，是极性物质，在其内部形成氢键，而属于疏水性的数码釉不是电子极化性的，内部无法形成氢键，所以水性釉料受到疏水性的墨水的排斥，此阶段所施面釉会根据所打印的墨水图案纹理进行相互排斥，产生物理反应。釉料根据墨水图案纹路的规律进行排开及堆积，在有数码釉的位置由于面釉的排开而形成凹位，而没有数码釉的位置由于釉料的堆积而凸起，从而形成根据纹理设计的凹凸效果。数码釉是一种极具有墨水属性也具有釉料属性，介于墨水和釉料之间的新材料，数码保护釉与数码釉材质相同，只是数码保护釉是喷在表面起到保护釉面的作用，因此而命名为保护釉，化妆土即陶衣，是指把较细的陶土或瓷土，用水调和成泥浆涂在陶胎或瓷胎上，在器物表面形成的色浆。
作为优选，所述步骤A包括以下步骤：
步骤A1、原材料球磨成浆，喷雾制粉；
步骤A2、高吨位压机压制成型，制成所需规格的平面砖坯；
步骤A3、压制好的砖坯进入第一干燥窑进行排水，出窑水分控制在0.5-0.8％。
作为优选，所述步骤B包括以下步骤：
步骤B1、将干燥后的砖坯进入第一施釉设备，施一层数码釉模具瓷砖专用的化妆土；
步骤B2、施好化妆土后的砖坯进入第二干燥窑进行排水，出窑水分控制在0.5％以下。
作为优选，所述步骤D包括以下步骤：
步骤D1、将打印好数码釉纹理图案的砖坯进入到第二施釉设备进行施淋面釉；
步骤D2、施完面釉的砖坯进入第三干燥窑进行排水，含水率控制在0.6-0.8％。
作为优选，所述步骤C中喷墨机所打印的数码釉组成为：基础釉料20-50％，功能树脂添加剂2-5％，醋酸乙酯溶剂20-40％，分散剂15-20％，悬浮剂0.1-0.2％，消泡剂0.3-0.6％，流平剂0.1-0.2％，pH值调节剂0.1-0.15％，按数码釉重量计算，优选为，基础釉料45％，功能树脂添加剂5％，醋酸乙酯溶剂35％，分散剂13.8％，悬浮剂0.15％，消泡剂0.4％，流平剂0.5％，pH值调节剂0.15％，按数码釉重量计算。所述基础釉料组成为：煅烧高岭土15-20％，石英8-15％，钾钠长石40-60％，碳酸钡8-15％，氧化锌3-10％，按基础釉料重量计算，基础釉料优选为煅烧高岭土18％，石英10％，钾钠长石52％，碳酸钡12％，氧化锌8％，按基础釉料重量计算，所述数码釉的比重在1.4-1.5克/ml，细度为D100<1微米，喷墨量为40-45克/㎡。
作为优选，所述步骤A中砖坯原料的化学组成按质量百分比为：二氧化硅66-69％、氧化铝18-20％、氧化钙0.2-0.5％、氧化镁1.0-2.0％、氧化钾+氧化钠4.5-5.5％、其余为微量杂质及酌减。优选为，二氧化硅67.79％、氧化铝19.33％、氧化钙0.39％、氧化镁1.23％、氧化钾+氧化钠5.19％，其余为少量杂质及酌减。
作为优选，所述步骤B中化妆土的化学组成按质量百分比为：二氧化硅54-57％、三氧化二铝25-28％、氧化钠2.8-3.8％、氧化钾2.0-3.0％、氧化钙0.5-1.0％、氧化镁0.4-0.8％、氧化锆5.5-8.0％其他为微量杂质及酌减，优选地，所述步骤B中的化妆土的化学组成按质量百分比为：二氧化硅56.24％、三氧化二铝27.28％、氧化钠3.31％、氧化钾2.58％、氧化钙0.73％、氧化镁0.66％、氧化锆6.30％，其余为微量杂质及酌减。
作为优选，所述步骤E中面釉的化学组成按质量百分比为：二氧化硅65-68％、氧化铝15-17％、氧化钾3.5-4.5％、氧化钠2.0-3.05、氧化锌2.0-3.0、氧化钡3.0-4.0％、氧化锆4.0-6.0％、其他为微量杂质及酌减，作为优选，所述面釉的化学组成按质量百分比为：二氧化硅65.28％、氧化铝16.67％、氧化钾4.03％、氧化钠2.87％、氧化锌2.39％、氧化钡3.41％、氧化锆4.09％，其余为微量杂质及酌减。
作为优选，所述步骤B中化妆土比重为1.85-1.90克/ml，施釉量为260-290克/㎡，化妆土流速为33-38秒/100ml，进一步优选为，所述步骤B中化妆土比重为1.88克/ml，施釉量为280克/㎡，化妆土流速为35秒/100ml。
作为优选，所述步骤D中面釉比重为1.85-1.90克/ml，施釉量为290-310克/㎡，面釉流速为33-38秒/100ml，进一步优选为，所述步骤D中面釉比重为1.88克/ml，施釉量为300克/㎡，面釉流速为35秒/100ml。
作为优选，所述步骤H中的釉烧条件为：在1000-1250度的温度条件下烧制40-100分钟，进一步优选为1180度的温度条件下烧制60分钟。
本发明还公布了一种数码釉瓷砖，其特征在于，所述瓷砖包括依次相连的砖坯层、化妆土层、数码釉层、面釉层、喷墨图案层以及数码保护釉层。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
1.传统产品为压机的雕刻模芯压制出的模具效果，本发明产品则是通过电脑端设计图案，数码喷釉和常规釉料相结合，多台喷墨机串联，生产出具有随机凹凸效果的数码釉瓷砖，相对于压机模芯所产生的模具凹凸效果，此发明所产生的凹凸效果更精细，表面肌理更细腻，且凹凸细节丰富，具有可以跟着素材纹理的可变性；
2.数码釉瓷砖解决了压机模芯的模具效果的纹理单一问题，不能跟着图案随机凹凸及不能根据纹理对位的问题，还解决了压机模芯随着使用时间而变得磨损钝化而导致凹凸效果不够精细的问题；
3.数码釉瓷砖只需要压机压制平面坯即可，转换不同模具效果只需电脑端更换数据文件，转产时可以不停线操作，相对于传统压机压制模具效果，转产时需要停线换模具来操作，节省了生产时间，大大提高了生产效率；
4.本发明的生产方法可以在不同规格及不同厚度的产品上运用，应用场景广泛，目前岩板产品正在风靡，未来也是势不可挡，此工艺运用在岩板上可以解决传统模具在岩板上产生的强度不足的问题；
5.本发明的生产方法所生产的凹凸效果的瓷砖，凹凸面过渡的更为自然，且每一块的凹凸深度及宽度可以利用数码喷釉稳定控制，相对于压机模芯的凹凸效果随着使用时间增加会变的凹凸效果越来越浅，有较大的稳定性。
6.本发明的生产方法方便了产品定制化生产，更能满足消费者的需求，具有广阔的市场前景。
附图说明
图1是本发明实施例1中数码釉模具瓷砖的竖直剖面结构示意图；
图2是本发明实施例2中岩石素材数码釉模具瓷砖的表面示意图；
图3是本发明实施例3中木纹素材数码釉模具瓷砖的表面示意图；
图4是本发明实施例4中原石素材数码釉模具瓷砖的表面示意图。
其中，各附图标记所指代的技术特征如下：
1、砖坯层；2、化妆土层；3、数码釉层；4、面釉层；5、喷墨打印层；6、数码保护釉层。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，对本发明进一步详细说明，但本发明要求的保护范围并不局限于实施例。
下述实施例所采用的原料如无特殊说明，均为市售。
实施例1
本发明公开一种数码釉模具瓷砖，如图1所示，瓷砖具有沿着纹路凹凸的模具效果。瓷砖包括依次相连的砖坯层，化妆土层，数码釉层，面釉层，喷墨打印层，数码保护釉层。
实施例2
本实施例公开了一种岩石素材数码釉瓷砖的制造方法，包括以下步骤：
步骤P1、制备数码釉，按质量百分比选用煅烧高岭土18％，石英10％，钾钠长石52％，碳酸钡12％，氧化锌6％这五种矿物原料及化工原料制成基础釉料。按质量百分比再称取基础釉料45％，功能树脂添加剂(丙烯酸树脂)5％，醋酸乙酯溶剂35％，分散剂(由1:5的聚丙烯酸胺和聚乙烯吡咯烷酮组成)13.8％，悬浮剂(由0.1:5的甲基纤维素钠同乙二醇混合而成)0.15％，消泡剂0.4％(聚氧乙烯聚氧丙醇胺醚)，流平剂(Hyperlev F40)0.5％和pH值调节剂(有机胺)0.15％，然后利用研磨分散法制得比重在1.43克/ml，粒径为D100等于0.9微米的釉料墨水。
步骤P2、配制化妆土釉浆：用高岭土、长石、石英、等原料配制如表一的组成的化妆土浆。经球磨后，釉浆细度控制在325目筛余为0.5％，制得化妆土的釉浆流速为35秒(100ml浆料流完所用的时间，下同)，比重在1.95克/ml。
步骤P3、制备面釉浆：用长石，石英，高岭土，氧化锌，碳酸钡等原料配制成如表二的面釉浆，经球磨加工成流速在35秒，比重为1.88克/ml，细度为325目筛余为0.5％的釉浆。
步骤A1、制备坯体粉料，按质量百分比其化学组成为：二氧化硅67.79％、氧化铝19.33％、氧化钙0.39％、氧化镁1.23％、氧化钾+氧化钠5.19％、其余为微量杂质及酌减，球磨及喷雾造粉，粉料水分控制在6.8％。
步骤A2、经大吨位压机压制后制成平面坯体。
步骤A3、将坯体传输进第一干燥窑进行干燥排水，干燥温度为180℃，周期为65分钟，经干燥后坯体含水率为0.6％，干燥后获得素坯，然后向下一工序传输。
步骤B1、当素坯传输到釉线施釉设备时，素坯温度控制在75℃，将步骤P2所制得的化妆土浆施淋于坯体上，化妆土浆比重在1.9克/ml，流速为35秒，施釉量为280克/㎡。
步骤B2、施好化妆土浆后的砖坯进入第二干燥窑进行排水，出窑水分控制在0.5％以下
步骤C、当B2干燥好的砖坯输送至第一喷墨机时，第一喷墨机根据设计好的素材纹理文件自动打印数码釉，在本实施例中，素材纹理具体为岩石素材纹理，此数码釉即为P1所述的数码釉，经由第一喷墨机打印至砖坯上，喷釉量控制在45克/㎡。
步骤D1、步骤C打印好的所具有一定纹路的数码釉砖坯，输送到第二施釉设备，进行施淋P3所制得的面釉浆，面釉浆比重为1.88克/ml，流速为35秒，施釉量为300克/㎡。此时淋上砖坯的面釉浆会和步骤C所打印的数码釉产生互相排斥的作用而产生初步凹凸纹路，本步骤的原理具体为：由于数码釉是以酯类作为溶剂所加工而得，此墨水是属于疏水物，此过程所施面釉为水性釉料，属于亲水性物质，是极性物质，在其内部形成氢键，而属于疏水性的数码釉不是电子极化性的，内部无法形成氢键，所以水性釉料受到疏水性的墨水的排斥，此阶段所施面釉会根据所打印的墨水图案纹理进行相互排斥，产生物理反应。釉料根据墨水图案纹路的规律进行排开及堆积，在有数码釉的位置由于面釉的排开而形成凹位，而没有数码釉的位置由于釉料的堆积而凸起，从而形成根据纹理设计的凹凸效果。
步骤D2、施完面釉的砖坯进入第三干燥窑进行排水，含水率控制在0.6％。
步骤E、步骤D2所得的砖坯继续传输到第二喷墨机，进行颜色图案打印。
步骤F、步骤E所得的打印好图案的砖坯继续传输进入第三喷墨机，喷数码保护釉。此实施方案数码保护釉灰度设置为90，数码保护釉喷墨量为50克/㎡。
步骤G、砖坯喷好保护釉后即可传输到辊道窑进行烧成，窑炉烧成温度为1000℃，烧成周期为100分钟，出窑冷却后经磨边即得到本发明的岩石素材数码釉模具瓷砖。如图2所示，凹凸的深浅跟随图案的深浅变化，凹凸面过渡自然，效果精细，表面肌理细腻，且凹凸细节丰富。
实施例3
本实施例公开一种木纹素材数码釉瓷砖的制造方法，包括以下步骤：
步骤P1、制备数码釉，按质量百分比选用煅烧高岭土18％，石英10％，钾钠长石52％，碳酸钡12％，氧化锌6％这五种矿物原料及化工原料制成基础釉料。按质量百分比再称取基础釉料45％，功能树脂添加剂(丙烯酸树脂)5％，醋酸乙酯溶剂35％，分散剂(由1:5的聚丙烯酸胺和聚乙烯吡咯烷酮组成)13.8％，悬浮剂(由0.1:5的甲基纤维素钠同乙二醇混合而成)0.15％，消泡剂0.4％(聚氧乙烯聚氧丙醇胺醚)，流平剂(Hyperlev F40)0.5％和pH值调节剂(有机胺)0.15％，然后利用研磨分散法制得比重在1.43克/ml，粒径为D100等于0.9微米的釉料墨水。
步骤P2、配制化妆土釉浆：用高岭土、长石、石英、等原料配制如表一的组成的化妆土浆。经球磨后，釉浆细度控制在325目筛余为0.5％，制得化妆土的釉浆流速为35秒(100ml浆料流完所用的时间，下同)，比重在1.95克/ml。
步骤P3、制备面釉浆：用长石。石英，高岭土，氧化锌，碳酸钡等原料配制成如表二的面釉浆，经球磨加工成流速在35秒，比重为1.88克/ml，细度为325目筛余为0.5％的釉浆。
步骤A1、制备坯体粉料，其化学组成按质量百分比为：二氧化硅67.79％、氧化铝19.33％、氧化钙0.39％、氧化镁1.23％、氧化钾+氧化钠5.19％、其余为微量杂质及酌减，球磨及喷雾造粉，粉料水分控制在7.1％。
步骤A2、经大吨位压机压制后制成平面坯体。
步骤A3、将坯体传输进第一干燥窑进行干燥排水，干燥温度为180℃，周期为65分钟，经干燥后坯体含水率为0.6％，即为素坯，然后向下一工序传输。
步骤B1、当素坯传输到釉线施釉设备时，素坯温度控制在75℃，将步骤P2所制得的化妆土浆施淋于坯体上，化妆土浆比重在1.9克/ml，流速为35秒，施釉量为280克/㎡。
步骤B2、施好化妆土浆后的砖坯进入第二干燥窑进行排水，出窑水分控制在0.5％以下
步骤C、当B2干燥好的砖坯输送至第一喷墨机时，第一喷墨机根据设计好的素材纹理文件自动打印数码釉，在本实施例中，素材纹理具体为木纹素材纹理，此数码釉即为P1所述的数码釉，经由第一喷墨机打印至砖坯上，喷釉量控制在45克/㎡。
步骤D1、步骤C打印好的所具有一定纹路的数码釉砖坯，输送到第二施釉设备，进行施淋P3所制得的面釉浆，面釉浆比重为1.88克/ml，流速为35秒，施釉量为300克/㎡。此时淋上砖坯的面釉浆会和步骤C所打印的数码釉产生互相排斥的作用而产生初步凹凸纹路，本步骤的具体原理为：由于数码釉是以酯类作为溶剂所加工而得，此墨水是属于疏水物，此过程所施面釉为水性釉料，属于亲水性物质，是极性物质，在其内部形成氢键，而属于疏水性的数码釉不是电子极化性的，内部无法形成氢键，所以水性釉料受到疏水性的墨水的排斥，此阶段所施面釉会根据所打印的墨水图案纹理进行相互排斥，产生物理反应。釉料根据墨水图案纹路的规律进行排开及堆积，在有数码釉的位置由于面釉的排开而形成凹位，而没有数码釉的位置由于釉料的堆积而凸起，从而形成根据纹理设计的凹凸效果。
步骤D2、施完面釉的砖坯进入第三干燥窑进行排水，含水率控制在0.7％。
步骤E、步骤D2所得的砖坯继续传输到第二喷墨机，进行颜色图案打印。
步骤F、步骤E所得的打印好图案的砖坯继续传输进入第三喷墨机，喷数码保护釉。此实施方案数码保护釉灰度设置为90，数码保护釉喷墨量为50克/㎡。
步骤G、砖坯喷好保护釉后即可传输到辊道窑进行烧成，窑炉烧成温度为1180℃，烧成周期为60分钟，出窑冷却后经磨边即得到本发明的木纹素材数码釉模具瓷砖。如图3所示，凹凸的深浅跟随图案的深浅变化，凹凸面过渡自然，效果精细，表面肌理细腻，且凹凸细节丰富，连木刺都清晰可见。
实施例4
本实施例公开了一种原石素材数码釉瓷砖的制造方法，包括以下步骤：
步骤P1、制备数码釉，按质量百分比选用煅烧高岭土18％，石英10％，钾钠长石52％，碳酸钡12％，氧化锌6％这五种矿物原料及化工原料制成基础釉料。再选用基础釉料45％，功能树脂添加剂(丙烯酸树脂)5％，醋酸乙酯溶剂35％，分散剂(由1:5的聚丙烯酸胺和聚乙烯吡咯烷酮组成)13.8％，悬浮剂(由0.1:5的甲基纤维素钠同乙二醇混合而成)0.15％，消泡剂0.4％(聚氧乙烯聚氧丙醇胺醚)，流平剂(Hyperlev F40)0.5％和pH值调节剂(有机胺)0.15％，然后利用研磨分散法制得比重在1.43克/ml，粒径为D100等于0.9微米的釉料墨水。
步骤P2、配制化妆土釉浆：用高岭土、长石、石英、等原料配制如表一的组成的化妆土浆。经球磨后，釉浆细度控制在325目筛余为0.5％，制得化妆土的釉浆流速为35秒(100ml浆料流完所用的时间，下同)，比重在1.95克/ml。
步骤P3、制备面釉浆：用长石。石英，高岭土，氧化锌，碳酸钡等原料配制成如表二的面釉浆，经球磨加工成流速在35秒，比重为1.88克/ml，细度为325目筛余为0.5％的釉浆。
步骤A1、制备坯体粉料，其化学组成按质量百分比为：二氧化硅67.79％、氧化铝19.33％、氧化钙0.39％、氧化镁1.23％、氧化钾+氧化钠5.19％、其余为微量杂质及酌减，球磨及喷雾造粉，粉料水分控制在7.3％。
步骤A2、经大吨位压机压制后制成平面坯体。
步骤A3、将坯体传输进第一干燥窑进行干燥排水，干燥温度为180℃，周期为65分钟，经干燥后坯体含水率为0.6％，即为素坯，然后向下一工序传输。
步骤B1、当素坯传输到釉线施釉设备时，素坯温度控制在75℃，将步骤P2所制得的化妆土浆施淋于坯体上，化妆土浆比重在1.9克/ml，流速为35秒，施釉量为280克/㎡。
步骤B2、施好化妆土浆后的砖坯进入第二干燥窑进行排水，出窑水分控制在0.5％以下
步骤C、当B2干燥好的砖坯输送至第一喷墨机时，第一喷墨机根据设计好的素材纹理文件自动打印数码釉，在本实施例中，素材纹理具体为原石素材纹理，此数码釉即为P1所述的数码釉，经由第一喷墨机打印至砖坯上，喷釉量控制在45克/㎡。
步骤D1、步骤C打印好的所具有一定纹路的数码釉砖坯，输送到第二施釉设备，进行施淋P3所制得的面釉浆，面釉浆比重为1.88克/ml，流速为35秒，施釉量为300克/㎡。此时淋上砖坯的面釉浆会和步骤D所打印的数码釉产生互相排斥的作用而产生初步凹凸纹路，本步骤的具体原理为：由于数码釉是以酯类作为溶剂所加工而得，此墨水是属于疏水物，此过程所施面釉为水性釉料，属于亲水性物质，是极性物质，在其内部形成氢键，而属于疏水性的数码釉不是电子极化性的，内部无法形成氢键，所以水性釉料受到疏水性的墨水的排斥，此阶段所施面釉会根据所打印的墨水图案纹理进行相互排斥，产生物理反应。釉料根据墨水图案纹路的规律进行排开及堆积，在有数码釉的位置由于面釉的排开而形成凹位，而没有数码釉的位置由于釉料的堆积而凸起，从而形成根据纹理设计的凹凸效果。
步骤D2、施完面釉的砖坯进入第三干燥窑进行排水，含水率控制在0.8％。
步骤E、步骤D2所得的砖坯继续传输到第二喷墨机，进行颜色图案打印。
步骤F、步骤E所得的打印好图案的砖坯继续传输进入第三喷墨机，喷数码保护釉。此实施方案数码保护釉灰度设置为90，数码保护釉喷墨量为50克/㎡。
步骤G、砖坯喷好保护釉后即可传输到辊道窑进行烧成，窑炉烧成温度为1250℃，烧成周期为40分钟，出窑冷却后经磨边即得到本发明的原石素材数码釉模具瓷砖。如图4所示，凹凸的深浅跟随图案的深浅变化，凹凸面过渡自然，效果精细，表面肌理细腻，且颜色层次细节丰富。
表一
表二
以上所述，仅是说明本发明的较佳优选实施例而已，并非对本发明的保护范围有具体的限制。任何熟悉本项技术的人员可能利用上述所示的技术加以变更或修饰为等同变化的等效实例。可见凡是未脱离本发明技术方案的内容，尤其是权利要求之内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改，等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案范围内。此外，尽管本说明书中使用了一些特定的术语，但这些术语只是为了方便说明，并不对本发明构成任何限制。
Claims (10)
1.一种数码釉瓷砖的生产方法，其特征在于，包括以下步骤:
步骤A、制备砖坯并干燥备用；
步骤B、在砖坯上施一层化妆土釉浆并干燥备用；
步骤C、将施完化妆土釉浆并干燥后的砖坯进入第一喷墨机进行数码釉纹理图案打印；
步骤D、在打印好数码釉纹理图案的砖坯上施淋面釉并干燥备用；
步骤E、将施完面釉并干燥后的砖坯进入第二喷墨机进行颜色喷墨打印；
步骤F、将打印好图案的砖坯进入第三喷墨机进行数码保护釉打印；
步骤G、砖坯进入辊道窑炉进行烧成后即可得到数码釉瓷砖成品砖。
2.根据权利要求1所述的数码釉瓷砖的生产方法，其特征在于，所述步骤A包括以下步骤：
步骤A1、原材料球磨成浆，喷雾制粉；
步骤A2、高吨位压机压制成型，制成所需规格的平面砖坯；
步骤A3、压制好的砖坯进入第一干燥窑进行排水，出窑水分控制在0.5-0.8％。
3.根据权利要求1所述的数码釉瓷砖的生产方法，其特征在于，所述步骤B包括以下步骤：
步骤B1、将干燥后的砖坯进入第一施釉设备，施一层数码釉模具瓷砖专用的化妆土；
步骤B2、施好化妆土后的砖坯进入第二干燥窑进行排水，出窑水分控制在0.5％以下。
4.根据权利要求1所述的数码釉瓷砖的生产方法，其特征在于，所述步骤D包括以下步骤：
步骤D1、将打印好数码釉纹理图案的砖坯进入到第二施釉设备进行施淋面釉；
步骤D2、施完面釉的砖坯进入第三干燥窑进行排水，含水率控制在0.6-0.8％。
5.根据权利要求1所述的数码釉瓷砖的生产方法，其特征在于，所述步骤C中喷墨机所打印的数码釉组成为：基础釉料20-50％，功能树脂添加剂2-5％，醋酸乙酯溶剂20-40％，分散剂15-20％，悬浮剂0.1-0.2％，消泡剂0.3-0.6％，流平剂0.1-0.2％，pH值调节剂0.1-0.15％，按数码釉重量计算，优选为，基础釉料45％，功能树脂添加剂5％，醋酸乙酯溶剂35％，分散剂13.8％，悬浮剂0.15％，消泡剂0.4％，流平剂0.5％，pH值调节剂0.15％，按数码釉重量计算，所述基础釉料组成为：煅烧高岭土15-20％，石英8-15％，钾钠长石40-60％，碳酸钡8-15％，氧化锌3-10％，按基础釉料重量计算，基础釉料优选为煅烧高岭土18％，石英10％，钾钠长石52％，碳酸钡12％，氧化锌8％，按基础釉料重量计算，所述数码釉的比重在1.4-1.5克/ml，细度为D100<1微米，喷墨量为40-45克/㎡。
6.根据权利要求1所述的数码釉瓷砖的生产方法，其特征在于，所述步骤A中砖坯原料的化学组成按质量百分比为：二氧化硅66-69％、氧化铝18-20％、氧化钙0.2-0.5％、氧化镁1.0-2.0％、氧化钾+氧化钠4.5-5.5％、其余为微量杂质及酌减，优选为，二氧化硅67.79％、氧化铝19.33％、氧化钙0.39％、氧化镁1.23％、氧化钾+氧化钠5.19％，其余为少量杂质及酌减。
7.根据权利要求1所述的数码釉瓷砖的生产方法，其特征在于，所述步骤B中化妆土的化学组成按质量百分比为：二氧化硅54-57％、三氧化二铝25-28％、氧化钠2.8-3.8％、氧化钾2.0-3.0％、氧化钙0.5-1.0％、氧化镁0.4-0.8％、氧化锆5.5-8.0％其他为微量杂质及酌减，优选地，所述步骤B的化妆土的化学组成按质量百分比为：二氧化硅56.24％、三氧化二铝27.28％、氧化钠3.31％、氧化钾2.58％、氧化钙0.73％、氧化镁0.66％、氧化锆6.30％，其余为微量杂质及酌减。
8.根据权利要求1所述的数码釉瓷砖的生产方法，其特征在于，所述步骤D中面釉的化学组成按质量百分比为：二氧化硅65-68％、氧化铝15-17％、氧化钾3.5-4.5％、氧化钠2.0-3.05、氧化锌2.0-3.0、氧化钡3.0-4.0％、氧化锆4.0-6.0％、其他为微量杂质及酌减，作为优选，所述面釉的化学组成按质量百分比为：二氧化硅65.28％、氧化铝16.67％、氧化钾4.03％、氧化钠2.87％、氧化锌2.39％、氧化钡3.41％、氧化锆4.09％，其余为微量杂质及酌减。
9.根据权利要求1所述的数码釉瓷砖的生产方法，其特征在于，所述步骤B中化妆土釉浆比重为1.85-1.90克/ml，施釉量为260-290克/㎡，化妆土流速为33-38秒/100ml，所述步骤D中面釉比重为1.85-1.90克/ml，施釉量为290-310克/㎡，面釉流速为33-38秒/100ml。
10.一种根据权利要求1-9任一所述制造方法得到的数码釉瓷砖，其特征在于，所述瓷砖包括依次相连的砖坯层、化妆土层、数码釉层、面釉层、喷墨图案层以及数码保护釉层。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202110102399.4A CN112830774A (zh) | 2021-01-26 | 2021-01-26 | 一种数码釉瓷砖及其生产方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202110102399.4A CN112830774A (zh) | 2021-01-26 | 2021-01-26 | 一种数码釉瓷砖及其生产方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN112830774A true CN112830774A (zh) | 2021-05-25 |
Family
ID=75931580
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202110102399.4A Pending CN112830774A (zh) | 2021-01-26 | 2021-01-26 | 一种数码釉瓷砖及其生产方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN112830774A (zh) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112429967A (zh) * | 2020-12-11 | 2021-03-02 | 东莞市唯美陶瓷工业园有限公司 | 一种用于陶瓷砖的超平釉、陶瓷砖及其制造方法 |
| CN113149437A (zh) * | 2021-06-24 | 2021-07-23 | 广东欧文莱陶瓷有限公司 | 一种高硬度数码保护釉料 |
| CN113248143A (zh) * | 2021-07-14 | 2021-08-13 | 广东欧文莱陶瓷有限公司 | 一种抗菌数码保护釉料 |
| CN113321537A (zh) * | 2021-08-04 | 2021-08-31 | 佛山市三水新明珠建陶工业有限公司 | 一种金属釉面砖及其制备方法 |
| CN113336443A (zh) * | 2021-06-21 | 2021-09-03 | 广东家美陶瓷有限公司 | 应用于深黑色全抛陶瓷砖生产的数码透明釉料 |
| CN113636845A (zh) * | 2021-10-18 | 2021-11-12 | 佛山市高明贝斯特陶瓷有限公司 | 一种基于数码工艺制作的具有纹理的陶瓷制砖制备工艺 |
| CN113831107A (zh) * | 2021-09-18 | 2021-12-24 | 佛山市慕瓷建材有限公司 | 一种5g哑光釉瓷砖的生产方法 |
| CN114195496A (zh) * | 2021-11-29 | 2022-03-18 | 广东德利丰家居有限公司 | 具有凹凸质感的仿水磨石陶瓷板的制备方法及陶瓷板 |
| CN115215549A (zh) * | 2022-09-21 | 2022-10-21 | 广东金意陶陶瓷集团有限公司 | 一种利于墨水嵌入的真石釉、使用其的陶瓷砖及陶瓷砖制备工艺 |
| CN116161982A (zh) * | 2023-01-13 | 2023-05-26 | 广东天弼陶瓷有限公司 | 一种抛釉洞石陶瓷薄板及其制备方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105647287A (zh) * | 2016-03-15 | 2016-06-08 | 佛山市迈瑞思科技有限公司 | 一种拨釉功能陶瓷墨水及其制备方法及生产方法 |
| CN107235632A (zh) * | 2017-07-12 | 2017-10-10 | 广东协进陶瓷有限公司 | 具有高仿真3d数码喷釉立体图案效果功能陶瓷砖的制备方法 |
| CN110357432A (zh) * | 2019-07-16 | 2019-10-22 | 江西唯美陶瓷有限公司 | 在平面坯体上制造具有凹凸模具效果的陶瓷薄板的方法 |
| CN110746203A (zh) * | 2019-10-24 | 2020-02-04 | 广东萨米特陶瓷有限公司 | 一种数码工艺制作模具效果纹理的陶瓷制品及其制作方法 |
| CN111393906A (zh) * | 2020-06-02 | 2020-07-10 | 佛山东华盛昌新材料有限公司 | 超疏水陶瓷墨水及其制备方法、使用其的产品及装饰方法 |
-
2021
- 2021-01-26 CN CN202110102399.4A patent/CN112830774A/zh active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105647287A (zh) * | 2016-03-15 | 2016-06-08 | 佛山市迈瑞思科技有限公司 | 一种拨釉功能陶瓷墨水及其制备方法及生产方法 |
| CN107235632A (zh) * | 2017-07-12 | 2017-10-10 | 广东协进陶瓷有限公司 | 具有高仿真3d数码喷釉立体图案效果功能陶瓷砖的制备方法 |
| CN110357432A (zh) * | 2019-07-16 | 2019-10-22 | 江西唯美陶瓷有限公司 | 在平面坯体上制造具有凹凸模具效果的陶瓷薄板的方法 |
| CN110746203A (zh) * | 2019-10-24 | 2020-02-04 | 广东萨米特陶瓷有限公司 | 一种数码工艺制作模具效果纹理的陶瓷制品及其制作方法 |
| CN111393906A (zh) * | 2020-06-02 | 2020-07-10 | 佛山东华盛昌新材料有限公司 | 超疏水陶瓷墨水及其制备方法、使用其的产品及装饰方法 |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 王超主编: "《陶瓷装饰技术》", vol. 1, 中国轻工业出版社, pages: 219 - 220 * |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112429967A (zh) * | 2020-12-11 | 2021-03-02 | 东莞市唯美陶瓷工业园有限公司 | 一种用于陶瓷砖的超平釉、陶瓷砖及其制造方法 |
| CN113336443B (zh) * | 2021-06-21 | 2022-12-27 | 广东家美陶瓷有限公司 | 应用于深黑色全抛陶瓷砖生产的数码透明釉料 |
| CN113336443A (zh) * | 2021-06-21 | 2021-09-03 | 广东家美陶瓷有限公司 | 应用于深黑色全抛陶瓷砖生产的数码透明釉料 |
| CN113149437A (zh) * | 2021-06-24 | 2021-07-23 | 广东欧文莱陶瓷有限公司 | 一种高硬度数码保护釉料 |
| CN113149437B (zh) * | 2021-06-24 | 2021-09-17 | 广东欧文莱陶瓷有限公司 | 一种高硬度数码保护釉料 |
| CN113248143A (zh) * | 2021-07-14 | 2021-08-13 | 广东欧文莱陶瓷有限公司 | 一种抗菌数码保护釉料 |
| CN113321537B (zh) * | 2021-08-04 | 2021-12-31 | 新明珠集团股份有限公司 | 一种金属釉面砖及其制备方法 |
| CN113321537A (zh) * | 2021-08-04 | 2021-08-31 | 佛山市三水新明珠建陶工业有限公司 | 一种金属釉面砖及其制备方法 |
| CN113831107A (zh) * | 2021-09-18 | 2021-12-24 | 佛山市慕瓷建材有限公司 | 一种5g哑光釉瓷砖的生产方法 |
| CN113636845B (zh) * | 2021-10-18 | 2021-12-14 | 佛山市高明贝斯特陶瓷有限公司 | 一种基于数码工艺制作的具有纹理的陶瓷制砖制备工艺 |
| CN113636845A (zh) * | 2021-10-18 | 2021-11-12 | 佛山市高明贝斯特陶瓷有限公司 | 一种基于数码工艺制作的具有纹理的陶瓷制砖制备工艺 |
| CN114195496A (zh) * | 2021-11-29 | 2022-03-18 | 广东德利丰家居有限公司 | 具有凹凸质感的仿水磨石陶瓷板的制备方法及陶瓷板 |
| CN115215549A (zh) * | 2022-09-21 | 2022-10-21 | 广东金意陶陶瓷集团有限公司 | 一种利于墨水嵌入的真石釉、使用其的陶瓷砖及陶瓷砖制备工艺 |
| CN115215549B (zh) * | 2022-09-21 | 2022-12-02 | 广东金意陶陶瓷集团有限公司 | 一种利于墨水嵌入的真石釉、使用其的陶瓷砖及陶瓷砖制备工艺 |
| CN116161982A (zh) * | 2023-01-13 | 2023-05-26 | 广东天弼陶瓷有限公司 | 一种抛釉洞石陶瓷薄板及其制备方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN112830774A (zh) | 一种数码釉瓷砖及其生产方法 | |
| CN109455933B (zh) | 一种结晶釉以及使用该结晶釉制得的陶瓷砖 | |
| CN109867446B (zh) | 一种超平熔块干粒釉全抛砖及其制备方法 | |
| CN107685383B (zh) | 一种仿古砖陶瓷的生产工艺 | |
| CN109279918A (zh) | 一种柔光砖及其制备方法 | |
| CN109553299B (zh) | 一种结合喷墨效果的通体瓷质砖及其制备方法 | |
| CN108715516B (zh) | 白色釉、含有白色釉的通体无界线陶瓷砖及其制备方法 | |
| CN109455934B (zh) | 一种流彩装饰效果陶瓷砖及其制备方法 | |
| CN108484114B (zh) | 一种高掺量抛光废料的釉面瓷质砖及其制备方法 | |
| CN107311457A (zh) | 防滑耐磨陶瓷砖 | |
| CN107382377B (zh) | 易洁陶瓷砖的制备方法 | |
| CN104311162A (zh) | 一种凹凸纹理釉面砖及其制备方法 | |
| CN113698174B (zh) | 一种坯体釉面上下纹路一致的陶瓷岩板及其制备方法 | |
| CN114276121B (zh) | 一种具有星光立体效果的瓷砖及其制备方法 | |
| CN215291124U (zh) | 一种数码釉瓷砖 | |
| CN113183292B (zh) | 数控模具效果陶瓷砖的制备方法 | |
| CN113619321A (zh) | 一种3d数码雕刻模具面效果的陶瓷岩板及其制备方法 | |
| CN106699146A (zh) | 一种具有莹光效果的半抛陶瓷釉面砖及其制造方法 | |
| CN107337455A (zh) | 一种用于陶瓷砖干压成型的粉料及其制备方法 | |
| CN112358187A (zh) | 一种仿大理石超耐磨柔光砖的生产工艺及制品 | |
| CN107365080B (zh) | 防滑耐磨陶瓷砖的制备方法 | |
| CN113582731A (zh) | 一种哑光带立体感的数码干粒陶瓷砖及其制备方法 | |
| CN106430967A (zh) | 一种可促进色料发色的助色花釉及使用其制备的陶瓷砖 | |
| CN115180982A (zh) | 一种仿真微水泥陶瓷砖及其制备方法 | |
| CN106747296B (zh) | 一种利用稀土尾砂制备超平抛釉陶瓷砖的方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |